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JP2000292803A - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

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JP2000292803A
JP2000292803A JP10353299A JP10353299A JP2000292803A JP 2000292803 A JP2000292803 A JP 2000292803A JP 10353299 A JP10353299 A JP 10353299A JP 10353299 A JP10353299 A JP 10353299A JP 2000292803 A JP2000292803 A JP 2000292803A
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JP
Japan
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signal line
liquid crystal
video signal
crystal display
pixel
Prior art date
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Application number
JP10353299A
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Japanese (ja)
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JP3756342B2 (en
Inventor
Nobuyuki Suzuki
伸之 鈴木
Kikuo Ono
記久雄 小野
Junichi Hirakata
純一 平方
Masuyuki Ota
益幸 太田
Yoshiaki Nakayoshi
良彰 仲吉
Masahiro Ishii
正宏 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 極めて簡単な構成で映像信号線の修復を行い
得る。 【解決手段】 液晶を介して互いに対向配置される各透
明基板のうち一方の透明基板の液晶側の各画素領域に、
映像信号線からの選択された映像信号が供給される画素
電極と、この画素電極と離間されて配置され基準信号線
からの基準信号が供給される基準電極とを備え、前記画
素電極と基準電極との間に発生される電界によってそれ
らの間の液晶の光透過率を制御する液晶表示装置におい
て、前記画素領域に前記映像信号線の該画素領域におけ
る2個所の離間された部分で短絡し得る導体層が形成さ
れている。
(57) [Summary] A video signal line can be repaired with an extremely simple configuration. SOLUTION: One of the transparent substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal therebetween is disposed in each pixel region on the liquid crystal side of one transparent substrate.
A pixel electrode to which a selected video signal is supplied from a video signal line; and a reference electrode which is arranged at a distance from the pixel electrode and to which a reference signal from a reference signal line is supplied. In a liquid crystal display device which controls the light transmittance of liquid crystal between them by an electric field generated between the pixel signal region and the pixel region, the video signal line may be short-circuited at two separated portions in the pixel region. A conductor layer is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、特に、いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly to a so-called in-plane switching method.

【0002】[0002]

【従来の技術】いわゆる横電界方式と称される液晶表示
装置は、液晶を介して互いに対向配置される各透明基板
のうち一方の透明基板の液晶側の各画素領域に、映像信
号線からの選択された映像信号が供給される画素電極
と、この画素電極と離間されて配置され基準信号線から
の基準信号が供給される基準電極とを備え、前記画素電
極と基準電極との間に発生される電界によってそれらの
間の液晶の光透過率を制御する構成となっている。この
ような液晶表示装置は、その表示面に対して大きな角度
視野から観察しても鮮明な映像を認識でき、いわゆる角
度視野に優れたものとして知られるに到っている。な
お、このような液晶表示装置ついては、たとえば特公平
5−505247公報、特公昭63−21907号公報
に詳述されている。そして、このような液晶表示装置
は、近年において、さらに大型化、および高精細化され
るようになってきている。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device called a so-called in-plane switching method, one of transparent substrates disposed opposite to each other with a liquid crystal interposed therebetween is connected to a pixel region on the liquid crystal side of one of the transparent substrates. A pixel electrode to which a selected video signal is supplied, and a reference electrode which is arranged at a distance from the pixel electrode and to which a reference signal from a reference signal line is supplied, and is generated between the pixel electrode and the reference electrode. The light transmission of the liquid crystal between them is controlled by the applied electric field. Such a liquid crystal display device can recognize a clear image even when viewed from a large angle field of view with respect to its display surface, and has come to be known as one having an excellent angle field. Such a liquid crystal display device is described in detail in, for example, Japanese Patent Publication No. 5-505247 and Japanese Patent Publication No. 63-21907. In recent years, such a liquid crystal display device has been further increased in size and definition.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような大
型化、および高精細化されるに到り、その製造において
信号線の断線による歩留まりの低下が発生し、該信号線
の中でも特に映像信号線における断線が多いことが指摘
されるに到っている。すなわち、光利用効率(開口率)
を向上させるために、走査信号線、基準電圧信号線、お
よび映像信号線のそれぞれにおいてその配線幅が小さく
なっていく傾向にあるが、各画素が縦ストライプ状にな
っている場合には、映像信号線がその占有領域の制限上
の問題から特に細線化された構成となっているからであ
る。映像信号線の断線は、その映像信号線を介して映像
信号を供給しなければならない画素のうちの大半が駆動
されなくなることから、その修復を行うことが生産コス
ト上賢明となる。本発明はこのような事情に基づいてな
されたもので、極めて簡単な構成で映像信号線の修復を
行い得る液晶表示装置を提供することにある。
However, with the increase in size and the increase in definition, a decrease in yield due to disconnection of a signal line occurs in the manufacture thereof. It has been pointed out that there are many disconnections in lines. That is, light use efficiency (aperture ratio)
In order to improve the image quality, the wiring width of each of the scanning signal line, the reference voltage signal line, and the video signal line tends to decrease, but when each pixel has a vertical stripe shape, This is because the signal line has a particularly thinned configuration due to the problem of limitation of the occupied area. When the video signal line is broken, most of the pixels to which the video signal must be supplied via the video signal line are not driven, so that it is wise in terms of production cost to repair the pixel signal line. The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of repairing a video signal line with an extremely simple configuration.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。すなわち、液晶を介して互いに対
向配置される各透明基板のうち一方の透明基板の液晶側
の各画素領域に、映像信号線からの選択された映像信号
が供給される画素電極と、この画素電極と離間されて配
置され基準信号線からの基準信号が供給される基準電極
とを備え、前記画素電極と基準電極との間に発生される
電界によってそれらの間の液晶の光透過率を制御する液
晶表示装置において、前記画素領域に前記映像信号線の
該画素領域における2個所の部分で短絡し得る導体層が
形成されていることを特徴とするものである。このよう
に構成された液晶表示装置は、映像信号線に断線が生じ
た場合でも、その断線個所を間にした2個所の部分で短
絡し得る導体層が備えられたものとなっている。そし
て、この導体層は画素領域において比較的長さの短い迂
回回路として形成されることから極めて簡単な構成とし
て形成できることになる。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows. That is, a pixel electrode to which a selected video signal from a video signal line is supplied to each pixel region on the liquid crystal side of one of the transparent substrates disposed opposite to each other via the liquid crystal, and the pixel electrode And a reference electrode that is arranged at a distance from the reference signal line and supplied with a reference signal from a reference signal line, and controls the light transmittance of the liquid crystal therebetween by an electric field generated between the pixel electrode and the reference electrode. In the liquid crystal display device, a conductor layer that can be short-circuited at two portions in the pixel region of the video signal line is formed in the pixel region. The liquid crystal display device thus configured is provided with a conductor layer capable of short-circuiting at two portions between the disconnection portions even when a disconnection occurs in the video signal line. Since this conductor layer is formed as a bypass circuit having a relatively short length in the pixel region, it can be formed with a very simple configuration.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の一実施例を図面を用いて説明する。実施例1. 〔液晶表示装置の等価回路〕本実施例の液晶表示装置
は、いわゆる横電界方式のアクティブ・マトリックス型
からなり、その等価回路は図2に示すようになってい
る。同図は回路図ではあるが、実際の幾何学的配置に対
応して描かれている。同図において、液晶を介して互い
に対向配置される各透明基板のうち一方の透明基板SU
Bの液晶側の面に、そのx方向(行方向)に延在しy方
向(列方向)に並設される走査信号線GLおよび基準電
圧信号線CLとが形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention will be described below with reference to the drawings. Embodiment 1 FIG. [Equivalent Circuit of Liquid Crystal Display Device] The liquid crystal display device of this embodiment is of a so-called lateral electric field type active matrix type, and its equivalent circuit is as shown in FIG. Although the figure is a circuit diagram, it is drawn corresponding to an actual geometric arrangement. In the figure, one transparent substrate SU of the transparent substrates arranged to face each other via a liquid crystal is shown.
A scanning signal line GL and a reference voltage signal line CL extending in the x direction (row direction) and juxtaposed in the y direction (column direction) are formed on the liquid crystal side surface of B.

