JP2000202299A - Catalyst for trimerizing ethylene and method for trimerizing ethylene using the same - Google Patents
Catalyst for trimerizing ethylene and method for trimerizing ethylene using the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、エチレンの三量化
触媒及びそれを用いたエチレンの三量化方法に関する。
さらに詳しくは、線状低密度ポリエチレン(LLDP
E)の原料コモノマーとして有用な1−ヘキセンをエチ
レンから効率よく、かつ高選択的に製造するエチレンの
三量化触媒及びそれを用いたエチレンの三量化方法に関
する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a catalyst for trimerizing ethylene and a method for trimerizing ethylene using the catalyst.
More specifically, linear low density polyethylene (LLDP)
The present invention relates to an ethylene trimerization catalyst for producing 1-hexene useful as a raw material comonomer of E) efficiently and highly selectively from ethylene, and a method for trimerizing ethylene using the catalyst.
【0002】[0002]
【従来の技術】エチレンを三量化して1−ヘキセンを得
る方法において、特定の多座配位子が配位したクロム錯
体とアルキルアルミニウム化合物からなる触媒を用いる
ことは公知である。例えば、特開平10−7712号公
報には、特定の窒素配位子が配位したクロムの塩素錯体
やアルキル錯体とアルミニウム化合物からなる触媒が、
特開平10−231317号公報には、環状ポリアミン
又はヒドロトリス(ピラゾリル)ボレートが配位したク
ロム錯体とアルキルアルミニウム化合物からなる触媒が
開示されている。2. Description of the Related Art It is known to use a catalyst comprising a chromium complex coordinated with a specific polydentate ligand and an alkylaluminum compound in a process for obtaining 1-hexene by trimerizing ethylene. For example, JP-A-10-7712 discloses a catalyst comprising a chromium chloride complex or an alkyl complex coordinated with a specific nitrogen ligand and an aluminum compound,
JP-A-10-231317 discloses a catalyst comprising a chromium complex coordinated with a cyclic polyamine or hydrotris (pyrazolyl) borate and an alkylaluminum compound.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平10−
7712号公報に記載の方法は、触媒活性が低いという
問題があった。また、オリゴマー中の1−ヘキセン選択
性も低く、工業的な観点から十分なものではなかった。
また、特開平10−231317号公報に記載の方法も
触媒活性は低いものであった。さらに、選択性に関して
も1−ヘキセンよりもポリエチレンの生成が多いばかり
か、オリゴマー中の1−ヘキセン選択性も低いという欠
点があった。However, Japanese Patent Application Laid-Open No.
The method described in JP 7712 has a problem that the catalytic activity is low. Further, the 1-hexene selectivity in the oligomer was low, and was not sufficient from an industrial viewpoint.
Also, the method described in JP-A-10-231317 has a low catalytic activity. Further, with respect to the selectivity, not only the production of polyethylene than 1-hexene was increased, but also the selectivity of 1-hexene in the oligomer was low.
【0004】本発明は上記の課題に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、LLDPEの原料コモノマーとし
て有用な1−ヘキセンをエチレンから効率よく、かつ高
選択的に製造することができるエチレンの三量化触媒及
びそれを用いたエチレンの三量化方法を提供することで
ある。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a 1-hexene useful as a raw material comonomer for LLDPE from ethylene which can be efficiently and highly selectively produced from ethylene. An object of the present invention is to provide a trimerization catalyst and a method for trimerizing ethylene using the same.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため鋭意検討を行った結果、中性の多座配
位子が配位したクロム錯体、アルキル金属化合物及び電
子移動を伴うトポタクティックな還元反応生成物の少な
くとも3成分からなるエチレンの三量化触媒を用いると
高い活性でエチレンの三量化反応が進行し、高選択的に
1−ヘキセンが生成することを見い出し、本発明を完成
するに至った。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have found that a chromium complex, an alkyl metal compound and an electron transfer compound coordinated with a neutral polydentate ligand. With the use of an ethylene trimerization catalyst consisting of at least three components of a topotactic reduction reaction product with the following, it has been found that the ethylene trimerization reaction proceeds with high activity, and 1-hexene is generated with high selectivity, The present invention has been completed.
【0006】即ち本発明は、中性の多座配位子が配位し
たクロム錯体、アルキル金属化合物及び電子移動を伴う
トポタクティックな還元反応生成物の少なくとも3成分
からなるエチレンの三量化触媒とこれを用いたエチレン
の三量化方法に関する。That is, the present invention provides an ethylene trimerization catalyst comprising at least three components of a chromium complex coordinated with a neutral polydentate ligand, an alkyl metal compound, and a topotactic reduction reaction product involving electron transfer. And a method for trimerizing ethylene using the same.
【0007】[0007]
【発明の実施の形態】次に、本発明についてさらに詳し
く説明する。Next, the present invention will be described in more detail.
【0008】本発明によれば、エチレンの三量化触媒を
構成する一成分として、電子移動を伴うトポタクティッ
クな還元反応生成物が用いられる。According to the present invention, as a component constituting the ethylene trimerization catalyst, a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer is used.
【0009】本発明における電子移動を伴うトポタクテ
ィックな還元反応とは、R.Schollhornが、
Angew.Chem.Int.Ed.Engl.1
9,983−1003(1980)で定義しているよう
に、ホスト化合物が電子を得て還元され、電荷のバラン
スを取るためにゲストカチオンがホスト化合物中の空の
格子サイトに取り込まれる反応であり、しかも、反応前
後でホスト化合物の構造及び組成が何ら変化しない反応
である。この反応は、一般式(3) xE+ + xe- + □[Q] → (E+)x[Q]x- (3) [式中、[Q]はホスト化合物であり、□は[Q]中の
空の格子サイトであり、e-は電子であり、xは還元量
であり、E+は1価のゲストカチオンである]により例
示することができる。The topotactic reduction reaction involving electron transfer in the present invention is described in Schollhorn,
Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1
9,983-3003 (1980) is a reaction in which a host compound obtains an electron and is reduced, and a guest cation is incorporated into an empty lattice site in the host compound in order to balance charge. In addition, the reaction does not change the structure and composition of the host compound before and after the reaction. In this reaction, the general formula (3) xE + + xe − + □ [Q] → (E + ) x [Q] x− (3) [wherein [Q] is a host compound and □ is [Q ], E − is an electron, x is a reduction amount, and E + is a monovalent guest cation.
【0010】本発明における電子移動を伴うトポタクテ
ィックな還元反応生成物は、上記の電子移動を伴うトポ
タクティックな還元反応の生成物であり、一般式(4) (E+ a+E2+ b/2+E3+ c/3+E4+ d/4+E5+ e/5+E6+ f/6+E7+ g/7+E8+ h/8+ E9+ i/9+E10+ j/10)(L2)h[Q]k- (4) [式中、[Q]はホスト化合物であり、kは還元量であ
る。またEはゲストカチオンであり、a+b+c+d+
e+f+g+h+i+j=kである。さらにL2はルイ
ス塩基であり、hはルイス塩基量である]で表される化
合物を例示することができる。The topotactic reduction reaction product involving electron transfer in the present invention is a product of the above-described topotactic reduction reaction involving electron transfer, and is represented by the general formula (4) (E + a + E 2+). b / 2 + E3 + c / 3 + E4 + d / 4 + E5 + e / 5 + E6 + f / 6 + E7 + g / 7 + E8 + h / 8 + E9 + i / 9 + E10 + j / 10 ) (L 2 ) h [Q] k- (4) [wherein [Q] is a host compound and k is a reduction amount. E is a guest cation, and a + b + c + d +
e + f + g + h + i + j = k. L 2 is a Lewis base and h is the amount of Lewis base].
【0011】ここで、[Q]としては、3次元構造を有
するホスト化合物、2次元構造を有するホスト化合物、
1次元構造を有するホスト化合物及び分子性固体である
ホスト化合物を例示することができる。Here, [Q] is a host compound having a three-dimensional structure, a host compound having a two-dimensional structure,
A host compound having a one-dimensional structure and a host compound which is a molecular solid can be exemplified.
【0012】3次元構造を有するホスト化合物として
は、特に限定されるものではないが、例えば、八硫化六
モリブデン、八セレン化六モリブデン、四硫化三モリブ
デン、四硫化三チタン、八セレン化六チタン、四硫化三
ニオブ、八硫化六バナジウム、八硫化五バナジウム、五
酸化二バナジウム、三酸化タングステン、二酸化チタ
ン、二酸化バナジウム、二酸化クロム、二酸化マンガ
ン、二酸化タングステン、二酸化ルテニウム、二酸化オ
スミウム、二酸化イリジウムを例示することができる。The host compound having a three-dimensional structure is not particularly limited. Examples include triniobium tetrasulfide, hexavana octasulfide, hexavanapentapentasulfide, pentavanadium pentaoxide, divanadium pentoxide, tungsten trioxide, titanium dioxide, vanadium dioxide, chromium dioxide, manganese dioxide, tungsten dioxide, ruthenium dioxide, osmium dioxide, and iridium dioxide. can do.
【0013】2次元構造を有するホスト化合物として
は、特に限定されるものではないが、例えば、二硫化チ
タン、二硫化ジルコニウム、二硫化ハフニウム、二硫化
バナジウム、二硫化ニオブ、二硫化タンタル、二硫化ク
ロム、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、二硫化
レニウム、二硫化白金、二硫化スズ、二硫化鉛、二セレ
ン化チタン、二セレン化ジルコニウム、二セレン化ハフ
ニウム、二セレン化バナジウム、二セレン化ニオブ、二
セレン化タンタル、二セレン化クロム、二セレン化モリ
ブデン、二セレン化タングステン、二セレン化レニウ
ム、二セレン化白金、二セレン化スズ、二セレン化鉛、
二テルル化チタン、二テルル化ジルコニウム、二テルル
化ハフニウム、二テルル化バナジウム、二テルル化ニオ
ブ、二テルル化タンタル、二テルル化クロム、二テルル
化モリブデン、二テルル化タングステン、二テルル化レ
ニウム、二テルル化白金、二テルル化スズ、二テルル化
鉛、三硫化リンマグネシウム、三硫化リンカルシウム、
三硫化リンバナジウム、三硫化リンマンガン、三硫化リ
ン鉄、三硫化リンコバルト、三硫化リンニッケル、三硫
化リンパラジウム、三硫化リン亜鉛、三硫化リンカドミ
ウム、三硫化リン水銀、三硫化リンスズ、三セレン化リ
ンマグネシウム、三セレン化リンカルシウム、三セレン
化リンバナジウム、三セレン化リンマンガン、三セレン
化リン鉄、三セレン化リンコバルト、三セレン化リンニ
ッケル、三セレン化リンパラジウム、三セレン化リン亜
鉛、三セレン化リンカドミウム、三セレン化リン水銀、
三セレン化リンスズ、四硫化リンクロム、タンタルスル
フィドカーバイド、三酸化モリブデン、五十二酸化十八
モリブデン、五酸化バナジウムゲル、オキシ塩化鉄、オ
キシ塩化チタン、オキシ塩化バナジウム、オキシ塩化ク
ロム、オキシ塩化アルミニウム、オキシ塩化ビスマス、
α−窒化塩化ジルコニウム、β−窒化塩化ジルコニウ
ム、α−窒化臭化ジルコニウム、β−窒化臭化ジルコニ
ウム、窒化ヨウ化ジルコニウム、窒化塩化チタン、窒化
臭化チタン、窒化ヨウ化チタン、グラファイト、ポリア
センを例示することができる。The host compound having a two-dimensional structure is not particularly limited, and examples thereof include titanium disulfide, zirconium disulfide, hafnium disulfide, vanadium disulfide, niobium disulfide, tantalum disulfide, and tantalum disulfide. Chromium, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, rhenium disulfide, platinum disulfide, tin disulfide, lead disulfide, titanium diselenide, zirconium diselenide, hafnium diselenide, vanadium diselenide, niobium diselenide , Tantalum diselenide, chromium diselenide, molybdenum selenide, tungsten diselenide, rhenium diselenide, platinum diselenide, tin diselenide, lead diselenide,
Titanium ditelluride, zirconium ditelluride, hafnium ditelluride, vanadium ditelluride, niobium ditelluride, tantalum ditelluride, chromium ditelluride, molybdenum ditelluride, tungsten ditelluride, rhenium ditelluride, Platinum ditelluride, tin ditelluride, lead ditelluride, phosphorus magnesium trisulfide, calcium phosphate trisulfide,
Phosphorus vanadium trisulfide, phosphorus manganese trisulfide, phosphorus iron trisulfide, phosphorus cobalt trisulfide, phosphorus nickel trisulfide, phosphorus palladium trisulfide, phosphorus zinc trisulfide, phosphorus cadmium trisulfide, phosphorus mercury trisulfide, phosphorus tin trisulfide, tritin Magnesium phosphorus selenide, calcium calcium triselenide, phosphorus vanadium triselenide, phosphorous manganese triselenide, iron triphosphate selenide, phosphorous cobalt triselenide, phosphorus nickel triselenide, phosphorus palladium triselenide, triselenide Phosphorus zinc, phosphorus cadmium triselenide, phosphorus mercury triselenide,
Phosphorus tin triselenide, phosphorus chromium tetrasulfide, tantalum sulfide carbide, molybdenum trioxide, fifty-eighteen molybdenum molybdenum, vanadium pentoxide gel, iron oxychloride, titanium oxychloride, vanadium oxychloride, chromium oxychloride, oxychloride Aluminum, bismuth oxychloride,
α-zirconium nitride chloride, β-zirconium chloride nitride, α-zirconium nitride bromide, β-zirconium nitride bromide, zirconium nitride iodide, titanium nitride chloride, titanium nitride bromide, titanium nitride iodide, graphite, polyacene can do.
【0014】1次元構造を有するホスト化合物として
は、特に限定されるものではないが、例えば、三硫化チ
タン、三セレン化ニオブ、二硫化鉄カリウム、ポリアセ
チレン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェ
ン、ポリ(p−フェニレン)、ポリ(トリフェニレ
ン)、ポリアズレン、ポリフルオレン、ポリナフタレ
ン、ポリアントラセン、ポリフラン、ポリカルバゾー
ル、テトラチオフルバレン置換ポリスチレン、フェロセ
ン置換ポリエチレン、カルバゾール置換ポリエチレン、
ポリオキシフェナジンを例示することができる。The host compound having a one-dimensional structure is not particularly limited. For example, titanium trisulfide, niobium triselenide, potassium iron disulfide, polyacetylene, polyaniline, polypyrrole, polythiophene, poly (p- Phenylene), poly (triphenylene), polyazulene, polyfluorene, polynaphthalene, polyanthracene, polyfuran, polycarbazole, tetrathiofulvalene-substituted polystyrene, ferrocene-substituted polyethylene, carbazole-substituted polyethylene,
Polyoxyphenazine can be exemplified.
【0015】分子性固体であるホスト化合物としては、
特に限定されるものではないが、例えば、テトラシアノ
キノジメタン、テトラチオフルバレンを例示することが
できる。As the host compound which is a molecular solid,
Although not particularly limited, for example, tetracyanoquinodimethane and tetrathiofulvalene can be exemplified.
【0016】さらに、[Q]としては、上記ホスト化合
物を複数混合して用いることもできる。Further, as [Q], a plurality of the above-mentioned host compounds may be mixed and used.
【0017】kは特に限定はないが、高い触媒活性でエ
チレンの三量化を行うことを目的に、好ましくは0<k
≦3の範囲を用いることができる。さらに好ましくは0
<k≦2の範囲を用いることができる。Although k is not particularly limited, it is preferably 0 <k for the purpose of trimerizing ethylene with high catalytic activity.
A range of ≦ 3 can be used. More preferably, 0
A range of <k ≦ 2 can be used.
【0018】以下においては、上記一般式(4)のE+
からE10+を簡便のため総称してEn+と表記する。ここ
で、nは1〜10の整数である。In the following, E + of the above general formula (4)
From E 10+ to E n + for convenience. Here, n is an integer of 1 to 10.
【0019】一般式(4)のL2としては、En+に配位
するルイス塩基を用いることができる。ルイス塩基は、
特に限定されるものではないが、例えば、水、アミン化
合物、窒素を含む複素環化合物、エチルエーテルもしく
はn−ブチルエーテル等のエーテル類、ホルムアミド、
N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ドもしくはN−メチルアセトアミド等のアミド類、メチ
ルアルコールもしくはエチルアルコール等のアルコール
類、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオー
ル、1,4−ブタンジオールもしくは2,3−ブタンジ
オール等のジオール類、グリセリン、ポリ(エチレング
リコール)、ジグライム、1,2−ジメトキシエタン、
リン酸トリメチル、ヘキサメチルホスホルアミド、トリ
−n−ブチルリンオキサイド、1,4−ジオキサン、ア
セトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォ
キシド又は炭酸プロピレンを例示することができるが、
これら2種以上を混合して用いることもできる。As L 2 in the general formula (4), a Lewis base which coordinates to En + can be used. Lewis bases are
Although not particularly limited, for example, water, an amine compound, a heterocyclic compound containing nitrogen, ethers such as ethyl ether or n-butyl ether, formamide,
Amides such as N-methylformamide, N, N-dimethylformamide or N-methylacetamide, alcohols such as methyl alcohol or ethyl alcohol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butane Diols such as diol or 2,3-butanediol, glycerin, poly (ethylene glycol), diglyme, 1,2-dimethoxyethane,
Trimethyl phosphate, hexamethylphosphoramide, tri-n-butyl phosphor oxide, 1,4-dioxane, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide or propylene carbonate can be exemplified,
These two or more kinds can be used as a mixture.
