JP2000167303A - プロセス製造装置 - Google Patents
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 エネルギーを無駄に消費しない効率の良いプ
ロセス制御装置を提供する 【解決手段】 反応器で得た反応性生成物中の不純物を
除去した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品
を得るプロセス製造装置において、前記蒸留工程後の製
晶に近赤外光を照射し製品中の水分量を測定する近赤外
分析計と、この近赤外分析計の測定した水分量に応じて
前記蒸留工程の脱水制御する制御部とを具備したことを
特徴としたプロセス製造装置である。
ロセス制御装置を提供する 【解決手段】 反応器で得た反応性生成物中の不純物を
除去した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品
を得るプロセス製造装置において、前記蒸留工程後の製
晶に近赤外光を照射し製品中の水分量を測定する近赤外
分析計と、この近赤外分析計の測定した水分量に応じて
前記蒸留工程の脱水制御する制御部とを具備したことを
特徴としたプロセス製造装置である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、製品中の水分量を
近赤外分析計により連続的に測定し、適正な製造条件を
把握してプロセスを制御するプロセス製造装置に関する
ものである。
近赤外分析計により連続的に測定し、適正な製造条件を
把握してプロセスを制御するプロセス製造装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は、例えば、従来の酢酸を製造する
プロセス製造装置のシステム図である。図において、１
はメタノールと一酸化炭素とを供給する第１の原料タン
ク、２は触媒を供給する第２の原料タンクである。第１
および第２の原料タンクｌ，２から供給された原料は、
反応器３で反応され酢酸が合成される。
プロセス製造装置のシステム図である。図において、１
はメタノールと一酸化炭素とを供給する第１の原料タン
ク、２は触媒を供給する第２の原料タンクである。第１
および第２の原料タンクｌ，２から供給された原料は、
反応器３で反応され酢酸が合成される。
【０００３】反応器３で合成された酢酸は、低沸点除去
器４で水等の低沸点等が除去された後、高沸点除去器５
で夕一ル等の高沸点の不純物が除去される。高度脱水の
為の蒸留塔６で、酢酸中の水分を規格値内の５０ｐｐｍ
以下に除去し、製品タンク７に製品の酢酸が貯蔵され
る。
器４で水等の低沸点等が除去された後、高沸点除去器５
で夕一ル等の高沸点の不純物が除去される。高度脱水の
為の蒸留塔６で、酢酸中の水分を規格値内の５０ｐｐｍ
以下に除去し、製品タンク７に製品の酢酸が貯蔵され
る。
【０００４】蒸留塔６で水分が除去された酢酸は、水分
が５０ｐｐｍに除去されているかどうか調べるために、
注射器やタンクを使ってサンプリングされたのち、サン
プリングされた液は、カールフィシャー方式の水分計で
分析される。この場合、水分が５０ｐｐｍ以下である場
合には、プロセス製造装置が正常に制御されていること
になる。
が５０ｐｐｍに除去されているかどうか調べるために、
注射器やタンクを使ってサンプリングされたのち、サン
プリングされた液は、カールフィシャー方式の水分計で
分析される。この場合、水分が５０ｐｐｍ以下である場
合には、プロセス製造装置が正常に制御されていること
になる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにカールフィシャー方式によって水分量を監視するよ
うなプロセス製造装置においては、注射器やタンクを使
って酢酸をサンプリングするので、サンプリング液が空
気中に晒されることになり、空気中の水分を酢酸が２０
〜３０ｐｐｍ吸湿してしまう。
うにカールフィシャー方式によって水分量を監視するよ
うなプロセス製造装置においては、注射器やタンクを使
って酢酸をサンプリングするので、サンプリング液が空
気中に晒されることになり、空気中の水分を酢酸が２０
〜３０ｐｐｍ吸湿してしまう。
【０００６】このため、規格値内の製品が得られるよう
に、安全を見込んで、プロセス製造装置は３０ｐｐｍに
して運転するようにしている。
に、安全を見込んで、プロセス製造装置は３０ｐｐｍに
して運転するようにしている。
【０００７】このため酢酸からの脱水を過剰に行なわな
ければならず、エネルギーを無駄にしているという問題
点があった。また、間欠的に、例えば、８時間毎にサン
プリングが手作業で行われる為に、手間が掛るという間
題点がある。
ければならず、エネルギーを無駄にしているという問題
点があった。また、間欠的に、例えば、８時間毎にサン
プリングが手作業で行われる為に、手間が掛るという間
題点がある。
【０００８】また、人手により、カールフィシヤー方式
によって測定されるので、測定結果に、測定者毎による
ばらつきが生じるという問題点があった。また、サンプ
リング液の廃液処理の問題も生じる。
によって測定されるので、測定結果に、測定者毎による
ばらつきが生じるという問題点があった。また、サンプ
リング液の廃液処理の問題も生じる。
【０００９】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、プロセス中の反応性生成物および製品を連続的
に近赤外分析計で測定し、プロセスから被測定物をサン
プリングする必要がなく、オンラインで、被測定物中の
水分量を測定するようにしたもので、被測定物が空気中
の水分を吸湿してしまう事がないので、精度が良い測定
が行なえる。
もので、プロセス中の反応性生成物および製品を連続的
に近赤外分析計で測定し、プロセスから被測定物をサン
プリングする必要がなく、オンラインで、被測定物中の
水分量を測定するようにしたもので、被測定物が空気中
の水分を吸湿してしまう事がないので、精度が良い測定
が行なえる。
【００１０】この為、過剰な脱水を行なうことの必要が
無く、エネルギーを無駄に消費しない効率の良いプロセ
ス制御装置を提供することを目的としている。
無く、エネルギーを無駄に消費しない効率の良いプロセ
ス制御装置を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明では、請求項１のプロセス製造装置に
おいては、反応器で得た反応性生成物中の不純物を除去
した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品を得
るプロセス製造装置において、前記蒸留工程後の製品に
近赤外光を照射し、製品中の水分量を測定する近赤外分
析計と、この近赤外分析計の測定した水分量に応じて前
記蒸留工程の脱水制御する制御部とを具備したことを特
徴としている。
るために、本発明では、請求項１のプロセス製造装置に
おいては、反応器で得た反応性生成物中の不純物を除去
した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品を得
るプロセス製造装置において、前記蒸留工程後の製品に
