JP2000260885A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】レイアウト面積の増大を抑え、2トランジスタ
1キャパシタ型DRAMコアとして最適なレイアウト構
成を有する半導体集積回路装置を提供する。
【解決手段】2トランジスタ1キャパシタ型DRAMの
メモリセルアレイ1を、オープンビット線方式で構成す
る。また1本のスルービット線と、センスアンプに接続
されるトゥルービット線とバービット線の合計3本のビ
ット線を有するセンスアンプ・ユニットセルを、複数個
1列にアレイ配置することで、一方のセンスアンプ列3
aを構成し、センスアンプ・ユニットセルを180度回
転配置して、他方のセンスアンプ列3bを構成する。ま
た隣り合った2本のビット線を接続してダミーメモリセ
ルアレイ2を構成する。
(57) Abstract: Provided is a semiconductor integrated circuit device having an optimal layout configuration as a two-transistor, one-capacitor DRAM core while suppressing an increase in layout area. A memory cell array of a two-transistor, one-capacitor type DRAM is configured by an open bit line method. By arranging a plurality of sense amplifier unit cells having a total of three bit lines, one through bit line, a true bit line and a bar bit line connected to the sense amplifier, in a row, Sense amplifier row 3
a, and the sense amplifier unit cells are arranged by rotating them by 180 degrees to form the other sense amplifier row 3b. Further, a dummy memory cell array 2 is formed by connecting two adjacent bit lines.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置に関するもので、チップレイアウト構成に係る。The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and to a chip layout configuration.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、1トランジスタ1キャパシタ
型DRAMメモリセルで構成された種々のDRAMチッ
プが開発され、大容量化、高速化のために、さまざまな
工夫がなされてきた。2. Description of the Related Art Conventionally, various DRAM chips composed of one-transistor one-capacitor type DRAM memory cells have been developed, and various measures have been taken to increase the capacity and speed.
【0003】図6は、従来の1トランジスタ1キャパシ
タ型DRAMメモリセルと、フォールデッド型ビット線
対、シェアード・センスアンプで構成されたDRAMコ
アのレイアウトイメージ図である。同図において、1は
センスアンプユニットセル、2はセンスアンプユニット
セル1内のセンスアンプ回路、3Lはセンスアンプユニ
ットセル1内の左端に配置されたシェアード・スイッ
チ、3Rはセンスアンプユニットセル1内の右端に配置
されたシェアード・スイッチ、4はワード線、5はビッ
ト線対、6はメモリセルトランジスタ、7はメモリセル
キャパシタである。また、S1、S2、S3は、センス
アンプユニットセルが、ビット線4本(2ビット線対)
分のピッチで複数個1列にアレイ配置されて構成された
センスアンプ列、M12は、センスアンプ列S1とセン
スアンプ列S2の間に配置された第一のメモリセルアレ
イ、M23は、センスアンプ列S2とセンスアンプ列S
3の間に配置された第二のメモリセルアレイである。隣
接する2対のビット線対の一方は、メモリセルアレイの
右側のセンスアンプユニットに接続され、もう一方は、
左側のセンスアンプユニットに接続される。FIG. 6 is a layout image diagram of a conventional 1-transistor 1-capacitor DRAM memory cell, a folded type bit line pair, and a DRAM core composed of a shared sense amplifier. In the figure, 1 is a sense amplifier unit cell, 2 is a sense amplifier circuit in the sense amplifier unit cell 1, 3L is a shared switch arranged at the left end in the sense amplifier unit cell 1, and 3R is a sense amplifier unit cell 1. Are a shared switch, 4 is a word line, 5 is a bit line pair, 6 is a memory cell transistor, and 7 is a memory cell capacitor. S1, S2, and S3 indicate that the sense amplifier unit cell has four bit lines (two bit line pairs).
M12 is a first memory cell array disposed between the sense amplifier rows S1 and S2, and M23 is a sense amplifier row arranged S2 and sense amplifier row S
3 is a second memory cell array arranged between the first and second memory cell arrays. One of two adjacent bit line pairs is connected to the sense amplifier unit on the right side of the memory cell array, and the other is
Connected to left sense amplifier unit.
【0004】ここで、図6に示す1トランジスタ1キャ
パシタ型DRAMコアの動作について説明する。Here, the operation of the one-transistor, one-capacitor DRAM core shown in FIG. 6 will be described.
【0005】第一のメモリセルアレイM12内のワード
線4が選択される場合には、センスアンプ列S1と、セ
ンスアンプ列S2が活性化し、センスアンプ列S1内の
右側のシェアード・スイッチ3Rが、ONとなり、左側
のシェアード・スイッチ3Lは、OFFとなる。他方、
センスアンプ列S2内の右側のシェアード・スイッチ3
Rは、OFFとなり、左側のシェアード・スイッチ3L
は、ONとなる。すなわち、選択されたワード線4に接
続される全メモリセルのうちの半数が第一のメモリセル
アレイM12の右側のセンスアンプ列S2のセンスアン
プ2に接続され、あとの半数が、左側のセンスアンプ列
S1のセンスアンプ2に接続される。同様に、第二のメ
モリセルアレイM23内のワード線4が選択される場合
には、センスアンプ列S2と、センスアンプ列S3が活
性化し、センスアンプ列S2内の右側のシェアード・ス
イッチ3Rが、ONとなり、左側のシェアード・スイッ
チ3Lは、OFFとなる。他方、センスアンプ列S3内
の右側のシェアード・スイッチ3Rは、OFFとなり、
左側のシェアード・スイッチ3Lは、ONとなる。すな
わち、選択されたワード線4に接続される全メモリセル
のうちの半数が第二のメモリセルアレイM23の右側の
センスアンプ列S3のセンスアンプ2に接続され、あと
の半数が、左側のセンスアンプ列S2のセンスアンプ2
に接続される。When the word line 4 in the first memory cell array M12 is selected, the sense amplifier row S1 and the sense amplifier row S2 are activated, and the right-hand shared switch 3R in the sense amplifier row S1 is activated. The switch is turned on, and the left shared switch 3L is turned off. On the other hand,
Shared switch 3 on the right in sense amplifier row S2
R is OFF, left shared switch 3L
Becomes ON. That is, half of all the memory cells connected to the selected word line 4 are connected to the sense amplifier 2 of the sense amplifier row S2 on the right side of the first memory cell array M12, and the other half are connected to the left side sense amplifier. Connected to sense amplifier 2 in column S1. Similarly, when the word line 4 in the second memory cell array M23 is selected, the sense amplifier row S2 and the sense amplifier row S3 are activated, and the right-hand shared switch 3R in the sense amplifier row S2 becomes The switch is turned on, and the left shared switch 3L is turned off. On the other hand, the right shared switch 3R in the sense amplifier row S3 is turned off,
The left shared switch 3L is turned ON. That is, half of all the memory cells connected to the selected word line 4 are connected to the sense amplifier 2 of the sense amplifier array S3 on the right side of the second memory cell array M23, and the other half are connected to the sense amplifier on the left side. Sense amplifier 2 in column S2
Connected to.
