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JP2000286671A - Piezoelectric vibrator - Google Patents

Piezoelectric vibrator

Info

Publication number
JP2000286671A
JP2000286671A JP2000019641A JP2000019641A JP2000286671A JP 2000286671 A JP2000286671 A JP 2000286671A JP 2000019641 A JP2000019641 A JP 2000019641A JP 2000019641 A JP2000019641 A JP 2000019641A JP 2000286671 A JP2000286671 A JP 2000286671A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piezoelectric vibrator
bonding
piezoelectric
exposed
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000019641A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Uetake
宏明 植竹
Kiyoshi Aratake
潔 荒武
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Instruments Inc filed Critical Seiko Instruments Inc
Priority to JP2000019641A priority Critical patent/JP2000286671A/en
Publication of JP2000286671A publication Critical patent/JP2000286671A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a piezoelectric vibrator which can be maintained in a highly reliable state by stabilizing a bonded film. SOLUTION: A piezoelectric vibrator is provided with a piezoelectric diaphragm 12 having a piezoelectric diaphragm 11 and a frame-like section 15 which is integrally connected to the base-end section of the piece 1 and surrounds the periphery of the piece 11 and a pair of lid bodies 14 which are bonded to both side faces of the diaphragm 12 through bonding films 17 and airtightly seal the piece 11 without disturbing the vibration of the piece 11. Corrosion of the bonding films 17 is prevented by using metallic films used for anodic bonding as the films 17 and substantially inactivity the exposed sections 20 of the films 17 exposed to the atmosphere by oxidation.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、携帯電話及び携帯
情報端末等に用いられる圧電振動子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a piezoelectric vibrator used for a portable telephone, a portable information terminal and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の水晶振動子の構造としては、例え
ば、図5に示すように、水晶振動片61と枠62とが一
体的に形成された水晶振動板63の上下面に、水晶振動
片61の振動を妨げない程度の空間を画成する凹部64
を有する一対の蓋体65を例えば、金属材料からなる接
合膜66を介して接合した構造とし、薄型化を図った水
晶振動子が知られている。
2. Description of the Related Art As a structure of a conventional crystal resonator, for example, as shown in FIG. 5, a crystal resonator plate 63 in which a crystal resonator element 61 and a frame 62 are integrally formed is provided with a crystal resonator. A recess 64 defining a space that does not hinder the vibration of the piece 61
For example, there is known a crystal resonator which has a structure in which a pair of lids 65 having a structure is bonded via a bonding film 66 made of a metal material, for example.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
構造では、水晶振動板63の端部近傍で、接合膜66が
大気に露出されてしまうため、すなわち、接合膜66が
大気に触れることよって腐食されてしまい、水晶振動板
63と蓋体65との接合が不安定となるという問題があ
る。また、このような問題により、水晶振動子の信頼性
が得られにくい。
However, in the above-described structure, the bonding film 66 is exposed to the air near the end of the quartz vibrating plate 63, that is, corrosion occurs when the bonding film 66 comes into contact with the air. As a result, there is a problem that the bonding between the quartz vibrating plate 63 and the lid 65 becomes unstable. Further, due to such a problem, it is difficult to obtain the reliability of the crystal unit.

【0004】本発明は、このような事情に鑑み、接合膜
を安定化させて、高い信頼性を保持することのできる圧
電振動子を提供することを課題とする。
[0004] In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide a piezoelectric vibrator capable of stabilizing a bonding film and maintaining high reliability.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の第1の態様は、圧電振動片とその基端部に一体的に
接続されて当該圧電振動片の周囲を囲む枠状部とを有す
る圧電振動板と、該圧電振動板の両面側に接合膜を介し
て接合され前記圧電振動片の振動を妨げることなく該圧
電振動片を気密封止する一対の蓋体とを有する圧電振動
子において、前記接合膜が陽極接合に用いた金属膜であ
り且つその大気に露出される露出部が、酸化により実質
的に不活性化された不活性部となっていることを特徴と
する圧電振動子にある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a piezoelectric vibrating reed having a frame-like portion integrally connected to a base end thereof and surrounding the piezoelectric vibrating reed. And a pair of lids that are bonded to both sides of the piezoelectric vibrating plate via bonding films and hermetically seal the piezoelectric vibrating reed without hindering the vibration of the piezoelectric vibrating reed. A piezoelectric film, wherein the bonding film is a metal film used for anodic bonding, and an exposed portion exposed to the atmosphere is an inactive portion substantially inactivated by oxidation. In the vibrator.

