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JP2000196173A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

Info

Publication number
JP2000196173A
JP2000196173A JP10372015A JP37201598A JP2000196173A JP 2000196173 A JP2000196173 A JP 2000196173A JP 10372015 A JP10372015 A JP 10372015A JP 37201598 A JP37201598 A JP 37201598A JP 2000196173 A JP2000196173 A JP 2000196173A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser chip
light
mirror
reflected
disk
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10372015A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noboru Oshima
昇 大島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP10372015A priority Critical patent/JP2000196173A/en
Publication of JP2000196173A publication Critical patent/JP2000196173A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser device which is capable of stably reading out a disk without inducing a tracking error by a method wherein a laser chip is so arranged at a position so as not to make return light impinge on its light projecting edge face. SOLUTION: First, a laser chip 10 is mounted in a recess 11a of depth D of a sub-mount 11, and a laser beam rise mirror 12 is provided in front of the laser chip 10. A laser beam P emitted from the laser chip 10 is reflected upward at an angle of 90 deg. by the mirror 12 and made to impinge on a disk read optical system. A reflected light P1 from a disk is reflected from the reflecting surface 12a of the mirror 12 to pass over the laser chip 10, so that it is restrained from returning to the optical system reflecting again from a front-side light projection edge face 10b. Another reflected light P2 reflected from the disk is scattered by the electrode face 10c of the laser chip 10, so that it never returns to the optical system reflecting again. Therefore, a semiconductor laser device of this constitution is capable of stably reading out a disk.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンパクトディス
ク(CD)用装置等に用いられる光学式ヘッドの光源と
して使用される半導体レーザ装置に関するものであり、
特に戻り光反射によるトラッキングエラーのない半導体
レーザ装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor laser device used as a light source of an optical head used in a device for a compact disk (CD) and the like.
In particular, the present invention relates to a semiconductor laser device having no tracking error due to return light reflection.

【0002】[0002]

【従来の技術】3ビーム式の光学式記録装置、光学式再
生装置等に半導体レーザチップを光源として使用する場
合、一般的にはレーザ出射光をメインビーム1本とサブ
ビーム2本とに分割してディスクに投射する。
2. Description of the Related Art When a semiconductor laser chip is used as a light source in a three-beam optical recording device, an optical reproducing device, or the like, a laser beam is generally divided into one main beam and two sub beams. To project onto the disc.

【0003】図8に示すように、このサブビーム2本が
ディスクから反射し、P1、P2としてレーザチップ1
の活性層1aからそれぞれ約75μmの位置へ入射して
くる。
As shown in FIG. 8, these two sub-beams are reflected from the disk, and are referred to as P1 and P2.
From the active layer 1a at a position of about 75 μm.

【0004】したがって、レーザチップ1の成長層の厚
さt1が約10μm程度、基板の厚さt2が約90μm
程度の場合には、P1はレーザチップ1の前面側光出射
端面1bで反射することはないが、P2はレーザチップ
1の前面側光出射端面1bで再び反射し、P2’として
これがディスクの読み取りにおいて雑音、トラッキング
エラーを発生させる原因となる。
Therefore, the thickness t1 of the growth layer of the laser chip 1 is about 10 μm, and the thickness t2 of the substrate is about 90 μm.
In this case, P1 is not reflected on the front-side light-emitting end face 1b of the laser chip 1, but P2 is reflected again on the front-side light-emitting end face 1b of the laser chip 1, and this is read as P2 '. Causes noise and tracking errors.

【0005】また、図8に示したレーザチップと極性が
逆の場合を図9に示す。
FIG. 9 shows a case where the polarity is opposite to that of the laser chip shown in FIG.

【0006】レーザチップ2の成長層の厚さt1が約1
0μm程度、基板の厚さt2が約90μm程度の場合、
P2はサブマウントあるいはステムの粗面部8にて乱反
射(散乱)され、再反射することはないが、P1はレー
ザチップ2の前面側光出射端面2bでP1’として再び
反射してしまう。
The thickness t1 of the growth layer of the laser chip 2 is about 1
When the thickness t2 of the substrate is about 90 μm,
Although P2 is irregularly reflected (scattered) by the rough surface portion 8 of the submount or stem and does not re-reflect, P1 is reflected again as P1 'on the front-side light emitting end face 2b of the laser chip 2.

