JP2000203856A - 石英ガラス物品及びその製造方法 - Google Patents
石英ガラス物品及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2000203856A JP2000203856A JP11005581A JP558199A JP2000203856A JP 2000203856 A JP2000203856 A JP 2000203856A JP 11005581 A JP11005581 A JP 11005581A JP 558199 A JP558199 A JP 558199A JP 2000203856 A JP2000203856 A JP 2000203856A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- glass article
- hydrogen
- optical fiber
- molecules
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 121
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 148
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 144
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 144
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 95
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 36
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 16
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 10
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 10
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 10
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005253 cladding Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 40
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 20
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 abstract description 12
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 7
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008030 elimination Effects 0.000 abstract description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 13
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 11
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 4
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000002419 bulk glass Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- OYFJQPXVCSSHAI-QFPUQLAESA-N enalapril maleate Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O.C([C@@H](C(=O)OCC)N[C@@H](C)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 OYFJQPXVCSSHAI-QFPUQLAESA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005251 gamma ray Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47K—SANITARY EQUIPMENT NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; TOILET ACCESSORIES
- A47K5/00—Holders or dispensers for soap, toothpaste, or the like
- A47K5/06—Dispensers for soap
- A47K5/12—Dispensers for soap for liquid or pasty soap
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D1/00—Rigid or semi-rigid containers having bodies formed in one piece, e.g. by casting metallic material, by moulding plastics, by blowing vitreous material, by throwing ceramic material, by moulding pulped fibrous material or by deep-drawing operations performed on sheet material
- B65D1/22—Boxes or like containers with side walls of substantial depth for enclosing contents
- B65D1/24—Boxes or like containers with side walls of substantial depth for enclosing contents with moulded compartments or partitions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D25/00—Details of other kinds or types of rigid or semi-rigid containers
- B65D25/02—Internal fittings
- B65D25/04—Partitions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/10—Non-chemical treatment
- C03B37/14—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape
- C03B37/15—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape with heat application, e.g. for making optical fibres
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/0025—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by a laser beam
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/62—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags by application of electric or wave energy; by particle radiation or ion implantation
- C03C25/6206—Electromagnetic waves
- C03C25/6208—Laser
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/0085—Compositions for glass with special properties for UV-transmitting glass
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
- B65D2313/00—Connecting or fastening means
- B65D2313/08—Double sided adhesive tape, e.g. for suspension of the container
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/21—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
- C03C2201/21—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing molecular hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/50—After-treatment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線照射劣化を低減された石英ガラス物品
とその製法の提供。 【解決手段】 石英ガラス物品を水素雰囲気中に置き、
その後水素雰囲気から取り出し、該ガラス中の水素分子
濃度が一定濃度以上である間に該石英ガラス物品に波長
２４８ｎｍのエキシマレーザー光を照射して、ガラス中
の欠陥のプリカーサーを欠陥に変換するとともに、水素
と欠陥の間に安定な結合を形成させ、水素抜けがなく長
期に耐紫外線性を有する石英ガラス物品とする。上記の
照射工程後に余分な水素を大気中放置又は加熱により抜
く工程を加えると、水素分子による吸収がなく特性の安
定したガラス物品が得られる。特に光ファイバ（単心及
びバンドル）に適用して有利である。
とその製法の提供。 【解決手段】 石英ガラス物品を水素雰囲気中に置き、
その後水素雰囲気から取り出し、該ガラス中の水素分子
濃度が一定濃度以上である間に該石英ガラス物品に波長
２４８ｎｍのエキシマレーザー光を照射して、ガラス中
の欠陥のプリカーサーを欠陥に変換するとともに、水素
と欠陥の間に安定な結合を形成させ、水素抜けがなく長
期に耐紫外線性を有する石英ガラス物品とする。上記の
照射工程後に余分な水素を大気中放置又は加熱により抜
く工程を加えると、水素分子による吸収がなく特性の安
定したガラス物品が得られる。特に光ファイバ（単心及
びバンドル）に適用して有利である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は石英ガラス物品及び
その製造方法に関し、特に波長が１６０〜３００ｎｍの
紫外線領域の光を伝送し、初期透過特性に優れ、かつ紫
外線照射による伝送損失の増加を抑えることができる光
ファイバを含む石英ガラス物品及びその製造方法に関す
る。波長１６０〜３００ｎｍの紫外線光は、最近、フォ
トリソグラフィ、レーザー加工、殺菌、消毒等の分野で
の工業的利用価値が高まっており、本発明による紫外線
照射劣化を低減した石英ガラス物品を用いれば非常に有
利である。
その製造方法に関し、特に波長が１６０〜３００ｎｍの
紫外線領域の光を伝送し、初期透過特性に優れ、かつ紫
外線照射による伝送損失の増加を抑えることができる光
ファイバを含む石英ガラス物品及びその製造方法に関す
る。波長１６０〜３００ｎｍの紫外線光は、最近、フォ
トリソグラフィ、レーザー加工、殺菌、消毒等の分野で
の工業的利用価値が高まっており、本発明による紫外線
照射劣化を低減した石英ガラス物品を用いれば非常に有
利である。
【０００２】
【従来の技術】石英ガラス物品は光ファイバ等の光伝送
媒体、各種光学部品等として利用されている。特に光フ
ァイバは低損失、軽量、細径、無誘導といった利点か
ら、通信、画像伝送、エネルギ伝送等各種分野において
近時その使用が増大している。その一つとして紫外光を
伝送して医療や微細加工等の分野に利用することが期待
されているが、紫外線照射環境下ではガラスが劣化して
伝送損失増加が起きる、すなわち紫外線照射劣化という
問題がある。石英ガラスをコアとする石英ガラス光ファ
イバは多成分系ガラス光ファイバに比べると伝送損失増
加が小さいため紫外光用として好適であるが、やはり紫
外線照射劣化の問題は残っている。ところで、２００ｎ
ｍ以下の波長帯では空気中よりも石英ガラス中のほうが
