JP2000242912A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
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- JP2000242912A JP2000242912A JP11043677A JP4367799A JP2000242912A JP 2000242912 A JP2000242912 A JP 2000242912A JP 11043677 A JP11043677 A JP 11043677A JP 4367799 A JP4367799 A JP 4367799A JP 2000242912 A JP2000242912 A JP 2000242912A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
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- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/581—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following maintaining desired contact or spacing by direct interaction of forces generated between heads or supports thereof and record carriers or supports thereof, e.g. attraction-repulsion interactions
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気ヘッドと磁気テープとの間に生じるスペ
ーシングを小さくでき、摺動性を向上できる薄膜磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。 【解決手段】 基板材３２と、基板材に接して設けら
れ、磁気ギャップを先端から露出させた状態で非磁性層
３６に内設された薄膜磁気ヘッドと、基板材と共に前記
非磁性層を挟んで設けられた補助部材３８とを有し、基
板材と非磁性層と補助部材との先端に、前記基板材と非
磁性層と補助部材の並んだ方向または、これに対して所
定角度傾けられた方向に沿って磁気テープと摺動する摺
動面５５を形成する。このため、非磁性層を薄くでき、
摺動面における非磁性層の面積を小さくすることができ
るので、磁気ヘッドと磁気テープとの間に生じるスペー
シングを小さくでき、摺動性を向上できる。
ーシングを小さくでき、摺動性を向上できる薄膜磁気ヘ
ッドを提供することを目的とする。 【解決手段】 基板材３２と、基板材に接して設けら
れ、磁気ギャップを先端から露出させた状態で非磁性層
３６に内設された薄膜磁気ヘッドと、基板材と共に前記
非磁性層を挟んで設けられた補助部材３８とを有し、基
板材と非磁性層と補助部材との先端に、前記基板材と非
磁性層と補助部材の並んだ方向または、これに対して所
定角度傾けられた方向に沿って磁気テープと摺動する摺
動面５５を形成する。このため、非磁性層を薄くでき、
摺動面における非磁性層の面積を小さくすることができ
るので、磁気ヘッドと磁気テープとの間に生じるスペー
シングを小さくでき、摺動性を向上できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はビデオテープレコー
ダ等に用いられ、回転シリンダに取り付けられて磁気テ
ープをヘリカルスキャンする薄膜磁気ヘッドに関する。
近年、デジタル映像及びデジタル音声またはデジタルデ
ータを磁気テープに高密度記録及び再生することが要望
されており、高性能ヘリカルスキャン型磁気ヘッドが要
求されている。
ダ等に用いられ、回転シリンダに取り付けられて磁気テ
ープをヘリカルスキャンする薄膜磁気ヘッドに関する。
近年、デジタル映像及びデジタル音声またはデジタルデ
ータを磁気テープに高密度記録及び再生することが要望
されており、高性能ヘリカルスキャン型磁気ヘッドが要
求されている。
【０００２】
【従来の技術】図１２は従来のヘリカルスキャン型磁気
ヘッドの斜視図を示す。同図中、磁気ヘッド１０は磁気
ヘッドコア半体（フェライト等の磁性材）１１，１２を
突き合わせて上部にギャップ１４を形成した構造となっ
ている。磁気ヘッドコア半体１１，１２それぞれの外側
及び中央側に形成された巻線案内溝１５，１６及び巻線
溝１７にコイル１８が巻回されている。
ヘッドの斜視図を示す。同図中、磁気ヘッド１０は磁気
ヘッドコア半体（フェライト等の磁性材）１１，１２を
突き合わせて上部にギャップ１４を形成した構造となっ
ている。磁気ヘッドコア半体１１，１２それぞれの外側
及び中央側に形成された巻線案内溝１５，１６及び巻線