【0007】そこで、従来、図10に示すように、レー
ザチップ3の成長面t1を液相もしくは気相成長によ
り、約50μm程度と厚くし、さらに基板の厚さt2を
約50μm程度とすることにより、P1、P2が共にレ
ーザチップ3の前面側光出射端面3bで反射することを
防ぐ手法が実施されている。
Therefore, conventionally, as shown in FIG. 10, the growth surface t1 of the laser chip 3 is increased to about 50 μm by liquid or vapor phase growth, and the thickness t2 of the substrate is set to about 50 μm. Accordingly, a method of preventing both P1 and P2 from being reflected by the front-side light emitting end face 3b of the laser chip 3 is implemented.

【0008】また、図11に示すように、レーザチップ
4の前面側光出射端面4bに、ダイシングにより粗面部
分4cを形成し、ディスクからの反射光P1をこの粗面
部分4cで乱反射させてしまい、反射光が再び光学系に
戻るのを防ぐ手法がある(特開昭61−128587号
公報)。なお、反射光P2はステムの粗面部8にて乱反
射(散乱)され、再反射することはない。
As shown in FIG. 11, a rough surface portion 4c is formed by dicing on the light emitting end surface 4b on the front surface side of the laser chip 4, and the reflected light P1 from the disk is irregularly reflected by the rough surface portion 4c. There is a method for preventing reflected light from returning to the optical system again (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-128587). The reflected light P2 is irregularly reflected (scattered) by the rough surface portion 8 of the stem and does not re-reflect.

【0009】また、図12に示すように、レーザチップ
5の前面側光出射端面5b(基板部分の一部)にエッチ
ング等により傾斜面を形成し、ディスクからの反射光P
2をこの傾斜部分5cでP2’として斜め方向に反射さ
せてしまい、反射光が再び光学系に戻るのを防ぐ手法
(特開平1−166584号公報)がある。
As shown in FIG. 12, an inclined surface is formed by etching or the like on the light emitting end surface 5b (part of the substrate) of the front surface side of the laser chip 5, and the reflected light P from the disk is formed.
There is a method (JP-A-1-166584) for preventing the reflected light from returning to the optical system again by reflecting P2 'in the inclined portion 5c as P2' in the oblique direction.

【0010】また、図13に示すように、レーザチップ
6の前面側光出射端面6bにおいて、ディスクからの反
射光P2が照射される箇所に黒色材料(低光反射材料)
6cを設け、ディスクからの反射光P2をこの6cで吸
収し、再反射光P2’の光強度を約半分以下とする簡単
な手法(特開昭62−18080号公報)がある。
As shown in FIG. 13, a black material (a low light reflection material) is applied to a portion of the front surface light emitting end face 6b of the laser chip 6 where the reflected light P2 from the disk is irradiated.
6c, there is a simple method of absorbing the reflected light P2 from the disk by the 6c and reducing the light intensity of the re-reflected light P2 'to about half or less (Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-18080).

【0011】さらには、図14に示すように、レーザチ
ップ7の前面側光出射端面7bに形成した端面保護膜7
cにおいて、活性層7aを含む部分B(端面の約下半
分)の厚さはいわゆるλ/2とし、ディスクからの反射
光P1が照射される部分(端面の約上半分)の厚さはλ
/4の低反射膜とし、このAでの再反射光P1’の光強
度を小さくした手法(特開昭62−104093号公
報)等がある。なおP2はステムの粗面部8にて乱反射
(散乱)され、再反射することはない。
Further, as shown in FIG. 14, an end face protective film 7 formed on a front light emitting end face 7b of the laser chip 7 is formed.
c, the thickness of the part B (about the lower half of the end face) including the active layer 7a is so-called λ / 2, and the thickness of the part (about the upper half of the end face) irradiated with the reflected light P1 from the disk is λ / 2.
There is a method of reducing the light intensity of the re-reflected light P1 'at A by using a low reflection film of / 4 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-104093). Note that P2 is irregularly reflected (scattered) by the rough surface portion 8 of the stem and does not re-reflect.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、先に述
べた図10、図14の方法では、素子(チップ)化工程
が複雑となり、また、図11、図12の方法では、ウェ
ハの割れ、欠け等が発生しやすく、製造工程での取り扱
いが非常に困難であるという問題が生じる。
However, in the method of FIGS. 10 and 14 described above, the step of forming an element (chip) becomes complicated, and in the method of FIGS. 11 and 12, the wafer is cracked or chipped. Are likely to occur, and handling in the manufacturing process is very difficult.

