JP2000327659A - 光学活性ピリジルアルコール類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学活性ピリジルアルコールを、高い反応収
率及び光学収率で製造する方法を提供する。 【解決手段】 アシルピリジン類を、周期律表第ＶＩＩ
Ｉ族金属化合物及び下記一般式 【化１】 （式中、Ｒ³ およびＲ⁴ はそれぞれ独立して、置換基を
有していても良いアルキル基、アリール基又は芳香族複
素環基を示す。また、Ｒ³ とＲ⁴ は互いに結合し又は縮
合して環を形成しても良い。Ｒ⁵ 及びＲ⁶ はそれぞれ独
立して、水素原子、低級アルキル基、アシル基、カルバ
モイル基、チオアシル基、チオカルバモイル基及びアル
キル又はアリールスルホニル基を示す。＊は不斉炭素原
子を示す。）で示される不斉配位子とを組み合わせた触
媒の存在下、水素供与体で不斉還元することを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はアシルピリジン類を
金属触媒水素移動反応により不斉還元して光学活性ピリ
ジルアルコール類を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光学活性ピリジルアルコール類は不斉触
媒配位子や医農薬中間体として有用な化合物であり、特
に１−（２−ピリジル）アルコール類は不斉点近傍に配
位性ヘテロ原子を有する化合物として、近年注目が集ま
っている化合物である。光学活性ピリジルアルコール類
の合成法として、特開平１０−２４８５９４号公報に
は、ラセミ体のピリジルアルコールをリパーゼの存在下
に不斉アシル化する方法が開示されている。この方法に
よれば高い光学純度のピリジルアルコールが得られる
が、光学分割法であるため、各光学異性体の収率は最大
で５０％である。

【０００３】光学活性アルコールを高収率で合成するに
はプロキラルなケトンを不斉還元する方法が有効であ
り、光学活性１−（２−ピリジル）アルコールを合成す
るにあたっては２−アシルピリジンを不斉還元する技術
が求められる。２−アシルピリジンはアセトフェノンと
類似した骨格を有しているので、従来のアセトフェノン
不斉還元技術の適用が想到されるが、アセトフェノンの
代表的触媒不斉還元法であるオキサアザボロリジン法で
は高いエナンチオマー過剰率（ｅｅ）は得られない
（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６３，８，２４８１（１９
９８）。すなわち、不斉点近傍の配位性原子が不斉触媒
反応に悪影響をもたらすと考えられており、この点を解
決するためＣｏｒｅｙらはピリジン環上の窒素原子をア
ルキル化してマスクすることにより、不斉オキサアザボ
ロリジン還元の進行を可能にしたが（Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，３７，３２，５６７５（１９９
６））、この方法では反応後に保護基であるアルキル基
をはずす必要がある。不斉触媒法ではなく、化学量論量
の不斉還元剤を用いる方法ではやや良好な結果が得られ
ている。すなわちＳｏａｉらはアミノ酸誘導体により修
飾したリチウムボロヒドリドにより５６％ｅｅで１−
（２−ピリジル）エタノールを得たことを報告している
（Ｊ．Ｃｈｅｎ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，
８０１（１９８７））。最近、光学活性クロロジイソピ
ノカンフェニルボランを用いる方法により、９２％ｅｅ
でアシルピリジン類が不斉還元されたことが報告されて
いる（Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１２５，１１６９（１９９
２）；Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６３，２２，７８５１
（１９９８））。しかしこれらの方法はいずれも１当量
以上の不斉源を必要とし、工業的に有利な製造法とはい
えない。効率的な光学活性ピリジルアルコールの合成の
ためには有効な不斉触媒反応が求められてきた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、触媒量の不
斉源を用い、高い反応収率および光学収率で光学活性ピ
リジルアルコール類を製造することを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、特定の配位子を用い
た金属触媒による不斉水素移動還元により、高選択率で
目的化合物が得られることを見出し、本発明を完成し
た。すなわち本発明の要旨は、下記一般式（１）

【０００６】

【化６】

【０００７】（式中、Ｒ¹ は水素原子、ハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルキニル基、低級アルケニル
基、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有
しても良い芳香族複素環基、ヒドロキシ基、置換基を有
しても良い低級アルコキシ基、アミノ基、低級アルキル
アミノ基、トリアルキルシロキシ基、アシル基を示し、
ｘは１〜４の整数である。ｘが２以上の時、複数のＲ¹
は異なっていてもよく、また複数のＲ¹ が連結しピリジ
ル基に対して縮合環を形成しても良い。Ｒ² は低級アル
キル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換基
を有していてもよいフェニル基、置換基を有しても良い
芳香族複素環基を表す。）で表されるアシルピリジン類
を、周期律表第ＶＩＩＩ族金属化合物と下記一般式
（２）