【0020】hは0≦h≦10の範囲を用いることがで
きる。H can be in the range of 0 ≦ h ≦ 10.
【0021】上記一般式(4)のEn+としては、周期表
1〜14族の原子からなる群より選ばれる少なくとも1
種の原子を含むカチオンを用いることができる。高い触
媒活性でエチレンの三量化を行うことを目的に、好まし
くは、一般式(5)、(6)、(7)又は(8) R1 2R2NH+ (5) [式中、R1 2R2Nはアミン化合物であり、R1は各々独
立して水素原子又は炭素数1〜30の脂肪族炭化水素基
であり、R2は水素原子、炭素数1〜30の脂肪族炭化
水素基又は炭素数1〜50の芳香族炭化水素基である] T1H+ (6) [式中、T1は窒素を含む複素環化合物である] (R3)+ (7) [式中、(R3)+は炭素数1〜50のカルボニウムカチ
オン又はトロピリウムカチオンである] Gn+ (8) [式中、Gは周期表1〜14族の原子からなる群より選
ばれる少なくとも1種の原子、又はシクロペンタジエニ
ル基が置換した金属原子であり、Gn+はn価のカチオン
である]で表されるカチオンが用いられる。これらのカ
チオンは、それぞれ単独で使用し得るのみならず、二種
以上を用いることも可能である。In the general formula (4), E n + is at least one selected from the group consisting of atoms of groups 1 to 14 of the periodic table.
Cations containing species atoms can be used. For the purpose of performing the trimerization of ethylene at high catalytic activity, preferably the general formula (5), (6), (7) or (8) R 1 2 R 2 NH + (5) [ wherein, R 1 2 R 2 N is an amine compound, R 1 is each independently an aliphatic hydrocarbon group hydrogen atom or C1-30, R 2 is a hydrogen atom, an aliphatic having 1 to 30 carbon atoms carbide A hydrogen group or an aromatic hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms] T 1 H + (6) [wherein T 1 is a heterocyclic compound containing nitrogen] (R 3 ) + (7) [formula Wherein (R 3 ) + is a carbonium cation or a tropylium cation having 1 to 50 carbon atoms] G n + (8) wherein G is at least selected from the group consisting of atoms of groups 1 to 14 of the periodic table. a one atom metal atom or a cyclopentadienyl group is substituted, represented by G n + is an n-valent cation] Cation is used. These cations can be used alone or in combination of two or more.
【0022】R1 2R2Nで表されるアミン化合物は、特
に限定されるものではないが、例えば、メチルアミン、
エチルアミン、n−プロピルアミン、イソプロピルアミ
ン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、t−ブチル
アミン、アリルアミン、シクロペンチルアミン、ジメチ
ルアミン、ジエチルアミン、ジアリルアミン、トリメチ
ルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリアリルアミ
ン、ヘキシルアミン、2−アミノヘプタン、3−アミノ
ヘプタン、n−ヘプチルアミン、1,5−ジメチルヘキ
シルアミン、1−メチルヘプチルアミン、n−オクチル
アミン、t−オクチルアミン、ノニルアミン、デシルア
ミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシル
アミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘ
キサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシル
アミン、ノナデシルアミン、シクロヘキシルアミン、シ
クロヘプチルアミン、シクロヘキサンメチルアミン、2
−メチルシクロヘキシルアミン、4−メチルシクロヘキ
シルアミン、2,3−ジメチルシクロヘキシルアミン、
シクロドデシルアミン、2−(1−シクロヘキセニル)
エチルアミン、ゲラニルアミン、N−メチルヘキシルア
ミン、ジヘキシルアミン、ビス(2−エチルヘキシル)
アミン、ジオクチルアミン、ジデシルアミン、ジドデシ
ルアミン、ジテトラデシルアミン、ジヘキサデシルアミ
ン、ジオクタデシルアミン、N−メチルシクロヘキシル
アミン、N−エチルシクロヘキシルアミン、N−イソプ
ロピルシクロヘキシルアミン、N−t−ブチルシクロヘ
キシルアミン、N−アリルシクロヘキシルアミン、N,
N−ジメチルオクチルアミン、N,N−ジメチルウンデ
シルアミン、N,N−ジメチルドデシルアミン、N,N
−ジメチルオクタデシルアミン、N,N−ジオクタデシ
ルメチルアミン、N,N−ジオレイルメチルアミン、ト
リヘキシルアミン、トリイソオクチルアミン、トリオク
チルアミン、トリイソデシルアミン、トリドデシルアミ
ン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N−
ジエチルシクロヘキシルアミン等の脂肪族アミン類、ア
ニリン、N−メチルアニリン、N−エチルアニリン、N
−アリルアニリン、o−トルイジン、m−トルイジン、
p−トルイジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチ
ル−o−トルイジン、N−メチル−m−トルイジン、N
−メチル−p−トルイジン、N−エチル−o−トルイジ
ン、N−エチル−m−トルイジン、N−エチル−p−ト
ルイジン、N−アリル−o−トルイジン、N−アリル−
m−トルイジン、N−アリル−p−トルイジン、N−プ
ロピル−o−トルイジン、N−プロピル−m−トルイジ
ン、N−プロピル−p−トルイジン、2,3−ジメチル
アニリン、2,4−ジメチルアニリン、2,5−ジメチ
ルアニリン、2,6−ジメチルアニリン、3,4−ジメ
チルアニリン、3,5−ジメチルアニリン、2−エチル
アニリン、3−エチルアニリン、4−エチルアニリン、
N,N−ジエチルアニリン、2−イソプロピルアニリ
ン、4−イソプロピルアニリン、2−t−ブチルアニリ
ン、4−n−ブチルアニリン、4−s−ブチルアニリ
ン、4−t−ブチルアニリン、2,6−ジエチルアニリ
ン、2−イソプロピル−6−メチルアニリン、2−クロ
ロアニリン、3−クロロアニリン、4−クロロアニリ
ン、2−ブロモアニリン、3−ブロモアニリン、4−ブ
ロモアニリン、o−アニシジン、m−アニシジン、p−
アニシジン、o−フェネチジン、m−フェネチジン、p
−フェネチジン、1−アミノナフタレン、2−アミノナ
フタレン、1−アミノフルオレン、2−アミノフルオレ
ン、3−アミノフルオレン、4−アミノフルオレン、5
−アミノインデン、2−アミノビフェニル、4−アミノ
ビフェニル、N,2,3−トリメチルアニリン、N,
2,4−トリメチルアニリン、N,2,5−トリメチル
アニリン、N,2,6−トリメチルアニリン、N,3,
4−トリメチルアニリン、N,3,5−トリメチルアニ
リン、N−メチル−2−エチルアニリン、N−メチル−
3−エチルアニリン、N−メチル−4−エチルアニリ
ン、N−メチル−6−エチル−o−トルイジン、N−メ
チル−2−イソプロピルアニリン、N−メチル−4−イ
ソプロピルアニリン、N−メチル−2−t−ブチルアニ
リン、N−メチル−4−n−ブチルアニリン、N−メチ
ル−4−s−ブチルアニリン、N−メチル−4−t.−
ブチルアニリン、N−メチル−2,6−ジエチルアニリ
ン、N−メチル−2−イソプロピル−6−メチルアニリ
ン、N−メチル−p−アニシジン、N−エチル−2,3
−アニシジン、N,N−ジメチル−o−トルイジン、
N,N−ジメチル−m−トルイジン、N,N−ジメチル
−p−トルイジン、N,N,2,3−テトラメチルアニ
リン、N,N,2,4−テトラメチルアニリン、N,
N,2,5−テトラメチルアニリン、N,N,2,6−
テトラメチルアニリン、N,N,3,4−テトラメチル
アニリン、N,N,3,5−テトラメチルアニリン、
N,N−ジメチル−2−エチルアニリン、N,N−ジメ
チル−3−エチルアニリン、N,N−ジメチル−4−エ
チルアニリン、N,N−ジメチル−6−エチル−o−ト
ルイジン、N,N−ジメチル−2−イソプロピルアニリ
ン、N,N−ジメチル−4−イソプロピルアニリン、
N,N−ジメチル−2−t−ブチルアニリン、N,N−
ジメチル−4−n−ブチルアニリン、N,N−ジメチル
−4−s−ブチルアニリン、N,N−ジメチル−4−t
−ブチルアニリン、N,N−ジメチル−2,6−ジエチ
ルアニリン、N,N−ジメチル−2−イソプロピル−6
−メチルアニリン、N,N−ジメチル−2−クロロアニ
リン、N,N−ジメチル−3−クロロアニリン、N,N
−ジメチル−4−クロロアニリン、N,N−ジメチル−
2−ブロモアニリン、N,N−ジメチル−3−ブロモア
ニリン、N,N−ジメチル−4−ブロモアニリン、N,
N−ジメチル−o−アニシジン、N,N−ジメチル−m
−アニシジン、N,N−ジメチル−p−アニシジン、
N,N−ジメチル−o−フェネチジン、N,N−ジメチ
ル−m−フェネチジン、N,N−ジメチル−p−フェネ
チジン、N,N−ジメチル−1−アミノナフタレン、
N,N−ジメチル−2−アミノナフタレン、N,N−ジ
メチル−1−アミノフルオレン、N,N−ジメチル−2
−アミノフルオレン、N,N−ジメチル−3−アミノフ
ルオレン、N,N−ジメチル−4−アミノフルオレン、
N,N−ジメチル−5−アミノインデン、N,N−ジメ
チル−2−アミノビフェニル、N,N−ジメチル−4−
アミノビフェニル、N,N−ジメチル−p−トリメチル
シリルアニリン等の芳香族アミン類を例示することがで
きる。[0022] amine compound represented by R 1 2 R 2 N is not particularly limited but, for example, methylamine,
Ethylamine, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, t-butylamine, allylamine, cyclopentylamine, dimethylamine, diethylamine, diallylamine, trimethylamine, tri-n-butylamine, triallylamine, hexylamine, 2-amino Heptane, 3-aminoheptane, n-heptylamine, 1,5-dimethylhexylamine, 1-methylheptylamine, n-octylamine, t-octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tridecylamine , Tetradecylamine, pentadecylamine, hexadecylamine, heptadecylamine, octadecylamine, nonadecylamine, cyclohexylamine, cycloheptylamine Cyclohexane methylamine, 2
-Methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine, 2,3-dimethylcyclohexylamine,
Cyclododecylamine, 2- (1-cyclohexenyl)
Ethylamine, geranylamine, N-methylhexylamine, dihexylamine, bis (2-ethylhexyl)
Amine, dioctylamine, didecylamine, didodecylamine, ditetradecylamine, dihexadecylamine, dioctadecylamine, N-methylcyclohexylamine, N-ethylcyclohexylamine, N-isopropylcyclohexylamine, Nt-butylcyclohexylamine , N-allylcyclohexylamine, N,
N-dimethyloctylamine, N, N-dimethylundecylamine, N, N-dimethyldodecylamine, N, N
-Dimethyloctadecylamine, N, N-dioctadecylmethylamine, N, N-dioleylmethylamine, trihexylamine, triisooctylamine, trioctylamine, triisodecylamine, tridodecylamine, N, N-dimethyl Cyclohexylamine, N, N-
Aliphatic amines such as diethylcyclohexylamine, aniline, N-methylaniline, N-ethylaniline, N
-Allylaniline, o-toluidine, m-toluidine,
p-toluidine, N, N-dimethylaniline, N-methyl-o-toluidine, N-methyl-m-toluidine, N
-Methyl-p-toluidine, N-ethyl-o-toluidine, N-ethyl-m-toluidine, N-ethyl-p-toluidine, N-allyl-o-toluidine, N-allyl-
m-toluidine, N-allyl-p-toluidine, N-propyl-o-toluidine, N-propyl-m-toluidine, N-propyl-p-toluidine, 2,3-dimethylaniline, 2,4-dimethylaniline, 2,5-dimethylaniline, 2,6-dimethylaniline, 3,4-dimethylaniline, 3,5-dimethylaniline, 2-ethylaniline, 3-ethylaniline, 4-ethylaniline,
N, N-diethylaniline, 2-isopropylaniline, 4-isopropylaniline, 2-t-butylaniline, 4-n-butylaniline, 4-s-butylaniline, 4-t-butylaniline, 2,6-diethyl Aniline, 2-isopropyl-6-methylaniline, 2-chloroaniline, 3-chloroaniline, 4-chloroaniline, 2-bromoaniline, 3-bromoaniline, 4-bromoaniline, o-anisidine, m-anisidine, p −
Anisidine, o-phenetidine, m-phenetidine, p
-Phenetidine, 1-aminonaphthalene, 2-aminonaphthalene, 1-aminofluorene, 2-aminofluorene, 3-aminofluorene, 4-aminofluorene, 5
-Aminoindene, 2-aminobiphenyl, 4-aminobiphenyl, N, 2,3-trimethylaniline, N,
2,4-trimethylaniline, N, 2,5-trimethylaniline, N, 2,6-trimethylaniline, N, 3
4-trimethylaniline, N, 3,5-trimethylaniline, N-methyl-2-ethylaniline, N-methyl-
3-ethylaniline, N-methyl-4-ethylaniline, N-methyl-6-ethyl-o-toluidine, N-methyl-2-isopropylaniline, N-methyl-4-isopropylaniline, N-methyl-2- t-butylaniline, N-methyl-4-n-butylaniline, N-methyl-4-s-butylaniline, N-methyl-4-t. −
Butylaniline, N-methyl-2,6-diethylaniline, N-methyl-2-isopropyl-6-methylaniline, N-methyl-p-anisidine, N-ethyl-2,3
-Anisidine, N, N-dimethyl-o-toluidine,
N, N-dimethyl-m-toluidine, N, N-dimethyl-p-toluidine, N, N, 2,3-tetramethylaniline, N, N, 2,4-tetramethylaniline, N, N
N, 2,5-tetramethylaniline, N, N, 2,6-
Tetramethylaniline, N, N, 3,4-tetramethylaniline, N, N, 3,5-tetramethylaniline,
N, N-dimethyl-2-ethylaniline, N, N-dimethyl-3-ethylaniline, N, N-dimethyl-4-ethylaniline, N, N-dimethyl-6-ethyl-o-toluidine, N, N -Dimethyl-2-isopropylaniline, N, N-dimethyl-4-isopropylaniline,
N, N-dimethyl-2-t-butylaniline, N, N-
Dimethyl-4-n-butylaniline, N, N-dimethyl-4-s-butylaniline, N, N-dimethyl-4-t
-Butylaniline, N, N-dimethyl-2,6-diethylaniline, N, N-dimethyl-2-isopropyl-6
-Methylaniline, N, N-dimethyl-2-chloroaniline, N, N-dimethyl-3-chloroaniline, N, N
-Dimethyl-4-chloroaniline, N, N-dimethyl-
2-bromoaniline, N, N-dimethyl-3-bromoaniline, N, N-dimethyl-4-bromoaniline, N,
N-dimethyl-o-anisidine, N, N-dimethyl-m
-Anisidine, N, N-dimethyl-p-anisidine,
N, N-dimethyl-o-phenetidine, N, N-dimethyl-m-phenetidine, N, N-dimethyl-p-phenetidine, N, N-dimethyl-1-aminonaphthalene,
N, N-dimethyl-2-aminonaphthalene, N, N-dimethyl-1-aminofluorene, N, N-dimethyl-2
-Aminofluorene, N, N-dimethyl-3-aminofluorene, N, N-dimethyl-4-aminofluorene,
N, N-dimethyl-5-aminoindene, N, N-dimethyl-2-aminobiphenyl, N, N-dimethyl-4-
Aromatic amines such as aminobiphenyl and N, N-dimethyl-p-trimethylsilylaniline can be exemplified.
【0023】T1で表される窒素を含む複素環化合物
は、特に限定されるものではないが、例えば、オキサゾ
ール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾー
ル、イミダゾール、ピラゾール、フラザン、ピリジン、
ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピロリン、ピロリ
ジン、イミダゾリン、イミダゾリジン、ピラゾリン、ピ
ラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピ
コリン、コリジン、インドール、イソインドール、イン
ダゾール、キノリン、イソキノリン、シンノリン、キナ
ゾリン、キノキサリン、フタラジン、プリン、プテリジ
ン、カルバゾール、フェナントリジン、アクリジン、フ
ェナジン、フェナントロリン、インドリン、イソインド
リン、2,5−ジメチルピロリジン、2−メチルピペリ
ジン、3−メチルピペリジン、4−メチルピペリジン、
2,6−ジメチルピペリジン、3,3−ジメチルピペリ
ジン、3,5−ジメチルピペリジン、2−エチルピペリ
ジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、1−
メチルピロリジン、1−メチルピペリジン、1−エチル
ピペリジン、1−ブチルピロリジン、1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジンを例示することができる。The nitrogen-containing heterocyclic compound represented by T 1 is not particularly restricted but includes, for example, oxazole, isoxazole, thiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, furazane, pyridine,
Pyridazine, pyrimidine, pyrazine, pyrroline, pyrrolidine, imidazoline, imidazolidine, pyrazoline, pyrazolidine, piperidine, piperazine, morpholine, picoline, collidine, indole, isoindole, indazole, quinoline, isoquinoline, cinnoline, quinazoline, quinoxaline, phthalazine, purine Pteridine, carbazole, phenanthridine, acridine, phenazine, phenanthroline, indoline, isoindoline, 2,5-dimethylpyrrolidine, 2-methylpiperidine, 3-methylpiperidine, 4-methylpiperidine,
2,6-dimethylpiperidine, 3,3-dimethylpiperidine, 3,5-dimethylpiperidine, 2-ethylpiperidine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 1-
Methylpyrrolidine, 1-methylpiperidine, 1-ethylpiperidine, 1-butylpyrrolidine, 1,2,2,6
6-pentamethylpiperidine can be exemplified.