近赤外光を照射し、製品中の水分量を測定する近赤外分
析計と、この近赤外分析計の測定した水分量に応じて前
記蒸留工程の脱水制御する制御部とを具備したことを特
徴としている。
【００１２】この結果、 （１）近赤外分析計が使用されたので、蒸留塔を通過し
た製品に対して、近赤外分析計の保証する測定精度以内
の誤差で高精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが
生じるおそれもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精
度に制御出来、過剰に脱水する必要が無く、高精度で、
規格値を満足出来、高晶質の製品が得られるプロセス製
造装置が得られる。
た製品に対して、近赤外分析計の保証する測定精度以内
の誤差で高精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが
生じるおそれもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精
度に制御出来、過剰に脱水する必要が無く、高精度で、
規格値を満足出来、高晶質の製品が得られるプロセス製
造装置が得られる。
【００１３】（２）近赤外分析計が使用されたので、オ
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
【００１４】（３）近赤外分析計が使用されたので、殆
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の晶質に間欠的なばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の晶質に間欠的なばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
【００１５】（４）サンプリング液を取り出す事がない
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
【００１６】本発明の請求項２のプロセス製造装置にお
いては、反応器で得た反応性生成物中の不純物を除去し
た後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製晶を得る
プロセス製造装置において、前記蒸留工程後の製晶に近
赤外光を照射して製品中の水分量を測定すると共に、前
記蒸留工程の前段の反応性生成物に近赤外光を照射して
前記反応性生成物中の水分量を測定する近赤外分析計
と、この近赤外分析計の測定したそれぞれの水分量に応
じて前記蒸留工程の脱水制御する制御部とを具備したこ
とを特徴としている。
いては、反応器で得た反応性生成物中の不純物を除去し
た後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製晶を得る
プロセス製造装置において、前記蒸留工程後の製晶に近
赤外光を照射して製品中の水分量を測定すると共に、前
記蒸留工程の前段の反応性生成物に近赤外光を照射して
前記反応性生成物中の水分量を測定する近赤外分析計
と、この近赤外分析計の測定したそれぞれの水分量に応
じて前記蒸留工程の脱水制御する制御部とを具備したこ
とを特徴としている。
【００１７】この結果、蒸留工程即ち蒸留塔の入口と出
口との製品中の水分量を近赤外分析計で測定するように
したので、蒸留塔での製品の脱水を高精度に制御出来、
過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高精度で、
規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られるプロセ
ス製造装置が得られる。
口との製品中の水分量を近赤外分析計で測定するように
したので、蒸留塔での製品の脱水を高精度に制御出来、
過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高精度で、
規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られるプロセ
ス製造装置が得られる。
【００１８】本発明の請求項３においては、請求項１又
は請求項２記載のプロセス製造装置において、前記近赤
外分析計は、前記近赤外光を光ファイバーを介して被測
定物に照射し、透過した光を光ファイバーを介して検出
器に導くことを特徴としている。
は請求項２記載のプロセス製造装置において、前記近赤
外分析計は、前記近赤外光を光ファイバーを介して被測
定物に照射し、透過した光を光ファイバーを介して検出
器に導くことを特徴としている。
【００１９】この結果、近赤外分析計は、近赤外光を光
ファイバーを介して、被測定物に照射し、透過した光を
光ファイバーを介して検出器に導くように構成されたの
で、光信号は電気信号に比してサージ電圧等に対して強
く、耐ノイズ待性が良好なプロセス製造装置が得られ
る。
ファイバーを介して、被測定物に照射し、透過した光を
光ファイバーを介して検出器に導くように構成されたの
で、光信号は電気信号に比してサージ電圧等に対して強
く、耐ノイズ待性が良好なプロセス製造装置が得られ
る。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明を詳しく
説明する。図１は本発明の一実施例を説明したプロセス
製造装置のシステム構成説明図である。図ｌ中、図４と
同一作用をするものには同一符号を付けて説明を省略す
る。
説明する。図１は本発明の一実施例を説明したプロセス
製造装置のシステム構成説明図である。図ｌ中、図４と
同一作用をするものには同一符号を付けて説明を省略す
る。
【００２１】図ｌにおいて、近赤外分析計１１は、蒸留
工程後、即ち蒸留塔６を通過した製品に近赤外光を照射
し、製品中の、例えば、酢酸の水分量を測定する。そし
て、近赤外分析計１１は、近赤外光を光ファイバーｌｌ
ｌを介して、被測定物に照射し、透過した光を光ファイ
バー１１１を介して検出器に導く。
工程後、即ち蒸留塔６を通過した製品に近赤外光を照射
し、製品中の、例えば、酢酸の水分量を測定する。そし
て、近赤外分析計１１は、近赤外光を光ファイバーｌｌ
ｌを介して、被測定物に照射し、透過した光を光ファイ
バー１１１を介して検出器に導く。
【００２２】制御部１２は、この近赤外分析計１１の測
定した水分量の信号に応じて、蒸留工程即ち蒸留塔６の
脱水制御をする。ここで、低沸点除去器４では、自由水
と結合水とが取り除かれ、蒸留塔６では、低沸点除去器
４で除去しきれない結合水が取り除かれる。
定した水分量の信号に応じて、蒸留工程即ち蒸留塔６の
脱水制御をする。ここで、低沸点除去器４では、自由水
と結合水とが取り除かれ、蒸留塔６では、低沸点除去器
４で除去しきれない結合水が取り除かれる。
【００２３】以上の構成において、近赤外分析計１１
は、蒸留塔６を通過した製品に対して、オンラインで，
殆ど連続的に、近赤外分析計１１の保証する測定精度以
内で、測ばらつきが少なく測定する。しかも、オンライ
ン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐れも無
