JP2000190235A

JP2000190235A - 研磨体の製造方法

Info

Publication number: JP2000190235A
Application number: JP10366292A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Ryomo; 克己両毛; Tadashi Ishiguro; 忠石黒; Minoru Kanazawa; 實金澤
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1998-12-24
Filing date: 1998-12-24
Publication date: 2000-07-11

Abstract

(57)【要約】【課題】支持体上に研磨層を設けてなる研磨体におけ
る、塗設後の研磨層の乾燥条件の選定により研磨能力の
増大を図る。【解決手段】研磨材粉末とバインダーを含む研磨層用
塗布液10を支持体２上に塗布して研磨層３を設ける塗布
工程、ついで得られた研磨層３を乾燥する乾燥工程より
なり、乾燥工程における供給乾燥風の給気風量Ａ1が乾
燥ゾーン５の塗布面積１平方メートル当たり０．５ｍ³
／分以上で、排気風量Ｂ1を給気風量Ａ1以上に設定して
なる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッド等の表
面研磨などの用途に用いられる研磨材微粉末とバインダ
ーからなる研磨層を支持体上に有してなる研磨体の製造
方法に関し、特に、支持体上に研磨層塗布液を塗設して
研磨層を設けるについてその研磨性能を高める乾燥工程
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、例えば磁気ヘッド等の被研磨
物の表面研磨を行うについて、研磨材をバインダーに分
散してなる研磨層を有する研磨テープ、研磨シート、研
磨ディスク等の研磨体を使用し、これらの研磨体を被研
磨物に接触させて研磨することが行われている。

【０００３】また、上記のような研磨層を支持体上に形
成するについては、研磨材とバインダーと溶剤等からな
る塗布液を支持体上に塗設した後、乾燥させて研磨層を
硬化させるものであり、上記乾燥工程の乾燥条件は、生
産工程上の効率面等からいろいろな条件が考えられてい
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかして、前述のよう
な研磨層を形成するについて、その乾燥工程における乾
燥条件が、得られた研磨層の研磨能力に影響を与えるこ
とが判明した。

【０００５】研磨体は同じ材料を用いて研磨層を設けた
場合、研磨能力の大きいことが要求される。研磨能力が
高いと、工作時間（研磨時間）が少なくてすみ、コスト
の低減にもつながる。

【０００６】そこで、本発明は上記点に鑑みなされたも
のであって、研磨能力が高くなる研磨層の乾燥条件を見
いだした研磨体の製造方法を提供せんとするものであ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の研磨体の製造方法は、研磨材粉末とバインダーを含
む研磨層用塗布液を支持体上に塗布して研磨層を設ける
塗布工程、ついで得られた研磨層を乾燥する乾燥工程よ
りなり、前記乾燥工程における乾燥風の給気風量が、乾
燥ゾーンの塗布面積１平方メートル当たり０．５ｍ³／
分以上で、排気風量が給気風量以上であることを特徴と
するものである。

【０００８】前記塗布工程における塗布速度が２０ｍ／
分以上、好ましくは３０ｍ／分以上であることが、生産
性の点から好適である。

【０００９】また、前記乾燥工程の初期乾燥ゾーンの供
給乾燥風は、全量が新鮮風であることが望ましい。

【００１０】前記乾燥工程を複数の乾燥ゾーンで構成
し、後段の乾燥ゾーンの温度を高く設定するのが望まし
い。

【００１１】

【発明の効果】上記のような本発明によれば、研磨層を
塗設した後の乾燥工程における乾燥風の給気風量を乾燥
ゾーンの塗布面積１平方メートル当たり０．５ｍ³／分
以上とすると共に排気風量を給気風量以上としたことに
より、研磨能力の高い研磨層を形成することができ、省
コストの研磨体を製造できる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の研磨体の製造方
法の実施の形態を示し、本発明をさらに詳細に説明す
る。

【００１３】図１に示すように、研磨体１はポリエステ
ルフィルム等による支持体２上に研磨層３を積層してな
るものであるが、この研磨体１の基本的製造工程は、研
磨材粉末とバインダーと溶剤等を含む研磨層用塗布液１
０を、走行速度が２０ｍ／分以上で走行する支持体２上
にブレードコーター４等によって所定の厚みに研磨層３
を塗布する塗布工程と、これに続いて第１〜第３乾燥ゾ
ーン５〜７によって研磨層３を乾燥する乾燥工程よりな
る。

【００１４】上記乾燥工程における第１〜第３乾燥ゾー
ン５〜７には、乾燥風を供給する給気ダクト５１，６
１，７１及び乾燥風を排気する排気ダクト５２，６２，
７２がそれぞれ接続され、それぞれの給気風量Ａ1 〜Ａ
3 及び排気風量Ｂ1 〜Ｂ3 が独立して調整可能に設けら
れると共に、給気ダクト５１，６１，７１には熱源８
１，８２，８３が設置されて乾燥温度（例えば２０℃〜
１３０℃）が調節される。

