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JP2000180808A - 液晶セル基板の面取り装置 - Google Patents

液晶セル基板の面取り装置

Info

Publication number
JP2000180808A
JP2000180808A JP10362330A JP36233098A JP2000180808A JP 2000180808 A JP2000180808 A JP 2000180808A JP 10362330 A JP10362330 A JP 10362330A JP 36233098 A JP36233098 A JP 36233098A JP 2000180808 A JP2000180808 A JP 2000180808A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
crystal cell
chamfering
cell substrate
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10362330A
Other languages
English (en)
Inventor
Kengo Nishigaki
賢吾 西垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP10362330A priority Critical patent/JP2000180808A/ja
Publication of JP2000180808A publication Critical patent/JP2000180808A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 切断面状態に応じた面取り条件に制御する機
構を備えると共に、面取りで発生したカレットを液晶セ
ル基板から除去する機構を備えた液晶セル基板の面取り
装置を提供する。 【解決手段】 液晶セル基板の上部に設置されたライン
センサーカメラ7にて液晶セル基板1の端部を撮像し、
判定部9にて切断端部の状態を判定し、最適条件となる
よう制御部10にて砥石6の回転数及び吸着ステージ4
の速度が制御される。面取り加工は切削水が供給されな
がらバキュームボックス11にて吸引されながら行われ
る。加工が終了すると回転する清掃ブラシ12a、12
bにより液晶表示セル基板は洗浄される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セル基板に分
断した後、液晶セル基板の端部の面取りにおいて使用す
る液晶セル基板の面取り装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来は、適切な大きさに切断された液晶
セル基板は、吸着ステージ上に吸着固定され、液晶セル
基板にある適切なマークにてアライメントが施され位置
が補正され切削水を供給しながら回転する砥石に近づけ
移動しながら所定量面取りされた後、次工程に搬送され
るものであった。
【0003】この場合、回転数、砥石の送り速度は一定
のものであった。面取りにより飛散するカレットの付着
を防ぐ方法としては、液晶セル基板上部に付着防止板を
設置したり、エアーブローにより液晶セル基板上に供給
される切削水ごと吹き飛ばしていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記液晶セル基板面取
り装置において、ガラス基板を各個の液晶セルに分断す
る方法は多種多様ありそれぞれの方法によりその切断面
にもそれに伴う各種の凸凹ができていた。装置の面取り
条件が一定のままではガラス基板の切断面の凸凹の違い
により、ガラス基板にカケが生じていた。ガラス基板の
切断面状態に応じて面取り加工時の砥石の回転数、送り
速度を調整することが好ましく、一定条件のままでは面
取り精度及び品質に影響を及ぼしてしまう。
【0005】面取り条件を変更する方法としては、プロ
グラムを切断方法別に設定し切り替えする方法がある
が、各々のタイプに応じた取り替えが必要で装置を一時
停止する必要があるため、設定変更のために時間を要
し、また切断方法の違う液晶セル基板を区別して装置に
供給するため、液晶セル基板を仕分けする必要があり手
間がかかっていた。
【0006】また、面取り加工時にカレットの飛散を完
全に防止することは困難であり、少なからず付着してし
まうため、液晶セル基板上面及び端子部に付着したカレ
ットを除去するための洗浄装置が必要となり、面取り装
置とは別々に設置していることから設備費用がかかりパ
ネルのコストが高価なのものになるという弊害があっ
た。
【0007】本発明は、これらの問題を解決する液晶セ
ル基板の面取り装置を提供するものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の問題を
解決するためにガラス基板の切断面状態をカメラで識別
し、該カメラで識別した情報に基づいて切断面状態に適
した砥石の回転数、送り速度を調整し、カレットを吸引
除去し基板から剥離する機構を備えた面取り装置を提供
するものである。
【0009】以下、上記構成による作用を説明する。本
発明の面取り装置によれば、上記手段を適用することに
より面取り精度・品質を維持でき、ガラス基板のひび割
れを低減すると共に、液晶セル基板表示画面及び端子部
に付着したカレットを除去する装置を省スペース化でき
る。また、後工程の洗浄装置が省ける。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について以下
に説明する。図1は本発明に係る装置構成の正面図であ
り、図面を参照して動作を説明する。
【0011】切断された液晶セル基板1は搬送コンベア
2により搬送され位置決めされて供給アーム3にて1枚
ずつ搬送され吸着ステージ4上に供給され吸着固定さ
れ、吸着ステージ4下部の直線駆動部5により液晶セル