【0024】一般式(7)で表されるカチオンは、特に
限定されるものではないが、例えば、トリフェニルメチ
ルカチオン、トロピリウムカチオンを例示することがで
きる。The cation represented by the general formula (7) is not particularly limited, and examples thereof include a triphenylmethyl cation and a tropylium cation.
【0025】一般式(8)で表されるカチオンは、特に
限定されるものではないが、例えば、水素原子、リチウ
ム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、ルビジウム原
子、セシウム原子、ベリリウム原子、マグネシウム原
子、カルシウム原子、ストロンチウム原子、バリウム原
子、チタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、
ニオブ原子、タンタル原子、クロム原子、鉄原子、ニッ
ケル原子、銅原子、銀原子、亜鉛原子、アルミニウム原
子、スズ原子のカチオンを例示することができる。ま
た、シクロペンタジエニル基が置換した金属原子は、特
に限定されるものではないが、例えば、フェロセニウ
ム、デカメチルフェロセニウム等を例示することができ
る。The cation represented by the general formula (8) is not particularly limited. Examples thereof include a hydrogen atom, a lithium atom, a sodium atom, a potassium atom, a rubidium atom, a cesium atom, a beryllium atom, a magnesium atom, Calcium, strontium, barium, titanium, zirconium, hafnium,
Examples include cations of niobium atom, tantalum atom, chromium atom, iron atom, nickel atom, copper atom, silver atom, zinc atom, aluminum atom, and tin atom. The metal atom substituted by the cyclopentadienyl group is not particularly limited, and examples thereof include ferrocenium and decamethylferrocenium.
【0026】本発明における電子移動を伴うトポタクテ
ィックな還元反応生成物の具体的な調製方法としては特
に限定がないが、(a)ゲストカチオンになる原子の液
体アンモニア溶液にホスト化合物を浸す方法[式
(9)]、The specific method for preparing the topotactic reduction reaction product involving electron transfer in the present invention is not particularly limited. [Equation (9)],
【0027】[0027]
【化1】 Embedded image
【0028】(b)ゲストカチオンになる原子とホスト
化合物を100〜1500℃で反応させる方法[式(1
0)]、(B) A method of reacting an atom to be a guest cation with a host compound at 100 to 1500 ° C. [formula (1)
0)],
【0029】[0029]
【化2】 Embedded image
【0030】(c)ゲストカチオンのハロゲン化物とホ
スト化合物を100〜1500℃で反応させる方法[式
(11)]、(C) reacting a halide of a guest cation with a host compound at 100 to 1500 ° C. [formula (11)]
【0031】[0031]
【化3】 Embedded image
【0032】[式中、X4はハロゲン原子である] (d)還元試薬の非水溶媒溶液に、ホスト化合物を浸す
方法[式(12)]、[Wherein X 4 is a halogen atom] (d) A method of immersing a host compound in a non-aqueous solvent solution of a reducing reagent [formula (12)]
【0033】[0033]
【化4】 Embedded image
【0034】[式中、Red1はGn+を含む還元試薬で
あり、Solv1は非水溶媒である] (e)還元試薬の水溶液に、ホスト化合物を浸す方法
[式(13)]、[Wherein Red 1 is a reducing agent containing G n + and Solv 1 is a non-aqueous solvent]
【0035】[0035]
【化5】 Embedded image
【0036】[式中、Red2はGn+を含む還元試薬で
ある] (f)ホスト化合物をカソードとして、ゲストカチオン
を含む電解質溶液中で電気化学的に還元を行う方法[式
(14)]、[In the formula, Red 2 is a reducing reagent containing G n + ] (f) A method of electrochemical reduction in an electrolyte solution containing a guest cation using a host compound as a cathode [Formula (14)] ,
【0037】[0037]
【化6】 Embedded image
【0038】[式中、Solv2は水又は非水溶媒であ
る] (g)ホスト化合物をカソードとして、ゲストカチオン
を含むアノードを用いて電気化学的に還元を行う方法
[式(14)]、(h)ホスト化合物をカソードとし
て、ゲストカチオンになる原子を含むアノードを用いて
電気化学的に還元を行う方法[式(15)]、Wherein Solv 2 is water or a non-aqueous solvent. (G) A method of electrochemical reduction using a host compound as a cathode and an anode containing a guest cation [formula (14)] (H) a method of electrochemically reducing using a host compound as a cathode and an anode containing an atom to be a guest cation [formula (15)];
【0039】[0039]
【化7】 Embedded image
【0040】(i)アミン化合物とホスト化合物を10
0〜1500℃で反応させる方法[式(16)]、(I) An amine compound and a host compound are
A method of reacting at 0 to 1500 ° C. [formula (16)],
【0041】[0041]
【化8】 Embedded image
【0042】[式中、T2はアミン化合物である] (j)窒素を含む複素環化合物とホスト化合物を100
〜1500℃で反応させる方法[式(17)]、[Wherein T 2 is an amine compound] (j) a nitrogen-containing heterocyclic compound and a host compound
A method of reacting at ~ 1500C [formula (17)],
【0043】[0043]
【化9】 Embedded image
【0044】を例示することができる。Can be exemplified.
【0045】方法(d)、(f)、(g)及び(h)に
おける非水溶媒は、特に限定されるものではないが、例
えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ノナン、デカン、シクロペンタンもしくはシクロヘ
キサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエンもし
くはキシレン等の芳香族炭化水素類、エチルエーテルも
しくはn−ブチルエーテル等のエーテル類、塩化メチレ
ンもしくはクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ホ
ルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチ
ルホルムアミドもしくはN−メチルアセトアミド等のア
ミド類、メチルアルコールもしくはエチルアルコール等
のアルコール類、1,2−ブタンジオール、1,3−ブ
タンジオール、1,4−ブタンジオールもしくは2,3
−ブタンジオール等のジオール類、グリセリン、ポリ
(エチレングリコール)、ジグライム、1,2−ジメト
キシエタン、リン酸トリメチル、ヘキサメチルホスホル
アミド、トリ−n−ブチルリンオキサイド、1,4−ジ
オキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメ
チルスルフォキシド又は炭酸プロピレンを例示すること
ができる。The non-aqueous solvent used in the methods (d), (f), (g) and (h) is not particularly limited. Aliphatic hydrocarbons such as cyclopentane or cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene, ethers such as ethyl ether or n-butyl ether, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride or chloroform, formamide, Amides such as N-methylformamide, N, N-dimethylformamide or N-methylacetamide, alcohols such as methyl alcohol or ethyl alcohol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butane Diol or a few
-Diols such as butanediol, glycerin, poly (ethylene glycol), diglyme, 1,2-dimethoxyethane, trimethyl phosphate, hexamethylphosphoramide, tri-n-butylphosphine oxide, 1,4-dioxane, acetonitrile , Tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide or propylene carbonate.
【0046】方法(c)に関しては、ゲストカチオンの
ハロゲン化物として、特に限定されるものではないが、
例えば、塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム、塩化ルビジウム、塩化セシウムを例示することがで
きる。Regarding the method (c), the halide of the guest cation is not particularly limited, but
For example, lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, rubidium chloride, and cesium chloride can be exemplified.
【0047】方法(d)に関しては、還元試薬として、
特に限定されるものではないが、例えば、n−ブチルリ
チウム、ナフタレンリチウム、ナフタレンナトリウム、
ベンゾフェノンリチウム、ベンゾフェノンナトリウム、
ヨウ化リチウムを例示することができ、0.001〜1
0mol/lの濃度で、ホスト化合物1molに対して
0.001〜10mol用いることができる。反応温度
は特に限定はないが、−100〜100℃を用いること
ができ、反応時間に関しても特に限定はないが、1分〜
60日を用いることができる。Regarding the method (d), as the reducing reagent,
Although not particularly limited, for example, n-butyl lithium, naphthalene lithium, naphthalene sodium,
Lithium benzophenone, sodium benzophenone,
Lithium iodide can be exemplified, from 0.001 to 1
At a concentration of 0 mol / l, 0.001 to 10 mol can be used per 1 mol of the host compound. Although the reaction temperature is not particularly limited, -100 to 100 ° C can be used, and there is no particular limitation on the reaction time, but 1 minute to 1 minute.
60 days can be used.
【0048】方法(e)に関して、還元試薬は特に限定
されるものではないが、例えば、亜二チオン酸ナトリウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム、硫化ナトリウムを例示す
ることができ、0.001〜10mol/lの濃度で、
ホスト化合物1molに対して0.001〜10mol
用いることができる。反応温度は特に限定はないが、0
〜100℃を用いることができ、反応時間に関しても特
に限定はないが、1分〜60日を用いることができる。Regarding the method (e), the reducing reagent is not particularly restricted but includes, for example, sodium dithionite, sodium borohydride and sodium sulfide. At a concentration of
0.001 to 10 mol per 1 mol of host compound
Can be used. The reaction temperature is not particularly limited.
To 100 ° C, and the reaction time is not particularly limited, but 1 minute to 60 days can be used.
【0049】方法(f)に関して、電解質は特に限定さ
れるものではないが、例えば、ゲストカチオンの塩酸
塩、リン酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、過塩素酸塩、
ギ酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、マロン
酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、テトラフルオロホウ酸
塩及びヘキサフルオロリン酸塩を例示することができ、
0.001〜10mol/lの濃度で用いることができ
る。With respect to the method (f), the electrolyte is not particularly limited.
Formate, acetate, propionate, oxalate, malonate, succinate, citrate, tetrafluoroborate and hexafluorophosphate can be exemplified,
It can be used at a concentration of 0.001 to 10 mol / l.
【0050】方法(g)に関して、アノードは特に限定
されるものではないが、例えば、グラファイトのアルカ
リ金属塩を例示することができる。Regarding the method (g), the anode is not particularly limited, and examples thereof include alkali metal salts of graphite.
【0051】方法(h)に関して、アノードは特に限定
されるものではないが、例えば、リチウムを例示するこ
とができる。Regarding the method (h), the anode is not particularly limited. For example, lithium can be exemplified.
【0052】方法(i)に関して、アミン化合物は特に
限定されるものではないが、例えば、アンモニア、前記
R1 2R2Nで表されるアミン化合物を例示することがで
きる。[0052] with respect to the method (i), the amine compound is not particularly limited, for example, ammonia, may be exemplified the R 1 2 amine compound represented by R 2 N.
【0053】さらに、本発明における電子移動を伴うト
ポタクティックな還元反応生成物は、必要に応じて塩類
処理、酸処理及び/又はルイス塩基処理して用いること
もできる。Further, the topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer in the present invention can be used after being subjected to salt treatment, acid treatment and / or Lewis base treatment as required.
【0054】塩類処理に用いられる塩類は、周期表1〜
14族の原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の
原子を含む陽イオンと、ハロゲン原子、無機酸又は有機
酸の陰イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種の
陰イオンとからなる化合物であり、好ましくは、一般式
(5)、(6)、(7)又は(8)で表される陽イオン
からなる群より選ばれる少なくとも一種の陽イオンと、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、リン
酸、硫酸、硝酸、炭酸、過塩素酸、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、クエン酸、ア
セチルアセトン、テトラフルオロホウ酸及びヘキサフル
オロリン酸の陰イオンからなる群より選ばれる少なくと
も一種の陰イオンとからなる化合物である。The salts used in the salt treatment are as shown in the periodic table 1
A compound comprising at least one cation containing at least one atom selected from the group consisting of Group 14 atoms and at least one anion selected from the group consisting of halogen atoms, inorganic acids and organic acid anions, preferably Is at least one cation selected from the group consisting of cations represented by general formulas (5), (6), (7) and (8);
Fluorine, chlorine, bromine, iodine, phosphoric, sulfuric, nitric, carbonic, perchloric, formic, acetic, propionic, oxalic, malonic, succinic, citric, acetylacetone, tetrafluoroboric And at least one anion selected from the group consisting of hexafluorophosphate anions.
【0055】一般式(5)で表される陽イオンと、塩素
原子の陰イオンとからなる塩類としては、特に限定され
るものではないが、例えば、前記R1 2R2Nで表される
アミン化合物の塩酸塩を例示することができる。[0055] and a cation represented by the general formula (5), the salts comprising the anions of chlorine, but are not particularly limited, for example, represented by R 1 2 R 2 N Examples thereof include a hydrochloride of an amine compound.
【0056】一般式(6)で表される陽イオンと、塩素
原子の陰イオンとからなる塩類としては、特に限定され
るものではないが、例えば、前記T1で表される窒素を
含む複素環化合物の塩酸塩を例示することができる。[0056] complex and the cation represented by the general formula (6), the salts comprising the anions of chlorine, but are not particularly limited, including, for example, a nitrogen represented by T 1 The hydrochloride of a ring compound can be exemplified.
【0057】一般式(7)で表される陽イオンと、ハロ
ゲン原子の陰イオンとからなる塩類としては、特に限定
されるものではないが、例えば、塩化トリフェニルメチ
ル、臭化トロピリウムを例示することができる。The salt comprising the cation represented by the general formula (7) and the anion of a halogen atom is not particularly limited, but examples thereof include triphenylmethyl chloride and tropylium bromide. be able to.
【0058】一般式(8)で表される陽イオンを含む塩
類としては、特に限定されるものではないが、例えば、
塩化リチウム、塩化ナトリウム、リン酸ナトリウム、硫
酸ナトリウム、硝酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム、酢酸
ナトリウム、シュウ酸ナトリウム、クエン酸ナトリウ
ム、塩化カリウム、塩化ルビジウム、塩化セシウム、塩
化ベリリウム、塩化マグネシウム、リン酸マグネシウ
ム、硫酸マグネシウム、硝酸マグネシウム、過塩素酸マ
グネシウム、酢酸マグネシウム、シュウ酸マグネシウ
ム、コハク酸マグネシウム、塩化カルシウム、塩化スト
ロンチウム、塩化バリウム、塩化チタン、塩化ジルコニ
ウム、塩化ハフニウム、塩化ニオブ、塩化タンタル、塩
化クロム、塩化鉄、塩化ニッケル、塩化銅、塩化銀、臭
化銀、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、リン酸アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、シュウ酸ア
ルミニウム、塩化スズ、フェロセニウム硫酸塩を例示す
ることができる。The salts containing a cation represented by the general formula (8) are not particularly limited.
Lithium chloride, sodium chloride, sodium phosphate, sodium sulfate, sodium nitrate, sodium formate, sodium acetate, sodium oxalate, sodium citrate, potassium chloride, rubidium chloride, cesium chloride, beryllium chloride, magnesium chloride, magnesium phosphate, sulfuric acid Magnesium, magnesium nitrate, magnesium perchlorate, magnesium acetate, magnesium oxalate, magnesium succinate, calcium chloride, strontium chloride, barium chloride, titanium chloride, zirconium chloride, hafnium chloride, niobium chloride, tantalum chloride, chromium chloride, iron chloride , Nickel chloride, copper chloride, silver chloride, silver bromide, zinc chloride, aluminum chloride, aluminum phosphate, aluminum sulfate, aluminum nitrate, aluminum oxalate, tin chloride, It can be exemplified Eroseniumu sulfate.
【0059】酸処理に用いられる酸としては、特に限定
されるものではないが、例えば、塩酸、リン酸、硫酸、
硝酸、炭酸、過塩素酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、シ
ュウ酸、マロン酸、コハク酸、クエン酸を例示すること
ができるが、2種以上混合して用いることもできる。The acid used for the acid treatment is not particularly limited, but for example, hydrochloric acid, phosphoric acid, sulfuric acid,
Examples include nitric acid, carbonic acid, perchloric acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, and citric acid, but they can also be used in combination of two or more.
【0060】ルイス塩基処理に用いられるルイス塩基と
しては、特に限定されるものではないが、例えば、水、
NH3、前記R1 2R2Nで表されるアミン化合物、前記T
1で表される窒素を含む複素環化合物、エチルエーテル
もしくはn−ブチルエーテル等のエーテル類、ホルムア
ミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミドもしくはN−メチルアセトアミド等のアミド
類、メチルアルコールもしくはエチルアルコール等のア
ルコール類、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタン
ジオール、1,4−ブタンジオールもしくは2,3−ブ
タンジオール等のジオール類、グリセリン、ポリ(エチ
レングリコール)、ジグライム、1,2−ジメトキシエ
タン、リン酸トリメチル、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、トリ−n−ブチルリンオキサイド、1,4−ジオキ
サン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルフォキシド又は炭酸プロピレンを例示することがで
きるが、2種以上混合して用いることもできる。The Lewis base used in the Lewis base treatment is not particularly limited.
NH 3, wherein the amine compound represented by R 1 2 R 2 N, wherein T
A nitrogen-containing heterocyclic compound represented by 1 , an ether such as ethyl ether or n-butyl ether, an amide such as formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide or N-methylacetamide, methyl alcohol or ethyl Alcohols such as alcohol, diols such as 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol or 2,3-butanediol, glycerin, poly (ethylene glycol), diglyme, 2-dimethoxyethane, trimethyl phosphate, hexamethylphosphoramide, tri-n-butyl phosphor oxide, 1,4-dioxane, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide or propylene carbonate can be exemplified. Mix over Can also be used.