【００１５】そして、前記乾燥工程における第１〜第３
乾燥ゾーン５〜７の給気風量Ａ1 〜Ａ3 、特に、第１乾
燥ゾーン５における給気風量Ａ1 を、各ゾーンにおける
塗布面積１平方メートル当たり０．５ｍ³／分以上に設
定すると共に、排気風量Ｂ1〜Ｂ3 を給気風量Ａ1 〜Ａ3
以上に設定したものである。また、第１乾燥ゾーン５
の乾燥温度に対して、後段の第２及び第３乾燥ゾーン
６，７の乾燥温度を高く設定したものである。上記乾燥
工程により、支持体２上に塗設された研磨層３は徐々に
厚みが低減し、所定の乾燥厚みに硬化してなる。

【００１６】なお、乾燥工程の乾燥ゾーンは３段に限ら
ず、２段以上の多段に設け、それぞれの乾燥条件を上記
のように設定するのが好ましい。

【００１７】本発明の研磨層で用いられる研磨材はモー
ス硬度６〜９で、かつ粉体総量の６０％以上を含む。こ
の研磨材としては、一般的に研磨作用若しくは琢磨作用
をもつ材料で、α−アルミナ、γ−アルミナ、α，γ−
アルミナ、熔融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、コラ
ンダム、人造ダイヤモンド、ダイヤモンド、α−酸化
鉄、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、
炭化タングステン、チタンカーバイド、シリカ、ジルコ
ニア、酸化チタン、酸化セリウム、ベンガラ、ガーネッ
ト等で、主としてモース硬度７以上の材料が１内至４種
迄の組み合わせで使用できる。これらの研磨材は平均粒
子サイズが０．３〜１０μｍの大きさのものが使用され
る。これらの研磨材は、研磨層の場合研磨材１００重量
部に対してバインダー１０〜１０００重量部の範囲で用
いられる。

【００１８】研磨材の具体例としては、住友化学社製の
ＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ３０、ＡＫ
Ｐ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ１００などが
挙げられる。これらについては特公昭５２−２８６４２
号、特公昭４９−３９４０２号、特開昭６３−９８８２
８号、米国特許３６８７７２５号、米国特許３００７８
０７号、米国特許３０４１１９６号、米国特許３２９３
０６６号、米国特許３６３０９１０号、米国特許３８３
３４１２号、米国特許４１１７１９０号、英国特許１１
４５３４９号、西独特許８５３２１１号等に記載されて
いる。

【００１９】本発明の研磨層に使用されるバインダーと
しては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応
型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、可視光
線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用される。

【００２０】熱可塑性樹脂としては、軟化温度が２００
℃以下、平均分子量が１００００〜３０００００、重合
度が約５０〜２０００程度のものでより好ましくは２０
０〜８００程度である。例えば塩化ビニル酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビ
ニルアルコール共重合体、塩化ビニルビニルアルコール
共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステルア
クリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビニ
リデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体（セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等）、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、クロロ
ビニルエーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹
脂、ポリアミド樹脂など各種の合成ゴム系の熱可塑性樹
脂及びこれらの混合物等が使用される。

【００２１】これらの樹脂の例示は、特公昭３７−６８
７７号、特公昭３９−１２５２８号、特公昭３９−１９
２８２号、特公昭４０−５３４９号、特公昭４０−２０
９０７号、特公昭４１−９４６３号、特公昭４１−１４
０５９号、特公昭４１−１６９８５号、特公昭４２−６
４２８号、特公昭４２−１１６２１号、特公昭４３−４
６２３号、特公昭４３−１５２０６号、特公昭４４−２
８８９号、特公昭４４−１７９４７号、特公昭４４−１
８２３２号、特公昭４５−１４０２０号、特公昭４５−
１４５００号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭４７
−２２０６３号、特公昭４７−２２０６４号、特公昭４
７−２２０６８号、特公昭４７−２２０６９号、特公昭
４７−２２０７０号、特公昭４７−２７８８６号、特開
昭５７−１３３５２１、特開昭５８−１３７１３３、特
開昭５８−１６６５３３、特開昭５８−２２２４３３、
特開昭５９−５８６４２等、米国特許４５７１３６４
号、米国特許４７５２５３０号の公報等に記載されてい
る。

【００２２】熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗
布液の状態では２０００００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量が無限大となるものが好適である。ま
た、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間
に軟化又は溶融しないものが好ましい。具体的には例え
ばフェノール樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリ
カーボネート樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッ
ド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬
化樹脂）、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロー
スメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシア
ネートプレポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体
とジイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステ
ルポリオールとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジ
オール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混合
物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合
物等である。

