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JP2000216454A - Magnetic resistance effect element and its manufacture - Google Patents

Magnetic resistance effect element and its manufacture

Info

Publication number
JP2000216454A
JP2000216454A JP11014982A JP1498299A JP2000216454A JP 2000216454 A JP2000216454 A JP 2000216454A JP 11014982 A JP11014982 A JP 11014982A JP 1498299 A JP1498299 A JP 1498299A JP 2000216454 A JP2000216454 A JP 2000216454A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magnetic
granular
magnetic particles
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11014982A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Ohashi
俊幸 大橋
Yasutaka Nakamura
康敬 中村
Makoto Shiraki
真 白木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamaha Corp
Original Assignee
Yamaha Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamaha Corp filed Critical Yamaha Corp
Priority to JP11014982A priority Critical patent/JP2000216454A/en
Publication of JP2000216454A publication Critical patent/JP2000216454A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic resistance element superior in the sensitivity of a magnetic resistance change and to provide the manufacture, by fixing the direction of the magnetic moment of deposited magnetic particles in one granular layer to one direction, and changing the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles in the other granular layer in accordance with an outer magnetic field. SOLUTION: A magnetic resistance effect element 1 has an anti-ferromagnetic layer 2, plural granular layers 6 containing magnetic particles 8 and a non- magnetic layer 5. In the magnetic resistance effect element 1, one granular layer 6 in plural granular layers 6 is a pinning layer 3 where the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles is fixed to one direction by the anti-ferromagnetic layer 2, and the other granular layer 6 is a free layer 5 where the direction of the magnetic member of the deposited magnetic particles 7 changes in accordance with the outer magnetic field H.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク等
に用いる磁気ヘッドを構成する磁気抵抗効果素子及びそ
の製造方法に関し、特に、複数のグラニュラ層を有する
多層の磁気抵抗効果素子であって、一方のグラニュラ層
の磁気モーメントの方向を一方向に固定した磁気抵抗効
果素子及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-resistance effect element constituting a magnetic head used for a hard disk or the like and a method of manufacturing the same. More particularly, the invention relates to a multi-layer magneto-resistance effect element having a plurality of granular layers. The present invention relates to a magnetoresistive element in which the direction of a magnetic moment of a granular layer is fixed in one direction, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、磁気抵抗効果素子としては、反強
磁性層とピニング層と非磁性層とフリー層とからなるス
ピンバルブ巨大磁気抵抗(以下、スピンバルブGMRと
いう。)素子が特開平9−266334号公報等に開示
されている。このスピンバルブGMR素子は、磁気抵抗
効果の発現が、ピニング層とフリー層との間に設けられ
ている非磁性層で生じる。
2. Description of the Related Art Hitherto, as a magnetoresistive element, a spin valve giant magnetoresistive (hereinafter referred to as spin valve GMR) element comprising an antiferromagnetic layer, a pinning layer, a nonmagnetic layer, and a free layer has been disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9 (1999). -266334. In this spin valve GMR element, the manifestation of the magnetoresistance effect occurs in the nonmagnetic layer provided between the pinning layer and the free layer.

【0003】また、Ag−FeCo系グラニュラ材料等
の磁性粒子が導電相内に析出し、外部磁界により磁気モ
ーメントがランダムな状態から平行になり磁気抵抗変化
を示す磁気抵抗効果素子が特開平7−254510号公
報に開示されている。
Further, a magneto-resistance effect element in which magnetic particles such as an Ag—FeCo-based granular material precipitate in a conductive phase and a magnetic moment becomes parallel from a random state due to an external magnetic field and changes in magneto-resistance is disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. No. 254510.

【0004】更に、低保磁力磁性粒子と高保磁力磁性粒
子とを同時に導電相中に析出させ、外部磁界に対する磁
気抵抗変化にバイアスを付与する磁気抵抗効果素子が特
開平9−63823に開示されている。
Further, JP-A-9-63823 discloses a magnetoresistive element in which low coercive force magnetic particles and high coercive force magnetic particles are simultaneously precipitated in a conductive phase and a bias is applied to a change in magnetoresistance with respect to an external magnetic field. I have.

【0005】更にまた、グラニュラ層を多層化し、その
保磁力の差を利用して磁気抵抗を得る磁気抵抗効果素子
が特開平9−289345号公報に開示されている。
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-289345 discloses a magnetoresistive element in which a granular layer is formed into a multilayer and a magnetoresistance is obtained by utilizing a difference in coercive force.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
スピンバルブGMR素子においては、ピニング層とフリ
ー層との間に設けられている20乃至30Åの極めて薄
い非磁性層で磁気抵抗効果が生じるために、磁気抵抗
(以下、MRという。)比は、通常10%未満となり、
限界がある。また実際に、磁気ヘッドとして動作させる
ためには、フリー層のバルクハウゼンノイズ対策及びピ
ニング層と磁気異方性を直交させ、線形動作させるため
の縦バイアス処理等が必要となったり、作成又は動作時
に積層膜の界面が熱により乱れ、動作が不安定となる等
の問題点がある。
However, in the above-described spin valve GMR element, a very thin nonmagnetic layer of 20 to 30 ° provided between the pinning layer and the free layer produces a magnetoresistance effect. , The magnetoresistance (hereinafter referred to as MR) ratio is usually less than 10%,
There is a limit. In addition, in order to actually operate as a magnetic head, it is necessary to take measures against Barkhausen noise in the free layer and to perform vertical bias processing for linearly operating the pinning layer so that the magnetic anisotropy is orthogonal to the free layer. There is a problem that the interface of the laminated film is sometimes disturbed by heat and the operation becomes unstable.

