JP2000249055A - 低温真空維持方法 - Google Patents
低温真空維持方法Info
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 取り扱いが容易でありながら安価に実施でき
る低温真空維持方法を提供する。 【解決手段】 真空槽(１)の内側に配設した被冷却物
(５)を極低温冷凍機(２)で冷却するようにした低温機器
において、真空槽(１)の内部に非蒸発型ゲッター(９)を
配置し、この非蒸発型ゲッター(９)を所定温度範囲に加
熱して活性化するとともに、その加熱温度範囲を維持し
て常時活性化し続け、真空槽(１)での真空度低下を極低
温冷凍機(２)の温度の変化で検出する。
る低温真空維持方法を提供する。 【解決手段】 真空槽(１)の内側に配設した被冷却物
(５)を極低温冷凍機(２)で冷却するようにした低温機器
において、真空槽(１)の内部に非蒸発型ゲッター(９)を
配置し、この非蒸発型ゲッター(９)を所定温度範囲に加
熱して活性化するとともに、その加熱温度範囲を維持し
て常時活性化し続け、真空槽(１)での真空度低下を極低
温冷凍機(２)の温度の変化で検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、対象物を極低温域
まで冷却する冷却装置での低温真空維持方法に関する。
まで冷却する冷却装置での低温真空維持方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】対象物を極低温域まで冷却する場合、外
部からの熱侵入を防止するために、通常非冷却物を真空
槽内に配置した状態で極低温冷凍機で冷却している。と
ころが、真空槽を減圧した状態に維持しておくと、真空
槽の壁面からいわゆるアウトガスが放出され、真空度が
低下することになる。真空度が低下すると、そのガス成
分が熱伝達媒体となって熱侵入の要因となり、冷却温度
を十分低温にすることができないという問題があった。
部からの熱侵入を防止するために、通常非冷却物を真空
槽内に配置した状態で極低温冷凍機で冷却している。と
ころが、真空槽を減圧した状態に維持しておくと、真空
槽の壁面からいわゆるアウトガスが放出され、真空度が
低下することになる。真空度が低下すると、そのガス成
分が熱伝達媒体となって熱侵入の要因となり、冷却温度
を十分低温にすることができないという問題があった。
【０００３】そこで従来は、真空槽をベーキングしてア
ウトガスを放出するようにしているが、ものによっては
真空槽をベーキングできない場合がある。そのようなも
のは、従来ゲッターを使用して真空槽内の真空度を維持
していた。
ウトガスを放出するようにしているが、ものによっては
真空槽をベーキングできない場合がある。そのようなも
のは、従来ゲッターを使用して真空槽内の真空度を維持
していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ゲッターを
使用して真空度を維持していた従来のものでは、ゲッタ
ーを適当な周期で再生しなければ、ゲッターでのアウト
ガスの吸着力が低下してしまうことから、真空計で真空
槽内の真空度を検出し、真空度低下が所定幅に達した
際、ゲッターを再生させているのであるが、真空計が高
価であるうえ壊れやすいという問題があった。
使用して真空度を維持していた従来のものでは、ゲッタ
ーを適当な周期で再生しなければ、ゲッターでのアウト
ガスの吸着力が低下してしまうことから、真空計で真空
槽内の真空度を検出し、真空度低下が所定幅に達した
際、ゲッターを再生させているのであるが、真空計が高
価であるうえ壊れやすいという問題があった。
【０００５】本発明はこのような点に着目して、取り扱
いが容易でありながら安価に実施できる低温真空維持方
法を提供することを目的とする。
いが容易でありながら安価に実施できる低温真空維持方
法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、真空槽の内側に配設した被冷却物を極低
温冷凍機で冷却するようにした低温機器において、真空
槽の内部に非蒸発型ゲッターを配置し、この非蒸発型ゲ
ッターを所定温度範囲に加熱して活性化するとともに、