く、サンプリング液の廃液処理の問題も生じない。
は、蒸留塔６を通過した製品に対して、オンラインで，
殆ど連続的に、近赤外分析計１１の保証する測定精度以
内で、測ばらつきが少なく測定する。しかも、オンライ
ン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐れも無
く、サンプリング液の廃液処理の問題も生じない。
【００２４】図２は、光ファイバー１１１を使用した近
赤外分析計１１の説明図である。近赤外分析計１１は、
分子の近赤外吸収を利用して、非破壊、非接触しかも高
速に、液体、固体、粉体の種類の判別、複数成分の定量
をリアルタイムに行うものである。
赤外分析計１１の説明図である。近赤外分析計１１は、
分子の近赤外吸収を利用して、非破壊、非接触しかも高
速に、液体、固体、粉体の種類の判別、複数成分の定量
をリアルタイムに行うものである。
【００２５】近赤外分析計１１の光源１１２から投射さ
れた近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、プラン
トの配管６１中の測定流体ＦＬｏを透過する。透過した
近赤外光は、その測定流体ＦＬｏ固有の吸収がなされ、
残りの近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、近赤
外分析計１１の検出器（図示せず)に導かれる。
れた近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、プラン
トの配管６１中の測定流体ＦＬｏを透過する。透過した
近赤外光は、その測定流体ＦＬｏ固有の吸収がなされ、
残りの近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、近赤
外分析計１１の検出器（図示せず)に導かれる。
【００２６】検出器で得られる信号が、図２に示される
ようなスペクトル６２である。このスペクトル６２に、
検量式を当てはめて、成分濃度として出力する。
ようなスペクトル６２である。このスペクトル６２に、
検量式を当てはめて、成分濃度として出力する。
【００２７】この結果、 （１）近赤外分析計１１が使用されたので、蒸留塔６を
通過した製品に対して、近赤外分析計１１の保証する測
定精度以内の誤差で高精度に測定出来、測定者毎による
ばらつきが生じるおそれもないので、蒸留塔６での製品
の脱水を高精度に制御出来、過剰に脱水する必要が無
く、高精度で、規格値を満足出来、高晶質の製品が得ら
れるプロセス製造装置が得られる。例えば、一例とし
て、約±５ｐｐｍの誤差で高精度に測定できる。
通過した製品に対して、近赤外分析計１１の保証する測
定精度以内の誤差で高精度に測定出来、測定者毎による
ばらつきが生じるおそれもないので、蒸留塔６での製品
の脱水を高精度に制御出来、過剰に脱水する必要が無
く、高精度で、規格値を満足出来、高晶質の製品が得ら
れるプロセス製造装置が得られる。例えば、一例とし
て、約±５ｐｐｍの誤差で高精度に測定できる。
【００２８】（２）近赤外分析計１１が使用されたの
で、オンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿
する恐れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要
が無く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコスト
を大幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。例え
ば、一例として、８．３％のランニングコストの低減が
出来る。
で、オンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿
する恐れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要
が無く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコスト
を大幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。例え
ば、一例として、８．３％のランニングコストの低減が
出来る。
【００２９】（３）近赤外分析計ｌｌが使用されたの
で、殆ど連続的に、測定する事が出来、問欠的に、例え
ば、８時間毎にサンプリングが手作業で行われ、手間が
かかることもなく、蒸留塔６を殆ど連続的に制御出来、
製品の品質に、間欠的にばらつきが生ずるおそれのない
プロセス製造装置が得られる。
で、殆ど連続的に、測定する事が出来、問欠的に、例え
ば、８時間毎にサンプリングが手作業で行われ、手間が
かかることもなく、蒸留塔６を殆ど連続的に制御出来、
製品の品質に、間欠的にばらつきが生ずるおそれのない
プロセス製造装置が得られる。
【００３０】例えば、一例として、図４従来例では、８
時間毎の分析周期であったが、図１実施例では、３０秒
毎の分析周期が得られる。
時間毎の分析周期であったが、図１実施例では、３０秒
毎の分析周期が得られる。
【００３１】（４）サンプリング液を取り出す事がない
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
【００３２】（５）近赤外分析計１１は、近赤外光を光
ファイバー１１１を介して、被測定物に照射し、透過し
た光を光ファイバー１１１を介して検出器に導くように
構成されたので、光信号は電気信号に比してサージ電圧
等に対して強く、耐ノイズ特性が良好なプロセス製造装
置が得られる。
ファイバー１１１を介して、被測定物に照射し、透過し
た光を光ファイバー１１１を介して検出器に導くように
構成されたので、光信号は電気信号に比してサージ電圧
等に対して強く、耐ノイズ特性が良好なプロセス製造装
置が得られる。
【００３３】図３は本発明の他の実施例の要部構成説明
図である。図３において、近赤外分析計２１は、蒸留工
程後、即ち蒸留塔６を通過した製品に近赤外光を照射し
て製品中の水分量を測定すると共に、蒸留工程の前段、
即ち蒸留塔６を通過する前の反応性生成物に、近赤外光
を照射して反応性生成物中の水分量を測定する
図である。図３において、近赤外分析計２１は、蒸留工
程後、即ち蒸留塔６を通過した製品に近赤外光を照射し
て製品中の水分量を測定すると共に、蒸留工程の前段、
即ち蒸留塔６を通過する前の反応性生成物に、近赤外光
を照射して反応性生成物中の水分量を測定する
【００３４】制御部２２は、この近赤外分析計２１の測
定したそれぞれの水分量に応じて、蒸留工程即ち蒸留塔
６の脱水を制御する。
定したそれぞれの水分量に応じて、蒸留工程即ち蒸留塔
６の脱水を制御する。
【００３５】すなわち、蒸留塔６に流入する測定流体FL
oの蒸留塔６の水分量が多い場合には、あらかじめ自由
水を取り除くために、低沸点除去器４を制御して、自由
水、結合水を取り除くようにして、蒸留塔６での水分量
の除去調節を容易にしたものである。
oの蒸留塔６の水分量が多い場合には、あらかじめ自由
水を取り除くために、低沸点除去器４を制御して、自由