溝１７にコイル１８が巻回されている。
【０００３】また、磁気ヘッドコア半体１１，１２の上
部には、摺動幅規制溝２０，２１により摺動面２５が形
成されており、この摺動面２５には、非磁性材のモール
ドガラス２２，２３が充填されている。このモールドガ
ラス２２，２３は、磁気ヘッドの周囲を補強して磁気テ
ープとの摺動面２５を整形すると共に、磁気ヘッドコア
半体１１，１２を接着する機能を有している。図１３
（Ａ），（Ｂ）に従来のヘリカルスキャン型磁気ヘッド
の摺動面２５の平面図及びその拡大図を示す。
部には、摺動幅規制溝２０，２１により摺動面２５が形
成されており、この摺動面２５には、非磁性材のモール
ドガラス２２，２３が充填されている。このモールドガ
ラス２２，２３は、磁気ヘッドの周囲を補強して磁気テ
ープとの摺動面２５を整形すると共に、磁気ヘッドコア
半体１１，１２を接着する機能を有している。図１３
（Ａ），（Ｂ）に従来のヘリカルスキャン型磁気ヘッド
の摺動面２５の平面図及びその拡大図を示す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のヘリカルスキャ
ン型磁気ヘッドは、摺動幅規制溝２０，２１により摺動
面２５が形成されるが、摺動面２５には、モールドガラ
ス２２，２３が露出し、モールドガラス部の面積が大き
くなっている。また、摺動面２５における磁気ヘッドコ
ア半体１１，１２の耐摩耗性と、モールドガラス２２，
２３の耐摩耗性は異なる。前記のように、モールドガラ
ス２２，２３の面積が大きいため、従来ヘッドでは磁気
テープの走行時間が増加するにつれ、磁気ヘッドコア半
体１１，１２とモールドガラス２２，２３との間で偏摩
耗が生じ、リセッション（段差）が発生する。このリセ
ッションが発生すると、スキャン時に磁気ヘッドと磁気
テープとの間にスペーシング（隙間）が生じ、摺動性が
悪化するという問題があった。
ン型磁気ヘッドは、摺動幅規制溝２０，２１により摺動
面２５が形成されるが、摺動面２５には、モールドガラ
ス２２，２３が露出し、モールドガラス部の面積が大き
くなっている。また、摺動面２５における磁気ヘッドコ
ア半体１１，１２の耐摩耗性と、モールドガラス２２，
２３の耐摩耗性は異なる。前記のように、モールドガラ
ス２２，２３の面積が大きいため、従来ヘッドでは磁気
テープの走行時間が増加するにつれ、磁気ヘッドコア半
体１１，１２とモールドガラス２２，２３との間で偏摩
耗が生じ、リセッション（段差）が発生する。このリセ
ッションが発生すると、スキャン時に磁気ヘッドと磁気
テープとの間にスペーシング（隙間）が生じ、摺動性が
悪化するという問題があった。
【０００５】本発明は、上記の点に鑑みなされたもの
で、磁気ヘッドと磁気テープとの間に生じるスペーシン
グを小さくでき、摺動性を向上できる薄膜磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
で、磁気ヘッドと磁気テープとの間に生じるスペーシン
グを小さくでき、摺動性を向上できる薄膜磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板材と、前記基板材に接して設けられ、磁気ギャ
ップを先端から露出させた状態で非磁性層に内設された
薄膜磁気ヘッドと、前記基板材と共に前記非磁性層を挟
んで設けられた補助部材とを有し、前記基板材と非磁性
層と補助部材との先端に、前記基板材と非磁性層と補助
部材の並んだ方向または、これに対して所定角度傾けら
れた方向に沿って磁気テープと摺動する摺動面を形成す
る。
は、基板材と、前記基板材に接して設けられ、磁気ギャ
ップを先端から露出させた状態で非磁性層に内設された
薄膜磁気ヘッドと、前記基板材と共に前記非磁性層を挟
んで設けられた補助部材とを有し、前記基板材と非磁性
層と補助部材との先端に、前記基板材と非磁性層と補助
部材の並んだ方向または、これに対して所定角度傾けら
れた方向に沿って磁気テープと摺動する摺動面を形成す
る。
【０００７】このように、基板材と薄膜磁気ヘッドを内
設する非磁性層と補助部材との先端に、これらの並んだ
方向または、これに対して所定角度傾けられた方向に沿
って磁気テープと摺動する摺動面を形成するため、非磁
性層を薄くでき、摺動面における非磁性層の面積を小さ
くすることができるので、テープ摺動で生じるリセッシ
ョンを抑えることができ、ひいては磁気ヘッドと磁気テ
ープとの間に生じるスペーシングを小さくでき、摺動性
を向上できる。
設する非磁性層と補助部材との先端に、これらの並んだ
方向または、これに対して所定角度傾けられた方向に沿
って磁気テープと摺動する摺動面を形成するため、非磁
性層を薄くでき、摺動面における非磁性層の面積を小さ
くすることができるので、テープ摺動で生じるリセッシ
ョンを抑えることができ、ひいては磁気ヘッドと磁気テ
ープとの間に生じるスペーシングを小さくでき、摺動性
を向上できる。
【０００８】請求項２に記載の発明は、請求項１記載の
