JP2000201058A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、遅延回路を備えた
半導体装置に関し、特にプロセスのばらつき等によって
生じる遅延時間のばらつきを調整することができる遅延
回路を備えた半導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device having a delay circuit, and more particularly to a semiconductor device having a delay circuit capable of adjusting a variation in delay time caused by a process variation.
【0002】[0002]
【従来の技術】図7は、従来のインバータを用いた遅延
回路の例を示した回路図である。図7において、遅延回
路200は、複数のインバータ、例えば図7ではインバ
ータ201〜206を直列に接続して形成されている。
このような遅延回路200は、直列に接続されたインバ
ータの数を変えることによって所望の遅延時間を得るも
のであり、配線によって生じる遅延に相当する遅延時間
を得るため等に、半導体装置を形成する半導体集積回路
内に形成されている。2. Description of the Related Art FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a conventional delay circuit using an inverter. 7, a delay circuit 200 is formed by connecting a plurality of inverters, for example, inverters 201 to 206 in FIG. 7 in series.
Such a delay circuit 200 obtains a desired delay time by changing the number of inverters connected in series, and forms a semiconductor device in order to obtain a delay time corresponding to a delay caused by wiring. It is formed in a semiconductor integrated circuit.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような半
導体集積回路を形成するプロセスのばらつき等によって
インバータによる遅延時間がばらつき、必要とする遅延
時間が得られない場合があった。このため、半導体装置
において、内部配線とインバータのばらつきの相違によ
って、回路動作に支障をきたして不良品となってしまう
場合があり、このような場合、回路構成を変えて新たな
回路による半導体装置を再度作成していた。このよう
に、プロセスのばらつき等による遅延回路の遅延時間の
ばらつきに対応するためには、回路の変更及び回路を再
度形成するプロセスを行う必要があり、コストが増加す
るという問題があった。However, the delay time of the inverter varies due to the variation in the process of forming such a semiconductor integrated circuit, and the required delay time cannot be obtained in some cases. For this reason, in the semiconductor device, there is a case where the difference in the variation between the internal wiring and the inverter may hinder the circuit operation and result in a defective product. In such a case, the semiconductor device is changed by changing the circuit configuration and using a new circuit. Was created again. As described above, in order to cope with the variation in the delay time of the delay circuit due to the variation in the process or the like, it is necessary to perform a process of changing the circuit and forming the circuit again, and there is a problem that the cost increases.
【0004】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、プロセスのばらつき等によっ
て生じる遅延回路における遅延時間のばらつきを判定
し、該ばらつきに応じた遅延時間の調整を行うことがで
きる遅延回路を備えた半導体装置を得ることを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem. The present invention determines a variation in delay time in a delay circuit caused by a variation in a process, and adjusts the delay time according to the variation. It is an object of the present invention to obtain a semiconductor device including a delay circuit which can be performed.
【0005】なお、本発明と構成が異なるが、特開平9
−304484号公報では、あらかじめ設定された基準
ディレイ値と外部クロックのサイクルを比較する回路
と、メインディレイ回路と複数の調整用ディレイ回路で
構成されている内部ディレイ回路からなり、モードレジ
スタセット時に基準ディレイ値と外部クロックのサイク
ルを比較して内部ディレイ値を自動的に最適化する同期
式半導体記憶装置が開示されている。また、本発明と目
的及び構成が異なるが、縦続接続された(n+1)個の
インバータの各出力抵抗と、隣接するインバータの接続
点と共通電位点との間にそれぞれ接続されたスイッチ及
びコンデンサの直列回路とを備え、遅延時間の最小調整
単位の微小化を行うことができる可変遅延回路が開示さ
れている。Although the construction is different from that of the present invention,
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 304484/2004, a circuit for comparing a preset reference delay value with an external clock cycle, an internal delay circuit composed of a main delay circuit and a plurality of adjustment delay circuits, There is disclosed a synchronous semiconductor memory device that automatically optimizes an internal delay value by comparing a delay value with a cycle of an external clock. Although the purpose and the configuration are different from those of the present invention, the output resistances of the (n + 1) cascaded inverters and the switches and capacitors connected between the connection points of the adjacent inverters and the common potential point, respectively. A variable delay circuit including a series circuit and capable of miniaturizing a minimum adjustment unit of the delay time is disclosed.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、遅延回路を備えた半導体装置において、遅延時間
のばらつきを判定するために使用される遅延回路で構成
された比較遅延回路部と、遅延時間の基準値となる少な
くとも1つの所定の基準遅延時間に設定される遅延回路
で構成された基準遅延回路部と、該基準遅延回路部の基
準遅延時間を基にして比較遅延回路部における遅延時間
のばらつきを判定する遅延時間判定回路部と、異なる遅
延時間に設定された複数の遅延回路を有し、遅延時間判
定回路部の判定結果に応じて該各遅延回路の1つを選択
して、所望の信号に対する遅延を行う遅延調整回路部と
を備えるものである。A semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device provided with a delay circuit, comprising: a comparison delay circuit portion comprising a delay circuit used to determine a variation in delay time; A reference delay circuit unit including a delay circuit set to at least one predetermined reference delay time serving as a reference value of the delay time, and a delay in the comparison delay circuit unit based on the reference delay time of the reference delay circuit unit A delay time determination circuit for determining a variation in time, and a plurality of delay circuits set to different delay times, and selecting one of the delay circuits according to a determination result of the delay time determination circuit; , A delay adjusting circuit for delaying a desired signal.
【0007】また、この発明に係る半導体装置は、遅延
回路を備えた半導体装置において、遅延時間のばらつき
を判定するために使用される遅延回路で構成された比較
遅延回路部と、遅延時間の基準値となる少なくとも1つ
の所定の基準遅延時間に設定される遅延回路で構成され
た基準遅延回路部と、該基準遅延回路部の基準遅延時間
を基にして比較遅延回路部における遅延時間のばらつき
を判定する遅延時間判定回路部と、該遅延時間判定回路
部の判定結果を外部装置に出力する判定出力回路部と、
異なる遅延時間に設定された複数の遅延回路を有し、判
定出力回路部から出力された判定結果に応じて外部装置
により該各遅延回路の1つが選択され、該選択された遅
延回路を用いて所望の信号に対する遅延を行う遅延調整
回路部とを備えるものである。In a semiconductor device according to the present invention, in a semiconductor device having a delay circuit, a comparison delay circuit portion including a delay circuit used to determine a variation in delay time, and a delay time reference. A reference delay circuit unit including a delay circuit set to at least one predetermined reference delay time, and a delay time variation in the comparison delay circuit unit based on the reference delay time of the reference delay circuit unit. A delay time determination circuit unit to determine, a determination output circuit unit that outputs a determination result of the delay time determination circuit unit to an external device,
It has a plurality of delay circuits set to different delay times, and one of the delay circuits is selected by an external device according to the determination result output from the determination output circuit unit, and using the selected delay circuit And a delay adjusting circuit for delaying a desired signal.
【0008】また、この発明に係る半導体装置は、請求
項1又は請求項2のいずれかにおいて、具体的には、上
記比較遅延回路部は、プロセスのばらつきに応じて遅延
時間がばらつく遅延回路で構成され、上記基準遅延回路
部は、プロセスのばらつきによる影響を受けない抵抗及
びコンデンサを用いて形成された少なくとも1つの遅延
回路で構成され、該遅延回路は、あらかじめ所定の基準
遅延時間に設定されるものである。Further, in the semiconductor device according to the present invention, in any one of the first and second aspects, specifically, the comparison delay circuit section is a delay circuit whose delay time varies according to process variations. And the reference delay circuit section is configured by at least one delay circuit formed using a resistor and a capacitor that are not affected by process variations, and the delay circuit is set to a predetermined reference delay time in advance. Things.
【0009】また、この発明に係る半導体装置は、請求
項1から請求項3のいずれかにおいて、具体的には、上
記比較遅延回路部及び基準遅延回路部は、電源投入時に
入力される所定の信号に対してそれぞれ遅延を行い、遅
延時間判定回路部は、比較遅延回路部及び基準遅延回路
部からそれぞれ入力される遅延信号から遅延時間のばら
つきを判定するものである。In the semiconductor device according to the present invention, the comparison delay circuit unit and the reference delay circuit unit may be configured such that a predetermined delay signal inputted when power is turned on is provided. Each of the signals is delayed, and the delay time determination circuit determines delay time variations from delay signals input from the comparison delay circuit and the reference delay circuit.
【0010】また、この発明に係る半導体装置は、遅延
回路を備えた半導体装置において、遅延時間のばらつき
を判定するために使用される遅延回路で構成され、外部
装置から入力される信号の遅延を行って外部装置に出力
する比較遅延回路部と、異なる遅延時間に設定された複
数の遅延回路を有し、比較遅延回路部における遅延時間
のばらつきに応じて外部装置から該各遅延回路の1つが
選択され、該選択された遅延回路を用いて所望の信号に
対する遅延を行う遅延調整回路部とを備えるものであ
る。Further, the semiconductor device according to the present invention is a semiconductor device having a delay circuit, comprising a delay circuit used for judging a variation in delay time, wherein a delay of a signal input from an external device is reduced. And a plurality of delay circuits set at different delay times. One of the delay circuits is output from the external device according to the variation in the delay time in the comparison delay circuit unit. And a delay adjusting circuit unit for performing a delay on a desired signal by using the selected delay circuit.