水、結合水を取り除くようにして、蒸留塔６での水分量
の除去調節を容易にしたものである。
【００３６】この結果、蒸留工程即ち蒸留塔６の入口と
出口との製晶中の水分量を近赤外分析計２１で測定する
ようにしたので、蒸留塔６での製品の脱水を高精度に制
御出来、過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高
精度で、規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られ
るプロセス製造装置が得られる。
出口との製晶中の水分量を近赤外分析計２１で測定する
ようにしたので、蒸留塔６での製品の脱水を高精度に制
御出来、過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高
精度で、規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られ
るプロセス製造装置が得られる。
【００３７】なお、以上の説明は、本発明の説明および
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項ｌ
によれば、次のような効果がある。 （ｌ）近赤外分析計が使用されたので、蒸留塔を通過し
た製品に対して、近赤外分析計の保証する測定精度以内
の誤差で高精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが
生じるおそれもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精
度に制御出来、過剰に脱水する必要が無く、高精度で、
規格値を満足出来、高品質の製品が得られるプロセス製
造装置が得られる。
によれば、次のような効果がある。 （ｌ）近赤外分析計が使用されたので、蒸留塔を通過し
た製品に対して、近赤外分析計の保証する測定精度以内
の誤差で高精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが
生じるおそれもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精
度に制御出来、過剰に脱水する必要が無く、高精度で、
規格値を満足出来、高品質の製品が得られるプロセス製
造装置が得られる。
【００３９】（２）近赤外分析計が使用されたので、オ
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
【００４０】（３）近赤外分析計が使用されたので、殆
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の品質に間欠的にばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の品質に間欠的にばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
【００４１】（４）サンプリング液を取り出す事がない
ので、サンプリング液の廃液処理の間題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
ので、サンプリング液の廃液処理の間題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
【００４２】本発明の請求項２によれば、次のような効
果がある。蒸留工程即ち蒸留塔の入口と出口との製品中
の水分量を近赤外分析計で測定するようにしたので、蒸
留塔での製品の脱水を高精度に制御出来、過剰に脱水す
る必要が無く、より効率良く、高精度で、規格値を満足
出来、更に高品質の製品が得られるプロセス製造装置が
得られる。
果がある。蒸留工程即ち蒸留塔の入口と出口との製品中
の水分量を近赤外分析計で測定するようにしたので、蒸
留塔での製品の脱水を高精度に制御出来、過剰に脱水す
る必要が無く、より効率良く、高精度で、規格値を満足
出来、更に高品質の製品が得られるプロセス製造装置が
得られる。
【００４３】本発明の請求項３によれば、次のような効
果がある。近赤外分析計は、近赤外光を光ファイバーを
介して、被測定物に照射し、透過した光を光ファイバー
を介して検出器に導くように構成されたので、光信号は
電気信号に比してサージ電圧等に対して強く、耐ノイズ
特性が良好なプロセス製造装置が得られる。
果がある。近赤外分析計は、近赤外光を光ファイバーを
介して、被測定物に照射し、透過した光を光ファイバー
を介して検出器に導くように構成されたので、光信号は
電気信号に比してサージ電圧等に対して強く、耐ノイズ
特性が良好なプロセス製造装置が得られる。
【００４４】従って、本発明によれば、エネルギーを無
駄に消費しない効率の良いプロセス制御装置を実現する
ことが出来る。
駄に消費しない効率の良いプロセス制御装置を実現する
ことが出来る。
【図１】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図２】図１の動作説明図である。
【図３】本発明の他の実施例の要部構成説明図である。
【図４】従来より一般に使用されている従来例の要部構
成説明図である。
成説明図である。
ｌ 第１の原料タンク ２ 第２の原料タンク ３ 反応器 ４ 低沸点除去器 ５ 高沸点除去器 ６ 蒸留塔 ７ 製品タンク １１ 近赤外分析計 １１１ 光ファイバー １２ 制御部 ２１ 近赤外分析計 ２２ 制御部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年２月２５日（２０００．２．２
５）
５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 プロセス製造装置
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、製品中の水分量を
近赤外分析計により連続的に測定し、適正な製造条件を
把握してプロセスを制御するプロセス製造装置に関する
ものである。
近赤外分析計により連続的に測定し、適正な製造条件を
把握してプロセスを制御するプロセス製造装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】図３は、例えば、従来の酢酸を製造する
プロセス製造装置のシステム図である。図において、１
はメタノールと一酸化炭素とを供給する第１の原料タン
ク、２は触媒を供給する第２の原料タンクである。第１
および第２の原料タンクｌ，２から供給された原料は、
反応器３で反応され酢酸が合成される。
プロセス製造装置のシステム図である。図において、１
はメタノールと一酸化炭素とを供給する第１の原料タン
ク、２は触媒を供給する第２の原料タンクである。第１
および第２の原料タンクｌ，２から供給された原料は、
反応器３で反応され酢酸が合成される。
【０００３】反応器３で合成された酢酸は、低沸点除去
器４で水等の低沸点等が除去された後、高沸点除去器５
で夕一ル等の高沸点の不純物が除去される。高度脱水の
為の蒸留塔６で、酢酸中の水分を規格値内の５０ｐｐｍ
以下に除去し、製品タンク７に製品の酢酸が貯蔵され
る。
器４で水等の低沸点等が除去された後、高沸点除去器５