【0006】本発明の第2の態様は、第1の態様におい
て、前記不活性部は、前記露出部を酸化プラズマ処理す
ることにより形成されていることを特徴とする圧電振動
子にある。
A second aspect of the present invention is the piezoelectric vibrator according to the first aspect, wherein the inactive portion is formed by subjecting the exposed portion to an oxidizing plasma treatment.

【0007】本発明の第3の態様は、第1の態様におい
て、前記不活性部は、前記露出部を不動態化処理するこ
とにより形成されていることを特徴とする圧電振動子に
ある。
A third aspect of the present invention is the piezoelectric vibrator according to the first aspect, wherein the inactive portion is formed by passivating the exposed portion.

【0008】本発明の第4の態様は、第2又は3の態様
において、前記露出部は、予め自然酸化膜を除去された
後、不活性化されていることを特徴とする圧電振動子に
ある。
According to a fourth aspect of the present invention, in the piezoelectric vibrator according to the second or third aspect, the exposed portion is inactivated after removing a natural oxide film in advance. is there.

【0009】本発明の第5の態様は、第1〜4の何れか
の態様において、前記接合膜がCr、Al及びそれらの
合金からなる群から選択される材料からなることを特徴
とする圧電振動子にある。
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the bonding film is made of a material selected from the group consisting of Cr, Al and alloys thereof. In the vibrator.

【0010】かかる本発明では、蓋体と接合される接合
膜の腐食が防止され、圧電振動子の信頼性を向上するこ
とができる。
According to the present invention, the corrosion of the bonding film bonded to the lid is prevented, and the reliability of the piezoelectric vibrator can be improved.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明を詳
細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0012】図1は、本発明の一実施形態に係る圧電振
動子の分解斜視図であり、図2は、その断面図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a piezoelectric vibrator according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view thereof.

【0013】本実施形態の圧電振動子は、例えば、水晶
(SiO2)からなる音叉型の水晶振動片11を有する
水晶振動子10であり、図1に示すように、水晶振動片
11を有する水晶振動板12と、この水晶振動板12の
両面に接合されて水晶振動片11を振動可能な状態で気
密封止する一対の蓋体14とを具備する。
The piezoelectric vibrator of this embodiment is, for example, a crystal vibrator 10 having a tuning-fork type crystal vibrating piece 11 made of quartz (SiO 2 ). As shown in FIG. The crystal vibration plate 12 includes a pair of lids 14 bonded to both surfaces of the crystal vibration plate 12 to hermetically seal the crystal vibration piece 11 in a viable state.

【0014】また、本実施形態の水晶振動板12は、音
叉型の水晶振動片11と、その基端部と一体的に接続さ
れ水晶振動片11の周囲を囲む枠状部15とを有する。
The quartz vibrating plate 12 of the present embodiment has a tuning-fork type quartz vibrating piece 11 and a frame 15 which is integrally connected to a base end of the quartz vibrating piece 11 and surrounds the quartz vibrating piece 11.

【0015】一対の蓋体14は、例えば、ソーダライム
ガラス又はシリコン等で形成され、それぞれ、水晶振動
片11に対応する領域に水晶振動片11の振動を妨げな
い程度の空間を画成する凹部13を有する。
The pair of lids 14 are formed of, for example, soda lime glass or silicon, and each has a concave portion defining a space in a region corresponding to the crystal vibrating piece 11 so as not to hinder the vibration of the crystal vibrating piece 11. 13.

【0016】また、図2に示すように、水晶振動板12
には、水晶振動片11を振動させるためにその表裏両面
及び側面に励振電極膜16が形成されると共に、枠状部
15に対応する領域に励振電極膜16と同一材料からな
り、蓋体14との実際の接合部となる接合膜17が設け
られている。そして、この接合膜17と蓋体14とを、
詳しくは後述するが、いわゆる陽極接合によって接合す
ることにより、水晶振動板12と蓋体14とが接合され
る。
Further, as shown in FIG.
In order to vibrate the quartz vibrating reed 11, an excitation electrode film 16 is formed on both front and back surfaces and side surfaces thereof, and a region corresponding to the frame portion 15 is made of the same material as the excitation electrode film 16. Is provided with a bonding film 17 which is an actual bonding portion with the above. Then, the bonding film 17 and the lid 14 are
As will be described in detail later, the quartz vibrating plate 12 and the lid 14 are joined by so-called anodic joining.