【0013】また、図13の方法では、黒色材料により
端面(特に活性層近傍)汚染の可能性がある。
In the method shown in FIG. 13, there is a possibility that the end face (especially near the active layer) is contaminated by the black material.

【0014】本発明は、このような問題点を解決するこ
とを目的とする。
An object of the present invention is to solve such a problem.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この発明(請求項1)に
係る半導体レーザ装置は、ヒートシンク又はサブマウン
ト上に、少なくとも、レーザチップと、該レーザチップ
の光出射端面前方に配置されるミラーと、を備えた半導
体レーザ装置において、前記レーザチップが、その光出
射端面に、戻り光が入射されないことによって、上記の
目的を達成する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device comprising: a heat sink or a submount; at least a laser chip; and a mirror disposed in front of a light emitting end face of the laser chip. In the semiconductor laser device provided with the above, the above object is achieved by that the laser chip does not allow the return light to enter the light emitting end face.

【0016】この発明(請求項2)に係る半導体レーザ
装置は、前記ヒートシンク又はサブマウントが、凹部を
備え、該凹部に前記レーザチップをマウントしてなるこ
とによって、上記の目的を達成する。
In the semiconductor laser device according to the present invention (claim 2), the above object is achieved by providing the heat sink or the submount having a concave portion and mounting the laser chip in the concave portion.

【0017】この発明(請求項3)に係る半導体レーザ
装置は、請求項1又は2において、前記ミラーが、その
前記レーザチップ側端面の戻り光入射位置に、前記レー
ザチップ光出射端面への光再入射阻止領域を設けてなる
ことによって、上記の目的を達成する。
[0017] In the semiconductor laser device according to the present invention (claim 3), the mirror according to claim 1 or 2, wherein the mirror emits light to the laser chip light emitting end face at a return light incident position on the laser chip side end face. The above object is achieved by providing the re-entry prevention region.

【0018】この発明(請求項4)に係る半導体レーザ
装置は、請求項3において、前記光再入射阻止領域が、
前記ミラーを削除して形成したものであることによって
上記の目的を達成する。
[0018] In the semiconductor laser device according to the present invention (claim 4), according to claim 3, the light re-entry prevention region is
The above object is achieved by forming the mirror by removing the mirror.

【0019】この発明(請求項5)に係る半導体レーザ
装置は、請求項3において、前記光再入射阻止領域が、
低反射膜が形成されてなることによって、上記の目的を
達成する。
In the semiconductor laser device according to the present invention (claim 5), in claim 3, the light re-entry prevention region is
The above object is achieved by forming a low reflection film.

【0020】この発明(請求項6)に係る半導体レーザ
装置は、請求項3において、前記光再入射阻止領域が、
粗面であることによって、上記の目的を達成する。
[0020] In the semiconductor laser device according to the present invention (claim 6), in claim 3, the light re-entry blocking region is
The above object is achieved by having a rough surface.

【0021】この発明(請求項7)に係る半導体レーザ
装置は、請求項1又は2において、前記ミラーの、その
戻り光入射面が、前記レーザチップ光出射端面に対し、
戻り光が入射しない方向であることによって、上記の目
的を達成する。
[0021] In the semiconductor laser device according to the present invention (claim 7), according to claim 1 or 2, the return light incident surface of the mirror is positioned with respect to the laser chip light emitting end surface.
The above object is achieved by the direction in which no return light is incident.

【0022】以下、本発明の作用を記載する。Hereinafter, the operation of the present invention will be described.

【0023】レーザチップ及びミラーを適当な位置に配
置することにより、ディスクから反射してきたサブビー
ムがレーザチップの光出射端面あるいは他の場所で反射
して再び光学系に戻ることを防止できるため、トラッキ
ングエラーを起こすことなく、安定したディスクの読み
取りが可能となる。
By arranging the laser chip and the mirror at appropriate positions, it is possible to prevent the sub-beam reflected from the disk from being reflected at the light emitting end face of the laser chip or other places and returning to the optical system again. It is possible to read the disk stably without causing an error.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面に
基づき具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.

【0025】図1−1が本発明の第1の実施例を示す図
である。まず、レーザチップ10は、サブマウント11
の深さDの凹部11aにマウントされ、レーザチップ1
0の前面側前方にはレーザビーム立ち上げ用のミラー1
2が設けられる。レーザチップ10からのレーザビーム
Pはこのミラー12の反射面12aにて90°情報に反
射され、ディスク読み取り用の光学系に入射する。
FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention. First, the laser chip 10 is
The laser chip 1 is mounted in the concave portion 11a having a depth D of
In front of the front side of the mirror 0, a mirror 1 for starting a laser beam
2 are provided. The laser beam P from the laser chip 10 is reflected by the reflecting surface 12a of the mirror 12 into 90 ° information, and enters the optical system for reading a disk.