【0006】この場合、同図では、透明基板SUBの上
方から、走査信号線GL、この走査信号線GLと比較的
大きく離間された基準電圧信号線CL、この基準電圧信
号線CLと近接された走査信号線GL、この走査信号線
GLと比較的大きく離間された基準電圧信号線CL、…
というように順次配置されている。そして、これら走査
信号線GLおよび基準電圧信号線CLとそれぞれ絶縁さ
れてy方向に延在しx方向に並設される映像信号線DL
が形成されている。
In this case, in FIG. 1, the scanning signal line GL, the reference voltage signal line CL relatively separated from the scanning signal line GL, and the reference voltage signal line CL are arranged from above the transparent substrate SUB. The scanning signal line GL, the reference voltage signal line CL relatively separated from the scanning signal line GL,...
And so on. The video signal lines DL which are insulated from the scanning signal lines GL and the reference voltage signal lines CL and extend in the y direction and are arranged in parallel in the x direction.
Are formed.

【0007】ここで、走査信号線GL、基準電圧信号線
CL、および映像信号線DLのそれぞれによって囲まれ
る矩形状の比較的広い面積の各領域において単位画素が
形成される領域となるが、一画素に寄与する信号線は前
記走査信号線GL、基準信号線CL、および互いに隣接
する映像信号線DLのうち一方の映像信号線DL(図
中、左側の映像信号線DL)となっている。他方の映像
信号線DL(図中、右側の映像信号線DL)は右側に隣
接する他の画素に寄与するようになっているからであ
る。そして、これら各単位画素がマトリックス状に配置
されて表示面を構成するようになっている。なお、この
画素の詳細な構成は以下に詳述する。
Here, each of the rectangular regions having a relatively large area surrounded by each of the scanning signal lines GL, the reference voltage signal lines CL, and the video signal lines DL is a region where a unit pixel is formed. The signal line that contributes to the pixel is one of the scanning signal line GL, the reference signal line CL, and one of the video signal lines DL adjacent to each other (the left video signal line DL in the drawing). This is because the other video signal line DL (the right video signal line DL in the drawing) contributes to another pixel adjacent to the right. Each of these unit pixels is arranged in a matrix to form a display surface. The detailed configuration of this pixel will be described below.

