[go: up one dir, main page]

JP2000285429A - Manufacture for magnetic head - Google Patents

Manufacture for magnetic head

Info

Publication number
JP2000285429A
JP2000285429A JP11083702A JP8370299A JP2000285429A JP 2000285429 A JP2000285429 A JP 2000285429A JP 11083702 A JP11083702 A JP 11083702A JP 8370299 A JP8370299 A JP 8370299A JP 2000285429 A JP2000285429 A JP 2000285429A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resist
slider
forming
slider bar
gap
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11083702A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiko Sato
俊彦 佐藤
Masaharu Yokoyama
雅春 横山
Masami Kobayashi
政美 小林
Osamu Suzaki
修 洲崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to JP11083702A priority Critical patent/JP2000285429A/en
Publication of JP2000285429A publication Critical patent/JP2000285429A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a required man hour and enhance a productivity by separating a resist layer formed on an upper face of a slider bar simultaneously with detaching the slider bar from an adhesive. SOLUTION: After an etching process, a jig 10 with a plurality of slider bars 8 fixed is soaked in an organic solvent such as acetone or the like. An adhesive which bonds bottom faces 8c of the slider bars 8 and the jig 10 is dissolved to separate the slider bars. At the same time, a release process of releasing resist layers 13 from upper faces 8b of the slider bars 8 and a dissolution process of dissolving resist protecting parts 12a are carried out at once. The release of the resist layers formed on upper faces of the slider bars and the separation of the slider bars from the adhesive are carried out with the use of one kind of the solvent. The adhesive is one from which photosensitive properties are removed from a material of the resist layers, and therefore the adhesive will not change in nature even when exposed. The adhesive can be dissolved at once because of its solubility to the solvent equal to a solubility of the resist.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハード磁気ディス
ク装置等に搭載される磁気ヘッドの製造方法に係わる。
The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic head mounted on a hard magnetic disk device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハード磁気ディスク装置などに搭載され
る磁気ヘッドは、図11に示すように、ステンレス薄板
からなり可撓性を有するフレキシャー(図示せず)の先
端に、セラミック材料からなるスライダ1が固定されて
いる。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 11, a magnetic head mounted on a hard magnetic disk device or the like has a slider 1 made of a ceramic material and a flexible flexure (not shown) made of a thin stainless steel plate. Has been fixed.

【0003】このスライダ1の側端面1a(磁気ディス
クに対し垂直な面)には、磁気ディスクに情報を記録及
び再生するための薄膜からなるヘッド素子3と、ヘッド
素子3と導通する記録用2個、再生用2個の接続端子4
が並設されている。また、スライダ1のABS面(磁気
ディスク対向面)1bは、スライダ1の浮上の空気流を
制御するための、エアーグルーブ5と、エアグルーブ5
の両側にレール部6と、レール部6に形成された傾斜部
6aを有している。
On a side end surface 1a (a surface perpendicular to the magnetic disk) of the slider 1, a head element 3 composed of a thin film for recording and reproducing information on and from a magnetic disk, and a recording element 2 electrically connected to the head element 3 are provided. And two connection terminals 4 for playback
Are juxtaposed. The ABS 1b (the surface facing the magnetic disk) 1b of the slider 1 has an air groove 5 and an air groove 5 for controlling the airflow floating on the slider 1.
Has a rail portion 6 on both sides thereof and an inclined portion 6a formed on the rail portion 6.

【0004】ハード磁気ディスク装置の動作時におい
て、スライダ1は、ABS面1bが磁気ディスクと対向
するようにフレキシャーに固定され、エアグルーブ5等
が形成されたABS面1bにより制御される空気流によ
りスライダ1は磁気ディスク面上を所定の間隔で浮上
し、ヘッド素子3により磁気ディスクに記録及び再生を
行うようになっている。
During operation of the hard magnetic disk drive, the slider 1 is fixed to a flexure such that the ABS 1b faces the magnetic disk, and is controlled by an air flow controlled by the ABS 1b on which the air groove 5 and the like are formed. The slider 1 flies over the surface of the magnetic disk at predetermined intervals, and the head element 3 performs recording and reproduction on the magnetic disk.

【0005】次に、このような従来の磁気ヘッドの製造
方法を説明する。図12に示すように、スライダ1の母
材となるセラミックからなるウエハ7の表面には、スラ
イダ1のヘッド素子3や接続端子4等を備えた側端面1
aを構成する領域を、複数個が複数列配置された状態で
形成する。そして、このようにスライダ1の側端面1a
が並列されたものにおいて図13に示すように、ウエハ
7の切断面がスライダ1の磁気ディスク対向面1bとな
るようにウエハ7から切断してスライダバー8を形成す
る。このとき、図13に示すように、スライダバー8
は、スライダ1の側壁面1aとなる面がスライダバー8
の側端面8a、また、スライダ1のディスク対向面1b
となる面がスライダバー8の上面8bとなっている。
Next, a method for manufacturing such a conventional magnetic head will be described. As shown in FIG. 12, a side end face 1 provided with a head element 3, a connection terminal 4, and the like of the slider 1 is provided on a surface of a wafer 7 made of ceramic as a base material of the slider 1.
The region constituting a is formed in a state where a plurality of regions are arranged in a plurality of rows. And the side end surface 1a of the slider 1 is thus
13, the slider bar 8 is formed by cutting the wafer 7 so that the cut surface of the wafer 7 becomes the magnetic disk facing surface 1b of the slider 1, as shown in FIG. At this time, as shown in FIG.
Means that the surface to be the side wall surface 1a of the slider 1 is
Of the slider 1 and the disk facing surface 1b of the slider 1
Is the upper surface 8b of the slider bar 8.