その加熱温度範囲を維持して常時活性化し続け、真空槽
での真空度低下を極低温冷凍機の温度の変化で検出する
ようにしたことを特徴とするものである。
めに本発明は、真空槽の内側に配設した被冷却物を極低
温冷凍機で冷却するようにした低温機器において、真空
槽の内部に非蒸発型ゲッターを配置し、この非蒸発型ゲ
ッターを所定温度範囲に加熱して活性化するとともに、
その加熱温度範囲を維持して常時活性化し続け、真空槽
での真空度低下を極低温冷凍機の温度の変化で検出する
ようにしたことを特徴とするものである。
【０００７】
【発明の作用】本発明では、真空槽に配置した非蒸発型
ゲッターを常時加熱して連続的に活性化させ、非蒸発型
ゲッターの飽和状態を温度が上昇する極低温冷凍機の到
達温度で検出していることから、高価な真空計を使用す
ることなく、真空度の低下を監視することができ、非蒸
発型ゲッターの飽和状態を検知し適切に交換することが
可能となる。
ゲッターを常時加熱して連続的に活性化させ、非蒸発型
ゲッターの飽和状態を温度が上昇する極低温冷凍機の到
達温度で検出していることから、高価な真空計を使用す
ることなく、真空度の低下を監視することができ、非蒸
発型ゲッターの飽和状態を検知し適切に交換することが
可能となる。
【０００８】また、請求項２に記載したように、真空槽
の内部に複数の非蒸発型ゲッターを配置し、極低温冷凍
機の温度の変化で真空度低下を検出することにより、使
用する非蒸発型ゲッターを切り換えるようにした場合に
は、極低温冷凍機の到達温度が設定温度まで上昇したこ
とに基づき使用する非蒸発型ゲッターを切り換えるだけ
で長期にわたって良好な真空状態を維持することができ
ることになる。
の内部に複数の非蒸発型ゲッターを配置し、極低温冷凍
機の温度の変化で真空度低下を検出することにより、使
用する非蒸発型ゲッターを切り換えるようにした場合に
は、極低温冷凍機の到達温度が設定温度まで上昇したこ
とに基づき使用する非蒸発型ゲッターを切り換えるだけ
で長期にわたって良好な真空状態を維持することができ
ることになる。
【０００９】さらに、請求項３に記載したように、真空
槽内に配置した非蒸発型ゲッターの加熱を、極低温冷凍
機での温度変化で検出した真空度に合わせて制御するよ
うにすると、長期にわたって所定の真空度を維持するこ
とができることになる。
槽内に配置した非蒸発型ゲッターの加熱を、極低温冷凍
機での温度変化で検出した真空度に合わせて制御するよ
うにすると、長期にわたって所定の真空度を維持するこ
とができることになる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図は本発明を模式的に表現した図
であり、(１)は真空槽、(２)は真空槽にそのコールドエ
ンド部分(３)を突入配置したダブルインレット型パルス
管冷凍機で構成した極低温冷凍機であり、この極低温冷
凍機(２)のコールドエンド部分(３)から連出した伝熱棒
(４)の先端に被冷却物(５)が熱的に接続してある。
であり、(１)は真空槽、(２)は真空槽にそのコールドエ
ンド部分(３)を突入配置したダブルインレット型パルス
管冷凍機で構成した極低温冷凍機であり、この極低温冷
凍機(２)のコールドエンド部分(３)から連出した伝熱棒
(４)の先端に被冷却物(５)が熱的に接続してある。
【００１１】真空槽(１)の内部空間は真空排気路(６)を
介して真空ポンプ(７)に連通接続しており、真空槽内を
１×１０-5Torr程度の真空に形成する。また、真空槽
(１)の内部と連通する状態でゲッター挿入管(８)を配置
し、このゲッター挿入管(８)内に非蒸発性ゲッター剤
(９)が複数個配置してあり、各非蒸発型ゲッター(９)は
ヒーター装置(10)によって加熱可能に構成してある。
介して真空ポンプ(７)に連通接続しており、真空槽内を
１×１０-5Torr程度の真空に形成する。また、真空槽
(１)の内部と連通する状態でゲッター挿入管(８)を配置
し、このゲッター挿入管(８)内に非蒸発性ゲッター剤
(９)が複数個配置してあり、各非蒸発型ゲッター(９)は
ヒーター装置(10)によって加熱可能に構成してある。
【００１２】なお、この非蒸発性型ゲッター剤(９)は、
ジルコニウムを主成分とする合金の粉末であり、その粉