【0008】そして、この透明基板SUBには、その外
部回路として垂直走査回路GDRVおよび映像信号駆動
回路DDRVが備えられ、該垂直走査回路GDRVによ
って前記走査信号線GLのそれぞれに順次走査信号(電
圧)が供給され、そのタイミングに合わせて映像信号駆
動回路DDRVから映像信号線DLに映像信号(電圧)
が供給されるようになっている。
The transparent substrate SUB is provided with a vertical scanning circuit GDRV and a video signal driving circuit DDRV as external circuits, and the vertical scanning circuit GDRV sequentially applies a scanning signal (voltage) to each of the scanning signal lines GL. Is supplied from the video signal drive circuit DDRV to the video signal line DL in accordance with the timing.
Is supplied.

【0009】なお、垂直走査回路GDRVおよび映像信
号駆動回路DDRVには、電源装置・信号変換装置から
電源および画像情報が表示データ及び制御信号に分けら
れて供給されるようになっている。また、基準電圧信号
線CLには前記電源装置・信号変換装置内の基準信号駆
動回路CDRVから基準電圧信号が供給されるようにな
っている。
Note that power and image information are separately supplied to the vertical scanning circuit GDRV and the video signal driving circuit DDRV from a power supply device / signal conversion device into display data and control signals. The reference voltage signal line CL is supplied with a reference voltage signal from a reference signal drive circuit CDRV in the power supply / signal converter.

【0010】ここで、この実施例では、特に、基準電圧
信号は各基準電圧信号線CLの両端から供給される構成
となっている。この各基準電圧信号線CLに基準電圧信
号を供給する端子CLIEが一つである場合、その端子
CLIEから各基準電圧信号線CLへの両端に引き回わ
す配線層を低抵抗層とすることによって、各基準電圧信
号線CLに伝達される基準電圧信号の波形の歪みを低減
できるが、この実施例では、映像信号線DLの修復に必
要となる構成となっている。このため、この実施例で
は、端子CLIEから各基準電圧信号線CLへの両端に
引き回わす配線層は必ずしも低抵抗層となっている必要
はない。
In this embodiment, the reference voltage signal is supplied from both ends of each reference voltage signal line CL. When there is one terminal CLIE for supplying a reference voltage signal to each reference voltage signal line CL, a low resistance layer is used as a wiring layer extending from the terminal CLIE to both ends of each reference voltage signal line CL. Although the distortion of the waveform of the reference voltage signal transmitted to each reference voltage signal line CL can be reduced, this embodiment has a configuration necessary for repairing the video signal line DL. Therefore, in this embodiment, the wiring layer extending from the terminal CLIE to both ends of each reference voltage signal line CL does not necessarily have to be a low resistance layer.

【0011】〔画素の構成〕図1は前記単位画素の構成
を示す平面図である。なお、図1のIII−III線における
断面図を図3に示している。図1において、透明基板S
UBの主表面に、x方向に延在する基準電圧信号線CL
と、この基準電圧信号線CLと(−)y方向に比較的大
きく離間されかつ平行に走査信号線GLが形成されてい
る。これら基準電圧信号線CLと走査信号線GLはたと
えばCrあるいはその合金で形成されている。
[Configuration of Pixel] FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the unit pixel. FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG. In FIG. 1, a transparent substrate S
A reference voltage signal line CL extending in the x direction on the main surface of UB
And the scanning signal line GL is formed relatively parallel to the reference voltage signal line CL in the (-) y direction and in parallel with the reference voltage signal line CL. These reference voltage signal lines CL and scanning signal lines GL are formed of, for example, Cr or an alloy thereof.

【0012】ここで、基準電圧信号線CLには、3本の
基準電極CEが一体に形成されている。すなわち、その
うちの2本の基準電極CEは、一対の後述する映像信号
線DLとで形成される画素領域のy方向辺、すなわち前
記それぞれの映像信号線DLに近接して(−)y方向に
走査信号線GLの近傍にまで延在されて形成され、残り
の1本はそれらの間に形成されている。ここで、この実
施例では、各基準電極CEのうち、後に詳述する映像信
号線DLに隣接するものであってその一方の基準電極C
E(各画素領域において図中右側の基準電極に相当す
る)は、その端部が(+)x方向に延在するようにして
形成され、その延在部が映像信号線と重畳されるように
構成されている。そして、これら走査信号線GL、基準
電圧信号線CL、および基準電極CEが形成された透明
基板SUBの表面にはこれら走査信号線GL等をも被っ
てたとえばシリコン窒化膜からなる絶縁膜GI(図3参
照)が形成されている。この絶縁膜GIは、後述する映
像信号線DLに対しては走査信号線GLおよび基準電圧
信号線CLとの交差部に対する層間絶縁膜として、薄膜
トランジスタTFTの形成領域に対してはゲート絶縁膜
として、蓄積容量CSTGの形成領域に対しては誘電体
膜として機能するようになっている。
Here, three reference electrodes CE are integrally formed on the reference voltage signal line CL. That is, two of the reference electrodes CE are in the y-direction side of a pixel region formed by a pair of video signal lines DL described later, that is, in the (-) y direction in proximity to the respective video signal lines DL. It is formed to extend to the vicinity of the scanning signal line GL, and the remaining one is formed between them. Here, in this embodiment, of the reference electrodes CE, one of the reference electrodes CE which is adjacent to the video signal
E (corresponding to the reference electrode on the right side in the figure in each pixel region) is formed so that its end extends in the (+) x direction, and its extending portion is superimposed on the video signal line. Is configured. The surface of the transparent substrate SUB on which the scanning signal lines GL, the reference voltage signal lines CL, and the reference electrodes CE are formed also covers these scanning signal lines GL and the like, and covers the insulating film GI made of, for example, a silicon nitride film. 3) is formed. The insulating film GI serves as an interlayer insulating film for an intersection with the scanning signal line GL and the reference voltage signal line CL for a video signal line DL to be described later, and as a gate insulating film for a region where the thin film transistor TFT is formed. The region for forming the storage capacitor CSTG functions as a dielectric film.

