JP2000167440A - Liquid drip preventing method of nozzle - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ノズルからの薬液
の吐出を停止した後にノズル先端からの薬液の滴下を防
止するノズルの液だれ防止装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for preventing dripping of a chemical solution from the nozzle tip after stopping the discharge of the chemical solution from the nozzle, and to a dripping prevention device for the nozzle.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造工程において、ウェット式エ
ッチング、フォトリソグラフィー工程でのレジストコー
ティングや現像などに際しては、これらの処理に必要な
薬液をノズルから吐出する方法が多く採られている。こ
れに伴い、薬液吐出後のノズルの先端から余分な薬液が
不用意に滴下され、処理過程の製品に悪影響を及ぼすお
それがある。そこで、これらノズル先端からの液だれを
防止する必要がある。従来、このようなノズルの液だれ
防止方法としては、薬液吐出後にダイヤフラムの容積を
増加させることにより、ノズル先端の薬液を吸引するサ
ックバック方式が知られている。2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, in wet etching and resist coating and development in a photolithography process, a method of discharging a chemical solution necessary for these processes from a nozzle is often adopted. Along with this, excess chemical liquid is inadvertently dropped from the tip of the nozzle after discharging the chemical liquid, which may adversely affect products in the process. Therefore, it is necessary to prevent the liquid from dripping from these nozzle tips. Conventionally, as such a method of preventing liquid dripping of a nozzle, a suck-back method of sucking a chemical solution at a nozzle tip by increasing a volume of a diaphragm after discharging a chemical solution is known.
【0003】図3ないし図5により従来のノズル液だれ
防止装置について説明する。図3は従来のサックバック
を用いてノズルの液だれを防止する薬液系路の構成図、
図4は従来におけるサックバックの液だれ吸引前の状態
を示す断面図、図5は従来におけるサックバックの液だ
れ吸引終了後の状態を示す断面図である。図3におい
て、1は薬液2を収容する容器であり、この薬液容器1
には容器内の薬液2を窒素等の不活性ガスで加圧する不
活性ガス導入管3が接続され、さらに、加圧された薬液
を容器1外に導出する薬液供給管4が接続されている。
また、薬液供給管4の先端にはノズル5が接続されてお
り、この薬液供給管4の途中には、ノズル5への加圧薬
液の供給、遮断を行うエアー制御バルブ6が介在され、
さらに、このエアー制御バルブ6とノズル5間の薬液供
給管4には、ノズル5からの液だれを防止するサックバ
ック7が介在されている。A conventional nozzle dripping prevention device will be described with reference to FIGS. FIG. 3 is a configuration diagram of a chemical liquid passage for preventing dripping of a nozzle using a conventional suck back,
FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a conventional suck-back before dripping suction, and FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating a conventional suck-back after dripping suction is completed. In FIG. 3, reference numeral 1 denotes a container for accommodating a chemical solution 2;
Is connected to an inert gas introducing pipe 3 for pressurizing the chemical solution 2 in the container with an inert gas such as nitrogen, and further connected to a chemical solution supply pipe 4 for leading the pressurized chemical solution out of the container 1. .
A nozzle 5 is connected to the tip of the chemical supply pipe 4, and an air control valve 6 for supplying and shutting off the pressurized chemical to the nozzle 5 is provided in the middle of the chemical supply pipe 4.
Further, in the chemical liquid supply pipe 4 between the air control valve 6 and the nozzle 5, a suck back 7 for preventing liquid dripping from the nozzle 5 is interposed.
【0004】上記サックバック7は、図4及び図5に示
すように、匣体71と、この匣体71のエアー制御バル
ブ接続用ポート72とノズル接続用ポート73間を連通
する通路74の容積を拡大、縮小するように匣体71に
設けたダイヤフラム75と、匣体71内にダイヤフラム
75を伸縮させる方向に摺動可能に設けられたピストン
76と、このピストン76をダイヤフラム75が伸長さ
れる方向に付勢するスプリング77などから構成され、
ピストン76をダイヤフラム75が圧縮される方向に移
動させるシリンダ室78には、圧縮空気を供給するポー
ト79が連通されている。As shown in FIGS. 4 and 5, the suck back 7 has a capacity of a housing 71 and a passage 74 communicating between an air control valve connecting port 72 and a nozzle connecting port 73 of the housing 71. A diaphragm 75 provided on the housing 71 so as to enlarge and reduce the pressure, a piston 76 provided slidably in the direction of expanding and contracting the diaphragm 75 in the housing 71, and the diaphragm 75 is extended by the piston 76. It is composed of a spring 77 biasing in the direction,
A port 79 for supplying compressed air is connected to a cylinder chamber 78 for moving the piston 76 in a direction in which the diaphragm 75 is compressed.