【０００８】

【化７】

【０００９】（式中、Ｒ³ およびＲ⁴ はそれぞれ独立し
て、置換基を有していても良いアルキル基、アリール基
又は芳香族複素環基を示す。また、Ｒ³ とＲ⁴ は互いに
結合し又は縮合して環を形成しても良い。Ｒ⁵ 及びＲ⁶
はそれぞれ独立して、水素原子、低級アルキル基、アシ
ル基、カルバモイル基、チオアシル基、チオカルバモイ
ル基及びアルキル又はアリールスルホニル基を示す。）
で示される不斉配位子とを組み合わせた触媒の存在下、
水素供与体で不斉還元することを特徴とする下記一般式
（３）

【００１０】

【化８】

【００１１】（式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびｘは一般式
（１）と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）で示
される光学活性ピリジルアルコール類の製造方法に存す
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明の原料となるアシルピリジン類は前記一般式（１）
で表される。一般式（１）においてＲ¹ は水素原子；ハ
ロゲン原子例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子
等；低級アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜
６の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキル基；低級アル
ケニル基、例えばビニル基、２−メチルビニル基などの
炭素数２〜６のアルケニル基；低級アルキニル基、例え
ばアセチレニル基、メチルアセチレニル基等の炭素数２
〜６のアルキニル基；置換基を有していてもよいフェニ
ル基、例えばフェニル基、クロロフェニル基、トリル
基、トリフルオロメチルフェニル基等；置換基を有して
も良い芳香族複素環基、例えばピリジル基、ピコリル
基、チエニル基等；ヒドロキシ基；置換基を有しても良
い低級アルコキシ基、例えば、上述の鎖状アルキル基に
対応する炭素数１〜６のアルコキシ基、トリフェニルメ
トキシ基等；アミノ基；アルキルアミノ基、例えば、上
述の炭素数１〜６のアルキル基を１個又は２個有するア
ルキルアミノ基；トリアルキルシロキシ基、例えば、ト
リメチルシロキシ基、ジメチルブチルシロキシ基等；ア
シル基、例えばアセチル基、プロピオニル基等から選ば
れる。なお、本明細書において「低級」とは炭素数６以
下を意味する。ｘは１〜４の整数である。ｘが２以上の
場合、複数のＲ¹ は異なる基であってもよく、また複数
のＲ¹ が結合してピリジル基に対して縮合環を形成して
も良い。その様な縮合環としては例えば、フラン環、ベ
ンゼン環、テトラヒドロフラン環等が挙げられる。

【００１３】Ｒ² は上記と同様の低級アルキル基、低級
アルケニル基、置換基を有していてもよいフェニル基、
置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表す。本発
明方法の原料化合物として好適な一般式（１）のアシル
ピリジンの具体例を下記表ー１及び表ー２に示す。特に
好適な原料は（表−１の）Ｓ−１である。なお、一般式
（１）のアシルピリジン類は表ー１及び表ー２の化合物
に限定されるものではない。

【００１４】

【表１】

【００１５】

【表２】

【００１６】本発明に使用される触媒を構成する不斉配
位子は、前記一般式（２）で表されるジアミン誘導体で
ある。一般式（２）においてＲ³ 、Ｒ⁴ はアルキル基、
例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基等の炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐鎖アルキル
基；アリール基例えばフェニル基、ナフチル基、４−メ
チルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基；芳香族
複素環基、例えばフリル基、ピリジル基等を示す。或い
はＲ³ とＲ⁴ が一緒になってテトラエチレン基（シクロ
ヘキサン環をなす）などとなっても良い。これらの基は
更に置換されていてもよく、置換基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基等の低級アルキル基、メトキシ
基、エトキシ基等の低級アルコキシ基、塩素原子、臭素
原子、フッ素原子等のハロゲン原子から選ばれる１個も
しくは２個以上の基である。Ｒ³ 、Ｒ⁴ としては、フェ
ニル基、置換フェニル基が好ましい。