【００２３】これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０
３号、特公昭４０−９７７９号、特公昭４１−７１９２
号、特公昭４１−８０１６号、特公昭４１−１４２７５
号、特公昭４２−１８１７９号、特公昭４３−１２０８
１号、特公昭４４−２８０２３号、特公昭４５−１４５
０１号、特公昭４５−２４９０２号、特公昭４６−１３
１０３号、特公昭４７−２２０６５号、特公昭４７−２
２０６６号、特公昭４７−２２０６７号、特公昭４７−
２２０７２号、特公昭４７−２２０７３号、特公昭４７
−２８０４５号、特公昭４７−２８０４８号、特公昭４
７−２８９２２号等の公報に記載されている。

【００２４】これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反
応型樹脂は、主たる官能基以外に官能基としてカルボン
酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン酸、スルフェン酸、スルホ
ン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（ＰＯ(ＯＭ)(ＯＭ)）、ホスホ
ン酸、硫酸（ＯＳＯ₃Ｍ）、及びこれらのエステル基等
の酸性基（ＭはＨ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
炭化水素基）、アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミ
ノアルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基等、また、水酸基、アルコキシル基、チオール
基、アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシア
ナト基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル
基、フォスフィン基を通常１種以上６種以内含み、各々
の官能基は樹脂１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2
ｅｑ含むことが好ましい。

【００２５】本発明の研磨層に用いる硬化剤としてのポ
リイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネー
ト、４・４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシア
ネート、ナフチレン−１・５−ジイソシアネート、ｏ−
トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネ
ート、トリフェニルメタントリイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネート等のイソシアネート類、当該イソ
シアネート類とポリアルコールとの生成物、イソシアネ
ート類の縮合によって生成した２〜１０量体のポリイソ
シアネート、ポリイソシアネートとポリウレタンとの生
成物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用
することができる。これらポリイソシアネート類の平均
分子量は１００〜２００００のものが好適である。

【００２６】これらポリイソシアネートの市販されてい
る商品名としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コ
ロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネート
ＭＲ、ミリオネートＭＴＬ（以上日本ポリウレタン社
製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０
Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、タ
ケネート３００Ｓ、タケネート５００（以上武田薬品社
製）、スミジュールＴ−８０、スミジュール４４Ｓ、ス
ミジュールＰＦ、スミジュールＬ、スミジュールＮ、デ
スモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、デスモジュールＴ６５、デス
モジュール１５、デスモジュールＲ、デスモジュールＲ
Ｆ、デスモジュールＳＬ、デスモジュールＺ４２７３
（以上住友バイエル社製）等があり、これらを単独若し
くは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の
組み合わせによって使用することができる。

【００２７】また、硬化反応を促進する目的で、水酸基
（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が１００
０〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ基（モ
ノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン
等）を有する化合物や金属酸化物の触媒や鉄アセチルア
セトネート等の触媒を併用することもできる。これらの
水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能であることが
望ましい。これらポリイソシアネートは研磨層、バック
層ともバインダー樹脂とポリイソシアネートの総量１０
０重量部あたり２〜７０重量部で使用することが好まし
く、より好ましくは５〜５０重量部である。これらの例
示は特開昭６０−１３１６２２号、特開昭６１−７４１
３８号等の公報において示されている。

【００２８】その他、研磨層には各種の機能を持った化
合物が添加剤として添加される。例えば、分散剤、潤滑
剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防黴剤、着色剤、溶剤等
が加えられる。

【００２９】本発明に使用される粉末状潤滑剤として
は、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化
黒鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化
チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化タングステン等の無
機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ベンゾグア
ナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレ
フイン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリ
アミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリフ
ッカエチレン系樹脂微粉末等の樹脂微粉末等がある。