【0005】次に、上記のように構成された従来のノズ
ル液だれ防止装置の動作について説明する。まず、ノズ
ル5から薬液を吐出させる場合は、ポート79からシリ
ンダ室78に圧縮空気を供給することにより、ピストン
76を図4に示すように矢印方向に移動させてダイヤフ
ラム75を圧縮し、このダイヤフラム75を含む通路7
4内の容積Aを縮小させた状態に保持しておく。この状
態で、エアー制御バルブ6を開操作すると、容器1内の
加圧薬液2は薬液供給管4、エアー制御バルブ6及びサ
ックバック7のポート72、73を通してノズル5に供
給され、ノズル5から薬液を吐出させることができる。Next, the operation of the conventional nozzle liquid dripping prevention device configured as described above will be described. First, when the chemical liquid is discharged from the nozzle 5, compressed air is supplied from the port 79 to the cylinder chamber 78 to move the piston 76 in the direction of the arrow as shown in FIG. 4, thereby compressing the diaphragm 75. Passage 7 including 75
4 is kept in a reduced state. In this state, when the air control valve 6 is opened, the pressurized chemical solution 2 in the container 1 is supplied to the nozzle 5 through the chemical solution supply pipe 4, the air control valve 6, and the ports 72 and 73 of the suck back 7. The liquid medicine can be discharged.
【0006】一方、ノズル5からの液だれを防止する場
合は、エアー制御バルブ6の閉操作によりノズル5への
薬液の供給を遮断すると同時に、サックバック7のポー
ト79への圧縮空気の供給をストップして、シリンダ室
78を大気に開放する。これに伴ない、ピストン76が
スプリング77により図5の矢印方向に移動するため、
ダイヤフラム75は伸長され、通路74内の容積Aを拡
大する。これにより、この通路74と連通するノズル5
内の滴下しようとする薬液が吸引される。その結果、ノ
ズル5の液だれを防止することができる。On the other hand, in order to prevent liquid dripping from the nozzle 5, the supply of the chemical liquid to the nozzle 5 is shut off by closing the air control valve 6, and at the same time, the supply of compressed air to the port 79 of the suck back 7 is stopped. Stop and release the cylinder chamber 78 to the atmosphere. Along with this, the piston 76 moves in the direction of the arrow in FIG.
The diaphragm 75 is extended, and expands the volume A in the passage 74. As a result, the nozzle 5 communicating with this passage 74
The drug solution to be dripped in is sucked. As a result, dripping of the nozzle 5 can be prevented.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のように
従来のノズルの液だれ防止装置では、ダイヤフラム75
の伸長により通路74内に吸引できる薬液の量は一定で
あるため、薬液中にエアーが混入した場合には、このエ
アーによりダイヤフラム75で吸引できる薬液の吸い上
げ量が変動し、最悪の場合にはノズル5から滴下しよう
とする薬液を十分に吸引できず、液だれを引き起こすお
それがある。また、ダイヤフラム75は経時変化により
劣化(硬化)するため、ダイヤフラム75の伸縮量が減
少し、これに伴い、ダイヤフラムで吸引できる薬液の吸
い上げ量も減少してしまい、最悪の場合にはノズル5か
ら滴下しようとする薬液を十分に吸引できず、液だれを
引き起こす問題があった。However, as described above, in the conventional nozzle dripping prevention device, the diaphragm 75 is not used.