【0061】塩類処理、酸処理及び/又はルイス塩基処
理の方法としては、塩類、酸及び/又はルイス塩基に、
又は塩類、酸及び/又はルイス塩基を溶解させた溶液
に、方法(a)〜(j)の還元反応で得られた生成物か
らなる群より選ばれる少なくとも1種の還元反応生成物
を浸す方法を例示することができる。The salt treatment, acid treatment and / or Lewis base treatment may be carried out by adding a salt, an acid and / or a Lewis base,
Or a method of immersing at least one type of reduction reaction product selected from the group consisting of products obtained by the reduction reactions of methods (a) to (j) in a solution in which salts, acids and / or Lewis bases are dissolved. Can be exemplified.
【0062】塩類処理と酸処理とルイス塩基処理を組み
合わせる場合においては、塩類処理を行った後、酸処理
を行う方法、塩類処理を行った後、ルイス塩基処理を行
う方法、酸処理を行った後、塩類処理を行う方法、酸処
理を行った後、ルイス塩基処理を行う方法、ルイス塩基
処理を行った後、塩類処理を行う方法、ルイス塩基処理
を行った後、酸処理を行う方法、塩類処理と酸処理を同
時に行う方法、塩類処理とルイス塩基処理を同時に行う
方法、酸処理とルイス塩基処理を同時に行う方法、塩類
処理を行った後、酸処理とルイス塩基処理を同時に行う
方法、酸処理を行った後、塩類処理とルイス塩基処理を
同時に行う方法、ルイス塩基処理を行った後、塩類処理
と酸処理を同時に行う方法、塩類処理と酸処理を同時に
行った後、ルイス塩基処理を行う方法、塩類処理とルイ
ス塩基処理を同時に行った後、酸処理を行う方法、酸処
理とルイス塩基処理を同時に行った後、塩類処理を行う
方法、及び塩類処理と酸処理とルイス塩基処理を同時に
行う方法を用いることができる。When the salt treatment, the acid treatment, and the Lewis base treatment are combined, a method of performing the salt treatment and then performing the acid treatment, a method of performing the salt treatment and then performing the Lewis base treatment, and the acid treatment are performed. After, a method of performing a salt treatment, a method of performing a Lewis base treatment after performing an acid treatment, a method of performing a salt treatment after performing the Lewis base treatment, a method of performing an acid treatment after performing the Lewis base treatment, A method of simultaneously performing salt treatment and acid treatment, a method of simultaneously performing salt treatment and Lewis base treatment, a method of simultaneously performing acid treatment and Lewis base treatment, a method of simultaneously performing acid treatment and Lewis base treatment after performing salt treatment, After performing the acid treatment, a method of simultaneously performing the salt treatment and the Lewis base treatment, a method of simultaneously performing the salt treatment and the acid treatment after performing the Lewis base treatment, a method of simultaneously performing the salt treatment and the acid treatment, A method of performing a base treatment, a method of performing an acid treatment after simultaneously performing a salt treatment and a Lewis base treatment, a method of performing a salt treatment after simultaneously performing an acid treatment and a Lewis base treatment, and a method of performing a salt treatment, an acid treatment and Lewis A method of simultaneously performing the base treatment can be used.
【0063】塩類、酸及びルイス塩基による処理条件は
特に限定はないが、塩類、酸及びルイス塩基は、0.0
01〜10mol/lの濃度で、還元反応生成物中のゲ
ストカチオン1molに対して0.001〜1000m
ol、処理温度は−100〜150℃、処理時間は1分
〜60日の条件を選択することが好ましい。また、これ
らの処理は、必要に応じて繰り返し行ってもよい。The conditions for treatment with salts, acids and Lewis bases are not particularly limited.
At a concentration of 01 to 10 mol / l, 0.001 to 1000 m per 1 mol of guest cation in the reduction reaction product
ol, the processing temperature is preferably from -100 to 150 ° C., and the processing time is preferably from 1 minute to 60 days. Further, these processes may be repeatedly performed as necessary.
【0064】塩類処理、酸処理及び/又はルイス塩基処
理に用いられる溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキ
サン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロペ
ンタンもしくはシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエンもしくはキシレン等の芳香族炭化水
素類、メチルアルコールもしくはエチルアルコール等の
アルコール類、エチルエーテルもしくはn−ブチルエー
テル等のエーテル類、塩化メチレンもしくはクロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、1,4−ジオキサン、ア
セトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォ
キシド、水炭酸プロピレン又はアンモニア水を例示する
ことができるが、これらの溶媒は複数混合して用いるこ
ともできる。Solvents used for salt treatment, acid treatment and / or Lewis base treatment include aliphatic hydrocarbons such as butane, pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, cyclopentane and cyclohexane.
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene or xylene; alcohols such as methyl alcohol or ethyl alcohol; ethers such as ethyl ether or n-butyl ether; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride or chloroform; Examples thereof include dioxane, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, propylene carbonate, and aqueous ammonia, and a plurality of these solvents may be used as a mixture.
【0065】本発明において電子移動を伴うトポタクテ
ィックな還元反応生成物の使用量は、特に制限されるも
のではないが、後記のクロム錯体1モルに対して0.0
1〜10000kgであり、好ましくは0.1〜100
0kg、より好ましくは1〜500kgである。In the present invention, the amount of the topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer is not particularly limited, but may be 0.0 to 1 mol of the chromium complex described below.
1 to 10,000 kg, preferably 0.1 to 100
0 kg, more preferably 1 to 500 kg.
【0066】本発明において、エチレンの三量化触媒を
構成する一成分として、中性の多座配位子が配位したク
ロム錯体が用いられる。中性の多座配位子が配位したク
ロム錯体は、下記一般式(1) ACrBn (1) (式中、Aは中性の多座配位子である。nは1〜3の整
数であり、Bは水素原子、炭素数1〜10の炭化水素
基、カルボキシレート基もしくはジケトナート基、ハロ
ゲン原子、アミド、イミド、アルコキシド、チオアルコ
キシド、カルボニル、アレーン、アルケン、アルキン、
アミン、イミン、ニトリル、イソニトリル、ホスフィ
ン、ホスフィンオキシド、ホスファイト、エーテル、ス
ルホン、スルホキシド及びスルフィドからなる群より選
ばれる1種以上を表す)で示される錯体が好適なものと
して挙げられる。In the present invention, a chromium complex to which a neutral polydentate ligand is coordinated is used as one component constituting the ethylene trimerization catalyst. The chromium complex coordinated by the neutral polydentate ligand is represented by the following general formula (1): ACrB n (1) (where A is a neutral polydentate ligand. B is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a carboxylate group or a diketonate group, a halogen atom, an amide, an imide, an alkoxide, a thioalkoxide, a carbonyl, an arene, an alkene, an alkyne,
A complex represented by at least one selected from the group consisting of amine, imine, nitrile, isonitrile, phosphine, phosphine oxide, phosphite, ether, sulfone, sulfoxide and sulfide).
【0067】ここで、クロム錯体に配位させる中性の多
座配位子として用いられるものは、特に限定されるもの
ではないが、例えば、下記一般式(18)The neutral polydentate ligand to be coordinated with the chromium complex is not particularly limited. For example, the following general formula (18)
【0068】[0068]
【化10】 Embedded image
【0069】(式中、a,b,cはそれぞれ独立した0
〜6の整数である。D1はそれぞれ独立して置換基を有
していてもよい2価の炭化水素基、L1はそれぞれ独立
して置換基を有していてもよいヘテロ元素基又は複素環
式化合物を表す。また、Gは炭化水素、ケイ素、窒素又
はリンを表す)で示される三脚型構造を有する多座配位
子、下記一般式(19)(Where a, b, and c are each independently 0
6 to an integer. D 1 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent independently, and L 1 represents a hetero element group or a heterocyclic compound which may have a substituent independently. G represents a hydrocarbon, silicon, nitrogen or phosphorus), a polydentate ligand having a tripod-type structure represented by the following general formula (19)
【0070】[0070]
【化11】 Embedded image
【0071】(式中、d,e,fはそれぞれ独立した1
〜6の整数である。D2はそれぞれ独立して置換基を有
していてもよい2価の炭化水素基、L2はそれぞれ独立
して置換基を有していてもよいヘテロ元素基を表す)で
示される環状型構造を有する多座配位子及び下記一般式
(20)(Where d, e, and f are independent 1
6 to an integer. D 2 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent independently, and L 2 represents a hetero element group which may have a substituent independently.) Polydentate ligand having a structure and the following general formula (20)
【0072】[0072]
【化12】 Embedded image
【0073】(式中、g,hはそれぞれ独立した0〜6
の整数である。D3はそれぞれ独立して置換基を有して
いてもよい2価の炭化水素基、L3はそれぞれ独立して
置換基を有していてもよいヘテロ元素基又は複素環式化
合物を表す)で示されるブリッジ型構造を有する多座配
位子等が挙げられる。(Wherein g and h are independently 0-6
Is an integer. D 3 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent independently, and L 3 represents a hetero element group or a heterocyclic compound which may have a substituent independently.) And a polydentate ligand having a bridge-type structure.
【0074】上記一般式(18)、(19)及び(2
0)において、D1、D2及びD3は、特に限定されるも
のではないが、例えば、アルキレン基、シクロアルキレ
ン基、フェニレン基、トリレン基、キシリレン基等が挙
げられる。また、その置換基としては、例えば、メチル
基、エチル基等のアルキル基類、メトキシ基、エトキシ
基等のアルコキシ基類等が挙げられる。The above general formulas (18), (19) and (2)
In 0), D 1 , D 2 and D 3 are not particularly restricted but include, for example, alkylene, cycloalkylene, phenylene, tolylene, xylylene and the like. Examples of the substituent include alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group, and alkoxy groups such as a methoxy group and an ethoxy group.
【0075】一般式(18)、(19)及び(20)に
おいて、L1、L2及びL3で示されるヘテロ元素基は、
特に限定されるものではないが、例えば、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ
基類、フェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基等
のアリールオキシ基類、メチルチオ基、エチルチオ基、
プロピルチオ基、ブチルチオ基等のアルキルチオ基類、
フェニルチオ基、トリルチオ基等のアリールチオ基類、
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ビス(トリメチ
ルシリル)アミノ基等のジアルキルアミノ基類、ジフェ
ニルアミノ基等のジアリールアミノ基類、メチルフェニ
ル基等のアルキルアリールアミノ基類、ジメチルホスフ
ィノ基、ジエチルホスフィノ基等のジアルキルホスフィ
ノ基、ジフェニルホスフィノ基、ジトリルホスフィノ基
等のジアリールホスフィノ基、メチルフェニルホスフィ
ノ基等のアルキルアリールホスフィノ基類が挙げられ
る。In the general formulas (18), (19) and (20), the hetero element groups represented by L 1 , L 2 and L 3 are
Although not particularly limited, for example, a methoxy group,
Alkoxy groups such as ethoxy group, propoxy group and butoxy group, phenoxy group, aryloxy groups such as 2,6-dimethylphenoxy group, methylthio group, ethylthio group,
Alkylthio groups such as propylthio group and butylthio group,
Arylthio groups such as phenylthio group and tolylthio group,
Dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group and bis (trimethylsilyl) amino group; diarylamino groups such as diphenylamino group; alkylarylamino groups such as methylphenyl group; dimethylphosphino group; diethylphosphino group And diarylphosphino groups such as diphenylphosphino group and ditolylphosphino group, and alkylarylphosphino groups such as methylphenylphosphino group.
【0076】また、一般式(18)及び(20)におい
て、L1及びL3で示される複素環式化合物は、特に限定
されるものではないが、例えば、フリル基、ベンゾフリ
ル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、ピラゾリル基、
トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、イミダ
ゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インダゾリル基、キ
ノリル基、イソキノリル基、オキサゾリル基、チアゾー
ル基等が挙げられる。これらのヘテロ元素基及び複素環
式化合物の置換基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、フェニル基等
が挙げられる。In the general formulas (18) and (20), the heterocyclic compounds represented by L 1 and L 3 are not particularly restricted but include, for example, furyl, benzofuryl, thienyl, Benzothienyl group, pyrazolyl group,
Examples include triazolyl, tetrazolyl, pyridyl, imidazolyl, benzimidazolyl, indazolyl, quinolyl, isoquinolyl, oxazolyl, and thiazole groups. Examples of the substituents of the hetero element group and the heterocyclic compound include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an octyl group, a phenyl group and the like.
【0077】上記一般式(18)におけるGとしては、
特に限定されるものではないが、例えば、メタン、エタ
ン、プロパン、ブタン、ヒドロキシメタン、メチルシラ
ン、フェニルシラン、アミン、アミンオキシド、ホスフ
ィン、ホスフィンオキシド等が挙げられる。In the above general formula (18), G is
Although not particularly limited, examples include methane, ethane, propane, butane, hydroxymethane, methylsilane, phenylsilane, amine, amine oxide, phosphine, phosphine oxide, and the like.
【0078】上記一般式(18)で示される三脚型構造
を有する多座配位子として通常用いられるものは、特に
限定されるものではないが、例えば、トリス(メトキシ
メチル)メタン、1,1,1−トリス(メトキシメチ
ル)エタン、1,1,1−トリス(メトキシメチル)プ
ロパン、1,1,1−トリス(メトキシメチル)ブタ
ン、1,1,1−トリス(エトキシメチル)エタン、
1,1,1−トリス(プロポキシメチル)エタン、1,
1,1−トリス(ブトキシメチル)エタン、1,1,1
−トリス(フェノキシメチル)エタン、トリフリルメタ
ン、トリス(5−メチル−2−フリル)メタン、トリス
(5−エチル−2−フリル)メタン、トリス(5−ブチ
ル−2−フリル)メタン、1,1,1−トリフリルエタ
ン、トリフリルアミン、トリフリルホスフィン、トリフ
リルホスフィンオキシド等の含酸素多座配位子類、1,
1,1−トリス(メチルチオメチル)エタン、1,1,
1−トリス(ブチルチオメチル)エタン、1,1,1−
トリス(フェニルチオメチル)エタン、トリス(チエニ
ル)メタン等の含イオウ多座配位子類、1,1,1−ト
リス(ジメチルアミノメチル)エタン、1,1,1−ト
リス(ジフェニルアミノメチル)エタン、トリス(ピラ
ゾリル)メタン、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラ
ゾリル)メタン、トリス(3,5−ジイソプロピル−1
−ピラゾリル)メタン、1,1,1−トリス(3,5−
ジメチル−1−ピラゾリル)エタン、1,1,1−トリ
ス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)プロパン、
1,1,1−トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリ
ル)ブタン、トリス(2−ピリジル)メタン、トリス
(6−メチル−2−ピリジル)メタン、トリス(2−ピ
リジル)アミン、トリス(2−ピリジル)ホスフィン、
トリス(2−ピリジル)ホスフィンオキシド、トリス
(2−ピリジル)ヒドロキシメタン、トリス(1−イミ
ダゾリル)メタン等の含窒素多座配位子類、1,1,1
−トリス(ジフェニルホスフィノメチル)エタン、1,
1,1−トリス(ジメチルホスフィノメチル)エタン、
1,1,1−トリス(ジエチルホスフィノメチル)エタ
ン等の含リン多座配位子類が挙げられる。Examples of the polydentate ligand having a tripod-type structure represented by the general formula (18) which are generally used include, but are not particularly limited to, tris (methoxymethyl) methane, 1,1 1,1-tris (methoxymethyl) ethane, 1,1,1-tris (methoxymethyl) propane, 1,1,1-tris (methoxymethyl) butane, 1,1,1-tris (ethoxymethyl) ethane,
1,1,1-tris (propoxymethyl) ethane, 1,
1,1-tris (butoxymethyl) ethane, 1,1,1
-Tris (phenoxymethyl) ethane, trifurylmethane, tris (5-methyl-2-furyl) methane, tris (5-ethyl-2-furyl) methane, tris (5-butyl-2-furyl) methane, 1, Oxygen-containing polydentate ligands such as 1,1-trifurylethane, trifurylamine, trifurylphosphine, and trifurylphosphine oxide;
1,1-tris (methylthiomethyl) ethane, 1,1,
1-tris (butylthiomethyl) ethane, 1,1,1-
Sulfur-containing polydentate ligands such as tris (phenylthiomethyl) ethane and tris (thienyl) methane, 1,1,1-tris (dimethylaminomethyl) ethane, 1,1,1-tris (diphenylaminomethyl) Ethane, tris (pyrazolyl) methane, tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methane, tris (3,5-diisopropyl-1)
-Pyrazolyl) methane, 1,1,1-tris (3,5-
Dimethyl-1-pyrazolyl) ethane, 1,1,1-tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) propane,
1,1,1-tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) butane, tris (2-pyridyl) methane, tris (6-methyl-2-pyridyl) methane, tris (2-pyridyl) amine, tris ( 2-pyridyl) phosphine,
Nitrogen-containing polydentate ligands such as tris (2-pyridyl) phosphine oxide, tris (2-pyridyl) hydroxymethane, and tris (1-imidazolyl) methane; 1,1,1
-Tris (diphenylphosphinomethyl) ethane, 1,
1,1-tris (dimethylphosphinomethyl) ethane,
Phosphorus-containing polydentate ligands such as 1,1,1-tris (diethylphosphinomethyl) ethane;
【0079】また、環状型構造を有する多座配位子とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、1,
3,5−トリメチル−1,3,5−トリアザシクロヘキ
サン、1,3,5−トリエチル−1,3,5−トリアザ
シクロヘキサン、1,3,5−トリ−i−プロピル−
1,3,5−トリアザシクロヘキサン、1,3,5−ト
リ−t−ブチル−1,3,5−トリアザシクロヘキサ
ン、1,3,5−トリ−n−ブチル−1,3,5−トリ
アザシクロヘキサン、1,3,5−トリシクロヘキシル
−1,3,5−トリアザシクロヘキサン、1,3,5−
トリベンジル−1,3,5−トリアザシクロヘキサン、
1,3,5−トリフェニル−1,3,5−トリアザシク
ロヘキサン、2,4,6−トリメチル−1,3,5−ト
リアザシクロヘキサン、1,4,7−トリアザシクロノ
ナン、1,4,7−トリメチル−1,4,7−トリアザ
シクロノナン、1,4,7−トリエチル−1,4,7−
トリアザシクロノナン、1,4,7−トリ−i−プロピ
ル−1,4,7−トリアザシクロノナン、1,4,7−
トリ−t−ブチル−1,4,7−トリアザシクロノナ
ン、1,4,7−トリシクロヘキシル−1,4,7−ト
リアザシクロノナン、1,4,7−トリフェニル−1,
4,7−トリアザシクロノナン等の含窒素多座配位子
類、1,3,5−トリチアシクロヘキサン、1,4,7
−トリチアシクロノナン、1,4,7,10−テトラチ
アシクロドデカン、1,5,9,13−テトラチアヘキ
サデカン等の含イオウ多座配位子類、1,3,5−トリ
オキサシクロヘキサン、1,4,7−トリオキサシクロ
ノナン、12−クラウン−4、15−クラウン−5、1
8−クラウン−6等の含酸素多座配位子類が挙げられ
る。The polydentate ligand having a cyclic structure is not particularly limited.
