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JP2000164655A - アライメント装置及びアライメント方法 - Google Patents

アライメント装置及びアライメント方法

Info

Publication number
JP2000164655A
JP2000164655A JP33264098A JP33264098A JP2000164655A JP 2000164655 A JP2000164655 A JP 2000164655A JP 33264098 A JP33264098 A JP 33264098A JP 33264098 A JP33264098 A JP 33264098A JP 2000164655 A JP2000164655 A JP 2000164655A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alignment mark
semiconductor wafer
alignment
probe sheet
probe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33264098A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Furumoto
建二 古本
Mikiya Mai
幹也 真井
Tomoyuki Nakayama
知之 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP33264098A priority Critical patent/JP2000164655A/ja
Publication of JP2000164655A publication Critical patent/JP2000164655A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 プローブシートに設けられているプローブ端
子と半導体ウエハに形成されている検査用電極とを正確
に位置合わせできるようにする。 【解決手段】 半導体ウエハ1を保持しているウエハト
レイ10はZ軸方向及びθ方向に移動可能なZ・θテー
ブル21の上に載置されていると共に、Z・θテーブル
21はX軸方向及びY軸方向に移動可能なX・Yテーブ
ル22に固持されており、半導体ウエハ1は、Z軸方
向、θ方向、X軸方向及びY軸方向にそれぞれ移動可能
である。配線基板5は、2つの貫通孔23aを有する保
持基板23に保持されている。装置本体25から保持基
板23の各貫通孔23aに向かって延びる2つのカメラ
保持アーム26が設けられ、各カメラ保持アーム26の
先端部には、互いに近傍に位置する半導体ウエハ1の第
1のアライメントマーク及びプローブシートの第2のア
ライメントマークの各映像を読みとるCCDカメラ27
が固定されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハに形
成されている第1のアライメントマークと、光透過性を
有するプローブシートに形成されている第2のアライメ
ントマークとを位置合わせするためのアライメント装置
及びアライメント方法に関し、詳しくは、半導体ウエハ
上に形成された複数の半導体集積回路素子の各検査用電
極にプローブシートの各プローブ端子を接続して、複数
の半導体集積回路素子の電気的特性をウェハ状態で一括
して検査する際に用いられるアライメント装置及びアラ
イメント方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体集積回路装置は、半導体集
積回路素子とリードフレームのインナーリードとがボン
ディングワイヤによって電気的に接続された後、半導体
集積回路素子及びインナーリードが樹脂又はセラミック
により封止された状態で供給され、プリント基板に実装
されていた。
【0003】ところが、電子機器の小型化及び低価格化
の要求から、半導体集積回路素子を半導体ウエハから切
り出したままのベアチップ状態で回路基板に実装する方
法が開発されており、品質が保証されたベアチップを低
価格で供給することが望まれている。
【0004】ベアチップに対して品質保証を行なうため
には、半導体集積回路素子の電気的特性をウエハ状態で
(ウエハレベルで)一括してバーインを行なうことが低
コスト化の点で望ましい。そこで、例えば、NIKKEI MIC
RODEVICES 1997年 7月号に記載されるように、複数の半