末を真空中で加熱することにより活性化されるようにな
っている。この活性化は粉末表面に形成されている窒化
膜(保護膜)を粉末内部に拡散させ、新しいゲッター面が
表出することにより達成される。また、その加熱温度に
よって活性化率が変化し、例えば８００℃、１０分間の
加熱で１００％活性化するゲッター剤の場合、７００
℃、１０分間の加熱では６０％、６００℃、１０分間の
加熱では３０％活性化する。
ジルコニウムを主成分とする合金の粉末であり、その粉
末を真空中で加熱することにより活性化されるようにな
っている。この活性化は粉末表面に形成されている窒化
膜(保護膜)を粉末内部に拡散させ、新しいゲッター面が
表出することにより達成される。また、その加熱温度に
よって活性化率が変化し、例えば８００℃、１０分間の
加熱で１００％活性化するゲッター剤の場合、７００
℃、１０分間の加熱では６０％、６００℃、１０分間の
加熱では３０％活性化する。
【００１３】本発明では、真空状態に保持した真空槽
(１)内で被冷却物(５)を極低温冷凍機(２)により冷却
し、その状態を維持するのであるが、真空槽内面及び内
包物よりアウトガスが生じ滞留すると、真空槽(１)内の
真空度が低下し、アウトガスによる熱移動が生じ被冷却
物の温度が十分降下しないことになる。そこで、発生し
たアウトガスをゲッター剤(９)で吸着する。
(１)内で被冷却物(５)を極低温冷凍機(２)により冷却
し、その状態を維持するのであるが、真空槽内面及び内
包物よりアウトガスが生じ滞留すると、真空槽(１)内の
真空度が低下し、アウトガスによる熱移動が生じ被冷却
物の温度が十分降下しないことになる。そこで、発生し
たアウトガスをゲッター剤(９)で吸着する。
【００１４】このゲッター剤(９)は、真空槽(１)を真空
状態に封じ切る直前から、例えば３００〜３５０℃とい
う低温度で加熱して、長時間かけて徐々に活性化を進行
させるようにしてある。したがって、被冷却物(５)の冷
却中にも、ゲッター剤(９)は活性化しており、アウトガ
スを吸着除去し、真空槽(１)内の真空状態を維持するこ
とができる。このとき、ゲッター剤(９)を加熱している
ことからその輻射熱が極低温冷凍機(２)に作用すること
になるため、ゲッター剤(９)は真空槽(１)から弧状に連
出したゲッター挿入管(８)に収容して、ゲッター剤(９)
が直接極低温冷凍機(２)に臨まないようにしてある。
状態に封じ切る直前から、例えば３００〜３５０℃とい
う低温度で加熱して、長時間かけて徐々に活性化を進行
させるようにしてある。したがって、被冷却物(５)の冷
却中にも、ゲッター剤(９)は活性化しており、アウトガ
スを吸着除去し、真空槽(１)内の真空状態を維持するこ
とができる。このとき、ゲッター剤(９)を加熱している
ことからその輻射熱が極低温冷凍機(２)に作用すること
になるため、ゲッター剤(９)は真空槽(１)から弧状に連
出したゲッター挿入管(８)に収容して、ゲッター剤(９)
が直接極低温冷凍機(２)に臨まないようにしてある。
【００１５】そして、ゲッター剤(９)でのアウトガスの
吸着が進み、ゲッター剤(９)が飽和状態になると、真空
槽(１)内にアウトガス成分が滞留して外部からの熱侵入
が始まるから、極低温冷凍機(２)の出力温度が上昇し始
めることになる。
吸着が進み、ゲッター剤(９)が飽和状態になると、真空
槽(１)内にアウトガス成分が滞留して外部からの熱侵入
が始まるから、極低温冷凍機(２)の出力温度が上昇し始
めることになる。
【００１６】このため、極低温冷凍機(２)の出力温度を
監視し、その出力温度があらかじめ設定した温度よりも
高温ととなったことを検出すると、加熱するゲッター剤
(９)を切り換えて、新たなゲッター剤(９)を活性化さ
せ、真空槽(１)内のアウトガス成分を吸着して真空度を
維持することになる。
監視し、その出力温度があらかじめ設定した温度よりも
高温ととなったことを検出すると、加熱するゲッター剤
(９)を切り換えて、新たなゲッター剤(９)を活性化さ
せ、真空槽(１)内のアウトガス成分を吸着して真空度を
維持することになる。
【００１７】なお、上述の方法では、ゲッター剤(９)を
常時加熱しているが、検出した極低温冷凍機(２)の温度
が予め設定した温度よりも高くなることによりゲッター