Since the amount of the chemical that can be sucked into the passage 74 by the extension of the liquid is constant, if air is mixed in the chemical, the amount of the chemical that can be sucked by the diaphragm 75 is changed by this air, and in the worst case, There is a possibility that the chemical liquid to be dropped from the nozzle 5 cannot be sufficiently sucked, causing dripping. In addition, since the diaphragm 75 is deteriorated (hardened) with the lapse of time, the amount of expansion and contraction of the diaphragm 75 decreases, and accordingly, the amount of chemical solution that can be sucked by the diaphragm also decreases. There was a problem that the chemical solution to be dropped could not be sufficiently sucked, causing dripping.
【0008】本発明は上記のような点に鑑みなされたも
ので、本発明の目的は、ノズル先端から滴下しようとす
る薬液を持続的に真空吸引して大気へ排出できるととも
に、薬液中へのエアーの混入の有無及び滴下しようとす
る薬液の多少に関係なくノズルからの液だれを確実に防
止できるノズルの液だれ防止装置を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to continuously discharge a chemical solution to be dropped from the nozzle tip to the atmosphere by vacuum suction and to discharge the chemical solution into the chemical solution. It is an object of the present invention to provide a nozzle dripping prevention device which can surely prevent dripping from a nozzle irrespective of the presence or absence of air mixing and the amount of a chemical to be dropped.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明は、薬液供給源と、この薬液供給源に薬液供
給管を介して接続された薬液吐出用のノズルと、前記薬
液供給源から前記ノズルへの薬液の供給、遮断を行う制
御バルブを備え、前記制御バルブによる前記ノズルへの
薬液の遮断時にノズル先端からからの液だれを防止する
装置であって、前記制御バルブによる前記ノズルへの薬
液の遮断時に前記ノズル先端から滴下しようとする薬液
を吸引し、該吸引した薬液を排出する吸引排出手段を備
えることを特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a chemical solution supply source, a chemical solution discharge nozzle connected to the chemical solution supply source via a chemical solution supply pipe, and the chemical solution supply source. A device for supplying a chemical solution from a source to the nozzle, comprising a control valve for shutting off, and a device for preventing liquid dripping from a nozzle tip when shutting off the chemical solution to the nozzle by the control valve, wherein the control valve When the chemical solution is shut off to the nozzle, a suction / discharge means is provided for sucking a chemical solution to be dropped from the nozzle tip and discharging the sucked chemical solution.
【0010】本発明においては、薬液供給源からノズル
への薬液の供給が遮断された時、吸引排出手段が動作し
て、エアーの高速噴射で発生する真空引き作用により、
ノズル先端から滴下しようとする薬液を持続的に吸引
し、同時に吸引された薬液を噴射するエアーと共に大気
に排出する。したがって、本発明によれば、薬液中への
エアーの混入の有無及び滴下しようとする薬液の多少に
関係なくノズルからの液だれを確実に防止できる。In the present invention, when the supply of the chemical solution from the chemical solution supply source to the nozzle is interrupted, the suction / discharge means operates, and the vacuuming action generated by the high-speed injection of air causes
The chemical liquid to be dropped from the nozzle tip is continuously sucked, and simultaneously, the sucked chemical liquid is discharged to the atmosphere together with the jetting air. Therefore, according to the present invention, it is possible to reliably prevent dripping from the nozzle regardless of the presence or absence of mixing of air into the chemical and the amount of the chemical to be dropped.
【0011】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかるノズルの液
だれ防止装置の実施の形態について、図面を参照して説
明する。図1は本発明のノズルの液だれ防止装置を備え
た薬液系路の実施の形態を示す構成図、図2は本発明に
おける吸引排出手段の内部構成を示す概略断面図であ
る。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a nozzle drip prevention device according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a chemical liquid system provided with a nozzle dripping prevention device of the present invention, and FIG. 2 is a schematic sectional view showing an internal configuration of a suction / discharge unit in the present invention.
【0012】図1において、11は薬液12を収容する
容器であり、この薬液容器11には容器内の薬液12を
窒素等の不活性ガスで加圧する不活性ガス導入管13が
接続され、さらに、加圧された薬液12を容器11外に
導出する薬液供給管14が接続されている。また、薬液
供給管14の先端には薬液吐出用ノズル15が接続され
ており、この薬液供給管14の途中には、ノズル15へ
の加圧薬液の供給、遮断を行うエアー制御バルブ16が
介在されている。In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a container for accommodating a chemical solution 12. The chemical solution container 11 is connected to an inert gas introduction pipe 13 for pressurizing the chemical solution 12 in the container with an inert gas such as nitrogen. Also, a chemical supply pipe 14 for connecting the pressurized chemical 12 to the outside of the container 11 is connected. A chemical solution discharge nozzle 15 is connected to the tip of the chemical solution supply pipe 14, and an air control valve 16 that supplies and shuts off the pressurized chemical solution to the nozzle 15 is provided in the middle of the chemical solution supply pipe 14. Have been.