【００３０】また有機化合物系潤滑剤としては、シリコ
ンオイル（ジアルキルポリシロキサン、ジアルコキシポ
リシロキサン、フェニルポリシロキサン、フルオロアル
キルポリシロキサン（信越化学社製ＫＦ９６、ＫＦ６９
等））、脂肪酸変性シリコンオイル、フッ素アルコー
ル、ポリオレフィン（ポリエチレンワックス、ポリプロ
ピレン等）、ポリグリコール（エチレングリコール、ポ
リエチレンオキシドワックス等）、テトラフルオロエチ
レンオキシドワックス、ポリテトラフルオログリコー
ル、パーフルオロアルキルエーテル、パーフルオロ脂肪
酸、パーフルオロ脂肪酸エステル、パーフルオロアルキ
ル硫酸エステル、パーフルオロアルキルスルホン酸エス
テル、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸エステ
ル、パーフルオロアルキル燐酸エステル等の弗素や珪素
を導入した化合物、アルキル硫酸エステル、アルキルス
ルホン酸エステル、アルキルホスホン酸トリエステル、
アルキルホスホン酸モノエステル、アルキルホスホン酸
ジエステル、アルキル燐酸エステル、琥珀酸エステル等
の有機酸及び有機酸エステル化合物、トリアザインドリ
ジン、テトラアザインデン、ベンゾトリアゾール、ベン
ゾトリアジン、ベンゾジアゾール、ＥＤＴＡ等の窒素・
硫黄を含む複素（ヘテロ）環化合物、炭素数１０〜４０
の一塩基性脂肪酸と炭素数２〜４０個の一価のアルコー
ルもしくは二価のアルコール、三価のアルコール、四価
のアルコール、六価のアルコールのいずれか１つもしく
は２つ以上とからなる脂肪酸エステル類、炭素数１０個
以上の一塩基性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭
素数が１１〜７０個となる一価〜六価のアルコールから
なる脂肪酸エステル類、炭素数８〜４０の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド類、脂肪酸アルキルアミド類、脂肪族アル
コール類も使用できる。

【００３１】これら化合物の具体的な例としては、カプ
リル酸ブチル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチ
ル、ラウリン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチ
ン酸エチル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチ
ル、ミリスチン酸２エチルヘキシル、パルミチン酸エチ
ル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パル
ミチン酸２エチルヘキシル、ステアリン酸エチル、ステ
アリン酸ブチル、ステアリン酸イソブチル、ステアリン
酸オクチル、ステアリン酸２エチルヘキシル、ステアリ
ン酸アミル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸２
エチルペンチル、ステアリン酸２ヘキシルデシル、ステ
アリン酸イソトリデシル、ステアリン酸アミド、ステア
リン酸アルキルアミド、ステアリン酸ブトキシエチル、
アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソ
ルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリス
テアレート、アンヒドロソルビタンテトラステアレー
ト、オレイルオレート、オレイルアルコール、ラウリル
アルコール、モンタンワックス、カルナウバワックス等
があり単独若しくは組み合わせ使用できる。

【００３２】また本発明に使用される潤滑剤としては、
潤滑油添加剤も単独若しくは組み合わせで使用でき、防
錆剤として知られている酸化防止剤（アルキルフェノー
ル、ベンゾトリアジン、テトラアザインデン、スルファ
ミド、グアニジン、核酸、ピリジン、アミン、ヒドロキ
ノン、ＥＤＴＡ等の金属キレート剤）、錆どめ剤（ナフ
テン酸、アルケニルコハク酸、燐酸、ジラウリルフォス
フェート等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアルコール
等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレジルフ
ォスフェート、トリブチルホスファイト等）、清浄分散
剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等があ
る。これらの潤滑剤はバインダー１００重量部に対して
０．０１〜３０重量部の範囲で添加される。これらにつ
いては、特公昭４３−２３８８９号、特公昭４８−２４
０４１号、特公昭４８−１８４８２号、特公昭４４−１
８２２１号、特公昭４７−２８０４３号、特公昭５７−
５６１３２号、特開昭５９−８１３６号、特開昭５９−
８１３９号、特開昭６１−８５６２１号、米国特許３４
２３２３３号、米国特許３４７００２１号、米国特許３
４９２２３５号、米国特許３４９７４１１号、米国特許
３５２３０８６号、米国特許３６２５７６０号、米国特
許３６３０７７２号、米国特許３６３４２５３号、米国
特許３６４２５３９号、米国特許３６８７７２５号、米
国特許４１３５０３１号、米国特許４４９７８６４号、
米国特許４５５２７９４号、アイビーエムテクニカル
ディスクロジャーブリテン（ＩＢＭＴｅｃｈｎｉｃａ
ｌＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＢｕｌｌｅｔｉｎ）Ｖｏ
ｌ．９，Ｎｏ７，ｐ７７９（１９６６年１２月）、エレ
クトロニク（ＥＬＥＫＴＲＯＮＩＫ）１９６１年Ｎｏ１
２，ｐ３８０、化学便覧，応用編，ｐ９５４−９６７，
１９８０年丸善株発行等に記載されている。