導体集積回路素子が形成された半導体ウエハを保持する
ウエハトレイと、該ウエハトレイに保持された半導体ウ
エハと対向するように設けられ、該半導体ウエハの半導
体集積回路素子の検査用電極と接続されるプローブ端子
を有する検査用基板を備えた半導体集積回路の検査装置
を用いて行なう検査方法が提案されている。
【0005】以下、前記の半導体集積回路の検査装置及
び検査方法について、図5及び図6を参照しながら説明
する。尚、図6は図5における要部の拡大断面図であ
る。
【0006】図5及び図6に示すように、半導体ウエハ
1の上に形成された複数の半導体集積回路素子の表面に
は多数の検査用電極2がそれぞれ設けられており、各検
査用電極2の周縁部はパッシベーション膜3によって覆
われている。
【0007】半導体ウエハ1と対向するように検査用基
板4が設けられており、該検査用基板4は、配線層5a
を有する配線基板5と、周縁部が剛性リング6によって
配線基板5に固定された例えばポリイミドシートからな
るプローブシート7と、該プローブシート7における半
導体ウエハ1の検査用電極2と対応する部位に設けられ
た半球状のプローブ端子8と、配線基板5とプローブシ
ート7との間に設けられ、配線基板5の配線層5aの一
端部とプローブ端子8とを電気的に接続する異方導電性
ゴムシート9とを備えている。
【0008】半導体ウエハ1はウエハトレイ10のウエ
ハ保持部10aに保持されており、該ウエハトレイ10
におけるウェハ保持部10aの周囲には弾性体からなる
環状のシール部材11が設けられている。ウエハトレイ
10におけるウエハ保持部10aとシール部材11との
間には環状の凹状溝12が形成されており、該凹状溝1
2はウエハ保持部10aの下側に形成されている連通路
13によっても互いに連通している。ウエハトレイ10
の一側部には減圧バルブ14が設けられており、該減圧
バルブ14は減圧供給路15を介して真空ポンプ16に
接続されている。
【0009】尚、配線基板5の配線層5aの他端部は、
電源電圧、接地電圧又は信号電圧等の検査用電圧を供給
する検査装置17に配線基板5のコネクタ5bを介して
接続される。
【0010】以下、前述の検査用基板4及びウエハトレ
イ10からなるウエハカセットを用いて行なう検査方法
について説明する。
【0011】半導体ウエハ1を保持しているウエハトレ
イ10を、水平方向及び上下方向に移動可能な図示しな
い可動テーブルの上に載置すると共に、ウエハトレイ1
0の上に検査用基板4を配置した後、可動ステージを水
平方向へ移動してウエハトレイ10に保持されている半
導体ウエハ1と検査用基板4のプローブシート7との位
置合わせを行ない、その後、可動ステージを上方へ移動
して、半導体ウエハ1とプローブシート7とを互いに接
近させる。
【0012】次に、真空ポンプ16を駆動して減圧用凹
状溝12の内部を減圧すると、プローブシート7とシー
ル部材11の先端部とが接触するため、ウエハトレイ1
0、シール部材11及びプローブシート7によって密封
空間18が形成される。その後、減圧用凹状溝12の内
部を更に減圧して密封空間18を減圧すると、プローブ
シート7に設けられている各プローブ端子8と半導体ウ
エハ1の各検査用電極2とが接触する。
【0013】次に、配線基板5のコネクタ5bを検査装
置17に接続した後、半導体ウエハ1の各検査用電極2
に検査用電圧を印加すると共に、各検査用電極2からの
出力信号を受けて、半導体ウエハ1上に形成されている
各半導体集積回路素子の電気特性を評価する。
【0014】ところで、半導体ウエハ1をプローブシー
ト7に対して位置決めするアライメント工程は次のよう
にして行なわれている。
【0015】まず、検査用基板4側に設けられた第1の
CCDカメラを半導体ウエハ1に設けられた認識位置に
移動した後、半導体ウエハ1の検査用電極2の映像を第
1のCCDカメラに取り込むと共に、ウエハトレイ10
側に設けられた第2のCCDカメラをプローブシート7
に設けられた認識位置に移動した後、プローブシート7
に設けられたプローブ端子8の映像を第2のCCDカメ
ラに取り込む。
【0016】次に、第1のCCDカメラに取り込まれた
映像と第2のCCDカメラに取り込まれた映像とが対応
するように、ウエハトレイ10が載置されている可動ス
テージを水平方向のX軸方向及びY軸方向にそれぞれ所
定量だけ移動する。
【0017】次に、ウエハトレイ10が載置されている
可動ステージを上方に移動させて、半導体ウエハ1とプ
ローブシート7とを互いに接近させた後、密封空間18
を減圧してプローブシート7に設けられている各プロー
ブ端子8と半導体ウエハ1の各検査用電極2とを接触さ