【0017】励振電極膜16は、水晶振動板12の端部
まで延設されて接合膜17と接続されている。本実施形
態では、励振電極膜16の一方の極である電極16a
は、端子接続用接合膜17aを介してリード電極18a
に接続され、また、他方の極となる電極16bは、水晶
振動片11の側面上に設けられた電極を介して端子接続
用接合膜17bまで延設され、リード電極18bに接続
される。なお、このリード電極18の材質は、特に限定
されないが、大気中に露出されるため酸化されにくい、
例えば、金(Au)等で形成するのが好ましい。
The excitation electrode film 16 extends to the end of the quartz plate 12 and is connected to the bonding film 17. In the present embodiment, the electrode 16a which is one of the poles of the excitation electrode film 16 is used.
Is connected to the lead electrode 18a via the terminal connection bonding film 17a.
The electrode 16b serving as the other pole is extended to the terminal connection bonding film 17b through an electrode provided on the side surface of the crystal resonator element 11, and is connected to the lead electrode 18b. The material of the lead electrode 18 is not particularly limited, but is not easily oxidized because it is exposed to the atmosphere.
For example, it is preferable to use gold (Au) or the like.

【0018】また、詳しくは後述するが、本実施形態で
は、接合膜17の外側端部近傍の大気に露出された露出
部20を強制的に酸化して酸化物とすることにより、実
質的に不活性として接合膜17の腐食の防止を図ってい
る。
Further, as will be described later in detail, in the present embodiment, the exposed portion 20 exposed to the atmosphere near the outer end of the bonding film 17 is forcibly oxidized to an oxide, so that it is substantially formed. The inertness prevents corrosion of the bonding film 17.

【0019】なお、水晶振動板12の両面の接合膜17
の少なくとも一部は、両面においてそれぞれ凹部13を
取り囲むように形成されており、接合後は凹部13が気
密に封止されるようになっている。
The bonding films 17 on both sides of the quartz plate 12
Are formed so as to surround the recess 13 on both sides, and the recess 13 is hermetically sealed after joining.

【0020】以下、このような水晶振動子の製造工程に
ついて説明する。なお、図3は、本実施形態に係る圧電
振動子の製造工程を示す斜視図である。
Hereinafter, a manufacturing process of such a crystal resonator will be described. FIG. 3 is a perspective view illustrating a manufacturing process of the piezoelectric vibrator according to the present embodiment.

【0021】まず、図3(a)に示すように、水晶振動
板12となる水晶ウェハをエッチングして、実際の駆動
部である水晶振動片11と、その周囲を囲む枠状部15
とを形成する。
First, as shown in FIG. 3A, a quartz crystal wafer serving as a quartz vibrating plate 12 is etched to form a quartz vibrating piece 11 which is an actual driving unit and a frame 15 surrounding the periphery thereof.
And are formed.

【0022】次いで、図3(b)に示すように、水晶振
動板12の両側表面に、それぞれ略全面に亘って金属膜
20をスパッタリング等によって成膜する。この金属膜
20は、水晶振動片11を振動させるための励振電極膜
16及び蓋体14との実際の接合部となる接合膜17を
構成する膜であり、その材質は特に限定されないが、例
えば、アルミニウム(Al)及びクロム(Cr)等を用
いることが好ましく、本実施形態では、アルミニウムを
用いた。
Next, as shown in FIG. 3B, a metal film 20 is formed on both sides of the quartz vibrating plate 12 over substantially the entire surface by sputtering or the like. The metal film 20 is a film that forms the excitation electrode film 16 for vibrating the crystal resonator element 11 and the bonding film 17 that is an actual bonding portion with the lid 14. The material is not particularly limited. , Aluminum (Al), chromium (Cr), or the like is preferably used. In the present embodiment, aluminum is used.