3,5-trimethyl-1,3,5-triazacyclohexane, 1,3,5-triethyl-1,3,5-triazacyclohexane, 1,3,5-tri-i-propyl-
1,3,5-triazacyclohexane, 1,3,5-tri-t-butyl-1,3,5-triazacyclohexane, 1,3,5-tri-n-butyl-1,3,5- Triazacyclohexane, 1,3,5-tricyclohexyl-1,3,5-triazacyclohexane, 1,3,5-
Tribenzyl-1,3,5-triazacyclohexane,
1,3,5-triphenyl-1,3,5-triazacyclohexane, 2,4,6-trimethyl-1,3,5-triazacyclohexane, 1,4,7-triazacyclononane, 1, 4,7-trimethyl-1,4,7-triazacyclononane, 1,4,7-triethyl-1,4,7-
Triazacyclononane, 1,4,7-tri-i-propyl-1,4,7-triazacyclononane, 1,4,7-
Tri-t-butyl-1,4,7-triazacyclononane, 1,4,7-tricyclohexyl-1,4,7-triazacyclononane, 1,4,7-triphenyl-1,
Nitrogen-containing polydentate ligands such as 4,7-triazacyclononane, 1,3,5-trithiacyclohexane, 1,4,7
Sulfur-containing polydentate ligands such as -trithiacyclononane, 1,4,7,10-tetrathiacyclododecane, 1,5,9,13-tetrathiahexadecane, 1,3,5-trioxacyclohexane , 1,4,7-trioxacyclononane, 12-crown-4, 15-crown-5,1
And oxygen-containing polydentate ligands such as 8-crown-6.
【0080】ブリッジ型構造を有する多座配位子として
は、特に限定されるものではないが、例えば、ビス(ジ
メチルホスフィノエチル)メチルホスフィン、ビス(ジ
フェニルホスフィノエチル)フェニルホスフィン等の含
リン多座配位子類、ジエチレントリアミン、ビス(ジメ
チルアミノエチル)メチルアミン、ビス(ジエチルアミ
ノエチル)エチルアミン、ビス(フェニルアミノエチ
ル)アミン、α,α’,α”−トリピリジン、2,6−
ビス(2−フェニル−2−アザエテニル)ピリジン、ビ
ス[3−(2−ピリジルエチルイミノ)−2−ブタノン
オキシム]等の含窒素多座配位子類、ジエチレングリコ
ールメチルエーテル、ビス(メトキシエチル)エーテ
ル、ビス(エトキシエチル)エーテル、ビス(ブトキシ
エチル)エーテル、(t−ブトキシエチル)(メトキシ
エチル)エーテル等の含酸素多座配位子類が挙げられ
る。The polydentate ligand having a bridge-type structure is not particularly limited, and examples thereof include phosphorus-containing compounds such as bis (dimethylphosphinoethyl) methylphosphine and bis (diphenylphosphinoethyl) phenylphosphine. Polydentate ligands, diethylenetriamine, bis (dimethylaminoethyl) methylamine, bis (diethylaminoethyl) ethylamine, bis (phenylaminoethyl) amine, α, α ′, α ″ -tripyridine, 2,6-
Nitrogen-containing polydentate ligands such as bis (2-phenyl-2-azaethenyl) pyridine and bis [3- (2-pyridylethylimino) -2-butanone oxime], diethylene glycol methyl ether, bis (methoxyethyl) ether , Bis (ethoxyethyl) ether, bis (butoxyethyl) ether, (t-butoxyethyl) (methoxyethyl) ether and the like.
【0081】また、上記一般式(1)のBにおいて、炭
素数1〜10の炭化水素基としては、特に限定されるも
のではないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基又はフェ
ニル基等が挙げられる。炭素数1〜10のカルボキシレ
ート基としては、特に限定されるものではないが、例え
ば、アセテート基、ナフテネート基又は2−エチルヘキ
サノエート基等が挙げられる。炭素数1〜10のジケト
ナート基としては、特に限定されるものではないが、例
えば、アセチルアセトナート基等が挙げられる。ハロゲ
ン原子としては、特に限定されるものではないが、例え
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子等
が挙げられる。アミド基としては、特に限定されるもの
ではないが、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミ
ド基、ジイソプロピルアミド基、ジオクチルアミド基、
ジデシルアミド基、ジドデシルアミド基、ビス(トリメ
チルシリル)アミド基、ジフェニルアミド基、N−メチ
ルアニリド又はアニリド基等が挙げられる。イミド基と
しては、特に限定されるものではないが、例えば、ベン
ゾフェノンイミド等が挙げられる。アルコキシド基とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、メトキ
シド基、エトキシド基、プロポキシド基、ブトキシド基
又はフェノキシド基等が挙げられる。チオアルコキシド
基としては、特に限定されるものではないが、例えば、
チオメトキシド基、チオエトキシド基、チオプロポキシ
ド基、チオブトキシド基又はチオフェノキシド基等が挙
げられる。アレーンとしては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリ
メチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン又はナフタレン
等が挙げられる。アルケンとしては、特に限定されるも
のではないが、例えば、エチレン、プロピレン、ブテ
ン、ヘキセン又はデセン等が挙げられる。アルキンとし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、アセチ
レン、フェニルアセチレン又はジフェニルアセチレン等
が挙げられる。アミンとしては、特に限定されるもので
はないが、例えば、トリエチルアミン又はトリブチルア
ミン等が挙げられる。イミンとしては、特に限定される
ものではないが、例えば、ベンゾフェノンイミン又はメ
チルエチルケトンイミン等が挙げられる。ニトリルとし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、アセト
ニトリル又はベンゾニトリル等が挙げられる。イソニト
リルとしては、特に限定されるものではないが、例え
ば、t−ブチルイソニトリル又はフェニルイソニトリル
等が挙げられる。ホスフィンとしては、特に限定される
ものではないが、例えば、トリフェニルホスフィン、ト
リトリルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン又
はトリブチルホスフィン等が挙げられる。ホスフィンオ
キシドとしては、特に限定されるものではないが、例え
ば、トリブチルホスフィンオキシド又はトリフェニルホ
スフィンオキシド等が挙げられる。ホスファイトとして
は、特に限定されるものではないが、例えば、トリフェ
ニルホスファイト、トリトリルホスファイト、トリブチ
ルホスファイト又はトリエチルホスファイト等が挙げら
れる。エーテルとしては、特に限定されるものではない
が、例えば、ジエチルエーテル又はテトラヒドロフラン
等が挙げられる。スルホンとしては、特に限定されるも
のではないが、例えば、ジメチルスルホン又はジブチル
スルホン等が挙げられる。スルホキシドとしては、特に
限定されるものではないが、例えば、ジメチルスルホキ
シド又はジブチルスルホキシド等が挙げられる。スルフ
ィドとしては、特に限定されるものではないが、例え
ば、エチルスルフィド又はブチルスルフィド等が挙げら
れる。In B of the above general formula (1), the hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited. Examples thereof include a cyclohexyl group, a benzyl group and a phenyl group. Examples of the carboxylate group having 1 to 10 carbon atoms include, but are not particularly limited to, an acetate group, a naphthenate group, and a 2-ethylhexanoate group. The diketonate group having 1 to 10 carbon atoms is not particularly limited, and examples thereof include an acetylacetonate group. Examples of the halogen atom include, but are not particularly limited to, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. The amide group is not particularly limited, for example, dimethylamide group, diethylamide group, diisopropylamide group, dioctylamide group,
Examples include a didecylamide group, a didodecylamide group, a bis (trimethylsilyl) amide group, a diphenylamide group, N-methylanilide, and an anilide group. The imide group is not particularly limited, but examples include benzophenone imide. The alkoxide group is not particularly limited, but includes, for example, a methoxide group, an ethoxide group, a propoxide group, a butoxide group, a phenoxide group and the like. The thioalkoxide group is not particularly limited, for example,
Examples thereof include a thiomethoxide group, a thioethoxide group, a thiopropoxide group, a thiobutoxide group and a thiophenoxide group. The arene is not particularly limited, and examples thereof include benzene, toluene, xylene, trimethylbenzene, hexamethylbenzene, and naphthalene. The alkene is not particularly restricted but includes, for example, ethylene, propylene, butene, hexene or decene. The alkyne is not particularly restricted but includes, for example, acetylene, phenylacetylene, diphenylacetylene and the like. Examples of the amine include, but are not particularly limited to, triethylamine and tributylamine. Examples of the imine include, but are not particularly limited to, benzophenone imine and methyl ethyl ketone imine. The nitrile is not particularly limited, but includes, for example, acetonitrile or benzonitrile. The isonitrile is not particularly limited, and examples thereof include t-butyl isonitrile and phenyl isonitrile. Although it does not specifically limit as a phosphine, For example, triphenyl phosphine, tolyl phosphine, tricyclohexyl phosphine, tributyl phosphine, etc. are mentioned. Although it does not specifically limit as a phosphine oxide, For example, a tributyl phosphine oxide, a triphenyl phosphine oxide, etc. are mentioned. Although it does not specifically limit as a phosphite, For example, a triphenyl phosphite, a tolyl phosphite, a tributyl phosphite, a triethyl phosphite, etc. are mentioned. Examples of the ether include, but are not particularly limited to, diethyl ether and tetrahydrofuran. The sulfone is not particularly limited, and examples thereof include dimethyl sulfone and dibutyl sulfone. The sulfoxide is not particularly limited, but includes, for example, dimethyl sulfoxide or dibutyl sulfoxide. Although it does not specifically limit as a sulfide, For example, ethyl sulfide, butyl sulfide, etc. are mentioned.
【0082】上記一般式(1)で示される中性の多座配
位子が配位したクロム錯体の具体的な例としては、特に
限定されるものではないが、例えば、トリス(メトキシ
メチル)メタンクロムトリクロライド(III)、1,
1,1−トリス(メトキシメチル)エタンクロムトリカ
ルボニル(0)、1,1,1−トリス(メトキシメチ
ル)エタンクロムトリクロライド(III)、1,1,
1−トリス(メトキシメチル)エタン−トリス(ジイソ
プロピルアミド)クロム(III)、1,1,1−トリ
ス(メトキシメチル)エタン−トリス(ジメチルアミ
ド)クロム(III)、1,1,1−トリス(メトキシ
メチル)エタン−トリス[ビス(トリメチルシリル)ア
ミド]クロム(III)、1,1,1−トリス(メトキ
シメチル)エタンクロムトリエトキシド(III)、
1,1,1−トリス(メトキシメチル)エタンクロムト
リチオブトキシド(III)、1,1,1−トリス(エ
トキシメチル)エタンクロムトリクロライド(II
I)、1,1,1−トリス(ブトキシメチル)エタンク
ロムトリクロライド(III)、1,1,1−トリス
(フェノキシメチル)エタンクロムトリクロライド(I
II)、トリフリルメタンクロムトリカルボニル
(0)、トリス(5−メチル−2−フリル)メタンクロ
ムトリカルボニル(0)、トリス(5−ブチル−2−フ
リル)メタンクロムトリカルボニル(0)、トリフリル
アミンクロムトリカルボニル(0)、トリフリルホスフ
ィンクロムトリカルボニル(0)、トリフリルホスフィ
ンオキシドクロムトリカルボニル(0)、1,1,1−
トリス(メチルチオメチル)エタンクロムトリカルボニ
ル(0)、トリス(チエニル)メタンクロムトリカルボ
ニル(0)、1,1,1−トリス(ジメチルアミノメチ
ル)エタンクロムトリカルボニル(0)、トリス(ピラ
ゾリル)メタンクロムトリカルボニル(0)、トリス
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メタンクロムト
リカルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−
ピラゾリル)メタンクロムトリクロライド(III)、
トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メタン−
トリス(ジエチルアミド)クロム(III)、トリス
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メタン−トリス
(ジイソプロピルアミド)クロム(III)、トリス
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メタン−トリス
[ビス(トリメチルシリル)アミド]クロム(II
I)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メ
タン−トリス(ベンゾフェノンイミド)クロム(II
I)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メ
タンクロムトリエトキシド(III)、トリス(3,5
−ジメチル−1−ピラゾリル)メタンクロムトリチオブ
トキシド(III)、トリス(3,5−ジメチル−1−
ピラゾリル)メタン−トルエンクロム(0)、トリス
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メタンクロム
(エチレン)ジカルボニル(0)、トリス(3,5−ジ
メチル−1−ピラゾリル)メタンクロム(フェニルアセ
チレン)ジカルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチ
ル−1−ピラゾリル)メタンクロム(ジメチルアニリ
ン)ジカルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−
1−ピラゾリル)メタンクロム(ベンゾフェノンイミ
ン)ジカルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−
1−ピラゾリル)メタンクロム(アセトニトリル)ジカ
ルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラ
ゾリル)メタンクロム(t−ブチルイソニトリル)ジカ
ルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラ
ゾリル)メタンクロム(トリブチルホスフィン)ジカル
ボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾ
リル)メタンクロム(トリブチルホスフィンオキシド)
ジカルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−
ピラゾリル)メタンクロム(トリフェニルホスファイ
ト)ジカルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−
1−ピラゾリル)メタンクロム(テトラヒドロフラン)
ジカルボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−
ピラゾリル)メタンクロム(ジメチルスルホン)ジカル
ボニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾ
リル)メタンクロム(ジメチルスルホキシド)ジカルボ
ニル(0)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリ
ル)メタンクロム(ジブチルスルフィド)ジカルボニル
(0)、トリス(3,5−ジイソプロピル−1−ピラゾ
リル)メタンクロムトリカルボニル(0)、1,1,1
−トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)エタン
クロムトリカルボニル(0)、1,1,1−トリス
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)プロパンクロム
トリカルボニル(0)、1,1,1−トリス(3,5−
ジメチル−1−ピラゾリル)ブタンクロムトリカルボニ
ル(0)、トリス(2−ピリジル)メタンクロムトリカ
ルボニル(0)、トリス(6−メチル−2−ピリジル)
メタンクロムトリカルボニル(0)、トリス(2−ピリ
ジル)アミンクロムトリカルボニル(0)、トリス(2
−ピリジル)ホスフィンクロムトリカルボニル(0)、
トリス(2−ピリジル)ホスフィンオキシドクロムトリ
カルボニル(0)、トリス(1−イミダゾリル)メタン
クロムトリカルボニル(0)、1,1,1−トリス(ジ
フェニルホスフィノメチル)エタンクロムトリカルボニ
ル(0)、1,1,1−トリス(ジフェニルホスフィノ
メチル)エタンクロムトリクロライド(III)、1,
1,1−トリス(ジメチルホスフィノメチル)エタンク
ロムトリカルボニル(0)、1,1,1−トリス(ジエ
チルホスフィノメチル)エタンクロムトリカルボニル
(0)、1,1,1−トリス(ジエチルホスフィノメチ
ル)エタンクロムトリクロライド(III)、1,1,
1−トリス(ジエチルホスフィノメチル)エタン−トリ
ス(ジイソプロピルアミド)クロム(III)等の三脚
型構造を有する多座配位子が配位したクロム錯体が挙げ
られる。Specific examples of the chromium complex to which the neutral polydentate ligand represented by the above general formula (1) is coordinated are not particularly limited. For example, tris (methoxymethyl) Methane chromium trichloride (III), 1,
1,1-tris (methoxymethyl) ethanechrome tricarbonyl (0), 1,1,1-tris (methoxymethyl) ethanechrome trichloride (III), 1,1,
1-tris (methoxymethyl) ethane-tris (diisopropylamido) chromium (III), 1,1,1-tris (methoxymethyl) ethane-tris (dimethylamido) chromium (III), 1,1,1-tris ( Methoxymethyl) ethane-tris [bis (trimethylsilyl) amide] chromium (III), 1,1,1-tris (methoxymethyl) ethanechrome triethoxide (III),
1,1,1-tris (methoxymethyl) ethanechrome trithiobutoxide (III), 1,1,1-tris (ethoxymethyl) ethanechrome trichloride (II)
I), 1,1,1-tris (butoxymethyl) ethanechrome trichloride (III), 1,1,1-tris (phenoxymethyl) ethanechrome trichloride (I)
II), trifuryl methane chromium tricarbonyl (0), tris (5-methyl-2-furyl) methane chromium tricarbonyl (0), tris (5-butyl-2-furyl) methane chromium tricarbonyl (0), tris Furylamine chromium tricarbonyl (0), trifurylphosphine chromium tricarbonyl (0), trifurylphosphine oxide chromium tricarbonyl (0), 1,1,1-
Tris (methylthiomethyl) ethanechrome tricarbonyl (0), tris (thienyl) methanechrometricarbonyl (0), 1,1,1-tris (dimethylaminomethyl) ethanechrometricarbonyl (0), tris (pyrazolyl) methane Chromium tricarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechromium tricarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-)
Pyrazolyl) methanechrome trichloride (III),
Tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methane-
Tris (diethylamido) chromium (III), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methane-tris (diisopropylamido) chromium (III), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methane-tris [bis (Trimethylsilyl) amide] chromium (II
I), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methane-tris (benzophenoneimido) chromium (II)
I), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechromium triethoxide (III), tris (3,5
-Dimethyl-1-pyrazolyl) methanechromium trithiobutoxide (III), tris (3,5-dimethyl-1-)
Pyrazolyl) methane-toluenechromium (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome (ethylene) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome (phenylacetylene) ) Dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechromium (dimethylaniline) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-)
1-pyrazolyl) methanechromium (benzophenoneimine) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-
1-pyrazolyl) methanechrome (acetonitrile) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome (t-butylisonitrile) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1) -Pyrazolyl) methanechromium (tributylphosphine) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome (tributylphosphine oxide)
Dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-
Pyrazolyl) methanechromium (triphenylphosphite) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-
1-pyrazolyl) methanechrome (tetrahydrofuran)
Dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-
Pyrazolyl) methanechromium (dimethylsulfone) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome (dimethylsulfoxide) dicarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) Methane chromium (dibutyl sulfide) dicarbonyl (0), tris (3,5-diisopropyl-1-pyrazolyl) methane chromium tricarbonyl (0), 1,1,1
-Tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) ethanechrome tricarbonyl (0), 1,1,1-tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) propanechrometricarbonyl (0), 1,1 , 1-tris (3,5-
Dimethyl-1-pyrazolyl) butanechrometricarbonyl (0), tris (2-pyridyl) methanechrometricarbonyl (0), tris (6-methyl-2-pyridyl)
Methane chromium tricarbonyl (0), tris (2-pyridyl) amine chromium tricarbonyl (0), tris (2
-Pyridyl) phosphine chromium tricarbonyl (0),
Tris (2-pyridyl) phosphine oxide chromium tricarbonyl (0), tris (1-imidazolyl) methane chromium tricarbonyl (0), 1,1,1-tris (diphenylphosphinomethyl) ethanechrome tricarbonyl (0), 1,1,1-tris (diphenylphosphinomethyl) ethanechrome trichloride (III),
1,1-tris (dimethylphosphinomethyl) ethanechrome tricarbonyl (0), 1,1,1-tris (diethylphosphinomethyl) ethanechrometricarbonyl (0), 1,1,1-tris (diethylphosphinomethyl) (Finomethyl) ethanechrome trichloride (III), 1,1,
A chromium complex coordinated by a polydentate ligand having a tripod-type structure such as 1-tris (diethylphosphinomethyl) ethane-tris (diisopropylamido) chromium (III) is exemplified.