【0026】ディスクからの反射光P1はミラー12の
反射面12aで反射するが、図に示す通り、レーザチッ
プ10の上方を通過し、前面側光出射端面10bで再び
反射して光学系に戻ることはない。
The reflected light P1 from the disk is reflected by the reflecting surface 12a of the mirror 12, but passes above the laser chip 10 as shown in the figure, is reflected again by the front light emitting end face 10b, and returns to the optical system. Never.

【0027】また、もう一方のディスクからの反射光P
2もレーザチップ10の電極面上10cにて散乱し、再
び反射して光学系に戻ることはない。
The reflected light P from the other disk
2 also scatters on the electrode surface 10c of the laser chip 10 and does not reflect again to return to the optical system.

【0028】この場合、ディスクからの反射光P1、P
2はレーザチップ10の活性層10aよりそれぞれ約7
5μm離れた位置に入射するため、レーザチップ10の
前面側光出射端面10bとレーザチップ10のレーザビ
ームPがミラー12で反射する位置との距離L1は75
μm未満でなければならない。
In this case, the reflected light P1, P
2 is about 7 from the active layer 10a of the laser chip 10, respectively.
Since the light is incident on a position separated by 5 μm, the distance L1 between the front light emitting end face 10b of the laser chip 10 and the position where the laser beam P of the laser chip 10 is reflected by the mirror 12 is 75.
It must be less than μm.

【0029】図1−2にてレーザチップ10とミラー1
2との詳細な位置関係を説明する。
In FIG. 1-2, the laser chip 10 and the mirror 1 are shown.
2 will be described in detail.

【0030】レーザチップ10の活性層10aより出射
したレーザビームPが、サブマウント面11bと交わる
までの距離をL2、レーザチップ10の前面側光出射端
面10bとミラー12の先端との距離をL3、レーザチ
ップ10のレーザビームPがミラー12で反射する位置
との距離をL1、また、サブマウント面11bとレーザ
チップ10の活性層10aとの高低差をh1とすると、
これらは以下の関係を満たすことが必要である。
The distance L2 until the laser beam P emitted from the active layer 10a of the laser chip 10 intersects the submount surface 11b is L2, and the distance between the front light-emitting end face 10b of the laser chip 10 and the tip of the mirror 12 is L3. If the distance from the position where the laser beam P of the laser chip 10 is reflected by the mirror 12 is L1, and the height difference between the submount surface 11b and the active layer 10a of the laser chip 10 is h1,
These must satisfy the following relationship.

【0031】[0031]

【数1】 (Equation 1)

【0032】1例として、レーザチップ10の基板厚
(活性層10aの高さ)h2を90μm、サブマウント
11の凹部11aの深さDを80μmとすると、h1は
10μmとなる。
As an example, if the substrate thickness (height of the active layer 10a) h2 of the laser chip 10 is 90 μm and the depth D of the concave portion 11a of the submount 11 is 80 μm, h1 is 10 μm.

【0033】このとき、レーザビームPの広がり角αが
40°の場合、レーザビームPがサブマウント面11b
と交わるまでの距離L2は約27μmとなる。すなわ
ち、このとき、レーザチップ10の前面側光出射端面1
0bとミラー12の選択との距離L3は27μm未満で
なければならない。
At this time, when the spread angle α of the laser beam P is 40 °, the laser beam P is
Is about 27 μm before the intersection with. That is, at this time, the front light-emitting end face 1 of the laser chip 10
The distance L3 between Ob and the selection of the mirror 12 must be less than 27 μm.

【0034】この場合、レーザチップ10の前面側光出
射端面10bとレーザチップ10のレーザビームPがミ
ラー12で反射する位置との距離L1は37μm(75
μm)未満となるため、ディスクからの反射光P2がレ
ーザチップ10の電極面上10cにて照射、散乱するた
めの条件を十分満たすことになる。
In this case, the distance L1 between the front light emitting end face 10b of the laser chip 10 and the position where the laser beam P of the laser chip 10 is reflected by the mirror 12 is 37 μm (75 μm).
μm), the condition for irradiating and scattering the reflected light P2 from the disk on the electrode surface 10c of the laser chip 10 is sufficiently satisfied.