【0007】また、外部磁界により磁気モーメントがラ
ンダムな状態から平行になる磁気抵抗効果素子において
は、析出粒子の磁気モーメントが外部磁界によりランダ
ムから平行になるために磁界感度が劣る。また、外部磁
界の極性を検出するためには横バイアスを付加しなけれ
ばならないという問題点がある。
Further, in a magnetoresistive element in which the magnetic moment is changed from a random state to a parallel state by an external magnetic field, the magnetic moment of the precipitated particles is changed from a random state to a parallel state by an external magnetic field. There is also a problem that a lateral bias must be added to detect the polarity of the external magnetic field.

【0008】更に、相反する磁気特性の低保磁力磁性粒
子と高保磁力磁性粒子を同じ相に析出させ、しかも磁気
的な結合を防がなければならないという問題点もある。
Further, there is another problem that low coercive force magnetic particles and high coercive force magnetic particles having contradictory magnetic properties must be precipitated in the same phase and magnetic coupling must be prevented.

【0009】更にまた、グラニュラ層を多層化し、その
保磁力の差を利用して磁気抵抗を得る磁気抵抗効果素子
においては、保磁力の差が大きいと共に、MR磁界感度
の大きいグラニュラ層の作成が困難である。また、外部
磁界により高保磁力磁性粒子の磁気モーメントがずれる
ため、効率的な抵抗変化が得られにくい問題点がある。
Further, in a magnetoresistive effect element in which a granular layer is multilayered and a magnetoresistance is obtained by utilizing a difference in coercive force, it is necessary to form a granular layer having a large difference in coercive force and a large MR magnetic field sensitivity. Have difficulty. In addition, since the magnetic moment of the high coercive force magnetic particles is shifted by an external magnetic field, there is a problem that it is difficult to obtain an efficient resistance change.

【0010】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、複数層のグラニュラ層のうち、一方のグラ
ニュラ層の析出磁性粒子の磁気モーメントの方向を反強
磁性層により一方向に固定させると共に、他方のグラニ
ュラ層の析出磁性粒子の磁気モーメントの方向を外部磁
界に応じて変化するようにして磁気抵抗変化の感度が優
れた磁気抵抗効果素子及びその製造方法を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of such a problem, and the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles of one of the plurality of granular layers is fixed in one direction by an antiferromagnetic layer. It is another object of the present invention to provide a magnetoresistive element having excellent sensitivity to magnetoresistive change by changing the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles of the other granular layer according to an external magnetic field, and a method for manufacturing the same. I do.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気抵抗効
果素子は、反強磁性層と、磁性粒子を含む複数層のグラ
ニュラ層と、非磁性層とを有する磁気抵抗効果素子にお
いて、前記複数層のグラニュラ層のうち、一方のグラニ
ュラ層は析出磁性粒子の磁気モーメントの方向が反強磁
性層により一方向に固定されるピニング層であり、他方
のグラニュラ層は析出磁性粒子の磁気モーメントの方向
が外部磁界に応じて変化するフリー層であることを特徴
とする。
According to the present invention, there is provided a magnetoresistance effect element having an antiferromagnetic layer, a plurality of granular layers containing magnetic particles, and a nonmagnetic layer. One of the granular layers is a pinning layer in which the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles is fixed in one direction by an antiferromagnetic layer, and the other granular layer is the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles. Is a free layer that changes according to an external magnetic field.

【0012】本発明においては、前記ピニング層とフリ
ー層との間に、磁気交換結合を防ぐため、非磁性層を介
在させる。
In the present invention, a nonmagnetic layer is interposed between the pinning layer and the free layer to prevent magnetic exchange coupling.

【0013】本発明に係る磁気抵抗効果素子の製造方法
は、反強磁性層、磁性粒子を含む第1グラニュラ層、非
磁性層及び磁性粒子を含む第2グラニュラ層をこの順で
積層する工程と、前記反強磁性層、第1グラニュラ層、
非磁性層及び第2グラニュラ層を磁界中で熱処理し、第
1及び第2グラニュラ層に含まれる磁性粒子を析出させ
ると共に、前記反強磁性層を規則格子化し、第1グラニ
ュラ層を前記反強磁性層と磁気交換結合させ、前記磁界
方向に前記第1グラニュラ層の磁性粒子の磁気モーメン
トを固着させる工程と、を有することを特徴とする。
The method of manufacturing a magnetoresistive element according to the present invention comprises the steps of laminating an antiferromagnetic layer, a first granular layer containing magnetic particles, a nonmagnetic layer and a second granular layer containing magnetic particles in this order. The antiferromagnetic layer, the first granular layer,
The nonmagnetic layer and the second granular layer are heat-treated in a magnetic field to precipitate magnetic particles contained in the first and second granular layers, and to form a regular lattice in the antiferromagnetic layer. Magnetic exchange coupling with the magnetic layer, and fixing the magnetic moment of the magnetic particles of the first granular layer in the direction of the magnetic field.

【0014】本発明においては、反強磁性層により磁性
粒子の磁気モーメントの方向が固定されているために、
ピニング層は、外部磁界の変動によりその極性が反転し
にくく、また、動作磁界内ではピニング層の磁性粒子の
磁気モーメントの方向が安定して変動しにくい。
In the present invention, since the direction of the magnetic moment of the magnetic particles is fixed by the antiferromagnetic layer,
The polarity of the pinning layer is unlikely to be inverted due to the fluctuation of the external magnetic field, and the direction of the magnetic moment of the magnetic particles of the pinning layer is unlikely to fluctuate stably within the operating magnetic field.

【0015】また、本発明においては、ピニング層の磁
化モーメントが一定方向に固定されているのに対して、
フリー層内の磁性粒子の磁気モーメントが、外部磁界に
応じて変化することにより、ピニング層内の磁気モーメ
ントに対して平行、反平行となり、大きな磁気抵抗変化
を得ることができる。
Further, in the present invention, while the magnetization moment of the pinning layer is fixed in a certain direction,
When the magnetic moment of the magnetic particles in the free layer changes according to the external magnetic field, the magnetic moment becomes parallel or antiparallel to the magnetic moment in the pinning layer, and a large change in magnetoresistance can be obtained.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例に係る磁気
抵抗効果素子について、添付の図面を参照して具体的に
説明する。図1は本発明の第1実施例に係る磁気抵抗効
果素子を示す斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a magnetoresistive element according to an embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a magnetoresistive element according to a first embodiment of the present invention.