【0006】以上のようなレイアウト構成と動作によっ
て、1トランジスタ1キャパシタ型DRAMコアとして
は、レイアウト面積と動作性能を考慮した最適な構造と
なっている。With the above layout configuration and operation, the one-transistor one-capacitor type DRAM core has an optimal structure in consideration of the layout area and the operation performance.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
DRAMコアは、1ポートのみを有する1トランジスタ
1キャパシタ型DRAMメモリセルで構成されたもので
あり、上記従来の技術のフォールデッド型ビット線対の
構造を、2ポートを有する2トランジスタ1キャパシタ
型DRAMコアに適用した場合、レイアウト面積が大幅
に増大するという問題がある。However, the conventional DRAM core is composed of a one-transistor, one-capacitor type DRAM memory cell having only one port, and the conventional DRAM core has a folded bit line pair. When the structure is applied to a two-transistor, one-capacitor DRAM core having two ports, there is a problem that the layout area is significantly increased.
【0008】以下に、問題の例をあげて説明する。The following is a description of an example of the problem.
【0009】図7は、2トランジスタ1キャパシタ型D
RAMメモリセルの回路図である。2個のトランジスタ
TRa、TRbと1個のキャパシタCcellで構成さ
れ、キャパシタCcellの一方の端子はセルプレート
電位Vcpに接続され、もう一方の端子は、ワード線W
Laが選択された場合に、トランジスタTRaを介して
ビット線BLaに接続され、ワード線WLbが選択され
た場合に、トランジスタTRbを介してビット線BLb
に接続されるようになっている。以下、トランジスタT
Raを介してビット線BLaとキャパシタCcellが
接続される経路をポートa、トランジスタTRbを介し
てビット線BLbとキャパシタCcellが接続される
経路をポートbという。図8は、2トランジスタ1キャ
パシタ型DRAMメモリセルのレイアウト図である。同
図において、TRa、TRbはトランジスタ、Ccel
lはキャパシタ、WLaはトランジスタTRaのゲート
を制御するワード線、WLbはトランジスタTRbのゲ
ートを制御するワード線、BLaは、ワード線WLaが
選択された場合にキャパシタCcellと接続されるビ
ット線、BLbは、ワード線WLbが選択された場合に
キャパシタCcellと接続されるビット線である。さ
らに、図9は、上記図8の2トランジスタ1キャパシタ
型DRAMメモリセルと、従来の技術のフォールデッド
型ビット線対、シェアード・センスアンプで構成された
DRAMコアのレイアウトイメージ図である。同図にお
いて、Sa0、Sa1、Sb0はセンスアンプユニット
セルであり、これらのセンスアンプユニットセルは、そ
れぞれ中央にセンスアンプ回路2、左端にシェアード・
スイッチ3L、右端にシェアード・スイッチ3Rを有し
ている。また、WLa0、WLa1はポートaに対応す
るワード線、WLb0、WLb1はポートbに対応する
ワード線、BLa0、/BLa0はセンスアンプユニッ
トセルSa0に接続されポートaに対応するビット線
対、BLb0、/BLb0はセンスアンプユニットセル
Sb0に接続されポートbに対応するビット線対、BL
a1、/BLa1はセンスアンプユニットセルSa1に
接続されポートaに対応するビット線対である。また、
S1、S2、S3は、センスアンプユニットセルが、ビ
ット線4本(2ビット線対)分のピッチで複数個1列に
アレイ配置されて構成されたセンスアンプ列、M12
は、センスアンプ列S1とセンスアンプ列S2の間に配
置された第一のメモリセルアレイ、M23は、センスア
ンプ列S2とセンスアンプ列S3の間に配置された第二
のメモリセルアレイである。隣接する2対のビット線対
の一方は、メモリセルアレイの右側のセンスアンプユニ
ットに接続され、もう一方は、左側のセンスアンプユニ
ットに接続される。FIG. 7 shows a two-transistor, one-capacitor type D
FIG. 3 is a circuit diagram of a RAM memory cell. It is composed of two transistors TRa and TRb and one capacitor Ccell. One terminal of the capacitor Ccell is connected to the cell plate potential Vcp, and the other terminal is connected to the word line W.
When La is selected, it is connected to bit line BLa via transistor TRa, and when word line WLb is selected, bit line BLb is connected via transistor TRb.
Is to be connected to. Hereinafter, the transistor T
A path connecting the bit line BLa and the capacitor Ccell via Ra is called port a, and a path connecting the bit line BLb and the capacitor Ccell via the transistor TRb is called port b. FIG. 8 is a layout diagram of a two-transistor, one-capacitor DRAM memory cell. In the figure, TRa and TRb are transistors, Ccel
l is a capacitor, WLa is a word line controlling the gate of the transistor TRa, WLb is a word line controlling the gate of the transistor TRb, BLa is a bit line connected to the capacitor Ccell when the word line WLa is selected, BLb Is a bit line connected to the capacitor Ccell when the word line WLb is selected. FIG. 9 is a layout image diagram of a DRAM core composed of the two-transistor, one-capacitor DRAM memory cell of FIG. 8, the conventional folded bit line pair, and the shared sense amplifier. In the figure, Sa0, Sa1, and Sb0 are sense amplifier unit cells. These sense amplifier unit cells have a sense amplifier circuit 2 at the center and a shared amplifier at the left end.
It has a switch 3L and a shared switch 3R at the right end. WLa0 and WLa1 are the word lines corresponding to the port a, WLb0 and WLb1 are the word lines corresponding to the port b, BLa0 and / BLa0 are the bit line pairs corresponding to the port a and connected to the sense amplifier unit cell Sa0, and BLb0. / BLb0 is a bit line pair connected to the sense amplifier unit cell Sb0 and corresponding to port b, BL
a1 and / BLa1 are bit line pairs connected to the sense amplifier unit cell Sa1 and corresponding to the port a. Also,
S1, S2, and S3 are sense amplifier columns each having a plurality of sense amplifier unit cells arranged in a row at a pitch of four bit lines (two bit line pairs), and M12.
Is a first memory cell array arranged between the sense amplifier rows S1 and S2, and M23 is a second memory cell array arranged between the sense amplifier rows S2 and S3. One of two adjacent bit line pairs is connected to the right sense amplifier unit of the memory cell array, and the other is connected to the left sense amplifier unit.
【0010】ここで、図9に示す2トランジスタ1キャ
パシタ型DRAMコアの動作について説明する。第一の
メモリセルアレイM12内のワード線WLa0、あるい
はWLa1が選択される場合には、センスアンプ列S1
のみが活性化し、センスアンプ列S1内の右側のシェア
ード・スイッチ3Rが、ONとなり、左側のシェアード
・スイッチ3Lは、OFFとなる。すなわち、選択され
たワード線WLa0、あるいはWLa1に接続される全
メモリセルの半数のみが第一のメモリセルアレイM12
の左側のセンスアンプ列S1のセンスアンプ2に接続さ
れる。また、第一のメモリセルアレイM12内のワード
線WLb0、あるいはWLb1が選択される場合には、
センスアンプ列S2のみが活性化し、センスアンプ列S
2内の左側のシェアード・スイッチ3Lが、ONとな
り、右側のシェアード・スイッチ3Rは、OFFとな
る。すなわち、選択されたワード線WLb0、あるいは
WLb1に接続される全メモリセルの半数のみが第一の
メモリセルアレイM12の右側のセンスアンプ列S2の
センスアンプ2に接続される。The operation of the two-transistor, one-capacitor DRAM core shown in FIG. 9 will now be described. When the word line WLa0 or WLa1 in the first memory cell array M12 is selected, the sense amplifier row S1
Only the shared switch 3R on the right in the sense amplifier array S1 is turned on, and the shared switch 3L on the left is turned off. That is, only half of all the memory cells connected to the selected word line WLa0 or WLa1 are in the first memory cell array M12.