せる。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述したよ
うに、検査用基板4のプローブシート7に設けられてい
る各プローブ端子8と、ウエハトレイ10に保持されて
いる半導体ウエハ1の各検査用電極2とを確実に接触さ
せるためには、半導体ウエハ1とプローブシート7との
位置合わせの精度は非常に重要である。
【0019】ところが、従来のアライメント方法による
と、上下方向に間隔を持っている半導体ウエハ1の検査
用電極2の映像及びプローブシート7のプローブ端子8
の映像を取り込むため、検査用電極2の映像とプローブ
シート7の映像との間に誤差が生じてしまうこと、第1
のCCDカメラに取り込まれた映像及び第2のCCDカ
メラに取り込まれた映像に基づき半導体ウエハの移動量
を演算するため、移動量に演算上の誤差が生じてしまう
こと、及び、密封空間18を減圧してプローブシート7
と半導体ウエハ1とを互いに接近させる際に、プローブ
シート7と半導体ウエハ1とが位置ずれしてしまうこと
等の理由によって、プローブ端子8と検査用電極2とが
位置ずれをしてしまうという問題がある。
【0020】前記に鑑み、本発明は、プローブシートに
設けられているプローブ端子と半導体ウエハに形成され
ている検査用電極とを正確に位置合わせできるようにす
ることを目的とする。
【0021】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明に係るアライメント装置は、検査用電極を有
する複数の半導体集積回路素子が形成されている半導体
ウエハに設けられた第1のアライメントマークと、検査
用電極と対応する位置にプローブ端子を有する光透過性
のプローブシートに設けられた第2のアライメントマー
クとを位置合わせするためのアライメント装置を対象と
し、第1のアライメントマーク及び第2のアライメント
マークと対応する位置に貫通孔を有しており、プローブ
シートを保持する保持基板と、半導体ウエハを上下方向
へ移動させる上下方向移動手段と、半導体ウエハを水平
方向へ移動させる水平方向移動手段と、平面的に互いに
近傍に位置する第1のアライメントマーク及び第2のア
ライメントマークの各映像を保持基板の貫通孔を通して
取り込む光学装置と、光学装置に取り込まれた第1のア
ライメントマーク及び第2のアライメントマークの各映
像に基づき、第1のアライメントマークと第2のアライ
メントマークとが重なるように、水平方向移動手段が半
導体ウエハを水平方向へ移動させる移動量及び上下方向
移動手段が半導体ウエハを上下方向へ移動させる移動量
を演算する演算手段とを備えている。
【0022】本発明のアライメント装置によると、平面
的に互いに近傍に位置する第1のアライメントマーク及
び第2のアライメントマークの各映像を保持基板の貫通
孔を通して取り込む光学装置と、光学装置に取り込まれ
た第1のアライメントマーク及び第2のアライメントマ
ークの各映像に基づき、第1のアライメントマークと第
2のアライメントマークとが重なるように、半導体ウエ
ハを水平方向へ移動させる移動量及び上下方向へ移動さ
せる移動量を演算する演算手段とを備えているため、平
面的に互いに近傍に位置する第1のアライメントマーク
及び第2のアライメントマークの各映像を取り込むこと
ができるので、予め半導体ウエハとプローブシートとの
相対位置を計測しておく必要がなくなり、また、同一の
光学装置により半導体ウエハの第1のアライメントマー
ク及びプローブシートの第2のアライメントマークの各
映像を取り込むことができるので、半導体ウエハの映像
とプローブシートの映像との間に誤差が生じ難くなり、
さらに、同一の光学装置に取り込まれた半導体ウエハ及
びプローブシートの各映像に基づいて半導体ウエハを移
動させる移動量を演算できるため、移動量の演算上の誤
差が生じ難くなる。
【0023】前記の目的を達成するため、本発明に係る
アライメント方法は、検査用電極を有する複数の半導体
集積回路素子が形成されている半導体ウエハに設けられ
た第1のアライメントマークと、検査用電極と対応する
位置にプローブ端子を有する光透過性のプローブシート
に設けられた第2のアライメントマークとを位置合わせ
するアライメント方法を対象とし、プローブシートを、
第1のアライメントマーク及び第2のアライメントマー
クと対応する位置に貫通孔を有する保持基板に、第2の
アライメントマークが貫通孔と対向するように保持する
工程と、第1のアライメントマークが第2のアライメン
トマークに対して平面的に近傍に位置するように、半導