【0083】また、1,3,5−トリエチル−1,3,
5−トリアザシクロヘキサンクロムトリカルボニル
(0)、1,3,5−トリ−i−プロピル−1,3,5
−トリアザシクロヘキサンクロムトリカルボニル
(0)、1,3,5−トリ−i−プロピル−1,3,5
−トリアザシクロヘキサンクロムトリクロライド(II
I)、1,3,5−トリ−i−プロピル−1,3,5−
トリアザシクロヘキサンクロムジクロライド(II)、
ジクロロフェニルクロム−1,3,5−トリメチル−
1,3,5−トリアザシクロヘキサンクロム(II
I)、ジクロロフェニルクロム−1,3,5−トリ−i
−プロピル−1,3,5−トリアザシクロヘキサンクロ
ム(III)、1,3,5−トリ−t−ブチル−1,
3,5−トリアザシクロヘキサンクロムトリカルボニル
(0)、1,3,5−トリ−t−ブチル−1,3,5−
トリアザシクロヘキサンクロムトリクロライド(II
I)、1,3,5−トリ−t−ブチル−1,3,5−ト
リアザシクロヘキサン−トリス(ジイソプロピルアミ
ド)クロム(III)、1,3,5−トリシクロヘキシ
ル−1,3,5−トリアザシクロヘキサンクロムトリカ
ルボニル(0)、2,4,6−トリメチル−1,3,5
−トリアザシクロヘキサンクロムトリカルボニル
(0)、1,4,7−トリメチル−1,4,7−トリア
ザシクロノナンクロムトリクロライド(III)、1,
4,7−トリ−t−ブチル−1,4,7−トリアザシク
ロノナンクロムトリカルボニル(0)、1,3,5−ト
リチアシクロヘキサンクロムトリカルボニル(0)、
1,4,7−トリチアシクロノナンクロムトリカルボニ
ル(0)、1,3,5−トリオキサシクロヘキサンクロ
ムトリカルボニル(0)、1,4,7−トリオキサシク
ロノナンクロムトリカルボニル(0)等の環状型構造を
有する多座配位子が配位したクロム錯体が挙げられる。Also, 1,3,5-triethyl-1,3,
5-triazacyclohexanechromium tricarbonyl (0), 1,3,5-tri-i-propyl-1,3,5
-Triazacyclohexanechromium tricarbonyl (0), 1,3,5-tri-i-propyl-1,3,5
-Triazacyclohexanechromium trichloride (II
I), 1,3,5-tri-i-propyl-1,3,5-
Triazacyclohexanechromium dichloride (II),
Dichlorophenylchrome-1,3,5-trimethyl-
1,3,5-triazacyclohexanechromium (II
I), dichlorophenylchrom-1,3,5-tri-i
-Propyl-1,3,5-triazacyclohexanechromium (III), 1,3,5-tri-t-butyl-1,
3,5-triazacyclohexanechromium tricarbonyl (0), 1,3,5-tri-t-butyl-1,3,5-
Triazacyclohexanechromium trichloride (II
I), 1,3,5-tri-t-butyl-1,3,5-triazacyclohexane-tris (diisopropylamide) chromium (III), 1,3,5-tricyclohexyl-1,3,5- Triazacyclohexanechromium tricarbonyl (0), 2,4,6-trimethyl-1,3,5
-Triazacyclohexanechromium tricarbonyl (0), 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazacyclononanechromium trichloride (III), 1,
4,7-tri-t-butyl-1,4,7-triazacyclononanechromium tricarbonyl (0), 1,3,5-trithiacyclohexanechromium tricarbonyl (0),
Cyclic rings such as 1,4,7-trithiacyclononanechromium tricarbonyl (0), 1,3,5-trioxacyclohexanechromium tricarbonyl (0), and 1,4,7-trioxacyclononanechromium tricarbonyl (0) A chromium complex coordinated by a polydentate ligand having a type structure is exemplified.
【0084】さらに、ビス(ジメチルホスフィノエチ
ル)メチルホスフィンクロムトリクロライド(II
I)、ビス(ジフェニルホスフィノエチル)フェニルホ
スフィンクロムトリカルボニル(0)、ビス(ジフェニ
ルホスフィノエチル)フェニルホスフィンクロムトリク
ロライド(III)、ジエチレントリアミンクロムトリ
カルボニル(0)、ビス(ジメチルアミノエチル)メチ
ルアミンクロムトリクロライド(III)、α,α’,
α”−トリピリジンクロムトリクロライド(III)、
2,6−ビス(2−フェニル−2−アザエテニル)ピリ
ジンクロムトリクロライド(III)、ビス[3−(2
−ピリジルエチルイミノ)−2−ブタノンオキシム]ク
ロムトリクロライド(III)、ビス(メトキシエチ
ル)エーテルクロムトリクロライド(III)、ビス
(エトキシエチル)エーテルクロムトリクロライド(I
II)等のブリッジ型構造を有する多座配位子が配位し
たクロム錯体が挙げられる。Further, bis (dimethylphosphinoethyl) methylphosphinechromium trichloride (II
I), bis (diphenylphosphinoethyl) phenylphosphinechromium tricarbonyl (0), bis (diphenylphosphinoethyl) phenylphosphinechromium trichloride (III), diethylenetriaminechromiumtricarbonyl (0), bis (dimethylaminoethyl) methyl Amine chromium trichloride (III), α, α ',
α "-tripyridinechromium trichloride (III),
2,6-bis (2-phenyl-2-azaethenyl) pyridinechromium trichloride (III), bis [3- (2
-Pyridylethylimino) -2-butanone oxime] chromium trichloride (III), bis (methoxyethyl) ether chromium trichloride (III), bis (ethoxyethyl) ether chromium trichloride (I
A chromium complex coordinated by a polydentate ligand having a bridge-type structure such as II).
【0085】これらのうち、1−ヘキセン選択性や触媒
活性の面から、一般式(1)の中性の多座配位子として
は三脚型構造を有する多座配位子が好ましく用いられ
る。また、Bとしてはカルボニル、炭素数1〜10の炭
化水素基、ハロゲン原子、アミド及びチオアルコキシド
が好ましく用いられる。より好ましくは三脚型構造を有
する多座配位子が配位したクロムのカルボニル錯体、ハ
ロゲン錯体及びアミド錯体が用いられる。さらに好まし
くは、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メ
タンクロムトリカルボニル(0)、トリス(3,5−ジ
メチル−1−ピラゾリル)メタンクロムトリクロライド
(III)、トリス(3,5−ジメチル−1−ピラゾリ
ル)メタンクロムトリス(ジイソプロピル)アミド(I
II)、1,1,1−トリス(メトキシメチル)エタン
クロムトリカルボニル(0)等が用いられる。Among these, from the viewpoint of 1-hexene selectivity and catalytic activity, a polydentate ligand having a tripod structure is preferably used as the neutral polydentate ligand of the general formula (1). As B, carbonyl, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, an amide and a thioalkoxide are preferably used. More preferably, a carbonyl complex, a halogen complex and an amide complex of chromium coordinated by a polydentate ligand having a tripod structure are used. More preferably, tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome tricarbonyl (0), tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome trichloride (III), tris (3,5- Dimethyl-1-pyrazolyl) methanechrome tris (diisopropyl) amide (I
II), 1,1,1-tris (methoxymethyl) ethanechrome tricarbonyl (0) and the like are used.
【0086】本発明において、上記の中性の多座配位子
が配位したクロム錯体の合成法は、特に限定されるもの
ではないが、例えば、中性の多座配位子とクロム化合物
とから公知の錯体形成法[例えば、J.Amer.Ch
em.Soc.,92,5118(1970)及びAn
gew.Chem.Int.Ed.Engl.,33,
1877(1994)等]により容易に合成することが
できる。この場合、使用できるクロム化合物としては、
特に限定されるものではないが、例えば、クロムヘキサ
カルボニル(0)、ペンタカルボニル(トリフェニルホ
スフィン)クロム(0)、テトラカルボニルビス(エチ
レン)クロム(0)、トリカルボニル(ベンゼン)クロ
ム(0)、トリカルボニル(トルエン)クロム(0)、
トリカルボニル(トリメチルベンゼン)クロム(0)、
トリカルボニル(ヘキサメチルベンゼン)クロム
(0)、トリカルボニル(ナフタレン)クロム(0)、
トリカルボニル(シクロヘプタトリエン)クロム
(0)、トリカルボニルトリス(アセトニトリル)クロ
ム(0)、トリカルボニルトリス(トリフェニルホスフ
ァイト)クロム(0)、(エチレン)ジカルボニル(ト
リメチルベンゼン)クロム(0)、シクロヘキシルイソ
ニトリルジカルボニル(トリメチルベンゼン)クロム
(0)、トリブチルホスフィンジカルボニル(トリメチ
ルベンゼン)クロム(0)、トリカルボニル(シクロペ
ンタジエニル)クロム(I)ダイマー、ヒドリドトリカ
ルボニル(シクロペンタジエニル)クロム(II)等の
クロムカルボニル化合物類、塩化クロム(III)、塩
化クロム(II)、臭化クロム(III)、臭化クロム
(II)、ヨウ化クロム(III)、ヨウ化クロム(I
I)、フッ化クロム(III)、フッ化クロム(I
I)、トリス(テトラヒドロフラン)クロムクロライド
(III)、トリス(1,4−ジオキサン)クロムクロ
ライド(III)、トリス(ジエチルエーテル)クロム
クロライド(III)、トリス(ピリジン)クロムクロ
ライド(III)、トリス(アセトニトリル)クロムク
ロライド(III)等のクロムハロゲン化物類、トリス
(テトラヒドロフラン)クロムトリス(ジイソプロピル
アミド)(III)、トリス(テトラヒドロフラン)ク
ロムトリス(ジエチルアミド)(III)等のクロムア
ミド類、クロム(IV)t−ブトキシド等のクロムアル
コキシド類、クロム(III)アセチルアセトナート等
のクロムジケトナート類、クロム(III)2−エチル
ヘキサノエート、クロム(III)アセテート、クロム
(III)ナフテネート等のクロムカルボン酸塩類が挙
げられる。In the present invention, the method of synthesizing the chromium complex having the neutral polydentate ligand coordinated thereto is not particularly limited. And a known complex formation method [for example, J. Amer. Ch
em. Soc. , 92, 5118 (1970) and An
gew. Chem. Int. Ed. Engl. , 33,
1877 (1994)]. In this case, as a chromium compound that can be used,
Although not particularly limited, for example, chromium hexacarbonyl (0), pentacarbonyl (triphenylphosphine) chromium (0), tetracarbonylbis (ethylene) chromium (0), tricarbonyl (benzene) chromium (0) , Tricarbonyl (toluene) chromium (0),
Tricarbonyl (trimethylbenzene) chromium (0),
Tricarbonyl (hexamethylbenzene) chromium (0), tricarbonyl (naphthalene) chromium (0),
Tricarbonyl (cycloheptatriene) chromium (0), tricarbonyltris (acetonitrile) chromium (0), tricarbonyltris (triphenylphosphite) chromium (0), (ethylene) dicarbonyl (trimethylbenzene) chromium (0) , Cyclohexylisonitriledicarbonyl (trimethylbenzene) chromium (0), tributylphosphinedicarbonyl (trimethylbenzene) chromium (0), tricarbonyl (cyclopentadienyl) chromium (I) dimer, hydridetricarbonyl (cyclopentadienyl) Chromium carbonyl compounds such as chromium (II), chromium (III) chloride, chromium (II) chloride, chromium (III) bromide, chromium (II) bromide, chromium (III) iodide, chromium (I)
I), chromium fluoride (III), chromium fluoride (I
I), tris (tetrahydrofuran) chromium chloride (III), tris (1,4-dioxane) chromium chloride (III), tris (diethyl ether) chromium chloride (III), tris (pyridine) chromium chloride (III), tris ( Chromium halides such as acetonitrile) chromium chloride (III), chromamides such as tris (tetrahydrofuran) chromium tris (diisopropylamide) (III), tris (tetrahydrofuran) chromium tris (diethylamide) (III), and chromium (IV) t-butoxide Chrome alkoxides such as chromium (III) acetylacetonate and the like, chromium (III) 2-ethylhexanoate, chromium (III) acetate, chromium (III) naphthene It includes chromic acid salts over bets like.
【0087】中性の多座配位子とクロム化合物を反応さ
せ、クロム錯体を形成させる際のクロム金属の濃度は特
に制限されない。また、ここで用いられる溶媒として
は、特に限定されるものではないが、有機溶媒が好まし
く用いられる。例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサン、デカ
リン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クメン、トリメチルベンゼン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類が挙げられる。また、上記溶媒は、
それぞれ単独で使用し得るのみならず、二種以上を混合
して用いることも可能である。The concentration of chromium metal in forming a chromium complex by reacting a neutral polydentate ligand with a chromium compound is not particularly limited. The solvent used here is not particularly limited, but an organic solvent is preferably used. For example, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, cyclohexane, decalin, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene, and trimethylbenzene; ethers such as diethyl ether and tetrahydrofuran And halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride. Further, the solvent is
Not only can each be used alone, but also two or more can be used as a mixture.
【0088】また、錯体形成反応は、0℃から使用する
反応溶媒の沸点までの任意の温度で行われ、好ましくは
20〜200℃である。反応時間は特に制限されず、通
常1分〜48時間、好ましくは5分〜24時間である。
なお、反応時のすべての操作は、空気と水分を避けて行
なうことが望ましい。また、原料及び溶媒は十分に乾燥
しておくことが好ましい。The complex formation reaction is carried out at any temperature from 0 ° C. to the boiling point of the reaction solvent used, preferably at 20 to 200 ° C. The reaction time is not particularly limited, and is usually 1 minute to 48 hours, preferably 5 minutes to 24 hours.
It is desirable that all operations during the reaction be performed while avoiding air and moisture. Further, it is preferable that the raw materials and the solvent are sufficiently dried.