【0011】また、この発明に係る半導体装置は、請求
項2又は請求項5のいずれかにおいて、具体的には、上
記遅延調整回路部は、複数の遅延回路の1つを選択する
ためのヒューズが設けられた設定回路を備え、外部装置
によって該ヒューズが溶断されることにより各遅延回路
の1つが固定して選択されるものである。According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the second aspect of the present invention, the delay adjustment circuit section includes a fuse for selecting one of a plurality of delay circuits. Is provided, and one of the delay circuits is fixedly selected by blowing the fuse by an external device.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】次に、図面に示す実施の形態に基
づいて、本発明を詳細に説明する。 実施の形態1.図1は、本発明の実施の形態1における
半導体装置の例を示した回路図である。図1において、
半導体装置1は、トランジスタの影響を受けないプロセ
ス的に安定した抵抗とコンデンサで形成され基準となる
遅延時間に設定された基準遅延回路2と、プロセスのば
らつき等による遅延時間のばらつきを判定するために使
用する遅延回路の比較遅延回路3と、基準遅延回路2の
遅延時間に対する比較遅延回路3の遅延時間の大きさを
判定し、該判定結果を出力する遅延時間判定回路4と、
該遅延時間判定回路4の判定結果に応じて遅延時間を可
変して調整する遅延調整回路5とを備えている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the drawings. Embodiment 1 FIG. FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor device according to the first embodiment of the present invention. In FIG.
The semiconductor device 1 is provided with a reference delay circuit 2 formed of process-stable resistors and capacitors which are not affected by transistors and set to a reference delay time, and for determining a delay time variation due to a process variation or the like. A delay time determination circuit 4 that determines the magnitude of the delay time of the comparison delay circuit 3 with respect to the delay time of the reference delay circuit 2 and outputs the determination result;
A delay adjusting circuit for variably adjusting the delay time in accordance with the result of the determination by the delay time determining circuit;
【0013】基準遅延回路2の入力には、電源投入時に
接地電位から時間をおいて電源電位へと変化する内部信
号が入力される。基準遅延回路2には比較遅延回路3が
接続され、更に基準遅延回路2及び比較遅延回路3は、
それぞれ遅延時間判定回路4にそれぞれ接続されてい
る。また、遅延時間判定回路4は、遅延調整回路5に接
続されている。遅延調整回路5の入力には、遅延を行う
内部信号が入力され、該内部信号は、遅延調整回路5に
よって調整された遅延時間だけ遅延されて出力される。The input of the reference delay circuit 2 is supplied with an internal signal that changes from the ground potential to the power supply potential at a certain time when the power is turned on. A comparison delay circuit 3 is connected to the reference delay circuit 2, and the reference delay circuit 2 and the comparison delay circuit 3
Each is connected to the delay time determination circuit 4. Further, the delay time determination circuit 4 is connected to the delay adjustment circuit 5. The input of the delay adjustment circuit 5 receives an internal signal for delaying, and the internal signal is output after being delayed by the delay time adjusted by the delay adjustment circuit 5.
【0014】基準遅延回路2は、インバータ11,1
2、Nチャネル型MOSトランジスタ(以下、N−MO
Sと呼ぶ)13、抵抗14,15及びコンデンサ16,
17で形成されている。抵抗14とコンデンサ16で所
定の遅延時間に設定された1つの遅延回路を形成してお
り、抵抗15とコンデンサ17で所定の遅延時間に設定
されたもう1つの遅延回路を形成している。インバータ
11,12及びN−MOS13は、コンデンサ16及び
17にそれぞれ蓄積された電荷を接地にバイパスするバ
イパス回路を形成している。The reference delay circuit 2 includes inverters 11, 1
2. N-channel MOS transistor (hereinafter referred to as N-MO
S) 13, resistors 14, 15 and capacitors 16,
17. The resistor 14 and the capacitor 16 form one delay circuit set to a predetermined delay time, and the resistor 15 and the capacitor 17 form another delay circuit set to a predetermined delay time. The inverters 11 and 12 and the N-MOS 13 form a bypass circuit that bypasses the charges stored in the capacitors 16 and 17 to ground.
【0015】基準遅延回路2において、インバータ11
及び12は直列に接続され、該直列回路の出力をなすイ
ンバータ12の出力は抵抗14の一端に接続され、抵抗
14の他端はコンデンサ16を介して接地されている。
抵抗14とコンデンサ16との接続部は、抵抗15の一
端に接続されており、該接続部をAとする。抵抗15の
他端はコンデンサ17を介して接地されており、抵抗1
5とコンデンサ17との接続部をBとする。また、イン
バータ11と12との接続部はN−MOS13のゲート
に接続され、N−MOS13において、ドレインは接続
部Bに接続され、ソースは接地されている。インバータ
11の入力は、基準遅延回路2の入力をなしており、イ
ンバータ12の出力、接続部A及び接続部Bは、それぞ
れ基準遅延回路2の出力をなしている。In the reference delay circuit 2, the inverter 11
And 12 are connected in series, the output of the inverter 12 forming the output of the series circuit is connected to one end of a resistor 14, and the other end of the resistor 14 is grounded via a capacitor 16.
The connection between the resistor 14 and the capacitor 16 is connected to one end of the resistor 15, and the connection is denoted by A. The other end of the resistor 15 is grounded via a capacitor 17 and the resistor 1
The connection between the capacitor 5 and the capacitor 17 is B. The connection between the inverters 11 and 12 is connected to the gate of the N-MOS 13, and in the N-MOS 13, the drain is connected to the connection B and the source is grounded. The input of the inverter 11 is an input of the reference delay circuit 2, and the output of the inverter 12, and the connection A and the connection B are outputs of the reference delay circuit 2, respectively.
【0016】比較遅延回路3は、7つのインバータ21
〜27が順に直列に接続されて形成されており、6つの
インバータ21〜26で遅延回路を形成し、該遅延回路
の出力信号の信号レベルをインバータ27で反転してい
る。インバータ21の入力は、比較遅延回路3の入力を
なしてインバータ12の出力に接続され、インバータ2
6及び27の各出力が比較遅延回路3の出力をなしてい
る。The comparison delay circuit 3 includes seven inverters 21
27 are sequentially connected in series, a delay circuit is formed by the six inverters 21 to 26, and the signal level of the output signal of the delay circuit is inverted by the inverter 27. The input of the inverter 21 forms the input of the comparison delay circuit 3 and is connected to the output of the inverter 12.
Each output of 6 and 27 forms the output of the comparison delay circuit 3.
【0017】遅延時間判定回路4は、インバータ31〜
36、トランスファゲート37,38及び2入力NAN
D回路39〜41で形成され、インバータ31及び32
が逆方向に並列に接続されてもう1つのラッチ回路を形
成し、該ラッチ回路の出力信号の信号レベルをインバー
タ35で反転している。同様に、インバータ33及び3
4が逆方向に並列に接続されて1つのラッチ回路を形成
し、該ラッチ回路の出力信号の信号レベルをインバータ
36で反転している。トランスファゲート37は、Pチ
ャネル型MOSトランジスタ(以下、P−MOSと呼
ぶ)37aとN−MOS37bの各入出力端子を並列に
接続して形成されている。同様に、トランスファゲート
38は、P−MOS38aとN−MOS38bの各入出
力端子を並列に接続して形成されている。The delay time determination circuit 4 includes inverters 31 to
36, transfer gates 37 and 38 and 2-input NAN
D circuits 39 to 41, and inverters 31 and 32
Are connected in parallel in the opposite direction to form another latch circuit, and the signal level of the output signal of the latch circuit is inverted by the inverter 35. Similarly, inverters 33 and 3
4 are connected in parallel in the opposite direction to form one latch circuit, and the signal level of the output signal of the latch circuit is inverted by the inverter 36. The transfer gate 37 is formed by connecting input / output terminals of a P-channel MOS transistor (hereinafter, referred to as P-MOS) 37a and an N-MOS 37b in parallel. Similarly, the transfer gate 38 is formed by connecting the input / output terminals of the P-MOS 38a and the N-MOS 38b in parallel.
【0018】遅延時間判定回路4において、P−MOS
37aと38aの各ゲートは互いに接続され、該接続部
は、比較遅延回路3におけるインバータ26の出力に接
続されている。また、N−MOS37bと38bの各ゲ
ートは互いに接続され、該接続部は、比較遅延回路3に
おけるインバータ27の出力に接続されている。トラン
スファゲート37において、一方の入出力端子は、基準
遅延回路2の接続部Aに接続され、他方の入出力端子
は、インバータ31の入力とインバータ32の出力との
接続部に接続されている。インバータ31の出力とイン
バータ32の入力との接続部は、インバータ35の入力
に接続されると共にNAND回路39の一方の入力に接
続され、インバータ35の出力はNAND回路40及び
41におけるそれぞれの一方の入力に接続されている。In the delay time determination circuit 4, a P-MOS
The gates of 37a and 38a are connected to each other, and the connection is connected to the output of the inverter 26 in the comparison delay circuit 3. The gates of the N-MOSs 37b and 38b are connected to each other, and the connection is connected to the output of the inverter 27 in the comparison delay circuit 3. In the transfer gate 37, one input / output terminal is connected to the connection A of the reference delay circuit 2, and the other input / output terminal is connected to the connection between the input of the inverter 31 and the output of the inverter 32. The connection between the output of the inverter 31 and the input of the inverter 32 is connected to the input of the inverter 35 and to one input of the NAND circuit 39, and the output of the inverter 35 is connected to one of the NAND circuits 40 and 41. Connected to input.
【0019】トランスファゲート38において、一方の
入出力端子は、基準遅延回路2の接続部Bに接続され、
他方の入出力端子は、インバータ33の入力とインバー
タ34の出力との接続部に接続されている。インバータ
33の出力とインバータ34の入力との接続部は、イン
バータ36の入力に接続されると共にNAND回路39
及び40の各他方の入力にそれぞれ接続され、インバー
タ36の出力はNAND回路41の他方の入力に接続さ
れている。NAND回路39〜41の各出力は、それぞ
れ遅延時間判定回路4の出力をなしている。In the transfer gate 38, one input / output terminal is connected to a connection portion B of the reference delay circuit 2,
The other input / output terminal is connected to a connection between the input of the inverter 33 and the output of the inverter 34. The connection between the output of the inverter 33 and the input of the inverter 34 is connected to the input of the inverter 36 and the NAND circuit 39.