【0006】そして、図14のように、接着剤29が塗
布された治具10の上面10aに、複数のスライダバー
8の底面8cを接着して固定する。このとき、治具10
の上面10aとスライダバー8の側端面8aが直交し、
上面8bが上方に位置させた状態で固定する。また、ス
ライダバー8の側端面8aをスライダバー8どうしの接
触により傷つけないために、スライダバー8は側端面8
cの前方にそれぞれ一定の隙間Sをあけて配置する。
Then, as shown in FIG. 14, the bottom surfaces 8c of the plurality of slider bars 8 are bonded and fixed to the upper surface 10a of the jig 10 on which the adhesive 29 is applied. At this time, the jig 10
And the side end surface 8a of the slider bar 8 is orthogonal to
It is fixed with the upper surface 8b positioned upward. Also, in order to prevent the side end surfaces 8a of the slider bar 8 from being damaged by the contact between the slider bars 8, the slider bar 8 is attached to the side end surfaces 8a.
Each of them is arranged with a certain gap S in front of c.

【0007】次に、図15のように、レジストフィルム
を複数個のスライダバー8の上面8bに貼り付けて、レ
ジスト層13を形成する。
Next, as shown in FIG. 15, a resist film is stuck on the upper surfaces 8b of the plurality of slider bars 8 to form a resist layer 13.

【0008】そして、図16のように、フォトリソグラ
フィーにより、レジスト層13には、エアグルーブ5と
レール部6を形成するためのエッチングパターンを形成
して、スライダバー8の上面8bのレール部6となる部
分にのみパターンレジスト層13を残す。そして、図1
6のように、ドライエッチングを行い、露出したスライ
ダバー8の上面8bをアルゴンイオンでエッチングす
る。
Then, as shown in FIG. 16, an etching pattern for forming the air groove 5 and the rail portion 6 is formed in the resist layer 13 by photolithography, and the rail portion 6 on the upper surface 8b of the slider bar 8 is formed. The pattern resist layer 13 is left only in the portions where And FIG.
As shown in 6, the exposed upper surface 8b of the slider bar 8 is etched with argon ions.

【0009】次に、図17のように、治具10に接着剤
29で固定されたスライダバー8を、NMP等の溶剤に
浸漬して、スライダバー8の上面8bからレジスト層1
3を剥離する。次に、図18のように、治具10に接着
剤29で固定されたスライダバー8を、アセトン等の溶
剤に浸漬して、スライダ8の底面8cと治具10を接着
していた接着剤を溶かして、スライダバー8を治具10
から外すことによって磁気ヘッドの製造を行う。
Next, as shown in FIG. 17, the slider bar 8 fixed to the jig 10 with the adhesive 29 is immersed in a solvent such as NMP, and the resist layer 1 is removed from the upper surface 8b of the slider bar 8.
3 is peeled off. Next, as shown in FIG. 18, the slider bar 8 fixed to the jig 10 with the adhesive 29 is immersed in a solvent such as acetone to bond the bottom surface 8c of the slider 8 to the jig 10. And melt the slider bar 8 into the jig 10
To manufacture the magnetic head.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の磁気ヘ
ッドの製造方法においては、レジスト層13を剥離する
工程と、接着剤29からスライダバー8を剥離する工程
とが別々に必要であり、工程が煩雑で生産性が悪いとい
う問題があった。
However, in the conventional method for manufacturing a magnetic head, a step of peeling off the resist layer 13 and a step of peeling off the slider bar 8 from the adhesive 29 are required separately. However, there is a problem that the productivity is poor due to complexity.

【0011】また、スライダバー8の間に隙間Sが存在
した状態で、ドライエッチングによりスライダバー8の
上面8bをエッチングするとき、エッチングされた物体
が、隙間Sを通ってスライダバー8の側端面8aに再付
着し、スライダバー8の側端面8aに再付着したままで
磁気ヘッドに組み込まれた時、この磁気ヘッドがハード
磁気ディスク装置などに搭載されると、装置駆動時、再
付着物が磁気ディスク表面に落ち、ハード磁気ディスク
の破損の原因となる。
When the upper surface 8b of the slider bar 8 is etched by dry etching in a state where the gap S exists between the slider bars 8, the etched object passes through the gap S and the side end surface of the slider bar 8 When the magnetic head is mounted on a hard magnetic disk device or the like when the magnetic head is mounted on a hard magnetic disk device or the like while being re-adhered to the slider bar 8 and re-adhered to the side end surface 8a of the slider bar 8, when the device is driven, the re-adhered material will It falls on the surface of the magnetic disk and causes damage to the hard magnetic disk.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】第一の解決手段は、複数
の薄膜素子を側端面に有する複数本のスライダバーを、
前記スライダバーの底面を治具上に接着剤で固定して、
それぞれの前記側端面の前方に隙間をあけて治具上に配
置する固定工程と、前記スライダバーの上面に、レジス
トを塗布、あるいは前記レジストを用いたレジストフィ
ルムを貼り付けることによりレジスト層を形成するレジ
スト層形成工程と、前記レジスト層にエッチングパター
ンを形成するパターン形成工程と、前記スライダバーに
溝を形成するために、前記スライダバーをエッチングす
るエッチング工程と、前記スライダバー上面に形成され
た前記レジスト層の剥離と、前記接着剤から前記スライ
ダバーを外すことを同時に行う剥離工程と、を備えるも
のである。
A first solution is to provide a plurality of slider bars having a plurality of thin film elements on a side end face,
Fix the bottom surface of the slider bar on a jig with an adhesive,
Forming a resist layer by applying a resist on the upper surface of the slider bar, or applying a resist film using the resist on the upper surface of the slider bar; A resist layer forming step, a pattern forming step of forming an etching pattern in the resist layer, an etching step of etching the slider bar to form a groove in the slider bar, and an etching step formed on the upper surface of the slider bar. A stripping step of simultaneously stripping the resist layer and removing the slider bar from the adhesive.