で夕一ル等の高沸点の不純物が除去される。高度脱水の
為の蒸留塔６で、酢酸中の水分を規格値内の５０ｐｐｍ
以下に除去し、製品タンク７に製品の酢酸が貯蔵され
る。
【０００４】蒸留塔６で水分が除去された酢酸は、水分
が５０ｐｐｍに除去されているかどうか調べるために、
注射器やタンクを使ってサンプリングされたのち、サン
プリングされた液は、カールフィシャー方式の水分計で
分析される。この場合、水分が５０ｐｐｍ以下である場
合には、プロセス製造装置が正常に制御されていること
になる。
が５０ｐｐｍに除去されているかどうか調べるために、
注射器やタンクを使ってサンプリングされたのち、サン
プリングされた液は、カールフィシャー方式の水分計で
分析される。この場合、水分が５０ｐｐｍ以下である場
合には、プロセス製造装置が正常に制御されていること
になる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにカールフィシャー方式によって水分量を監視するよ
うなプロセス製造装置においては、注射器やタンクを使
って酢酸をサンプリングするので、サンプリング液が空
気中に晒されることになり、空気中の水分を酢酸が２０
〜３０ｐｐｍ吸湿してしまう。
うにカールフィシャー方式によって水分量を監視するよ
うなプロセス製造装置においては、注射器やタンクを使
って酢酸をサンプリングするので、サンプリング液が空
気中に晒されることになり、空気中の水分を酢酸が２０
〜３０ｐｐｍ吸湿してしまう。
【０００６】このため、規格値内の製品が得られるよう
に、安全を見込んで、プロセス製造装置は３０ｐｐｍに
して運転するようにしている。
に、安全を見込んで、プロセス製造装置は３０ｐｐｍに
して運転するようにしている。
【０００７】このため酢酸からの脱水を過剰に行なわな
ければならず、エネルギーを無駄にしているという問題
点があった。また、間欠的に、例えば、８時間毎にサン
プリングが手作業で行われる為に、手間が掛るという間
題点がある。
ければならず、エネルギーを無駄にしているという問題
点があった。また、間欠的に、例えば、８時間毎にサン
プリングが手作業で行われる為に、手間が掛るという間
題点がある。
【０００８】また、人手により、カールフィシヤー方式
によって測定されるので、測定結果に、測定者毎による
ばらつきが生じるという問題点があった。また、サンプ
リング液の廃液処理の問題も生じる。
によって測定されるので、測定結果に、測定者毎による
ばらつきが生じるという問題点があった。また、サンプ
リング液の廃液処理の問題も生じる。
【０００９】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、プロセス中の反応性生成物および製品を連続的
に近赤外分析計で測定し、プロセスから被測定物をサン
プリングする必要がなく、オンラインで、被測定物中の
水分量を測定するようにしたもので、被測定物が空気中
の水分を吸湿してしまう事がないので、精度が良い測定
が行なえる。
もので、プロセス中の反応性生成物および製品を連続的
に近赤外分析計で測定し、プロセスから被測定物をサン
プリングする必要がなく、オンラインで、被測定物中の
水分量を測定するようにしたもので、被測定物が空気中
の水分を吸湿してしまう事がないので、精度が良い測定
が行なえる。
【００１０】この為、過剰な脱水を行なうことの必要が
無く、エネルギーを無駄に消費しない効率の良いプロセ
ス制御装置を提供することを目的としている。
無く、エネルギーを無駄に消費しない効率の良いプロセ
ス制御装置を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明では、請求項１のプロセス製造装置に
おいては、反応器で得た反応性生成物中の不純物を除去
した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品を得
るプロセス製造装置において、所定の反応性生成物が合
成される反応器と、前記反応性生成物から低沸点の不純
物が除去される低沸点除去器と、この低沸点除去器で低
沸点の不純物が除去された後高沸点の不純物が除去され
る高沸点除去器と、この高沸点除去器で高沸点の不純物
が除去された後高度脱水がなされる蒸留塔と、前記蒸留
塔の出口の反応性生成物に近赤外光を照射して製品中の
水分量を測定すると共に、前記蒸留塔の入口の反応性生
成物に近赤外光を照射して前記反応性生成物中の水分量
を測定する近赤外分析計と、この近赤外分析計の測定し
た前記蒸留塔の出口の水分量に応じて前記蒸留塔の脱水
制御をすると共に、前記蒸留塔の入口の水分量に応じて
あらかじめ前記低沸点除去器の脱水制御をする制御部と
を具備したことを特徴とした。
るために、本発明では、請求項１のプロセス製造装置に
おいては、反応器で得た反応性生成物中の不純物を除去
した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品を得
るプロセス製造装置において、所定の反応性生成物が合
成される反応器と、前記反応性生成物から低沸点の不純
物が除去される低沸点除去器と、この低沸点除去器で低
沸点の不純物が除去された後高沸点の不純物が除去され
る高沸点除去器と、この高沸点除去器で高沸点の不純物
が除去された後高度脱水がなされる蒸留塔と、前記蒸留
塔の出口の反応性生成物に近赤外光を照射して製品中の
水分量を測定すると共に、前記蒸留塔の入口の反応性生
成物に近赤外光を照射して前記反応性生成物中の水分量
を測定する近赤外分析計と、この近赤外分析計の測定し
た前記蒸留塔の出口の水分量に応じて前記蒸留塔の脱水
制御をすると共に、前記蒸留塔の入口の水分量に応じて
あらかじめ前記低沸点除去器の脱水制御をする制御部と
を具備したことを特徴とした。
【００１２】この結果、 （１）近赤外分析計の測定した蒸留塔の出口の水分量に
応じて蒸留塔の脱水制御をすると共に、蒸留塔の入口の
水分量に応じてあらかじめ低沸点除去器の脱水制御をす
る制御部が設けられたので、蒸留塔を通過した製品に対
して、近赤外分析計の保証する測定精度以内の誤差で高
精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが生じるおそ
れもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精度に制御出
来、過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高精度
で、規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られるプ
ロセス製造装置が得られる。
応じて蒸留塔の脱水制御をすると共に、蒸留塔の入口の
水分量に応じてあらかじめ低沸点除去器の脱水制御をす
る制御部が設けられたので、蒸留塔を通過した製品に対
して、近赤外分析計の保証する測定精度以内の誤差で高
精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが生じるおそ
れもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精度に制御出