【0023】次に、図3(c)に示すように、金属膜2
0をパターニングして、励振電極膜16及びその周囲の
枠状部15に対応する部分に全周に亘って接合膜17を
形成する。
Next, as shown in FIG.
By patterning 0, a bonding film 17 is formed over the entire periphery of the portion corresponding to the excitation electrode film 16 and the frame 15 around the excitation electrode film 16.

【0024】次いで、図4に示すように、不活性ガス
中、又は真空中で水晶振動子10の両面側に、接合膜1
7を介してそれぞれ蓋体14を陽極接合によって接合
し、一対の蓋体14の凹部13内に水晶振動片11を気
密封止する。このとき、各部材をガラスの軟化点よりも
低い、例えば、100℃〜150℃に加熱すると共に、
水晶振動板12の各面の接合膜17と蓋体14とに、蓋
体14側が陰極となるように直流電源30によってそれ
ぞれ3〜5kVの直流電圧を印加することが好ましい。
例えば、本実施形態では、各部材を約120℃に加熱す
ると共に約3.5kVの直流電圧を印加した。
Next, as shown in FIG. 4, the bonding film 1 is placed on both sides of the crystal unit 10 in an inert gas or in a vacuum.
The lids 14 are joined by anodic bonding via the respective members 7, and the quartz-crystal vibrating piece 11 is hermetically sealed in the recesses 13 of the pair of lids 14. At this time, each member is heated to a temperature lower than the softening point of the glass, for example, 100 ° C. to 150 ° C.,
It is preferable that a DC voltage of 3 to 5 kV is applied by the DC power supply 30 to the bonding film 17 and the lid 14 on each surface of the quartz plate 12 so that the lid 14 is a cathode.
For example, in this embodiment, each member was heated to about 120 ° C. and a DC voltage of about 3.5 kV was applied.

【0025】このように、上述のような条件で接合膜1
7を介して水晶振動板12と蓋体14とを陽極接合する
ことにより、接合膜17と蓋体14とが良好に接合され
る。すなわち、水晶振動板12と蓋体14とが、接合膜
17を介して良好に接合され、割れ等が発生することが
ない。
As described above, under the above conditions, the bonding film 1
The anodic bonding of the quartz vibrating plate 12 and the lid 14 through the bonding member 7 allows the bonding film 17 and the lid 14 to be satisfactorily bonded. That is, the quartz vibrating plate 12 and the lid 14 are satisfactorily bonded via the bonding film 17, and no cracks or the like occur.

【0026】ここで、水晶振動板12の材質である水晶
の熱膨張率は、13.7ppm/℃であり、蓋体14と
して使用したソーダライムガラスの熱膨張率は、8.5
ppm/℃である。すなわち、これらの熱膨張率の差
は、5.2ppm/℃と比較的大きいものであり、これ
らを従来から知られている条件で陽極接合するのは難し
い。しかしながら、本実施形態のように、接合温度を約
100〜150℃と低温として且つ約3〜5kVと比較
的高い直流電圧を印加して陽極接合することにより、熱
膨張率の影響を極めて少なく抑えられ、熱膨張率の差が
比較的大きい部材同士であっても良好に接合することが
できる。
Here, the coefficient of thermal expansion of quartz, which is the material of the quartz plate 12, is 13.7 ppm / ° C., and the coefficient of thermal expansion of soda-lime glass used as the lid 14 is 8.5.
ppm / ° C. That is, the difference between these coefficients of thermal expansion is relatively large at 5.2 ppm / ° C., and it is difficult to perform anodic bonding under conventionally known conditions. However, as in the present embodiment, the effect of the thermal expansion coefficient is suppressed to a very small value by performing the anodic bonding by setting the bonding temperature to a low temperature of about 100 to 150 ° C. and applying a relatively high DC voltage of about 3 to 5 kV. Thus, even members having a relatively large difference in coefficient of thermal expansion can be satisfactorily joined.

【0027】なお、実際には、複数の水晶振動片11等
が形成された水晶ウェハと、これらの水晶振動片11に
対応して複数の凹部13が形成されて複数の蓋体14と
なる蓋体形成基板とを接合した後、所定の位置で切断す
ることにより個別の水晶振動子となる。
In practice, a quartz wafer on which a plurality of quartz vibrating pieces 11 and the like are formed, and a lid in which a plurality of concave portions 13 are formed corresponding to these quartz vibrating pieces 11 to form a plurality of lids 14. After joining with the body-forming substrate, it is cut at a predetermined position to form an individual crystal resonator.