【0013】第二の解決手段は、前記剥離工程を、溶剤
の浸せきにより行われることを特徴とするものである。
[0013] A second solution is characterized in that the peeling step is performed by immersion in a solvent.

【0014】第三の解決手段は、 前記接着剤は、感光
性のない前記レジストあるいは前記レジストフィルムを
用いるものである。
A third solution is that the adhesive uses the non-photosensitive resist or the resist film.

【0015】第四の解決手段は、前記接着剤はノボラッ
ク系樹脂またはアクリル系樹脂であり、前記レジストあ
るいはレジストフィルムは、ノボック系樹脂またはアク
リル系樹脂とするあるものである。
A fourth solution is that the adhesive is a novolak resin or an acrylic resin, and the resist or resist film is a novoc resin or an acrylic resin.

【0016】第五の解決手段は、前記固定工程と、前記
パターン形成工程との間に、前記スライダバーの隙間と
前記スライダバー上面を覆うように、レジストを塗布、
あるいはレジストフィルムを貼り付けて、レジスト膜を
形成するレジスト膜形成工程と、前記スライダバーの隙
間を覆うレジスト膜を、前記スライダバーの隙間に没入
させ、前記スライダバーの隙間を塞ぐレジスト保護部を
形成する保護部形成工程と、前記スライダバー上面のレ
ジスト膜を除去する除去工程と、前記スライダバーの上
面と、前記レジスト保護部の上面にレジスト層を形成す
るレジスト層形成工程とを備えるものである。
A fifth solution means is to apply a resist between the fixing step and the pattern forming step so as to cover a gap between the slider bars and an upper surface of the slider bar.
Alternatively, a resist film forming step of pasting a resist film to form a resist film and a resist film covering the gap between the slider bars is immersed in the gap between the slider bars, and a resist protection section for closing the gap between the slider bars is provided. Forming a protective portion, forming a resist layer on the upper surface of the slider bar, and removing the resist film on the upper surface of the slider bar. is there.

【0017】第六の解決手段は、加熱されて軟化した前
記レジストフィルムを加圧して、前記スライダバーの上
面に貼り付けてレジスト膜を形成するレジスト膜形成工
程と、前記加圧によって、前記スライダバーの隙間を塞
ぐレジスト保護部を形成する保護部形成工程とを同時に
行うようにしたものである。
A sixth solution is to provide a resist film forming step of forming a resist film by applying pressure to the heated and softened resist film and attaching the resist film to the upper surface of the slider bar. The protection section forming step of forming a resist protection section for closing the gap between the bars is performed simultaneously.

【0018】第七の解決手段は、前記スライダバーの隙
間の前記レジスト保護部を硬化させる硬化工程を備える
ものである。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a curing step of curing the resist protection portion in the gap between the slider bars.

【0019】第八の解決手段は、前記スライダバーの隙
間の前記レジスト保護部を溶解する溶解工程を備え、該
溶解工程と前記剥離工程と同時に行うものである。
An eighth solution is to provide a dissolving step for dissolving the resist protection portion in the gap between the slider bars, and to perform the dissolving step and the stripping step simultaneously.

【0020】第九の解決手段は、複数の薄膜素子を側端
面に有する複数本のスライダバーを、前記スライダバー
の底面を治具上に接着剤で固定して、それぞれの前記側
端面の前方に隙間をあけて治具上に配置する固定工程
と、前記スライダバーの隙間と前記スライダバー上面を
覆うように、レジストを塗布、あるいはレジストフィル
ムを貼り付けて、レジスト膜を形成するレジスト膜形成
工程と、前記スライダバーの隙間を覆うレジスト膜を、
前記スライダバーの隙間に没入させる没入工程と、前記
スライダバー上面に形成されたレジスト膜を除去する除
去工程と、前記スライダバーの隙間に没入させた前記レ
ジスト膜を硬化させる硬化工程と、前記スライダバーの
上面に、レジストを塗布、あるいは前記レジストを用い
たレジストフィルムを貼り付けることによりレジスト層
を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層にエ
ッチングパターンを形成するパターン形成工程と、前記
スライダバーに溝を形成するための、前記スライダバー
をエッチングするエッチング工程と、を有するものであ
る。
A ninth solution means is to fix a plurality of slider bars having a plurality of thin film elements on side end surfaces thereof with an adhesive on a bottom surface of the slider bars on a jig, and to provide a front portion of each of the side end surfaces. A fixing step of arranging on a jig with a gap, and forming a resist film by applying a resist or pasting a resist film so as to cover the gap between the slider bar and the upper surface of the slider bar. And a resist film covering the gap between the slider bars,
An immersion step of immersing in the gap between the slider bars, a removing step of removing a resist film formed on the upper surface of the slider bar, a curing step of curing the resist film immersed in the gap of the slider bar, and the slider A resist layer forming step of forming a resist layer by applying a resist or pasting a resist film using the resist on the upper surface of the bar; a pattern forming step of forming an etching pattern on the resist layer; An etching step of etching the slider bar to form a groove in the groove.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】ハード磁気ディスク装置などに搭
載される磁気ヘッドは、図1に示すようにステンレス薄
板からなり可撓性を有するフレキシャー(図示せず)の
先端に、セラミック材料からなるスライダ1が固定され
ている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A magnetic head mounted on a hard magnetic disk drive or the like has a slider made of a ceramic material at the tip of a flexible flexure (not shown) made of a stainless steel thin plate as shown in FIG. 1 is fixed.