来、過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高精度
で、規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られるプ
ロセス製造装置が得られる。
【００１３】（２）近赤外分析計が使用されたので、オ
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
【００１４】（３）近赤外分析計が使用されたので、殆
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の晶質に間欠的なばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の晶質に間欠的なばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
【００１５】（４）サンプリング液を取り出す事がない
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
【００１６】本発明の請求項２においては、請求項１記
載のプロセス製造装置において、前記近赤外分析計は、
前記近赤外光を光ファイバーを介して被測定物に照射
し、透過した光を光ファイバーを介して検出器に導くこ
とを特徴としている。
載のプロセス製造装置において、前記近赤外分析計は、
前記近赤外光を光ファイバーを介して被測定物に照射
し、透過した光を光ファイバーを介して検出器に導くこ
とを特徴としている。
【００１７】この結果、近赤外分析計は、近赤外光を光
ファイバーを介して、被測定物に照射し、透過した光を
光ファイバーを介して検出器に導くように構成されたの
で、光信号は電気信号に比してサージ電圧等に対して強
く、耐ノイズ待性が良好なプロセス製造装置が得られ
る。
ファイバーを介して、被測定物に照射し、透過した光を
光ファイバーを介して検出器に導くように構成されたの
で、光信号は電気信号に比してサージ電圧等に対して強
く、耐ノイズ待性が良好なプロセス製造装置が得られ
る。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明を詳しく
説明する。図１は本発明の一実施例を説明したプロセス
製造装置のシステム構成説明図である。図ｌ中、図３と
同一作用をするものには同一符号を付けて説明を省略す
る。
説明する。図１は本発明の一実施例を説明したプロセス
製造装置のシステム構成説明図である。図ｌ中、図３と
同一作用をするものには同一符号を付けて説明を省略す
る。
【００１９】図１において、近赤外分析計２１は、蒸留
工程後、即ち蒸留塔６を通過した製品に近赤外光を照射
して製品中の水分量を測定すると共に、蒸留工程の前
段、即ち蒸留塔６を通過する前の反応性生成物に、近赤
外光を照射して反応性生成物中の水分量を測定する。例
えば、酢酸の水分量を測定する。そして、近赤外分析計
２１は、近赤外光を光ファイバーｌｌｌを介して、被測
定物に照射し、透過した光を光ファイバー１１１を介し
て検出器に導く。
工程後、即ち蒸留塔６を通過した製品に近赤外光を照射
して製品中の水分量を測定すると共に、蒸留工程の前
段、即ち蒸留塔６を通過する前の反応性生成物に、近赤
外光を照射して反応性生成物中の水分量を測定する。例
えば、酢酸の水分量を測定する。そして、近赤外分析計
２１は、近赤外光を光ファイバーｌｌｌを介して、被測
定物に照射し、透過した光を光ファイバー１１１を介し
て検出器に導く。
【００２０】制御部２２は、この近赤外分析計２１の測
定したそれぞれの水分量に応じて、蒸留工程即ち蒸留塔
６の脱水を制御する。ここで、低沸点除去器４では、自
由水と結合水とが取り除かれ、蒸留塔６では、低沸点除
去器４で除去しきれない結合水が取り除かれる。
定したそれぞれの水分量に応じて、蒸留工程即ち蒸留塔
６の脱水を制御する。ここで、低沸点除去器４では、自
由水と結合水とが取り除かれ、蒸留塔６では、低沸点除
去器４で除去しきれない結合水が取り除かれる。
【００２１】以上の構成において、近赤外分析計２１
は、蒸留塔６を通過した製品に対して、オンラインで，
殆ど連続的に、近赤外分析計２１の保証する測定精度以
内で、測ばらつきが少なく測定する。しかも、オンライ
ン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐れも無
く、サンプリング液の廃液処理の問題も生じない。
は、蒸留塔６を通過した製品に対して、オンラインで，
殆ど連続的に、近赤外分析計２１の保証する測定精度以
内で、測ばらつきが少なく測定する。しかも、オンライ
ン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐れも無
く、サンプリング液の廃液処理の問題も生じない。
【００２２】すなわち、蒸留塔６に流入する測定流体Ｆ
Ｌｏの蒸留塔６の水分量が多い場合には、あらかじめ自
由水を取り除くために、低沸点除去器４を制御して、自
由水、結合水を取り除くようにして、蒸留塔６での水分
量の除去調節を容易にしたものである。
Ｌｏの蒸留塔６の水分量が多い場合には、あらかじめ自
由水を取り除くために、低沸点除去器４を制御して、自
由水、結合水を取り除くようにして、蒸留塔６での水分
量の除去調節を容易にしたものである。
【００２３】図２は、光ファイバー１１１を使用した近
赤外分析計２１の説明図である。近赤外分析計２１は、
分子の近赤外吸収を利用して、非破壊、非接触しかも高
速に、液体、固体、粉体の種類の判別、複数成分の定量
をリアルタイムに行うものである。
赤外分析計２１の説明図である。近赤外分析計２１は、
分子の近赤外吸収を利用して、非破壊、非接触しかも高
速に、液体、固体、粉体の種類の判別、複数成分の定量
をリアルタイムに行うものである。
【００２４】近赤外分析計２１の光源１１２から投射さ
れた近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、プラン
トの配管６１中の測定流体ＦＬｏを透過する。透過した
近赤外光は、その測定流体ＦＬｏ固有の吸収がなされ、
残りの近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、近赤
外分析計２１の検出器（図示せず)に導かれる。
れた近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、プラン
トの配管６１中の測定流体ＦＬｏを透過する。透過した
近赤外光は、その測定流体ＦＬｏ固有の吸収がなされ、
残りの近赤外光は、光ファイバーｌｌｌを介して、近赤
外分析計２１の検出器（図示せず)に導かれる。
【００２５】検出器で得られる信号が、図２に示される
ようなスペクトル６２である。このスペクトル６２に、
検量式を当てはめて、成分濃度として出力する。
ようなスペクトル６２である。このスペクトル６２に、
検量式を当てはめて、成分濃度として出力する。
【００２６】この結果、 （１）近赤外分析計２１の測定した蒸留塔６の出口の水
分量に応じて蒸留塔６の脱水制御をすると共に、蒸留塔