剤(９)の加熱を開始して活性化させ、極低温冷凍機(２)
の温度が予め設定した温度よりも低下することにより、
加熱を停止させるようにしてもよい。
常時加熱しているが、検出した極低温冷凍機(２)の温度
が予め設定した温度よりも高くなることによりゲッター
剤(９)の加熱を開始して活性化させ、極低温冷凍機(２)
の温度が予め設定した温度よりも低下することにより、
加熱を停止させるようにしてもよい。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、真空槽に配置した非蒸発型ゲ
ッターを常時加熱して連続的に活性化させ、非蒸発型ゲ
ッターの飽和状態を温度が上昇する極低温冷凍機の温度
で検出していることから、高価な真空計を使用すること
なく、真空度の低下を監視することができ、非蒸発型ゲ
ッターの飽和状態を検知することができ、適切に交換す
ることが可能となる。
ッターを常時加熱して連続的に活性化させ、非蒸発型ゲ
ッターの飽和状態を温度が上昇する極低温冷凍機の温度
で検出していることから、高価な真空計を使用すること
なく、真空度の低下を監視することができ、非蒸発型ゲ
ッターの飽和状態を検知することができ、適切に交換す
ることが可能となる。
【００１９】また、請求項２に記載したように、真空槽
の内部に複数の非蒸発型ゲッターを配置し、極低温冷凍
機の温度の変化で真空度低下を検出することにより、使
用する非蒸発型ゲッターを切り換えるようにした場合に
は、極低温冷凍機の温度が設定温度まで上昇したことに
基づき使用する非蒸発型ゲッターを切り換えるだけで長
期にわたって良好な真空状態を維持することができる。
の内部に複数の非蒸発型ゲッターを配置し、極低温冷凍
機の温度の変化で真空度低下を検出することにより、使
用する非蒸発型ゲッターを切り換えるようにした場合に
は、極低温冷凍機の温度が設定温度まで上昇したことに
基づき使用する非蒸発型ゲッターを切り換えるだけで長
期にわたって良好な真空状態を維持することができる。
【００２０】さらに、請求項３に記載したように、真空
槽内に配置した非蒸発型ゲッターの加熱を、極低温冷凍
機での温度変化で検出した真空度に合わせて制御するよ
うにすると、長期にわたって所定の真空度を維持するこ
とができる。
槽内に配置した非蒸発型ゲッターの加熱を、極低温冷凍
機での温度変化で検出した真空度に合わせて制御するよ
うにすると、長期にわたって所定の真空度を維持するこ
とができる。
【図１】本発明を模式的に表現した図である。
１…真空槽、２…極低温冷凍機、５…被冷却物、９…非
蒸発型ゲッター。
蒸発型ゲッター。
フロントページの続き (72)発明者 足立 正人 滋賀県守山市勝部４丁目５番１号 岩谷瓦 斯株式会社内 (72)発明者 川口 悦治 滋賀県守山市勝部４丁目５番１号 岩谷瓦 斯株式会社内 Ｆターム(参考） 3H076 AA24 BB03 BB21 BB31 BB35 BB36 BB43 BB50 CC51 CC98 CC99
Claims (3)
- 【請求項１】 真空槽(１)の内側に配設した被冷却物
(５)を極低温冷凍機(２)で冷却するようにした低温機器
において、真空槽(１)の内部に非蒸発型ゲッター(９)を
配置し、この非蒸発型ゲッター(９)を所定温度範囲に加
熱して活性化するとともに、その加熱温度範囲を維持し
て常時活性化し続け、真空槽(１)での真空度低下を極低
温冷凍機(２)の温度の変化で検出するようにした低温真
空維持方法。 - 【請求項２】 真空槽(１)内に複数の非蒸発型ゲッター
(９)を配置し、極低温冷凍機(２)の温度の変化で真空度
低下を検出することにより、使用する非蒸発型ゲッター
(９)を切換えるようにした請求項１に記載の低温真空維
持方法。 - 【請求項３】 真空槽(１)内に非蒸発型ゲッター(９)を
配置し、極低温冷凍機(２)の温度変化により真空度の変
化を検出し、非蒸発型ゲッター(９)の加熱を極低温冷凍
機(２)の温度変化に応じてオン−オフ制御するようにし