【0035】なお、L2<L3の場合にはレーザビーム
Pの一部もしくはほとんどがミラー12によって反射さ
れなくなってしまう。
When L2 <L3, a part or most of the laser beam P is not reflected by the mirror 12.

【0036】また、サブマウント11の凹部11aの深
さDはサブマウント面11bとレーザチップ10の活性
層10aとの高低差h1が0μm<h1<75μmとな
るように設計する必要がある。
The depth D of the concave portion 11a of the submount 11 must be designed so that the height difference h1 between the submount surface 11b and the active layer 10a of the laser chip 10 is 0 μm <h1 <75 μm.

【0037】上述した通り、レーザチップ10の基板厚
(活性層10aの高さ)h2が90μmの場合、レーザ
チップマウント面の凹部11aの深さDが0μm≦D≦
15μmであると、サブマウント面11bとレーザチッ
プ10の高低差h1は75μm≦D≦15μmである
と、サブマウント面11bとレーザチップ10の活性層
10aとの高低差h1は75μm≦h1≦90μmとな
り、h1<75μm及び75μm>L1の条件を満足で
きなくなる。すなわち、図1−3(h1=0μmの場
合)に示すように、ディスクからの反射光P2がミラー
12で反射した後、さらにレーザチップ10の前面側光
出射端面10bで反射し、再び光学系へ戻り、ディスク
のトラッキングエラーを招く恐れがある。
As described above, when the substrate thickness h2 of the laser chip 10 (the height of the active layer 10a) is 90 μm, the depth D of the concave portion 11a on the laser chip mounting surface is 0 μm ≦ D ≦
When the height is 15 μm, the height difference h1 between the submount surface 11b and the laser chip 10 is 75 μm ≦ D ≦ 15 μm, and when the height difference h1 between the submount surface 11b and the active layer 10a of the laser chip 10 is 75 μm ≦ h1 ≦ 90 μm. And the conditions of h1 <75 μm and 75 μm> L1 cannot be satisfied. That is, as shown in FIG. 1-3 (when h1 = 0 μm), after the reflected light P2 from the disk is reflected by the mirror 12, the reflected light P2 is further reflected by the front-side light-emitting end face 10b of the laser chip 10, and the optical system again. Again, which may lead to a disk tracking error.

【0038】図2に本発明による第2の実施例を示す。FIG. 2 shows a second embodiment according to the present invention.

【0039】本実施例は、上述した第1の実施例におい
て、サブマウント13のレーザチップマウント面に凹部
のない場合でも、ディスクからの反射光がレーザチップ
の光出射端面で反射しないようにしたものである。
This embodiment is different from the first embodiment in that the reflected light from the disk is not reflected by the light emitting end face of the laser chip even when the laser chip mounting surface of the submount 13 has no concave portion. Things.

【0040】レーザビーム立ち上げ用のミラー14の先
端をカットし、図2−1に示した通りの形状とすること
で、このミラー14をレーザチップ10の前方のより近
い位置へ配置可能としたものである。
By cutting off the tip of the mirror 14 for raising the laser beam to have a shape as shown in FIG. 2A, the mirror 14 can be arranged at a position closer to the front of the laser chip 10. Things.

【0041】これにより、レーザチップ10の基板厚
(活性層10aの高さ)h2が75μm以上の場合にお
いても、レーザチップ10の前面側光出射端面10bと
レーザビームPがミラー14で反射する位置との距離L
1を75μm未満とすることができ、したがってディス
クからの反射光P2は、レーザチップ10の電極面上1
0cにて散乱し、再び反射して光学系に戻ることはな
い。
Accordingly, even when the substrate thickness h2 of the laser chip 10 (height of the active layer 10a) is 75 μm or more, the front light-emitting end face 10b of the laser chip 10 and the position where the laser beam P is reflected by the mirror 14. Distance L
1 can be made smaller than 75 μm, so that the reflected light P2 from the disk
The light is scattered at 0c and is not reflected again to return to the optical system.

【0042】なお、図2−2に示すように、αの広がり
角をもったレーザビームPのすべてがミラー14の反射
面14aにて反射されるようにしなければならない。
As shown in FIG. 2B, all of the laser beams P having a spread angle of α must be reflected by the reflecting surface 14a of the mirror 14.