６の入口の水分量に応じてあらかじめ低沸点除去器４の
脱水制御をする制御部２２が設けられたので、蒸留塔６
を通過した製品に対して、近赤外分析計２１の保証する
測定精度以内の誤差で高精度に測定出来、測定者毎によ
るばらつきが生じるおそれもないので、蒸留塔６での製
品の脱水を高精度に制御出来、過剰に脱水する必要が無
く、より効率良く、高精度で、規格値を満足出来、更に
高品質の製品が得られるプロセス製造装置が得られる。
例えば、一例として、約±５ｐｐｍの誤差で高精度に測
定できる。
分量に応じて蒸留塔６の脱水制御をすると共に、蒸留塔
６の入口の水分量に応じてあらかじめ低沸点除去器４の
脱水制御をする制御部２２が設けられたので、蒸留塔６
を通過した製品に対して、近赤外分析計２１の保証する
測定精度以内の誤差で高精度に測定出来、測定者毎によ
るばらつきが生じるおそれもないので、蒸留塔６での製
品の脱水を高精度に制御出来、過剰に脱水する必要が無
く、より効率良く、高精度で、規格値を満足出来、更に
高品質の製品が得られるプロセス製造装置が得られる。
例えば、一例として、約±５ｐｐｍの誤差で高精度に測
定できる。
【００２７】（２）近赤外分析計２１が使用されたの
で、オンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿
する恐れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要
が無く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコスト
を大幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。例え
ば、一例として、８．３％のランニングコストの低減が
出来る。
で、オンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿
する恐れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要
が無く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコスト
を大幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。例え
ば、一例として、８．３％のランニングコストの低減が
出来る。
【００２８】（３）近赤外分析計２ｌが使用されたの
で、殆ど連続的に、測定する事が出来、問欠的に、例え
ば、８時間毎にサンプリングが手作業で行われ、手間が
かかることもなく、蒸留塔６を殆ど連続的に制御出来、
製品の品質に、間欠的にばらつきが生ずるおそれのない
プロセス製造装置が得られる。
で、殆ど連続的に、測定する事が出来、問欠的に、例え
ば、８時間毎にサンプリングが手作業で行われ、手間が
かかることもなく、蒸留塔６を殆ど連続的に制御出来、
製品の品質に、間欠的にばらつきが生ずるおそれのない
プロセス製造装置が得られる。
【００２９】例えば、一例として、図３従来例では、８
時間毎の分析周期であったが、図１実施例では、３０秒
毎の分析周期が得られる。
時間毎の分析周期であったが、図１実施例では、３０秒
毎の分析周期が得られる。
【００３０】（４）サンプリング液を取り出す事がない
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
ので、サンプリング液の廃液処理の問題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
【００３１】（５）近赤外分析計２１は、近赤外光を光
ファイバー１１１を介して、被測定物に照射し、透過し
た光を光ファイバー１１１を介して検出器に導くように
構成されたので、光信号は電気信号に比してサージ電圧
等に対して強く、耐ノイズ特性が良好なプロセス製造装
置が得られる。
ファイバー１１１を介して、被測定物に照射し、透過し
た光を光ファイバー１１１を介して検出器に導くように
構成されたので、光信号は電気信号に比してサージ電圧
等に対して強く、耐ノイズ特性が良好なプロセス製造装
置が得られる。
【００３２】なお、以上の説明は、本発明の説明および
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
例示を目的として特定の好適な実施例を示したに過ぎな
い。したがって本発明は、上記実施例に限定されること
なく、その本質から逸脱しない範囲で更に多くの変更、
変形をも含むものである。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項ｌ
によれば、次のような効果がある。 （ｌ）近赤外分析計の測定した蒸留塔の出口の水分量に
応じて蒸留塔の脱水制御をすると共に、蒸留塔の入口の
水分量に応じてあらかじめ低沸点除去器の脱水制御をす
る制御部が設けられたので、蒸留塔を通過した製品に対
して、近赤外分析計の保証する測定精度以内の誤差で高
精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが生じるおそ
れもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精度に制御出
来、過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高精度
で、規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られるプ
ロセス製造装置が得られる。
によれば、次のような効果がある。 （ｌ）近赤外分析計の測定した蒸留塔の出口の水分量に
応じて蒸留塔の脱水制御をすると共に、蒸留塔の入口の
水分量に応じてあらかじめ低沸点除去器の脱水制御をす
る制御部が設けられたので、蒸留塔を通過した製品に対
して、近赤外分析計の保証する測定精度以内の誤差で高
精度に測定出来、測定者毎によるばらつきが生じるおそ
れもないので、蒸留塔での製品の脱水を高精度に制御出
来、過剰に脱水する必要が無く、より効率良く、高精度
で、規格値を満足出来、更に高品質の製品が得られるプ
ロセス製造装置が得られる。
【００３４】（２）近赤外分析計が使用されたので、オ
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
ンライン測定が出来るので、空気中の水分を吸湿する恐
れも無く、安全を見込んで、過剰に脱水する必要が無
く、エネルギーの消費が少なく、ランニングコストを大
幅に低減出来るプロセス製造装置が得られる。
【００３５】（３）近赤外分析計が使用されたので、殆
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の品質に間欠的にばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
ど連続的に、測定する事が出来、間欠的にサンプリング
が手作業で行われて手間がかかることもなく、蒸留塔を
殆ど連続的に制御出来、製品の品質に間欠的にばらつき
が生ずるおそれのないプロセス製造装置が得られる。