【0022】このスライダ1の側端面1a(磁気ディス
クに対し垂直な面)には、磁気ディスクに情報を記録及
び再生するための薄膜からなるヘッド素子3と、ヘッド
素子3と導通する記録用2個、再生用2個の接続端子4
が並設されている。また、スライダ1のABS面(磁気
ディスク対向面)1bは、スライダ1の浮上の空気流を
制御するための、エアーグルーブ5と、エアグルーブ5
の両側にレール部6と、レール部6に形成された傾斜部
6aを有している。
On a side end surface 1a (a surface perpendicular to the magnetic disk) of the slider 1, a head element 3 made of a thin film for recording and reproducing information on and from a magnetic disk, and a recording element 2 electrically connected to the head element 3 are formed. And two connection terminals 4 for playback
Are juxtaposed. The ABS 1b (the surface facing the magnetic disk) 1b of the slider 1 has an air groove 5 and an air groove 5 for controlling the airflow floating on the slider 1.
Has a rail portion 6 on both sides thereof and an inclined portion 6a formed on the rail portion 6.

【0023】ハード磁気ディスク装置の動作時におい
て、スライダ1は、ABS面1bが磁気ディスクと対向
するようにフレキシャーに固定され、エアグルーブ5等
が形成されたABS面1bにより制御される空気流によ
りスライダ1は磁気ディスク面上を所定の間隔で浮上
し、ヘッド素子3により磁気ディスクに記録及び再生を
行うようになっている。
During operation of the hard magnetic disk drive, the slider 1 is fixed to the flexure so that the ABS 1b faces the magnetic disk, and is controlled by an air flow controlled by the ABS 1b on which the air grooves 5 and the like are formed. The slider 1 flies over the surface of the magnetic disk at predetermined intervals, and the head element 3 performs recording and reproduction on the magnetic disk.

【0024】次に、本発明の磁気ヘッドの製造方法を説
明する。図2に示すように、スライダ1の母材となるセ
ラミックからなるウエハ7の表面には、スライダ1のヘ
ッド素子3や接続端子4等を備えた側端面1aを構成す
る領域を、複数個が複数列配置された状態で形成する。
そして、このようにスライダ1の側壁面1aが並列され
たものにおいて図13に示すように、ウエハ7の切断面
がスライダ1の磁気ディスク対向面1bとなるようにウ
エハ7から切断してスライダバー8を形成する。このと
き、図3に示すように、スライダバー8は、スライダ1
の側端面1aとなる面がスライダバー8の側端面8a、
また、スライダ1のディスク対向面1bとなる面がスラ
イダバー8の上面8bとなっている。
Next, a method for manufacturing the magnetic head of the present invention will be described. As shown in FIG. 2, a plurality of regions forming side end surfaces 1 a provided with the head elements 3, the connection terminals 4, and the like of the slider 1 are formed on the surface of the wafer 7 made of ceramic as a base material of the slider 1. It is formed in a state of being arranged in a plurality of rows.
Then, as shown in FIG. 13, in the case where the side wall surfaces 1a of the slider 1 are arranged in parallel, the slider bar is cut from the wafer 7 so that the cut surface of the wafer 7 becomes the magnetic disk facing surface 1b of the slider 1. 8 is formed. At this time, as shown in FIG.
Are the side end surfaces 1a of the slider bar 8,
The surface of the slider 1 that becomes the disk facing surface 1b is the upper surface 8b of the slider bar 8.

【0025】次に、図4に示す固定工程では、複数のス
ライダバー8の底面8bを、感光性のないノボラック系
樹脂あるいはアクリル系樹脂からなる接着剤9により治
具10の上面10aに固定する。このとき、治具10の
上面10aとスライダバー8の側端面8aが直交し、上
面8bが上方に位置させた状態となる。また、スライダ
バー8の側端面8aをスライダバー8どうしの接触によ
り傷つけないために、スライダバー8はそれぞれ側端面
8a前方に一定の隙間Sをあけて配置する。
Next, in the fixing step shown in FIG. 4, the bottom surfaces 8b of the plurality of slider bars 8 are fixed to the upper surface 10a of the jig 10 by an adhesive 9 made of a non-photosensitive novolak resin or an acrylic resin. . At this time, the upper surface 10a of the jig 10 is orthogonal to the side end surface 8a of the slider bar 8, and the upper surface 8b is positioned upward. Further, in order to prevent the side end faces 8a of the slider bars 8 from being damaged by the contact between the slider bars 8, the slider bars 8 are arranged with a certain gap S in front of the side end faces 8a.

【0026】次に、図5に示すように、ノボラック系樹
脂あるいはアクリル系樹脂からなるからなるネガ型のレ
ジストフィルムを、60〜100℃に加熱された複数の
スライダバー8の上面8bと、スライダバー8の隙間S
とを覆うように載せる。そして、図6のように、レジス
トフィルムを、約130℃程度の温度としたローラーに
よりスライダバー8の上面8bに加熱加圧して、レジス
トフィルムをスライダバー8の上面8bに貼り付けてレ
ジスト膜12を形成するレジスト膜形成工程を行う。こ
のとき、加熱により軟化したレジストフィルムをローラ
ーの圧力によりスライダバー8の隙間Sに押し込んで、
スライダバー8の隙間Sを塞ぐレジスト保護部12aを
形成する保護部形成工程が同時に行われる。
Next, as shown in FIG. 5, a negative resist film made of a novolak resin or an acrylic resin is coated on the upper surface 8b of a plurality of slider bars 8 heated to 60 to 100.degree. Clearance S of bar 8
And cover it. Then, as shown in FIG. 6, the resist film is heated and pressed on the upper surface 8b of the slider bar 8 by a roller having a temperature of about 130 ° C. Is performed to form a resist film. At this time, the resist film softened by heating is pushed into the gap S of the slider bar 8 by the pressure of the roller,
A protection section forming step of forming a resist protection section 12a for closing the gap S of the slider bar 8 is performed at the same time.