光透過性が良い場合があり得る。この理由は空気中では
紫外線照射により酸素ガスの解離吸収が起きるためであ
る。そこで２００ｎｍ以下の波長域において紫外線照射
劣化を低減させれば石英ガラス中での高い透過性が期待
できる。
媒体、各種光学部品等として利用されている。特に光フ
ァイバは低損失、軽量、細径、無誘導といった利点か
ら、通信、画像伝送、エネルギ伝送等各種分野において
近時その使用が増大している。その一つとして紫外光を
伝送して医療や微細加工等の分野に利用することが期待
されているが、紫外線照射環境下ではガラスが劣化して
伝送損失増加が起きる、すなわち紫外線照射劣化という
問題がある。石英ガラスをコアとする石英ガラス光ファ
イバは多成分系ガラス光ファイバに比べると伝送損失増
加が小さいため紫外光用として好適であるが、やはり紫
外線照射劣化の問題は残っている。ところで、２００ｎ
ｍ以下の波長帯では空気中よりも石英ガラス中のほうが
光透過性が良い場合があり得る。この理由は空気中では
紫外線照射により酸素ガスの解離吸収が起きるためであ
る。そこで２００ｎｍ以下の波長域において紫外線照射
劣化を低減させれば石英ガラス中での高い透過性が期待
できる。
【０００３】この紫外線照射劣化の主因はガラスの結合
欠陥にあると言われている。本発明においてガラスの結
合欠陥とは、ガラスネットワーク構造の一部の結合が完
全に切断された状態、もしくはネットワークの一部に歪
が加わることにより結合距離が大きく引き延びたりして
極めて切断されやすい状態になっていることをいう。図
６に現在報告されている石英ガラスのガラス欠陥のうち
の数例を示す。このうち紫外線領域の光を吸収する代表
的なものとしてＥ′センター（≡Ｓｉ・）、酸素欠損型
欠陥（≡Ｓｉ−Ｓｉ≡）由来のものが挙げられ、これら
により１６３ｎｍ，２１５ｎｍ，２４５ｎｍで紫外線を
吸収する。これらはガラスを合成する際に酸素不足気味
の雰囲気であったり、ＯＨ基濃度の低いガラス程できや
すいと言われている。
欠陥にあると言われている。本発明においてガラスの結
合欠陥とは、ガラスネットワーク構造の一部の結合が完
全に切断された状態、もしくはネットワークの一部に歪
が加わることにより結合距離が大きく引き延びたりして
極めて切断されやすい状態になっていることをいう。図
６に現在報告されている石英ガラスのガラス欠陥のうち
の数例を示す。このうち紫外線領域の光を吸収する代表
的なものとしてＥ′センター（≡Ｓｉ・）、酸素欠損型
欠陥（≡Ｓｉ−Ｓｉ≡）由来のものが挙げられ、これら
により１６３ｎｍ，２１５ｎｍ，２４５ｎｍで紫外線を
吸収する。これらはガラスを合成する際に酸素不足気味
の雰囲気であったり、ＯＨ基濃度の低いガラス程できや
すいと言われている。
【０００４】最近、石英ガラス中に水素分子を添加する
ことにより耐紫外線特性向上を図ることが検討されてい
る。例えばＯＨ基を１００ｐｐｍ以上含有し酸素欠陥が
実質的に存在せず且つ水素ガスを含有させたことにより
耐紫外線性を向上した石英ガラス（特開平３−２３２３
６号公報：文献１）、石英ガラス中の水素濃度を１．５
×１０17分子／ｃｍ3 以上として紫外線照射による劣化
を防止し、同時に塩素濃度を１００ｐｐｍ以下とするこ
とにより紫外線照射時のガラス中の水素消費を低減し、
耐紫外線特性を維持すること（特開平５−３２４３２号
公報：文献２）、１００ｐｐｍ以下のＯＨ基，２００ｐ
ｐｍ以下の塩素及び水素濃度１０16分子／ｃｍ3 以下、
屈折率変動５×１０-6以下、複屈折５ｎｍ／ｃｍとする
ことにより耐紫外線性を向上した石英ガラス（特開平６
−１６４４９号公報：文献３）、石英ガラスであってＯ
Ｈ基含有量が５０ｐｐｍ以下であり、水素を少なくとも
１０18分子／ｃｍ3 含有し、ＫｒＦレーザーを出力３５
０ｍＪ／ｃｍ2 で１０7 パルスで照射して光学的損傷を
受けないもの（特開平８−２９０９３５号公報：文献
４）、弗素添加石英ガラスに水素分子を添加することに
より耐紫外線性を向上した石英ガラス〔米国特許第５６
７９１２５号明細書：文献５〕等が提案されている。
ことにより耐紫外線特性向上を図ることが検討されてい
る。例えばＯＨ基を１００ｐｐｍ以上含有し酸素欠陥が
実質的に存在せず且つ水素ガスを含有させたことにより
耐紫外線性を向上した石英ガラス（特開平３−２３２３
６号公報：文献１）、石英ガラス中の水素濃度を１．５
×１０17分子／ｃｍ3 以上として紫外線照射による劣化
を防止し、同時に塩素濃度を１００ｐｐｍ以下とするこ
とにより紫外線照射時のガラス中の水素消費を低減し、
耐紫外線特性を維持すること（特開平５−３２４３２号
公報：文献２）、１００ｐｐｍ以下のＯＨ基，２００ｐ
ｐｍ以下の塩素及び水素濃度１０16分子／ｃｍ3 以下、
屈折率変動５×１０-6以下、複屈折５ｎｍ／ｃｍとする
ことにより耐紫外線性を向上した石英ガラス（特開平６
−１６４４９号公報：文献３）、石英ガラスであってＯ
Ｈ基含有量が５０ｐｐｍ以下であり、水素を少なくとも
１０18分子／ｃｍ3 含有し、ＫｒＦレーザーを出力３５
０ｍＪ／ｃｍ2 で１０7 パルスで照射して光学的損傷を
受けないもの（特開平８−２９０９３５号公報：文献
４）、弗素添加石英ガラスに水素分子を添加することに
より耐紫外線性を向上した石英ガラス〔米国特許第５６
７９１２５号明細書：文献５〕等が提案されている。
【０００５】またさらに、水素分子含有石英ガラスにγ
線を照射し、照射後の該石英ガラス中の水素濃度を５×
１０16分子／ｃｍ3 以上とすることにより耐紫外線性を
向上する方法〔特開平７−３００３２５号公報：文献
６〕、水素分子を２×１０17〜５×１０19分子／ｃｍ3
含有させたガラスに１５０〜３００ｎｍの紫外光を２０
時間以上照射して耐紫外線特性を向上する方法〔特開平
９−１２４３３７号公報：文献７〕等が提案されてい
る。
線を照射し、照射後の該石英ガラス中の水素濃度を５×
１０16分子／ｃｍ3 以上とすることにより耐紫外線性を
向上する方法〔特開平７−３００３２５号公報：文献
６〕、水素分子を２×１０17〜５×１０19分子／ｃｍ3
含有させたガラスに１５０〜３００ｎｍの紫外光を２０
時間以上照射して耐紫外線特性を向上する方法〔特開平
９−１２４３３７号公報：文献７〕等が提案されてい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】文献１〜７の方法で行
われている水素処理によれば、紫外線照射により生成す
るガラス欠陥は、水素処理によりガラス中に拡散してい
た水素分子と結合するので光吸収の増加が抑制される。
しかし、この抑制効果は水素分子がガラス中に残存して
いる期間に限定される。文献１〜７は主にバルクのガラ
ス部材を対象としているため、ガラス中の水素の拡散の
速さに比べてガラス部材が大きく、部材中に水素分子が
長期間にわたり残留し、耐紫外線性が保たれると考えら
れる。
われている水素処理によれば、紫外線照射により生成す
るガラス欠陥は、水素処理によりガラス中に拡散してい
た水素分子と結合するので光吸収の増加が抑制される。
しかし、この抑制効果は水素分子がガラス中に残存して
いる期間に限定される。文献１〜７は主にバルクのガラ
ス部材を対象としているため、ガラス中の水素の拡散の
速さに比べてガラス部材が大きく、部材中に水素分子が
長期間にわたり残留し、耐紫外線性が保たれると考えら
れる。
【０００７】これに対し、ガラス中の水素の拡散の速さ
に比べて石英ガラス物品のサイズが小さいものでは、石
英ガラス中に導入された水素分子は比較的短期間で石英
ガラス物品中から消失してしまう。例えば、ガラス物品
が光ファイバで、そのファイバ外径が１２５μｍの場合
には８〜９週間、外径２００μｍの場合では約２４週間
で抜ける。図６（ａ）に外径１２５μｍのガラスファイ
バに、２０〜８０℃で水素をドープするときの、ファイ
バ中心の水素濃度変化を計算から求め、初期濃度を０、
飽和濃度を１として示す。また同図（ｂ）にこのファイ
バから水素が抜けていくときの水素濃度変化を同様に計
算で求め（ａ）と同様に示す。ガラスファイバ周辺は大
気であり水素分圧は０とする。図７の（ａ），（ｂ）は
外径２００μｍのガラスファイバについて図６（ａ），
（ｂ）と同様に示したものである。
に比べて石英ガラス物品のサイズが小さいものでは、石
英ガラス中に導入された水素分子は比較的短期間で石英
ガラス物品中から消失してしまう。例えば、ガラス物品
が光ファイバで、そのファイバ外径が１２５μｍの場合
には８〜９週間、外径２００μｍの場合では約２４週間
で抜ける。図６（ａ）に外径１２５μｍのガラスファイ
バに、２０〜８０℃で水素をドープするときの、ファイ
バ中心の水素濃度変化を計算から求め、初期濃度を０、
飽和濃度を１として示す。また同図（ｂ）にこのファイ
バから水素が抜けていくときの水素濃度変化を同様に計
算で求め（ａ）と同様に示す。ガラスファイバ周辺は大
気であり水素分圧は０とする。図７の（ａ），（ｂ）は
外径２００μｍのガラスファイバについて図６（ａ），
（ｂ）と同様に示したものである。
【０００８】上記の水素抜けについては、前記した文献
１〜７の従来技術によったファイバについても同様の結
果が見られた。すなわち、文献１〜７の技術を光ファイ
バに適用した場合には、水素が短期間で外部へ拡散して
しまい、耐紫外線性が持続しないという問題があった。
図６に示したように通常室温に放置された光ファイバ
（クラツド外径１２５μｍ）中の水素分子は徐々に光フ
ァイバ外に放出され、約２ヶ月で一万分の一程度の濃度
に低下し、約３ヶ月でほぼ完全に放出される。つまり、
前記した抑制効果は水素処理後約３ヶ月のみ有効であ
り、長期的には光吸収の増加を抑制することはできな
い。
１〜７の従来技術によったファイバについても同様の結
果が見られた。すなわち、文献１〜７の技術を光ファイ
バに適用した場合には、水素が短期間で外部へ拡散して
しまい、耐紫外線性が持続しないという問題があった。
図６に示したように通常室温に放置された光ファイバ
（クラツド外径１２５μｍ）中の水素分子は徐々に光フ
ァイバ外に放出され、約２ヶ月で一万分の一程度の濃度
に低下し、約３ヶ月でほぼ完全に放出される。つまり、
前記した抑制効果は水素処理後約３ヶ月のみ有効であ
り、長期的には光吸収の増加を抑制することはできな
い。
【０００９】このような現状に鑑み、本発明は紫外光伝
送用の光ファイバまたはバンドルファイバとして用い
て、紫外線初期透過特性に優れるとともに、紫外線照射
環境での長時間使用によっても伝送損失増加のない優れ
た耐紫外線特性を有する石英ガラス物品及びその製造方
法を課題とする。また、波長２００ｎｍ以下の紫外線照
射によっても劣化が少なく、空気中よりも光の透過性の
高い石英物品及びその製造方法を課題とする。さらに、
本発明は光ファイバに適用した場合には、ガラスファイ
バのみならずその被覆についても紫外線による劣化がな
い石英ガラス物品及びその製造方法を課題とする。また
さらに、本発明は製造設備、製造コストの面で十分に実
用的な、紫外線照射劣化特性に優れた石英ガラス物品及
びその製造方法を課題とする。
送用の光ファイバまたはバンドルファイバとして用い
て、紫外線初期透過特性に優れるとともに、紫外線照射
環境での長時間使用によっても伝送損失増加のない優れ
た耐紫外線特性を有する石英ガラス物品及びその製造方
法を課題とする。また、波長２００ｎｍ以下の紫外線照
射によっても劣化が少なく、空気中よりも光の透過性の
高い石英物品及びその製造方法を課題とする。さらに、
本発明は光ファイバに適用した場合には、ガラスファイ
バのみならずその被覆についても紫外線による劣化がな
い石英ガラス物品及びその製造方法を課題とする。また
さらに、本発明は製造設備、製造コストの面で十分に実
用的な、紫外線照射劣化特性に優れた石英ガラス物品及
びその製造方法を課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段として本発明は、(1)出発石英ガラス物品を水素
分子を含む雰囲気中に置き、前記出発石英ガラス物品中
に１×１０16分子／ｃｍ3 以上の水素分子を導入する第
１の工程、前記水素分子を導入された石英ガラス物品を
水素分子を含む雰囲気中から取り出す第２の工程、及び
該石英ガラス物品中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ
3 以上残留している間に、該石英ガラス物品に１パルス
当たり１０ｍＪ以上のエネルギーを持つエキシマレーザ
ー光を１０6 パルス以上照射する第３の工程からなり、
前記出発石英ガラス物品を紫外線領域での光吸収が実質
的に増加しないものとすることを特徴とする石英ガラス
物品の製造方法、(2)前記第１の工程の水素分圧が０．
５〜１０気圧、温度が室温以上であることを特徴とする
前記(1) 記載の石英ガラス物品の製造方法、(3)前記エ
キシマレーザ光が、波長２４８ｎｍ、１パルス当たりの
エネルギー１００ｍＪ以下、パルス数１０7 以下である
ことを特徴とする前記(1) 又は(2) 記載の石英ガラス物
品の製造方法、(4)前記第３の工程の後に当該石英ガラ
ス物品中の残留水素分子量を１×１０16分子／ｃｍ3 未