【００３３】本発明に使用する研磨材の分散剤、分散助
剤としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロ
ール酸、ベヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２
〜４０個の脂肪酸（Ｒ₁ＣＯＯＨ、Ｒ₁は炭素数１〜３９
個のアルキル基、フェニル基、アラルキル基）、前記の
脂肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ₄ ⁺等）又
はアルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、Ｃｕ、Ｐ
ｂ等からなる金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミ
ド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この
他に炭素数４〜４０の高級アルコール（ブタノール、オ
クチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリル
アルコール）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、
フェニルスルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸
エステル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸ト
リエステル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン
酸、アミン化合物等も使用可能である。また、ポリエチ
レングリコール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀
酸、スルホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使
用可能である。これらの分散剤は通常一種類以上で用い
られ、一種類の分散剤はバインダー１００重量部に対し
て０．００５〜２０重量部の範囲で添加される。これら
分散剤の使用方法は、研磨材や非研磨微粉末の表面に予
め被着させてもよく、また分散途中で添加してもよい。
このようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号、
特公昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８２２１
号、特公昭４８−７４４１号、特公昭４８−１５００１
号、特公昭４８−１５００２号、特公昭４８−１６３６
３号、特公昭４９−３９４０２号、米国特許３３８７９
９３号、同３４７００２１号等において示されている。

【００３４】本発明に用いる防黴剤としては、２−（４
−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、Ｎ−（フルオロ
ジクロロメチルチオ）−フタルイミド、１０・１０’−
オキシビスフェノキサルシン、２・４・５・６テトラク
ロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリルジヨードメチルス
ルホン、トリヨードアリルアルコール、ジヒドロアセト
酸、フェニルオレイン酸水銀、酸化ビス（トリブチル
錫）、サルチルアニライド等がある。このようなもの
は、例えば「微生物災害と防止技術」１９７２年工学図
書、「化学と工業」３２，９０４（１９７９）等におい
て示されている。

【００３５】本発明に用いる帯電防止剤としては、カー
ボンブラックが使用でき、例えば、ゴム用ファーネス、
ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラッ
ク等を用いることができる。その比表面積は５〜５００
ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ
密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ² であるのが好ましい。この
カーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社
製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００，１３００，１
０００，９００，８００，７００、三菱化成工業社製：
６５０Ｂ，９５０Ｂ，３２５０Ｂ，８５０，９００，９
６０，９８０，１０００，２３００，２４００，２６０
０等があげられる。また、カーボンブラックを分散剤等
で表面処理したり、樹脂でグラファイト化したものを用
いることもできる。

【００３６】本発明に用いるカーボンブラック以外の帯
電防止剤としては、グラファイト、変性グラファイト、
カーボンブラックグラフトポリマー、酸化錫−酸化アン
チモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−酸化アンチモン
等の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多
価アルコール、多価アルコールエステル、アルキルフェ
ノールＥＯ付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキ
ルアミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミド
アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピ
リジンそのほかの複素環類、ホスホニウム又はスルホニ
ウム類等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステル基、ホスホン酸エ
ステル、燐酸エステル基などの酸性基を含むアニオン界
面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホン酸類、アミノア
ルコールの硫酸又は燐酸エステル類、アルキルベタイン
型等の両性界面活性剤等が使用される。

【００３７】これら帯電防止剤として使用し得る界面活
性剤化合物例の一部は、特開昭６０−２８０２５号、米
国特許２２７１６２３号、同２２４０４７２号、同２２
８８２２６号、同２６７６１２２号、同２６７６９２４
号、同２６７６９７５号、同２６９１５６６号、同２７
２７８６０号、同２７３０４９８号、同２７４２３７９
号、同２７３９８９１号、同３０６８１０１号、同３１
５８４８４号、同３２０１２５３号、同３２１０１９１
号、同３２９４５４０号、同３４１５６４９号、同３４
４１４１３号、同３４４２６５４号、同３４７５１７４
号、同３５４５９７４号、西独特許公開（ＯＬＳ）１９
４２６６５号、英国特許１０７７３１７号、同１１９８
４５０号等をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成
とその応用』（槇書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ
著『サーフエスアクテイブエージエンツ』（インタ
ーサイエンスパブリケーションコーポレイテッド１
９８５年版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペデ
ィアオブサーフエスアクティブエージェンツ，第
２巻』（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年
版）；『界面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社，
昭和４１年１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』
幸書房（１９６８）等に記載されている。

【００３８】これらの界面活性剤は単独又は混合して添
加してもよい。研磨体における、これらの界面活性剤の
使用量は、研磨材１００重量部当たり０．０１〜１０重
量部である。またバック層での使用量はバインダー１０
０重量部当たり０．０１〜３０重量部である。これらは
帯電防止剤として用いられるものであるが、時としてそ
のほかの目的、例えば分散の改良、潤滑性の改良、塗布
助剤、湿潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用され
る場合もある。

【００３９】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサンなどのエーテル系；ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼ
ン、スチレンなどのタール系（芳香族炭化水素）；メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素、Ｎ・Ｎ−ジメチルホルムアルデ
ヒド、ヘキサン等が使用できる。またこれら溶媒は通常
任意の比率で２種以上で用いる。また１重量％以下の量
で微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成
分等）を含んでもよい。有機溶媒の代わりに水系溶媒
（水、アルコール、アセトン等）を使用することもでき
る。