【0027】次に、図7にしめすように、スライダバー
8の表面8aのレジスト層12を現像液により除去する
除去工程を行う。この除去工程において、治具10に固
定された複数のスライダバー8と、スライダバー8の隙
間Sを塞ぐレジスト保護部12aを現像液に浸漬する
が、現像液はその粘性によりレジスト保護部12aが形
成されたスライダバー8の狭い隙間Sには入り込みにく
い。よって、スライダバー8、及びレジスト膜12とレ
ジスト保護部12aの現像液への浸漬時間を調整するこ
とにより、スライダバー8の上面8bのレジスト層12
のみを除去して、レジスト保護部12aをスライダバー
8間の隙間Sを塞いだままで残すことができる。
Next, as shown in FIG. 7, a removing step of removing the resist layer 12 on the surface 8a of the slider bar 8 with a developing solution is performed. In this removing step, the plurality of slider bars 8 fixed to the jig 10 and the resist protection portions 12a for closing the gaps S between the slider bars 8 are immersed in a developing solution. It is hard to enter the narrow gap S of the formed slider bar 8. Therefore, by adjusting the dipping time of the slider bar 8 and the resist film 12 and the resist protection portion 12a in the developing solution, the resist layer 12 on the upper surface 8b of the slider bar 8 is adjusted.
Only the resist protection portion 12a can be left with the gap S between the slider bars 8 closed.

【0028】次に、スライダバー8の隙間Sを塞ぐレジ
スト保護部12aを露光させて、レジスト保護部12a
を硬化させる硬化工程を行う。
Next, the resist protection portion 12a that closes the gap S between the slider bars 8 is exposed to light to expose the resist protection portion 12a.
A curing step of curing the.

【0029】次に、図8に示すように、ノボラック系樹
脂あるいはアクリル系樹脂からなるレジストフィルム
を、スライダバー8の上面8bとレジスト保護部12a
の上面に載せる。そして、レジストフィルムを100℃
程度の温度としたローラーにより加熱加圧して、スライ
ダバー8の上面8bとレジスト保護部12aの上面に貼
り付けてレジスト層13を形成するレジスト層形成工程
を行う。このとき、スライダバー8の隙間Sはレジスト
保護部12aで塞がれているので、レジスト層13とな
るレジストフィルムを載せる面はほぼ平面となってい
る。また、レジスト保護部12aは硬化しており、加熱
により溶解することなく、よってレジスト層13にしみ
出すことがないのでレジスト層13の表面はムラなく平
滑に形成される。これによりレジストが平らで均一な厚
さとなるので、露光現像時のムラがなくなり、均一なパ
ターニングが可能となる。
Next, as shown in FIG. 8, a resist film made of a novolak resin or an acrylic resin is applied to the upper surface 8b of the slider bar 8 and the resist protection portion 12a.
Place on top of Then, the resist film is heated to 100 ° C.
A resist layer forming step of forming a resist layer 13 by applying heat and pressure with a roller having a temperature of about a degree and attaching the resist layer 13 to the upper surface 8b of the slider bar 8 and the upper surface of the resist protection portion 12a is performed. At this time, since the gap S between the slider bars 8 is closed by the resist protection portion 12a, the surface on which the resist film serving as the resist layer 13 is placed is substantially flat. Further, the resist protection portion 12a is hardened and does not dissolve by heating and does not seep into the resist layer 13, so that the surface of the resist layer 13 is formed evenly and smoothly. As a result, the resist has a flat and uniform thickness, so that unevenness during exposure and development is eliminated, and uniform patterning is possible.

【0030】次に、フォトリソグラフィーにより、レジ
スト層13にスライダ1の磁気ディスク対向面1bのエ
ッチングパターンを形成するパターン形成工程を行う。
パターン形成工程では、スライダバー8の上面8bを覆
うレジスト層13は、図9のように、レール部6となる
部分を覆う領域のみを残し他は現像液により剥離され
る。このとき、レジスト保護部12は硬化済みなので現
像液に浸食されることなく残される。
Next, a pattern forming step of forming an etching pattern on the magnetic disk facing surface 1b of the slider 1 on the resist layer 13 by photolithography is performed.
In the pattern forming step, the resist layer 13 covering the upper surface 8b of the slider bar 8 is peeled off by a developing solution except for the region covering the part to be the rail 6, as shown in FIG. At this time, since the resist protection portion 12 has been cured, it is left without being eroded by the developer.

【0031】次に、図9の状態において、エッチング工
程を行う。このエッチング工程では、露出したスライダ
バー8の上面8bをアルゴンイオンによるミリング工程
によりエッチングして、スライダバー8の上面8bにエ
アグルーブ5を形成する。このとき、スライダバー8の
隙間Sはレジスト保護部12aにより塞がれているの
で、アルゴンイオンによるスライダバー8のエッチング
された物体がスライダバー8の側端面8aに再付着する
こはない。また、レジスト保護部12aは硬化している
ので、レジスト保護部12aはアルゴンイオンにより削
られにくく、エッチング工程の間に消失することはな
い。
Next, an etching step is performed in the state shown in FIG. In this etching step, the exposed upper surface 8b of the slider bar 8 is etched by a milling step using argon ions to form the air groove 5 on the upper surface 8b of the slider bar 8. At this time, since the gap S of the slider bar 8 is closed by the resist protection portion 12a, the etched object of the slider bar 8 due to argon ions does not adhere to the side end surface 8a of the slider bar 8 again. Further, since the resist protection portion 12a is hardened, the resist protection portion 12a is not easily removed by the argon ions and does not disappear during the etching process.

【0032】次に、図10において示すように、複数本
のスライダバー8が固定された治具10をアセトン等の
有機溶剤に浸漬して、スライダバー8cの底面8cと治
具10とを接着していた接着剤を溶かして外すと同時に
スライダバー8の上面8bからレジスト層13を剥離す
る剥離工程と、レジスト保護部12aを溶解させる溶解
工程とを一括して行う。
Next, as shown in FIG. 10, the jig 10 to which the plurality of slider bars 8 are fixed is immersed in an organic solvent such as acetone, and the bottom surface 8c of the slider bar 8c and the jig 10 are bonded. At the same time as dissolving and removing the adhesive, the peeling step of peeling the resist layer 13 from the upper surface 8b of the slider bar 8 and the dissolving step of dissolving the resist protection portion 12a are collectively performed.