【００１７】Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ は、水素原子；低級アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基等の炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐鎖アル
キル基；アシル基、例えば、アセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基等；カルバモイル基、例えばＮ−メチ
ルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基等；チ
オアシル基、例えばチオアセチル基、チオプロピオニル
基、チオベンゾイル基等；チオカルバモイル基、例えば
Ｎ−メチルチオカルバモイル基、Ｎ−フェニルチオカル
バモイル基等；アルキル又はアリールスルホニル基、例
えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼ
ンスルホニル基、トルエンスルホニル基、２，４，６−
メシチルスルホニル基、２，４，６−トリイソプロピル
ベンゼンスルホニル基、４−メトキシベンゼンスルホニ
ル基、４−クロロベンゼンスルホニル基等の置換されて
いても良い炭素数１〜２０のアルキル又はアリールスル
ホニル基を示す。Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ としては、少なくとも一方
が水素原子であるのが好ましい。更に好ましくは、Ｒ
⁵ 、Ｒ⁶ として一方がアリールスルホニル基が好まし
く、特にトルエンスルホニル基が好ましい。一般式
（２）で示される不斉配位子の中、好ましくは、下記一
般式（４）で表されるジアミン誘導体である。

【００１８】

【化９】

【００１９】（式中、Ｒ⁷ は置換基を有していても良い
アルキル基又はアリール基を示し、Ｒ ⁸ は水素原子又は
低級アルキル基を示す。Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は、それぞれ独立
して、置換基を有していても良いアルキル基、アリール
基又は芳香族複素環基を示す。） 更に好ましい不斉配位子は下記一般式（５）で示される
ジアミン誘導体である。

【００２０】

【化１０】

【００２１】（式中、Ｒ¹²は水素原子又は低級アルキル
基を示し、Ｒ¹¹、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、それぞれ独立して、
水素原子、低級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルコ
キシ基を示す。ｌ、ｍ、ｎはそれぞれ独立して１〜５の
整数を示す。） なお、一般式（２）〜（５）において＊は不斉炭素原子
を表す。一般式（４）、（５）のＲ⁷ 〜Ｒ¹⁴がアルキル
基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基を示す場
合の具体例は、前記と同様のものが挙げられる。一般式
（２）、（４）、（５）で示される具体的な不斉配位子
としては例えば、１，２−ジフェニルエチレンジアミ
ン、Ｎ−メチル−１，２−ジフェニルエチレンジアミ
ン、Ｎ−トシル−１，２−ジフェニルエチレンジアミ
ン、Ｎ−メチル−Ｎ’−トシル−１，２−ジフェニルエ
チレンジアミン、Ｎ−ｐ−メトキシフェニルスルホニル
−１，２−ジフェニルエチレンジアミン、Ｎ−ｐ−クロ
ロフェニルスルホニル−１，２−ジフェニルエチレンジ
アミン、Ｎ−ｐ−メシチルスルホニル−１，２−ジフェ
ニルエチレンジアミン、Ｎ−（２，４，６−トリ−ｉ−
プロピル）フェニルスルホニル−１，２−ジフェニルエ
チレンジアミン等が挙げられる。

【００２２】これらの不斉配位子と組み合わせて用いら
れる周期律表第ＶＩＩＩ族金属化合物の金属種として
は、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、コバルトが例
示される。化合物としてはRuCl₃-3H₂O、[RuCl₂(p-cymen
e)]₂、[RuCl₂(benzene)]₂ 、[RuCl₂(mesytilene)]₂、[R
uCl₂(hexamethylbenzene)]₂ 、RuCl₂(PPh₃)₃、[RuCl₂(c
od)]n 、[RuCl₂(CO)₃]₂ 、[Rh(cod)Cl]₂,[RhCl₂(pentam
ethylcyclopentadienyl)]₂、[Ir(cod)Cl]₂、CoCl₂ など
が例示され、好ましくは[RuCl₂(p-cymene)]₂である。

【００２３】なお、上記化合物のPhはフェニル基、cod
はシクロオクタジエンを表す。 不斉配位子と金属化合
物からの触媒生成はJ.Am.Chem.Soc. 1995, 117, p7562
などにおいて開示されている公知の方法が使用できる。
例えばイソプロパノールなどの溶媒中、トリエチルアミ
ンなどの塩基の存在下、還流加熱することにより金属原
子に不斉配位子が配位した錯体が得られる。これをその
まま用いてもよく、あるいはＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉ
ｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．１９９７，３６，ｐ２８５に記
載のように錯体を結晶として単離して用いてもよい。