【0017】本実施例の磁気抵抗効果素子1において、
反強磁性層2の上にピニング層3と非磁性層4とフリー
層5とが順次積層されている。ピニング層3及びフリー
層5はいずれも母相中に析出磁性粒子7が非固溶析出し
ている。ピニング層3は析出磁性粒子7が全て一定方向
に固定され、フリー層5は析出粒子7が一定方向に固定
されておらず、無磁界中ではランダムな方向を向いてい
る。
In the magnetoresistive element 1 of this embodiment,
On the antiferromagnetic layer 2, a pinning layer 3, a nonmagnetic layer 4, and a free layer 5 are sequentially laminated. In each of the pinning layer 3 and the free layer 5, precipitated magnetic particles 7 are non-solid-solution deposited in the matrix. In the pinning layer 3, the precipitated magnetic particles 7 are all fixed in a fixed direction, and in the free layer 5, the precipitated particles 7 are not fixed in a fixed direction.

【0018】次に、磁気抵抗効果素子1の各層の組成に
ついて説明する。反強磁性層2は、例えば、FeMn、
NiMn、PtMn又はNiO等により形成されてい
る。ピニング層3は、例えば、母相がAg又はAgCu
系合金、析出磁性粒子7がCoFe合金からなる。非磁
性層4は、例えば、Ag又はAgCu系合金からなる。
フリー層5は、例えば、母相がAg又はAgCu系合
金、析出磁性粒子7がCoFe合金からなる。
Next, the composition of each layer of the magnetoresistive element 1 will be described. The antiferromagnetic layer 2 is made of, for example, FeMn,
It is formed of NiMn, PtMn, NiO, or the like. The pinning layer 3 is made of, for example, Ag or AgCu
The system alloy and the precipitated magnetic particles 7 are made of a CoFe alloy. The nonmagnetic layer 4 is made of, for example, Ag or an AgCu-based alloy.
The free layer 5 has, for example, an Ag or AgCu-based alloy in the matrix and a CoFe alloy in the precipitated magnetic particles 7.

【0019】次に、上述の構成に基づく磁気抵抗効果素
子1におけるピニング層3及びフリー層5の析出磁性粒
子7の挙動について説明する。図2は、縦軸に磁化、横
軸に磁界をとり、磁化曲線を示すグラフ図である。図3
は、縦軸に磁気抵抗比(MR比)、横軸に磁界をとり、
外部磁界に対する磁気抵抗変化を示すグラフ図である。
図4(a)乃至(d)は、印加された外部磁界による磁
気抵抗効果素子の挙動を示す断面図である。
Next, the behavior of the deposited magnetic particles 7 in the pinning layer 3 and the free layer 5 in the magnetoresistive element 1 based on the above configuration will be described. FIG. 2 is a graph showing a magnetization curve with magnetization on the vertical axis and magnetic field on the horizontal axis. FIG.
Is the magnetic resistance ratio (MR ratio) on the vertical axis and the magnetic field on the horizontal axis.
FIG. 4 is a graph showing a change in magnetoresistance with respect to an external magnetic field.
FIGS. 4A to 4D are cross-sectional views showing the behavior of the magnetoresistive element due to an applied external magnetic field.

【0020】電流を磁気抵抗効果素子1に流し、外部動
作磁界Hを変化させた場合の電圧を測定した。なお、外
部動作磁界Hは、ピニング層3の析出磁性粒子7の磁気
モーメントの方向と平行な方向に印加する。
A current was applied to the magnetoresistive element 1 and the voltage when the external operating magnetic field H was changed was measured. Note that the external operating magnetic field H is applied in a direction parallel to the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles 7 of the pinning layer 3.

【0021】図4(a)に示すように、外部動作磁界H
が印加されていない場合には、フリー層5の磁化はラン
ダム方向であり、ピニング層3の磁化がバイアスとして
動作する。
As shown in FIG. 4A, the external operating magnetic field H
Is not applied, the magnetization of the free layer 5 is in a random direction, and the magnetization of the pinning layer 3 operates as a bias.

【0022】図2及び図3の領域Dに示すように、外部
動作磁界Hがピニング層3の析出磁性粒子7の磁気モー
メントの方向と同一方向に印加された場合には、図4
(b)に示すように、磁気抵抗効果素子1は、フリー層
5の磁化方向と、ピニング層3の磁化方向が同一方向と
なり、磁化及び電気抵抗が小さくなる。
When the external operating magnetic field H is applied in the same direction as the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles 7 of the pinning layer 3 as shown in a region D of FIGS.
As shown in (b), in the magnetoresistive element 1, the magnetization direction of the free layer 5 and the magnetization direction of the pinning layer 3 are the same, and the magnetization and the electric resistance are reduced.

【0023】図2及び図3の領域Eに示すように、外部
動作磁界Hがピニング層3の析出磁性粒子7の磁気モー
メントの方向と逆方向に印加された場合には、図4
(c)に示すように、磁気抵抗効果素子1は、フリー層
5の磁化方向とピニング層3の磁化方向が反平行とな
り、磁化は正に増大し、電気抵抗が高くなる。
When the external operating magnetic field H is applied in a direction opposite to the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles 7 of the pinning layer 3 as shown in a region E of FIGS.
As shown in (c), in the magnetoresistance effect element 1, the magnetization direction of the free layer 5 and the magnetization direction of the pinning layer 3 become antiparallel, the magnetization increases positively, and the electric resistance increases.