, And 40, and the output of the inverter 36 is connected to the other input of the NAND circuit 41. Each output of the NAND circuits 39 to 41 forms an output of the delay time determination circuit 4, respectively.
【0020】次に、遅延調整回路5は、第1遅延回路5
1、第2遅延回路52、第3遅延回路53及び遅延時間
切換回路54で形成され、第1遅延回路51、第2遅延
回路52及び第3遅延回路53は、それぞれ異なる遅延
時間に設定されている。例えば入力された信号の信号レ
ベルが反転しないように、異なる偶数のインバータを直
列に接続してそれぞれ形成され、第1遅延回路51の遅
延時間がもっとも長く、第3遅延回路53の遅延時間が
もっとも短く、第2遅延回路52の遅延時間が該2つの
遅延時間の中間の値になるように形成されている。遅延
時間切換回路54は、第1遅延回路51、第2遅延回路
52及び第3遅延回路53を切り換えて遅延時間の調整
を行うものであり、2入力NOR回路56〜58及び3
入力NOR回路59で形成されている。Next, the delay adjustment circuit 5 includes a first delay circuit 5
1, a second delay circuit 52, a third delay circuit 53, and a delay time switching circuit 54. The first delay circuit 51, the second delay circuit 52, and the third delay circuit 53 are set to different delay times. I have. For example, different even-numbered inverters are connected in series so as not to invert the signal level of the input signal, and the first delay circuit 51 has the longest delay time and the third delay circuit 53 has the longest delay time. It is formed so that the delay time of the second delay circuit 52 is an intermediate value between the two delay times. The delay time switching circuit 54 switches the first delay circuit 51, the second delay circuit 52, and the third delay circuit 53 to adjust the delay time, and includes two-input NOR circuits 56 to 58 and 3
The input NOR circuit 59 is formed.
【0021】第1遅延回路51、第2遅延回路52及び
第3遅延回路53の各入力は、それぞれ接続されて遅延
調整回路5の入力をなし、該入力には遅延を行う信号が
入力される。第1遅延回路51の出力はNOR回路56
の一方の入力に、第2遅延回路52の出力はNOR回路
57の一方の入力に、第3遅延回路53の出力はNOR
回路58の一方の入力にそれぞれ接続されている。ま
た、NOR回路56の他方の入力はNAND回路39の
出力に、NOR回路57の他方の入力はNAND回路4
0の出力に、NOR回路58の他方の入力はNAND回
路41の出力にそれぞれ接続されている。NOR回路5
6〜58の各出力は、NOR回路59の対応する入力に
接続され、NOR回路59の出力は、遅延調整回路5の
出力をなしている。The inputs of the first delay circuit 51, the second delay circuit 52, and the third delay circuit 53 are respectively connected to form an input of the delay adjustment circuit 5, and a signal for performing a delay is input to the input. . The output of the first delay circuit 51 is the NOR circuit 56
, The output of the second delay circuit 52 is connected to one input of a NOR circuit 57, and the output of the third delay circuit 53 is
Each is connected to one input of a circuit 58. The other input of the NOR circuit 56 is connected to the output of the NAND circuit 39, and the other input of the NOR circuit 57 is connected to the NAND circuit 4.
The output of 0 and the other input of the NOR circuit 58 are connected to the output of the NAND circuit 41, respectively. NOR circuit 5
Outputs 6 to 58 are connected to corresponding inputs of a NOR circuit 59, and an output of the NOR circuit 59 forms an output of the delay adjustment circuit 5.
【0022】このような構成において、基準遅延回路2
は、入力された信号に対して2種類の所定の遅延時間で
遅延した各信号を遅延時間判定回路4に出力すると共
に、比較遅延回路3は、基準遅延回路2に入力された信
号を遅延させた信号を遅延時間判定回路4に出力する。
遅延時間判定回路4は、比較遅延回路3から入力された
信号と、基準遅延回路2から入力された2つの信号とを
比較して、基準遅延回路2の2つの基準遅延時間Dref1
及びDref2(Dref2>Dref1)に対する比較遅延回路3
による遅延時間Dの関係を判定する。In such a configuration, the reference delay circuit 2
Outputs the respective signals delayed by two types of predetermined delay times to the input signal to the delay time determination circuit 4, and the comparison delay circuit 3 delays the signal input to the reference delay circuit 2 The output signal is output to the delay time determination circuit 4.
The delay time determination circuit 4 compares the signal input from the comparison delay circuit 3 with the two signals input from the reference delay circuit 2 to determine two reference delay times Dref1 of the reference delay circuit 2.
Delay circuit 3 for Dref2 and Dref2 (Dref2> Dref1)
Of the delay time D is determined.
【0023】遅延調整回路5は、遅延時間判定回路4で
判定された結果に応じて、第1遅延回路51、第2遅延
回路52又は第3遅延回路53のいずれかを用いて入力
された信号の遅延を行う。例えば、遅延調整回路5は、
遅延時間Dが基準遅延時間Dref1よりも小さい場合、遅
延時間のもっとも長い第1遅延回路51を用い、遅延時
間Dが基準遅延時間Dref2よりも大きい場合、遅延時間
のもっとも短い第3遅延回路53を用い、その他の場合
は第2遅延回路52を用いて入力される信号の遅延を行
う。The delay adjusting circuit 5 outputs a signal input using any one of the first delay circuit 51, the second delay circuit 52 and the third delay circuit 53 in accordance with the result determined by the delay time determination circuit 4. Do a delay. For example, the delay adjustment circuit 5
When the delay time D is smaller than the reference delay time Dref1, the first delay circuit 51 having the longest delay time is used. When the delay time D is longer than the reference delay time Dref2, the third delay circuit 53 having the shortest delay time is used. In other cases, the input signal is delayed using the second delay circuit 52.
【0024】図2から図4は、図1で示した半導体装置
1における各部の波形を示したタイミングチャートであ
り、図2はD<Dref1の場合を、図3はDref1≦D<D
ref2の場合を、図4はD≧Dref2の場合をそれぞれ示し
ており、図2から図4を用いて、半導体装置1の動作に
ついてもう少し詳細に説明する。FIGS. 2 to 4 are timing charts showing waveforms of various parts in the semiconductor device 1 shown in FIG. 1. FIG. 2 shows the case where D <Dref1, and FIG. 3 shows Dref1 ≦ D <D.
FIG. 4 shows the case of ref2, and FIG. 4 shows the case of D ≧ Dref2. The operation of the semiconductor device 1 will be described in more detail with reference to FIGS.
【0025】なお、図2から図4において、(a)はイ
ンバータ11の入力波形を、(b)はインバータ11の
出力波形を、(c)はインバータ26の出力波形を、
(d)はインバータ27の出力波形を、(e)は基準遅
延回路2の接続部Aの波形を、(f)は基準遅延回路2
の接続部Bの波形を、(g)はインバータ31の出力波
形を、(h)はインバータ33の出力波形をそれぞれ示
している。2 to 4, (a) shows the input waveform of the inverter 11, (b) shows the output waveform of the inverter 11, (c) shows the output waveform of the inverter 26,
(D) shows the output waveform of the inverter 27, (e) shows the waveform of the connection A of the reference delay circuit 2, and (f) shows the waveform of the reference delay circuit 2.
(G) shows the output waveform of the inverter 31, and (h) shows the output waveform of the inverter 33.
【0026】電源が投入されると、インバータ11の入
力には、接地電位となる「L」レベルから、時間をおい
て、電源電位となる「H」レベルへと変化する信号が入
力される。該信号が「L」レベルから「H」レベルに立
ち上がってから基準遅延時間Dref1後に、基準遅延回路
2の接続部Aは「L」レベルから「H」レベルに立ち上
がる。また、インバータ11の入力信号が「L」レベル
から「H」レベルに立ち上がってから基準遅延時間Dre
f2後に、基準遅延回路2の接続部Bは「L」レベルから
「H」レベルに立ち上がる。更に、インバータ11の入
力信号が「L」レベルから「H」レベルに立ち上がって
から遅延時間D後に、比較遅延回路3の出力であるイン
バータ26及び27の各出力の信号レベルがそれぞれ変
化する。When the power is turned on, a signal that changes from the “L” level, which is the ground potential, to the “H” level, which is the power supply potential, is input to the input of the inverter 11 after a while. After a reference delay time Dref1 from the rise of the signal from the "L" level to the "H" level, the connection portion A of the reference delay circuit 2 rises from the "L" level to the "H" level. After the input signal of the inverter 11 rises from the “L” level to the “H” level, the reference delay time Dre
After f2, the connection B of the reference delay circuit 2 rises from the "L" level to the "H" level. Further, after a delay time D from the rise of the input signal of the inverter 11 from the "L" level to the "H" level, the signal levels of the respective outputs of the inverters 26 and 27, which are the outputs of the comparison delay circuit 3, change.
【0027】ここで、図2を参照しながら、D<Dref1
の場合について説明する。インバータ11の入力が
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がってから遅延
時間Dまでは、比較遅延回路3のインバータ26の出力
は「L」レベル、インバータ27の出力は「H」レベル
であることからトランスファゲート37及び38はオン
して導通状態にある。Here, referring to FIG. 2, D <Dref1
The case will be described. From the time when the input of the inverter 11 rises from the “L” level to the “H” level until the delay time D, the output of the inverter 26 of the comparison delay circuit 3 is at the “L” level and the output of the inverter 27 is at the “H” level. Therefore, the transfer gates 37 and 38 are turned on and in a conductive state.