【0013】また、図1において、吸引排出手段17
は、エアー制御バルブ16によるノズル15への薬液の
遮断時に、ノズル15の先端から滴下しようとする薬液
をエアーの高速噴射により発生する真空引き作用で吸引
し、この吸引した薬液を高速噴射されるエアーと共に大
気に排出するためのものである。この吸引排出手段17
の吸引口171(図2参照)には吸引管18を介して吸
引ノズル19に接続され、この吸引ノズル19は薬液吐
出用ノズル15の先端に接して設けられている。また、
吸引排出手段17の圧縮空気供給口172(図2参照)
にはエアー制御バルブ20及びエアー供給管21を介し
て圧縮空気供給ポンプ(圧縮空気供給源)22が接続さ
れている。Further, in FIG.
When the air control valve 16 shuts off the chemical solution to the nozzle 15, the chemical solution to be dropped from the tip of the nozzle 15 is sucked by a vacuuming action generated by high-speed injection of air, and the sucked chemical solution is injected at high speed. It is for discharging to the atmosphere together with air. This suction and discharge means 17
The suction port 171 (see FIG. 2) is connected to a suction nozzle 19 via a suction pipe 18, and this suction nozzle 19 is provided in contact with the tip of the chemical solution discharge nozzle 15. Also,
Compressed air supply port 172 of suction / discharge means 17 (see FIG. 2)
Is connected to a compressed air supply pump (compressed air supply source) 22 through an air control valve 20 and an air supply pipe 21.
【0014】上記吸引排出手段17は、図2に示すよう
に、テフロン等の耐腐食性の材料からなる本体173
と、吸引ノズル19に吸引管18を介して連通するよう
にして本体173内に形成された真空室174と、一端
である小径開口175Aが真空室174と連通して本体
173内に形成され、他端である大径開口175Bが大
気に開放されるディフューザ175と、真空室174内
に突出して本体173に形成され、圧縮空気供給口17
2から供給される圧縮空気をディフューザ175の小径
開口175Aに向けて高速噴射する高速噴射ノズル部1
76とから構成されている。As shown in FIG. 2, the suction / discharge means 17 includes a main body 173 made of a corrosion-resistant material such as Teflon.
And a vacuum chamber 174 formed in the main body 173 so as to communicate with the suction nozzle 19 via the suction pipe 18, and a small-diameter opening 175 </ b> A that is one end is formed in the main body 173 to communicate with the vacuum chamber 174. A diffuser 175 whose other end is a large-diameter opening 175B that is open to the atmosphere, and a diffuser 175 that projects into the vacuum chamber 174 and is formed in the main body 173 and has a compressed air supply port 17
High-speed injection nozzle unit 1 for high-speed injection of the compressed air supplied from 2 toward small-diameter opening 175A of diffuser 175
76.
【0015】次に、上記のように構成された本実施の形
態におけるノズル液だれ防止装置の動作について説明す
る。まず、ノズル15から薬液を吐出させる場合は、エ
アー制御バルブ16を開操作する。これにより、容器1
1内の加圧薬液12は薬液供給管14、エアー制御バル
ブ16を通してノズル15に供給され、ノズル15から
薬液を吐出させることができる。Next, the operation of the nozzle dripping prevention device according to the present embodiment configured as described above will be described. First, when discharging the chemical solution from the nozzle 15, the air control valve 16 is opened. Thereby, the container 1
The pressurized chemical solution 12 in 1 is supplied to a nozzle 15 through a chemical solution supply pipe 14 and an air control valve 16, and the chemical solution can be discharged from the nozzle 15.