【００２４】本発明の不斉還元反応は触媒存在下に原料
を水素供与体と接触させて行われる。水素供与体として
はアルコールおよびギ酸が例示される。アルコールとし
てはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール等
の水素原子をα−位に有する低級アルコールが用いら
れ、好適なアルコールはイソプロパノールである。

【００２５】不斉還元反応は塩基不存在下で実施するこ
ともできるが、好ましくは塩基存在下で実施される。塩
基が存在すると触媒が安定化し、また不純物による活性
低下等が防止できる。塩基としては水酸化リチウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水
酸化物、リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、
カリウムイソプロポキシドなどのアルカリ金属アルコキ
シド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソ
プロピルアミンなどの有機アミン類が例示される。塩基
を使用する場合は、触媒に対して過剰量、例えばモル比
で１〜１０００モル倍を用いるのが好ましい。一般にア
ルコールを水素供与体に用いる場合は水酸化カリウムを
１〜１０モル倍、ギ酸を水素供与体に用いる場合はトリ
エチルアミンを触媒に対して大過剰、例えば１〜１００
０モル倍用いて行われる。

【００２６】好適な水素供与体との組み合わせとしては
イソプロパノール／水酸化カリウム、ギ酸／トリエチル
アミンが挙げられ、最も好適なものはギ酸／トリエチル
アミンである。ギ酸とアミンを組み合わせて用いる場合
には、あらかじめギ酸とアミンの共沸混合物を調製して
用いると、これらの原料中の不純物による影響が抑えら
れるので好ましい。ギ酸とトリエチルアミンの場合、共
沸混合物のモル比はギ酸：トリエチルアミン＝５：２な
ので、ギ酸ないしトリエチルアミンをさらに添加して最
適なギ酸／アミン比にすることが好ましい。

【００２７】通常は水素供与体自体を反応溶媒として利
用するが、原料を溶解させるために、トルエン、テトラ
ヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシドなどの非水素供与性
溶媒を助溶媒として使用することも可能である。触媒の
使用量は通常ルテニウム原子に対する基質（原料アシル
ピリジン）のモル比（Ｓ／Ｃ）が、１０〜１００, ００
０、好ましくは１００〜１０, ０００、特に好ましくは
１００〜１，０００で行われる。

【００２８】原料に対する水素供与体量は、通常１モル
倍から大過剰（通常１０００モル倍）の範囲までで、一
般にアルコールを水素供与体に用いる場合は溶媒を兼ね
て大過剰に用い、ギ酸を水素供与体に用いる場合は１モ
ル倍から２０モル倍の範囲で使用される。反応温度は−
７０℃から１００℃、好ましくは０℃から７０℃の範囲
から選ばれる。

【００２９】反応圧力は特に限定されず、通常０．５気
圧〜２気圧、好ましくは１気圧のもとで行われる。反応
の進行により、水素供与体から生じた化合物、すなわち
イソプロパノールなどの２級アルコールを水素供与体に
用いた場合にはアセトンなどのケトンが、またギ酸を水
素供与体に用いた場合には二酸化炭素が生成する。反応
の効率的な進行のためにはこれらの生成物の効率的な除
去が有効である。特にイソプロパノールを水素供与体に
用いた場合のアセトンの除去は反応の進行に特に有効で
ある。

【００３０】反応時間は１時間から２００時間、通常は
５時間から７２時間である。反応後は、一般に知られる
蒸留、抽出、クロマトグラフィー、再結晶などの操作に
より反応液から生成した光学活性なピリジルアルコール
を分離、精製することができる。本発明により得られる
光学活性ピリジルアルコールは、例えばエイズ薬として
有用なＰＮＵ−１４２７２１（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，１９９８，６３，７８５１）の合成中間体として
有用である。

【００３１】

【実施例】以下、実施例を示し、さらに詳しく本発明に
ついて説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、
以下の実施例に制約されるものではない。なお、実施例
中、ｅｅはエナンチオマー過剰率を示し、Ｓ／Ｃは触媒
に対する基質のモル比（ルテニウムに対する原料アシル
ピリジンのモル比）を示す。