【0024】図2及び図3の領域Fに示すように、外部
動作磁界Hがピニング層3の析出磁性粒子7の磁気モー
メントの方向と逆方向且つ、ピニング層3と反強磁性層
2との磁気交換結合Hexよりも大きな外部動作磁界Hを
印加された場合には、図4(d)に示すように、磁気抵
抗効果素子1は、ピニング層3の磁化方向が反転し、フ
リー層5の磁化方向とピニング層3の磁化方向が平行と
なり、磁化は極大となり、電気抵抗は減少する。
As shown in a region F of FIGS. 2 and 3, the external operating magnetic field H is applied in a direction opposite to the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles 7 of the pinning layer 3 and between the pinning layer 3 and the antiferromagnetic layer 2. When an external operating magnetic field H larger than the magnetic exchange coupling Hex is applied, as shown in FIG. 4D, in the magnetoresistive element 1, the magnetization direction of the pinning layer 3 is reversed and the free layer 5 Becomes parallel to the magnetization direction of the pinning layer 3, the magnetization becomes maximum, and the electric resistance decreases.

【0025】本実施例においては、反強磁性層2により
析出磁性粒子7の磁気モーメントの方向が固定されてい
るために、ピニング層3は、外部磁界の変動によりその
極性が反転しにくい。また、外部動作磁界Hが磁気交換
結合Hex内ではピニング層3の析出磁性粒子7の磁気モ
ーメントの方向が安定しているために変動しにくい。従
って、外部磁界の影響を受けにくく、安定して動作する
ことができる。また、フリー層5内の析出磁性粒子7の
磁気モーメントが、外部動作磁界Hに応じて変化するこ
とにより、ピニング層3内の磁気モーメントに対して平
行又は反平行となり大きな磁気抵抗変化を得ることがで
きる。
In this embodiment, since the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles 7 is fixed by the antiferromagnetic layer 2, the polarity of the pinning layer 3 is not easily inverted due to the fluctuation of the external magnetic field. Further, the external operating magnetic field H is hard to fluctuate in the magnetic exchange coupling Hex because the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles 7 of the pinning layer 3 is stable. Therefore, the device is hardly affected by an external magnetic field and can operate stably. Further, the magnetic moment of the precipitated magnetic particles 7 in the free layer 5 changes in accordance with the external operating magnetic field H, so that the magnetic moment becomes parallel or anti-parallel to the magnetic moment in the pinning layer 3 to obtain a large magnetoresistance change. Can be.

【0026】次に、図1に示す磁気抵抗効果素子の製造
方法について説明する。図5(a)及び(b)は磁気抵
抗効果素子の製造方法を工程順に示す断面図である。
Next, a method of manufacturing the magnetoresistive element shown in FIG. 1 will be described. 5A and 5B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a magnetoresistive element in the order of steps.

【0027】先ず、図5(a)に示すように、基板9と
して、例えば、予め洗浄したコーニング社製#7059
ガラス基板を使用し、この基板9を3元系DCマグネト
ロンスパッタリング装置に取付ける。そして、例えば、
圧力が0.4PaのArガス雰囲気中において、DC電
源を使用し、反強磁性層2の成膜条件として、例えば、
電力が200W、PtMnターゲットを使用する。第1
グラニュラ層6aの成膜条件として、母相には、例え
ば、電力が50W、Ag又はAgCu合金ターゲットを
使用し、析出磁性粒子7には、電力が250W、FeC
oターゲットを使用する。非磁性層4の成膜条件とし
て、例えば、電力が50W、Ag又はAgCu合金ター
ゲットを使用する。第2グラニュラ層の成膜条件とし
て、母相には、例えば、電力が50W、Ag又はAgC
u合金ターゲットを使用し、析出磁性粒子7には、電力
が150W、FeCoターゲットを使用する。これらの
反強磁性層2、第1グラニュラ層6a、非磁性層4及び
第2グラニュラ層6bを同時に基板6の上に成膜する。
このとき、反強磁性層2は、後の熱処理工程において、
磁気交換結合を発現すると共に、規則格子化する状態に
成膜され、第1及び第2グラニュラ層6a、6bは、準
安定状態に成膜される。
First, as shown in FIG. 5A, the substrate 9 is, for example, # 7059 manufactured by Corning Co.
Using a glass substrate, the substrate 9 is mounted on a ternary DC magnetron sputtering apparatus. And, for example,
In an Ar gas atmosphere at a pressure of 0.4 Pa, a DC power supply is used, and as a film forming condition of the antiferromagnetic layer 2, for example,
A PtMn target with a power of 200 W is used. First
As the film forming conditions for the granular layer 6a, for example, an electric power of 50 W and an Ag or AgCu alloy target are used for the matrix phase, and an electric power of 250 W and an FeC
o Use the target. As a film forming condition of the nonmagnetic layer 4, for example, an electric power of 50 W, an Ag or AgCu alloy target is used. As a film forming condition of the second granular layer, for example, a power of 50 W, Ag or AgC
A uCo target is used, and a FeCo target is used for the deposited magnetic particles 7 with a power of 150 W. The antiferromagnetic layer 2, the first granular layer 6a, the nonmagnetic layer 4, and the second granular layer 6b are simultaneously formed on the substrate 6.
At this time, the antiferromagnetic layer 2 is formed in a later heat treatment step.
The first and second granular layers 6a and 6b are formed in a metastable state while exhibiting magnetic exchange coupling and being formed into a regular lattice.

【0028】次に、図5(b)に示すように、これらの
試料に磁界を印加しながら、例えば、Arガス雰囲気中
で25℃/分の昇温速度で昇温し、270℃の温度で1
時間加熱保持した後に、炉中で室温まで冷却する。これ
により、反強磁性層2は、規則格子化される。
Next, as shown in FIG. 5B, while applying a magnetic field to these samples, for example, the temperature was increased at a rate of 25 ° C./min in an Ar gas atmosphere to a temperature of 270 ° C. At 1
After heating and holding for an hour, the mixture is cooled to room temperature in a furnace. Thereby, the antiferromagnetic layer 2 has a regular lattice.