Is connected to the sense amplifier 2 of the sense amplifier row S1 on the left. When the word line WLb0 or WLb1 in the first memory cell array M12 is selected,
Only the sense amplifier array S2 is activated, and the sense amplifier array S
2, the left shared switch 3L is turned on, and the right shared switch 3R is turned off. That is, only half of all the memory cells connected to the selected word line WLb0 or WLb1 are connected to the sense amplifier 2 of the sense amplifier row S2 on the right side of the first memory cell array M12.
【0011】第二のメモリセルアレイM23内のワード
線が選択される場合も、同様の動作である。The same operation is performed when a word line in the second memory cell array M23 is selected.
【0012】以上のようなレイアウト構成と動作によっ
て、上記従来の技術のフォールデッド型ビット線対とシ
ェアード・センスアンプの構成を用いた2トランジスタ
1キャパシタ型DRAMコアを実現することは可能であ
る。ところが、このような構成では、メモリセルアレイ
内の全メモリセルの半数が、センス動作時のリファレン
スとしてのみ使用されるダミーセルとなり、従来の1ト
ランジスタ1キャパシタ型DRAMと同じデータ記憶容
量を実現しようとすると、レイアウト面積が4倍に増大
するという問題が発生する。With the above-described layout configuration and operation, it is possible to realize a two-transistor, one-capacitor type DRAM core using the configuration of the above-mentioned conventional folded bit line pair and shared sense amplifier. However, in such a configuration, half of all the memory cells in the memory cell array are dummy cells used only as a reference at the time of a sensing operation, and if it is intended to realize the same data storage capacity as a conventional one-transistor one-capacitor DRAM. In addition, there is a problem that the layout area is quadrupled.
【0013】本発明は、上記問題点を解決するもので、
レイアウト面積の増大を抑え、2トランジスタ1キャパ
シタ型DRAMコアとして最適なレイアウト構成を有す
る半導体集積回路装置を提供することを目的とする。The present invention solves the above problems,
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having an optimum layout configuration as a two-transistor, one-capacitor DRAM core while suppressing an increase in layout area.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の半導体集
積回路装置は、2ポートを構成する2トランジスタ1キ
ャパシタ型DRAMの複数のメモリセルアレイと、これ
らのメモリセルアレイの間に配置され、センスアンプを
挟んでビット線方向に延びたビット線対の一方がメモリ
セルアレイの一方に延びかつビット線対の他方がメモリ
セルアレイの他方に延びたセンスアンプ列とを備え、メ
モリセルアレイとセンスアンプ列とをオープンビット線
方式で接続したことを特徴とするものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit device comprising: a plurality of memory cell arrays of a two-transistor, one-capacitor type DRAM forming two ports; and a sense amplifier disposed between these memory cell arrays. One of a pair of bit lines extending in the bit line direction with the sense amplifier row extending to one of the memory cell arrays and the other of the pair of bit lines extending to the other of the memory cell array. It is characterized by being connected by an open bit line method.
【0015】請求項1記載の半導体集積回路装置によれ
ば、センス動作時のリファレンスとしてのみ使用される
ようなダミーメモリセルが、通常のメモリセルアレイ内
には存在しなくなり、フォールデッドビット線方式を採
用した場合の1/2にレイアウト面積を削減することが
できる。According to the semiconductor integrated circuit device of the first aspect, a dummy memory cell used only as a reference at the time of a sensing operation does not exist in a normal memory cell array, and a folded bit line system is used. The layout area can be reduced to a half of the case where it is adopted.
【0016】請求項2記載の半導体集積回路装置は、複
数個のメモリセルアレイと、この複数個のメモリセルア
レイの間に配置されるセンスアンプ列とを備え、センス
アンプ列が、1本のスルービット線と、センスアンプに
接続されるトゥルービット線とバービット線の合計3本
のビット線を有するセンスアンプ・ユニットセルを、複
数個1列にアレイ配置することで、一方のセンスアンプ
列を構成し、センスアンプ・ユニットセルを180度回
転配置して、他方のセンスアンプ列を構成し、一方のセ
ンスアンプ列のスルービット線と、他方のセンスアンプ
列のトゥルービット線が互いに接続し合うように、それ
ぞれ2つのセンスアンプ列を配置する構成であることを
特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit device comprising a plurality of memory cell arrays and a sense amplifier array arranged between the plurality of memory cell arrays, wherein the sense amplifier array includes one through bit. A plurality of sense amplifier unit cells having a total of three bit lines, a true bit line and a bar bit line connected to the sense amplifier, are arranged in a row to form one sense amplifier row. Then, the sense amplifier unit cells are arranged by rotating by 180 degrees to form the other sense amplifier row, and the through bit lines of one sense amplifier row and the true bit lines of the other sense amplifier row are connected to each other. In this case, two sense amplifier rows are arranged.
【0017】請求項2記載の半導体集積回路装置によれ
ば、センスアンプ・ユニットセルを、複数個1列にアレ
イ配置する際のピッチサイズを、ビット線4本分の長さ
にすることができる。これは従来方式を採用した場合と
同じであるため、センスアンプの特性を損なうことのな
いレイアウトを容易に実現することができ、また2列の
センスアンプ列間にこれらを接続するための特殊な配線
領域等は必要なく、同一のセンスアンプ・ユニットセル
で構成された2列のセンスアンプ列を相互に180度回
転配置するだけでよいため、小面積の最適レイアウトを
実現できる。According to the semiconductor integrated circuit device of the second aspect, the pitch size when a plurality of sense amplifier / unit cells are arranged in an array can be set to a length corresponding to four bit lines. . Since this is the same as the case where the conventional method is adopted, a layout without deteriorating the characteristics of the sense amplifier can be easily realized, and a special arrangement for connecting these between two sense amplifier rows is provided. There is no need for a wiring area or the like, and it is only necessary to arrange two sense amplifier rows composed of the same sense amplifier / unit cell by rotating each other by 180 degrees, so that an optimal layout with a small area can be realized.
【0018】請求項3記載の半導体集積回路装置は、複
数個のメモリセルアレイは、半数のビット線は無効で残
り半数のビット線のみが有効であるダミーメモリセルア
レイを含み、ダミーメモリセルアレイのビット線方向の
長さを、他のメモリセルアレイの領域の1/2とし、か
つダミーメモリセルアレイの隣り合った2本のビット線
を接続することで、他のメモリセルアレイのビット線の
1本分を形成することを特徴とするものである。According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit device, the plurality of memory cell arrays include a dummy memory cell array in which half bit lines are invalid and only the remaining half bit lines are valid. The length in the direction is set to の of the area of the other memory cell array, and two bit lines adjacent to the dummy memory cell array are connected to form one bit line of the other memory cell array. It is characterized by doing.