薄膜磁気ヘッドにおいて、前記薄膜磁気ヘッドは、磁気
抵抗効果型ヘッドである。このような薄膜磁気ヘッドと
して高感度な磁気抵抗効果型ヘッドを用いるため、トラ
ック幅を小さくしても十分な出力が得られ高密度な磁気
記録に対応できる。
薄膜磁気ヘッドにおいて、前記薄膜磁気ヘッドは、磁気
抵抗効果型ヘッドである。このような薄膜磁気ヘッドと
して高感度な磁気抵抗効果型ヘッドを用いるため、トラ
ック幅を小さくしても十分な出力が得られ高密度な磁気
記録に対応できる。
【０００９】請求項３に記載の発明は、請求項１記載の
薄膜磁気ヘッドにおいて、前記摺動面における前記非磁
性層の面積を０．０２ｍｍ×０．０８ｍｍ以下とする。
このように、非磁性層の面積を０．０２ｍｍ×０．０８
ｍｍ以下とすることにより、磁気ヘッドと磁気テープと
の間に生じるスペーシングを小さくでき、摺動性を向上
できる。
薄膜磁気ヘッドにおいて、前記摺動面における前記非磁
性層の面積を０．０２ｍｍ×０．０８ｍｍ以下とする。
このように、非磁性層の面積を０．０２ｍｍ×０．０８
ｍｍ以下とすることにより、磁気ヘッドと磁気テープと
の間に生じるスペーシングを小さくでき、摺動性を向上
できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は本発明の薄膜磁気ヘッドの
一実施例の斜視図、図２（Ａ），（Ｂ）はその摺動面の
平面図及びその拡大図を示す。図１において、磁気ヘッ
ド３０は、アルミナ・チタンカーバイト等の非磁性材料
または磁性材料で形成された基板材３２と、基板材３２
の一面３２ａに形成されてＭＲ（磁気抵抗効果型）ヘッ
ドを内設したＡｌ2 Ｏ3 からなる非磁性絶縁層３６と、
基板材３２の上部位置で非磁性絶縁層３６に突き合わせ
て接着されておりアルミナ・チタンカーバイト等の基板
材３２と同一材料の非磁性材料または磁性材料で形成さ
れた補助部材３８とから構成されている。
一実施例の斜視図、図２（Ａ），（Ｂ）はその摺動面の
平面図及びその拡大図を示す。図１において、磁気ヘッ
ド３０は、アルミナ・チタンカーバイト等の非磁性材料
または磁性材料で形成された基板材３２と、基板材３２
の一面３２ａに形成されてＭＲ（磁気抵抗効果型）ヘッ
ドを内設したＡｌ2 Ｏ3 からなる非磁性絶縁層３６と、
基板材３２の上部位置で非磁性絶縁層３６に突き合わせ
て接着されておりアルミナ・チタンカーバイト等の基板
材３２と同一材料の非磁性材料または磁性材料で形成さ
れた補助部材３８とから構成されている。
【００１１】非磁性絶縁層（非磁性層）３６に内設され
た薄膜磁気ヘッドであるＭＲヘッドの下部ヨーク４０と
上部ヨーク４１は磁気ギャップ４２を形成し、磁気ヘッ
ド３０の上部先端で図２（Ａ），（Ｂ）に示すように下
部ヨーク４０と上部ヨーク４１は非磁性絶縁層３６から
露出している。上記の基板材３２及び非磁性絶縁層３６
及び補助部材３８には磁気ヘッド３０の上部先端で段を
なす摺動幅規制溝５０，５１が形成されており、テープ
走行方向Ｘに対する幅寸法Ｗは例えば０．０８ｍｍの所
定摺動幅に規制されている。
た薄膜磁気ヘッドであるＭＲヘッドの下部ヨーク４０と
上部ヨーク４１は磁気ギャップ４２を形成し、磁気ヘッ
ド３０の上部先端で図２（Ａ），（Ｂ）に示すように下
部ヨーク４０と上部ヨーク４１は非磁性絶縁層３６から
露出している。上記の基板材３２及び非磁性絶縁層３６
及び補助部材３８には磁気ヘッド３０の上部先端で段を
なす摺動幅規制溝５０，５１が形成されており、テープ
走行方向Ｘに対する幅寸法Ｗは例えば０．０８ｍｍの所
定摺動幅に規制されている。
【００１２】基板材３２及び非磁性絶縁層３６及び補助
部材３８の上部先端面は、テープ走行方向Ｘの前後端部
がヘリカルスキャン時に磁気テープに接触しないように
曲面加工されることにより摺動面５５が形成されてい
る。ところで、摺動面５５において非磁性絶縁層３６は
テープ走行方向Ｘに対して所定角度傾けられて、アジマ
ス角が与えられている。下部ヨーク４０と上部ヨーク４
１の形成する磁気ギャップ４２は非磁性絶縁層３６に対
して平行である。なお、ここではアジマス角を与える場
合を例に説明を行ったが、アジマス角の付与は必ずしも
必要なことではない。
部材３８の上部先端面は、テープ走行方向Ｘの前後端部
がヘリカルスキャン時に磁気テープに接触しないように
曲面加工されることにより摺動面５５が形成されてい
る。ところで、摺動面５５において非磁性絶縁層３６は
テープ走行方向Ｘに対して所定角度傾けられて、アジマ
ス角が与えられている。下部ヨーク４０と上部ヨーク４
１の形成する磁気ギャップ４２は非磁性絶縁層３６に対
して平行である。なお、ここではアジマス角を与える場
合を例に説明を行ったが、アジマス角の付与は必ずしも
必要なことではない。
【００１３】非磁性絶縁層３６は、テープ走行方向Ｘの
厚さＤが例えば０．０２ｍｍとされており、基板材３２
の一面３２ａの略中央位置でＭＲヘッドのＭＲ素子４３
の両端それぞれに金属配線で接続された電極端子５２，