【0089】中性の多座配位子が配位したクロム錯体
は、通常固体として沈殿するので、ろ過により反応溶媒
から分離できる。さらに必要に応じて、上記溶媒を用い
て洗浄を行い、次いで乾燥して、エチレンの三量化触媒
の構成成分の一つであるクロム錯体が合成される。尚、
沈殿しない場合は、溶媒留去、貧溶媒の添加あるいは冷
却処理等により沈殿させることができる。The chromium complex to which a neutral polydentate ligand is coordinated usually precipitates as a solid, and can be separated from the reaction solvent by filtration. Further, if necessary, washing is carried out using the above-mentioned solvent, followed by drying to synthesize a chromium complex which is one of the components of the ethylene trimerization catalyst. still,
When precipitation does not occur, precipitation can be performed by evaporating the solvent, adding a poor solvent, or cooling.
【0090】本発明においては、中性の多座配位子が配
位したクロム錯体のうち、その多座配位子がfacia
lに配位したクロム錯体を用いることが好ましい。多座
配位子がfacialに配位したクロム錯体を用いるこ
とにより、ポリエチレンの副生が抑えられる等の効果が
認められる。ここで、多座配位子がfacialに配位
した錯体は、配位子が3つ配位した6配位八面体型錯体
の異性体の一つである[化学選書 有機金属化学−基礎
と応用−、143頁(裳華房])。即ち、配位子が3つ
配位した6配位八面体型錯体において、3つの配位子は
すべてシス位になるような配置で配位していることを意
味する。In the present invention, among the chromium complexes coordinated by a neutral polydentate ligand, the polydentate ligand is facia
It is preferable to use a chromium complex coordinated to l. By using a chromium complex in which a polydentate ligand is coordinated with a factor, effects such as suppression of by-product of polyethylene are recognized. Here, the complex in which the polydentate ligand is coordinated to facial is one of the isomers of a six-coordinate octahedral complex in which three ligands are coordinated [Chemical Selection Organometallic Chemistry-Basic and Application-, p. 143 (Shokabo). That is, in a six-coordinate octahedral complex in which three ligands are coordinated, this means that all three ligands are coordinated in an arrangement such that they are in the cis position.
【0091】本発明において使用されるアルキル金属化
合物は、特に限定されるものではないが、例えば、下記
一般式(2) RpMXq (2) (式中、pは0<p≦3であり、qは0≦q<3であっ
て、しかもp+qは1〜3である。Mはリチウム、マグ
ネシウム、亜鉛、ボロン又はアルミニウムを表し、Rは
炭素数1〜10のアルキル基からなる群より選ばれる1
種以上を表し、Xは水素原子、アルコキシ基、アリール
基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種以上を
表す)で示される化合物が好適なものとして挙げられ
る。The alkyl metal compound used in the present invention is not particularly limited. For example, the following general formula (2) R p MX q (2) (where p is 0 <p ≦ 3) And q is 0 ≦ q <3, and p + q is 1 to 3. M represents lithium, magnesium, zinc, boron or aluminum, and R represents a group consisting of an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. 1 to be chosen
Wherein X represents one or more selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkoxy group, an aryl group, and a halogen atom).
【0092】上記一般式(2)において、炭素数1〜1
0のアルキル基としては、特に限定されるものではない
が、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、シクロヘキシル基又はオクチル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、特に限定されるものではない
が、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基又は
フェノキシ基等が挙げられる。アリール基としては、特
に限定されるものではないが、例えば、フェニル基等が
挙げられる。ハロゲン原子としては、特に限定されるも
のではないが、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素
が挙げられる。In the above general formula (2), the number of carbon atoms is 1 to 1.
The alkyl group of 0 is not particularly limited, but examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a cyclohexyl group, and an octyl group.
Although it does not specifically limit as an alkoxy group, For example, a methoxy group, an ethoxy group, a butoxy group, a phenoxy group, etc. are mentioned. The aryl group is not particularly limited, but includes, for example, a phenyl group. Although it does not specifically limit as a halogen atom, For example, fluorine, chlorine, bromine, or iodine is mentioned.
【0093】なお、上記一般式(2)において、MがA
lで、pとqがそれぞれ1.5のとき、AlR1.5X1.5
となる。このような化合物は、理論的には存在しない
が、通常、慣用的にAl2R3X3のセスキ体として表現
されており、これらの化合物も本発明に含まれる。In the general formula (2), M is A
l, when p and q are each 1.5, AlR 1.5 X 1.5
Becomes Although such compounds do not exist in theory, they are usually conventionally expressed as sesqui-forms of Al 2 R 3 X 3 , and these compounds are also included in the present invention.
【0094】上記一般式(2)で示されるアルキル金属
化合物としては、例えば、メチルリチウム、エチルリチ
ウム、プロピルリチウム、n−ブチルリチウム、s−ブ
チルリチウム、t−ブチルリチウム、ジエチルマグネシ
ウム、エチルブチルマグネシウム、エチルクロロマグネ
シウム、エチルブロモマグネシウム、ジメチル亜鉛、ジ
エチル亜鉛、ジブチル亜鉛、トリメチルボラン、トリエ
チルボラン、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n−ヘ
キシルアルミニウム、トリ−n−オクチルアルミニウ
ム、トリシクロヘキシルアルミニウム、ジメチルエチル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジイソ
ブチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシド、ジシク
ロヘキシルフェニルアルミニウム、エチルアルミニウム
エトキシクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジ
エチルアルミニウムブロミド、ジイソブチルアルミニウ
ムクロリド、ジシクロヘキシルアルミニウムクロリド、
メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウ
ムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリ
ド、エチルアルミニウムジクロリド、イソブチルアルミ
ニウムジクロリド等が挙げられる。Examples of the alkyl metal compound represented by the general formula (2) include methyl lithium, ethyl lithium, propyl lithium, n-butyl lithium, s-butyl lithium, t-butyl lithium, diethyl magnesium, and ethyl butyl magnesium. , Ethyl chloro magnesium, ethyl bromo magnesium, dimethyl zinc, diethyl zinc, dibutyl zinc, trimethyl borane, triethyl borane, trimethyl aluminum, triethyl aluminum, triisobutyl aluminum, tri-n-hexyl aluminum, tri-n-octyl aluminum, tricyclohexyl Aluminum, dimethylethylaluminum, diethylaluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, diethylaluminum ethoxide, diethyl Rumi bromide phenoxide, dicyclohexyl phenyl aluminum, ethyl aluminum ethoxy chloride, diethylaluminum chloride, diethylaluminum bromide, diisobutylaluminum chloride, dicyclohexyl aluminum chloride,
Examples include methylaluminum sesquichloride, ethylaluminum sesquichloride, butylaluminum sesquichloride, ethylaluminum dichloride, isobutylaluminum dichloride and the like.
【0095】これらのうち入手の容易さ及び活性の面か
ら、アルキルアルミニウム化合物が好ましく用いられ、
さらに好ましくはトリエチルアルミニウム又はトリイソ
ブチルアルミニウムが用いられる。これらのアルキル金
属化合物は単独で使用し得るのみならず、二種以上を混
合して用いることも可能である。Of these, alkyl aluminum compounds are preferably used in terms of availability and activity.
More preferably, triethylaluminum or triisobutylaluminum is used. These alkyl metal compounds can be used alone or in combination of two or more.
【0096】アルキル金属化合物の使用量は、クロム錯
体1モルに対して0.1〜10000当量であり、好ま
しくは3〜3000当量、より好ましくは5〜2000
当量である。The amount of the alkyl metal compound to be used is 0.1 to 10000 equivalents, preferably 3 to 3000 equivalents, more preferably 5 to 2000 equivalents, per 1 mol of the chromium complex.
Is equivalent.
【0097】本発明の中性の多座配位子が配位したクロ
ム錯体、アルキル金属化合物及び電子移動を伴うトポタ
クティックな還元反応生成物からなるエチレンの三量化
触媒は、前記のクロム錯体、アルキル金属化合物及び電
子移動を伴うトポタクティックな還元反応生成物を原料
に、溶媒中で接触させることにより調製できる。接触方
法は特に制限されない。The catalyst for trimerizing ethylene comprising a chromium complex coordinated with a neutral polydentate ligand, an alkyl metal compound and a topotactic reduction reaction product involving electron transfer according to the present invention is a chromium complex as defined above. , An alkyl metal compound and a topotactic reduction reaction product involving electron transfer are brought into contact with a raw material in a solvent. The contact method is not particularly limited.
【0098】この触媒を調製する際のクロム錯体の濃度
は特に制限されないが、通常、溶媒1lあたり0.00
1マイクロモル〜100ミリモル、好ましくは0.01
マイクロモル〜10ミリモルの濃度で使用される。これ
より小さい触媒濃度では十分な活性が得られず、逆にこ
れより大きい触媒濃度では、触媒活性が増加せず経済的
でない。また、ここで用いられる溶媒としては、例え
ば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、イソオクタン、ノナン、デカン、シクロペンタン、
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロオクタ
ン、デカリン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、トリメチルベ
ンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族
炭化水素類及び塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素類が挙げられ
る。また、反応生成物、即ち、1−ヘキセンを溶媒とし
て用いることもできる。これらの溶媒は、それぞれ単独
で使用し得るのみならず、二種以上を混合して用いるこ
とも可能である。ここで、エチレンの三量化反応時のク
ロム錯体濃度をコントロ−ルする目的で、必要に応じて
濃縮や希釈しても差し支えない。The concentration of the chromium complex in preparing the catalyst is not particularly limited, but is usually 0.001 per liter of the solvent.
1 micromole to 100 mmol, preferably 0.01
Used at micromolar to 10 mM concentrations. If the catalyst concentration is lower than this, sufficient activity cannot be obtained. Conversely, if the catalyst concentration is higher than this, catalyst activity does not increase and it is not economical. Further, as the solvent used here, for example, butane, pentane, hexane, heptane, octane, isooctane, nonane, decane, cyclopentane,
Aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, cyclooctane, and decalin; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, cumene, trimethylbenzene, chlorobenzene, and dichlorobenzene; methylene chloride, chloroform, and carbon tetrachloride And chlorinated hydrocarbons such as dichloroethane. Further, a reaction product, that is, 1-hexene, can be used as a solvent. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Here, for the purpose of controlling the chromium complex concentration at the time of the ethylene trimerization reaction, the chromium complex may be concentrated or diluted as necessary.
【0099】また、前記のクロム錯体、アルキル金属化
合物及び電子移動を伴うトポタクティックな還元反応生
成物を接触させる際の温度は−100〜250℃、好ま
しくは0〜200℃である。接触時間は特に制限され
ず、1分〜24時間、好ましくは2分〜12時間であ
る。なお、接触時のすべての操作は、空気と水分を避け
て行なうことが望ましい。また、原料及び溶媒は十分に
乾燥しておくことが好ましい。The temperature at which the above-mentioned chromium complex, alkyl metal compound and topotactic reduction reaction product involving electron transfer are brought into contact is -100 to 250 ° C, preferably 0 to 200 ° C. The contact time is not particularly limited, and is 1 minute to 24 hours, preferably 2 minutes to 12 hours. It is desirable that all operations during contact be performed while avoiding air and moisture. Further, it is preferable that the raw materials and the solvent are sufficiently dried.
【0100】本発明のエチレンの三量化反応は、前記の
クロム錯体、アルキル金属化合物及び電子移動を伴うト
ポタクティックな還元反応生成物からなる触媒とエチレ
ンを接触させることにより行うことができる。接触方法
は特に制限されないが、例えば、三量化反応原料である
エチレンの存在下に、クロム錯体、アルキル金属化合物
及び電子移動を伴うトポタクティックな還元反応生成物
を接触させて、接触と同時に三量化反応を開始する方
法、又はクロム錯体、アルキル金属化合物及び電子移動
を伴うトポタクティックな還元反応生成物を前もって接
触させた後、エチレンと接触させて三量化反応を行う方
法が採られる。The ethylene trimerization reaction of the present invention can be carried out by bringing ethylene into contact with a catalyst comprising the chromium complex, an alkyl metal compound and a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer. The contacting method is not particularly limited. A method of initiating a quantification reaction or a method of bringing a chromium complex, an alkyl metal compound and a topotactic reduction reaction product involving electron transfer into contact in advance, and then contacting with ethylene to carry out a trimerization reaction is employed.
【0101】具体的には、前者の場合は、(1)クロム
錯体、アルキル金属化合物、電子移動を伴うトポタクテ
ィックな還元反応生成物及びエチレンをそれぞれ同時に
独立に反応系に導入する、(2)アルキル金属化合物を
含む溶液にクロム錯体、電子移動を伴うトポタクティッ
クな還元反応生成物及びエチレンを導入する、(3)ク
ロム錯体、電子移動を伴うトポタクティックな還元反応
生成物を含む懸濁液にアルキル金属化合物及びエチレン
を導入する、(4)アルキル金属化合物及び電子移動を
伴うトポタクティックな還元反応生成物を含む懸濁液に
クロム錯体及びエチレンを導入する、(5)クロム錯体
を含む溶液にアルキル金属化合物、電子移動を伴うトポ
タクティックな還元反応生成物及びエチレンを導入す
る、という方法により三量化反応を行うことができる。
また、後者の場合は、(1)クロム錯体及び電子移動を
伴うトポタクティックな還元反応生成物を含む懸濁液に
アルキル金属化合物を導入する、(2)アルキル金属化
合物及び電子移動を伴うトポタクティックな還元反応生
成物を含む懸濁液にクロム錯体を導入する、(3)アル
キル金属化合物を含む溶液にクロム錯体及び電子移動を
伴うトポタクティックな還元反応生成物を導入する、
(4)クロム錯体を含む溶液に電子移動を伴うトポタク
ティックな還元反応生成物とアルキル金属化合物を導入
する、という方法により触媒を調製し、エチレンと接触
させて三量化反応を行うことができる。なお、これらの
原料の混合順序は特に制限されない。Specifically, in the former case, (1) a chromium complex, an alkyl metal compound, a topotactic reduction reaction product involving electron transfer, and ethylene are simultaneously and independently introduced into the reaction system. ) Introducing a chromium complex, a topotactic reduction reaction product with electron transfer and ethylene into a solution containing an alkyl metal compound; and (3) a chromium complex, containing a topotactic reduction reaction product with electron transfer. (4) introducing an alkyl metal compound and ethylene into a suspension; (4) introducing a chromium complex and ethylene into a suspension containing an alkyl metal compound and a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer; (5) a chromium complex Introducing a metal compound, a topotactic reduction reaction product involving electron transfer, and ethylene into a solution containing ethylene. It is possible to carry out the trimerization reaction.
In the latter case, (1) an alkyl metal compound is introduced into a suspension containing a chromium complex and a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer; Introducing a chromium complex into a suspension containing a tactic reduction reaction product, (3) introducing a chromium complex and a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer into a solution containing an alkyl metal compound,
(4) A catalyst is prepared by a method of introducing a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer and an alkyl metal compound into a solution containing a chromium complex, and the trimerization reaction can be performed by bringing the catalyst into contact with ethylene. . The order of mixing these raw materials is not particularly limited.
【0102】本発明においては、必要に応じて、中性の
多座配位子が配位したクロム錯体、アルキル金属化合物
及び電子移動を伴うトポタクティックな還元反応生成物
からなる触媒に光を照射し、エチレンの三量化反応を行
ってもよい。光の照射により触媒活性が大幅に向上する
等の効果が認められる。In the present invention, if necessary, a catalyst comprising a chromium complex coordinated with a neutral polydentate ligand, an alkyl metal compound, and a topotactic reduction reaction product involving electron transfer is irradiated with light. Irradiation may be performed to perform a trimerization reaction of ethylene. Effects such as a significant improvement in catalytic activity by light irradiation are recognized.
【0103】本発明において使用される光は、特に限定
されるものではないが、例えば、紫外光、可視光、赤外
光が挙げられ、発光波長としては、0.2〜2000n
mの光が好ましく、より好ましくは200〜700nm
の光が用いられる。また、光の照度は特に制限されな
い。The light used in the present invention is not particularly limited, and includes, for example, ultraviolet light, visible light and infrared light.
m, preferably 200 to 700 nm
Of light is used. The illuminance of light is not particularly limited.
【0104】光の光源としては太陽光又は人工光源のい
ずれを用いてもよいが、太陽光は照度が小さく、天候に
影響され、夜間の使用ができないことから、人工光源が
望ましい。人工光源としては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、重水素ランプ、キセノンランプ、タン
グステンランプ、白熱電球、ハロゲンランプ、低圧水銀
ランプ、ホロ−カソードランプ、金属蒸気放電管、メタ
ルハライドランプ、高圧ナトリウムランプ、タリウムラ
ンプ、水銀−タリウムランプ、水銀−鉛ランプ、H型放
電管、キセノン−水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧
水銀ランプ、フラッシュランプ等が挙げられる。Either sunlight or an artificial light source may be used as the light source. However, an artificial light source is desirable because sunlight has low illuminance, is affected by the weather, and cannot be used at night. The artificial light source is not particularly limited, but includes, for example, a deuterium lamp, a xenon lamp, a tungsten lamp, an incandescent lamp, a halogen lamp, a low-pressure mercury lamp, a hollow cathode lamp, a metal vapor discharge tube, a metal halide lamp, and a high-pressure lamp. Examples thereof include a sodium lamp, a thallium lamp, a mercury-thallium lamp, a mercury-lead lamp, an H-type discharge tube, a xenon-mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, and a flash lamp.