満とする第４の工程を行なうことを特徴とする前記(1)
ないし(3) のいずれかに記載の石英ガラス物品の製造方
法、(5)前記第４の工程として室温から８０℃の温度で
加熱して当該石英ガラス物品中の残留水素分子量を１×
１０16分子／ｃｍ3 未満とすることを特徴とする前記
(4) 記載の石英ガラス物品の製造方法。(6)前記出発石
英ガラス物品が光ファイバであり、前記第１の工程を水
素分圧が０．５〜１０気圧、温度が室温から光ファイバ
被覆の耐熱上限温度までの温度で行なうことを特徴とす
る前記(1) ないし(5) のいずれかに記載の石英ガラス物
品の製造方法、(7)前記出発石英ガラス物品が光ファイ
バであり、前記第１の工程を水素分圧が０．５〜１０気
圧、８０〜２００℃の温度で行なうことを特徴とする前
記(1) ないし(6) のいずれかに記載の石英ガラス物品の
製造方法、及び(8)前記出発石英ガラス物品が、光ファ
イバの多数本を集束してなるバンドルファイバ、又は集
束する以前のバンドルファイバ用の光ファイバであるこ
とを特徴とする前記(1) ないし(7) のいずれかに記載の
石英ガラス物品の製造方法、に関する。さらに本願発明
は、(9)出発石英ガラス物品が水素分子を含む雰囲気中
に置かれる第１の工程、前記第１の工程より取り出され
る第２の工程、及び当該石英ガラス物品中に水素分子が
１×１０16分子／ｃｍ3 以上残留している間に該石英ガ
ラス物品に１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネルギーを
持つエキシマレーザー光を１０6 パルス以上照射する第
３の工程を経たことにより、紫外線領域での光吸収の増
加が実質的に発生しないようにされたことを特徴とする
石英ガラス物品、(10) 出発石英ガラス物品が水素分子
を含む雰囲気中に置かれる第１の工程、前記第１の工程
より取り出される第２の工程、前記第２の工程ののち当
該石英ガラス物品中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ
3 以上残留している間に該石英ガラス物品に１パルス当
たり１０ｍＪ以上のエネルギーを持つエキシマレーザー
光を１０6 パルス以上照射する第３の工程、及び前記第
３の工程の後に大気放置又は温度８０℃以下の加熱によ
り該石英ガラス物品中の水素分子を１×１０16分子／ｃ
ｍ3 未満とする第４の工程を経たことにより、紫外線領
域での光吸収の増加が実質的に発生しないようにされた
ことを特徴とする石英ガラス物品、(11) コア及び該コ
アより屈折率の低いクラッドを有してなる光ファイバで
あって、水素分子を含む雰囲気中に置かれる第１の工
程、前記第１の工程より取り出される第２の工程、及び
当該光ファイバ中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3
以上残留している間に該光ファイバに１パルス当たり１
０ｍＪ以上のエネルギーを持つエキシマレーザー光を１
０6 パルス以上照射する第３の工程を経たことにより、
当該光ファイバの長さ１ｍについて波長２４８ｎｍのエ
キシマレーザー光を出力１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１
０8 パルス照射した後の紫外線透過率が、初期紫外線透
過率の９０％以上であることを特徴とする光ファイバ。
(12) コア及び該コアより屈折率の低いクラッドを有し
てなる光ファイバであって、水素分子を含む雰囲気中に
置かれる第１の工程、前記第１の工程より取り出される
第２の工程、当該光ファイバ中に水素分子が１×１０16
分子／ｃｍ3 以上残留している間に該光ファイバに波長
２４８ｎｍ以下で１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネル
ギーを持つエキシマレーザー光を１０6 パルス以上照射
する第３の工程、及び前記第３の工程の後に大気放置又
は８０℃以下の加熱により該石英ガラス物品中の水素分
子を１×１０16分子／ｃｍ3 未満とする第４の工程を経
たことにより、当該光ファイバの長さ１ｍについて波長
２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を出力１０ｍＪ
／ｃｍ2 ／パルスで１０8 パルス照射した後の紫外線透
過率が、初期紫外線透過率の９０％以上であることを特
徴とする光ファイバ、(13) 前記光ファイバは、高純度
石英ガラスからなるコア中にフッ素を含むことを特徴と
する前記(11)又は(12)に記載の光ファイバ、(14) 前記
光ファイバは、コア中にＣｌを１ｐｐｍ以上は含まない
ものであることを特徴とする前記(11)ないし(13)のいず
れかに記載の光ファイバ、及び(15) 前記光ファイバが
多数本のガラスファイバを集束してなるバンドルファイ
バであることを特徴とする前記(11)ないし(14)のいずれ
かに記載の光ファイバ、に関するものである。
の手段として本発明は、(1)出発石英ガラス物品を水素
分子を含む雰囲気中に置き、前記出発石英ガラス物品中
に１×１０16分子／ｃｍ3 以上の水素分子を導入する第
１の工程、前記水素分子を導入された石英ガラス物品を
水素分子を含む雰囲気中から取り出す第２の工程、及び
該石英ガラス物品中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ
3 以上残留している間に、該石英ガラス物品に１パルス
当たり１０ｍＪ以上のエネルギーを持つエキシマレーザ
ー光を１０6 パルス以上照射する第３の工程からなり、
前記出発石英ガラス物品を紫外線領域での光吸収が実質
的に増加しないものとすることを特徴とする石英ガラス
物品の製造方法、(2)前記第１の工程の水素分圧が０．
５〜１０気圧、温度が室温以上であることを特徴とする
前記(1) 記載の石英ガラス物品の製造方法、(3)前記エ
キシマレーザ光が、波長２４８ｎｍ、１パルス当たりの
エネルギー１００ｍＪ以下、パルス数１０7 以下である
ことを特徴とする前記(1) 又は(2) 記載の石英ガラス物
品の製造方法、(4)前記第３の工程の後に当該石英ガラ
ス物品中の残留水素分子量を１×１０16分子／ｃｍ3 未
満とする第４の工程を行なうことを特徴とする前記(1)
ないし(3) のいずれかに記載の石英ガラス物品の製造方
法、(5)前記第４の工程として室温から８０℃の温度で
加熱して当該石英ガラス物品中の残留水素分子量を１×
１０16分子／ｃｍ3 未満とすることを特徴とする前記
(4) 記載の石英ガラス物品の製造方法。(6)前記出発石
英ガラス物品が光ファイバであり、前記第１の工程を水
素分圧が０．５〜１０気圧、温度が室温から光ファイバ
被覆の耐熱上限温度までの温度で行なうことを特徴とす
る前記(1) ないし(5) のいずれかに記載の石英ガラス物
品の製造方法、(7)前記出発石英ガラス物品が光ファイ
バであり、前記第１の工程を水素分圧が０．５〜１０気
圧、８０〜２００℃の温度で行なうことを特徴とする前
記(1) ないし(6) のいずれかに記載の石英ガラス物品の
製造方法、及び(8)前記出発石英ガラス物品が、光ファ
イバの多数本を集束してなるバンドルファイバ、又は集
束する以前のバンドルファイバ用の光ファイバであるこ
とを特徴とする前記(1) ないし(7) のいずれかに記載の
石英ガラス物品の製造方法、に関する。さらに本願発明
は、(9)出発石英ガラス物品が水素分子を含む雰囲気中
に置かれる第１の工程、前記第１の工程より取り出され
る第２の工程、及び当該石英ガラス物品中に水素分子が
１×１０16分子／ｃｍ3 以上残留している間に該石英ガ
ラス物品に１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネルギーを
持つエキシマレーザー光を１０6 パルス以上照射する第
３の工程を経たことにより、紫外線領域での光吸収の増
加が実質的に発生しないようにされたことを特徴とする
石英ガラス物品、(10) 出発石英ガラス物品が水素分子
を含む雰囲気中に置かれる第１の工程、前記第１の工程
より取り出される第２の工程、前記第２の工程ののち当
該石英ガラス物品中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ
3 以上残留している間に該石英ガラス物品に１パルス当
たり１０ｍＪ以上のエネルギーを持つエキシマレーザー
光を１０6 パルス以上照射する第３の工程、及び前記第
３の工程の後に大気放置又は温度８０℃以下の加熱によ
り該石英ガラス物品中の水素分子を１×１０16分子／ｃ
ｍ3 未満とする第４の工程を経たことにより、紫外線領
域での光吸収の増加が実質的に発生しないようにされた
ことを特徴とする石英ガラス物品、(11) コア及び該コ
アより屈折率の低いクラッドを有してなる光ファイバで
あって、水素分子を含む雰囲気中に置かれる第１の工
程、前記第１の工程より取り出される第２の工程、及び
当該光ファイバ中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3
以上残留している間に該光ファイバに１パルス当たり１
０ｍＪ以上のエネルギーを持つエキシマレーザー光を１
０6 パルス以上照射する第３の工程を経たことにより、
当該光ファイバの長さ１ｍについて波長２４８ｎｍのエ
キシマレーザー光を出力１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１
０8 パルス照射した後の紫外線透過率が、初期紫外線透
過率の９０％以上であることを特徴とする光ファイバ。
(12) コア及び該コアより屈折率の低いクラッドを有し
てなる光ファイバであって、水素分子を含む雰囲気中に
置かれる第１の工程、前記第１の工程より取り出される
第２の工程、当該光ファイバ中に水素分子が１×１０16
分子／ｃｍ3 以上残留している間に該光ファイバに波長
２４８ｎｍ以下で１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネル
ギーを持つエキシマレーザー光を１０6 パルス以上照射
する第３の工程、及び前記第３の工程の後に大気放置又
は８０℃以下の加熱により該石英ガラス物品中の水素分
子を１×１０16分子／ｃｍ3 未満とする第４の工程を経
たことにより、当該光ファイバの長さ１ｍについて波長
２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を出力１０ｍＪ
／ｃｍ2 ／パルスで１０8 パルス照射した後の紫外線透
過率が、初期紫外線透過率の９０％以上であることを特
徴とする光ファイバ、(13) 前記光ファイバは、高純度
石英ガラスからなるコア中にフッ素を含むことを特徴と
する前記(11)又は(12)に記載の光ファイバ、(14) 前記
光ファイバは、コア中にＣｌを１ｐｐｍ以上は含まない
ものであることを特徴とする前記(11)ないし(13)のいず
れかに記載の光ファイバ、及び(15) 前記光ファイバが
多数本のガラスファイバを集束してなるバンドルファイ
バであることを特徴とする前記(11)ないし(14)のいずれ
かに記載の光ファイバ、に関するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明は、まず出発の石英ガラス
物品（以下、石英ガラス物品を「ガラス」と略記する場
合もある）を水素を含む雰囲気中に置いて、該ガラス中
に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3 以上存在するよう
に水素処理する（第１の工程）。水素雰囲気から取り出
し（第２の工程）た後、該ガラス中に水素分子が１×１
０16分子／ｃｍ3 以上残留している間に、該石英ガラス
物品に特定エネルギー量のエキシマレーザー光を照射す
る第３の工程を付す。これにより、この後の紫外線照射
環境下ではもはや劣化しない石英ガラス物品とすること
ができる。さらに、前記第３の工程を経た本発明の石英
ガラス物品について、ガラス中の水素分子を抜くために
加熱するという第４の工程に付すことも本発明の範囲に
含まれる。
物品（以下、石英ガラス物品を「ガラス」と略記する場
合もある）を水素を含む雰囲気中に置いて、該ガラス中
に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3 以上存在するよう
に水素処理する（第１の工程）。水素雰囲気から取り出
し（第２の工程）た後、該ガラス中に水素分子が１×１
０16分子／ｃｍ3 以上残留している間に、該石英ガラス
物品に特定エネルギー量のエキシマレーザー光を照射す
る第３の工程を付す。これにより、この後の紫外線照射
環境下ではもはや劣化しない石英ガラス物品とすること
ができる。さらに、前記第３の工程を経た本発明の石英
ガラス物品について、ガラス中の水素分子を抜くために
加熱するという第４の工程に付すことも本発明の範囲に
含まれる。
【００１２】本発明によれば、第１工程によりガラスと
水素の間には緩やかな結合が形成される。この結合によ
り、余剰な水素が抜けてしまった後も石英ガラス物品の