【0013】この絶縁膜GIの表面には、まず、その薄
膜トランジスタTFTの形成領域において半導体層AS
が形成されている。この半導体層ASはたとえばアモル
ファスSiからなり、走査信号線GL上において映像信
号線DLに近接された部分に重畳して形成されている。
これにより、走査信号線GLの一部が薄膜トランジスタ
TFTのゲート電極を兼ねた構成となっている。そし
て、前記絶縁膜GIの表面には、図1に示すように、そ
のy方向に延在しx方向に並設される映像信号線DLが
形成されている。この映像信号線DLはたとえばCrあ
るいはその合金で形成されている。そして、映像信号線
DLは、薄膜トランジスタTFTの前記半導体層ASの
表面の一部にまで延在されて形成されたドレイン電極D
Eが一体となって備えられている。
On the surface of the insulating film GI, first, a semiconductor layer AS is formed in a region where the thin film transistor TFT is formed.
Are formed. The semiconductor layer AS is made of, for example, amorphous Si, and is formed on the scanning signal line GL so as to overlap a portion close to the video signal line DL.
Thus, a part of the scanning signal line GL also serves as a gate electrode of the thin film transistor TFT. On the surface of the insulating film GI, as shown in FIG. 1, video signal lines DL extending in the y direction and arranged in parallel in the x direction are formed. This video signal line DL is formed of, for example, Cr or an alloy thereof. The video signal line DL extends to a part of the surface of the semiconductor layer AS of the thin-film transistor TFT.
E is provided integrally.

【0014】さらに、画素領域における絶縁膜GIの表
面には画素電極PEが形成されている。この画素電極P
Eは前記基準電極CEの間を走行するようにして形成さ
れている。すなわち、画素電極PEの一端は前記薄膜ト
ランジスタTFTのソース電極SEを兼ね、そのまま
(+)y方向に延在され、さらに基準信号線CL上に沿
ってx方向に延在された後に、(−)方向に延在して他
端を有するコ字形状となっている。この場合、画素電極
PEの基準電圧信号線CLに重畳される部分は、前記基
準電圧信号線CLとの間に誘電体膜としての前記絶縁膜
GIを備える蓄積容量CSTGを構成している。この蓄
積容量CSTGによってたとえば薄膜トランジスタTF
Tがオフした際に画素電極PEに映像情報を長く蓄積さ
せる効果等を奏するようになっている。
Further, a pixel electrode PE is formed on the surface of the insulating film GI in the pixel region. This pixel electrode P
E is formed so as to travel between the reference electrodes CE. That is, one end of the pixel electrode PE also serves as the source electrode SE of the thin film transistor TFT, extends in the (+) y direction as it is, further extends in the x direction along the reference signal line CL, and then (-) It has a U-shape extending in the direction and having the other end. In this case, a portion of the pixel electrode PE overlapping the reference voltage signal line CL constitutes a storage capacitor CSTG provided with the insulating film GI as a dielectric film between the pixel electrode PE and the reference voltage signal line CL. For example, the thin film transistor TF
When T is turned off, it has an effect of storing video information in the pixel electrode PE for a long time.

【0015】なお、前述した薄膜トランジスタTFTの
ドレイン電極DEとソース電極SEとの界面に相当する
半導体層ASの表面にはリン(P)がドープされて高濃
度層となっており、これにより前記各電極におけるオー
ミックコンタクトを図っている。この場合、半導体層A
Sの表面の全域には前記高濃度層が形成されており、前
記各電極を形成した後に、該電極をマスクとして該電極
形成領域以外の高濃度層をエッチングするようにして上
記の構成とすることができる。
The surface of the semiconductor layer AS corresponding to the interface between the drain electrode DE and the source electrode SE of the thin-film transistor TFT is doped with phosphorus (P) to form a high concentration layer. Ohmic contact at the electrode is achieved. In this case, the semiconductor layer A
The high-concentration layer is formed over the entire surface of S, and after forming each of the electrodes, the high-concentration layer other than the electrode formation region is etched using the electrodes as a mask to form the above-described configuration. be able to.

【0016】そして、このように薄膜トランジスタTF
T、映像信号線DL、画素電極PE、および蓄積容量C
STGが形成された絶縁膜GIの上面にはたとえばシリ
コン窒化膜からなる保護膜PAS(図3参照)が形成さ
れている。
The thin film transistor TF
T, video signal line DL, pixel electrode PE, and storage capacitor C
On the upper surface of the insulating film GI on which the STG is formed, a protective film PAS (see FIG. 3) made of, for example, a silicon nitride film is formed.