た請求項１又は請求項２に記載の低温真空維持方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11054041A JP2000249055A (ja) | 1999-03-02 | 1999-03-02 | 低温真空維持方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11054041A JP2000249055A (ja) | 1999-03-02 | 1999-03-02 | 低温真空維持方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000249055A true JP2000249055A (ja) | 2000-09-12 |
Family
ID=12959524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11054041A Pending JP2000249055A (ja) | 1999-03-02 | 1999-03-02 | 低温真空維持方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000249055A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002285959A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 寒剤再凝縮器の真空維持方法 |
| DE102004001805B3 (de) * | 2004-01-06 | 2005-06-02 | Siemens Ag | Evakuierbarer Isolierbehälter für eine zu kühlende Anwendung |
| US7582885B2 (en) * | 2005-04-13 | 2009-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp. | Charged particle beam apparatus |
| JP2020145371A (ja) * | 2019-03-08 | 2020-09-10 | 住友重機械工業株式会社 | 超伝導磁石装置、サイクロトロン、および超伝導磁石装置の再起動方法 |
-
1999
- 1999-03-02 JP JP11054041A patent/JP2000249055A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002285959A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-03 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 寒剤再凝縮器の真空維持方法 |
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| US7331192B2 (en) | 2004-01-06 | 2008-02-19 | Siemens Aktiengesellschaft | Insulated container which can be evacuated, for an application to be cooled |
| CN100431931C (zh) * | 2004-01-06 | 2008-11-12 | 西门子公司 | 可抽真空的用于一被冷却物的绝热容器 |
| US7582885B2 (en) * | 2005-04-13 | 2009-09-01 | Hitachi High-Technologies Corp. | Charged particle beam apparatus |
| JP2020145371A (ja) * | 2019-03-08 | 2020-09-10 | 住友重機械工業株式会社 | 超伝導磁石装置、サイクロトロン、および超伝導磁石装置の再起動方法 |
| JP7195980B2 (ja) | 2019-03-08 | 2022-12-26 | 住友重機械工業株式会社 | 超伝導磁石装置、サイクロトロン、および超伝導磁石装置の再起動方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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