体ウエハを配置する工程と、平面的に互いに近傍に位置
する第1のアライメントマーク及び第2のアライメント
マークの各映像を保持基板の貫通孔を通して光学装置に
取り込む工程と、光学装置に取り込まれた第1のアライ
メントマーク及び第2のアライメントマークの各映像に
基づき、第1のアライメントマークと第2のアライメン
トマークとが重なるように、半導体ウエハを水平方向及
び上下方向へ移動させる工程とを備えている。
【0024】本発明のアライメント方法によると、第1
のアライメントマークが第2のアライメントマークの近
傍に位置するように半導体ウエハを移動させた後に、第
1のアライメントマーク及び第2のアライメントマーク
の映像を取り込むため、予め半導体ウエハとプローブシ
ートとの相対位置を計測しておく必要がなくなり、ま
た、互いに近傍に位置する第1のアライメントマーク及
び第2のアライメントマークの各映像を光学装置に取り
込むため、半導体ウエハの映像とプローブシートの映像
との間に誤差が生じ難くなり、さらに、同一の光学装置
に取り込まれた半導体ウエハ及びプローブシートの各映
像に基づいて半導体ウエハを移動させるため、移動量の
演算上の誤差が生じ難くなる。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態に係る
アライメント方法について図1〜図6を参照しながら説
明する。
【0026】尚、従来と同様、図5及び図6に示すよう
に、半導体ウエハ1の上に形成された複数の半導体集積
回路素子の表面には多数の検査用電極2がそれぞれ設け
られており、各検査用電極2の周縁部はパッシベーショ
ン膜3によって覆われている。検査用基板4は、配線層
5aを有する配線基板5と、周縁部が剛性リング6によ
って配線基板5に固定された例えばポリイミドシートか
らなる光透過性のプローブシート7と、該プローブシー
ト7における半導体ウエハ1の検査用電極2と対応する
部位に設けられた半球状のプローブ端子8と、配線基板
5とプローブシート7との間に設けられ、配線基板5の
配線層5aの一端部とプローブ端子8とを電気的に接続
する光透過性の異方導電性ゴムシート9とを備えてい
る。
【0027】図1に示すように、ウエハトレイ10は上
下方向(Z軸方向)及び傾斜方法(θ方向)に移動可能
な上下方向移動手段としてのZ・θテーブル21の上に
載置されていると共に、Z・θテーブル21は左右方向
(X軸方向)及び前後方向(Y軸方向)に移動可能な水
平方向移動手段としてのX・Yテーブル22に固持され
ており、これらによって、ウエハトレイ10に保持され
ている半導体ウエハ1は、Z軸方向、θ方向、X軸方向
及びY軸方向にそれぞれ移動可能である。
【0028】図1及び図2(a)、(b)に示すよう
に、検査用基板4の配線基板5は、例えば2つの貫通孔
23aを有する保持基板23に保持されており、該保持
基板23は、アライメント装置に設けられている図示し
ない基板保持手段に保持されている。
【0029】図1に示すように、アライメント装置に
は、装置本体25から保持基板23の各貫通孔23aに
向かって延びる例えば2つのカメラ保持アーム26が設
けられており、各カメラ保持アーム26の先端部には、
ピント合わせ用のレンズ27aを有する光学装置として
のCCDカメラ27がそれぞれ固定されている。
【0030】図2(b)及び図3(a)、(b)に示す
ように、半導体ウエハ1の周縁部には例えば2個の第1
のアライメントマーク1aが形成されていると共に、プ
ローブカード7の周縁部における第1のアライメントマ
ーク1aと対応する位置にも例えば2個の第2のアライ
メントマーク7aが形成されている。
【0031】尚、第1のアライメントマーク1aとして
は、半導体ウエハ1の上に形成されている半導体集積回
路素子のパターンを用いることができると共に、第2の
アライメントマーク7aとしては、プローブシート7に
設けられているプローブ端子8を用いることができる
が、いずれにしても、第1のアライメントマーク1aと
第2のアライメントマーク7aとは、ほぼ対応する位置
に形成されていることが好ましい。また、保持基板23
の貫通孔23aは、第1のアライメントマーク1a及び
第2のアライメントマーク7aの位置と対応する部位に
形成されている。
【0032】以下、前述したアライメント装置を用いて
行なうアライメント方法について説明する。
【0033】まず、予め、プローブシート7の第2のア
ライメントマーク7aが保持基板23の貫通孔23aを
通してCCDカメラ27により認識できる位置に、検査
用基板4の配線基板5を保持基板23に保持させてお
く。