５３が非磁性絶縁層３６の外部に露出形成されている。
なお、基板材３２の下部位置３３は、図示しない回転シ
リンダに取り付け固定され、磁気ヘッド３０は回転シリ
ンダの回転により、磁気テープのヘリカルスキャンを行
う。
厚さＤが例えば０．０２ｍｍとされており、基板材３２
の一面３２ａの略中央位置でＭＲヘッドのＭＲ素子４３
の両端それぞれに金属配線で接続された電極端子５２，
５３が非磁性絶縁層３６の外部に露出形成されている。
なお、基板材３２の下部位置３３は、図示しない回転シ
リンダに取り付け固定され、磁気ヘッド３０は回転シリ
ンダの回転により、磁気テープのヘリカルスキャンを行
う。
【００１４】図３〜図１０は本発明の薄膜磁気ヘッドの
一実施例の製造工程を示す斜視図を示す。図３におい
て、アルミナ・チタンカーバイト等の非磁性材料または
磁性材料の基板６０上面に下部ヨーク４０、ＭＲ素子４
３、上部ヨーク４１が形成されている。ＭＲ素子４３の
両端は金属配線５４ａ，５４ｂによって電極端子５２，
５３に接続されている。この構成のＭＲヘッドは基板６
０上にアレイ状に並べて形成される。
一実施例の製造工程を示す斜視図を示す。図３におい
て、アルミナ・チタンカーバイト等の非磁性材料または
磁性材料の基板６０上面に下部ヨーク４０、ＭＲ素子４
３、上部ヨーク４１が形成されている。ＭＲ素子４３の
両端は金属配線５４ａ，５４ｂによって電極端子５２，
５３に接続されている。この構成のＭＲヘッドは基板６
０上にアレイ状に並べて形成される。
【００１５】この基板６０上面には、図４に示すよう
に、Ａｌ2 Ｏ3 がスパッタリング等によって厚さＤだけ
形成され、ＭＲヘッドはこの非磁性絶縁層３６によって
全面を覆われて、保護される。この後、電極端子５２，
５３上に電界メッキによりバンプを形成し、基板研磨に
より電極端子５２，５３を露出させる。この後、基板６
０は図５に実線で示すように、列毎にスライシング（切
断）される。これによって、図６に示すヘッド形成ブロ
ック６２が得られる。
に、Ａｌ2 Ｏ3 がスパッタリング等によって厚さＤだけ
形成され、ＭＲヘッドはこの非磁性絶縁層３６によって
全面を覆われて、保護される。この後、電極端子５２，
５３上に電界メッキによりバンプを形成し、基板研磨に
より電極端子５２，５３を露出させる。この後、基板６
０は図５に実線で示すように、列毎にスライシング（切
断）される。これによって、図６に示すヘッド形成ブロ
ック６２が得られる。
【００１６】ヘッド形成ブロック６２は、各ＭＲヘッド
の下部ヨーク４０及び上部ヨーク４１の形成する磁気ギ
ャップ４２の先端が切断面から露出しており、ヘッド形
成ブロック６２の非磁性絶縁層３６に、アルミナ・チタ
ンカーバイト等の基板材３２と同一材料の非磁性材料ま
たは磁性材料の補助ブロック６４が突き合わせて接着さ
れる。補助ブロック６４は基板６０とは別途形成された
ものである。この接着時に補助ブロック６４はヘッド形
成ブロック６２の磁気ギャップ４２の露出面の面位置に
配設され、図７に示す接合ブロック６６が形成される。
の下部ヨーク４０及び上部ヨーク４１の形成する磁気ギ
ャップ４２の先端が切断面から露出しており、ヘッド形
成ブロック６２の非磁性絶縁層３６に、アルミナ・チタ
ンカーバイト等の基板材３２と同一材料の非磁性材料ま
たは磁性材料の補助ブロック６４が突き合わせて接着さ
れる。補助ブロック６４は基板６０とは別途形成された
ものである。この接着時に補助ブロック６４はヘッド形
成ブロック６２の磁気ギャップ４２の露出面の面位置に
配設され、図７に示す接合ブロック６６が形成される。
【００１７】次に、接合ブロック６６の上面は図８に示
すように曲面加工され、これにより摺動面５５となる曲
面６８が形成される。更に、図９に示すように接合ブロ
ック６６の各ＭＲヘッドの磁気ギャップ４２を中心とし
て、幅寸法Ｗを残すように溝７０が形成されている。こ
の後、図１０に示すように接合ブロック６６の溝７０の
中央位置でスライシングされ、図１に示す複数の磁気ヘ
ッド３０が得られる。この際に、溝７０から磁気ヘッド
３０の摺動幅規制溝５０，５１が形成される。
すように曲面加工され、これにより摺動面５５となる曲
面６８が形成される。更に、図９に示すように接合ブロ
ック６６の各ＭＲヘッドの磁気ギャップ４２を中心とし
て、幅寸法Ｗを残すように溝７０が形成されている。こ
の後、図１０に示すように接合ブロック６６の溝７０の
中央位置でスライシングされ、図１に示す複数の磁気ヘ
ッド３０が得られる。この際に、溝７０から磁気ヘッド
３０の摺動幅規制溝５０，５１が形成される。
【００１８】ところで、従来の磁気ヘッド１０は図１１
（Ａ）に示すように、摺動面２５における磁気ヘッドコ
ア半体１１，１２とは異種材料のモールドガラス２２，
２３の面積が大きいのに対して、本発明の磁気ヘッド３
０は図１１（Ｂ）に示すように、非磁性絶縁層３６の厚
さＤが０．０２ｍｍ程度と薄いため、摺動面５５におけ
る基板材３２，補助部材３８とは異種材料の非磁性絶縁