基板1を挟み込むように配置された砥石6に対して移動
を開始する。
【0012】液晶セル基板1上部に設置されたラインセ
ンサーカメラ7にて移動している液晶セル基板1の端部
が撮像され画像処理機8にて二値化を行い、判定部9に
て切断端部の状態を判定し、制御部10から砥石の回転
数及び吸着ステージの速度が最適条件で制御され、切削
水が供給されながら砥石6を覆うような形状をしたバキ
ュームボックス11にて吸引されながら、切削により発
生するカレットが液晶セル基板1の外側へ飛散するよう
に左回転している上下砥石6にて面取り加工が行われ
る。
【0013】加工が終了すると液晶セル基板1は、上方
に配置されモータ駆動により回転する清掃ブラシ12
a、12bにより表示部及び端子部が加工後すぐに洗浄
されて所定位置に移動する。
【0014】移動が完了すると吸着ステージ4の吸着が
解除され吸着ステージ4上から取り出しアーム13にて
搬送コンベア14上に搬送され次工程に供給される。
【0015】液晶セル基板1が取り出された吸着ステー
ジ4上を次の液晶セル基板1が供給される前に搬送部ユ
ニット15に取り付けられたブラシ17により清掃され
裏面へのカレット付着を防止する。
【0016】図2は本発明に係る装置構成の側面図であ
り、図3はガラス基板端部に発生したバリ、チッピング
の様子を示した図面である。これらの図面を参照して面
取り条件設定の説明をする。
【0017】図3に示すように切断方法の違いにより切
断端部にはバリ19及びチッピング20が発生している
ことがある。この状態の液晶セル基板をバリ、チッピン
グの発生していない状態の面取り条件で面取りすると加
工時の負荷によりバリ、チッピング箇所にカケ、割れが
発生してしまう。
【0018】面取り前に液晶セル基板1をラインセンサ
ーカメラにて撮像し液晶セル基板1端部の画像を、画像
処理機8にて二値化し画像データを判定部9に送り、判
定部9はバリ19、チッピング20の有無及びサイズを
確認し、これらの判定結果をもとに砥石回転速度及び吸
着ステージ送り速度の最適条件を設定し装置側の制御部
10に指令を行い、砥石6の回転数と吸着ステージ4の
送りの速度が変更され液晶セル基板1の端部状態により
条件が設定される。
【0019】図1に示したバキュームボックス11は後
部のホースにてバキューム発生機(図示せず)と接続さ
れ砥石6の回転開始に合わせて吸引を行うように制御さ
れており、液晶セル基板1の面取りによるカレットを含
んだ水が液晶セル基板1上に飛散するのを防いでいる。
【0020】液晶セル基板1の洗浄機構を図2にて説明
する。モータ駆動するブラシ12a、12bが砥石6の
前後に配置されており、1辺目の面取り加工を行うため
に前進してくる吸着ステージ4上の液晶セル基板1を洗
浄するため面取りが終了しても後部のブラシ12bまで
移動を行う。
【0021】所定位置まで移動すると吸着ステージ4が
90度回転し2辺目の面取り加工を行うため後退する。
今度は前部に配置された時計方向に回転するブラシ12
aにて液晶セル基板1上及び端子部が洗浄され、3辺
目、4辺目もこの動作を繰り返し面取り加工を行い面取
り加工が終了するたびに液晶セル基板1上面及び端子部
のブラシ洗浄を行いカレットを液晶セル基板1上及び端
子部から剥離除去する。
【0022】吸着ステージ上の洗浄機構を図1にて説明
する。搬送部ユニットには、シャワー16、ブラシ1
7、エアーブロー18がそれぞれ設置してあり、まず吸
着ステージ4上の液晶セル基板1が取り出しアーム13
にて取り出されて、搬送コンベア14上に搬送されるた
め移動している時に、吸着ステージ4上にシャワー16
より水が供給され、モータ駆動するブラシ17が下降し
て、進行方向と同一方向に回転しながら吸着ステージ4
上に接触して洗浄を行い、エアーブロー18にて吸着ス
テージ4上の残り水を進行方向に吹き飛ばして清掃を行
い、次の液晶セル基板1が供給された時に吸着ステージ
と接触する面にカレットが付着しないようになってい
る。
【0023】
【発明の効果】本発明の液晶セル基板の面取り装置は上
述したように切断方法の違う液晶セル基板を混在して供
給でき、ガラス基板のひび割れを低減できると共に、面
取りで発生したカレットが液晶セル基板の表示画面及び
端子部に付着したものを除去する装置を安価かつ省スペ
ースに提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る装置構成の正面図である。
【図2】本発明に係る装置構成の側面図である。
【図3】ガラス基板端部に発生したバリ、チッピングの
様子を示す図である。
【符号の説明】
1 液晶セル基板 2 搬送コンベア 3 供給アーム 4 吸着ステージ 5 直線駆動部 6 砥石 7 ラインセンサーカメラ 8 画像処理機 9 判定部 10 制御部 11 バキュームボックス 12a、12b 清掃ブラシ 13 取り出しアーム 14 搬送コンベア 15 搬送部ユニット 16 シャワー 17 ブラシ 18 エアーブロー 19 バリ 20 チッピング

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 多面取り用の液晶ペアガラスを各個の液
    晶セル基板に分断後、液晶注入、封止を終えた、電極端
    子部の形成されたガラス基板端部の面取りを行う面取り
    装置に於いて、 前記ガラス基板の切断面状態を識別するカメラと、該カ
    メラで識別した情報に基づいて砥石の回転数、送り速度
    を調整する調整機構と、ガラス基板端部を砥石で研磨す
    る際に発生するカレットを吸引するバキュームボックス
    と、研磨した後のカレットを液晶セル基板から剥離する
    ブラシを備えたことを特徴とする液晶セル基板の面取り
    装置。
JP10362330A 1998-12-21 1998-12-21 液晶セル基板の面取り装置 Pending JP2000180808A (ja)

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