【0033】そして、レール部6に傾斜部6bを形成し
た後、スライダバー8を分割して、スライダ1とする。
After the inclined portion 6b is formed on the rail portion 6, the slider bar 8 is divided into the slider 1.

【0034】なお、本実施例では、スライダバー8の上
面8bのレジスト膜12を除去する除去工程の後、レジ
スト保護12aを露光して硬化させる硬化工程を行った
が、除去工程の前に、硬化工程でスライダバー8の表面
8bのレジスト膜12とレジスト保護部12aを露光さ
せて硬化させた後、除去工程でスライダバー8の上面8
bのレジスト膜12を、ウエットエッチング、あるいは
ドライエッチング、あるいは研磨など機械的加工により
除去しもよい。
In this embodiment, after the removing step of removing the resist film 12 on the upper surface 8b of the slider bar 8, a curing step of exposing and curing the resist protection 12a is performed. After the resist film 12 on the surface 8b of the slider bar 8 and the resist protection portion 12a are exposed and cured in a curing step, the upper surface 8 of the slider bar 8 is removed in a removing step.
The resist film 12 of b may be removed by mechanical processing such as wet etching, dry etching, or polishing.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明の磁気ヘッドの製造方法において
は、スライダバーの上面に形成されたレジスト層の剥離
と、接着剤から前記スライダバーを外すことを同時に行
うので工程数を削減でき、生産性のよい磁気ヘッド製造
方法となる。
According to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, the stripping of the resist layer formed on the upper surface of the slider bar and the removal of the slider bar from the adhesive are simultaneously performed, so that the number of steps can be reduced and the production can be reduced. A good magnetic head manufacturing method is obtained.

【0036】本発明の磁気ヘッドの製造方法において
は、前記スライダバーの上面に形成された前記レジスト
層の剥離と、前記接着剤から前記スライダバーを外すこ
とを一種類の溶剤を用いて一括して行うので材料費が削
減できる。
In the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, the peeling of the resist layer formed on the upper surface of the slider bar and the removal of the slider bar from the adhesive are collectively performed using one kind of solvent. Material cost can be reduced.

【0037】前記接着剤は、前記レジスト層の材料から
感光性を除いたものであるので、前記接着剤は露光して
も性質が変化することなく、溶剤に対する溶解性がレジ
ストと同等であるので、同一の溶剤で一度に溶かすこと
ができる。
Since the adhesive is obtained by removing the photosensitivity from the material of the resist layer, the adhesive does not change its properties even when exposed, and has the same solubility in a solvent as that of the resist. And can be dissolved at once with the same solvent.

【0038】複数の前記スライダバーを治具の表面に隙
間をあけて固定し、前記スライダバーの前記隙間をレジ
スト保護部により塞ぐことにより、エッチング工程にお
いて前記スライダバーのエッチングされた物体が前記ス
ライダバーの側端面に再付着することがない磁気ヘッド
製造方法となる。
A plurality of the slider bars are fixed on the surface of the jig with a gap therebetween, and the gap between the slider bars is closed by a resist protection portion. A method of manufacturing a magnetic head that does not adhere to the side end surface of the bar.

【0039】前記レジスト保護部を硬化させることによ
り、前記レジスト保護部の上面に形成される前記レジス
ト層に前記レジスト保護部のしみ込みがなく、前記レジ
スト層を平滑に形成することができる磁気ヘッド製造方
法であると共に、エッチング工程において、前記レジス
ト保護部は硬化しているので削られにくく、エッチング
工程が完了するまでスライダバー間の隙間を塞ぐことの
できる磁気ヘッド製造方法となる。これにより、レジス
トが平らで均一な厚さとなるので、露光現像時のムラが
なくなり、均一にパターニングができる。
By hardening the resist protection portion, a magnetic head can be formed in which the resist protection portion does not seep into the resist layer formed on the upper surface of the resist protection portion and the resist layer can be formed smoothly. In addition to the manufacturing method, in the etching step, the resist protection portion is hardened because it is hardened, so that the gap between the slider bars can be closed until the etching step is completed. As a result, the resist has a flat and uniform thickness, so that unevenness during exposure and development can be eliminated and uniform patterning can be performed.

【0040】前記剥離工程と、前記スライダバーの前記
隙間を塞ぐ前記レジスト保護部を溶解する溶解工程とを
一括して行うので、従来から工数を増すことのない磁気
ヘッド製造方法となる。
Since the peeling step and the dissolving step of dissolving the resist protection portion that closes the gap of the slider bar are performed at the same time, a magnetic head manufacturing method that does not increase the number of steps conventionally is provided.

【0041】本発明の磁気ヘッドの製造方法において
は、複数のスライダバーを治具の表面に隙間をあけて固
定し、前記スライダバーの前記隙間を硬化させたレジス
ト保護部により塞ぐことにより、エッチング工程におい
て前記レジスト保護部は削られにくく、エッチング工程
が完了するまでスライダバー間の隙間を塞ぎ、前記スラ
イダバーのエッチングによる再付着物が前記スライダバ
ーの側端面に付着することがない。また、前記レジスト
保護部を硬化させることにより、前記レジスト保護部の
上面に形成されるレジスト層に前記レジスト保護部のし
み込みがなく、前記レジスト層を平滑に形成することが
できる。
In the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a plurality of slider bars are fixed to the surface of the jig with a gap therebetween, and the slider bar is covered with a hardened resist protection portion to perform etching. In the process, the resist protection portion is not easily removed, and closes the gap between the slider bars until the etching process is completed, so that the re-adhered material due to the etching of the slider bar does not adhere to the side end surface of the slider bar. In addition, by curing the resist protection portion, the resist layer formed on the upper surface of the resist protection portion does not seep into the resist protection portion, and the resist layer can be formed smoothly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】スライダの斜視図。FIG. 1 is a perspective view of a slider.