耐紫外線特性はある程度維持される。しかしながら、第
１工程の後長期間放置されると比較的緩やかな結合を形
成する水素もやがては脱離し、耐紫外線特性は低下す
る。そこで、第１工程の水素処理の後、ガラス中に水素
分子が１×１０16／ｃｍ 3 以上存在している間に、好適
なエネルギー量のエキシマレーザー光を照射することに
より、この水素の抜けを防止し、その後の紫外線照射環
境における劣化のないガラス物品を得ることができる。
水素の間には緩やかな結合が形成される。この結合によ
り、余剰な水素が抜けてしまった後も石英ガラス物品の
耐紫外線特性はある程度維持される。しかしながら、第
１工程の後長期間放置されると比較的緩やかな結合を形
成する水素もやがては脱離し、耐紫外線特性は低下す
る。そこで、第１工程の水素処理の後、ガラス中に水素
分子が１×１０16／ｃｍ 3 以上存在している間に、好適
なエネルギー量のエキシマレーザー光を照射することに
より、この水素の抜けを防止し、その後の紫外線照射環
境における劣化のないガラス物品を得ることができる。
【００１３】本発明の方法を具体的に説明する。まず、
本発明において紫外線、紫外線領域とは波長１６０ｎｍ
〜３００ｎｍの電磁波とこの波長領域をいう。本発明の
方法が対象とする出発の石英ガラス物品（出発石英ガラ
ス物品）とは、石英ガラス製の光ファイバ、レンズ、ビ
ームスプリッタ等、紫外線を工業的に利用する際に必要
となる光学部品等の石英ガラス製品全般をいう。出発の
石英ガラス物品の石英ガラス材料自体の製法については
特に限定されるところはない。また、本発明者らが特願
平１０−８６７０９号明細書で提案しているような、石
英ガラス物品に予め紫外線を照射してガラス中の欠陥プ
リカーサーを欠陥に変換する処理も不要である。具体的
な材料としては、石英（ＳｉＯ2 ）を主成分とし、特に
紫外線が透過する領域はフッ素（Ｆ）を１重量％程度含
むと良い。また、光ファイバ等のコアにはＣｌは１ｐｐ
ｍ以上は含まない（Ｃｌが０ｐｐｍの場合も含む）こと
が特に好ましい。一方、光ファイバのクラッドのように
紫外線が透過しない領域の材料は前述の限りではない。
本発明にいう光ファイバの屈折率分布構造については特
に限定されるところはなく、モノコア、マルチコア、シ
ングルモード、マルチモードのいずれでもよく、さらに
は光ファイバの多数本を集束してなるバンドルファイバ
も包含する。バンドルファイバについては、個々の光フ
ァイバの段階で本発明の方法を適用した後に集束しても
よいし、また多数本の光ファイバを集束してバンドルフ
ァイバとした後に本発明の方法を適用してもよい。
本発明において紫外線、紫外線領域とは波長１６０ｎｍ
〜３００ｎｍの電磁波とこの波長領域をいう。本発明の
方法が対象とする出発の石英ガラス物品（出発石英ガラ
ス物品）とは、石英ガラス製の光ファイバ、レンズ、ビ
ームスプリッタ等、紫外線を工業的に利用する際に必要
となる光学部品等の石英ガラス製品全般をいう。出発の
石英ガラス物品の石英ガラス材料自体の製法については
特に限定されるところはない。また、本発明者らが特願
平１０−８６７０９号明細書で提案しているような、石
英ガラス物品に予め紫外線を照射してガラス中の欠陥プ
リカーサーを欠陥に変換する処理も不要である。具体的
な材料としては、石英（ＳｉＯ2 ）を主成分とし、特に
紫外線が透過する領域はフッ素（Ｆ）を１重量％程度含
むと良い。また、光ファイバ等のコアにはＣｌは１ｐｐ
ｍ以上は含まない（Ｃｌが０ｐｐｍの場合も含む）こと
が特に好ましい。一方、光ファイバのクラッドのように
紫外線が透過しない領域の材料は前述の限りではない。
本発明にいう光ファイバの屈折率分布構造については特
に限定されるところはなく、モノコア、マルチコア、シ
ングルモード、マルチモードのいずれでもよく、さらに
は光ファイバの多数本を集束してなるバンドルファイバ
も包含する。バンドルファイバについては、個々の光フ
ァイバの段階で本発明の方法を適用した後に集束しても
よいし、また多数本の光ファイバを集束してバンドルフ
ァイバとした後に本発明の方法を適用してもよい。
【００１４】まず第１の工程では、出発の石英ガラス物
品を水素分子を含む雰囲気中に保持してガラス中に水素
分子を添加する水素処理を行う。本発明の「水素分子を
含む雰囲気」とは、水素ガスの分圧が０．１気圧〜１０
気圧程度、好ましくは０．５〜１０気圧の、純粋な水素
ガス又は水素ガスと窒素ガス及び／又は不活性ガスの混
合雰囲気をいう。気圧範囲の限定の根拠は、０．５〜１
０気圧範囲では、水素のガラス中での拡散速度としてほ
ぼ同等の効果が得られること、またこの程度のガス圧が
実生産の上で用いやすく、１０気圧を超えると高圧ガス
の取扱いになり法的規制が厳しくなり、経済的でないか
らである。また０．１気圧程度でも効果として差異はな
いがかえって取扱い易くないという現実的な理由によ
る。なお、水素ガスとして重水素ガスを用いても同様の
効果を得ることができる。水素処理時の温度は特に限定
されるところはないが、例えば石英ガラス物品がガラス
ファイバの場合、１気圧の水素ではファイバ中心に到達
するのに、室温で７日程度、８０℃では１日、２００℃
で２時間程度であるので、室温以上でよい。被覆光ファ
イバの場合にはファイバ被覆の耐熱性により実質的に上
限温度が決定され、好ましくは８０〜２００℃程度であ
る。なお、８０℃は紫外線硬化型アクリレート樹脂の耐
熱上限温度に近く、２００℃はシリコン樹脂の耐熱上限
温度である。処理時間は、処理温度により異なるが、８
０℃以上であれば概ね２〜３日以内でファイバ中に水素
が拡散し、処理が終了する。
品を水素分子を含む雰囲気中に保持してガラス中に水素
分子を添加する水素処理を行う。本発明の「水素分子を
含む雰囲気」とは、水素ガスの分圧が０．１気圧〜１０
気圧程度、好ましくは０．５〜１０気圧の、純粋な水素
ガス又は水素ガスと窒素ガス及び／又は不活性ガスの混
合雰囲気をいう。気圧範囲の限定の根拠は、０．５〜１
０気圧範囲では、水素のガラス中での拡散速度としてほ
ぼ同等の効果が得られること、またこの程度のガス圧が
実生産の上で用いやすく、１０気圧を超えると高圧ガス
の取扱いになり法的規制が厳しくなり、経済的でないか
らである。また０．１気圧程度でも効果として差異はな
いがかえって取扱い易くないという現実的な理由によ
る。なお、水素ガスとして重水素ガスを用いても同様の
効果を得ることができる。水素処理時の温度は特に限定
されるところはないが、例えば石英ガラス物品がガラス
ファイバの場合、１気圧の水素ではファイバ中心に到達
するのに、室温で７日程度、８０℃では１日、２００℃
で２時間程度であるので、室温以上でよい。被覆光ファ
イバの場合にはファイバ被覆の耐熱性により実質的に上
限温度が決定され、好ましくは８０〜２００℃程度であ
る。なお、８０℃は紫外線硬化型アクリレート樹脂の耐
熱上限温度に近く、２００℃はシリコン樹脂の耐熱上限
温度である。処理時間は、処理温度により異なるが、８
０℃以上であれば概ね２〜３日以内でファイバ中に水素
が拡散し、処理が終了する。
【００１５】第１の工程が終了した後、石英ガラス物品
を水素分子を含む雰囲気から取り出し（第２の工程）、
ガラス中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3 以上残留
している間に第３の工程のエキシマレーザー照射を行な
う。第３の工程に付す際の、より好ましい残留水素分子
濃度としては１×１０16〜１０20分子／ｃｍ3 、とりわ
け好ましくは１×１０18〜１０20分子／ｃｍ3 が挙げら
れる。第３の工程におけるエキシマレーザー光として
は、１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネルギーを持つエ
キシマレーザー光を１０6 パルス以上照射する。本工程
に好適なエキシマレーザー光としてはＫｒＦ又はＡｒＦ
エキシマレーザー光が挙げられ、特に好ましくは波長２
４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光が挙げられる。さ
らに具体的には例えばＫｒＦで照射エネルギー１〜２０
０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１０6 〜１０7 パルス（時間
にすると２〜３時間程度）、ＡｒＦでは照射エネルギー
１〜２００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１０4 〜１０7 パル
スといった条件が挙げられる。 パルス周波数について
は例えば５０〜１０００Ｈｚ程度が挙げられるが、これ
に限定されるものではなく選択し得る範囲で実用的な値
を選べばよい。
を水素分子を含む雰囲気から取り出し（第２の工程）、
ガラス中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3 以上残留
している間に第３の工程のエキシマレーザー照射を行な
う。第３の工程に付す際の、より好ましい残留水素分子
濃度としては１×１０16〜１０20分子／ｃｍ3 、とりわ
け好ましくは１×１０18〜１０20分子／ｃｍ3 が挙げら
れる。第３の工程におけるエキシマレーザー光として
は、１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネルギーを持つエ
キシマレーザー光を１０6 パルス以上照射する。本工程
に好適なエキシマレーザー光としてはＫｒＦ又はＡｒＦ
エキシマレーザー光が挙げられ、特に好ましくは波長２
４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光が挙げられる。さ
らに具体的には例えばＫｒＦで照射エネルギー１〜２０
０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１０6 〜１０7 パルス（時間
にすると２〜３時間程度）、ＡｒＦでは照射エネルギー
１〜２００ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１０4 〜１０7 パル
スといった条件が挙げられる。 パルス周波数について
は例えば５０〜１０００Ｈｚ程度が挙げられるが、これ
に限定されるものではなく選択し得る範囲で実用的な値
を選べばよい。
【００１６】該第３の工程のメカニズムの詳細は不明で
あるが、１×１０6 分子／ｃｍ3 以上の水素の存在下で
エキシマレーザー光を照射することにより、ガラス中の
欠陥のプリカーサーを強制的に欠陥に変換し、更に水素
と該欠陥とのより安定な結合を形させる、すなわち水素
が固定化された状態となり、水素の抜けを防止できる、
と本発明者らは考察している。特に、水素処理に先立ち
ガラスに電磁波を照射してプリカーサーを欠陥に変換す
るという前処理なしでも、好適なエネルギー条件のエキ
シマレーザーを照射することで、前記前処理した場合と
同等の効果が得られるので、生産性が向上できる。２〜
３時間程度という短時間のエキシマレーザー光照射で水
素を固定化できた点については、エキシマレーザー光の
場合には瞬間的に強いパルスをファイバの端面に集中し
て照射できるので、エネルギーを無駄なく利用して水素
を固定できたものと考察している。該第３工程の水素固
定化は、サイズの小さい石英ガラス物品、特に光ファイ
バ等に適用した場合とりわけ有利である。
あるが、１×１０6 分子／ｃｍ3 以上の水素の存在下で
エキシマレーザー光を照射することにより、ガラス中の
欠陥のプリカーサーを強制的に欠陥に変換し、更に水素
と該欠陥とのより安定な結合を形させる、すなわち水素
が固定化された状態となり、水素の抜けを防止できる、
と本発明者らは考察している。特に、水素処理に先立ち
ガラスに電磁波を照射してプリカーサーを欠陥に変換す
るという前処理なしでも、好適なエネルギー条件のエキ
シマレーザーを照射することで、前記前処理した場合と
同等の効果が得られるので、生産性が向上できる。２〜
３時間程度という短時間のエキシマレーザー光照射で水
素を固定化できた点については、エキシマレーザー光の
場合には瞬間的に強いパルスをファイバの端面に集中し
て照射できるので、エネルギーを無駄なく利用して水素
を固定できたものと考察している。該第３工程の水素固
定化は、サイズの小さい石英ガラス物品、特に光ファイ
バ等に適用した場合とりわけ有利である。
【００１７】以上の本発明の第３工程を経た石英ガラス
物品は、例えば長さ１ｍの光ファイバの場合では、波長
２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーを出力１０ｍＪ／
ｃｍ 2 で１０8 パルス照射したときに、波長２４８ｎｍ
の紫外線領域において、前記照射前の紫外線透過率と照
射後の紫外線透過率の差が１０％以内である（即ち、紫
外線照射による紫外線領域での光吸収増加が実質的に発
生しない）ことを特徴とするものである。
物品は、例えば長さ１ｍの光ファイバの場合では、波長
２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーを出力１０ｍＪ／