【0105】光の照射時期は、特に制限されるものでは
ないが、前記のクロム錯体、アルキル金属化合物及び電
子移動を伴うトポタクティックな還元反応生成物からな
る触媒に照射してもよいし、またエチレンの三量化反応
系に直接照射してもよい。なお、光の照射時間は特に制
限されない。The timing of light irradiation is not particularly limited, and the catalyst may be irradiated with the chromium complex, the alkyl metal compound, and a catalyst comprising a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer. Further, the reaction may be directly applied to the ethylene trimerization reaction system. Note that the light irradiation time is not particularly limited.
【0106】本発明におけるエチレンの三量化反応の温
度は、−100〜250℃であるが、好ましくは0〜2
00℃である。反応圧力は、反応系がエチレン雰囲気で
あれば特に制限されないが、通常、絶対圧で0.01〜
3000kg/cm2であり、好ましくは0.1〜30
0kg/cm2である。また、反応時間は温度や圧力に
左右され、一概に決めることはできないが、通常、5秒
〜6時間である。また、エチレンは、前記の圧力を保つ
ように連続的に供給してもよいし、反応開始時に前記圧
力で封入して反応させてもよい。原料ガスであるエチレ
ンには、反応に不活性なガス、例えば、窒素、アルゴ
ン、ヘリウム等が含まれていても何ら差し支えない。な
お、エチレンの三量化反応のすべての操作は、空気と水
分を避けて行うことが望ましい。また、エチレンは十分
に乾燥しておくことが好ましい。The temperature of the ethylene trimerization reaction in the present invention is from -100 to 250 ° C., preferably from 0 to 2 ° C.
00 ° C. The reaction pressure is not particularly limited as long as the reaction system is in an ethylene atmosphere.
3000 kg / cm 2 , preferably 0.1 to 30
It is 0 kg / cm 2 . The reaction time depends on the temperature and the pressure and cannot be determined unconditionally, but is usually 5 seconds to 6 hours. Ethylene may be continuously supplied so as to maintain the above-mentioned pressure, or may be sealed at the above-mentioned pressure at the start of the reaction to cause a reaction. Ethylene as a raw material gas may contain a gas inert to the reaction, for example, nitrogen, argon, helium, or the like. It is desirable that all operations of the ethylene trimerization reaction be performed while avoiding air and moisture. Further, it is preferable that ethylene is sufficiently dried.
【0107】本反応は、回分式、半回分式、連続式のい
ずれでも実施できる。エチレンの三量化反応終了後、反
応液に、例えば、水、アルコール、水酸化ナトリウム水
溶液等の重合失活剤を添加して反応を停止させる。失活
した廃クロム触媒は、公知の脱灰処理方法、例えば、水
又はアルカリ水溶液による抽出等で除去した後、生成し
た1−ヘキセンは、公知の抽出法や蒸留法により反応液
より分離される。また、副生するポリエチレンは、反応
液出口で公知の遠心分離法や1−ヘキセンの蒸留分離の
際の残渣として分離除去される。This reaction can be carried out in any of a batch system, a semi-batch system and a continuous system. After completion of the ethylene trimerization reaction, a polymerization deactivator such as water, alcohol, or an aqueous sodium hydroxide solution is added to the reaction solution to stop the reaction. After the deactivated waste chromium catalyst is removed by a known deashing method, for example, extraction with water or an aqueous alkaline solution, the generated 1-hexene is separated from the reaction solution by a known extraction method or a distillation method. . In addition, polyethylene as a by-product is separated and removed at a reaction solution outlet as a residue in a known centrifugation method or distillation separation of 1-hexene.
【0108】[0108]
【実施例】以下に、本発明を実施例を用いてさらに詳細
に説明するが、これらの実施例は本発明の概要を示すも
ので、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which are only for illustrating the outline of the present invention and the present invention is not limited to these Examples. .
【0109】参考例1 シュレンク管で、J.Amer.Chem.Soc.,
92,5118(1970)に記載の方法で合成した三
脚型構造を有するトリス(3,5−ジメチル−1−ピラ
ゾリル)メタン 238mg、クロムヘキサカルボニル
176mg、メシチレン40ml及びトルエン10ml
を混合し、窒素雰囲気下で1時間攪拌しながら加熱還流
した。析出した結晶をろ過し、トリス(3,5−ジメチ
ル−1−ピラゾリル)メタンクロムトリカルボニル
(0)(以下、錯体Aと称する)を得た。この錯体Aの
IR分析を行った結果、CO吸収に基づく2本のピーク
が1896cm-1と1759cm-1に認められ、トリス
(3,5−ジメチル−1−ピラゾリル)メタンがクロム
にfacialで配位していることを示した。Reference Example 1 A Schlenk tube was manufactured according to J. Amer. Chem. Soc. ,
92, 5118 (1970), 238 mg of tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methane having a tripod structure, 176 mg of chromium hexacarbonyl, 40 ml of mesitylene and 10 ml of toluene
And heated to reflux while stirring under a nitrogen atmosphere for 1 hour. The precipitated crystals were filtered to obtain tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methanechromium tricarbonyl (0) (hereinafter, referred to as complex A). As a result of an IR analysis of this complex A, two peaks based on CO absorption were observed at 1896 cm -1 and 1759 cm -1 , and tris (3,5-dimethyl-1-pyrazolyl) methane was distributed to chromium in a factal manner. It showed that it was ranked.
【0110】参考例2 二硫化モリブデン7.0g(44mmol)にn−ヘキ
サン100mlを添加した後、n−ブチルリチウムのn
−ヘキサン溶液(1.54M)57ml(88mmo
l)を滴下した。この懸濁液を室温で3日間撹拌し、上
済液を除去した後、n−ヘキサンで洗浄した。その後、
室温、10-3Torrで乾燥し、次いで75〜85℃、
10-3Torrで乾燥して黒色固体を得た。得られた生
成物を元素分析した結果、組成は(Li+)1.20[Mo
S2]1.20-であった。Reference Example 2 After adding 100 ml of n-hexane to 7.0 g (44 mmol) of molybdenum disulfide, n-butyllithium
-Hexane solution (1.54 M) 57 ml (88 mmol
l) was added dropwise. The suspension was stirred at room temperature for 3 days to remove the supernatant, and then washed with n-hexane. afterwards,
Dry at room temperature, 10 -3 Torr, then at 75-85 ° C.
Drying at 10 −3 Torr gave a black solid. As a result of elemental analysis of the obtained product, the composition was (Li + ) 1.20 [Mo
S 2] was 1.20-.
【0111】上記還元反応生成物7.0gに25%アン
モニア水130mlを添加した。この懸濁液を−30℃
で30分間攪拌し、上澄液を除去した後、水で洗浄し
た。130 ml of 25% aqueous ammonia was added to 7.0 g of the above reduction reaction product. This suspension is -30 ° C
, And the supernatant was removed, followed by washing with water.
【0112】ジメチルアニリン塩酸塩7.1g(45m
mol)を500mlの水に溶解し、この水溶液に上記
ルイス塩基処理生成物7.0gを添加した。この懸濁液
を室温で24時間撹拌し、上済液を除去した後、水及び
エタノールで洗浄した。その後、室温、10-3Torr
で24時間乾燥し、黒色固体(以下、化合物−1と称す
る)を得た。得られた化合物−1を元素分析した結果、
組成は[Ph(Me)2NH+]0.12[MoS2]0.12-で
あった。7.1 g of dimethylaniline hydrochloride (45 m
mol) was dissolved in 500 ml of water, and 7.0 g of the above Lewis base-treated product was added to the aqueous solution. The suspension was stirred at room temperature for 24 hours to remove the supernatant, and then washed with water and ethanol. Then, at room temperature, 10 -3 Torr
For 24 hours to obtain a black solid (hereinafter, referred to as compound-1). As a result of elemental analysis of the obtained compound-1,
The composition was [Ph (Me) 2 NH + ] 0.12 [MoS 2 ] 0.12- .
【0113】実施例1 シュレンク管に、化合物−1を0.20g、0.154
mol/lのトリイソブチルアルミニウム/シクロヘキ
サン溶液2.1ml及び乾燥したトルエン40mlを入
れ、混合攪拌し、懸濁液を得た(以下、懸濁液Cと称す
る)。Example 1 In a Schlenk tube, 0.20 g of compound-1 was added in an amount of 0.154 g.
A mol / l triisobutylaluminum / cyclohexane solution (2.1 ml) and dried toluene (40 ml) were added and mixed and stirred to obtain a suspension (hereinafter referred to as suspension C).
【0114】温度計及び攪拌装置を備えた内容積150
mlのガラス製耐圧反応容器に、参考例1で合成した錯
体Aを6.9mg、0.154mol/lのトリイソブ
チルアルミニウム/シクロヘキサン溶液2.1mlと乾
燥したトルエン40mlを入れ、混合撹拌した。ウシオ
電気製超高圧水銀ランプ(500W)を用い、外部から
光を30分間照射した後、上記懸濁液Cを混合した。Internal volume 150 equipped with thermometer and stirrer
6.9 mg of the complex A synthesized in Reference Example 1, 2.1 ml of a 0.154 mol / l triisobutylaluminum / cyclohexane solution, and 40 ml of dry toluene were placed in a ml pressure-resistant reaction vessel made of glass, and mixed and stirred. Light was irradiated from the outside for 30 minutes using an ultra-high pressure mercury lamp (500 W) manufactured by Ushio Electric Co., and then the suspension C was mixed.
【0115】反応容器を80℃に加熱し、撹拌速度を1
400rpmに調整後、反応容器にエチレンを導入し
て、エチレンの三量化反応を開始した。反応容器内の絶
対圧力を5kg/cm2となるようにエチレンガスを吹
き込み、以後、前記圧力を維持するように導入し続け、
これらの反応条件を保った状態で30分反応を行なっ
た。30分後、反応容器中に水を窒素で圧入することに
よって触媒を失活させて反応を停止した。The reaction vessel was heated to 80 ° C., and the stirring speed was 1
After adjusting to 400 rpm, ethylene was introduced into the reaction vessel to start the ethylene trimerization reaction. Ethylene gas was blown in so that the absolute pressure in the reaction vessel became 5 kg / cm 2, and thereafter, introduction was continued so as to maintain the pressure,
The reaction was performed for 30 minutes while maintaining these reaction conditions. After 30 minutes, the catalyst was deactivated by forcing water into the reaction vessel with nitrogen and the reaction was stopped.
【0116】反応容器を室温まで冷却し、次いで脱圧し
た。反応液及び回収した気体中に含まれる生成物をガス
クロマトグラフィーにより分析した。また、反応液に含
まれる固体分をろ紙を用いてろ別し、これを風乾後、減
圧下で乾燥(1Torr、100℃)して、その重量を
測定した。さらに、この乾燥固体を電気炉で700℃で
焼成して、その強熱残分を測定し、乾燥固体から強熱残
分を減じた重量をポリマー重量とした。結果を表1に示
す。The reactor was cooled to room temperature and then depressurized. The products contained in the reaction solution and the recovered gas were analyzed by gas chromatography. The solid content contained in the reaction solution was separated by filtration using filter paper, air-dried, and then dried under reduced pressure (1 Torr, 100 ° C.), and its weight was measured. Further, the dried solid was fired at 700 ° C. in an electric furnace, and the ignition residue was measured. The weight obtained by subtracting the ignition residue from the dried solid was defined as the polymer weight. Table 1 shows the results.
【0117】実施例2 化合物−1を0.40g用いたこと以外、実施例1と同
様にして反応を行なった。結果を表1に示す。Example 2 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that 0.40 g of Compound-1 was used. Table 1 shows the results.
【0118】比較例1 化合物−1を用いなかったこと以外、実施例1と同様に
して反応を行なった。結果を表1に示す。Comparative Example 1 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that Compound-1 was not used. Table 1 shows the results.
【0119】比較例2 錯体Aの代わりに(1,3,5−トリメチルベンゼン)
クロムトリカルボニル(0)(以下、錯体Bと称する)
を4.1mg用いたこと以外、実施例1と同様にして反
応を行なった。結果を表1に示す。触媒活性は低く、ま
たポリエチレンの副生が増加した。Comparative Example 2 Instead of complex A, (1,3,5-trimethylbenzene)
Chromium tricarbonyl (0) (hereinafter, referred to as complex B)
The reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 4.1 mg of was used. Table 1 shows the results. The catalytic activity was low and the by-product of polyethylene increased.
【0120】[0120]
【表1】 [Table 1]
【0121】[0121]
【発明の効果】本発明によれば、中性の多座配位子が配
位したクロム錯体、アルキル金属化合物及び電子移動を
伴うトポタクティックな還元反応生成物の少なくとも3
成分からなるエチレンの三量化触媒を用いることによ
り、エチレンから効率よく、かつ高選択的に1−ヘキセ
ンを製造することができる。According to the present invention, at least three of a chromium complex coordinated with a neutral polydentate ligand, an alkyl metal compound, and a topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer.
By using the ethylene trimerization catalyst as a component, 1-hexene can be efficiently and highly selectively produced from ethylene.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 Fターム(参考) 4G069 AA06 BA21A BA21B BA27A BA27B BC04A BC10A BC16A BC16B BC58A BC58B BD03A CB47 4H006 AA02 AC21 BA02 BA05 BA09 BA14 BA31 BA32 BA36 BA47 BA81 BA85 BA95 4H039 CA19 CF10 4J028 AA01A AA02A AB00A AB01A AC01A AC22A AC32A AC42A AC44A AC45A BA00A BA01B BB00A BB00B BB01B BC01B BC06B BC09B BC18B CA07A CA11A CA24A CA47A CA51A CA58A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 F term (reference) 4G069 AA06 BA21A BA21B BA27A BA27B BC04A BC10A BC16A BC16B BC58A BC58B BD03A CB47 4H006 AA02 AC21 BA02 BA05 BA09 BA14 BA31 BA32.
Claims (7)
アルキル金属化合物及び電子移動を伴うトポタクティッ
クな還元反応生成物の少なくとも3成分からなるエチレ
ンの三量化触媒。(1) a chromium complex coordinated with a neutral polydentate ligand,
An ethylene trimerization catalyst comprising at least three components of an alkyl metal compound and a topotactic reduction reaction product involving electron transfer.
応生成物が、塩類処理、酸処理及び/又はルイス塩基処
理をしたものであることを特徴とする請求項1に記載の
エチレンの三量化触媒。2. The ethylene trimerization according to claim 1, wherein the topotactic reduction reaction product accompanied by electron transfer has been subjected to salt treatment, acid treatment and / or Lewis base treatment. catalyst.
が、下記一般式(1) ACrBn (1) (式中、Aは中性の多座配位子である。nは1〜3の整
数であり、Bは水素原子、炭素数1〜10の炭化水素
基、カルボキシレート基もしくはジケトナート基、ハロ
ゲン原子、アミド、イミド、アルコキシド、チオアルコ
キシド、カルボニル、アレーン、アルケン、アルキン、
アミン、イミン、ニトリル、イソニトリル、ホスフィ
ン、ホスフィンオキシド、ホスファイト、エーテル、ス
ルホン、スルホキシド及びスルフィドからなる群より選
ばれる1種以上を表す)で示される錯体であることを特
徴とする請求項1又は請求項2に記載のエチレンの三量
化触媒。3. A chromium complex coordinated with a neutral polydentate ligand is represented by the following general formula (1): ACrB n (1) (where A is a neutral polydentate ligand. N Is an integer of 1 to 3, and B is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a carboxylate group or a diketonate group, a halogen atom, an amide, an imide, an alkoxide, a thioalkoxide, a carbonyl, an arene, an alkene, or an alkyne. ,
A complex represented by at least one selected from the group consisting of amines, imines, nitriles, isonitriles, phosphines, phosphine oxides, phosphites, ethers, sulfones, sulfoxides and sulfides). The catalyst for trimerizing ethylene according to claim 2.
とを特徴とする請求項1乃至請求項3に記載のエチレン
の三量化触媒。4. The ethylene trimerization catalyst according to claim 1, wherein the neutral polydentate ligand has a tripod-type structure.
たクロム錯体を用いることを特徴とする請求項1乃至請
求項4に記載のエチレンの三量化触媒。5. The ethylene trimerization catalyst according to claim 1, wherein a chromium complex in which a neutral polydentate ligand is coordinated with a factor is used.
て、しかもp+qは1〜3である。Mはリチウム、マグ
ネシウム、亜鉛、ボロン又はアルミニウムを表し、Rは
炭素数1〜10のアルキル基からなる群より選ばれる1
種以上を表し、Xは水素原子、アルコキシ基、アリール
基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる1種以上を
表す)で示される化合物であることを特徴とする請求項
1乃至請求項5に記載のエチレンの三量化触媒。6. An alkyl metal compound represented by the following general formula (2): R p MX q (2) (where p is 0 <p ≦ 3, q is 0 ≦ q <3, and p + q Is 1 to 3. M represents lithium, magnesium, zinc, boron or aluminum, and R represents 1 selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms.
At least one kind selected from the group consisting of a hydrogen atom, an alkoxy group, an aryl group, and a halogen atom). Of ethylene trimerization catalyst.
エチレンの三量化触媒の存在下で、エチレンを三量化す
ることを特徴とするエチレンの三量化方法。7. A process for trimerizing ethylene, wherein ethylene is trimerized in the presence of the catalyst for trimerizing ethylene according to any one of claims 1 to 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP11011493A Pending JP2000202299A (en) | 1999-01-20 | 1999-01-20 | Catalyst for trimerizing ethylene and method for trimerizing ethylene using the same |
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