【0043】1例として、レーザチップ10の基板厚
(活性層10aの高さ)h2を90μm、ミラー14の
先端のカット部分14bの高さHを80μm、レーザビ
ームPの広がり角αを40°とした場合、ミラー14の
先端カット部分14bとレーザチップ10の前面側光出
射端面10bとの距離L4は27μm未満としなければ
ならない。
As an example, the substrate thickness (height of the active layer 10a) h2 of the laser chip 10 is 90 μm, the height H of the cut portion 14b at the tip of the mirror 14 is 80 μm, and the spread angle α of the laser beam P is 40 °. In this case, the distance L4 between the cut end portion 14b of the mirror 14 and the front-side light emitting end surface 10b of the laser chip 10 must be less than 27 μm.

【0044】図3に本発明による第3の実施例を示す。FIG. 3 shows a third embodiment according to the present invention.

【0045】本実施例は、第1の実施例においてレーザ
チップの前面側光出射端面10bとレーザビームPがミ
ラー12で反射する位置との距離L1が75μm以上の
場合においてもディスクからの反射光がレーザチップの
光出射端面で反射しないようにしたものである。
In this embodiment, even when the distance L1 between the front-side light emitting end face 10b of the laser chip and the position where the laser beam P is reflected by the mirror 12 is 75 μm or more in the first embodiment, the reflected light from the disc is not limited. Are not reflected on the light emitting end face of the laser chip.

【0046】本発明は、サブマウント11に対して、デ
ィスクからの反射光P2が照射される位置に粗面部もし
くは低光反射膜100を設けることにより、反射光P2
を散乱、もしくは反射光P2の反射光強度を低減可能と
したものである。
According to the present invention, the submount 11 is provided with the rough surface portion or the low-light reflection film 100 at the position where the reflected light P2 from the disk is irradiated, thereby providing the reflected light P2.
Or the intensity of the reflected light of the reflected light P2 can be reduced.

【0047】ただし、ミラー12の先端部とレーザチッ
プ10の前面側光出射端面10bとの距離L3は、ある
広がり角をもったレーザビームPがサブマウント面11
bと交わるまでの距離よりも短くなければならない。
However, the distance L3 between the tip of the mirror 12 and the front-side light emitting end face 10b of the laser chip 10 is such that the laser beam P having a certain divergence angle is
It must be shorter than the distance to intersect with b.

【0048】図4に本発明による第4の実施例を示す。FIG. 4 shows a fourth embodiment according to the present invention.

【0049】本実施例は、第2の実施例においてレーザ
チップ10の前面側光出射端面10bとレーザビームP
がミラー14で反射する位置との距離L1が75μm以
上の場合においても、ディスクからの反射光がレーザチ
ップの光出射端面で反射しないようにしたものである。
This embodiment is different from the second embodiment in that the front side light emitting end face 10b of the laser chip 10 and the laser beam P
Even if the distance L1 from the position where the light is reflected by the mirror 14 is 75 μm or more, the light reflected from the disk is not reflected by the light emitting end face of the laser chip.

【0050】本実施例も、サブマウント13に対して、
ディスクからの反射光P2が照射される位置に粗面部又
は低光反射膜100を設けることにより、反射光P2を
散乱、又は反射光P2の反射光強度を低減可能としたも
のである。
In this embodiment, the submount 13
By providing the rough surface portion or the low light reflection film 100 at a position where the reflected light P2 from the disk is irradiated, the reflected light P2 can be scattered or the reflected light intensity of the reflected light P2 can be reduced.

【0051】本実施例においても、ミラー14の先端カ
ット部分14bとレーザチップ10bとの距離L4は、
ある広がり角をもったレーザビームPのすべてがミラー
14の反射面14aにて反射可能な距離でなければなら
ない。
Also in this embodiment, the distance L4 between the cut end 14b of the mirror 14 and the laser chip 10b is
All of the laser beams P having a certain divergence angle must have a distance that can be reflected by the reflection surface 14a of the mirror 14.

【0052】図5は本発明による第5の実施例を示す。FIG. 5 shows a fifth embodiment according to the present invention.

【0053】本実施例は、第4の実施例において先端が
カットされていない形状のミラー15を用いたものであ
る。
This embodiment uses a mirror 15 having a shape in which the tip is not cut off in the fourth embodiment.

【0054】本実施例においては、ミラー15に対し
て、ディスクからの反射光P2が照射される位置に粗面
部もしくは低光反射膜101を設けることにより、反射
光P2を散乱、もしくは反射光P2の反射光強度を低減
させ、レーザチップ10の前面側光出射端面10bで再
び反射しないようにしたものである。
In this embodiment, the mirror 15 is provided with a rough surface portion or a low light reflection film 101 at a position where the reflected light P2 from the disk is irradiated, so that the reflected light P2 is scattered or reflected. The intensity of the reflected light is reduced so that the light is not reflected again on the front side light emitting end face 10b of the laser chip 10.