ｃｍ 2 で１０8 パルス照射したときに、波長２４８ｎｍ
の紫外線領域において、前記照射前の紫外線透過率と照
射後の紫外線透過率の差が１０％以内である（即ち、紫
外線照射による紫外線領域での光吸収増加が実質的に発
生しない）ことを特徴とするものである。
【００１８】本発明における、「紫外線照射による紫外
線領域での光吸収の増加が実質的に発生しないこと」を
より具体的に説明すると、紫外線照射による透過率劣
化、すなわち初期の紫外線透過率（初期透過率）が
Ｔ0 、紫外線（１６０〜３００ｎｍ）照射後の紫外線透
過率がＴ1 のとき、Ｔ0 を１００％とする照射後の相対
透過率ＴR を〔ＴR ＝Ｔ1 ／Ｔ0 ×１００（％）〕とす
ると、１−ＴR ≦１０％すなわち〔（Ｔ0 −Ｔ1 ）／Ｔ
0 〕≦１０％であること、言い換えれば照射後の紫外線
透過率が初期透過率の９０％以上であることを意味す
る。
線領域での光吸収の増加が実質的に発生しないこと」を
より具体的に説明すると、紫外線照射による透過率劣
化、すなわち初期の紫外線透過率（初期透過率）が
Ｔ0 、紫外線（１６０〜３００ｎｍ）照射後の紫外線透
過率がＴ1 のとき、Ｔ0 を１００％とする照射後の相対
透過率ＴR を〔ＴR ＝Ｔ1 ／Ｔ0 ×１００（％）〕とす
ると、１−ＴR ≦１０％すなわち〔（Ｔ0 −Ｔ1 ）／Ｔ
0 〕≦１０％であること、言い換えれば照射後の紫外線
透過率が初期透過率の９０％以上であることを意味す
る。
【００１９】第３工程におけるエキシマレーザー光照射
で水素を固定した後、ガラス中にまだ水素分子が固定さ
れずに含有されている場合がある。このような水素分子
の存在は、短波長域での使用には何ら差し支えないが、
水素分子の吸収の起きる長波長域では好ましくない。す
なわち、水素分子（Ｈ2 ）は１．２４μｍに吸収を持
ち、その強度は１×１０18分子／ｃｍ3 で３．４ｄＢ／
ｋｍ，１×１０16分子／ｃｍ3 で０．０３ｄＢ／ｋｍと
なるからである。ガラス中に固定されていない水素分子
をガラス中から抜くためには、第４の工程として加熱処
理を行えばよい。加熱条件は例えば室温〜８０℃の範囲
で加熱し、第４工程の後の石英ガラス物品中に残留する
水素分子濃度を１×１０16分子／ｃｍ3 以下とすること
が好ましい。また、大気中に放置しておくだけでも水素
分子は抜けてゆく。第４工程に付すことにより、経時的
な屈折率変化を防止し、常に一定の輝度が得られる。ま
た、水素分子そのものによる光の吸収が無くなるので、
伝送光として近赤外域の光を使用することも可能にな
る。
で水素を固定した後、ガラス中にまだ水素分子が固定さ
れずに含有されている場合がある。このような水素分子
の存在は、短波長域での使用には何ら差し支えないが、
水素分子の吸収の起きる長波長域では好ましくない。す
なわち、水素分子（Ｈ2 ）は１．２４μｍに吸収を持
ち、その強度は１×１０18分子／ｃｍ3 で３．４ｄＢ／
ｋｍ，１×１０16分子／ｃｍ3 で０．０３ｄＢ／ｋｍと
なるからである。ガラス中に固定されていない水素分子
をガラス中から抜くためには、第４の工程として加熱処
理を行えばよい。加熱条件は例えば室温〜８０℃の範囲
で加熱し、第４工程の後の石英ガラス物品中に残留する
水素分子濃度を１×１０16分子／ｃｍ3 以下とすること
が好ましい。また、大気中に放置しておくだけでも水素
分子は抜けてゆく。第４工程に付すことにより、経時的
な屈折率変化を防止し、常に一定の輝度が得られる。ま
た、水素分子そのものによる光の吸収が無くなるので、
伝送光として近赤外域の光を使用することも可能にな
る。
【００２０】なお、ガラス中の水素濃度の測定は、Zurn
al Pril;adnoi Spektroskopii Vol.46 No.6 pp987-991
June 1987 〔文献８〕に記載の、ラマン分析によりＳｉ
Ｏ2の波長８００ｃｍ-1のラマンバンドの強度と合成石
英ガラス中の水素分子に関する４１３５ｃｍ-1の強度比
から算出する式から求めることができる。
al Pril;adnoi Spektroskopii Vol.46 No.6 pp987-991
June 1987 〔文献８〕に記載の、ラマン分析によりＳｉ
Ｏ2の波長８００ｃｍ-1のラマンバンドの強度と合成石
英ガラス中の水素分子に関する４１３５ｃｍ-1の強度比
から算出する式から求めることができる。
【００２１】以上の本発明の第４工程を経た石英ガラス
物品は、例えば長さ１ｍの光ファイバの場合では、波長
２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーを出力１０ｍＪ／
ｃｍ 2 、パルス周波数１００Ｈｚの条件で１０8 パルス
照射したときに、波長２４８ｎｍの紫外線領域におい
て、前記照射前の紫外線透過率と照射後の紫外線透過率
の差が１０％以内であることを特徴とするものである。
物品は、例えば長さ１ｍの光ファイバの場合では、波長
２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザーを出力１０ｍＪ／
ｃｍ 2 、パルス周波数１００Ｈｚの条件で１０8 パルス
照射したときに、波長２４８ｎｍの紫外線領域におい
て、前記照射前の紫外線透過率と照射後の紫外線透過率
の差が１０％以内であることを特徴とするものである。
【００２２】なお、本発明の石英ガラス物品が光ファイ
バの場合、その１次被覆には熱硬化性シリコン又は紫外
線硬化性ウレタンアクリレートが用いられ、２次被覆に
はナイロンが使用されることが多い。
バの場合、その１次被覆には熱硬化性シリコン又は紫外
線硬化性ウレタンアクリレートが用いられ、２次被覆に
はナイロンが使用されることが多い。
【００２３】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例】本発明の効果を確認するために、以下の各実
施例及び比較例を行った。得られた光ファイバを評価す
るために行った耐紫外線テストの照射条件は、光ファイ
バの両端より波長２４８ｎｍ、１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パル
スのＫｒＦエキシマレーザー光を１０8 パルス照射、で
ある。 〔実施例１〕図２に示すように、Ｃｌ含有量が１ｐｐｍ
未満でありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラス
からなるコア１と、Ｆを３重量％含有する石英ガラスか
らなるクラッド２を有する単心光ファイバで長さ１００
０ｍのものを、８０℃、１０気圧の水素雰囲気中に１週
間曝した（第１工程）後、水素雰囲気中から取り出し
（第２工程）、１ｍに分割し、図１に示すようにその両
端から波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を照
射した（第３工程）。照射時のファイバ中の水素分子濃
度は７×１０19分子／ｃｍ3 、照射条件は１０ｍＪ／ｃ
ｍ2 ／パルスのＫｒＦ光を１０7 パルス照射である。以
上で得られた本発明の光ファイバ１ｍについて、耐紫外
線テストとして前記条件でＫｒＦエキシマレーザー光を
１０8 パルス照射した。照射後の波長２４８ｎｍにおけ
る透過率は初期〔本発明の最終工程終了直後で耐紫外線
テスト照射の前の透過率〕の約９６％に低下したにすぎ
ず、充分な耐紫外線特性を有していた。
施例及び比較例を行った。得られた光ファイバを評価す
るために行った耐紫外線テストの照射条件は、光ファイ
バの両端より波長２４８ｎｍ、１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パル
スのＫｒＦエキシマレーザー光を１０8 パルス照射、で
ある。 〔実施例１〕図２に示すように、Ｃｌ含有量が１ｐｐｍ
未満でありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラス
からなるコア１と、Ｆを３重量％含有する石英ガラスか
らなるクラッド２を有する単心光ファイバで長さ１００
０ｍのものを、８０℃、１０気圧の水素雰囲気中に１週
間曝した（第１工程）後、水素雰囲気中から取り出し
（第２工程）、１ｍに分割し、図１に示すようにその両
端から波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を照
射した（第３工程）。照射時のファイバ中の水素分子濃
度は７×１０19分子／ｃｍ3 、照射条件は１０ｍＪ／ｃ
ｍ2 ／パルスのＫｒＦ光を１０7 パルス照射である。以
上で得られた本発明の光ファイバ１ｍについて、耐紫外
線テストとして前記条件でＫｒＦエキシマレーザー光を
１０8 パルス照射した。照射後の波長２４８ｎｍにおけ
る透過率は初期〔本発明の最終工程終了直後で耐紫外線
テスト照射の前の透過率〕の約９６％に低下したにすぎ
ず、充分な耐紫外線特性を有していた。
【００２４】〔実施例２〕Ｃｌ含有量が１ｐｐｍ未満で
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、フッ素（Ｆ）を３重量％含有する石英ガラスクラッ
ドからなる単心光ファイバで長さ１ｍのものを、８０
℃、１０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰
囲気中から取り出し、図１に示すようにその両端から波
長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を照射した。
照射時のファイバ中の水素分子濃度は１×１０19分子／
ｃｍ3 、照射条件は１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスのＫｒＦ
光を１０ 7 パルス照射である。得られた光ファイバを４
０℃の大気雰囲気中に３週間曝して水素抜きを行った結
果、光ファイバ中の水素分子濃度は１×１０16未満とな
った。以上で得られた本発明の光ファイバ（１ｍ）を実
施例１と同様に耐紫外線テスト照射した結果、照射後の
波長２４８ｎｍにおける透過率は初期〔本発明の最終工
程終了直後で耐紫外線テスト照射の前の透過率〕の約９
３％に低下したにすぎず、充分な耐紫外線特性を有して
いた。また、この水素抜き処理を加えた結果、屈折率の
経時変化のない光ファイバとなった。
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、フッ素（Ｆ）を３重量％含有する石英ガラスクラッ
ドからなる単心光ファイバで長さ１ｍのものを、８０
℃、１０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰
囲気中から取り出し、図１に示すようにその両端から波
長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を照射した。
照射時のファイバ中の水素分子濃度は１×１０19分子／
ｃｍ3 、照射条件は１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスのＫｒＦ
光を１０ 7 パルス照射である。得られた光ファイバを４
０℃の大気雰囲気中に３週間曝して水素抜きを行った結
果、光ファイバ中の水素分子濃度は１×１０16未満とな
った。以上で得られた本発明の光ファイバ（１ｍ）を実
施例１と同様に耐紫外線テスト照射した結果、照射後の
波長２４８ｎｍにおける透過率は初期〔本発明の最終工
程終了直後で耐紫外線テスト照射の前の透過率〕の約９
３％に低下したにすぎず、充分な耐紫外線特性を有して
いた。また、この水素抜き処理を加えた結果、屈折率の
経時変化のない光ファイバとなった。
【００２５】〔実施例３〕実施例２と同様の単心光ファ
イバを、図３に示すように束ねたバンドルファイバ（長
さ１ｍ）について、実施例２と同様に、本発明の第１〜
第４工程の処理をして本発明のバンドルファイバとし、
該バンドルファイバ（１ｍ）について同様に耐紫外線テ
スト照射により評価したところ、波長２４８ｎｍでの紫
外線透過率の低下は初期の約９６％と同じ好結果が得ら
れた。
イバを、図３に示すように束ねたバンドルファイバ（長
さ１ｍ）について、実施例２と同様に、本発明の第１〜
第４工程の処理をして本発明のバンドルファイバとし、
該バンドルファイバ（１ｍ）について同様に耐紫外線テ
スト照射により評価したところ、波長２４８ｎｍでの紫
外線透過率の低下は初期の約９６％と同じ好結果が得ら
れた。
【００２６】〔実施例４〕実施例１において、第３工程
におけるＫｒＦエキシマレーザー光照射を光ファイバの
片側のみからとした以外は、すべて実施例１と同様に処
理して本発明の光ファイバを得た。得られた光ファイバ
（１ｍ）について実施例１と同様に耐紫外線テスト照射
により評価したところ、波長２４８ｎｍでの紫外線透過
率の低下は初期の約９３％と、実施例１と同様の好結果
が得られた。
におけるＫｒＦエキシマレーザー光照射を光ファイバの
片側のみからとした以外は、すべて実施例１と同様に処
理して本発明の光ファイバを得た。得られた光ファイバ
（１ｍ）について実施例１と同様に耐紫外線テスト照射
により評価したところ、波長２４８ｎｍでの紫外線透過