【図2】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram of a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図3】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 3 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図4】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 4 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図5】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram of a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図6】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図7】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 7 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図8】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 8 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図9】本発明の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 9 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention.

【図10】スライダの斜視図。FIG. 10 is a perspective view of a slider.

【図11】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 11 is an explanatory diagram of a conventional magnetic head manufacturing method.

【図12】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 12 is an explanatory view of a conventional method for manufacturing a magnetic head.

【図13】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 13 is an explanatory diagram of a conventional magnetic head manufacturing method.

【図14】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 14 is an explanatory view of a conventional magnetic head manufacturing method.

【図15】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 15 is an explanatory view of a conventional magnetic head manufacturing method.

【図16】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 16 is an explanatory diagram of a conventional method for manufacturing a magnetic head.

【図17】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 17 is an explanatory diagram of a conventional magnetic head manufacturing method.

【図18】従来の磁気ヘッドの製造方法の説明図。FIG. 18 is an explanatory diagram of a conventional magnetic head manufacturing method.

【符号の説明】 1 スライダ 1a 側端面 1b 磁気ディスク対向面 3 ヘッド素子 4 接続端子 5 エアグルーブ 6 レール部 6a 傾斜部 7 ウエハ 8 スライダバー 8a 側壁面 8b 上面 8c 底面 9 接着剤 10 治具 12 レジスト膜 12a レジスト保護部 13 レジスト層 29 接着剤DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 slider 1a side end surface 1b magnetic disk facing surface 3 head element 4 connection terminal 5 air groove 6 rail portion 6a inclined portion 7 wafer 8 slider bar 8a side wall surface 8b top surface 8c bottom surface 9 adhesive 10 jig 12 resist Film 12a Resist protection section 13 Resist layer 29 Adhesive

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 洲崎 修 東京都大田区雪谷大塚町1番7号 アルプ ス電気株式会社内 Fターム(参考) 5D042 NA02 PA01 PA05 PA09 RA02 RA04 SA10  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Osamu Suzaki 1-7 Yukiya Otsukacho, Ota-ku, Tokyo Alps Electric Co., Ltd. F-term (reference) 5D042 NA02 PA01 PA05 PA09 RA02 RA04 SA10