【0016】一方、ノズル15からの液だれを防止する
場合は、図1に示すように、エアー制御バルブ16を閉
操作することにより、容器11からノズル15への薬液
の供給を遮断すると同時に、エアー制御バルブ20を開
操作する。これに伴い、圧縮空気供給ポンプ22からの
圧縮空気はエアー供給管21及びエアー制御バルブ20
を通して吸引排出手段17の圧縮空気供給口172から
高速噴射ノズル部176に供給され、圧縮空気を高速噴
射ノズル部176からディフューザ175の小径開口1
75Aに向けて高速噴射する。この圧縮空気の高速噴射
に伴い、真空室174内は大気圧以下に減圧されるた
め、真空室174内に薬液吸引力が発生し、ノズル15
の先端から滴下しようとする薬液を吸引ノズル19及び
吸引管18を通して真空室174内に吸引する。この吸
引動作は、高速噴射ノズル部176から圧縮空気がディ
フューザ175の小径開口175Aに向けて高速噴射さ
れ続けている間継続される。また、高速噴射ノズル部1
76から高速噴射される圧縮空気がディフューザ175
の小径開口175Aから大径開口175Bに向けて流出
されると、真空室174内に吸引された薬液は、高速噴
射ノズル部176から高速噴射空気と共にディフューザ
175を通して大気に排出される。On the other hand, in order to prevent liquid dripping from the nozzle 15, as shown in FIG. 1, by closing the air control valve 16, the supply of the chemical liquid from the container 11 to the nozzle 15 is simultaneously shut off. The air control valve 20 is opened. Accordingly, the compressed air from the compressed air supply pump 22 is supplied to the air supply pipe 21 and the air control valve 20.
The compressed air is supplied from the compressed air supply port 172 of the suction / discharge unit 17 to the high-speed injection nozzle section 176 and the compressed air is supplied from the high-speed injection nozzle section 176 to the small-diameter opening 1 of the diffuser 175.
High-speed injection toward 75A. With the high-speed injection of the compressed air, the inside of the vacuum chamber 174 is depressurized to the atmospheric pressure or lower, and a chemical suction force is generated in the vacuum chamber 174, and
The liquid medicine to be dropped from the tip of the nozzle is sucked into the vacuum chamber 174 through the suction nozzle 19 and the suction pipe 18. This suction operation is continued while the compressed air is continuously injected from the high-speed injection nozzle portion 176 toward the small-diameter opening 175A of the diffuser 175. In addition, the high-speed injection nozzle unit 1
Compressed air injected at high speed from 76 is diffuser 175
When the chemical is drawn from the small-diameter opening 175A to the large-diameter opening 175B, the chemical solution sucked into the vacuum chamber 174 is discharged to the atmosphere through the diffuser 175 together with the high-speed jet air from the high-speed jet nozzle 176.
【0017】したがって、本実施の形態によれば、容器
11からノズル15への薬液の供給が遮断された時、吸
引排出手段17が動作して、圧縮空気の高速噴射で発生
する真空引き作用により、ノズル15の先端から滴下し
ようとする薬液を持続的に吸引し、同時に吸引された薬
液を噴射する空気と共にディフューザ175を通して大
気に排出することができるから、薬液中へのエアーの混
入の有無及び滴下しようとする薬液の多少に関係なくノ
ズル15からの液だれを確実に防止することができる。
これにより、ノズルの先端から余分な薬液が不用意に滴
下され、処理過程の製品に悪影響を及ぼすのを未然に防
止できる。また、吸引排出手段17の各構成要素には、
従来のサックバックのような可動部分が一切含まれてい
ないため、吸引排出手段17を半永久的に使用できると
ともに、吸引排出手段17を構成する本体173をテフ
ロンで成形することにより、吸引排出手段17を腐食性
液体にも使用できる。Therefore, according to the present embodiment, when the supply of the chemical solution from the container 11 to the nozzle 15 is interrupted, the suction / discharge means 17 is operated, and the vacuuming action generated by the high-speed injection of the compressed air is used. The liquid medicine to be dropped from the tip of the nozzle 15 can be continuously sucked and simultaneously discharged to the atmosphere through the diffuser 175 together with the air for ejecting the sucked chemical liquid. Liquid dripping from the nozzle 15 can be reliably prevented irrespective of the amount of the chemical liquid to be dropped.