率の低下は初期の約９３％と、実施例１と同様の好結果
が得られた。
【００２７】〔比較例１〕Ｃｌ含有量が１ｐｐｍ未満で
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、Ｆを３重量％含有する石英ガラスクラッドからなる
単心光ファイバで長さ１０００ｍのものを、８０℃、１
０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰囲気中
から取り出し、１ｍに分割し、図４に示すようにその両
端から重水素ランプで２４時間照射した。照射時のファ
イバ中の水素分子濃度は７×１０19分子／ｃｍ3 、照射
条件はランプ出力１５０Ｗ、ランプと光ファイバとの距
離１５ｃｍで光ファイバの両端より照射、である。以上
で得られた光ファイバ（比較品）１ｍについて、実施例
１と同様に耐紫外線テスト照射した結果、照射後の波長
２４８ｎｍにおける透過率は初期〔最終工程終了直後で
耐紫外線テスト照射の前の透過率〕の約３０％と大幅に
低下してしまった。
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、Ｆを３重量％含有する石英ガラスクラッドからなる
単心光ファイバで長さ１０００ｍのものを、８０℃、１
０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰囲気中
から取り出し、１ｍに分割し、図４に示すようにその両
端から重水素ランプで２４時間照射した。照射時のファ
イバ中の水素分子濃度は７×１０19分子／ｃｍ3 、照射
条件はランプ出力１５０Ｗ、ランプと光ファイバとの距
離１５ｃｍで光ファイバの両端より照射、である。以上
で得られた光ファイバ（比較品）１ｍについて、実施例
１と同様に耐紫外線テスト照射した結果、照射後の波長
２４８ｎｍにおける透過率は初期〔最終工程終了直後で
耐紫外線テスト照射の前の透過率〕の約３０％と大幅に
低下してしまった。
【００２８】〔比較例２〕Ｃｌ含有量が１ｐｐｍ未満で
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、Ｆを３重量％含有する石英ガラスクラッドからなる
単心光ファイバで長さ１０００ｍのものを、８０℃、１
０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰囲気中
から取り出し、１ｍに分割し、図５に示すように遮蔽材
中で60Ｃｏを線源としてγ線を１００Ｇｙ照射した。照
射時のファイバ中の水素分子濃度は７×１０19分子／ｃ
ｍ3 である。この後、実施例２と同様に４０℃の大気雰
囲気中に３週間曝して水素抜きを行った結果、光ファイ
バ中の水素分子濃度は１×１０ 16未満となった。以上で
得られた光ファイバ（比較品）１ｍについて、実施例１
と同様に耐紫外線テストした結果、照射後の波長２４８
ｎｍにおける透過率は初期〔最終工程終了直後で耐紫外
線テスト照射の前の透過率〕の約３０％と大幅に低下し
てしまった。
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、Ｆを３重量％含有する石英ガラスクラッドからなる
単心光ファイバで長さ１０００ｍのものを、８０℃、１
０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰囲気中
から取り出し、１ｍに分割し、図５に示すように遮蔽材
中で60Ｃｏを線源としてγ線を１００Ｇｙ照射した。照
射時のファイバ中の水素分子濃度は７×１０19分子／ｃ
ｍ3 である。この後、実施例２と同様に４０℃の大気雰
囲気中に３週間曝して水素抜きを行った結果、光ファイ
バ中の水素分子濃度は１×１０ 16未満となった。以上で
得られた光ファイバ（比較品）１ｍについて、実施例１
と同様に耐紫外線テストした結果、照射後の波長２４８
ｎｍにおける透過率は初期〔最終工程終了直後で耐紫外
線テスト照射の前の透過率〕の約３０％と大幅に低下し
てしまった。
【００２９】〔比較例３〕Ｃｌ含有量が１ｐｐｍ未満で
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、フッ素（Ｆ）を３重量％含有する石英ガラスクラッ
ドからなる単心光ファイバで長さ１ｍのものを、８０
℃、１０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰
囲気中から取り出し、図１に示すようにその両端から波
長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を照射した。
照射時のファイバ中の水素分子濃度は１×１０19分子／
ｃｍ3 、照射条件は１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスのＫｒＦ
光を１０ 5 パルス照射である。得られた光ファイバを４
０℃の大気雰囲気中に３週間曝して水素抜きを行った結
果、光ファイバ中の水素分子濃度は１×１０16未満とな
った。以上で得られた光ファイバ（比較品）１ｍを実施
例１と同様に耐紫外線テスト照射した結果、照射後の波
長２４８ｎｍにおける透過率は初期〔最終工程終了直後
で耐紫外線テスト照射の前の透過率〕の約３０％と大幅
に低下してしまった。
ありフッ素（Ｆ）を１重量％含有する石英ガラスコア
と、フッ素（Ｆ）を３重量％含有する石英ガラスクラッ
ドからなる単心光ファイバで長さ１ｍのものを、８０
℃、１０気圧の水素雰囲気中に１週間曝した後、水素雰
囲気中から取り出し、図１に示すようにその両端から波
長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を照射した。
照射時のファイバ中の水素分子濃度は１×１０19分子／
ｃｍ3 、照射条件は１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスのＫｒＦ
光を１０ 5 パルス照射である。得られた光ファイバを４
０℃の大気雰囲気中に３週間曝して水素抜きを行った結
果、光ファイバ中の水素分子濃度は１×１０16未満とな
った。以上で得られた光ファイバ（比較品）１ｍを実施
例１と同様に耐紫外線テスト照射した結果、照射後の波
長２４８ｎｍにおける透過率は初期〔最終工程終了直後
で耐紫外線テスト照射の前の透過率〕の約３０％と大幅
に低下してしまった。
【００３０】
【発明の効果】以上説明のように本発明は、出発の石英
ガラス物品に水素分子を導入し、水素分子が１０16分子
／ｃｍ3 以上の濃度で存在する間に波長２４８ｎｍのエ
キシマレーザー光を好適なエネルギー量で照射すること
により、ガラス中の欠陥のプリカーサーを強制的に欠陥
に変換すると共に、この欠陥と水素分子の間に安定な結
合を形成させて、水素を固定化できるので、その後の紫
外線照射による波長１６０ｎｍ〜３００ｎｍの紫外線領
域での光吸収の増加を実質的に発生しないようにでき
る。特に水素の固定化により、光ファイバのように水素
の拡散の速さに比べて直径が小さく水素抜けを起こしや
すいものにおいても、耐紫外線特性を長期にわたり安定
に維持することができる。また、プリカーサーを欠陥に
変換させるために予め電磁波照射する必要なく、エキシ
マレーザー光照射でこの変換と水素固定化を一段で行え
るので、生産性を向上できた。さらに、水素抜きのため
の工程を加える本発明によれば、ガラス中に固定されず
に存在する余分な水素原子を除去することにより、水素
分子そのものによる光の吸収を低減できる、特性を安定
化させる、経時的な屈折率変化を防止して常に一定の輝
度が得られる、水素分子による吸収が無くなり近赤外域
の光の使用を可能とする等の効果が得られる。従来の紫
外領域用ファイバは波長１６０ｎｍ〜２００ｎｍでは真
空条件で光を伝送する必要があった（このためにこの領
域を真空紫外域という）上に、紫外線照射劣化が大き
く、実用は困難であったが、本発明によれば、３００〜
２００ｎｍの紫外域は勿論のこと、真空紫外線域でも真
空にせずに使用できる。さらに、真空紫外域では本発明
による石英ガラス物品は大気中よりも光の透過性が良い
という利点があり、可撓性を有するので、エキシマレー
ザー光、重水素ランプ、ハロゲンランプ等の紫外光源を
利用した装置、特に加工装置等、例えばレーザー加工、
フォトレジスト、ファイバ硬化線源、接着硬化線源、各
種マイクロ部品加工、ＳＲ（シンクロトロン）光発生線
源の光伝送媒体に用いて非常に有利である。
ガラス物品に水素分子を導入し、水素分子が１０16分子
／ｃｍ3 以上の濃度で存在する間に波長２４８ｎｍのエ
キシマレーザー光を好適なエネルギー量で照射すること
により、ガラス中の欠陥のプリカーサーを強制的に欠陥
に変換すると共に、この欠陥と水素分子の間に安定な結
合を形成させて、水素を固定化できるので、その後の紫
外線照射による波長１６０ｎｍ〜３００ｎｍの紫外線領
域での光吸収の増加を実質的に発生しないようにでき
る。特に水素の固定化により、光ファイバのように水素
の拡散の速さに比べて直径が小さく水素抜けを起こしや
すいものにおいても、耐紫外線特性を長期にわたり安定
に維持することができる。また、プリカーサーを欠陥に
変換させるために予め電磁波照射する必要なく、エキシ
マレーザー光照射でこの変換と水素固定化を一段で行え
るので、生産性を向上できた。さらに、水素抜きのため
の工程を加える本発明によれば、ガラス中に固定されず
に存在する余分な水素原子を除去することにより、水素
分子そのものによる光の吸収を低減できる、特性を安定
化させる、経時的な屈折率変化を防止して常に一定の輝
度が得られる、水素分子による吸収が無くなり近赤外域
の光の使用を可能とする等の効果が得られる。従来の紫
外領域用ファイバは波長１６０ｎｍ〜２００ｎｍでは真
空条件で光を伝送する必要があった（このためにこの領
域を真空紫外域という）上に、紫外線照射劣化が大き
く、実用は困難であったが、本発明によれば、３００〜
２００ｎｍの紫外域は勿論のこと、真空紫外線域でも真
空にせずに使用できる。さらに、真空紫外域では本発明
による石英ガラス物品は大気中よりも光の透過性が良い
という利点があり、可撓性を有するので、エキシマレー
ザー光、重水素ランプ、ハロゲンランプ等の紫外光源を
利用した装置、特に加工装置等、例えばレーザー加工、
フォトレジスト、ファイバ硬化線源、接着硬化線源、各
種マイクロ部品加工、ＳＲ（シンクロトロン）光発生線
源の光伝送媒体に用いて非常に有利である。
【図１】 本発明の第３の工程を模式的に示した説明図
である。
である。
【図２】 本発明の実施例で用いた単心光ファイバの概
略断面図である。
略断面図である。
【図３】 本発明の実施例で用いたバンドルファイバの
構造を示す概略説明図である。
構造を示す概略説明図である。
【図４】 本発明の比較例１の重水素ランプ照射工程を
模式的に示した説明図である。
模式的に示した説明図である。
【図５】 本発明の比較例２のγ線照射工程を模式的に
示した説明図である。
示した説明図である。
【図６】 ガラスの結合欠陥の数例を示した説明図であ
る。
る。
【図７】 ファイバ径１２５μｍの光ファイバに温度を
変えて水素をドープするときの、該光ファイバ中心の水
素濃度変化を示すグラフ図（ａ）及び該光ファイバから
水素が抜けてゆくときの水素濃度変化を示すグラフ図
（ｂ）である。
変えて水素をドープするときの、該光ファイバ中心の水
素濃度変化を示すグラフ図（ａ）及び該光ファイバから
水素が抜けてゆくときの水素濃度変化を示すグラフ図
（ｂ）である。
【図８】 ファイバ径２００μｍの光ファイバについて
水素ドープのときの光ファイバ中心の水素濃度変化を示
すグラフ図（ａ）及び該光ファイバから水素が抜けてゆ
くときの水素濃度変化を示すグラフ図（ｂ）である。
水素ドープのときの光ファイバ中心の水素濃度変化を示
すグラフ図（ａ）及び該光ファイバから水素が抜けてゆ
くときの水素濃度変化を示すグラフ図（ｂ）である。
１ コア ２ クラッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宍戸 資彦 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 大賀 裕一 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Ｆターム(参考） 4G014 AH23
Claims (15)
- 【請求項１】 出発石英ガラス物品を水素分子を含む雰
囲気中に置き、前記出発石英ガラス物品中に１×１０16
分子／ｃｍ3 以上の水素分子を導入する第１の工程、前
記水素分子を導入された石英ガラス物品を水素分子を含
む雰囲気中から取り出す第２の工程、及び該石英ガラス
物品中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3 以上残留し
ている間に、該石英ガラス物品に１パルス当たり１０ｍ
Ｊ以上のエネルギーを持つエキシマレーザー光を１０6
パルス以上照射する第３の工程からなり、前記出発石英
ガラス物品を紫外線領域での光吸収が実質的に増加しな