【0034】次に、図4に示すように、半導体ウエハ1
の第1のアライメントマーク1aが保持基板23の貫通
孔23aを通してCCDカメラ27により認識できるよ
うに、半導体ウエハ1をウエハトレイ10の上に配置す
る。つまり、第1のアライメントマーク1aと第2のア
ライメントマーク7aとが平面的に互いに近傍に位置す
るように、半導体ウエハ1をウエハトレイ10の上に配
置する。前述したように、プローブシート7及び異方導
電性ゴムシート9は光透過性であるから、半導体ウエハ
1の第1のアライメントマーク1aを保持基板23の貫
通孔23aを通してCCDカメラ27により認識するこ
とができる。
【0035】尚、第1のアライメントマーク1aと第2
のアライメントマーク7aとが平面的に互いに近傍に位
置していないときには、X・Yテーブル22をX軸方向
及びY軸方向にそれぞれ移動して、第1のアライメント
マーク1aと第2のアライメントマーク7aとが平面的
に互いに近傍に位置するようにしてもよい。
【0036】次に、半導体ウエハ1がプローブシート7
に対して接触しない範囲で接近するように、Z・θテー
ブル21を上方へ移動する。
【0037】次に、平面的に互いに近傍に位置する第1
のアライメントマーク1a及び第2のアライメントマー
ク7aを各CCDカメラ27により保持基板23の貫通
孔23aを通してそれぞれ認識した後、第1のアライメ
ントマーク1aの映像及び第2のアライメントマーク7
aの映像を取り込む。
【0038】次に、各CCDカメラ27に取り込まれた
第1のアライメントマーク1aの映像と第2のアライメ
ントマーク7aの映像とが互いに重なるような、Z軸方
向の移動量、θ方向の角度、X軸方向の移動量及びY軸
方向の移動量をそれぞれ演算した後、第1のアライメン
トマーク1aの映像と第2のアライメントマーク7aの
映像とが互いに重なるように、Z・θテーブル21をZ
軸方向に所定量だけ移動し且つθ方向に所定の角度だけ
傾斜すると共に、X・Yテーブル22をX軸方向及びY
軸方向に所定量だけ移動する。
【0039】本発明の一実施形態によると、第1のアラ
イメントマーク1aが第2のアライメントマーク7bの
近傍に位置するように半導体ウエハ1を移動させた後
に、第1のアライメントマーク1a及び第2のアライメ
ントマーク7bの映像を取り込むため、予め半導体ウエ
ハとプローブシートとの相対位置を計測しておく必要が
なくない。
【0040】また、互いに近傍に位置する第1のアライ
メントマーク1a及び第2のアライメントマーク7aの
各映像を同一のCCDカメラ27に取り込むため、半導
体ウエハ1の映像とプローブシート7の映像との間に誤
差が生じ難くなる。
【0041】さらに、同一のCCDカメラ27に取り込
まれた半導体ウエハ1の映像及びプローブシート7の映
像に基づいて、半導体ウエハ1を移動させるため、移動
量の演算上の誤差が生じ難くなる。
【0042】
【発明の効果】本発明に係るアライメント装置又はアラ
イメント方法によると、予め半導体ウエハとプローブシ
ートとの相対位置を計測しておく必要がなくなるため、
アライメント工程の簡略化及び高速化が可能になるの
で、半導体ウエハ上に形成された複数の半導体集積回路
素子の電気的特性をウェハ状態で一括して検査する検査
工程の効率が向上する。
【0043】また、半導体ウエハの映像及びプローブシ
ートの映像が同一の光学装置に取り込まれるため、半導
体ウエハの映像とプローブシートの映像との間に誤差が
生じ難くなると共に、同一の光学装置に取り込まれた半
導体ウエハ及びプローブシートの各映像に基づいて半導
体ウエハを移動させるため、移動量の演算上の誤差が生
じ難くなるので、半導体ウエハに形成されている検査用
電極とプローブシートに設けられているプローブ端子と
の位置合わせを、例えば±3μm程度の高精度で行なう
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るアライメント装置及
びアライメント方法を説明する図である。
【図2】(a)は本発明の一実施形態に係るアライメン
ト装置における保持基板の平面図であり、(b)は本発
明の一実施形態に係るアライメント方法を示す断面図で
ある。
【図3】(a)は本発明の一実施形態に係るアライメン
ト装置及びアライメント方法に用いる半導体ウエハの平
面図であり、(b)は本発明の一実施形態に係るアライ
メント装置及びアライメント方法に用いるプローブシー
トの平面図である。
【図4】本発明の一実施形態に係るアライメント方法の
一工程を示す平面図である。
【図5】従来及び本発明の一実施形態に係るアライメン
ト装置及びアライメント方法の対象となる半導体集積回