【0028】このため、基準遅延回路2の接続部Aの
「L」レベルの電位がトランスファゲート37を介して
インバータ31に入力され、インバータ31の出力は
「H」レベルに、インバータ35の出力は「L」レベル
になる。同時に、基準遅延回路2の接続部Bの「L」レ
ベルの電位がトランスファゲート38を介してインバー
タ33に入力され、インバータ33の出力は「H」レベ
ルに、インバータ36の出力は「L」レベルになる。こ
の状態において、NAND回路39〜41の各出力の
内、NAND回路39の出力のみ「L」レベルとなり、
その他の出力は「H」レベルとなることから、遅延調整
回路5におけるNOR回路57及び58の各出力は、第
2遅延回路52及び第3遅延回路53の出力レベルに関
係なく、それぞれ「L」レベルとなる。Therefore, the "L" level potential at the connection A of the reference delay circuit 2 is input to the inverter 31 via the transfer gate 37, the output of the inverter 31 becomes "H" level, and the output of the inverter 35 becomes It becomes "L" level. At the same time, the "L" level potential at the connection B of the reference delay circuit 2 is input to the inverter 33 via the transfer gate 38, the output of the inverter 33 becomes "H" level, and the output of the inverter 36 becomes "L" level. become. In this state, of the outputs of the NAND circuits 39 to 41, only the output of the NAND circuit 39 is at "L" level,
Since the other outputs are at the “H” level, the outputs of the NOR circuits 57 and 58 in the delay adjustment circuit 5 are “L” regardless of the output levels of the second delay circuit 52 and the third delay circuit 53, respectively. Level.
【0029】次に、インバータ11の入力が「L」レベ
ルから「H」レベルに立ち上がってから遅延時間Dが経
過すると、比較遅延回路3のインバータ26の出力は
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がり、インバー
タ27の出力は「H」レベルから「L」レベルに立ち下
がることから、トランスファゲート37及び38は共に
オフして遮断状態となる。このため、インバータ31及
び33の各出力は「H」レベルにそれぞれラッチされ、
NAND回路39〜41の内、NAND回路39の出力
のみが「L」レベルとなる。Next, when the delay time D elapses after the input of the inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level, the output of the inverter 26 of the comparison delay circuit 3 changes from the "L" level to the "H" level. , And the output of the inverter 27 falls from the “H” level to the “L” level, so that the transfer gates 37 and 38 are both turned off and cut off. Therefore, each output of the inverters 31 and 33 is latched at the “H” level, respectively.
Of the NAND circuits 39 to 41, only the output of the NAND circuit 39 is at "L" level.
【0030】このことから、NAND回路39〜41の
各出力の内、NAND回路39の出力のみ「L」レベル
となり、その他の出力は「H」レベルとなることから、
遅延調整回路5におけるNOR回路57及び58の各出
力は、第2遅延回路52及び第3遅延回路53の出力レ
ベルに関係なく、それぞれ「L」レベルとなる。一方、
遅延調整回路5のNOR回路56の出力は、第1遅延回
路51の出力が「H」レベルから「L」レベルに立ち下
がると「L」レベルから「H」レベルに立ち上がり、N
OR回路59の出力は「H」レベルから「L」レベルに
立ち下がる。このように、第1〜第3遅延回路の各入力
に入力された信号は、もっとも遅延時間の長い第1遅延
回路51を用いて遅延されることになる。From this, of the outputs of the NAND circuits 39 to 41, only the output of the NAND circuit 39 is at "L" level and the other outputs are at "H" level.
Each output of the NOR circuits 57 and 58 in the delay adjustment circuit 5 becomes "L" level regardless of the output level of the second delay circuit 52 and the third delay circuit 53. on the other hand,
The output of the NOR circuit 56 of the delay adjustment circuit 5 rises from the “L” level to the “H” level when the output of the first delay circuit 51 falls from the “H” level to the “L” level.
The output of OR circuit 59 falls from "H" level to "L" level. Thus, the signals input to the respective inputs of the first to third delay circuits are delayed by using the first delay circuit 51 having the longest delay time.
【0031】次に、図3を参照しながら、Dref1≦D<
Dref2の場合について説明する。インバータ11の入力
が「L」レベルから「H」レベルに立ち上がってから基
準遅延時間Dref1までは、上記D<Dref1の場合におけ
る遅延時間Dまでの状態と同じである。Next, referring to FIG. 3, Dref1 ≦ D <
The case of Dref2 will be described. The state up to the reference delay time Dref1 after the input of the inverter 11 rises from the “L” level to the “H” level is the same as the state up to the delay time D in the case of D <Dref1.
【0032】次に、インバータ11の入力が「L」レベ
ルから「H」レベルに立ち上がってから基準遅延時間D
ref1が経過すると、基準遅延回路2の接続部Aの電位が
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がり、インバー
タ31の出力は「H」レベルから「L」レベルに立ち下
がる。この状態において、NAND回路39〜41の各
出力の内、NAND回路40の出力のみ「L」レベルと
なり、その他の出力は「H」レベルとなる。Next, after the input of the inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level, the reference delay time D
When ref1 elapses, the potential of the connection portion A of the reference delay circuit 2 rises from “L” level to “H” level, and the output of the inverter 31 falls from “H” level to “L” level. In this state, of the outputs of the NAND circuits 39 to 41, only the output of the NAND circuit 40 is at "L" level, and the other outputs are at "H" level.
【0033】次に、インバータ11の入力が「L」レベ
ルから「H」レベルに立ち上がってから遅延時間D以降
になると、比較遅延回路3のインバータ26の出力は
「L」レベルから「H」レベルの立ち上がり、インバー
タ27の出力は「H」レベルから「L」レベルに立ち下
がる。このため、トランスファゲート37及び38は共
にオフして遮断状態となり、インバータ31の出力は
「L」レベルに、インバータ33の出力は「H」レベル
にそれぞれラッチされる。Next, when the input of the inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level and the delay time D or later, the output of the inverter 26 of the comparison delay circuit 3 changes from the "L" level to the "H" level. Rises, the output of the inverter 27 falls from the "H" level to the "L" level. As a result, the transfer gates 37 and 38 are both turned off and cut off, and the output of the inverter 31 is latched at the "L" level and the output of the inverter 33 is latched at the "H" level.
【0034】このことから、インバータ11の入力が
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がってから基準
遅延時間Dref1が経過した後は、NAND回路39〜4
1の各出力の内、NAND回路40の出力のみ「L」レ
ベルとなり、その他の出力は「H」レベルとなることか
ら、遅延調整回路5におけるNOR回路56及び58の
各出力は、第1遅延回路51及び第3遅延回路53の出
力レベルに関係なく、それぞれ「L」レベルとなる。一
方、遅延調整回路5のNOR回路57の出力は、第2遅
延回路52の出力が「H」レベルから「L」レベルに立
ち下がると「L」レベルから「H」レベルに立ち上が
り、NOR回路59の出力は「H」レベルから「L」レ
ベルに立ち下がる。このように、第1〜第3遅延回路の
各入力に入力された信号は、第2遅延回路52を用いて
遅延されることになる。Therefore, after the reference delay time Dref1 has elapsed since the input of the inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level, the NAND circuits 39 to 4
1, only the output of the NAND circuit 40 is at "L" level and the other outputs are at "H" level. Therefore, each output of the NOR circuits 56 and 58 in the delay adjustment circuit 5 is the first delay. Each of them becomes “L” level regardless of the output levels of the circuit 51 and the third delay circuit 53. On the other hand, the output of the NOR circuit 57 of the delay adjustment circuit 5 rises from the “L” level to the “H” level when the output of the second delay circuit 52 falls from the “H” level to the “L” level, and the NOR circuit 59 Falls from the "H" level to the "L" level. As described above, the signals input to the respective inputs of the first to third delay circuits are delayed using the second delay circuit 52.
【0035】次に、図4を参照しながら、D≧Dref2の
場合について説明する。インバータ11の入力が「L」
レベルから「H」レベルに立ち上がってから基準遅延時
間Dref1までは、上記D<Dref1の場合における遅延時
間Dまでの状態と同じである。また、インバータ11の
入力が「L」レベルから「H」レベルに立ち上がってか
ら基準遅延時間Dref2を経過するまでは、上記Dref1≦
D<Dref2の場合における遅延時間Dまでの状態と同じ
である。Next, the case where D ≧ Dref2 will be described with reference to FIG. The input of the inverter 11 is "L"
The state from the rise to the “H” level to the reference delay time Dref1 is the same as the state up to the delay time D in the case of D <Dref1. In addition, from the time when the input of the inverter 11 rises from the “L” level to the “H” level until the reference delay time Dref2 has elapsed, the above-mentioned Dref1 ≦
This is the same as the state up to the delay time D when D <Dref2.
【0036】次に、インバータ11の入力が「L」レベ
ルから「H」レベルに立ち上がってから基準遅延時間D
ref2が経過すると、基準遅延回路2の接続部Bの電位が
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がり、インバー
タ33の出力は「H」レベルから「L」レベルに立ち下
がる。この状態において、NAND回路39〜41の各
出力の内、NAND回路41の出力のみ「L」レベルと
なり、その他の出力は「H」レベルとなる。Next, after the input of the inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level, the reference delay time D
When ref2 elapses, the potential of the connection portion B of the reference delay circuit 2 rises from “L” level to “H” level, and the output of the inverter 33 falls from “H” level to “L” level. In this state, of the outputs of the NAND circuits 39 to 41, only the output of the NAND circuit 41 is at "L" level, and the other outputs are at "H" level.
【0037】次に、インバータ11の入力が「L」レベ
ルから「H」レベルに立ち上がってから基準遅延時間D
以降になると、比較遅延回路3のインバータ26の出力
は「L」レベルから「H」レベルの立ち上がり、インバ
ータ27の出力は「H」レベルから「L」レベルに立ち
下がる。このため、トランスファゲート37及び38は
共にオフして遮断状態となり、インバータ31及び33
の各出力はそれぞれ「L」レベルにラッチされる。Next, after the input of the inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level, the reference delay time D
Thereafter, the output of the inverter 26 of the comparison delay circuit 3 rises from the “L” level to the “H” level, and the output of the inverter 27 falls from the “H” level to the “L” level. As a result, the transfer gates 37 and 38 are both turned off and cut off, and the inverters 31 and 33 are turned off.