いものとすることを特徴とする石英ガラス物品の製造方
法。 - 【請求項２】 前記第１の工程の水素分圧が０．５〜１
０気圧、温度が室温以上であることを特徴とする請求項
１記載の石英ガラス物品の製造方法。 - 【請求項３】 前記エキシマレーザ光が、波長２４８ｎ
ｍ、１パルス当たりのエネルギー１００ｍＪ以下、パル
ス数１０7 以下であることを特徴とする請求項１又は請
求項２に記載の石英ガラス物品の製造方法。 - 【請求項４】 前記第３の工程の後に当該石英ガラス物
品中の残留水素分子量を１×１０16分子／ｃｍ3 未満と
する第４の工程を行なうことを特徴とする請求項１ない
し請求項３のいずれかに記載の石英ガラス物品の製造方
法。 - 【請求項５】 前記第４の工程として室温から８０℃の
温度で加熱して当該石英ガラス物品中の残留水素分子量
を１×１０16分子／ｃｍ3 未満とすることを特徴とする
請求項４記載の石英ガラス物品の製造方法。 - 【請求項６】 前記出発石英ガラス物品が光ファイバで
あり、前記第１の工程を水素分圧が０．５〜１０気圧、
温度が室温から光ファイバ被覆の耐熱上限温度までの温
度で行なうことを特徴とする請求項１ないし請求項５の
いずれかに記載の石英ガラス物品の製造方法。 - 【請求項７】 前記出発石英ガラス物品が光ファイバで
あり、前記第１の工程を水素分圧が０．５〜１０気圧、
８０〜２００℃の温度で行なうことを特徴とする請求項
１ないし請求項６のいずれかに記載の石英ガラス物品の
製造方法。 - 【請求項８】 前記出発石英ガラス物品が、光ファイバ
の多数本を集束してなるバンドルファイバ、又は集束す
る以前のバンドルファイバ用の光ファイバであることを
特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の
石英ガラス物品の製造方法。 - 【請求項９】 出発石英ガラス物品が水素分子を含む雰
囲気中に置かれる第１の工程、前記第１の工程より取り
出される第２の工程、及び当該石英ガラス物品中に水素
分子が１×１０16分子／ｃｍ3 以上残留している間に該
石英ガラス物品に１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネル
ギーを持つエキシマレーザー光を１０ 6 パルス以上照射
する第３の工程を経たことにより、紫外線領域での光吸
収の増加が実質的に発生しないようにされたことを特徴
とする石英ガラス物品。 - 【請求項１０】 出発石英ガラス物品が水素分子を含む
雰囲気中に置かれる第１の工程、前記第１の工程より取
り出される第２の工程、前記第２の工程ののち当該石英
ガラス物品中に水素分子が１×１０16分子／ｃｍ3 以上
残留している間に該石英ガラス物品に１パルス当たり１
０ｍＪ以上のエネルギーを持つエキシマレーザー光を１
０6 パルス以上照射する第３の工程、及び前記第３の工
程の後に大気放置又は温度８０℃以下の加熱により該石
英ガラス物品中の水素分子を１×１０16分子／ｃｍ3 未
満とする第４の工程を経たことにより、紫外線領域での
光吸収の増加が実質的に発生しないようにされたことを
特徴とする石英ガラス物品。 - 【請求項１１】 コア及び該コアより屈折率の低いクラ
ッドを有してなる光ファイバであって、水素分子を含む
雰囲気中に置かれる第１の工程、前記第１の工程より取
り出される第２の工程、及び当該光ファイバ中に水素分
子が１×１０ 16分子／ｃｍ3 以上残留している間に該光
ファイバに１パルス当たり１０ｍＪ以上のエネルギーを
持つエキシマレーザー光を１０6 パルス以上照射する第
３の工程を経たことにより、当該光ファイバの長さ１ｍ
について波長２４８ｎｍのエキシマレーザー光を出力１
０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１０8 パルス照射した後の紫
外線透過率が、初期紫外線透過率の９０％以上であるこ
とを特徴とする光ファイバ。 - 【請求項１２】 コア及び該コアより屈折率の低いクラ
ッドを有してなる光ファイバであって、水素分子を含む
雰囲気中に置かれる第１の工程、前記第１の工程より取
り出される第２の工程、当該光ファイバ中に水素分子が
１×１０16分子／ｃｍ3 以上残留している間に該光ファ
イバに波長２４８ｎｍ以下で１パルス当たり１０ｍＪ以
上のエネルギーを持つエキシマレーザー光を１０6 パル
ス以上照射する第３の工程、及び前記第３の工程の後に
大気放置又は８０℃以下の加熱により該石英ガラス物品
中の水素分子を１×１０16分子／ｃｍ3 未満とする第４
の工程を経たことにより、当該光ファイバの長さ１ｍに
ついて波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー光を出
力１０ｍＪ／ｃｍ2 ／パルスで１０8 パルス照射した後
の紫外線透過率が、初期紫外線透過率の９０％以上であ
ることを特徴とする光ファイバ。 - 【請求項１３】 前記光ファイバは、高純度石英ガラス
からなるコア中にフッ素を含むことを特徴とする請求項
１１又は請求項１２に記載の光ファイバ。 - 【請求項１４】 前記光ファイバは、コア中にＣｌを１
ｐｐｍ以上は含まないものであることを特徴とする請求
項１１ないし請求項１３のいずれかに記載の光ファイ
バ。 - 【請求項１５】 前記光ファイバが多数本のガラスファ
イバを集束してなるバンドルファイバであることを特徴
とする請求項１１ないし請求項１４のいずれかに記載の
光ファイバ。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11005581A JP2000203856A (ja) | 1999-01-12 | 1999-01-12 | 石英ガラス物品及びその製造方法 |
| US09/369,425 US6333283B1 (en) | 1997-05-16 | 1999-08-06 | Silica glass article and manufacturing process therefor |
| EP99126222A EP1020413B1 (en) | 1999-01-12 | 1999-12-30 | Silica glass article and manufacturing method therefor |
| DE69900363T DE69900363T2 (de) | 1999-01-12 | 1999-12-30 | Quarzglasgegenstand und dessen Herstellung |
| KR1020000000816A KR100359230B1 (ko) | 1999-01-12 | 2000-01-08 | 석영유리물품 및 그 제조방법 |
| US09/998,328 US6709997B2 (en) | 1997-05-16 | 2001-12-03 | Silica glass article and manufacturing process therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11005581A JP2000203856A (ja) | 1999-01-12 | 1999-01-12 | 石英ガラス物品及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000203856A true JP2000203856A (ja) | 2000-07-25 |
Family
ID=11615217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11005581A Pending JP2000203856A (ja) | 1997-05-16 | 1999-01-12 | 石英ガラス物品及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1020413B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000203856A (ja) |
| KR (1) | KR100359230B1 (ja) |
| DE (1) | DE69900363T2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007083840A1 (en) | 2006-01-19 | 2007-07-26 | Fujifilm Corporation | Ink, inkjet ink, inkjet recording method and method for improving weather resistance of color image material |
| WO2008130005A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2008-10-30 | Fujikura Ltd. | Ｙｂ添加光ファイバのフォトダークニング抑制処理方法、フォトダークニング抑制Ｙｂ添加光ファイバ及びファイバレーザ |
| EP2163586A1 (en) | 2005-02-07 | 2010-03-17 | Fujifilm Corporation | Coloring matter, ink, ink for ink jet, ink jet recording method, color toner, and color filter |
| US7813607B2 (en) | 2001-05-18 | 2010-10-12 | Fujikura Ltd. | Optical fiber bundle unit for transmitting ultraviolet light |
| WO2012090826A1 (ja) | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物及びアゾ化合物 |
| WO2013031428A1 (ja) | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 富士フイルム株式会社 | トリアジン側鎖を有する新規化合物、着色組成物、インクジェット用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルター、及びカラートナー |
| WO2013069667A1 (ja) | 2011-11-08 | 2013-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2013099677A1 (ja) | 2011-12-26 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | キサンテン骨格を有する化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法 |
| WO2013129265A1 (ja) | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法 |
| EP2669337A1 (en) | 2012-05-30 | 2013-12-04 | Fujifilm Corporation | Compound having xanthene structure, coloring composition, ink for inkjet recording and inkjet recording method |
| EP2669338A2 (en) | 2012-05-31 | 2013-12-04 | Fujifilm Corporation | Coloring composition, ink for inkjet recording and inkjet recording method |
| WO2014077291A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2014077223A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、該着色組成物を用いたインクジェット記録用インク、該インクジェット記録用インクを用いたインクジェット記録方法、インクカートリッジ、及び、インクジェット記録物 |
| WO2015105108A1 (ja) | 2014-01-10 | 2015-07-16 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、インクジェット記録物、カラーフィルタ、カラートナー、及び転写用インク |
| CN113415978A (zh) * | 2021-07-03 | 2021-09-21 | 四川神光石英科技有限公司 | 一种耐辐照石英玻璃的制备方法及制备用坩埚和料架 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100475419B1 (ko) * | 2002-09-04 | 2005-03-10 | (주)한울옵틱스 | 반사광 억제기능을 갖는 광 터미네이터 제조방법 |