【0019】請求項3記載の半導体集積回路装置によれ
ば、ダミーメモリセルアレイ領域の面積を、通常メモリ
セルアレイ領域の1/2にでき、レイアウト面積の縮小
化を図ることができる。According to the semiconductor integrated circuit device of the third aspect, the area of the dummy memory cell array region can be reduced to half of that of the normal memory cell array region, and the layout area can be reduced.
【0020】請求項4記載の半導体集積回路装置は、2
ポートを有するメモリセルで構成した複数個のメモリセ
ルアレイと、この複数個のメモリセルアレイ間にそれぞ
れ配置された各々2列からなるセンスアンプ列群と、セ
ンスアンプ列群の各々を2ポートのどちらか一方に対応
させて、センスアンプ列を構成する2列のセンスアンプ
列を区別することなく同時に制御するセンスアンプ制御
回路とを備えたものである。According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit device,
A plurality of memory cell arrays each including a memory cell having a port, a sense amplifier row group including two rows each arranged between the plurality of memory cell arrays, and each of the sense amplifier row groups having two ports. And a sense amplifier control circuit for simultaneously controlling two sense amplifier rows constituting the sense amplifier row without distinction.
【0021】請求項4記載の半導体集積回路装置によれ
ば、2列のセンスアンプ列に対して、1個のセンスアン
プ制御回路を設けるだけでよく、センスアンプ制御回路
を配置するためのレイアウト面積を削減することができ
る。According to the semiconductor integrated circuit device of the fourth aspect, it is only necessary to provide one sense amplifier control circuit for two sense amplifier rows, and a layout area for arranging the sense amplifier control circuits is provided. Can be reduced.
【0022】請求項5記載の半導体集積回路装置は、2
ポートを有するメモリセルで構成したメモリセルアレイ
を備え、メモリセルアレイ上に配置する第1のポート用
の複数本のデータ線対と、第2のポート用の複数本のデ
ータ線対が互いに隣接することがないように、第1のポ
ート用のデータ線対と第2のポート用のデータ線対の間
に、列選択線、あるいは、種々の電源線を配置した構成
を有することを特徴とするものである。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit device comprising:
A plurality of data line pairs for a first port and a plurality of data line pairs for a second port arranged on the memory cell array are adjacent to each other; Characterized in that a column selection line or various power supply lines are arranged between the data line pair for the first port and the data line pair for the second port so that there is no data line. It is.
【0023】請求項5記載の半導体集積回路装置によれ
ば、ポートaとポートbのデータ線対を相互に離しかつ
その間のスペースに列選択線または電源線を配置するこ
とにより、ポートaとポートbのデータが相互に干渉す
ることがなくなり、干渉ノイズによる誤動作を防止する
ことができるとともに、列選択線および電源線のスペー
スの有効利用および電磁シールドにより全体の配置スペ
ースの縮小化が図れる。According to the semiconductor integrated circuit device of the fifth aspect, the data line pairs of the port a and the port b are separated from each other, and the column selection line or the power supply line is arranged in the space therebetween, so that the port a and the port b are arranged. The data b does not interfere with each other, malfunctions due to interference noise can be prevented, and the entire arrangement space can be reduced by effectively utilizing the space of the column selection line and the power supply line and by using the electromagnetic shield.
【0024】請求項6記載の半導体集積回路装置は、メ
モリセルアレイと、センスアンプ列と、ダミーメモリセ
ルアレイが隣接配置された構成を有し、メモリセルアレ
イに隣接するローデコーダブロックと、センスアンプ列
に隣接するセンスアンプ制御回路と、ダミーメモリセル
アレイに隣接するダミーロー領域が隣接配置された構成
を有し、ローデコーダブロック端で、ダミーロー領域に
ロー冗長フューズ回路を配置することを特徴とするもの
である。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit device having a structure in which a memory cell array, a sense amplifier array, and a dummy memory cell array are arranged adjacent to each other, and a row decoder block adjacent to the memory cell array and a sense amplifier array. An adjacent sense amplifier control circuit and a dummy row region adjacent to a dummy memory cell array are arranged adjacent to each other, and a row redundancy fuse circuit is arranged in a dummy row region at an end of a row decoder block. .
【0025】請求項6記載の半導体集積回路装置によれ
ば、ローデコーダを配置する必要のないダミーロー領域
を有効に活用でき、ローデコーダ領域の配線本数を削減
することができるので、レイアウト面積の縮小化を図る
ことができる。According to the semiconductor integrated circuit device of the sixth aspect, a dummy row region in which it is not necessary to arrange a row decoder can be effectively utilized, and the number of wirings in the row decoder region can be reduced, so that the layout area can be reduced. Can be achieved.
【0026】[0026]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図1から図5を参照しながら説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0027】図1は、本発明の一実施の形態の半導体集
積回路装置のDRAM(ダイナミック・ランダム・アク
セス・メモリを指す)コア全体レイアウト構成の概要を
示す図である。同図において、1は通常のメモリセルア
レイ、2はDRAMコアのブロック端に配置されるもの
で半数のビット線は無効で残りの半数のビット線のみが
有効である。ダミーメモリセルアレイ、3は通常のメモ
リセルアレイ1とダミーメモリセルアレイ2の間、およ
び通常のメモリセルアレイ1と通常のメモリセルアレイ
1の間に配置される2列のセンスアンプ列、4は通常の
メモリセルアレイ1に接して配置されるローデコーダ、
5は2列のセンスアンプ列3に接して配置されるセンス
アンプ制御回路、6はダミーメモリセルアレイ2に接す
るダミーロー領域である。FIG. 1 is a diagram showing an outline of a layout configuration of an entire DRAM (referring to dynamic random access memory) core of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a normal memory cell array, and reference numeral 2 denotes a memory cell array arranged at a block end of a DRAM core. Half of the bit lines are invalid and only the remaining half of the bit lines are valid. Dummy memory cell arrays 3, 3 are two sense amplifier rows arranged between the normal memory cell array 1 and the dummy memory cell array 2, and between the normal memory cell array 1 and the normal memory cell array 1, 4 are normal memory cell arrays. A row decoder arranged in contact with 1;
Reference numeral 5 denotes a sense amplifier control circuit arranged in contact with the two sense amplifier rows 3, and reference numeral 6 denotes a dummy row area in contact with the dummy memory cell array 2.