【0028】また、以上のような工程によって水晶振動
子を形成すると、その後、本実施形態では、接合膜17
の露出部20を強制的に酸化させる。
Further, when the crystal resonator is formed by the above-described steps, thereafter, in the present embodiment, the bonding film 17 is formed.
Is forcibly oxidized.

【0029】この酸化方法は、特に限定されず、例え
ば、本実施形態では、酸素プラズマを使用したフォトレ
ジスト用プラズマアッシャーを用いることにより、プラ
ズマ中で、所定条件を変更しながら行った。これによ
り、露出部20を所望の酸化物とした。その際、露出部
20が大気に接触することよって既に酸化されている部
分は、予め除去しておくことが好ましい。これにより、
露出部20をより強固な酸化物とすることができ、確実
に接合膜17の腐食を防止することができる。すなわ
ち、露出部20の内側の接合膜17が腐食することがな
い。
This oxidation method is not particularly limited. For example, in this embodiment, the plasma oxidation was performed by using a plasma asher for photoresist using oxygen plasma while changing predetermined conditions in plasma. As a result, the exposed portion 20 was made a desired oxide. At this time, it is preferable to previously remove a portion that has already been oxidized by the exposed portion 20 coming into contact with the atmosphere. This allows
The exposed portion 20 can be made of a stronger oxide, and the corrosion of the bonding film 17 can be reliably prevented. That is, the bonding film 17 inside the exposed portion 20 does not corrode.

【0030】このように、本実施形態では、接合膜17
が大気内に露出する露出部20を強制的に酸化させるよ
うにした。これにより、酸化された露出部20が、他の
部分の腐食を防止し、高い信頼性を保持することができ
る。また、露出部20を酸化させることにより、この露
出部20の酸化を防止するための、例えば、大気と遮断
する保護膜等を形成する必要が無く、製造工程を簡略化
することができる。
As described above, in the present embodiment, the bonding film 17
Is forcibly oxidized at the exposed portion 20 exposed to the atmosphere. Thus, the oxidized exposed portion 20 can prevent corrosion of other portions and maintain high reliability. Further, by oxidizing the exposed portion 20, there is no need to form, for example, a protective film for shielding the exposed portion 20 from the atmosphere, and the manufacturing process can be simplified.

【0031】なお、本実施形態では、接合膜17をアル
ミニウムで形成したが、これに限定されず、例えば、接
合膜をクロム、あるいはクロム及びシリコン等で形成し
てもよい。また、本実施形態では、プラズマ中で酸化処
理するようにしたが、これに限定されず、オゾン中で酸
化処理するようにしてもよい。
In this embodiment, the bonding film 17 is formed of aluminum. However, the present invention is not limited to this. For example, the bonding film may be formed of chromium or chromium and silicon. Further, in the present embodiment, the oxidation treatment is performed in the plasma, but the invention is not limited thereto, and the oxidation treatment may be performed in ozone.

【0032】また、上述のように本実施形態では、露出
部20を気体中で酸化させる方法を用いているが、これ
に限定されず、例えば、露出部20を液体中で酸化させ
るようにしてもよい。例えば、圧電振動子を形成後、こ
れを硝酸液等に浸漬して露出部20を不動態化処理する
ことにより、実質的に不活性とするようにしてもよい。
ただし、接合膜17にシリコンを用いている場合には、
シリコンが硝酸液によってエッチングされてしまうため
適さず、例えば、接合膜17をクロム等で形成した場合
等に好適に用いることができる。
Further, as described above, in the present embodiment, the method of oxidizing the exposed portion 20 in a gas is used. However, the present invention is not limited to this. For example, the exposed portion 20 may be oxidized in a liquid. Is also good. For example, after forming the piezoelectric vibrator, it may be made substantially inactive by immersing it in a nitric acid solution or the like to passivate the exposed portion 20.
However, when silicon is used for the bonding film 17,
It is not suitable because silicon is etched by a nitric acid solution, and can be suitably used, for example, when the bonding film 17 is formed of chromium or the like.