【0029】一方、第1グラニュラ層6aは、この加熱
により、磁性粒子8が析出成長する。同時に、積層され
ている反強磁性層2と磁気交換結合され、印加磁界方向
に析出磁性粒子7の磁気モーメントの方向が固定された
ピニング層3になる。
On the other hand, in the first granular layer 6a, the magnetic particles 8 are deposited and grown by this heating. At the same time, the pinning layer 3 is magnetically exchange-coupled with the laminated antiferromagnetic layer 2 and the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles 7 is fixed in the direction of the applied magnetic field.

【0030】また、非磁性層4は磁界中熱処理におい
て、第1及び第2グラニュラ層6a、6bの析出磁性粒
子7の磁気的結合を防ぐ。更に、第2グラニュラ層6b
は、磁性粒子8が析出成長し、析出磁性粒子7の磁気モ
ーメントの方向が固定されていないフリー層5になる。
The nonmagnetic layer 4 prevents magnetic coupling of the precipitated magnetic particles 7 of the first and second granular layers 6a and 6b during the heat treatment in a magnetic field. Further, the second granular layer 6b
In the free layer 5, the magnetic particles 8 are deposited and grown, and the free layer 5 in which the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles 7 is not fixed is obtained.

【0031】これにより、磁界を印加しながら、熱処理
を行うことにより、反強磁性層2は、規則格子化され、
第1グラニュラ層6aの析出磁性粒子7が、印加磁界方
向に磁気モーメントの方向が固定される。また、非磁性
層4により、第1及び第2グラニュラ層6a、6bとの
磁気的結合を防止することができる。
Thus, by performing the heat treatment while applying a magnetic field, the antiferromagnetic layer 2 becomes a regular lattice,
The direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles 7 of the first granular layer 6a is fixed to the direction of the applied magnetic field. Further, the non-magnetic layer 4 can prevent magnetic coupling with the first and second granular layers 6a and 6b.

【0032】本実施例においては、磁気抵抗効果素子1
の各層はスパッタ蒸着法で成膜しているが、これに限定
されるものではなく、例えば、高真空蒸着法及びイオン
ビームスパッタ法等で成膜することもできる。
In this embodiment, the magnetoresistive element 1
Each layer is formed by a sputter deposition method, but is not limited thereto. For example, a film can be formed by a high vacuum deposition method, an ion beam sputtering method, or the like.

【0033】次に、本発明の第2実施例について、図6
を参照して説明する。なお、図6において、本発明の第
1実施例を示す図1乃至5と同一構成物には、同一符号
を付して、その詳細な説明は省略する。図6(a)及び
(b)は磁気抵抗効果素子の製造方法を工程順に示す断
面図である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. 6, the same components as those in FIGS. 1 to 5 showing the first embodiment of the present invention are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. 6A and 6B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a magnetoresistive element in the order of steps.

【0034】本実施例は、第1実施例と比較して、磁気
抵抗効果素子1の各層の積層される順番が異なるだけで
あって、それ以外の構成及び製造方法は同一である。
The present embodiment differs from the first embodiment only in the order in which the layers of the magnetoresistive element 1 are laminated, and the other structures and manufacturing methods are the same.

【0035】本実施例においては、図6(a)に示すよ
うに、基板9上に第2グラニュラ層6b、非磁性層4、
第1グラニュラ層6a及び反強磁性層2の積層順で成膜
し、図6(b)に示すように、磁界中で熱処理を施し
て、磁気抵抗効果素子1を得る。
In this embodiment, as shown in FIG. 6A, a second granular layer 6b, a nonmagnetic layer 4,
The first granular layer 6a and the antiferromagnetic layer 2 are formed in the stacking order, and are heat-treated in a magnetic field to obtain the magnetoresistive element 1 as shown in FIG.

【0036】これにより、磁界中で熱処理を施し、第2
グラニュラ層6b、非磁性層4及び第1グラニュラ層6
aの順で積層されているので、第1及び第2グラニュラ
層6a、6bとの磁気的結合を防止することができる。
更に、第1グラニュラ層6aは、反強磁性層2の下に形
成されているので、印加磁界方向に、析出磁性粒子7の
磁気モーメントが固定される。
Thus, heat treatment is performed in a magnetic field,
Granular layer 6b, nonmagnetic layer 4, and first granular layer 6
Since the layers are stacked in the order of a, magnetic coupling with the first and second granular layers 6a and 6b can be prevented.
Furthermore, since the first granular layer 6a is formed below the antiferromagnetic layer 2, the magnetic moment of the precipitated magnetic particles 7 is fixed in the direction of the applied magnetic field.

【0037】次に、本発明の第3実施例について図7を
参照して説明する。なお、図7において、本発明の第1
実施例を示す図1乃至5と同一構成物には、同一符号を
付して、その詳細な説明は省略する。図7(a)及び
(b)は磁気抵抗効果素子の製造方法を工程順に示す断
面図である。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 shows the first embodiment of the present invention.
The same components as those in FIGS. 1 to 5 showing the embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. 7A and 7B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a magnetoresistive element in the order of steps.

【0038】本実施例は、第1実施例と比較して、磁気
抵抗効果素子1の各層の積層される順番が異なるだけで
あって、それ以外の構成及び製造方法は同一である。
The present embodiment differs from the first embodiment only in the order in which the respective layers of the magnetoresistive element 1 are laminated, and the other structures and manufacturing methods are the same.