【００３６】（４）サンプリング液を取り出す事がない
ので、サンプリング液の廃液処理の間題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
ので、サンプリング液の廃液処理の間題も生じないプロ
セス製造装置が得られる。
【００３７】本発明の請求項２によれば、次のような効
果がある。近赤外分析計は、近赤外光を光ファイバーを
介して、被測定物に照射し、透過した光を光ファイバー
を介して検出器に導くように構成されたので、光信号は
電気信号に比してサージ電圧等に対して強く、耐ノイズ
特性が良好なプロセス製造装置が得られる。
果がある。近赤外分析計は、近赤外光を光ファイバーを
介して、被測定物に照射し、透過した光を光ファイバー
を介して検出器に導くように構成されたので、光信号は
電気信号に比してサージ電圧等に対して強く、耐ノイズ
特性が良好なプロセス製造装置が得られる。
【００３８】従って、本発明によれば、エネルギーを無
駄に消費しない効率の良いプロセス制御装置を実現する
ことが出来る。
駄に消費しない効率の良いプロセス制御装置を実現する
ことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の要部構成説明図である。
【図２】図１の動作説明図である。
【図３】従来より一般に使用されている従来例の要部構
成説明図である。
成説明図である。
【符号の説明】 ｌ 第１の原料タンク ２ 第２の原料タンク ３ 反応器 ４ 低沸点除去器 ５ 高沸点除去器 ６ 蒸留塔 ７ 製品タンク １１１ 光ファイバー ２１ 近赤外分析計 ２２ 制御部
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G059 AA01 AA05 BB04 BB15 CC09 DD03 EE01 EE12 FF06 HH01 JJ17 KK01 MM12 NN09 4D076 AA01 AA16 AA22 AA24 BB03 BB23 EA02Y EA05Y EA11Y EA20Y EA35 EA41 EA45 FA03 FA12 FA33 JA03 4H006 AA04 AD11 BC50 BD82
Claims (3)
- 【請求項１】反応器で得た反応性生成物中の不純物を除
去した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品を
得るプロセス製造装置において、 前記蒸留工程後の製品に近赤外光を照射し製品中の水分
量を測定する近赤外分析計と、この近赤外分析計の測定
した水分量に応じて前記蒸留工程の脱水制御する制御部
とを具備したことを特徴としたプロセス製造装置。 - 【請求項２】反応器で得た反応性生成物中の不純物を除
去した後に、蒸留工程で脱水を行ない、高純度の製品を
得るプロセス製造装置において、 前記蒸留工程後の製品に近赤外光を照射して製品中の水
分量を測定すると共に、前記蒸留工程の前段の反応性生
成物に近赤外光を照射して前記反応性生成物中の水分量
を測定する近赤外分析計と、 この近赤外分析計の測定したそれぞれの水分量に応じて
前記蒸留工程の脱水制御する制御部とを具備したことを
特徴としたプロセス製造装置。 - 【請求項３】前記近赤外分析計は、前記近赤外光を光フ
ァイバーを介して被測定物に照射し、透過した光を光フ
ァイバーを介して検出器に導くことを特徴とした請求項
ｌ又は請求項２記載のプロセス製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34870998A JP2000167303A (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | プロセス製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34870998A JP2000167303A (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | プロセス製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000167303A true JP2000167303A (ja) | 2000-06-20 |
Family
ID=18398846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34870998A Pending JP2000167303A (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | プロセス製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000167303A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002004394A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Millennium Petrochemicals, Inc. | Process control for acetic acid manufacture |
| JP2003028792A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Nippon Soda Co Ltd | 含水粉状物の反応管理システム及びジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
-
1998
- 1998-12-08 JP JP34870998A patent/JP2000167303A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6552221B1 (en) | 1998-12-18 | 2003-04-22 | Millenium Petrochemicals, Inc. | Process control for acetic acid manufacture |
| WO2002004394A1 (en) * | 2000-07-06 | 2002-01-17 | Millennium Petrochemicals, Inc. | Process control for acetic acid manufacture |
| EP1299338A1 (en) | 2000-07-06 | 2003-04-09 | Millennium Petrochemicals, Inc. | Process control for acetic acid manufacture |
| JP2003028792A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Nippon Soda Co Ltd | 含水粉状物の反応管理システム及びジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
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