【0017】このように構成された液晶表示装置は、図
1から明らかになるように、各画素において、該画素に
寄与する映像信号線DLが、その一方の側(図中では左
側)の基準電極CEおよびそれに接続されている基準電
圧信号線CLによって迂回回路を構成し得る可能性をも
って形成されている。このような構成としたのは、上述
したような極めて簡単な構成によって、映像信号線DL
に断線が生じた場合に、その修復を容易に行い得るため
である。
In the liquid crystal display device configured as described above, as is apparent from FIG. 1, in each pixel, the video signal line DL contributing to the pixel is connected to one side (the left side in the figure) of the reference. The electrode CE and the reference voltage signal line CL connected thereto are formed with the possibility that a bypass circuit can be formed. This configuration is based on the extremely simple configuration as described above, and the video signal line DL
This is because, when a disconnection occurs, it can be easily repaired.

【0018】〔映像信号線の修復方法〕図4は、映像信
号線DLが断線した場合におけるその修復方法を示した
平面図である。映像信号線DLが図中DEFに相当する
個所で断線した場合、該映像信号線DLが寄与する画素
であって、該断線以降の(−)方向に並列される各画素
は全て駆動不可能となる。
[Method of Repairing Video Signal Line] FIG. 4 is a plan view showing a method of repairing the video signal line DL when it is disconnected. When the video signal line DL is disconnected at a location corresponding to DEF in the figure, all the pixels that contribute to the video signal line DL and are arranged in the (−) direction after the disconnection cannot be driven. Become.

【0019】この場合、次の(1)から(4)の操作を
行うことによって映像信号線DLの修復ができるように
なる。 (1)本実施例によって新たに形成された基準電極CE
の延在部の個所LST1において、映像信号線DLとの
接続を図る。この場合、たとえばレーザ光線を用い、そ
のレーザ光線を保護膜PASを通して照射することによ
って、前記映像信号線DLと基準電極CEの延在部を絶
縁させている絶縁膜GIを破壊する。図5は、この部分
(図4のV−V線)を示した断面図である。この際、その
照射個所における映像信号線DLと基準電極CEの延在
部が溶解され、その析出物LSOLによって該映像信号
線DLと基準電極CEの延在部との電気的接続が図れる
ようになる。
In this case, the video signal line DL can be restored by performing the following operations (1) to (4). (1) Reference electrode CE newly formed according to the present embodiment
Is connected to the video signal line DL at the portion LST1 of the extending portion. In this case, for example, by using a laser beam and irradiating the laser beam through the protective film PAS, the insulating film GI that insulates the extension of the video signal line DL from the reference electrode CE is broken. FIG. 5 is a sectional view showing this portion (the line VV in FIG. 4). At this time, the extension of the video signal line DL and the reference electrode CE at the irradiation location is melted, and the deposit LSOL is used to electrically connect the extension of the video signal line DL and the reference electrode CE. Become.

【0020】(2)映像信号線DLとこの映像信号線D
Lと交差する個所LST2の個所にて基準電圧信号線C
Lとの接続を図る。この場合も、(1)の場合と同様、
たとえばレーザ光線を照射することによって行う。
(2) Video signal line DL and this video signal line D
The reference voltage signal line C at a point LST2 where the
L is connected. In this case, as in the case of (1),
For example, this is performed by irradiating a laser beam.

【0021】(3)基準電圧信号線CLの前記映像信号
線DLとの交差部に対して一方の側LCT1においてそ
の断線を図る。この場合、たとえばレーザ光線を用い、
このレーザ光線を断線させようとする個所に走査させる
ことによって行う。図6は、この部分(図4のVI−VI
線)を示した断面図である。
(3) Disconnect the crossing of the reference voltage signal line CL with the video signal line DL on one side LCT1. In this case, for example, using a laser beam,
This is performed by scanning the laser beam at a location where disconnection is to be performed. FIG. 6 shows this part (VI-VI in FIG. 4).
FIG.

【0022】(4)基準電圧信号線CLの前記映像信号
線DLとの交差部に対して他方の側においてその断線を
図る。この場合も、(3)の場合と同様、たとえばレー
ザ光線を照射することによって行う。
(4) Disconnect the crossing of the reference voltage signal line CL with the video signal line DL on the other side. Also in this case, similarly to the case (3), for example, irradiation is performed with a laser beam.