【0039】本実施例においては、図7(a)に示すよ
うに、基板6上に反強磁性層2、第1グラニュラ層6
a、非磁性層4、第2グラニュラ層6b、非磁性層4、
第1グラニュラ層6a及び反強磁性層2の積層順で成膜
し、図7(b)に示すように、磁界中で熱処理を施し
て、磁気抵抗効果素子1を得る。
In this embodiment, as shown in FIG. 7A, an antiferromagnetic layer 2 and a first granular layer 6
a, nonmagnetic layer 4, second granular layer 6b, nonmagnetic layer 4,
The first granular layer 6a and the antiferromagnetic layer 2 are formed in the lamination order, and are subjected to a heat treatment in a magnetic field to obtain the magnetoresistive element 1 as shown in FIG.

【0040】これにより、磁界中で熱処理を施し、第2
グラニュラ層6bを中心にして、両側に非磁性層4、第
1グラニュラ層6a及び反強磁性層2の順で積層されて
いるので、第1及び第2グラニュラ層6a、6bとの磁
気的結合を防止することができる。更に、第1グラニュ
ラ層6aは、反強磁性層2に接触しているため、印加磁
界方向に、析出磁性粒子7の磁気モーメントが固定され
る。
Thus, heat treatment is performed in a magnetic field,
Since the nonmagnetic layer 4, the first granular layer 6 a, and the antiferromagnetic layer 2 are laminated on both sides of the granular layer 6 b in the center, magnetic coupling with the first and second granular layers 6 a, 6 b is performed. Can be prevented. Further, since the first granular layer 6a is in contact with the antiferromagnetic layer 2, the magnetic moment of the precipitated magnetic particles 7 is fixed in the direction of the applied magnetic field.

【0041】上述のいずれの実施例においては、磁気抵
抗効果素子1の各層の組成は実施例に限定されるもので
はなく、反強磁性層2は、グラニュラ層6の熱処理温度
で磁気交換結合を発現すると共に、規則格子化する組成
であればよい。また、ピニング層3は、反強磁性層2と
磁気交換結合をするために、磁性粒子8の体積比がフリ
ー層4のそれより、多いことが好ましい。更に、非磁性
層4は、グラニュラ層6の母相と同一組成であると共
に、ピニング層3とフリー層4との磁気的結合を防ぐ最
小の厚さであることが好ましい。更にまた、フリー層5
は、磁界感度の高い組成であることが好ましい。
In any of the above embodiments, the composition of each layer of the magnetoresistive element 1 is not limited to that of the embodiment, and the antiferromagnetic layer 2 performs magnetic exchange coupling at the heat treatment temperature of the granular layer 6. Any composition that can be expressed and form a regular lattice may be used. Further, the pinning layer 3 preferably has a larger volume ratio of the magnetic particles 8 than that of the free layer 4 in order to perform magnetic exchange coupling with the antiferromagnetic layer 2. Further, it is preferable that the nonmagnetic layer 4 has the same composition as the parent phase of the granular layer 6 and has a minimum thickness that prevents magnetic coupling between the pinning layer 3 and the free layer 4. Furthermore, the free layer 5
Is preferably a composition having high magnetic field sensitivity.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明の実施例について、図5
(b)、図6(b)及び図7(b)に示す実施例の構造
の磁気抵抗効果素子並びに本発明の構成とは異なる比較
例の磁気抵抗効果素子を作成し、両者の特性を比較した
結果について説明する。表1に本発明の実施例と比較例
との磁気抵抗効果素子の膜構成及びMR比を示す。
FIG. 5 shows an embodiment of the present invention.
(B) A magnetoresistive element having the structure of the embodiment shown in FIGS. 6 (b) and 7 (b) and a magnetoresistive element of a comparative example different from the structure of the present invention were prepared, and the characteristics of both were compared. The results obtained will be described. Table 1 shows the film configurations and the MR ratios of the magnetoresistive elements of the example of the present invention and the comparative example.

【0043】実施例No.1においては、図5(b)に示
すように、基板6の上に反強磁性層2として、膜厚が2
0nmのPtMn層を形成し、この上にピニング層3と
して、膜厚が4nmのAg-(FeCo)50 体積 %膜を形成
し、この上に非磁性層4として、膜厚が1nmのAg膜
を形成し、この上にフリー層5として、膜厚が5nmの
Ag-(FeCo)30 体積 %膜を形成した。なお、Ag-(F
eCo)50 体積 %膜とは、母相がAgであり、この母相中
に析出磁性粒子7として、FeCo合金が50体積%含
有されている膜を示す。同様に、Ag-(FeCo)30
体積 %膜とは、母相がAgであり、この母相中に析出磁
性粒子7として、FeCo合金が30体積%含有されて
いる膜を示す。
In Example No. 1, as shown in FIG. 5B, an antiferromagnetic layer 2
A 0 nm PtMn layer is formed, a 4 nm thick Ag- (FeCo) 50 % by volume film is formed thereon as a pinning layer 3, and a 1 nm thick Ag film is formed thereon as a nonmagnetic layer 4. Was formed thereon, and an Ag- (FeCo) 30 % by volume film having a thickness of 5 nm was formed as the free layer 5 thereon. In addition, Ag- (F
eCo) 50 % by volume film refers to a film in which the parent phase is Ag and the parent phase contains 50% by volume of FeCo alloy as precipitated magnetic particles 7. Similarly, Ag- (FeCo) 30
The volume % film refers to a film in which the parent phase is Ag and the parent phase contains 30% by volume of FeCo alloy as the precipitated magnetic particles 7.