【0028】次に、図2は本発明の一実施の形態の半導
体集積回路装置のセンスアンプユニットセルのレイアウ
ト構成図である。同図において、tBLはセンスアンプ
ユニットセル内を素通りするスルービット線、SAはセ
ンスアンプ回路部、BLはセンスアンプ回路SAに接続
されるトゥルービット線、/BLはセンスアンプ回路S
Aに接続されるバービット線である。スルービット線t
BL、バービット線/BLは、配線終端の左右両端と
も、センスアンプユニットセルのセル枠に接しており、
トゥルービット線BLは、配線終端の一方がセンスアン
プユニットセルのセル枠に接し、もう一方は、センスア
ンプユニットセル内で閉じた形になっている。FIG. 2 is a layout diagram of a sense amplifier unit cell of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention. In the figure, tBL is a through bit line passing through the sense amplifier unit cell, SA is a sense amplifier circuit portion, BL is a true bit line connected to the sense amplifier circuit SA, and / BL is a sense amplifier circuit S
A bar bit line connected to A. Through bit line t
BL and the bar bit line / BL are in contact with the cell frame of the sense amplifier unit cell at both left and right ends of the wiring end,
One end of the true bit line BL is in contact with the cell frame of the sense amplifier unit cell, and the other end is closed in the sense amplifier unit cell.
【0029】以上のように、本発明の半導体集積回路装
置のセンスアンプユニットセルは、3本のビット線を有
している。As described above, the sense amplifier unit cell of the semiconductor integrated circuit device of the present invention has three bit lines.
【0030】さらに、図3は本発明の一実施の形態の半
導体集積回路装置のメモリセルとセンスアンプの接続関
係、およびセンスアンプ制御方式を示す図である。同図
において、1は通常のメモリセルアレイ、2はDRAM
コアのブロック端に配置されるダミーメモリセルアレ
イ、3aは通常のメモリセルアレイ1とダミーメモリセ
ルアレイ2の間に配置される2列のセンスアンプ列、3
bは通常のメモリセルアレイ1と通常のメモリセルアレ
イ1の間に配置される2列のセンスアンプ列である。2
列のセンスアンプ列は、ともに、同一のセンスアンプユ
ニットセルが、ビット線4本分のピッチで複数個1列に
アレイ配置された構成になっており、相互に180度回
転配置された関係になっている。こうした構成により、
センスアンプに繋がるビット線対は、センスアンプを挟
んで左右すなわちビット線方向に延びるオープンビット
線型になっている。なお、ビット線対の一方のトゥルー
ビット線と、他方のバービット線の関係は、選択される
ワード線により、その役割が逆となることは言うまでも
ない。また、5a、5bは2列のセンスアンプ列3a、
3bに接して配置されるセンスアンプ制御回路、7はポ
ートaに対応するワード線、8はポートbに対応するワ
ード線である。なお、通常のメモリセルアレイ内のワー
ド線端に記載の“a”あるいは“b”は、それぞれ“ポ
ートa”と“ポートb”を意味し、それぞれのワード線
が、a,bどちらのポートに対応するのかを示してあ
る。さらに、9はメモリセルキャパシタ、10はメモリ
セルトランジスタ、11はダミーメモリセルアレイ2の
終端部で隣り合った2本のビット線を接続した折り返し
バービット線である。また、ctrl_aはポートa活
性化信号で、2列のセンスアンプ列3aを制御するセン
スアンプ制御回路5aに接続され、ctrl_bはポー
トb活性化信号で、2列のセンスアンプ列3bを制御す
るセンスアンプ制御回路5bに接続される。FIG. 3 is a diagram showing a connection relationship between a memory cell and a sense amplifier in a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, and a sense amplifier control method. In the figure, 1 is a normal memory cell array, 2 is a DRAM
Dummy memory cell arrays 3a arranged at the block ends of the core are two sense amplifier rows arranged between the normal memory cell array 1 and the dummy memory cell array 2, 3a
b is a normal memory cell array 1 and two sense amplifier rows arranged between the normal memory cell array 1. 2
Each of the sense amplifier rows has a configuration in which the same sense amplifier unit cells are arranged in a plurality in a row at a pitch of four bit lines, and the sense amplifier unit cells are rotated by 180 degrees with respect to each other. Has become. With this configuration,
The bit line pair connected to the sense amplifier is of an open bit line type extending in the left and right directions, that is, in the bit line direction with the sense amplifier interposed therebetween. Needless to say, the relationship between one true bit line and the other bar bit line in the bit line pair is reversed depending on the selected word line. 5a and 5b are two sense amplifier rows 3a,
A sense amplifier control circuit arranged in contact with 3b, 7 is a word line corresponding to port a, and 8 is a word line corresponding to port b. Note that “a” or “b” described at the end of a word line in a normal memory cell array means “port a” and “port b”, respectively, and each word line is connected to either a or b port. It indicates whether they correspond. Further, 9 is a memory cell capacitor, 10 is a memory cell transistor, and 11 is a folded bar bit line connecting two adjacent bit lines at the end of the dummy memory cell array 2. Ctrl_a is a port a activation signal, which is connected to a sense amplifier control circuit 5a for controlling two rows of sense amplifier rows 3a, and ctrl_b is a port b activation signal, for controlling two rows of sense amplifier rows 3b. Connected to amplifier control circuit 5b.
【0031】以上のように構成された半導体集積回路装
置について、以下、その動作について説明する。The operation of the semiconductor integrated circuit device configured as described above will be described below.
【0032】まず、ポートa活性化信号ctrl_aが
発生されると、センスアンプ制御回路5aが活性化さ
れ、2列のセンスアンプ列3aがセンスアンプ制御回路
5aによって制御される。同時に、通常のメモリセル1
内の複数のワード線の中から、ポートaに対応する1本
のワード線aが選択され、ワード線aに繋がるすべての
メモリセルトランジスタ10がONし、メモリセルキャ
パシタ9とビット線が接続され、2列のセンスアンプ列
3aをとおして、メモリセルキャパシタ9のデータがア
クセスされる。このとき、センス動作のリファレンスと
して使用されるのがダミーメモリセルアレイ2内の折り
返しバービット線11である。また、ポートb活性化信
号ctrl_bが発生されると、センスアンプ制御回路
5bが活性化され、2列のセンスアンプ列3bがセンス
アンプ制御回路5bによって制御される。同時に、2列
のセンスアンプ列3bの左右に配置された通常のメモリ
セルアレイ1のどちらか一方の通常のメモリセルアレイ
1内の複数のワード線の中から、ポートbに対応する1
本のワード線bが選択され、ワード線bに繋がるすべて
のメモリセルトランジスタ10がONし、メモリセルキ
ャパシタ9とビット線が接続され、2列のセンスアンプ
列3bをとおして、メモリセルキャパシタ9のデータが
アクセスされる。このとき、センス動作のリファレンス
として使用されるのは、非選択側の通常のメモリセルア
レイ1内のビット線である。First, when the port a activation signal ctrl_a is generated, the sense amplifier control circuit 5a is activated, and the two sense amplifier rows 3a are controlled by the sense amplifier control circuit 5a. At the same time, the normal memory cell 1
One of the word lines a corresponding to the port a is selected from among the plurality of word lines in the memory cell, all the memory cell transistors 10 connected to the word line a are turned on, and the memory cell capacitor 9 and the bit line are connected. The data in the memory cell capacitor 9 is accessed through the two sense amplifier rows 3a. At this time, the folded bar bit line 11 in the dummy memory cell array 2 is used as a reference for the sensing operation. When the port b activation signal ctrl_b is generated, the sense amplifier control circuit 5b is activated, and the two sense amplifier rows 3b are controlled by the sense amplifier control circuit 5b. At the same time, one of the plurality of word lines in one of the normal memory cell arrays 1 arranged on the left and right of the two sense amplifier arrays 3b corresponds to the port b corresponding to the port b.