層３６の面積は０．０２ｍｍ×０．０８ｍｍ以下と従来
に比して大幅に小さくなる。このため、磁気ヘッド３０
での基板材３２，補助部材３８と非磁性絶縁層３６との
間の偏摩耗により発生するリセッションが小さくて済
み、スキャン時に磁気ヘッドと磁気テープとの間に生じ
るスペーシングが小さくなり、摺動性が向上する。
（Ａ）に示すように、摺動面２５における磁気ヘッドコ
ア半体１１，１２とは異種材料のモールドガラス２２，
２３の面積が大きいのに対して、本発明の磁気ヘッド３
０は図１１（Ｂ）に示すように、非磁性絶縁層３６の厚
さＤが０．０２ｍｍ程度と薄いため、摺動面５５におけ
る基板材３２，補助部材３８とは異種材料の非磁性絶縁
層３６の面積は０．０２ｍｍ×０．０８ｍｍ以下と従来
に比して大幅に小さくなる。このため、磁気ヘッド３０
での基板材３２，補助部材３８と非磁性絶縁層３６との
間の偏摩耗により発生するリセッションが小さくて済
み、スキャン時に磁気ヘッドと磁気テープとの間に生じ
るスペーシングが小さくなり、摺動性が向上する。
【００１９】
【発明の効果】上述の如く、請求項１に記載の発明は、
基板材と、前記基板材に接して設けられ、磁気ギャップ
を先端から露出させた状態で非磁性層に内設された薄膜
磁気ヘッドと、前記基板材と共に前記非磁性層を挟んで
設けられた補助部材とを有し、前記基板材と非磁性層と
補助部材との先端に、前記基板材と非磁性層と補助部材
の並んだ方向または、これに対して所定角度傾けられた
方向に沿って磁気テープと摺動する摺動面を形成する。
基板材と、前記基板材に接して設けられ、磁気ギャップ
を先端から露出させた状態で非磁性層に内設された薄膜
磁気ヘッドと、前記基板材と共に前記非磁性層を挟んで
設けられた補助部材とを有し、前記基板材と非磁性層と
補助部材との先端に、前記基板材と非磁性層と補助部材
の並んだ方向または、これに対して所定角度傾けられた
方向に沿って磁気テープと摺動する摺動面を形成する。
【００２０】このように、基板材と薄膜磁気ヘッドを内
設する非磁性層と補助部材との先端に、これらの並んだ
方向または、これに対して所定角度傾けられた方向に沿
って磁気テープと摺動する摺動面を形成するため、非磁
性層を薄くでき、摺動面における非磁性層の面積を小さ
くすることができるので、テープ摺動で生じるリセッシ
ョンを抑えることができ、ひいては磁気ヘッドと磁気テ
ープとの間に生じるスペーシングを小さくでき、摺動性
を向上できる。
設する非磁性層と補助部材との先端に、これらの並んだ
方向または、これに対して所定角度傾けられた方向に沿
って磁気テープと摺動する摺動面を形成するため、非磁
性層を薄くでき、摺動面における非磁性層の面積を小さ
くすることができるので、テープ摺動で生じるリセッシ
ョンを抑えることができ、ひいては磁気ヘッドと磁気テ
ープとの間に生じるスペーシングを小さくでき、摺動性
を向上できる。
【００２１】請求項２に記載の発明では、薄膜磁気ヘッ
ドは、磁気抵抗効果型ヘッドである。このような薄膜磁
気ヘッドとして高感度な磁気抵抗効果型ヘッドを用いる
ため、トラック幅を小さくしても十分な出力が得られ高
密度な磁気記録に対応できる。
ドは、磁気抵抗効果型ヘッドである。このような薄膜磁
気ヘッドとして高感度な磁気抵抗効果型ヘッドを用いる
ため、トラック幅を小さくしても十分な出力が得られ高
密度な磁気記録に対応できる。
【００２２】請求項３に記載の発明では、摺動面におけ
る前記非磁性層の面積を０．０２ｍｍ×０．０８ｍｍ以
下とする。このように、非磁性層の面積を０．０２ｍｍ
×０．０８ｍｍ以下とすることにより、磁気ヘッドと磁
気テープとの間に生じるスペーシングを小さくでき、摺
動性を向上できる。
る前記非磁性層の面積を０．０２ｍｍ×０．０８ｍｍ以
下とする。このように、非磁性層の面積を０．０２ｍｍ
×０．０８ｍｍ以下とすることにより、磁気ヘッドと磁
気テープとの間に生じるスペーシングを小さくでき、摺
動性を向上できる。
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の斜視図で
ある。
ある。
【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドの摺動面の平面図及び
その拡大図である。
その拡大図である。
【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図４】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図５】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図６】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図７】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図８】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図９】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工程