【0055】本実施例においても、ミラー15の先端部
とレーザチップ10の前面側光出射端面10bとの距離
L3は、ある広がり角をもったレーザビームPがサブマ
ウント面13bと交わるまでの距離よりも短くなければ
ならない。
Also in this embodiment, the distance L3 between the tip of the mirror 15 and the front-side light emitting end face 10b of the laser chip 10 is the distance until the laser beam P having a certain divergence angle crosses the submount surface 13b. Must be shorter than

【0056】図6は本発明による第6の実施例を示す。FIG. 6 shows a sixth embodiment according to the present invention.

【0057】本実施例は、今まで述べてきたレーザチッ
プとは極性が逆、すなわちレーザチップ10の成長層厚
(活性層10aの高さ)h4が約10μm程度の場合の
実施例である。
This embodiment is an embodiment in which the polarity is opposite to that of the laser chip described above, that is, the thickness h4 of the growth layer (the height of the active layer 10a) of the laser chip 10 is about 10 μm.

【0058】ディスクからの反射光P2はレーザチップ
10の電極面上10cにて照射、散乱するが、もう一方
の反射光P1はミラー16の反射面16aで反射し、レ
ーザチップ10の前面側光出射端面10bで再び反射し
て光学系に戻されてしまう。そこで、本実施例において
は、ミラー16に対して、ディスクからの反射光P1が
照射される位置に粗面部もしくは低光反射膜101を設
けることにより、反射光P1を散乱、もしくは反射光P
2の反射光強度を低減させ、レーザチップ10の前面側
光出射端面10bで再び入射しないようにしたものであ
る。
The reflected light P2 from the disk is radiated and scattered on the electrode surface 10c of the laser chip 10, while the other reflected light P1 is reflected by the reflecting surface 16a of the mirror 16 and the light on the front side of the laser chip 10 The light is reflected again by the emission end face 10b and returned to the optical system. Therefore, in the present embodiment, by providing the rough surface portion or the low light reflection film 101 on the mirror 16 at the position where the reflected light P1 from the disk is irradiated, the reflected light P1 is scattered or the reflected light P1 is scattered.
2, the intensity of the reflected light is reduced so as not to be incident again on the front-side light emitting end face 10b of the laser chip 10.

【0059】図7は本発明による第7の実施例を示す。FIG. 7 shows a seventh embodiment according to the present invention.

【0060】本実施例は、先のだい6の実施例におい
て、図に示すような形状及び大きさのミラー17を用い
たものである。本実施例においては、ディスクからの反
射光P2をミラー17の反射面17aで斜め方向に反射
させ、反射光P2が再び光学系に戻ることがないように
したものである。
This embodiment uses the mirror 17 having the shape and size as shown in the drawing in the sixth embodiment. In this embodiment, the reflected light P2 from the disk is reflected obliquely by the reflecting surface 17a of the mirror 17, so that the reflected light P2 does not return to the optical system again.

【0061】[0061]

【発明の効果】ディスク読み取り用の光学系の光源とし
て、本発明のレーザ装置を使用した場合には、トラッキ
ングエラー、雑音等を招くことなく、安定した読み取り
が可能になる。
When the laser apparatus of the present invention is used as a light source of an optical system for reading a disk, stable reading can be performed without causing a tracking error, noise, and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の基本的構成を示す第1の実施例を説明
するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining a first embodiment showing a basic configuration of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 2 is a diagram for explaining a second embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第3の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 3 is a diagram for explaining a third embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第4の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 4 is a diagram for explaining a fourth embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 5 is a diagram for explaining a fifth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第6の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 6 is a diagram for explaining a sixth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第7の実施例を説明するための図であ
る。
FIG. 7 is a diagram for explaining a seventh embodiment of the present invention.

【図8】従来例を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining a conventional example.

【図9】従来例を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a conventional example.

【図10】従来例を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining a conventional example.

【図11】従来例を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a conventional example.

【図12】従来例を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining a conventional example.

【図13】従来例を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining a conventional example.