One word line b is selected, all the memory cell transistors 10 connected to the word line b are turned on, the memory cell capacitor 9 is connected to the bit line, and the memory cell capacitor 9 is connected through the two sense amplifier rows 3b. Is accessed. At this time, the bit line in the normal memory cell array 1 on the non-selected side is used as a reference for the sensing operation.
【0033】さらに、図4は本発明の一実施の形態の半
導体集積回路装置のメモリセルアレイ上に配置されたデ
ータ線のレイアウト構成を示す図である。同図におい
て、1は通常のメモリセルアレイ、3は通常のメモリセ
ルアレイ1の両側に配置される2列のセンスアンプ列で
ある。また、DLaはポートa用のデータ線対、DLb
はポートb用のデータ線対、Yは列選択線である。各配
線名の接尾につけた(n−1)、(n)、(n+1)は
それぞれの配線の順番を表すもので、同じ順番のポート
a用のデータ線対DLaとポートb用のデータ線対DL
bの間には、これらのデータ線対と同じ順番の列選択線
Yが配置される。また、順番が1つ異なるポートa用の
データ線対DLaとポートb用のデータ線対DLbの間
には、電源配線VDDあるいは接地配線VSSが配置さ
れる。このようなレイアウト構成により、ポートa用の
データとポートb用のデータが相互に干渉することがな
くなり、干渉ノイズによる誤動作を防止することができ
る。FIG. 4 is a diagram showing a layout configuration of data lines arranged on a memory cell array of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a normal memory cell array, and reference numeral 3 denotes two sense amplifier rows arranged on both sides of the normal memory cell array 1. DLa is a data line pair for port a, DLb
Is a data line pair for port b, and Y is a column select line. (N-1), (n), and (n + 1) added to the suffix of each wiring name indicate the order of each wiring, and the data line pair for port a DLa and the data line pair for port b in the same order. DL
Column selection lines Y in the same order as these data line pairs are arranged between b. Further, a power supply wiring VDD or a ground wiring VSS is arranged between the data line pair DLa for port a and the data line pair DLb for port b, which differ in order by one. With such a layout configuration, the data for port a and the data for port b do not interfere with each other, and malfunction due to interference noise can be prevented.
【0034】さらに、図5(a)は、本発明の一実施の
形態の半導体集積回路装置のロー冗長フューズ信号配線
のレイアウト構成を示す図である。同図において、4は
ローデコーダ、5はセンスアンプ制御回路、6はダミー
ロー領域である。また、12はダミーロー領域に配置さ
れたロー冗長フューズ回路、13はロー冗長フューズ回
路12から延びるロー冗長フューズ信号線である。ロー
冗長フューズ回路12は、ローデコーダブロックの両端
にあるそれぞれのダミーロー領域6に配置され、ロー冗
長フューズ信号線13はそれぞれのロー冗長フューズ回
路12からローデコーダブロックの中央に向かって延
び、中央のセンスアンプ制御回路5に到達したところで
終端されている。FIG. 5A is a diagram showing a layout configuration of a row redundant fuse signal wiring of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention. In the figure, 4 is a row decoder, 5 is a sense amplifier control circuit, and 6 is a dummy row area. Reference numeral 12 denotes a row redundant fuse circuit arranged in the dummy row region, and reference numeral 13 denotes a row redundant fuse signal line extending from the row redundant fuse circuit 12. The row redundancy fuse circuits 12 are arranged in the respective dummy row regions 6 at both ends of the row decoder block, and the row redundancy fuse signal lines 13 extend from the respective row redundancy fuse circuits 12 toward the center of the row decoder block. It is terminated when it reaches the sense amplifier control circuit 5.
【0035】これに対し、図5(b)は、ロー冗長フュ
ーズ回路12をローデコーダブロックの左端に接する周
辺回路領域14に配置した場合の、ロー冗長フューズ信
号配線のレイアウト構成を示す図である。同図におい
て、ロー冗長フューズ回路12から延びるロー冗長フュ
ーズ信号線13は、ローデコーダブロックに配置される
最も右側のセンスアンプ制御回路5に到達したところで
終端されている。On the other hand, FIG. 5B is a diagram showing a layout configuration of the row redundancy fuse signal wiring when the row redundancy fuse circuit 12 is arranged in the peripheral circuit region 14 in contact with the left end of the row decoder block. . In the figure, a row redundant fuse signal line 13 extending from a row redundant fuse circuit 12 is terminated when reaching a rightmost sense amplifier control circuit 5 arranged in a row decoder block.
【0036】上記図5(a)と図5(b)のレイアウト
構成を比較すれば明らかであるが、図5(a)のよう
に、ローデコーダブロック両端のそれぞれのダミーロー
領域に、ロー冗長フューズ回路を配置することにより、
ローデコーダ上を走るロー冗長フューズ信号線の本数を
半減させることができ、ローデコーダブロックのレイア
ウト面積を大幅に縮小することができる。As apparent from a comparison between the layout configurations shown in FIGS. 5A and 5B, as shown in FIG. 5A, the row redundancy fuses are provided in the respective dummy row regions at both ends of the row decoder block. By arranging the circuit,
The number of row redundant fuse signal lines running on the row decoder can be reduced by half, and the layout area of the row decoder block can be significantly reduced.
【0037】[0037]
【発明の効果】請求項1記載の半導体集積回路装置によ
れば、センス動作時のリファレンスとしてのみ使用され
るようなダミーメモリセルが、通常のメモリセルアレイ
内には存在しなくなり、フォールデッドビット線方式を
採用した場合の1/2にレイアウト面積を削減すること
ができる。According to the semiconductor integrated circuit device of the first aspect, a dummy memory cell used only as a reference at the time of a sensing operation does not exist in a normal memory cell array, and a folded bit line is not provided. The layout area can be reduced to half of the case where the method is adopted.
【0038】請求項2記載の半導体集積回路装置によれ
ば、センスアンプ・ユニットセルを、複数個1列にアレ
イ配置する際のピッチサイズを、ビット線4本分の長さ
にすることができる。これは従来方式を採用した場合と
同じであるため、センスアンプの特性を損なうことのな
いレイアウトを容易に実現することができ、また2列の
センスアンプ列間にこれらを接続するための特殊な配線
領域等は必要なく、同一のセンスアンプ・ユニットセル
で構成された2列のセンスアンプ列を相互に180度回
転配置するだけでよいため、小面積の最適レイアウトを
実現できる。According to the semiconductor integrated circuit device of the second aspect, the pitch size when arranging a plurality of sense amplifier unit cells in one row can be set to the length of four bit lines. . Since this is the same as the case where the conventional method is adopted, a layout without deteriorating the characteristics of the sense amplifier can be easily realized, and a special arrangement for connecting these between two sense amplifier rows is provided. There is no need for a wiring area or the like, and it is only necessary to arrange two sense amplifier rows composed of the same sense amplifier / unit cell by rotating each other by 180 degrees, so that an optimal layout with a small area can be realized.