【0044】実施例No.2においては、図5(b)に示
すように、基板6の上に反強磁性層2として、膜厚が2
0nmのPtMn層を形成し、この上にフリー層5とし
て、膜厚が4nmのAg90Cu10-(FeCo)50 体積 %
を形成し、この上に非磁性層4として、膜厚が1nmの
Ag膜を形成し、この上に、ピニング層3として、膜厚
が5nmのAg90Cu10-(FeCo)30 体積 %膜を形成し
た。なお、Ag90Cu 10-(FeCo)50 体積 %膜とは、母
相がAg90Cu10であり、この母相中に析出磁性粒子7
として、FeCo合金が50体積%含有されている膜を
示す。同様に、Ag90Cu10-(FeCo)30 体積 %膜と
は、母相がAg90Cu10であり、この母相中に析出磁性
粒子7として、FeCo合金が30体積%含有されてい
る膜を示す。
In the embodiment No. 2, as shown in FIG.
As shown in FIG.
A 0 nm PtMn layer is formed, and a free layer 5 is formed thereon.
Ag with a thickness of 4 nm90CuTen-(FeCo)50 volume %film
Is formed thereon, and a nonmagnetic layer 4 having a thickness of 1 nm is formed thereon.
An Ag film is formed, and a film thickness as a pinning layer 3 is formed thereon.
Is 5nm Ag90CuTen-(FeCo)30 volume %To form a film
Was. In addition, Ag90Cu Ten-(FeCo)50 volume %The membrane is the mother
Phase is Ag90CuTenAnd the precipitated magnetic particles 7
As a film containing 50% by volume of an FeCo alloy.
Show. Similarly, Ag90CuTen-(FeCo)30 volume %With membrane
Means that the mother phase is Ag90CuTenAnd the precipitated magnetism in this matrix
The particles 7 contain 30% by volume of an FeCo alloy.
FIG.

【0045】実施例No.3においては、図6(b)に示
すように、基板6の上にフリー層5として、膜厚が5n
mのAg-(FeCo)30 体積 %膜を形成し、この上に非磁
性層4として、膜厚が1nmのAg膜を形成し、この上
に、ピニング層3として、膜厚が4nmのAg-(FeC
o)50 体積 %膜を形成し、この上に反強磁性層2として、
膜厚が20nmのPtMn層を形成した。
In Example No. 3, as shown in FIG. 6B, a free layer 5
m-Ag- (FeCo) 30 vol % film is formed thereon, a 1 nm-thick Ag film is formed thereon as the nonmagnetic layer 4, and a 4 nm-thick Ag film is formed thereon as the pinning layer 3. -(FeC
o) A 50 % by volume film is formed, and an antiferromagnetic layer 2 is formed thereon.
A PtMn layer having a thickness of 20 nm was formed.

【0046】実施例No.4においては、図7(b)に示
すように、基板6の上に反強磁性層2として、膜厚が2
0nmのPtMn層を形成し、この上にピニング層3と
して、膜厚が4nmのAg-(FeCo)50 体積 %膜を形成
し、この上に非磁性層4として、膜厚が1nmのAg膜
を形成し、この上にフリー層5として、膜厚が5nmの
Ag-(FeCo)30 体積 %膜を形成した。更に、この上に
非磁性層4として、膜厚が1nmのAg膜を形成し、こ
の上にピニング層3として、膜厚が4nmのAg-(Fe
Co)50 体積 %膜を形成し、この上に、反強磁性層2とし
て、膜厚が20nmのPtMnを形成した。
In Example No. 4, as shown in FIG. 7B, an antiferromagnetic layer 2 having a thickness of 2
A 0 nm PtMn layer is formed, a 4 nm thick Ag- (FeCo) 50 % by volume film is formed thereon as a pinning layer 3, and a 1 nm thick Ag film is formed thereon as a nonmagnetic layer 4. Was formed thereon, and an Ag- (FeCo) 30 % by volume film having a thickness of 5 nm was formed as the free layer 5 thereon. Further, an Ag film having a thickness of 1 nm is formed thereon as the nonmagnetic layer 4, and an Ag- (Fe) film having a thickness of 4 nm is formed thereon as the pinning layer 3.
(Co) A 50 % by volume film was formed, and PtMn having a thickness of 20 nm was formed thereon as the antiferromagnetic layer 2.

【0047】比較例No.1においては、基板9の上に膜
厚が30nmのAg-(FeCo)30 %膜を形成した。
[0047] In Comparative Example No.1, the film thickness was formed 30nm of Ag- (FeCo) 30 body volume% film on the substrate 9.

【0048】比較例No.2においては、基板9の上に膜
厚が30nmのAg90Cu10-(FeCo)50 体積 %膜を形
成した。
In Comparative Example No. 2, an Ag 90 Cu 10- (FeCo) 50 % by volume film having a thickness of 30 nm was formed on the substrate 9.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】実施例No.1乃至4並びに比較例No.1及び
2について、磁界の強さが−200Oe乃至200Oe
の磁界中におけるMR比を測定した。その結果を表1に
示す。
In Examples Nos. 1 to 4 and Comparative Examples Nos. 1 and 2, the magnetic field strength was -200 Oe to 200 Oe.
The MR ratio in a magnetic field was measured. Table 1 shows the results.

【0051】上述の表1に示すように本発明の範囲にあ
る実施例No.1はMR比が11.4%であった。また、
実施例No.2はMR比が10.2%であった。実施例No.
3はMR比が10.1%であった。実施例No.4はMR
比が15.3%であった。即ち、実施例No.1乃至4は
いずれもMR比が10%を超えるものであった。
As shown in Table 1 above, Example No. 1 within the scope of the present invention had an MR ratio of 11.4%. Also,
Example No. 2 had an MR ratio of 10.2%. Example No.
Sample No. 3 had an MR ratio of 10.1%. Example No. 4 is MR
The ratio was 15.3%. That is, in Examples Nos. 1 to 4, the MR ratio exceeded 10%.

【0052】一方、比較例No.1はMR比が5.1%で
あった。比較例No.2はMR比が4.8%であった。い
ずれの比較例もMR比が10%に満たなかった。
On the other hand, Comparative Example No. 1 had an MR ratio of 5.1%. Comparative Example No. 2 had an MR ratio of 4.8%. In all the comparative examples, the MR ratio was less than 10%.