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の薄膜素子を側端面に有する複数本
のスライダバーを、前記スライダバーの底面を治具上に
接着剤で固定して、それぞれの前記側端面の前方に隙間
をあけて治具上に配置する固定工程と、 前記スライダバーの上面に、レジストを塗布、あるいは
前記レジストを用いたレジストフィルムを貼り付けるこ
とによりレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、 前記レジスト層に磁気ヘッドのスライダのABS面を形
成するためのエッチングパターンを形成するパターン形
成工程と、 前記スライダバーに前記ABS面を形成するために、前
記スライダバーをエッチングするエッチング工程と、 前記スライダバー上面に形成された前記レジスト層の剥
離と、前記接着剤から前記スライダバーを外すことを同
時に行う剥離工程と、を備えたことを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。
1. A plurality of slider bars each having a plurality of thin-film elements on a side end face are fixed with an adhesive on a bottom surface of the slider bar on a jig, and a gap is provided in front of each of the side end faces. A fixing step of disposing the resist layer on a jig; a resist layer forming step of forming a resist layer by applying a resist on the upper surface of the slider bar or pasting a resist film using the resist; A pattern forming step of forming an etching pattern for forming an ABS surface of the slider of the head; an etching step of etching the slider bar to form the ABS surface of the slider bar; Peeling of the resist layer, and a peeling step of simultaneously removing the slider bar from the adhesive, Method of manufacturing a magnetic head, characterized in that it includes.
【請求項2】 前記剥離工程を、前記固定されたスライ
ダバーを溶剤に浸漬することにより行われることを特徴
とする請求項1記載の磁気ヘッド製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the removing step is performed by immersing the fixed slider bar in a solvent.
【請求項3】 前記接着剤は、感光性のない前記レジス
ト、あるいは前記レジストフィルムを用いたことを特徴
とする請求項1または2記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 1, wherein the adhesive uses the non-photosensitive resist or the resist film.
【請求項4】 前記接着剤はノボラック系樹脂或いはア
クリル系樹脂であり、前記レジストあるいはレジストフ
ィルムはノボラック系樹脂或いはアクリル系樹脂である
ことを特徴とする請求項3記載の磁気ヘッドの製造方
法。
4. The method according to claim 3, wherein the adhesive is a novolak resin or an acrylic resin, and the resist or the resist film is a novolak resin or an acrylic resin.
【請求項5】 前記固定工程と、前記パターン形成工程
との間に、 前記スライダバーの隙間と前記スライダバー上面を覆う
ように、レジストを塗布、あるいはレジストフィルムを
貼り付けて、レジスト膜を形成するレジスト膜形成工程
と、 前記スライダバーの隙間を覆うレジスト膜を、前記スラ
イダバーの隙間に没入させ、前記スライダバーの隙間を
塞ぐレジスト保護部を形成する保護部形成工程と、 前記スライダバー上面のレジスト膜を除去する除去工程
と、 前記スライダバーの上面と、前記レジスト保護部の上面
にレジスト層を形成するレジスト層形成工程とを備えた
ことを特徴とする請求項1から4記載のうちいずれかの
磁気ヘッドの製造方法。
5. A resist film is formed by applying a resist or pasting a resist film between the fixing step and the pattern forming step so as to cover a gap between the slider bar and an upper surface of the slider bar. Forming a resist film that covers the gap between the slider bars; and forming a resist protection section that closes the gap between the slider bars with a resist film that covers the gap between the slider bars. 5. The method according to claim 1, further comprising a removing step of removing the resist film, and a resist layer forming step of forming a resist layer on an upper surface of the slider bar and an upper surface of the resist protection unit. 6. A method for manufacturing any of the magnetic heads.
【請求項6】 加熱されて軟化した前記レジストフィル
ムを加圧して、前記スライダバーの上面に貼り付けてレ
ジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、前記加圧に
よって、前記スライダバーの隙間を塞ぐレジスト保護部
を形成する保護部形成工程とを同時に行うようにした請
求項5記載の磁気ヘッドの製造方法。
6. A resist film forming step of forming a resist film by applying pressure to the heated and softened resist film and attaching the resist film to the upper surface of the slider bar, and closing the gap between the slider bars by the pressing. 6. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 5, wherein the step of forming a protection portion for forming a resist protection portion is performed simultaneously.
【請求項7】 前記スライダバーの隙間の前記レジスト
保護部を硬化させる硬化工程を備えることを特徴とする
請求項5、または6記載の磁気ヘッドの製造方法。
7. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 5, further comprising a curing step of curing the resist protection portion in a gap between the slider bar.
【請求項8】 前記スライダバーの隙間の前記レジスト
保護部を溶解する溶解工程を備え、該溶解工程と前記剥
離工程と同時に行うことを特徴とする請求項5から7の
いずれかの請求項記載の磁気ヘッドの製造方法。
8. The method according to claim 5, further comprising a dissolving step for dissolving the resist protection portion in the gap between the slider bars, wherein the dissolving step and the peeling step are performed simultaneously. Of manufacturing a magnetic head.
【請求項9】 複数の薄膜素子を側端面に有する複数本
のスライダバーを、前記スライダバーの底面を治具上に
接着剤で固定して、それぞれの前記側端面の前方に隙間
をあけて治具上に配置する固定工程と、 前記スライダバーの隙間と前記スライダバー上面を覆う
ように、レジストを塗布、あるいはレジストフィルムを
貼り付けて、レジスト膜を形成するレジスト膜形成工程
と、前記スライダバーの隙間を覆うレジスト膜を、前記
スライダバーの隙間に没入させてレジスト保護部を形成
する保護部形成工程と、 前記スライダバー上面に形成されたレジスト膜を除去す
る除去工程と、 前記レジスト保護部を露光により硬化させる硬化工程
と、 前記スライダバーの上面に、レジストを塗布、あるいは
前記レジストを用いたレジストフィルムを貼り付けるこ
とによりレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、 前記レジスト層に磁気ヘッドのスライダのABS面を形
成するためのエッチングパターンを形成するパターン形
成工程と、 前記スライダバーに前記ABS面を形成するための、前
記スライダバーをエッチングするエッチング工程と、を
有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
9. A plurality of slider bars each having a plurality of thin-film elements on a side end face are fixed with an adhesive on a bottom surface of the slider bar on a jig, and a gap is provided in front of each of the side end faces. A fixing step of disposing on a jig; a resist film forming step of forming a resist film by applying a resist or pasting a resist film so as to cover a gap between the slider bars and an upper surface of the slider bar; A protection section forming step of forming a resist protection section by immersing a resist film covering a gap between the bars into the gap between the slider bars; a removing step of removing a resist film formed on an upper surface of the slider bar; Curing a portion by exposure, and applying a resist on the upper surface of the slider bar, or pasting a resist film using the resist Forming a resist layer by applying a resist layer; forming a resist pattern on the slider layer of the magnetic head; and forming an ABS pattern on the slider bar. An etching step of etching the slider bar for etching.
JP11083702A 1999-03-26 1999-03-26 Manufacture for magnetic head Withdrawn JP2000285429A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11083702A JP2000285429A (en) 1999-03-26 1999-03-26 Manufacture for magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11083702A JP2000285429A (en) 1999-03-26 1999-03-26 Manufacture for magnetic head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000285429A true JP2000285429A (en) 2000-10-13

Family

ID=13809838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11083702A Withdrawn JP2000285429A (en) 1999-03-26 1999-03-26 Manufacture for magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000285429A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7017257B2 (en) * 2003-06-16 2006-03-28 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for directly debonding sliders during single slider processing

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7017257B2 (en) * 2003-06-16 2006-03-28 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for directly debonding sliders during single slider processing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5516430A (en) Planarization of air bearing slider surfaces for reactive ion etching or ion milling
KR100444813B1 (en) Method of manufacturing magnetic head slider and guide plate used therefor
KR100280040B1 (en) Magnetic Head Slider Manufacturing Method
JP2000285429A (en) Manufacture for magnetic head
US7263763B2 (en) Planarization method for a structure having a first surface for etching and a second surface
JP4375876B2 (en) Method for manufacturing a foldable circuit board
JPH11306706A (en) Pattern formation method
JP3958830B2 (en) Manufacturing method of magnetic head slider
JPH10228674A (en) Disk board
JP2002116551A (en) Resist pattern, method for manufacturing the same, method for patterning thin film and method for producing micro device
JPH11352350A (en) Production of optical waveguide element
JPH0264543A (en) Formation of pattern to curved surface
JP2000022333A (en) Manufacture of laminate
US7219415B2 (en) Method of manufacturing thin film magnetic head
JPH01255565A (en) Thermal head
JPH03260654A (en) Method for forming pattern by using dry film resist
JP2633122B2 (en) Method of forming gold pads on connection terminals
JP2693171B2 (en) Method for manufacturing thin-film magnetic head
JPH1186250A (en) Manufacture for magnetic head slider
JPH0973608A (en) Production of thin-film magnetic head
JP3015546B2 (en) Resist coating method
JPH05174320A (en) Manufacture of thin film magnetic head
JPH04192107A (en) Production of thin-film magnetic head
JPH1064213A (en) Resist film
JP2003067906A (en) Thin film magnetic head slider bar holding device and method of manufacturing thin film magnetic head slider bar

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060606