【0023】このようにすることによって、断線個所を
境にして分離された映像信号線DLは、基準電圧信号線
CLおよび基準電極CEを介して、互いに接続されるよ
うになり、修復ができるようになる。この場合、基準電
圧信号線CLは分断されることになるが、上述したよう
に基準電圧信号は該基準電圧信号線の両端から供給され
ていることから、このことが弊害となることはない。た
だ、x方向に並設される各画素における映像信号線DL
の断線が数個所にわたって同時に発生した場合には問題
となる。しかし、このような断線がたとえば2個所にわ
たって同時に発生する場合でも、その確率が極めて小さ
いことが経験則から知られており、実際問題としてあま
り問題となることはない。そして、修復の結果、その対
象となった映像信号線に隣接する一つの画素において、
基準電極の一つがその機能を有しなくなる。しかし、こ
の場合においても、該画素のいわゆる点欠陥に及ぶまで
の悪影響に到るものでないことから、やはり実際問題と
してあまり問題となることはない。
By doing so, the video signal lines DL separated at the disconnection point are connected to each other via the reference voltage signal line CL and the reference electrode CE, and can be repaired. become. In this case, the reference voltage signal line CL is cut off. However, since the reference voltage signal is supplied from both ends of the reference voltage signal line as described above, this does not cause a problem. However, the video signal line DL in each pixel arranged in parallel in the x direction
If the disconnection occurs simultaneously in several places, there is a problem. However, even when such disconnections occur simultaneously at, for example, two locations, it is known from empirical rules that the probability is extremely small, and does not cause much problem as a practical problem. Then, as a result of the restoration, in one pixel adjacent to the target video signal line,
One of the reference electrodes loses its function. However, even in this case, since there is no adverse effect up to the so-called point defect of the pixel, there is no much problem as a practical problem.

【0024】〔修復に対する考察〕上述した修復による
再接続の歩留まりを100%とした場合、図4に矢印で
示した長さlと映像信号線DLが延在する方向の画素の
周期距離pとの比率が救済率となる。代表的な製品を例
にとって救済率を計算すると下記のようになり、小型か
ら大型までの幅広い液晶表示装置を対象に救済率80%
以上の映像信号線DLの断線不良対策ができるようにな
る。 対角 8.4型 VGA規格液晶表示装置の場合:救済率81% 対角10.4型SVGA規格液晶表示装置の場合:救済率81% 対角13.3型 XGA規格液晶表示装置の場合:救済率81% 対角18.0型SXGA規格液晶表示装置の場合:救済率82% 〔走査信号線の端子の構成〕図7は、走査信号線GLに
走査信号を供給するための端子GLIEを示す構成図
で、(a)は平面図、(b)は(a)のb−b線におけ
る断面図である。同図において、走査信号線GLは、画
素の集合体である表示領域を越えて延在され、その端部
に重畳された例えばITO膜によって端子GLIEが形
成されている。端子GLIEとしてITO膜を用いてい
るは、大気に露呈される部分であることからいわゆる電
食を防止するためである。このため、絶縁膜GIおよび
保護膜PASは、少なくとも走査信号線GLと端子GL
IEの重畳部にまで延在されて形成されている。
[Consideration on restoration] Assuming that the yield of the reconnection by the above-mentioned restoration is 100%, the length l indicated by the arrow in FIG. 4 and the periodic distance p of the pixel in the direction in which the video signal line DL extends are shown in FIG. Is the rescue rate. The rescue rate is calculated as follows using typical products as examples. The rescue rate is 80% for a wide range of liquid crystal display devices from small to large.
The above-described measures against the disconnection failure of the video signal line DL can be taken. In the case of a diagonal 8.4 type VGA standard liquid crystal display device: 81% rescue rate In the case of a 10.4 type SVGA standard liquid crystal display device: 81% diagonal In the case of a 13.3 type diagonal XGA standard liquid crystal display device: Relief rate 81% Diagonal 18.0 type SXGA standard liquid crystal display device: Relief rate 82% [Configuration of scanning signal line terminal] FIG. 7 shows a terminal GLIE for supplying a scanning signal to the scanning signal line GL. 2A is a plan view, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line bb of FIG. In the figure, a scanning signal line GL extends beyond a display area which is an aggregate of pixels, and a terminal GLIE is formed by, for example, an ITO film superimposed on an end thereof. The reason why the ITO film is used as the terminal GLIE is to prevent so-called electrolytic corrosion since the portion is exposed to the atmosphere. For this reason, the insulating film GI and the protective film PAS include at least the scanning signal line GL and the terminal GL.
It is formed to extend to the overlapping portion of the IE.

【0025】〔映像信号線の端子の構成〕図8は、映像
信号線DLに映像信号を供給するための端子DLIEを
示す構成図で、(a)は平面図、(b)は(a)のb−
b線における断面図である。平面的形状は、走査信号線
GLの端子DLIEとほぼ同じである。ただ、映像信号
線DLは絶縁膜GIと保護膜PASとの間に形成される
ことから、その層構造が異なるのみである。
[Configuration of Terminal of Video Signal Line] FIG. 8 is a configuration diagram showing a terminal DLIE for supplying a video signal to the video signal line DL, (a) is a plan view, and (b) is (a). B-
It is sectional drawing in a b line. The planar shape is almost the same as the terminal DLIE of the scanning signal line GL. However, since the video signal line DL is formed between the insulating film GI and the protective film PAS, only the layer structure is different.

【0026】〔基準電圧信号線の端子の構成〕図9は、
基準電圧信号線CLに基準電圧信号を供給するための端
子CLIFを示す構成図で、(a)は平面図、(b)は
(a)のb−b線における断面図である。走査信号線G
Lの端子GLIEの場合と同じである。基準電圧信号線
CLは走査信号線GLと同層かつ同一の材料で構成され
ているからである。
[Configuration of Terminal of Reference Voltage Signal Line] FIG.
FIGS. 3A and 3B are configuration diagrams illustrating a terminal CLIF for supplying a reference voltage signal to a reference voltage signal line CL, wherein FIG. 3A is a plan view and FIG. Scan signal line G
This is the same as the case of the terminal GLIE of L. This is because the reference voltage signal line CL is formed of the same layer and the same material as the scanning signal line GL.