Accordingly, it is possible to prevent an unnecessary chemical solution from being inadvertently dropped from the tip of the nozzle and adversely affecting the product in the process. Further, each component of the suction / discharge means 17 includes:
Since it does not include any movable parts such as a conventional suck-back, the suction / discharge means 17 can be used semi-permanently, and the main body 173 constituting the suction / discharge means 17 is molded from Teflon, so that the suction / discharge means 17 can be used. Can also be used for corrosive liquids.
【0018】なお、本発明のノズルの液だれ防止装置
は、半導体製造設備に限らず、液晶製造設備等にも適用
できることは勿論である。また、本発明の吸引排出手段
17は、上記実施の形態に示す構成のものに限定され
ず、請求項に記載した範囲を逸脱しない範囲において種
々に変更、変形できることは勿論である。The device for preventing liquid dripping of a nozzle according to the present invention can be applied not only to semiconductor manufacturing equipment but also to liquid crystal manufacturing equipment and the like. Further, the suction / discharge unit 17 of the present invention is not limited to the configuration shown in the above-described embodiment, but can be variously changed and modified without departing from the scope described in the claims.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上説明したように本発明のノズル液だ
れ防止装置によれば、薬液供給源からノズルへの薬液の
供給が遮断された時、吸引排出手段が動作して、エアー
の高速噴射で発生する真空引き作用により、ノズル先端
から滴下しようとする薬液を持続的に吸引し、同時に吸
引された薬液を噴射するエアーと共に大気に排出できる
から、薬液中へのエアーの混入の有無及び滴下しようと
する薬液の多少に関係なくノズルからの液だれを確実に
防止することができる。As described above, according to the nozzle liquid dripping prevention apparatus of the present invention, when the supply of the chemical solution from the chemical solution supply source to the nozzle is interrupted, the suction / discharge means operates and the high-speed injection of air is performed. The chemical action to be dropped from the tip of the nozzle can be continuously sucked by the vacuuming action generated at the nozzle, and at the same time, the sucked chemical can be discharged to the atmosphere together with the jetting air. Liquid dripping from the nozzle can be reliably prevented irrespective of the amount of the chemical solution to be attempted.
【図1】本発明のノズルの液だれ防止装置を備えた薬液
系路の実施の形態を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a chemical solution passage provided with a device for preventing liquid dripping of a nozzle according to the present invention.
【図2】本発明における吸引排出手段の内部構成を示す
概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an internal configuration of a suction / discharge unit in the present invention.
【図3】従来のサックバックを用いてノズルの液だれを
防止する薬液系路の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a chemical liquid passage for preventing dripping of a nozzle using a conventional suck back.
【図4】従来におけるサックバックの液だれ吸引前の状
態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state before sucking a dripping of a conventional suck back.
【図5】従来におけるサックバックの液だれ吸引終了後
の状態を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional state after sucking the liquid in a suck back.
11……薬液容器(薬液供給源)、12……薬液、15
……薬液吐出用ノズル、16……エアー制御バルブ、1
7……吸引排出手段、19……吸引ノズル、20……エ
アー制御バルブ、22……圧縮空気供給ポンプ(圧縮空
気供給源)、173……本体、174……真空室、17
5……ディフューザ、176……高速噴射ノズル部。11 ... chemical solution container (chemical solution supply source), 12 ... chemical solution, 15
…… Nozzle for chemical liquid discharge, 16 …… Air control valve, 1
7 suction suction means 19 suction nozzle 20 air control valve 22 compressed air supply pump (compressed air supply source) 173 body 174 vacuum chamber 17
5: Diffuser, 176: High-speed injection nozzle section.
Claims (7)
給管を介して接続された薬液吐出用のノズルと、前記薬
液供給源から前記ノズルへの薬液の供給、遮断を行う制
御バルブを備え、前記制御バルブによる前記ノズルへの
薬液の遮断時にノズル先端からの液だれを防止する装置
であって、 前記制御バルブによる前記ノズルへの薬液の遮断時に前
記ノズル先端から滴下しようとする薬液を吸引し、該吸
引した薬液を排出する吸引排出手段を備える、ことを特
徴とするノズルの液だれ防止装置。A chemical liquid supply source, a chemical liquid discharge nozzle connected to the chemical liquid supply source via a chemical liquid supply pipe, and a control valve for supplying and shutting off the chemical liquid from the chemical liquid supply source to the nozzle. A device for preventing liquid dripping from the nozzle tip when the control valve shuts off the chemical solution to the nozzle, wherein a chemical solution that is to be dropped from the nozzle tip when the control valve shuts off the chemical solution to the nozzle. An apparatus for preventing dripping of a nozzle, comprising suction and discharge means for sucking and discharging the sucked chemical solution.