【0033】このような方法によっても、接合膜17の
安定化を図ることができ、高い信頼性を保持した圧電振
動子を形成することができる。
According to such a method, the bonding film 17 can be stabilized, and a piezoelectric vibrator having high reliability can be formed.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように本発明では、圧電振
動板と蓋体とを接合する接合膜の大気に露出する露出部
を強制的に酸化した酸化物とし、実質的に不活性とし
た。これにより、接合膜の腐食が防止され、圧電振動板
と蓋体とを接合膜を介して確実に接合することができ
る。すなわち、信頼性を向上した圧電振動子を形成する
ことができるという効果を奏する。
As described above, according to the present invention, the exposed portion of the bonding film for bonding the piezoelectric vibrating plate and the lid, which is exposed to the atmosphere, is made to be an oxide which is forcibly oxidized to be substantially inert. . Thereby, corrosion of the bonding film is prevented, and the piezoelectric vibrating plate and the lid can be securely bonded via the bonding film. That is, there is an effect that a piezoelectric vibrator with improved reliability can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る水晶振動子の分解斜
視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view of a crystal resonator according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施形態に係る水晶振動子の断面図
である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a crystal resonator according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明に係る圧電振動子の製造工程を示す断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a step of manufacturing the piezoelectric vibrator according to the present invention.

【図4】本発明に係る圧電振動子の製造工程を示す概略
図である。
FIG. 4 is a schematic view illustrating a manufacturing process of the piezoelectric vibrator according to the present invention.

【図5】本発明に係る圧電振動子の他の例を示す断面図
である。
FIG. 5 is a sectional view showing another example of the piezoelectric vibrator according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 水晶振動子 11 水晶振動片 12 水晶振動板 13 凹部 14 蓋体 15 枠状部 16 励振電極膜 17 接合膜 20 露出部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Quartz crystal resonator 11 Quartz crystal vibrating piece 12 Quartz crystal vibrating plate 13 Concave part 14 Lid 15 Frame-like part 16 Excitation electrode film 17 Bonding film 20 Exposed part

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 圧電振動片とその基端部に一体的に接続
されて当該圧電振動片の周囲を囲む枠状部とを有する圧
電振動板と、該圧電振動板の両面側に接合膜を介して接
合され前記圧電振動片の振動を妨げることなく該圧電振
動片を気密封止する一対の蓋体とを有する圧電振動子に
おいて、 前記接合膜が陽極接合に用いた金属膜であり且つその大
気に露出される露出部が、酸化により実質的に不活性化
された不活性部となっていることを特徴とする圧電振動
子。
A piezoelectric vibrating plate having a piezoelectric vibrating reed and a frame-shaped portion integrally connected to a base end portion thereof and surrounding the piezoelectric vibrating reed, and bonding films are formed on both sides of the piezoelectric vibrating plate. A piezoelectric vibrator having a pair of lids hermetically sealed without interfering with the vibration of the piezoelectric vibrating piece without interfering with the vibration of the piezoelectric vibrating piece, wherein the bonding film is a metal film used for anodic bonding, and A piezoelectric vibrator, wherein an exposed part exposed to the atmosphere is an inactive part substantially inactivated by oxidation.
【請求項2】 請求項1において、前記不活性部は、前
記露出部を酸化プラズマ処理することにより形成されて
いることを特徴とする圧電振動子。
2. The piezoelectric vibrator according to claim 1, wherein the inactive portion is formed by subjecting the exposed portion to an oxidizing plasma process.
【請求項3】 請求項1において、前記不活性部は、前
記露出部を不動態化処理することにより形成されている
ことを特徴とする圧電振動子。
3. The piezoelectric vibrator according to claim 1, wherein the inactive portion is formed by passivating the exposed portion.
【請求項4】 請求項2又は3において、前記露出部
は、予め自然酸化膜を除去された後、不活性化されてい
ることを特徴とする圧電振動子。
4. The piezoelectric vibrator according to claim 2, wherein the exposed portion is inactivated after a natural oxide film has been removed in advance.
【請求項5】 請求項1〜4の何れかにおいて、前記接
合膜がCr、Al及びそれらの合金からなる群から選択
される材料からなることを特徴とする圧電振動子。
5. The piezoelectric vibrator according to claim 1, wherein said bonding film is made of a material selected from the group consisting of Cr, Al, and alloys thereof.
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