【0027】実施例2.図10は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す構成図で、図1に対応した平
面図である。同図は、映像信号線DLの絶縁膜GIを介
した下層に該映像信号線DLと重畳されて導電体膜NI
L1が形成されている。この導電体膜NIL1は、たと
えば基準電圧信号線CL(基準電極CE)とともに同材
料で形成され、該基準電圧信号線CLおよび走査信号線
GLとの間の領域にそれらと接続されることなく形成さ
れている。この場合において、映像信号線DLに図4で
示したとほぼ同様の個所に断線が生じた場合には、該導
電膜の両端のそれぞれ(同図の×の部分)において映像信
号線DLとの接続を図ることによって、該映像信号線D
Lの修復を行うことができるようになる。
Embodiment 2 FIG . FIG. 10 is a configuration diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, and is a plan view corresponding to FIG. In the figure, a conductor film NI is superimposed on the video signal line DL and is superimposed on the video signal line DL below the insulating film GI.
L1 is formed. This conductor film NIL1 is formed of the same material together with, for example, a reference voltage signal line CL (reference electrode CE), and is formed in a region between the reference voltage signal line CL and the scanning signal line GL without being connected thereto. Have been. In this case, if a disconnection occurs in the video signal line DL at a location substantially similar to that shown in FIG. 4, connection with the video signal line DL is made at each of both ends of the conductive film (indicated by X in FIG. 4). To obtain the video signal line D
L can be repaired.

【0028】実施例3.図11は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す構成図で、図1に対応した平
面図である。同図においても、映像信号線DLの絶縁膜
GIを介した下層に導電体膜NIL2が形成されている
が、この導電体膜NIL2は映像信号線DLとの重畳領
域が大幅に狭くなっている構成となっている。すなわ
ち、この導電体膜NIL2は、映像信号線DLの両側に
おいて、それぞれ該映像信号線DLの走行方向に平行に
線状の導電体膜が形成され、それらの各導電体膜は、そ
の各両端が該映像信号線を交差する線状の導電体膜によ
って接続されたループ状のパターンによって形成されて
いる。この導電体膜NIL2は、たとえば基準電圧信号
線CL(基準電極CE)とともに同材料で形成され、該
基準電圧信号線CLおよび走査信号線GLとの間の領域
にそれらと接続されることなく形成されている。この場
合において、映像信号線DLに図4で示したとほぼ同様
の個所に断線が生じた場合には、該導電膜NIL2の両
端のそれぞれ(同図の×の部分)において映像信号線DL
との接続を図ることによって、該映像信号線DLの修復
を行うことができるようになる。
Embodiment 3 FIG . FIG. 11 is a configuration diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention, and is a plan view corresponding to FIG. In this figure as well, a conductor film NIL2 is formed below the video signal line DL with the insulating film GI interposed therebetween, and the conductor film NIL2 has a significantly narrower overlap region with the video signal line DL. It has a configuration. That is, in the conductor film NIL2, linear conductor films are formed on both sides of the video signal line DL, respectively, in parallel to the running direction of the video signal line DL, and the conductor films are formed at both ends thereof. Are formed by a loop-shaped pattern connected by a linear conductive film crossing the video signal line. The conductor film NIL2 is formed of the same material together with, for example, a reference voltage signal line CL (reference electrode CE), and is formed in a region between the reference voltage signal line CL and the scanning signal line GL without being connected thereto. Have been. In this case, if a disconnection occurs in the video signal line DL at a location substantially similar to that shown in FIG. 4, the video signal line DL is provided at both ends of the conductive film NIL2 (indicated by "x" in FIG. 4).
With this connection, the video signal line DL can be repaired.

【0029】上述した各実施例は、いわゆる横電界方式
の液晶表示装置について説明したものである。しかし、
縦電界方式の液晶表示装置についても適用できることは
いうまでもない。縦電界方式のものであっても、映像信
号線は線幅がせまく、上述した弊害が同様に生じている
ことが指摘されているからである。ここで、縦電界方式
の液晶表示装置とは、液晶を介して互いに対向配置され
る各透明基板の液晶側のそれぞれに透明な電極が形成さ
れ、これら各電極の間に発生する電界によって各電極の
間の液晶の光透過率を制御するものである。
Each of the above-described embodiments describes a so-called in-plane switching mode liquid crystal display device. But,
It goes without saying that the present invention can be applied to a vertical electric field type liquid crystal display device. This is because it has been pointed out that even in the case of the vertical electric field type, the video signal line has a narrow line width, and the above-described adverse effects similarly occur. Here, a vertical electric field type liquid crystal display device is a device in which transparent electrodes are formed on the liquid crystal side of each transparent substrate which is disposed to face each other via liquid crystal, and each electrode is generated by an electric field generated between these electrodes. The light transmittance of the liquid crystal during the period is controlled.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、極めて簡単な構成
で映像信号線の修復を行い得るようになっている。
As is apparent from the above description,
According to the liquid crystal display device of the present invention, a video signal line can be repaired with a very simple configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す要
部構成図である。
FIG. 1 is a main part configuration diagram showing one embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図2】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す等
価回路図である。
FIG. 2 is an equivalent circuit diagram showing one embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention.