【００３２】参考例１（触媒調製方法） ・［ＲｕＣｌ₂ （ｃｙｍｅｎｅ）］₂ の合成 塩化ルテニウム水和物１０ｇにエタノール２００ｍｌ、
α−テルピネン４５ｍｌ、水２２ｍｌを加え、４時間加
熱還流した後、エタノールの大部分を減圧蒸留で除いて
濃縮した。濾過により得られた結晶をエタノールとヘキ
サンの１：１混合液で洗浄し、減圧乾燥したところ、赤
色の［ＲｕＣｌ₂ （ｃｙｍｅｎｅ）］₂１１．５ｇ（収
率９２％）を得た。

【００３３】・（Ｓ，Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジ
フェニルエチレンジアミン（SS-TsDPEN ）の合成 （Ｓ，Ｓ）−ジフェニルエチレンジアミン１０．６ｇを
ジクロロメタン１００ｍｌに溶解してトリエチルアミン
７ｍｌを加え、ｐ−トルエンスルホニルクロリド９．５
ｇを水冷しながら少量づつ添加した。室温で２時間撹拌
した後濾過して不溶物を取り除き、濾液に水５０ｍｌを
加えて振り混ぜ有機層を分取した。さらに洗浄の操作を
繰り返した後、硫酸マグネシウムを加えて脱水し濃縮し
た。析出した結晶を濾別し、ジクロロメタンとヘキサン
の１：１混合液で洗浄して減圧乾燥したところ、白色の
（Ｓ，Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジフェニルエチレ
ンジアミン１６．６ｇ（収率９０％）を得た。

【００３４】・光学活性ルテニウム錯体（SS-TsDPEN-R
u）の合成 ［ＲｕＣｌ₂ （ｃｙｍｅｎｅ）］₂ ７．６６ｇと（Ｓ，
Ｓ）−ｐ−トルエンスルホニルジフェニルエチレンジア
ミン９．１６ｇに２−プロパノール１５０ｍｌとトリエ
チルアミン７ｍｌを加え、窒素下８０℃で１時間撹拌し
た。氷冷して析出した結晶を濾過し、２−プロパノール
とヘキサンの１：１混合液で洗浄した。さらに水で洗浄
し減圧乾燥してオレンジ色の結晶１２．６ｇ（収率７９
％）を得た。結晶を除いた後の濾液を濃縮後ジクロロメ
タン３０ｍｌを加え、生成した白色の塩をさらに濾過に
より除き、得られた濾液を濃縮して得た褐色固体を水で
洗浄し減圧乾燥したところ、茶褐色の結晶５．３ｇを得
た。これに２−プロパノール５０ｍｌを加えて８０℃で
１０分間、窒素下で加熱撹拌し、冷却後析出した結晶を
濾過して２−プロパノールとヘキサンの１：１混合液で
洗浄し減圧乾燥したところ、オレンジ色の結晶１．９ｇ
（収率１２％、合計収率９１％）を得た。

【００３５】実施例１ ギ酸１０．２ｇとトリエチルアミン１３．２ｇを混合
し、ギ酸／トリエチルアミン混合液を調製した。この混
合液０．４５４ｇに２−アセチルピリジン０．１３１ｇ
（１．０８ｍＭ）を加え、さらに参考例で合成した触媒
SS-TsDEPN-Ruを３ｍｇ加えた。光学活性ガスクロマトグ
ラフィーで反応を追跡しながら室温下で撹拌したとこ
ろ、４８時間で収率９７％に達し、ｅｅは＞９９％であ
った。酢酸エチル１０ｍｌを加え、飽和食塩水５ｍｌで
２回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで脱水した
のち濾別し、溶媒を留去したところ、０．２５４ｇの粗
オイルが得られた。ＮＭＲで分析したところ、得られた
オイルは１−（２−ピリジル）エタノールとトリエチル
アミンの混合物であった。シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーにより精製したところ、７３ｍｇの無色透明オ
イルが得られ、光学活性ガスクロマトグラフィー分析し
たところ純度＞９９％、ｅｅ＞９９％の１−（２−ピリ
ジル）エタノールであった（単離収率５５％）。旋光計
で分析したところ、得られた化合物の立体はＳ体であっ
た。