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図１０】本発明の薄膜磁気ヘッドの一実施例の製造工
程を示す斜視図である。
程を示す斜視図である。
【図１１】従来と本発明の磁気ヘッドの摺動面の平面図
である。
である。
【図１２】従来のヘリカルスキャン型磁気ヘッドの一実
施例の斜視図である。
施例の斜視図である。
【図１３】従来のヘリカルスキャン型磁気ヘッドの摺動
面の平面図及びその拡大図である。
面の平面図及びその拡大図である。
３０ 磁気ヘッド ３２ 基板材 ３６ 非磁性絶縁層 ３８ 補助部材 ４０ 下部ヨーク ４１ 上部ヨーク ４２ 磁気ギャップ ５０，５１ 摺動幅規制溝 ５２，５３ 電極端子 ５４ａ，５４ｂ 金属配線 ５５ 摺動面 ６０ 基板 ６２ ヘッド形成ブロック ６４ 補助ブロック ６６ 接合ブロック ６８ 曲面 ７０ 溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 近藤 守央 神奈川県厚木市酒井1601 ミツミ電機株式 会社厚木事業所内 (72)発明者 中村 明 神奈川県厚木市酒井1601 ミツミ電機株式 会社厚木事業所内 (72)発明者 上原 年博 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会 放送技術研究所内 (72)発明者 林 直人 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会 放送技術研究所内 (72)発明者 武藤 一利 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会 放送技術研究所内 (72)発明者 町田 賢司 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会 放送技術研究所内 (72)発明者 沼澤 潤二 東京都世田谷区砧一丁目10番11号 日本放 送協会 放送技術研究所内 Ｆターム(参考） 5D034 AA02 AA03 BA03 BA15 BA19 BB01
Claims (3)
- 【請求項１】 基板材と、 前記基板材に接して設けられ、磁気ギャップを先端から
露出させた状態で非磁性層に内設された薄膜磁気ヘッド
と、 前記基板材と共に前記非磁性層を挟んで設けられた補助
部材とを有し、 前記基板材と非磁性層と補助部材との先端に、前記基板
材と非磁性層と補助部材の並んだ方向または、これに対
して所定角度傾けられた方向に沿って磁気テープと摺動
する摺動面を形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッ
ド。 - 【請求項２】 請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、 前記薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果型ヘッドであるこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 【請求項３】 請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、 前記摺動面における前記非磁性層の面積を０．０２ｍｍ
×０．０８ｍｍ以下としたことを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッド。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11043677A JP2000242912A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 薄膜磁気ヘッド |
| US09/504,964 US6859342B1 (en) | 1999-02-22 | 2000-02-16 | Magnetic head device with a short auxiliary member |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11043677A JP2000242912A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000242912A true JP2000242912A (ja) | 2000-09-08 |
Family
ID=12670483