【００４０】研磨層の形成は上記の組成などを任意に組
合せて溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・
乾燥する。研磨テープとして使用する場合には支持体の
厚みは２．５〜１００μｍ程度、好ましくは３〜７０μ
ｍ程度がよい。研磨ディスクもしくは研磨シート、カー
ド状の場合は厚みが０．０３〜１０ｍｍ程度であり、ド
ラムの場合は円筒状で用いることもできる。上記支持体
の素材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレ
ン等のポリオレフイン類、セルローストリアセテート、
セルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、ポリ
塩化ビニル等のビニル系樹脂類、ポリカーボネート、ポ
リイミド、ポリアミド、ポリスルホン等のプラスチック
のほかにアルミニウム、銅等の金属、ガラス等のセラミ
ックス等も使用できる。これらの支持体は塗布に先立っ
て、コロナ放電処理、プラズマ処理、下塗処理、熱処
理、除塵埃処理、金属蒸着処理，アルカリ処理を行って
もよい。これら支持体に関しては、例えば西独特許３３
３８８５４Ａ、特開昭５９−１１６９２６号、特開昭６
１−１２９７３１号、米国特許４３８８３６８号；三石
幸夫著『繊維と工業』３１巻、ｐ５０〜５５、１９７５
年などに記載されている。これら支持体の中心線平均表
面粗さは０．００１〜０．５μｍ（カットオフ値０．２
５ｍｍ）が好ましい。またこれら支持体のヤング率（Ｆ
５値）は目的に応じて、幅方向、長手方向とも２〜３０
Ｋｇ／ｍｍ²（１Ｋｇ／ｍ²＝９．８Ｐａ）を選択するこ
とができる。

【００４１】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、
分散・混練中の添加位置、分散温度（０〜８０℃）など
は適宜設定することができる。研磨塗料の調製には通常
の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、
ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグライン
ダー、ツェグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）アトライター、
高速インペラー、分散機、高速ストーンミル、高速度衝
撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、リボン
ブレンダー、コニーダー、インテンシブミキサー、タン
ブラー、ブレンダー、ディスパーザー、ホモジナイザ
ー、単軸スクリュー押し出し機、二軸スクリュー押し出
し機、及び超音波分散機などを用いることができる。通
常分散・混練にはこれらの分散・混練機を複数備え、連
続的に処理を行う。混練分散に関する技術の詳細は、
Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テー．シー．パットン）“Ｐ
ａｉｎｔＦｌｏｗａｎｄＰｉｇｍｅｎｔＤｉｓ
ｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイントフローアンドピグメン
トディスパージョン）１９６４年ＪｏｈｎＷｉｌｅ
ｙ＆Ｓｏｎｓ社発行（ジョンウイリーアンド
サンズ））や田中信一著『工業材料』２５巻３７（１９
７７）などや当該書籍の引用文献に記載されている。こ
れら分散、混練の補助材料として分散・混練を効率よく
進めるため、球相当径で１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの
径のスチールボール、スチールビーズ、セラミツクビー
ズ、ガラスビーズ、有機ポリマービーズを用いることが
できる。またこれら材料は球形に限らない。また、米国
特許第２５８１４１４号及び同第２８５５１５６号など
の明細書にも記載がある。本発明においても上記の書籍
や当該書籍の引用文献などに記載された方法に準じて混
練分散を行い研磨層塗布液を調製することができる。

【００４２】支持体上へ前記の研磨層用塗布液を塗布す
る方法としては、塗布液の粘度を１〜２００００センチ
ストークス（２５℃）に調整し、エアードクターコータ
ー、ブレードコーター、エアナイフコーター、スクイズ
コーター、含浸コーター、リバースロールコーター、ト
ランスファーロールコーター、グラビアコーター、キス
コーター、キャストコーター、スプレイコーター、ロッ
ドコーター、正回転ロールコーター、カーテンコータ
ー、押出コーター、バーコーター、リップコータ等が利
用でき、その他の方法も可能であり、これらの具体的説
明は朝倉書店発行の『コーティング工学』２５３頁〜２
７７頁（昭和４６．３．２０．発行）等に詳細に記載さ
れている。また研磨層を多層構成とする場合は、同時多
層塗布、逐次多層塗布等を行ってもよい。これらは、例
えば、特開昭５７−１２３５３２号公報、特公昭６２−
３７４５１号公報、特開昭５９−１４２７４１号公報、
特開昭５９−１６５２３９号公報の明細書等に示されて
いる。

