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JP2000162628A - 液晶表示素子 - Google Patents

液晶表示素子

Info

Publication number
JP2000162628A
JP2000162628A JP10335436A JP33543698A JP2000162628A JP 2000162628 A JP2000162628 A JP 2000162628A JP 10335436 A JP10335436 A JP 10335436A JP 33543698 A JP33543698 A JP 33543698A JP 2000162628 A JP2000162628 A JP 2000162628A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
conductive wire
data input
conductor
difference
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10335436A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Miyata
慎一 宮田
Satoru Shinsenji
哲 秦泉寺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP10335436A priority Critical patent/JP2000162628A/ja
Publication of JP2000162628A publication Critical patent/JP2000162628A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示素子において、各画素ラインとデー
タ入力端子間を接続する導線電極部において、封止シー
ルと密着する部分の導線電極密度差を小さくし、表示む
らを軽減すること。 【解決手段】 液晶基板内に形成される画素ラインL1
〜LNと、液晶基板縁部に形成されるデータ入力端子T
1〜LNとを、導線電極Q1〜QNで結合する。各導線
電極Q1〜QNの抵抗値を均一にするため、中央部に位
置する導線電極Qの一部のパターンを細線18にする。
そして導線電極密度をほぼ一定にするため、細線18の
横にダミー細線19を設ける。こうすると導線電極密度
差が小さくなり、封止シール領域16で基板間のギャッ
プ差が少なくなるので、液晶表示素子としての表示不良
率を少なくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、導線電極のパター
ンとその配列方法に特徴を有する液晶表示素子に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶表示素子は、大容量化、高速
応答化、大量生産化へ向けて開発が進んでいる。さら
に、携帯端末のディスプレイとして表示容量を保ちつ
つ、小型化を実現させるための技術開発がなされてい
る。特にSTN型液晶表示素子では、一対の液晶基板に
対して、短冊状の電極を上下左右に交差させるように配
置して、マトリクス状の画素を形成する。そして各画素
又は画素ラインとデータ入力端子の間に導線電極を形成
することにより、外部回路(駆動回路)と接続する。こ
のとき、導線電極の抵抗値は、夫々のデータ入力端子に
対して一定値になるよう均一化させる必要がある。これ
は、導線電極の抵抗値が不均一であれば、各画素ごとに
供給電圧差が生じ、それによって表示むらが発生するか
らである。
【0003】従来の液晶表示素子におけるデータ入力端
子と導線電極の配列状態及びそのパターンを図2に示
す。一方の液晶基板には、x軸方向にM本の画素ライン
が形成され、他方の液晶基板には、y軸方向にN本の画
素ラインLが形成されている。今、図2に示すように画
素ラインLが形成された液晶基板に注目し、画素ライン
L1,L2,・・Ln・・LNがピッチPで形成されて
いるとする。またこの液晶基板の端部には、N個のデー
タ入力端子T1,T2・・Tn・・TNがピッチp(p
<P)で設けられ、各画素ラインLがデータ入力端子T
に対して導線電極Qで接続されている。画素ラインL
1,L2,・・Ln・・LNに接続される導線電極を夫
々Q1,Q2・・Qn・・QNとすると、導線電極Q
1,Q2・・Qn・・QNのパターンはその位置に応じ
て異なる。
【0004】図2に示す液晶基板において、導線電極Q
が形成される部分を導線電極領域21と呼び、y軸方向
に沿った長さをbとする。導線電極領域21の一部であ
って、液晶基板の縁部に沿った位置に封止シール領域2
6が設けられている。封止シール領域26のy軸方向に
沿った幅cは、導線電極領域21の幅bの1/2程度で
あり、シール材を塗布して硬化することにより、2枚の
液晶基板間で液晶を封止している。この部分での導線電
極Qのパターン(形状)に関して、左端の導線電極Q1
は、一様な幅Dを有する斜線状に形成されている。しか
し左端から中心部に近づくと、導線電極Qのパターン
は、幅Dを有する斜めのパターンと、幅d1(d1<
D)なるy軸に平行な細いパターンとが接続されたもの
となる。