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11043677A Pending JP2000242912A (ja) | 1999-02-22 | 1999-02-22 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6859342B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000242912A (ja) |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2563597B2 (ja) * | 1989-08-04 | 1996-12-11 | 松下電器産業株式会社 | 複合型薄膜磁気ヘッド |
| DE69117362T2 (de) * | 1990-07-13 | 1996-07-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | Zusammengesetzter Magnetkopf |
| DE4323115A1 (de) * | 1992-08-03 | 1994-02-10 | Philips Electronics Nv | Magnetkopf mit einer im wesentlichen Cr¶2¶O¶3¶-haltigen Schicht und Verfahren zum Herstellen eines derartigen Magnetkopfes |
| US6101067A (en) * | 1992-12-17 | 2000-08-08 | Sony Corporation | Thin film magnetic head with a particularly shaped magnetic pole piece and spaced relative to an MR element |
| JPH06251329A (ja) | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH06325322A (ja) | 1993-03-16 | 1994-11-25 | Sharp Corp | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| JPH06314408A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-08 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
| US6038106A (en) * | 1995-05-10 | 2000-03-14 | International Business Machines Corporation | Piggyback magneto-resistive read/write tape head with optimized process for same gap read/write |
| KR970002883A (ko) * | 1995-06-30 | 1997-01-28 | 배순훈 | 자기헤드 및 그 제조 방법 |
| JPH0922512A (ja) | 1995-07-05 | 1997-01-21 | Sony Corp | 複合型薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
| JPH1049820A (ja) * | 1996-07-31 | 1998-02-20 | Mitsumi Electric Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH10188212A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-07-21 | Sony Corp | 磁気ヘッド |
-
1999
- 1999-02-22 JP JP11043677A patent/JP2000242912A/ja active Pending
-
2000
- 2000-02-16 US US09/504,964 patent/US6859342B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6859342B1 (en) | 2005-02-22 |
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| A521 | Request for written amendment filed |
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| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050301 |
|
| A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20050624 |