Are latched at the “L” level, respectively.
【0038】このことから、インバータ11の入力が
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がってから基準
遅延時間Dref2が経過した後は、NAND回路39〜4
1の各出力の内、NAND回路41の出力のみ「L」レ
ベルとなり、その他の出力は「H」レベルとなることか
ら、遅延調整回路5におけるNOR回路56及び57の
各出力は、第1遅延回路51及び第2遅延回路52の出
力レベルに関係なく、それぞれ「L」レベルとなる。一
方、遅延調整回路5のNOR回路58の出力は、第3遅
延回路53の出力が「H」レベルから「L」レベルに立
ち下がると「L」レベルから「H」レベルに立ち上が
り、NOR回路59の出力は「H」レベルから「L」レ
ベルに立ち下がる。このように、第1〜第3遅延回路の
各入力に入力された信号は、最も遅延時間の短い第3遅
延回路53を用いて遅延されることになる。Accordingly, after the reference delay time Dref2 has elapsed since the input of the inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level, the NAND circuits 39 to 4
1, only the output of the NAND circuit 41 is at "L" level and the other outputs are at "H" level. Therefore, each output of the NOR circuits 56 and 57 in the delay adjustment circuit 5 is the first delay. Each of them becomes “L” level regardless of the output level of the circuit 51 and the second delay circuit 52. On the other hand, the output of the NOR circuit 58 of the delay adjustment circuit 5 rises from the “L” level to the “H” level when the output of the third delay circuit 53 falls from the “H” level to the “L” level. Falls from the "H" level to the "L" level. Thus, the signals input to the respective inputs of the first to third delay circuits are delayed by using the third delay circuit 53 having the shortest delay time.
【0039】このように、本実施の形態1における半導
体装置は、プロセスのばらつき等によって比較遅延回路
3の遅延時間Dがばらつき、基準遅延回路2にあらかじ
め設定された基準遅延時間Dref1及びDref2に対して遅
延時間Dが、D<Dref1の場合、もっとも遅延時間の長
い第1遅延回路51を用いて信号の遅延を行い、Dref1
≦D<Dref2の場合、第1遅延回路51よりも遅延時間
の短い第2遅延回路52を用いて信号の遅延を行い、D
≧Dref2の場合、もっとも遅延時間の短い第3遅延回路
53を用いて信号の遅延を行うようにした。As described above, in the semiconductor device according to the first embodiment, the delay time D of the comparison delay circuit 3 varies due to process variations and the like, and the reference delay times Dref1 and Dref2 set in advance in the reference delay circuit 2 are different. Therefore, when the delay time D is D <Dref1, the signal is delayed by using the first delay circuit 51 having the longest delay time, and Dref1
If ≦ D <Dref2, the signal is delayed using the second delay circuit 52 having a shorter delay time than the first delay circuit 51, and D
In the case of ≧ Dref2, the signal is delayed using the third delay circuit 53 having the shortest delay time.
【0040】このことから、基準となる遅延時間に設定
された基準遅延回路2の各抵抗とコンデンサをトランジ
スタの影響を受けないプロセス的に安定したもので形成
すると共に、プロセスによるばらつき等からトランジス
タの遅延が変化した場合においても、第1〜第3遅延回
路の内いずれかが所望の遅延時間になるように設計して
おくことによって、一定の遅延時間を得ることができる
ため、外部より遅延時間の調整を行う必要がなく、電源
投入と共に自動的に遅延回路における遅延時間の調整を
行うことができる。また、基準遅延回路2を形成する抵
抗とコンデンサを、実際に使用する配線素材と同じもの
で形成することにより、配線素材のばらつきに対する遅
延時間のばらつきに対しても対応することができる。Thus, each resistor and capacitor of the reference delay circuit 2 set to the reference delay time are formed in a process-stable manner that is not affected by the transistor. Even when the delay changes, a constant delay time can be obtained by designing any one of the first to third delay circuits to have a desired delay time. Does not need to be adjusted, and the delay time in the delay circuit can be automatically adjusted when the power is turned on. Further, by forming the resistor and the capacitor forming the reference delay circuit 2 with the same wiring material as that actually used, it is possible to cope with the variation of the delay time with respect to the variation of the wiring material.
【0041】実施の形態2.実施の形態1では、第1〜
第3遅延回路の選択を行って遅延時間の調整を行う動作
を電源投入ごとに自動的に行ったが、プロセスのばらつ
き等によるトランジスタの遅延のばらつきを製造時に1
回だけ調整するようにしてもよく、このようにしたもの
を本発明の実施の形態2とする。図5は、本発明の実施
の形態2における半導体装置の例を示した回路図であ
る。なお、図5では、図1と同じものは同じ符号で示し
ており、ここではその説明を省略する。Embodiment 2 In the first embodiment, first to first
The operation of selecting the third delay circuit and adjusting the delay time is automatically performed every time the power is turned on.
The adjustment may be performed only once, and such adjustment is referred to as a second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 5, the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
【0042】図5において、半導体装置61は、基準遅
延回路2と、比較遅延回路3と、遅延時間判定回路4
と、電源投入時に入力される所定の信号に応じて該遅延
時間判定回路4の判定結果を外部装置(図示せず)に出
力する判定出力回路62と、該判定出力回路62から出
力される判定結果に応じて外部装置より遅延時間の調整
が行われる遅延調整回路63とを備えている。In FIG. 5, a semiconductor device 61 includes a reference delay circuit 2, a comparison delay circuit 3, and a delay time determination circuit 4.
A determination output circuit 62 for outputting a determination result of the delay time determination circuit 4 to an external device (not shown) in accordance with a predetermined signal input at power-on, and a determination output from the determination output circuit 62 A delay adjustment circuit 63 for adjusting the delay time from an external device according to the result.
【0043】判定出力回路62は、トランスファゲート
71〜73及びインバータ74で形成されている。トラ
ンスファゲート71は、P−MOS71aとN−MOS
71bの各入出力端子を並列に接続して形成され、トラ
ンスファゲート72は、P−MOS72aとN−MOS
72bの各入出力端子を並列に接続して形成されてい
る。同様に、トランスファゲート73は、P−MOS7
3aとN−MOS73bの各入出力端子を並列に接続し
て形成されている。The judgment output circuit 62 is formed by transfer gates 71 to 73 and an inverter 74. The transfer gate 71 includes a P-MOS 71a and an N-MOS
The transfer gate 72 is formed by connecting the input / output terminals 71b in parallel with each other.
The input / output terminals 72b are connected in parallel. Similarly, the transfer gate 73 is connected to the P-MOS 7
3a and the input / output terminals of the N-MOS 73b are connected in parallel.
【0044】判定出力回路62において、P−MOS7
1a、72a及び73aの各ゲートは互いに接続され、
該接続部は、インバータ74の出力に接続されている。
また、N−MOS71b、72b及び73bの各ゲート
は互いに接続され、該接続部は、インバータ74の入力
に接続され、所定の特殊動作モード時に活性化され
「L」レベルから「H」レベルへと変化する信号が入力
される。In the decision output circuit 62, the P-MOS 7
The gates of 1a, 72a and 73a are connected to each other,
The connection is connected to the output of the inverter 74.
The gates of the N-MOSs 71b, 72b, and 73b are connected to each other, and the connection is connected to the input of the inverter 74, and is activated in a predetermined special operation mode to change from "L" level to "H" level. A changing signal is input.
【0045】トランスファゲート71において、一方の
入出力端子は、遅延時間判定回路4のNAND回路39
の出力に接続され、他方の入出力端子は、外部装置との
接続が行われるパッド77に接続されている。トランス
ファゲート72において、一方の入出力端子は、遅延時
間判定回路4のNAND回路40の出力に接続され、他
方の入出力端子は、外部装置との接続が行われるパッド
78に接続されている。また、トランスファゲート73
において、一方の入出力端子は、遅延時間判定回路4の
NAND回路41の出力に接続され、他方の入出力端子
は、外部装置との接続が行われるパッド79に接続され
ている。In the transfer gate 71, one input / output terminal is connected to the NAND circuit 39 of the delay time judgment circuit 4.
And the other input / output terminal is connected to a pad 77 for connection to an external device. In the transfer gate 72, one input / output terminal is connected to the output of the NAND circuit 40 of the delay time determination circuit 4, and the other input / output terminal is connected to a pad 78 for connection to an external device. Also, the transfer gate 73
, One input / output terminal is connected to the output of the NAND circuit 41 of the delay time determination circuit 4, and the other input / output terminal is connected to a pad 79 for connection to an external device.
【0046】次に、遅延調整回路63は、第1遅延回路
51、第2遅延回路52、第3遅延回路53、遅延時間
切換回路54、第1設定回路81、第2設定回路82及
び第3設定回路84で形成されている。第1設定回路8
1は、ヒューズ81aと抵抗81bの直列回路で形成さ
れており、ヒューズ81aと抵抗81bとの接続部は、
NOR回路56の一方の入力に接続され、該NOR回路
56の入力は、ヒューズ81aを介して、外部から所定
の電源電圧が印加される電源端子Vddに接続されると共
に、抵抗81bを介して接地されている。Next, the delay adjusting circuit 63 includes a first delay circuit 51, a second delay circuit 52, a third delay circuit 53, a delay time switching circuit 54, a first setting circuit 81, a second setting circuit 82, and a third The setting circuit 84 is formed. First setting circuit 8
1 is formed by a series circuit of a fuse 81a and a resistor 81b, and a connection portion between the fuse 81a and the resistor 81b is
The input of the NOR circuit 56 is connected via a fuse 81a to a power supply terminal Vdd to which a predetermined power supply voltage is applied from the outside, and is grounded via a resistor 81b. Have been.