【0039】請求項3記載の半導体集積回路装置によれ
ば、ダミーメモリセルアレイ領域の面積を、通常メモリ
セルアレイ領域の1/2にでき、レイアウト面積の縮小
化を図ることができる。According to the semiconductor integrated circuit device of the third aspect, the area of the dummy memory cell array region can be reduced to half of that of the normal memory cell array region, and the layout area can be reduced.
【0040】請求項4記載の半導体集積回路装置によれ
ば、2列のセンスアンプ列に対して、1個のセンスアン
プ制御回路を設けるだけでよく、センスアンプ制御回路
を配置するためのレイアウト面積を削減することができ
る。According to the semiconductor integrated circuit device of the fourth aspect, it is only necessary to provide one sense amplifier control circuit for two sense amplifier rows, and a layout area for disposing the sense amplifier control circuits is provided. Can be reduced.
【0041】請求項5記載の半導体集積回路装置によれ
ば、ポートaとポートbのデータ線対を相互に離しかつ
その間のスペースに列選択線または電源線を配置するこ
とにより、ポートaとポートbのデータが相互に干渉す
ることがなくなり、干渉ノイズによる誤動作を防止する
ことができるとともに、列選択線および電源線のスペー
スの有効利用および電磁シールドにより全体の配置スペ
ースの縮小化が図れる。According to the semiconductor integrated circuit device of the fifth aspect, the data line pairs of the port a and the port b are separated from each other and the column selection line or the power supply line is arranged in the space therebetween, so that the port a and the port The data b does not interfere with each other, malfunctions due to interference noise can be prevented, and the entire arrangement space can be reduced by effectively utilizing the space of the column selection line and the power supply line and by using the electromagnetic shield.
【0042】請求項6記載の半導体集積回路装置によれ
ば、ローデコーダを配置する必要のないダミーロー領域
を有効に活用でき、ローデコーダ領域の配線本数を削減
することができるので、レイアウト面積の縮小化を図る
ことができる。According to the semiconductor integrated circuit device of the sixth aspect, a dummy row region which does not require a row decoder can be effectively utilized, and the number of wirings in the row decoder region can be reduced, so that the layout area can be reduced. Can be achieved.
【図1】本発明の一実施の形態の半導体集積回路装置の
DRAMコア全体レイアウト構成を概略的に示す説明図
である。FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing an overall layout configuration of a DRAM core of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention;
【図2】本発明の一実施の形態の半導体集積回路装置の
センスアンプユニットセルのレイアウト構成を概略的に
示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing a layout configuration of a sense amplifier unit cell of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention;
【図3】本発明の一実施の形態の半導体集積回路装置の
メモリセルとセンスアンプの接続関係、およびセンスア
ンプ制御方式を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a connection relationship between a memory cell and a sense amplifier and a sense amplifier control method in the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention;
【図4】本発明の一実施の形態の半導体集積回路装置の
メモリセルアレイ上に配置されたデータ線のレイアウト
構成を概略的に示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram schematically showing a layout configuration of data lines arranged on a memory cell array of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention;
【図5】(a)は本発明の一実施の形態の半導体集積回
路装置のロー冗長フューズ信号配線のレイアウト構成を
概略的に示す図、(b)はロー冗長フューズ回路を周辺
回路領域に配置した場合の、ロー冗長フューズ信号配線
のレイアウト構成を示す図である。FIG. 5A is a diagram schematically showing a layout configuration of a row redundant fuse signal line of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5B is a diagram showing a row redundant fuse circuit arranged in a peripheral circuit region; FIG. 10 is a diagram showing a layout configuration of a row redundant fuse signal wiring in the case where the above is done.
【図6】従来の1トランジスタ1キャパシタ型DRAM
メモリセルと、フォールデッド型ビット線対、シェアー
ド・センスアンプで構成されたDRAMコアのレイアウ
トイメージ図である。FIG. 6 shows a conventional one-transistor, one-capacitor DRAM.
FIG. 3 is a layout image diagram of a DRAM core including a memory cell, a folded bit line pair, and a shared sense amplifier.
【図7】2トランジスタ1キャパシタ型DRAMメモリ
セルの回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram of a two-transistor, one-capacitor DRAM memory cell.
【図8】2トランジスタ1キャパシタ型DRAMメモリ
セルのレイアウト概略図である。FIG. 8 is a schematic layout diagram of a two-transistor, one-capacitor DRAM memory cell.
【図9】2トランジスタ1キャパシタ型DRAMメモリ
セルと、従来の技術のフォールデッド型ビット線対、シ
ェアード・センスアンプで構成されたDRAMコアのレ
イアウト概略図である。FIG. 9 is a schematic layout diagram of a DRAM core composed of a two-transistor one-capacitor DRAM memory cell, a conventional folded bit line pair, and a shared sense amplifier.
1 通常のメモリセルアレイ 2 ダミーメモリセルアレイ 3、3a、3b 2列のセンスアンプ列 4 ローデコーダ 5、5a、5b センスアンプ制御回路 6 ダミーロー領域 7 ポートaに対応するワード線 8 ポートbに対応するワード線 10 メモリセルトランジスタ 11 折り返しバービット線 12 ロー冗長フューズ回路 13 ロー冗長フューズ信号線 14 周辺回路領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Normal memory cell array 2 Dummy memory cell array 3, 3a, 3b 2 rows of sense amplifier rows 4 Row decoder 5, 5a, 5b Sense amplifier control circuit 6 Dummy row area 7 Word line corresponding to port a 8 Word corresponding to port b Line 10 Memory cell transistor 11 Folded bar bit line 12 Row redundant fuse circuit 13 Row redundant fuse signal line 14 Peripheral circuit area
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 27/10 471 G11C 11/34 362G Fターム(参考) 5B015 JJ14 JJ31 JJ36 KA13 KA38 NN01 PP02 PP07 QQ15 5B024 AA03 AA07 BA03 BA05 CA07 CA18 CA21 5F083 AD69 LA01 LA03 LA10 LA11 LA12 LA13 LA17 ZA10 ZA28──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 27/10 471 G11C 11/34 362G F-term (Reference) 5B015 JJ14 JJ31 JJ36 KA13 KA38 NN01 PP02 PP07 QQ15 5B024 AA03 AA07 BA03 BA05 CA07 CA18 CA21 5F083 AD69 LA01 LA03 LA10 LA11 LA12 LA13 LA17 ZA10 ZA28
Claims (6)
ャパシタ型DRAMの複数のメモリセルアレイと、これ
らのメモリセルアレイの間に配置され、センスアンプを
挟んでビット線方向に延びたビット線対の一方が前記メ
モリセルアレイの一方に延びかつ前記ビット線対の他方
が前記メモリセルアレイの他方に延びたセンスアンプ列
とを備え、前記メモリセルアレイと前記センスアンプ列
とをオープンビット線方式で接続したことを特徴とする
半導体集積回路装置。1. A plurality of memory cell arrays of a two-transistor, one-capacitor type DRAM forming two ports, and one of a pair of bit lines arranged between these memory cell arrays and extending in a bit line direction with a sense amplifier interposed therebetween. A sense amplifier array extending to one of the memory cell arrays and the other of the bit line pairs extending to the other of the memory cell arrays, wherein the memory cell array and the sense amplifier arrays are connected by an open bit line method. Semiconductor integrated circuit device.