路の検査装置の断面図である。
【図6】従来及び本発明の一実施形態に係るアライメン
ト装置及びアライメント方法の対象となる半導体集積回
路の検査装置の要部拡大断面図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ 1a 第1のアライメントマーク 2 検査用電極 3 パッシベーション膜 4 検査用基板 5 配線基板 5a 配線層 5b コネクタ 6 剛性リング 7 プローブシート 7a 第2のアライメントマーク 8 プローブ端子 9 異方導電性ゴムシート 10 ウエハトレイ 10a ウエハ保持部 11 シール部材 12 凹状溝 13 連通路 14 減圧バルブ 15 減圧供給路 16 真空ポンプ 17 検査装置 18 密封空間 21 Z・θテーブル 22 X・Yテーブル 23 保持基板 23a 貫通孔 25 装置本体 26 カメラ保持アーム 27 CCDカメラ 27a レンズ
フロントページの続き (72)発明者 中山 知之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 2G011 AA16 AA21 AB06 AB08 AC06 AC14 AE03 2G032 AA00 AF02 AF04 AL03 4M106 AA01 BA01 BA14 CA70 DD03 DD09 DD10 DD13 DG26 DJ03 DJ04 DJ05 DJ06 DJ07 5F031 CA02 JA04 JA38 JA50 MA33 9A001 BB06 KK31

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 検査用電極を有する複数の半導体集積回
    路素子が形成されている半導体ウエハに設けられた第1
    のアライメントマークと、前記検査用電極と対応する位
    置にプローブ端子を有する光透過性のプローブシートに
    設けられた第2のアライメントマークとを位置合わせす
    るためのアライメント装置であって、 前記第1のアライメントマーク及び第2のアライメント
    マークと対応する位置に貫通孔を有しており、前記プロ
    ーブシートを保持する保持基板と、 前記半導体ウエハを上下方向へ移動させる上下方向移動
    手段と、 前記半導体ウエハを水平方向へ移動させる水平方向移動
    手段と、 平面的に互いに近傍に位置する前記第1のアライメント
    マーク及び第2のアライメントマークの各映像を前記保
    持基板の貫通孔を通して取り込む光学装置と、 前記光学装置に取り込まれた前記第1のアライメントマ
    ーク及び第2のアライメントマークの各映像に基づき、
    前記第1のアライメントマークと前記第2のアライメン
    トマークとが重なるように、前記水平方向移動手段が前
    記半導体ウエハを水平方向へ移動させる移動量及び前記
    上下方向移動手段が前記半導体ウエハを上下方向へ移動
    させる移動量を演算する演算手段とを備えていることを
    特徴とするアライメント装置。
  2. 【請求項2】 検査用電極を有する複数の半導体集積回
    路素子が形成されている半導体ウエハに設けられた第1
    のアライメントマークと、前記検査用電極と対応する位
    置にプローブ端子を有する光透過性のプローブシートに
    設けられた第2のアライメントマークとを位置合わせす
    るアライメント方法であって、 前記プローブシートを、前記第1のアライメントマーク
    及び第2のアライメントマークと対応する位置に貫通孔
    を有する保持基板に、前記第2のアライメントマークが
    前記貫通孔と対向するように保持する工程と、 前記第1のアライメントマークが前記第2のアライメン
    トマークに対して平面的に近傍に位置するように、前記
    半導体ウエハを配置する工程と、 平面的に互いに近傍に位置する前記第1のアライメント
    マーク及び第2のアライメントマークの各映像を前記保
    持基板の貫通孔を通して光学装置に取り込む工程と、 前記光学装置に取り込まれた前記第1のアライメントマ
    ーク及び第2のアライメントマークの各映像に基づき、
    前記第1のアライメントマークと前記第2のアライメン
    トマークとが重なるように、前記半導体ウエハを水平方
    向及び上下方向へ移動させる工程とを備えていることを
    特徴とするアライメント方法。
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