【0047】第2設定回路82は、ヒューズ82aと抵
抗82bの直列回路で形成されており、ヒューズ82a
と抵抗82bとの接続部は、NOR回路57の一方の入
力に接続され、該NOR回路57の入力は、ヒューズ8
2aを介して電源端子Vddに接続されると共に抵抗82
bを介して接地されている。同様に、第3設定回路83
は、ヒューズ83aと抵抗83bの直列回路で形成され
ており、ヒューズ83aと抵抗83bとの接続部は、N
OR回路58の一方の入力に接続され、該NOR回路5
8の入力は、ヒューズ83aを介して電源端子Vddに接
続されると共に抵抗83bを介して接地されている。The second setting circuit 82 is formed by a series circuit of a fuse 82a and a resistor 82b.
Is connected to one input of a NOR circuit 57. The input of the NOR circuit 57 is connected to a fuse 8b.
2a and a resistor 82
b is grounded. Similarly, the third setting circuit 83
Is formed by a series circuit of a fuse 83a and a resistor 83b, and the connection between the fuse 83a and the resistor 83b is N
The NOR circuit 5 is connected to one input of an OR circuit 58,
The input 8 is connected to a power supply terminal Vdd via a fuse 83a and grounded via a resistor 83b.
【0048】このような構成において、製造時に、電源
が投入されてインバータ11の入力が「L」レベルから
「H」レベルに立ち上がり、遅延時間判定回路4におけ
る各NAND回路39〜41のそれぞれの出力から出力
される遅延時間の判定結果に応じて、遅延調整回路63
の各ヒューズ81a〜83aのいずれかが溶断されて、
第1遅延回路51、第2遅延回路52及び第3遅延回路
53の内、いずれかの遅延回路を使用して信号の遅延が
行われるようにする。In such a configuration, at the time of manufacturing, power is turned on, the input of inverter 11 rises from the "L" level to the "H" level, and the output of each of NAND circuits 39 to 41 in delay time determination circuit 4 is output. Delay adjustment circuit 63 according to the determination result of the delay time output from
One of the fuses 81a to 83a is blown,
The signal is delayed by using any one of the first delay circuit 51, the second delay circuit 52, and the third delay circuit 53.
【0049】このような、半導体装置61における遅延
時間の調整動作を行う動作モード時に、判定出力回路6
2は、インバータ74の入力に「H」レベルの信号が入
力される。該信号によって、トランスファゲート71〜
73はそれぞれオンして導通状態となり、NAND回路
39の出力電位はトランスファゲート71を介してパッ
ド77に、NAND回路40の出力電位はトランスファ
ゲート72を介してパッド78に、NAND回路41の
出力電位はトランスファゲート73を介してパッド79
にそれぞれ印加される。In the operation mode for performing the operation of adjusting the delay time in the semiconductor device 61, the judgment output circuit 6
2, the signal of the “H” level is input to the input of the inverter 74. The transfer gates 71 to 71
Numerals 73 are turned on to become conductive, the output potential of the NAND circuit 39 is supplied to the pad 77 via the transfer gate 71, the output potential of the NAND circuit 40 is supplied to the pad 78 via the transfer gate 72, and the output potential of the NAND circuit 41 is provided. Is a pad 79 through the transfer gate 73
Respectively.
【0050】外部装置(図示せず)は、パッド77〜7
9の各電位から、比較遅延回路3の遅延時間Dと、基準
遅延回路2の基準遅延時間Dref1及びDref2との関係
が、D<Dref1の場合は第1設定回路81のヒューズ8
1aを、Dref1≦D<Dref2の場合は第2設定回路82
のヒューズ82aを、D≧Dref2の場合は第3設定回路
83のヒューズ83aを溶断する。An external device (not shown) includes pads 77 to 7
9, if the relationship between the delay time D of the comparison delay circuit 3 and the reference delay times Dref1 and Dref2 of the reference delay circuit 2 is D <Dref1, the fuse 8 of the first setting circuit 81
1a is set to the second setting circuit 82 when Dref1 ≦ D <Dref2.
If D ≧ Dref2, the fuse 82a of the third setting circuit 83 is blown.
【0051】遅延調整回路63において、ヒューズ81
aが溶断されると、NOR回路56の一方の入力は抵抗
81bを介して接地され、NOR回路57の一方の入力
はヒューズ82aを介して、NOR回路58の一方の入
力はヒューズ83aを介してそれぞれ電源電位が印加さ
れている。このことから、NOR回路57及び58の各
出力は、対応する第2遅延回路52及び第3遅延回路5
3の出力レベルに関係なくそれぞれ「L」レベルにな
る。一方、NOR回路56の出力は、第1遅延回路51
の出力が「H」レベルから「L」レベルに立ち下がると
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がり、NOR回
路59の出力は「H」レベルから「L」レベルに立ち下
がる。In the delay adjustment circuit 63, the fuse 81
When a is blown, one input of the NOR circuit 56 is grounded via the resistor 81b, one input of the NOR circuit 57 is connected via the fuse 82a, and one input of the NOR circuit 58 is connected via the fuse 83a. A power supply potential is applied to each. From this, each output of the NOR circuits 57 and 58 is connected to the corresponding second delay circuit 52 and third delay circuit 5.
3 are at "L" level irrespective of the output level. On the other hand, the output of the NOR circuit 56 is
Falls from the "H" level to the "L" level, the output from the "L" level rises to the "H" level, and the output of the NOR circuit 59 falls from the "H" level to the "L" level.
【0052】同様に、ヒューズ82aが溶断されると、
NOR回路57の一方の入力は抵抗82bを介して接地
され、NOR回路56の一方の入力はヒューズ81aを
介して、NOR回路58の一方の入力はヒューズ83a
を介してそれぞれ電源電位が印加されている。このこと
から、NOR回路57の出力は、第2遅延回路52の出
力が「H」レベルから「L」レベルに立ち下がると
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がることによっ
て、NOR回路59の出力は「H」レベルから「L」レ
ベルに立ち下がる。Similarly, when the fuse 82a is blown,
One input of the NOR circuit 57 is grounded via a resistor 82b, one input of the NOR circuit 56 is a fuse 81a, and one input of the NOR circuit 58 is a fuse 83a.
The power supply potential is applied to each of them via the. From this, the output of the NOR circuit 57 rises from the “L” level to the “H” level when the output of the second delay circuit 52 falls from the “H” level to the “L” level, so that the NOR circuit 59 outputs The output falls from "H" level to "L" level.
【0053】同様に、ヒューズ83aが溶断されると、
NOR回路58の一方の入力は抵抗83bを介して接地
され、NOR回路56の一方の入力はヒューズ81aを
介して、NOR回路57の一方の入力はヒューズ82a
を介してそれぞれ電源電位が印加されている。このこと
から、NOR回路58の出力は、第3遅延回路53の出
力が「H」レベルから「L」レベルに立ち下がると
「L」レベルから「H」レベルに立ち上がることによっ
て、NOR回路59の出力は「H」レベルから「L」レ
ベルに立ち下がる。Similarly, when the fuse 83a is blown,
One input of the NOR circuit 58 is grounded via a resistor 83b, one input of the NOR circuit 56 is a fuse 81a, and one input of the NOR circuit 57 is a fuse 82a.
The power supply potential is applied to each of them via the. From this, the output of the NOR circuit 58 rises from the “L” level to the “H” level when the output of the third delay circuit 53 falls from the “H” level to the “L” level. The output falls from "H" level to "L" level.
【0054】このように、本実施の形態2における半導
体装置は、プロセスのばらつき等によって比較遅延回路
3の遅延時間Dがばらつき、基準遅延回路2にあらかじ
め設定された基準遅延時間Dref1及びDref2に対して遅
延時間Dが、D<Dref1の場合、外部装置によってヒュ
ーズ81aが溶断されてもっとも遅延時間の長い第1遅
延回路51を用いて信号の遅延を行い、Dref1≦D<D
ref2の場合、外部装置によってヒューズ82aが溶断さ
れて第1遅延回路51よりも遅延時間の短い第2遅延回
路52を用いて信号の遅延を行い、D≧Dref2の場合、
外部装置によってヒューズ83aが溶断されてもっとも
遅延時間の短い第3遅延回路53を用いて信号の遅延を
行うようにした。As described above, in the semiconductor device according to the second embodiment, the delay time D of the comparison delay circuit 3 varies due to process variations and the like, and the reference delay times Dref1 and Dref2 set in advance in the reference delay circuit 2 are different. Therefore, when the delay time D is D <Dref1, the signal is delayed by using the first delay circuit 51 having the longest delay time by blowing the fuse 81a by an external device, and Dref1 ≦ D <D
In the case of ref2, the fuse 82a is blown by an external device to delay the signal using the second delay circuit 52 having a shorter delay time than the first delay circuit 51. If D ≧ Dref2,
The signal is delayed using the third delay circuit 53 having the shortest delay time when the fuse 83a is blown by an external device.
【0055】このことから、プロセスのばらつき等に影
響されることなく所望の遅延時間を得ることができると
共に、電源投入ごとに遅延時間の調整を行う必要がな
く、温度変化等の周囲の状態変化による回路動作のばら
つきをなくすことができ、安定した遅延時間を得ること
ができる。また、基準遅延回路2を形成する抵抗とコン
デンサを、実際に使用する配線素材と同じもので形成す
ることにより、配線素材のばらつきに対する遅延時間の
ばらつきに対しても対応することができる。From this, it is possible to obtain a desired delay time without being affected by process variations and the like, and it is not necessary to adjust the delay time every time the power is turned on. Can eliminate the variation in the circuit operation and obtain a stable delay time. Further, by forming the resistor and the capacitor forming the reference delay circuit 2 with the same wiring material as that actually used, it is possible to cope with the variation of the delay time with respect to the variation of the wiring material.