【００３６】 ＮＭＲ（δ）：１．５１４ｐｐｍ（ｔ、３Ｈ、ＣＨ₃ ） ３．８−４．４（ｂｓ、１Ｈ、ＯＨ） ４．８９７（ｑｕａｒｔ、１Ｈ、ＣＨ） ７．２０４（ｄｄ、１Ｈ、ＡｒＨ） ７．２７６（ｄ、１Ｈ、ＡｒＨ） ７．６９４（ｔ、１Ｈ、ＡｒＨ） ８．５４９（ｔ、１Ｈ、ＡｒＨ） [ α]²² _D ＝−２７．６（Ｃ＝０．７１２、ＣＨＣｌ
₃ ） Ｌｉｔ．[ α]²⁰ _D ＝−２６．４（ｅｅ＞９５％、Ｃ＝
１．３４、ＣＨＣｌ₃） （Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ａｓｙｍｍ．，３，７，８
２７（１９９２））

【００３７】実施例２ 原料を３ーアセチルピリジンに代えた以外は実施例１と
同様に反応を行った。反応時間２４時間で、目的とする
１−（３−ピリジル）エタノールを、反応収率９９％、
ｅｅ９０％で得た。

【００３８】実施例３ 原料を４ーアセチルピリジンに代えた以外は実施例１と
同様に反応を行った。反応時間３時間で、目的とする１
−（４−ピリジル）エタノールを、反応収率９９％、ｅ
ｅ９０％で得た。

【００３９】

【発明の効果】本発明方法によれば、光学活性ピリジル
アルコール類を高い反応収率、且つ、高いエナンチオマ
ー過剰率で得ることができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹ は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
   基、低級アルキニル基、低級アルケニル基、置換基を有
   していてもよいフェニル基、置換基を有しても良い芳香
   族複素環基、ヒドロキシ基、置換基を有しても良い低級
   アルコキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、トリ
   アルキルシロキシ基、アシル基を示し、ｘは１〜４の整
   数である。ｘが２以上の時、複数のＲ¹ は異なっていて
   もよく、また複数のＲ¹ が連結しピリジル基に対して縮
   合環を形成しても良い。Ｒ² は低級アルキル基、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基、置換基を有していても
   よいフェニル基、置換基を有していてもよい芳香族複素
   環基を表す。）で表されるアシルピリジン類を、周期律
   表第ＶＩＩＩ族金属化合物と下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ³ およびＲ⁴ はそれぞれ独立して、置換基を
   有していても良いアルキル基、アリール基又は芳香族複
   素環基を示す。また、Ｒ³ とＲ⁴ は互いに結合し又は縮
   合して環を形成しても良い。Ｒ⁵ 及びＲ⁶ はそれぞれ独
   立して、水素原子、低級アルキル基、アシル基、カルバ
   モイル基、チオアシル基、チオカルバモイル基及びアル
   キル又はアリールスルホニル基を示す。＊は不斉炭素原
   子を示す。）で示される不斉配位子とを組み合わせた触
   媒の存在下、水素供与体で不斉還元することを特徴とす
   る下記一般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² およびｘは一般式（１）と同義であ
   り、＊は不斉炭素原子を示す。）で示される光学活性ピ
   リジルアルコール類の製造方法。
2. 【請求項２】 一般式（２）で示される不斉配位子が、
   下記一般式（４）で示される構造であることを特徴とす
   る請求項１に記載の光学活性ピリジルアルコール類の製
   造方法。 【化４】 （式中、Ｒ⁷ は置換基を有していても良いアルキル基又
   はアリール基を示し、Ｒ ⁸ は水素原子又は低級アルキル
   基を示す。Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は、それぞれ独立して、置換基
   を有していても良いアルキル基、アリール基又は芳香族
   複素環基を示す。＊は不斉炭素原子を示す。）。
3. 【請求項３】 一般式（４）で示される不斉配位子が下
   記一般式（５）で示される構造であることを特徴とする
   請求項２に記載の光学活性ピリジルアルコール類の製造
   方法。 【化５】 （式中、Ｒ¹²は水素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ
   ¹¹、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、それぞれ独立して、水素原子、低
   級アルキル基、ハロゲン原子、低級アルコキシ基を示
   す。ｌ、ｍ、ｎはそれぞれ独立して１〜５の整数を示
   す。）。
4. 【請求項４】 周期律表第ＶＩＩＩ族金属化合物がルテ
   ニウム化合物であることを特徴とする請求項１乃至３の
   何れかに記載の光学活性ピリジルアルコール類の製造方
   法。
5. 【請求項５】 一般式（１）の化合物が２−アセチルピ
   リジンであることを特徴とする請求項１乃至４の何れか
   に記載の光学活性ピリジルアルコール類の製造方法。