【００４３】このような方法により、支持体上に約１〜
２００μｍほどで塗布された塗布液は、前述のように２
０℃（室温）〜１３０℃で多段階で乾燥しながら、形成
した研磨層を０．１〜１００μｍ厚みに乾燥する。この
ときの支持体の搬送速度は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ
／分（好ましくは２０ｍ／分以上）で行われ、複数の乾
燥ゾーンで給気風量及び排気風量並びに乾燥温度を制御
し、塗布膜の残留溶剤量を０．１〜４０ｍｇ／ｍ²とす
る。

【００４４】そして、必要により表面平滑化加工を施し
研磨層もしくはバック層の中心線平均表面粗さを０．０
０１〜１０μｍとし、所望の形状に裁断したりして、本
発明の研磨体を製造する。これらの製造方法は粉体の予
備処理・表面処理、混練・分散、塗布・乾燥、平滑処
理、熱処理、ＥＢ処理、紫外線硬化処理、表面研磨処
理、裁断、巻き取りの工程を連続して行うことが望まし
い。これらは、例えば、特公昭４０−２３６２５号公
報、特公昭３９−２８３６８号公報、特公昭４７−３８
８０２号公報、英国特許１１９１４２４号、特公昭４８
−１１３３６号公報、特開昭４９−５３６３１号、特開
昭５０−１１２００５号、特開昭５１−７７３０３号、
特公昭５２−１７４０４号、特開昭６０−７０５３２号
公報、特開平２−２６５６７２号、米国特許第３４７３
９６０号、米国特許第４７２８５６９号、米国特許４７
４６５４２号明細書等に示されている。また、特公昭４
１−１３１８１号公報に示される方法はこの分野におけ
る基本的、且つ重要な技術と考えられている。

【００４５】上記のように支持体上へ研磨層を塗設し、
乾燥したあと冷却し巻き取るもので、このように作製し
た研磨体を裁断し、所望のプラスチックや金属のリール
に巻き取る。巻き取る直前ないしはそれ以前の工程にお
いて研磨テープその他の研磨体をバーニッシュ及び／又
はクリーニングすることが望ましい。バーニッシュは研
磨体を、具体的にはサファイア刃、剃刀刃、超硬材料
刃、ダイアモンド刃、セラミックス刃のような硬い材料
により研磨面の突起部分をそぎおとし平滑にする。これ
ら材料のモース硬度は８以上が好ましいが特に制限はな
く突起を除去できるものであれば良い。これら材料の形
状は特に刃である必要はなく、角型、丸型、ホイール
（回転する円筒形状の周囲にこれらの材質を付与しても
良い）のような形状でも使用できる。また研磨体のクリ
ーニングは、研磨体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去す
る目的で研磨体表層を不織布などでワイピングすること
により行う。このようなワイピングの材料としては、例
えば日本バイリーン社製の各種バイリーンや東レ社製の
トレシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フ
ィルム社製の各種研磨体、また不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリ
ロニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペー
パー等が使用できる。これらは例えば特公昭４６−３９
３０９号、特公昭５８−４６７６８号、特開昭５６−９
０４２９号、特公昭５８−４６７６７号、特開昭６３−
２５９８３０号、特開平１−２０１８２４号等にも記載
されている。

【００４６】本発明に使用される研磨材、バインダー、
添加剤（潤滑剤、分散剤、帯電防止剤、表面処理剤、カ
ーボンブラック、研磨材、遮光剤、酸化防止剤、防黴剤
等）、溶剤及び支持体（下塗層、バック層、バック下塗
層を有してもよい）或いはその製法に関しては、特公昭
５６−２６８９０号等に記載されている製造方法等を参
考にできる。

【００４７】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を示し、
その特性を評価する。なお、実施例中の「部」は「重量
部」を示す。

【００４８】＜実施例１〜１３＞下記組成を均一に混練
分散し、粘度調整し、硬化剤を混入した研磨層用塗布液
を用意し、厚さ２５μｍのポリエステルフィルムによる
支持体上に、前記図１に示すように、上記研磨層用塗布
液を塗布（塗布速度２０ｍ／分）した後、下記条件で乾
燥し、テープ状に切り出して研磨体を製造し、試料を得
た。

【００４９】乾燥工程は、３つの乾燥ゾーン（各３ｍ）
を有し、実施例１〜１３では、第１乾燥ゾーンの乾燥条
件（給気風量、排気風量、乾燥温度）を下記表１〜表４
のように変更して、それぞれの実施例の試料を得た。な
お、上記給気風量及び排気風量（ｍ³／min）は、その乾
燥ゾーンにおける塗布面積１ｍ²当たりの値である。ま
た、第２乾燥ゾーン及び第３乾燥ゾーンの乾燥条件は、
両者共に、給気風量／排気風量＝１２／１２（ｍ³／min）乾燥温度＝１１５℃ である。