【0056】実施の形態3.実施の形態2では、半導体
装置内でプロセスのばらつき等による遅延時間のばらつ
きを検出したが、外部装置によってプロセスのばらつき
等による遅延時間のばらつきを検出するようにしてもよ
く、このようにしたものを本発明の実施の形態3とす
る。図6は、本発明の実施の形態3における半導体装置
の例を示した回路図である。なお、図6では、図5と同
じものは同じ符号で示しており、ここではその説明を省
略する。Embodiment 3 In the second embodiment, the variation in the delay time due to the variation in the process or the like is detected in the semiconductor device. However, the variation in the delay time due to the variation in the process or the like may be detected by an external device. Is the third embodiment of the present invention. FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor device according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 6, the same components as those in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted here.
【0057】図6において、半導体装置91は、プロセ
スのばらつき等による遅延時間のばらつきを判定するた
めに使用する遅延回路の比較遅延回路92と遅延調整回
路63とを備えている。比較遅延回路92は、8つのイ
ンバータ101〜108が順に直列に接続されて遅延回
路を形成しており、比較遅延回路92の入力をなすイン
バータ101の入力は、外部装置(図示せず)との接続
が行われるパッド109に、比較遅延回路92の出力を
なすインバータ108の出力は、外部装置との接続が行
われるパッド110にそれぞれ接続されている。In FIG. 6, a semiconductor device 91 includes a delay circuit 92 and a delay adjusting circuit 63, which are delay circuits used to determine a variation in delay time due to a variation in a process. In the comparison delay circuit 92, eight inverters 101 to 108 are sequentially connected in series to form a delay circuit. The input of the inverter 101 serving as the input of the comparison delay circuit 92 is connected to an external device (not shown). The output of the inverter 108, which is the output of the comparison delay circuit 92, is connected to the pad 109 to which connection is made, and is connected to the pad 110, which is connected to an external device.
【0058】このような構成において、製造時に外部装
置によって、比較遅延回路92のパッド109の電位レ
ベルを変化させ、該外部装置は、これによる比較遅延回
路92のパッド110の電位レベルの変化を検出するこ
とにより、比較遅延回路92の遅延時間Dを検出する。
外部装置は、検出した遅延時間D、あらかじめ設定され
た基準遅延時間Dref1及びDref2との関係が、D<Dre
f1の場合は第1遅延回路81のヒューズ81aを、Dre
f1≦D<Dref2の場合は第2遅延回路82のヒューズ8
2aを、D≧Dref2の場合は第3遅延回路83のヒュー
ズ83aを溶断する。In such a configuration, the potential level of the pad 109 of the comparison delay circuit 92 is changed by an external device during manufacture, and the external device detects the change in the potential level of the pad 110 of the comparison delay circuit 92 due to this. Thus, the delay time D of the comparison delay circuit 92 is detected.
The external device determines that the relationship between the detected delay time D and the preset reference delay times Dref1 and Dref2 is D <Dre.
In the case of f1, the fuse 81a of the first delay circuit 81 is
If f1 ≦ D <Dref2, the fuse 8 of the second delay circuit 82
If D ≧ Dref2, the fuse 83a of the third delay circuit 83 is blown.
【0059】このように、本実施の形態3における半導
体装置は、実施の形態2と同様の効果を得ることができ
ると共に、プロセスのばらつき等による遅延時間のばら
つきを判定する回路を外部装置に設けたことから、回路
の簡略化を行うことができる。As described above, the semiconductor device according to the third embodiment can obtain the same effect as that of the second embodiment, and further, a circuit for determining a variation in delay time due to a variation in a process is provided in an external device. Therefore, the circuit can be simplified.
【0060】なお、実施の形態1及び実施の形態2で
は、あらかじめ設定された2つの基準遅延時間Dref1,
Dref2を使用する場合を例にして説明したが、本発明は
これに限定するものではなく、少なくと1つの基準遅延
時間を用いてプロセスのばらつき等による遅延時間のば
らつきを判定するようにすればよい。また、実施の形態
1及び実施の形態2における比較遅延回路3、及び実施
の形態3における比較遅延回路92における直列に接続
されたインバータの数は一例であり、本発明はこれに限
定するものではない。In the first and second embodiments, two preset reference delay times Dref1, Dref1,
Although the case where Dref2 is used has been described as an example, the present invention is not limited to this. If at least one reference delay time is used to determine the variation in the delay time due to the variation in the process or the like, Good. In addition, the number of inverters connected in series in the comparison delay circuit 3 in the first and second embodiments and the comparison delay circuit 92 in the third embodiment is an example, and the present invention is not limited to this. Absent.
【0061】[0061]
【発明の効果】請求項1に係る半導体装置は、基準遅延
回路部にあらかじめ設定された基準遅延時間を基にし
て、プロセスのばらつき等による比較遅延回路部の遅延
時間のばらつきを判定し、該判定結果に応じて遅延調整
回路部の各遅延回路の内の1つを選択して所望の信号に
対する遅延を行うようにした。このことから、プロセス
によるばらつき等からトランジスタの遅延が変化した場
合においても、遅延調整回路部における各遅延回路の内
いずれかが所望の遅延時間になるように設計しておくこ
とによって、プロセスのばらつき等に影響されることな
く所望の遅延時間を得ることができるため、外部より遅
延時間の調整を行う必要がなく、遅延回路における遅延
時間の調整を自動的に行うことができる。The semiconductor device according to the first aspect of the present invention determines a variation in delay time of the comparison delay circuit portion due to a process variation or the like based on a reference delay time preset in the reference delay circuit portion. One of the delay circuits of the delay adjustment circuit section is selected according to the result of the determination to delay a desired signal. Therefore, even when the delay of the transistor changes due to the variation due to the process or the like, the variation of the process can be improved by designing any one of the delay circuits in the delay adjustment circuit unit to have a desired delay time. Since the desired delay time can be obtained without being affected by the delay time, it is not necessary to externally adjust the delay time, and the delay time in the delay circuit can be automatically adjusted.
【0062】請求項2に係る半導体装置は、基準遅延回
路部にあらかじめ設定された基準遅延時間を基にして、
プロセスのばらつき等による比較遅延回路部の遅延時間
のばらつきを判定し、該判定結果に応じて遅延調整回路
部の各遅延回路の内の1つが外部装置によって選択され
所望の信号に対して遅延を行うようにした。このことか
ら、プロセスによるばらつき等からトランジスタの遅延
が変化した場合においても、遅延調整回路部における各
遅延回路の内いずれかが所望の遅延時間になるように設
計しておくことによって一定の遅延時間を得ることがで
きるため、プロセスのばらつき等に影響されることなく
所望の遅延時間を得ることができる。According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a reference delay time preset in a reference delay circuit;
A delay time variation of the comparison delay circuit unit due to a process variation or the like is determined, and one of the delay circuits of the delay adjustment circuit unit is selected by an external device according to the determination result to delay a desired signal. I did it. From this, even when the delay of the transistor changes due to the variation due to the process or the like, a certain delay time can be obtained by designing any one of the delay circuits in the delay adjustment circuit unit to have a desired delay time. Therefore, a desired delay time can be obtained without being affected by process variations and the like.
【0063】請求項3に係る半導体装置は、請求項1又
は請求項2のいずれかにおいて、具体的には、比較遅延
回路部を、プロセスのばらつきに応じて遅延時間がばら
つく遅延回路で構成し、基準となる遅延時間に設定され
た基準遅延回路部の遅延回路を、プロセスのばらつき等
による影響を受けない抵抗とコンデンサを用いて形成し
た。このことから、比較遅延回路部における遅延時間の
ばらつきを正確に判定することができると共に、該抵抗
とコンデンサを、実際に使用する配線素材と同じもので
形成することにより、配線素材のばらつきに対する遅延
時間のばらつきに対しても対応することができる。According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the first and second aspects, specifically, the comparison delay circuit section is constituted by a delay circuit whose delay time varies according to process variations. The delay circuit of the reference delay circuit set to the reference delay time is formed by using a resistor and a capacitor which are not affected by process variations and the like. From this, it is possible to accurately determine the variation in the delay time in the comparison delay circuit unit, and to form the resistor and the capacitor using the same wiring material as the actually used wiring material, so that the delay due to the variation in the wiring material is reduced. It is possible to cope with time variations.
【0064】請求項4に係る半導体装置は、請求項1か
ら請求項3のいずれかにおいて、具体的には、上記比較
遅延回路部及び基準遅延回路部は、電源投入時に入力さ
れる所定の信号に対してそれぞれ遅延を行うようにし
た。このことから、電源投入と共に遅延回路における遅
延時間の調整を行うことができる。According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the first to third aspects, the comparison delay circuit section and the reference delay circuit section each include a predetermined signal input at power-on. , Respectively. From this, it is possible to adjust the delay time in the delay circuit when the power is turned on.
【0065】請求項5に係る半導体装置は、外部装置か
ら入力される信号に対して比較遅延回路部で遅延を行っ
て外部装置に出力し、外部装置はプロセスのばらつき等
による比較遅延回路部の遅延時間のばらつきを判定し、
該判定結果に応じて遅延調整回路部の各遅延回路の内の
1つが外部装置によって選択され所望の信号に対して遅
延を行うようにした。このことから、プロセスによるば
らつき等からトランジスタの遅延が変化した場合におい
ても、遅延調整回路部における各遅延回路の内いずれか
が所望の遅延時間になるように設計しておくことによっ
て一定の遅延時間を得ることができるため、プロセスの
ばらつき等に影響されることなく所望の遅延時間を得る
ことができる。更に、プロセスのばらつき等による遅延
時間のばらつきを判定する回路を外部装置に設けたこと
から、回路の簡略化を行うことができる。According to a fifth aspect of the present invention, a signal input from an external device is delayed by a comparison delay circuit and output to the external device. Judge the variation of delay time,
One of the delay circuits of the delay adjustment circuit section is selected by an external device according to the result of the determination, and delays a desired signal. From this, even when the delay of the transistor changes due to the variation due to the process or the like, a certain delay time can be obtained by designing any one of the delay circuits in the delay adjustment circuit unit to have a desired delay time. Therefore, a desired delay time can be obtained without being affected by process variations and the like. Furthermore, since a circuit for determining a variation in delay time due to a variation in a process or the like is provided in an external device, the circuit can be simplified.