【0053】[0053]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明において
は、非磁性層を介して結合する一方のグラニュラ層は析
出磁性粒子の磁気モーメントの方向を一方向に固定し、
他方のグラニュラ層は析出磁性粒子の磁気モーメントの
方向を外部磁界に応じて変化させる構成にすることによ
り、互いの磁気モーメントが平行又は反平行となり、大
きな磁気抵抗変化を得ることができる。
As described above in detail, in the present invention, one of the granular layers bonded via the nonmagnetic layer fixes the direction of the magnetic moment of the deposited magnetic particles in one direction,
The other granular layer has a configuration in which the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles is changed according to the external magnetic field, so that the magnetic moments are parallel or anti-parallel, and a large change in magnetoresistance can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1実施例に係る磁気抵抗効果素子
を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a magnetoresistive element according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 磁化曲線を示すグラフ図である。FIG. 2 is a graph showing a magnetization curve.

【図3】 外部磁界に対する磁気抵抗変化を示すグラフ
図である。
FIG. 3 is a graph showing a change in magnetoresistance with respect to an external magnetic field.

【図4】 (a)乃至(d)は、本発明の磁気抵抗効果
素子の外部磁界による挙動を示す断面図である。
FIGS. 4A to 4D are cross-sectional views showing the behavior of the magnetoresistive element of the present invention due to an external magnetic field.

【図5】 (a)及び(b)は、本発明の第1実施例に
係る磁気抵抗効果素子の製造方法を工程順に示す断面図
である。
FIGS. 5A and 5B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing the magnetoresistive element according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.

【図6】 (a)及び(b)は、本発明の第2実施例に
係る磁気抵抗効果素子の製造方法を工程順に示す断面図
である。
FIGS. 6A and 6B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a magnetoresistive element according to a second embodiment of the present invention in the order of steps.

【図7】 (a)及び(b)は、本発明の第3実施例に
係る磁気抵抗効果素子の製造方法を工程順に示す断面図
である。
FIGS. 7A and 7B are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a magnetoresistive element according to a third embodiment of the present invention in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1;磁気抵抗効果素子、 2;反強磁性層、 3;ピニ
ング層、 4;非磁性層、 5;フリー層、 6;グラ
ニュラ層、 6a;第1グラニュラ層、 6b;第2グ
ラニュラ層、 7;析出磁性粒子、 8;磁性粒子、
9;基板、 D、E、F;領域、 H;外部動作磁界、
ex;磁気交換結合
Reference Signs List 1: magnetoresistive element, 2: antiferromagnetic layer, 3: pinning layer, 4: nonmagnetic layer, 5: free layer, 6: granular layer, 6a: first granular layer, 6b: second granular layer, 7 8; magnetic particles,
9; substrate, D, E, F; area, H: external operating magnetic field,
H ex ; magnetic exchange coupling

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白木 真 静岡県浜松市中沢町10番1号 ヤマハ株式 会社内 Fターム(参考) 5D034 BA05 BA21 CA08 DA07  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Makoto Shiraki 10-1 Nakazawa-cho, Hamamatsu-shi, Shizuoka F-term in Yamaha Corporation (reference) 5D034 BA05 BA21 CA08 DA07

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 反強磁性層と、磁性粒子を含む複数層の
グラニュラ層と、非磁性層とを有する磁気抵抗効果素子
において、 前記複数層のグラニュラ層のうち、一方のグラニュラ層
は析出磁性粒子の磁気モーメントの方向が前記反強磁性
層により一方向に固定されるピニング層であり、他方の
グラニュラ層は析出磁性粒子の磁気モーメントの方向が
外部磁界に応じて変化するフリー層であることを特徴と
する磁気抵抗効果素子。
1. A magnetoresistive element having an antiferromagnetic layer, a plurality of granular layers containing magnetic particles, and a nonmagnetic layer, wherein one of the plurality of granular layers has a deposited magnetic layer. The direction of the magnetic moment of the particles is a pinning layer fixed in one direction by the antiferromagnetic layer, and the other granular layer is a free layer in which the direction of the magnetic moment of the precipitated magnetic particles changes according to an external magnetic field. A magnetoresistive element comprising:
【請求項2】 前記ピニング層とフリー層との間に、非
磁性層を介在させることを特徴とする請求項1に記載の
磁気抵抗効果素子。
2. The magnetoresistive element according to claim 1, wherein a nonmagnetic layer is interposed between the pinning layer and the free layer.
【請求項3】 反強磁性層、磁性粒子を含む第1グラニ
ュラ層、非磁性層及び磁性粒子を含む第2グラニュラ層
をこの順で積層する工程と、前記反強磁性層、第1グラ
ニュラ層、非磁性層及び第2グラニュラ層を磁界中で熱
処理し、第1及び第2グラニュラ層に含まれる磁性粒子
を析出させると共に、前記反強磁性層を規則格子化し、
第1グラニュラ層を前記反強磁性層と磁気交換結合さ
せ、前記磁界方向に前記第1グラニュラ層の磁性粒子の
磁気モーメントを固着させる工程と、を有することを特
徴とする磁気抵抗効果素子の製造方法。
3. A step of laminating an antiferromagnetic layer, a first granular layer containing magnetic particles, a nonmagnetic layer, and a second granular layer containing magnetic particles in this order, wherein the antiferromagnetic layer and the first granular layer are stacked. Heat treating the non-magnetic layer and the second granular layer in a magnetic field to precipitate magnetic particles contained in the first and second granular layers, and to form the antiferromagnetic layer into a regular lattice,
Producing a magnetoresistive effect element comprising: a step of magnetically exchanging a first granular layer with the antiferromagnetic layer and fixing a magnetic moment of magnetic particles of the first granular layer in the direction of the magnetic field. Method.
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