【００５０】実施例１〜１３の研磨体によって磁気ヘッ
ドの研磨テストを行い、ヘッド面の磨耗量（相対比）の
測定を行った結果を、各研磨体の研磨層表面の中心線平
均表面粗さＲaと共に下記表１〜表４に示す。

【００５１】＜比較例１〜１１＞表１〜表４には、比較
例１〜１１の研磨体による同様の研磨テストを行った結
果を併記している。各比較例においても、前述の第１乾
燥ゾーンの乾燥条件（給気風量、排気風量、乾燥温度）
を各表のように変更したものである。

【００５２】表１は、給気風量を一定として排気風量を
変更したものである。この表１の結果から、比較例１，
２のように排気風量が給気風量未満の場合の研磨量に比
べて、実施例１〜実施例４のように排気風量が給気風量
と同等以上になると、研磨量が増大し研磨性能が向上し
ている。なお、排気風量を変化させても、実施例及び比
較例共に研磨層の表面粗さＲａには変化は見られなかっ
た。

【００５３】表２は、給気風量と排気風量とを一定とし
て乾燥温度を変更したものである。この表２の結果か
ら、実施例５〜８では給気風量と排気風量とを同量とし
て乾燥温度を８０℃〜１１０℃に変化させても、研磨量
には変動はなく良好な値であった。比較例３〜７では、
排気風量を給気風量未満として乾燥温度を８０℃〜１２
０℃に変化させたもので、研磨量は乾燥温度によって多
少変化しているが上記実施例５〜８に比べて低い値であ
り、排気風量による影響が大である。なお、乾燥温度を
変化させても、表１と同様に実施例及び比較例共に研磨
層の表面粗さＲａには変化は見られなかった。

【００５４】表３は、給気風量を変更したものであり、
排気風量は給気風量と同量としている。この表３の結果
から、比較例８は給気風量が０．３ｍ³／minと少なく、
研磨量が低い値となっているのに対して、給気風量を
０．５ｍ³／min以上とした実施例９〜１２ではいずれも
研磨量が増大し研磨性能が良好であった。このことから
給気風量及び排気風量は、塗布面積１ｍ²当たり０．５
ｍ³／min以上あることが必要である。なお、給気風量を
変化させても、表１と同様に実施例及び比較例共に研磨
層の表面粗さＲａには変化は見られなかった。

【００５５】表４は、乾燥ゾーンにおける循環風量を変
更したものであり、( ) 内に循環風量を示した。この表
４の結果から、実施例１３の循環風量が０で全量新鮮風
によるものでは、大きな研磨量で研磨性能が良好であっ
た。これに対して比較例９〜１１のように循環風量を増
やすと、研磨量が低下して研磨性能が低くなる傾向にあ
った。

【００５６】［研磨層用塗布液組成］研磨材（アルミナ＃８０００）１００部バインダー（塩化ビニル樹脂、ＳＯ₃Ｈ含有３×10^-4eq/ｇ）５部バインダー（ポリエステルポリウレタン樹脂、ＳＯ₃Ｈ含有１×10^-4eq/ｇ）１０部バインダー（ポリイソシアネート）８部ＭＥＫ（メチルエチルケトン）１５０部

【００５７】

【表１】

【００５８】

【表２】

【００５９】

【表３】

【００６０】

【表４】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一つの実施の形態による研磨体の製造
工程を示す概略図

【符号の説明】

１研磨体２支持体３研磨層４ブレードコーター５第１乾燥ゾーン６第２乾燥ゾーン７第３乾燥ゾーン 10 研磨層用塗布液 51,61,71 給気ダクト 52,62,72 排気ダクト 81,82,83 熱源Ａ1〜Ａ3 給気風量Ｂ1〜Ｂ3 排気風量

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者金澤實神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 3C063 AA02 AA03 AB01 AB07 BB01 BC01 CC04 CC06 CC16 EE01 EE15 EE26 FF30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】研磨材粉末とバインダーを含む研磨層用
塗布液を支持体上に塗布して研磨層を設ける塗布工程、
ついで得られた研磨層を乾燥する乾燥工程よりなる研磨
体の製造方法において、前記乾燥工程における乾燥風の給気風量が、乾燥ゾーン
の塗布面積１平方メートル当たり０．５ｍ³／分以上
で、排気風量が給気風量以上であることを特徴とする研
磨体の製造方法。
【請求項２】前記塗布工程における塗布速度が２０ｍ
／分以上であることを特徴とする請求項１に記載の研磨
体の製造方法。
【請求項３】前記乾燥工程の初期乾燥ゾーンの供給乾
燥風は、全量が新鮮風であることを特徴とする請求項１
に記載の研磨体の製造方法。
【請求項４】前記乾燥工程が複数の乾燥ゾーンから構
成され、後段の乾燥ゾーンの温度を高く設定したことを
特徴とする請求項１に記載の研磨体の製造方法。