【図3】図1のIII−III線における断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.

【図4】本発明による液晶表示装置の修復方法の一実施
例を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory view showing one embodiment of a method for repairing a liquid crystal display device according to the present invention.

【図5】図4のV−V線における断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line VV in FIG. 4;

【図6】図4のVI−VI線における断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line VI-VI of FIG.

【図7】本発明による液晶表示装置の走査信号線の端子
の部分の一実施例を示す構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram showing an embodiment of a portion of a terminal of a scanning signal line of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図8】本発明による液晶表示装置の映像信号線の端子
の部分の一実施例を示す構成図である。
FIG. 8 is a configuration diagram showing an embodiment of a terminal portion of a video signal line of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図9】本発明による液晶表示装置の基準電圧信号線の
端子の部分の一実施例を示す構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram showing one embodiment of a terminal portion of a reference voltage signal line of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図10】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す要部構成図である。
FIG. 10 is a main part configuration diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【図11】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す要部構成図である。
FIG. 11 is a main part configuration diagram showing another embodiment of the liquid crystal display device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

GL……走査信号線、CL……基準電圧信号線、DL…
…映像信号線、AS……半導体層、CE……基準電極、
PE……画素電極、SBAR1……基準電極の延在部、
CSTG……蓄積容量。
GL: scanning signal line, CL: reference voltage signal line, DL:
... video signal line, AS ... semiconductor layer, CE ... reference electrode,
PE ... pixel electrode, SBAR1 ... extension portion of reference electrode,
CSTG: Storage capacity.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平方 純一 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 太田 益幸 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 仲吉 良彰 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 石井 正宏 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H092 GA14 GA17 GA20 JA37 JA41 JB61 JB64 JB65 JB71 JB73 KA05 MA47 NA15 NA29 5C094 AA41 AA42 BA03 BA43 CA19 DA13 DA14 EA01 EA04 EA05 EB02 FB14 FB19  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Junichi Square 3300 Hayano, Mobara City, Chiba Prefecture Within Hitachi, Ltd. Display Group (72) Inventor Masuyuki Ota 3300 Hayano, Mobara City, Chiba Prefecture, Hitachi, Ltd. 72) Inventor Yoshiaki Nakayoshi 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Prefecture Within Hitachi, Ltd. Display Group (72) Inventor Masahiro Ishii 3300-Hayano, Mobara-shi, Chiba Prefecture Hitachi Display Group, F-term (reference) 2H092 GA14 GA17 GA20 JA37 JA41 JB61 JB64 JB65 JB71 JB73 KA05 MA47 NA15 NA29 5C094 AA41 AA42 BA03 BA43 CA19 DA13 DA14 EA01 EA04 EA05 EB02 FB14 FB19

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 液晶を介して互いに対向配置される各透
明基板のうち一方の透明基板の液晶側の各画素領域に、
映像信号線からの選択された映像信号が供給される画素
電極と、この画素電極と離間されて配置され基準信号線
からの基準信号が供給される基準電極とを備え、 前記画素電極と基準電極との間に発生される電界によっ
てそれらの間の液晶の光透過率を制御する液晶表示装置
において、 前記画素領域に前記映像信号線の該画素領域における2
個所の離間された部分で短絡し得る導体層が形成されて
いることを特徴とする液晶表示装置。
1. A liquid crystal side pixel region of one of the transparent substrates disposed opposite to each other via a liquid crystal,
A pixel electrode to which a selected video signal is supplied from a video signal line; and a reference electrode which is disposed separately from the pixel electrode and to which a reference signal from a reference signal line is supplied, wherein the pixel electrode and the reference electrode are provided. A liquid crystal display device that controls the light transmittance of liquid crystal between them by an electric field generated between the pixel signal region and the video signal line in the pixel region.
A liquid crystal display device, wherein a conductor layer that can be short-circuited is formed at a part separated from each other.
【請求項2】 前記導体層は映像信号線と絶縁膜を介し
た異なる層で形成され、少なくともその両端は前記映像
信号線と重畳されて形成されていることを特徴とする請
求項1記載の液晶表示装置。
2. The device according to claim 1, wherein the conductor layer is formed of a different layer via a video signal line and an insulating film, and at least both ends thereof are formed so as to overlap the video signal line. Liquid crystal display.
【請求項3】 前記導体層は基準電極と同一の層で形成
されていることを特徴とする請求項2記載の液晶表示装
置。
3. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein said conductor layer is formed of the same layer as a reference electrode.
【請求項4】 前記導体層は基準電極を兼ねていること
を特徴とする請求項2記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein said conductor layer also serves as a reference electrode.
【請求項5】 各基準電圧信号線はその両端から基準信
号が供給される構成となっているとともに、前記導体層
は基準電極およびこの基準電極と接続される基準電圧信
号線を兼ねていることを特徴とする請求項2記載の液晶
表示装置。
5. Each of the reference voltage signal lines is configured to receive a reference signal from both ends thereof, and the conductor layer also serves as a reference electrode and a reference voltage signal line connected to the reference electrode. The liquid crystal display device according to claim 2, wherein:
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