【図14】従来例を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram for explaining a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1〜7:レーザチップ 1a〜7a:活性層 1b〜7b:前面側光出射端面 4c:粗面部 5c:傾斜部分 6c:低反射材料 7c:端面保護膜 8:ステム粗面部 10:レーザチップ 10a:活性層 10b:前面側光出射端面 10c:電極 11:サブマウント 11a:凹部 11b:サブマウント面 12:ミラー 13:サブマウント 14:ミラー 14a:ミラー反射面 14b:ミラー14先端カット部分 15:先端がカットされていないミラー 15a:ミラー反射面 16、17:ミラー 16a、17a:ミラー反射面 100、101:粗面部又は低光反射膜 P1、P2:ディスクからの反射光 P1’、P2’:反射光の再反射光 t1:成長層厚 t2:基板厚 1 to 7: laser chip 1a to 7a: active layer 1b to 7b: front side light emitting end face 4c: rough surface portion 5c: inclined portion 6c: low reflection material 7c: end surface protective film 8: stem rough surface portion 10: laser chip 10a: Active layer 10b: Front side light emitting end face 10c: Electrode 11: Submount 11a: Concave section 11b: Submount surface 12: Mirror 13: Submount 14: Mirror 14a: Mirror reflection surface 14b: Mirror 14 tip cut portion 15: Tip is 15 Uncut mirror 15a: mirror reflection surface 16, 17: mirror 16a, 17a: mirror reflection surface 100, 101: rough surface portion or low light reflection film P1, P2: reflection light from disk P1 ', P2': reflection light T1: Growth layer thickness t2: Substrate thickness

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ヒートシンク又はサブマウント上に、少
なくとも、レーザチップと、該レーザチップの光出射端
面前方に配置されるミラーと、を備えた半導体レーザ装
置において、 前記レーザチップは、その光出射端面に、戻り光が入射
されないことを特徴とする半導体レーザ装置。
1. A semiconductor laser device comprising, on a heat sink or a submount, at least a laser chip and a mirror disposed in front of a light emitting end face of the laser chip, wherein the laser chip has a light emitting end face. Wherein no return light is incident.
【請求項2】 前記ヒートシンク又はサブマウントは、
凹部を備え、該凹部に前記レーザチップをマウントして
なることを特徴とする請求項1に記載の半導体レーザ装
置。
2. The heat sink or the submount,
2. The semiconductor laser device according to claim 1, further comprising a recess, wherein the laser chip is mounted in the recess.
【請求項3】 前記ミラーは、その前記レーザチップ側
端面の戻り光入射位置に、前記レーザチップ光出射端面
への光再入射阻止領域を設けてなることを特徴とする請
求項1又は2に記載の半導体レーザ装置。
3. The mirror according to claim 1, wherein the mirror is provided with an area for preventing light from re-entering the laser chip light emitting end face at a position where the return light is incident on the laser chip side end face. 13. The semiconductor laser device according to claim 1.
【請求項4】 前記光再入射阻止領域は、前記ミラーを
削除して形成したものであることを特徴とする請求項3
に記載の半導体レーザ装置。
4. The light re-entry prevention area is formed by removing the mirror.
3. The semiconductor laser device according to item 1.
【請求項5】 前記光再入射阻止領域は、低反射膜が形
成されてなることを特徴とする請求項3に記載の半導体
レーザ装置。
5. The semiconductor laser device according to claim 3, wherein said light re-inhibition region has a low reflection film formed thereon.
【請求項6】 前記光再入射阻止領域は、粗面であるこ
とを特徴とする請求項3に記載の半導体レーザ装置。
6. The semiconductor laser device according to claim 3, wherein the light re-inhibition region is a rough surface.
【請求項7】 前記ミラーは、その戻り光入射面が、前
記レーザチップ光出射端面に対し、戻り光が入射しない
方向であることを特徴とする請求項1又は2に記載の半
導体レーザ装置。
7. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a return light incident surface of the mirror is in a direction in which return light does not enter the laser chip light emitting end surface.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006324658A (en) * 2005-05-04 2006-11-30 Avago Technologies General Ip (Singapore) Private Ltd Silicon optical package with 45°-reflecting mirror
US8315287B1 (en) 2011-05-03 2012-11-20 Avago Technologies Fiber Ip (Singapore) Pte. Ltd Surface-emitting semiconductor laser device in which an edge-emitting laser is integrated with a diffractive lens, and a method for making the device
US8582618B2 (en) 2011-01-18 2013-11-12 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Surface-emitting semiconductor laser device in which an edge-emitting laser is integrated with a diffractive or refractive lens on the semiconductor laser device

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