は、エアーの高速噴射により発生する真空引き作用で行
われることを特徴とする請求項1記載のノズルの液だれ
防止装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein the suction of the chemical liquid by the suction / discharge means is performed by a vacuuming action generated by high-speed injection of air.
ルの先端と連通するようにして前記本体内に形成され、
前記ノズル先端から滴下しようとする薬液を吸引する真
空室と、一端が前記真空室と連通して前記本体内に形成
されるとともに他端が大気に開放されたディフューザ
と、圧縮空気を前記ディフューザの一端から他端に向け
て高速噴射する高速噴射ノズル部とを備え、前記高速噴
射ノズル部から圧縮空気を高速噴射することにより前記
真空室内を大気圧以下に減圧して真空室内に薬液吸引作
用を発生させるとともに圧縮空気の高速噴射につれて前
記吸引した薬液を前記ディフューザを介して大気に排出
させるように構成されていることを特徴とする請求項1
記載のノズルの液だれ防止装置。3. The suction / discharge means is formed in the main body so as to communicate with the main body and a tip of the nozzle,
A vacuum chamber for sucking a chemical solution to be dropped from the nozzle tip, a diffuser having one end formed in the main body in communication with the vacuum chamber and the other end being open to the atmosphere, and compressed air passing through the diffuser. A high-speed injection nozzle for high-speed injection from one end to the other end, wherein the high-speed injection of compressed air from the high-speed injection nozzle reduces the pressure in the vacuum chamber to an atmospheric pressure or less, and a chemical solution suction action into the vacuum chamber. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the sucked chemical liquid is discharged to the atmosphere through the diffuser as it is generated and the compressed air is injected at a high speed.
A device for preventing dripping of the nozzle as described.
形される特徴とする請求項3記載のノズルの液だれ防止
装置。4. The apparatus according to claim 3, wherein the main body is formed of Teflon (registered trademark).
縮空気源から供給されることを特徴とする請求項3記載
のノズルの液だれ防止装置。5. The apparatus according to claim 3, wherein the compressed air to the high-speed injection nozzle is supplied from a compressed air source.
部への圧縮空気の供給、遮断は制御バルブにより行われ
ることを特徴とする請求項3記載のノズルの液だれ防止
装置。6. The apparatus according to claim 3, wherein the supply and cutoff of the compressed air from the compressed air source to the high-speed injection nozzle section are performed by a control valve.
介して前記ノズルの先端に連通されていることを特徴と
する請求項3記載のノズルの液だれ防止装置。7. The apparatus according to claim 3, wherein the vacuum chamber communicates with a tip of the nozzle via a suction pipe and a suction nozzle.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10341694A JP2000167440A (en) | 1998-12-01 | 1998-12-01 | Liquid drip preventing method of nozzle |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10341694A JP2000167440A (en) | 1998-12-01 | 1998-12-01 | Liquid drip preventing method of nozzle |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000167440A true JP2000167440A (en) | 2000-06-20 |
Family
ID=18348059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10341694A Pending JP2000167440A (en) | 1998-12-01 | 1998-12-01 | Liquid drip preventing method of nozzle |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000167440A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007515807A (en) * | 2003-12-22 | 2007-06-14 | エーエスエムエル ホールデイング エヌ.ブイ. | No-drip nozzle device |
JP2017183568A (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社Screenホールディングス | Wafer processing apparatus and wafer processing method |
-
1998
- 1998-12-01 JP JP10341694A patent/JP2000167440A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007515807A (en) * | 2003-12-22 | 2007-06-14 | エーエスエムエル ホールデイング エヌ.ブイ. | No-drip nozzle device |
JP2017183568A (en) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社Screenホールディングス | Wafer processing apparatus and wafer processing method |
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