| CA2541735C (en) * | 2005-04-06 | 2011-03-15 | Weatherford/Lamb, Inc. | Conditioning optical fibers for improved ionizing radiation response |
| US9746749B2 (en) | 2008-07-11 | 2017-08-29 | Nkt Photonics A/S | Lifetime extending and performance improvements of optical fibers via loading |
| AU2011249017B2 (en) | 2010-05-04 | 2013-12-05 | Sensortran, Inc. | Mitigation of radiation induced attenuation losses in optic fibers |
| CN114879301A (zh) | 2014-12-18 | 2022-08-09 | Nkt光子学有限公司 | 光子晶体光纤、光子晶体光纤的制备方法以及超连续谱光源 |
| DE102019134818A1 (de) * | 2019-02-16 | 2020-08-20 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Verfahren zum Erhöhen der Festigkeit eines Glassubstrates |
| DE102019115928B4 (de) * | 2019-06-12 | 2023-07-27 | J-Fiber Gmbh | Quarzfaser mit Wasserstoff-Barriereschicht und Verfahren zu deren Herstellung |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2980094B2 (ja) * | 1997-05-16 | 1999-11-22 | 住友電気工業株式会社 | 石英ガラス物品及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-01-12 JP JP11005581A patent/JP2000203856A/ja active Pending
- 1999-12-30 EP EP99126222A patent/EP1020413B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-12-30 DE DE69900363T patent/DE69900363T2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-01-08 KR KR1020000000816A patent/KR100359230B1/ko not_active Expired - Fee Related
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7813607B2 (en) | 2001-05-18 | 2010-10-12 | Fujikura Ltd. | Optical fiber bundle unit for transmitting ultraviolet light |
| EP2163586A1 (en) | 2005-02-07 | 2010-03-17 | Fujifilm Corporation | Coloring matter, ink, ink for ink jet, ink jet recording method, color toner, and color filter |
| WO2007083840A1 (en) | 2006-01-19 | 2007-07-26 | Fujifilm Corporation | Ink, inkjet ink, inkjet recording method and method for improving weather resistance of color image material |
| WO2008130005A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2008-10-30 | Fujikura Ltd. | Ｙｂ添加光ファイバのフォトダークニング抑制処理方法、フォトダークニング抑制Ｙｂ添加光ファイバ及びファイバレーザ |
| US8125705B2 (en) | 2007-04-17 | 2012-02-28 | Fujikura Ltd. | Processing method for suppressing photodarkening in Yb-doped optical fibers, photodarkening-suppressed Yb-doped optical fiber, and fiber laser |
| WO2012090826A1 (ja) | 2010-12-28 | 2012-07-05 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物及びアゾ化合物 |
| WO2013031428A1 (ja) | 2011-08-30 | 2013-03-07 | 富士フイルム株式会社 | トリアジン側鎖を有する新規化合物、着色組成物、インクジェット用インク、インクジェット記録方法、カラーフィルター、及びカラートナー |
| WO2013069667A1 (ja) | 2011-11-08 | 2013-05-16 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物及びインクジェット記録用インク |
| WO2013099677A1 (ja) | 2011-12-26 | 2013-07-04 | 富士フイルム株式会社 | キサンテン骨格を有する化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法 |
| WO2013129265A1 (ja) | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット記録用インク、及びインクジェット記録方法 |
| EP2669337A1 (en) | 2012-05-30 | 2013-12-04 | Fujifilm Corporation | Compound having xanthene structure, coloring composition, ink for inkjet recording and inkjet recording method |
| EP2669338A2 (en) | 2012-05-31 | 2013-12-04 | Fujifilm Corporation | Coloring composition, ink for inkjet recording and inkjet recording method |
| WO2014077291A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、及びインクジェット記録物 |
| WO2014077223A1 (ja) | 2012-11-15 | 2014-05-22 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、該着色組成物を用いたインクジェット記録用インク、該インクジェット記録用インクを用いたインクジェット記録方法、インクカートリッジ、及び、インクジェット記録物 |
| WO2015105108A1 (ja) | 2014-01-10 | 2015-07-16 | 富士フイルム株式会社 | 化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、インクジェット記録物、カラーフィルタ、カラートナー、及び転写用インク |
| CN113415978A (zh) * | 2021-07-03 | 2021-09-21 | 四川神光石英科技有限公司 | 一种耐辐照石英玻璃的制备方法及制备用坩埚和料架 |
| CN113415978B (zh) * | 2021-07-03 | 2022-06-24 | 四川神光石英科技有限公司 | 一种耐辐照石英玻璃的制备方法及制备用坩埚和料架 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69900363D1 (de) | 2001-11-22 |
| KR100359230B1 (ko) | 2002-11-01 |
| EP1020413B1 (en) | 2001-10-17 |
| KR20000062447A (ko) | 2000-10-25 |
| EP1020413A1 (en) | 2000-07-19 |
| DE69900363T2 (de) | 2002-05-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2980094B2 (ja) | 石英ガラス物品及びその製造方法 | |
| JP2000203856A (ja) | 石英ガラス物品及びその製造方法 | |
| US6333283B1 (en) | Silica glass article and manufacturing process therefor | |
| JP3456449B2 (ja) | 石英ガラス物品及びその製造方法 | |
| JP2003137580A (ja) | 光ファイバの処理方法、光ファイバの製造方法、光ファイバ | |
| JP3995000B2 (ja) | 光ファイババンドルとその製造方法 | |
| JPH10316445A (ja) | 光ファイバの使用前の処理方法 | |
| JPH0471019B2 (ja) | ||
| JP2000226223A (ja) | 紫外光伝送用光ファイバ及びその製造方法 | |
| JP2001335337A (ja) | 紫外光伝送用光ファイバ及びその製造方法 | |
| JP3054412B2 (ja) | 耐紫外線・耐放射線シリカガラスおよびその製造方法、耐紫外線・耐放射線光学素子およびその製造方法 | |
| JP2003021731A (ja) | 紫外光伝送用バンドルファイバ | |
| RU2222032C2 (ru) | Волоконный световод (варианты) и способ его получения | |
| JP3645790B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| EP1394128A2 (en) | Optical apparatus | |
| JP2007272251A (ja) | 光ファイババンドル | |
| Wang et al. | Improved silica fiber with enhanced ultraviolet transmission | |
| JP3960896B2 (ja) | 光ファイバの製造方法 | |
| JP2003012348A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
| Tu et al. | Research on the fiber's UV transmission performance influenced by the doping process | |
| Skutnik et al. | All-silica nonsolarizing optical fibers for UV medical applications | |
| JP2002060238A (ja) | 石英系光ファイバの製造方法 | |
| Zhao et al. | Annealing of ITO films by the 1064nm Quasi-CW Laser | |
| JP2003014948A (ja) | 光導波路の製造方法およびガラス欠陥生成装置 | |
| JP2000214336A (ja) | 石英ガラスファイバ |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050526 |
|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070319 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080312 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080318 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090203 |