個のメモリセルアレイの間に配置されるセンスアンプ列
とを備え、前記センスアンプ列が、1本のスルービット
線と、センスアンプに接続されるトゥルービット線とバ
ービット線の合計3本のビット線を有するセンスアンプ
・ユニットセルを、複数個1列にアレイ配置すること
で、一方のセンスアンプ列を構成し、前記センスアンプ
・ユニットセルを180度回転配置して、他方のセンス
アンプ列を構成し、前記一方のセンスアンプ列のスルー
ビット線と、前記他方のセンスアンプ列のトゥルービッ
ト線が互いに接続し合うように、それぞれ2つのセンス
アンプ列を配置する構成であることを特徴とする半導体
集積回路装置。2. A semiconductor device comprising: a plurality of memory cell arrays; and a sense amplifier array disposed between the plurality of memory cell arrays, wherein the sense amplifier array is connected to one through bit line and a sense amplifier. By arranging a plurality of sense amplifier unit cells having a total of three bit lines of true bit lines and bar bit lines in a row, one sense amplifier column is formed, and the sense amplifier unit cell is formed. Are rotated 180 degrees to form the other sense amplifier row, and each of the two sense amplifier rows is connected so that the through bit line of the one sense amplifier row and the true bit line of the other sense amplifier row are connected to each other. A semiconductor integrated circuit device having a configuration in which a sense amplifier array is arranged.
ット線は無効で残り半数のビット線のみが有効であるダ
ミーメモリセルアレイを含み、前記ダミーメモリセルア
レイのビット線方向の長さを、他の前記メモリセルアレ
イの領域の1/2とし、かつ前記ダミーメモリセルアレ
イの隣り合った2本のビット線を接続することで、前記
他のメモリセルアレイのビット線の1本分を形成するこ
とを特徴とする半導体集積回路装置。3. A plurality of memory cell arrays, half of the bit lines comprise only the bit lines of the invalid and the remaining half is effective dummy memory cell array, a bit line direction of the length of the dummy memory cell array, the other A half of the area of the memory cell array is formed, and two bit lines adjacent to the dummy memory cell array are connected to form one bit line of the other memory cell array. Semiconductor integrated circuit device.
複数個のメモリセルアレイと、この複数個のメモリセル
アレイ間にそれぞれ配置された各々2列からなるセンス
アンプ列群と、前記センスアンプ列群の各々を前記2ポ
ートのどちらか一方に対応させて、前記センスアンプ列
を構成する2列のセンスアンプ列を区別することなく同
時に制御するセンスアンプ制御回路とを備えた半導体集
積回路装置。4. A memory cell array comprising memory cells having two ports, a sense amplifier row group consisting of two rows each arranged between the plurality of memory cell arrays, and a sense amplifier row group. A semiconductor integrated circuit device comprising: a sense amplifier control circuit for controlling each of the two sense amplifier rows constituting the sense amplifier row at the same time without distinguishing each of them, corresponding to one of the two ports.
メモリセルアレイを備え、前記メモリセルアレイ上に配
置する第1のポート用の複数本のデータ線対と、第2の
ポート用の複数本のデータ線対が互いに隣接することが
ないように、前記第1のポート用のデータ線対と前記第
2のポート用のデータ線対の間に、列選択線、あるい
は、種々の電源線を配置した構成を有することを特徴と
する半導体集積回路装置。5. A memory cell array comprising memory cells having two ports, a plurality of data line pairs for a first port arranged on the memory cell array, and a plurality of data lines for a second port. A column selection line or various power supply lines are arranged between the data line pair for the first port and the data line pair for the second port so that the line pairs are not adjacent to each other. A semiconductor integrated circuit device having a configuration.
と、ダミーメモリセルアレイが隣接配置された構成を有
し、 前記メモリセルアレイに隣接するローデコーダブロック
と、前記センスアンプ列に隣接するセンスアンプ制御回
路と、前記ダミーメモリセルアレイに隣接するダミーロ
ー領域が隣接配置された構成を有し、 前記ローデコーダブロック端で、前記ダミーロー領域に
ロー冗長フューズ回路を配置することを特徴とする半導
体集積回路装置。6. A row decoder block adjacent to the memory cell array, having a configuration in which a memory cell array, a sense amplifier array, and a dummy memory cell array are arranged adjacent to each other, and a sense amplifier control circuit adjacent to the sense amplifier array. A semiconductor integrated circuit device having a configuration in which a dummy row region adjacent to the dummy memory cell array is arranged adjacently, and a row redundant fuse circuit is arranged in the dummy row region at an end of the row decoder block.
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JP06424399A JP4523681B2 (en) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | Semiconductor integrated circuit device |
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Cited By (7)
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---|---|---|---|---|
JP2003092364A (en) * | 2001-05-21 | 2003-03-28 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor storage device |
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JP2006139907A (en) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Samsung Electronics Co Ltd | Semiconductor memory relief method and apparatus |
JP2006278778A (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Nec Electronics Corp | Semiconductor device |
JP2010027201A (en) * | 2009-10-29 | 2010-02-04 | Elpida Memory Inc | Dynamic ram and semiconductor device |
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CN116364149A (en) * | 2022-10-28 | 2023-06-30 | 长鑫存储技术有限公司 | Semiconductor structure and memory |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04259981A (en) * | 1991-02-15 | 1992-09-16 | Nec Corp | Semiconductor memory device |
JPH07254650A (en) * | 1994-03-15 | 1995-10-03 | Toshiba Corp | Dynamic semiconductor memory |
-
1999
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04259981A (en) * | 1991-02-15 | 1992-09-16 | Nec Corp | Semiconductor memory device |
JPH07254650A (en) * | 1994-03-15 | 1995-10-03 | Toshiba Corp | Dynamic semiconductor memory |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003092364A (en) * | 2001-05-21 | 2003-03-28 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor storage device |
US6751116B2 (en) | 2001-09-06 | 2004-06-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device |
US7031199B2 (en) | 2001-09-06 | 2006-04-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device |
JP2006139907A (en) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Samsung Electronics Co Ltd | Semiconductor memory relief method and apparatus |
JP2006278778A (en) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Nec Electronics Corp | Semiconductor device |
US8374044B2 (en) | 2009-07-30 | 2013-02-12 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor device having hierarchically structured bit lines and system including the same |
US8493807B2 (en) | 2009-07-30 | 2013-07-23 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor device having hierarchically structured bit lines and system including the same |
JP2010027201A (en) * | 2009-10-29 | 2010-02-04 | Elpida Memory Inc | Dynamic ram and semiconductor device |
CN116364149A (en) * | 2022-10-28 | 2023-06-30 | 长鑫存储技术有限公司 | Semiconductor structure and memory |
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