【0066】請求項6に係る半導体装置は、請求項2又
は請求項5のいずれかにおいて、具体的には、外部装置
によって遅延調整回路部における設定回路のヒューズが
溶断されて、各遅延回路の1つが固定して選択されるよ
うにした。このことから、遅延時間の調整を製造時に1
回行うだけでよく、温度変化等の周囲の状態変化による
回路動作のばらつきをなくすことができ、安定した遅延
時間を得ることができる。According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to any one of the second and fifth aspects, specifically, the fuse of the setting circuit in the delay adjustment circuit section is blown by an external device, and each of the delay circuits is One was fixed and selected. From this, it is necessary to adjust the delay time at the time of manufacture.
It can be performed only once, and variations in circuit operation due to changes in the surrounding state such as temperature changes can be eliminated, and a stable delay time can be obtained.
【図1】 本発明の実施の形態1における半導体装置の
例を示した回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 図1で示した半導体装置1における各部の波
形を示したタイミングチャートである。FIG. 2 is a timing chart showing waveforms at various points in the semiconductor device 1 shown in FIG.
【図3】 図1で示した半導体装置1における各部の波
形を示したタイミングチャートである。FIG. 3 is a timing chart showing waveforms at various points in the semiconductor device 1 shown in FIG.
【図4】 図1で示した半導体装置1における各部の波
形を示したタイミングチャートである。FIG. 4 is a timing chart showing waveforms at various points in the semiconductor device 1 shown in FIG.
【図5】 本発明の実施の形態2における半導体装置の
例を示した回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.
【図6】 本発明の実施の形態3における半導体装置の
例を示した回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.
【図7】 従来の遅延回路の例を示した回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a conventional delay circuit.
1,61,91 半導体装置、 2基準遅延回路、
3,92 比較遅延回路、 4 遅延時間判定回路、
5,63 遅延調整回路、 51 第1遅延回路、 5
2 第2遅延回路、 53 第3遅延回路、 54 遅
延時間切換回路、62 判定出力回路、 81 第1設
定回路、 82 第2設定回路、 第3設定回路。1,61,91 semiconductor device, two-reference delay circuit,
3,92 comparison delay circuit, 4 delay time judgment circuit,
5,63 delay adjustment circuit, 51 first delay circuit, 5
2 2nd delay circuit, 53 3rd delay circuit, 54 delay time switching circuit, 62 judgment output circuit, 81 1st setting circuit, 82 2nd setting circuit, 3rd setting circuit.
Claims (6)
路で構成された比較遅延回路部と、 遅延時間の基準値となる少なくとも1つの所定の基準遅
延時間に設定される遅延回路で構成された基準遅延回路
部と、 該基準遅延回路部の基準遅延時間を基にして上記比較遅
延回路部における遅延時間のばらつきを判定する遅延時
間判定回路部と、 異なる遅延時間に設定された複数の遅延回路を有し、遅
延時間判定回路部の判定結果に応じて該各遅延回路の1
つを選択して、所望の信号に対する遅延を行う遅延調整
回路部と、を備えることを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device provided with a delay circuit, comprising: a comparison delay circuit section including a delay circuit used to determine a variation in delay time; and at least one predetermined reference value serving as a reference value of the delay time. A reference delay circuit unit including a delay circuit set to a reference delay time; and a delay time determination circuit unit for determining a variation in delay time in the comparison delay circuit unit based on the reference delay time of the reference delay circuit unit And a plurality of delay circuits set to different delay times, and one of the delay circuits according to the determination result of the delay time determination circuit unit.
And a delay adjusting circuit unit for selecting one of them to delay a desired signal.
路で構成された比較遅延回路部と、 遅延時間の基準値となる少なくとも1つの所定の基準遅
延時間に設定される遅延回路で構成された基準遅延回路
部と、 該基準遅延回路部の基準遅延時間を基にして上記比較遅
延回路部における遅延時間のばらつきを判定する遅延時
間判定回路部と、 該遅延時間判定回路部の判定結果を外部装置に出力する
判定出力回路部と、 異なる遅延時間に設定された複数の遅延回路を有し、判
定出力回路部から出力された判定結果に応じて外部装置
により該各遅延回路の1つが選択され、該選択された遅
延回路を用いて所望の信号に対する遅延を行う遅延調整
回路部と、を備えることを特徴とする半導体装置。2. A semiconductor device provided with a delay circuit, comprising: a comparison delay circuit unit including a delay circuit used to determine a variation in delay time; and at least one predetermined delay time reference value. A reference delay circuit unit including a delay circuit set to a reference delay time; and a delay time determination circuit unit for determining a variation in delay time in the comparison delay circuit unit based on the reference delay time of the reference delay circuit unit A determination output circuit for outputting the determination result of the delay time determination circuit to an external device; and a plurality of delay circuits set to different delay times, according to the determination result output from the determination output circuit. A delay adjusting circuit for selecting one of the delay circuits by an external device and delaying a desired signal using the selected delay circuit. .
つきに応じて遅延時間がばらつく遅延回路で構成され、
上記基準遅延回路部は、プロセスのばらつきによる影響
を受けない抵抗及びコンデンサを用いて形成された少な
くとも1つの遅延回路で構成され、該遅延回路は、あら
かじめ上記所定の基準遅延時間に設定されることを特徴
とする請求項1又は請求項2のいずれかに記載の半導体
装置。3. The comparison delay circuit section is configured by a delay circuit whose delay time varies according to a process variation.
The reference delay circuit section includes at least one delay circuit formed using a resistor and a capacitor that are not affected by process variations, and the delay circuit is set to the predetermined reference delay time in advance. The semiconductor device according to claim 1, wherein:
は、電源投入時に入力される所定の信号に対してそれぞ
れ遅延を行い、上記遅延時間判定回路部は、比較遅延回
路部及び基準遅延回路部からそれぞれ入力される遅延信
号から遅延時間のばらつきを判定することを特徴とする
請求項1から請求項3のいずれかに記載の半導体装置。4. The comparison delay circuit section and the reference delay circuit section respectively delay a predetermined signal inputted at power-on, and the delay time determination circuit section includes a comparison delay circuit section and a reference delay circuit. 4. The semiconductor device according to claim 1, wherein a variation in delay time is determined from delay signals input from the respective units.
路で構成され、外部装置から入力される信号の遅延を行
って外部装置に出力する比較遅延回路部と、 異なる遅延時間に設定された複数の遅延回路を有し、比
較遅延回路部における遅延時間のばらつきに応じて外部
装置から該各遅延回路の1つが選択され、該選択された
遅延回路を用いて所望の信号に対する遅延を行う遅延調
整回路部と、を備えることを特徴とする半導体装置。5. A semiconductor device provided with a delay circuit, comprising: a delay circuit used to determine a variation in delay time, wherein a signal input from an external device is delayed and output to the external device. A delay circuit unit, and a plurality of delay circuits set at different delay times, wherein one of the delay circuits is selected from an external device according to a variation in the delay time in the comparison delay circuit unit, and the selected delay circuit is selected. A semiconductor device, comprising: a delay adjustment circuit unit that delays a desired signal using a circuit.
の1つを選択するためのヒューズが設けられた設定回路
を備え、外部装置によって該ヒューズが溶断されること
により各遅延回路の1つが固定して選択されることを特
徴とする請求項2又は請求項5のいずれかに記載の半導
体装置。6. The delay adjustment circuit section includes a setting circuit provided with a fuse for selecting one of the plurality of delay circuits, and one of the delay circuits is blown by an external device when the fuse is blown. 6. The semiconductor device according to claim 2, wherein one is fixedly selected.
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---|---|---|---|
JP11000363A JP2000201058A (en) | 1999-01-05 | 1999-01-05 | Semiconductor device |
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JP11000363A JP2000201058A (en) | 1999-01-05 | 1999-01-05 | Semiconductor device |
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JP2000201058A true JP2000201058A (en) | 2000-07-18 |
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ID=11471723
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006099831A (en) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Fujitsu Ltd | Semiconductor integrated circuit |
US7126400B2 (en) | 2003-12-17 | 2006-10-24 | Seiko Epson Corporation | Delay adjustment circuit, integrated circuit device, and delay adjustment method |
US7155360B2 (en) | 2004-07-27 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Process variation detector and process variation detecting method |
JP2007018648A (en) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Elpida Memory Inc | Semiconductor device |
US7263009B2 (en) | 2005-03-25 | 2007-08-28 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor memory device with delay section |
JP2010092542A (en) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Elpida Memory Inc | Semiconductor device |
-
1999
- 1999-01-05 JP JP11000363A patent/JP2000201058A/en active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7126400B2 (en) | 2003-12-17 | 2006-10-24 | Seiko Epson Corporation | Delay adjustment circuit, integrated circuit device, and delay adjustment method |
US7155360B2 (en) | 2004-07-27 | 2006-12-26 | Fujitsu Limited | Process variation detector and process variation detecting method |
JP2006099831A (en) * | 2004-09-28 | 2006-04-13 | Fujitsu Ltd | Semiconductor integrated circuit |
US7263009B2 (en) | 2005-03-25 | 2007-08-28 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor memory device with delay section |
US7548099B2 (en) | 2005-03-25 | 2009-06-16 | Elpida Memory, Inc. | Semiconductor device with delay section |
JP2007018648A (en) * | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Elpida Memory Inc | Semiconductor device |
JP2010092542A (en) * | 2008-10-08 | 2010-04-22 | Elpida Memory Inc | Semiconductor device |
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