【0005】データ入力端子Tの最大ライン番号をNと
し、ライン番号n(n=1〜N)のデータ入力端子をT
nとすると、ライン番号nの導線電極Qnの電極抵抗値
R(n)は次のように計算される。
【0006】導線電極の抵抗値Rは、一般的には導線電
極のシート抵抗値をrとし、線幅をdとし、線長をlと
すると、R=(l/d)×rとして表される。ここでは
導線電極Qは、線幅d1の導線と、線幅Dの導線の直列
抵抗体である。線幅d1部分での抵抗値をR(d1)と
し、線幅D部分での抵抗値をR(D)とすると、全体の
抵抗値R(n)は、R(n)=R(d1)+R(D)と
なる。ライン番号nの線幅D部分の線長をx(n)とす
ると、D部分のy軸に平行な成分a(n)は、(1.
1)式で与えられる。
【数1】 これより線長x(n)は、3平方の定理より、(1.
2)式のようになる。
【数2】 また抵抗値R(D)は以下のようになる。 R(D)=(x(n)/D)×r 更にライン番号nの線幅d1部分の線長は、b−a
(n)となり、その抵抗値は、次の式で示される。 R(d1)=(b−a(n))/d1×r よって全体の抵抗値R(n)は(1.3)式のようにな
る。
【数3】
【0007】ここで、導線電極Qの抵抗値の最大値をR
MAX とし、導線電極Qの抵抗値の最小値をRMIN とする
と、導線電極Qの抵抗値差ΔRは次の(2)式で定義さ
れる。
【数4】
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ここで、導線電極Qの
配列密度を、ある幅でx軸方向に沿った導線電極Qのあ
る部分と無い部分の面積比で定義し、この値を導線電極
密度Sで表現する。上記のような従来の液晶表示素子の
構成では、導線電極Qは、画素ラインとデータ入力端子
T間を接続する部分の抵抗値を一定値に均一化させるよ
う、所定の形状にパターン化されている。このため、導
線電極密度Sが一定値とならない。これは、端子番号n
が異なる導線電極Qでは、長さに違いがあるため、同一
の線幅では導線電極Qの抵抗値を均一化をすることがで
きないためである。周知のとおり、各データ入力端子T
ごとの導線電極Qの導線電極密度差が大きい場合、封止
シール領域内の導線電極密度が一定にならないため、そ
の密度差により液晶基板間にギャップ差が生じる。そし
て、このギャップ差に起因して液晶表示素子としての表
示不良を起こすことがあるという欠点があった。
【0009】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたものであって、導線電極の抵抗値の均一化を
行い、且つ多数に配列された導線電極密度差を小さくす
ることにより、表示品位の良い液晶表示素子を実現する
ことを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願の請求項1の発明は、一対の液晶基板の間に液
晶が狭持され、前記一対の液晶基板の外周部が封止シー
ルにより封止された液晶表示素子であって、前記一対の
液晶基板のうち、少なくとも一方の液晶基板の表示部に
ピッチPで線状に形成されたN本の画素ラインと、前記
液晶基板に縁部にピッチp(p<P)で形成され、外部
回路と接続するためのN個のデータ入力端子と、前記画
素ラインと前記データ入力端子とを、対応ライン毎に接
続するN個の導線電極と、を具備し、前記封止シールの
塗布領域に位置する前記N個の導線電極の配列密度を導
線電極密度Sとするとき、導線電極密度Sの最大値と最
小値の差である導線電極密度差ΔSを5%以内にしたこ
とを特徴とするものである。
【0011】本願の請求項2の発明は、一対の液晶基板
の間に液晶が狭持され、前記一対の液晶基板の外周部が
封止シールにより封止された液晶表示素子であって、前
記一対の液晶基板のうち、少なくとも一方の液晶基板の
表示部にピッチPで線状に形成されたN本の画素ライン
と、前記液晶基板に縁部にピッチp(p<P)で形成さ
れ、外部回路と接続するためのN個のデータ入力端子
と、前記画素ラインと前記データ入力端子とを、対応ラ
イン毎に接続するN個の導線電極と、を具備し、前記封
止シールの塗布領域に位置する各導線電極Qi(i=1
〜N)に対して、隣接導線電極との間隙部に前記導線電
極Qiと平行に、前記データ入力端子Ti(i=1〜
N)と前記画素ラインLi(i=1〜N)との接続抵抗
に寄与しない線状のダミー細線qiを前記導線電極Qi
の一部としてパターン化して形成し、前記封止シールの
塗布領域に位置する前記N個の導線電極の配列密度を導
線電極密度Sとするとき、導線電極密度Sの最大値と最
小値の差である導線電極密度差ΔSを5%以内にしたこ
とを特徴とするものである。
【0012】
【発明の実施の形態】(実施の形態1)本発明の実施の
形態1における液晶表示素子について図面を参照しつつ
説明する。図2に示す封止シール領域26での導線電極
密度S(n)について考える。ライン番号nの線幅d1
を有する部分の導線長さのうち、封止シール領域26に
かかる導線長さl1(n)は、(3.1)式で与えられ
る。
【数5】 尚、(3.1)式のa(n)の値は、(1.1)式に示
すものと同一である。
【0013】画素ラインLのピッチをPとし、データ入
力端子Tのピッチをpとすると、導線電極Qのy軸に対
する傾斜角φは、次の(3.2)式のようになる。
【数6】
【0014】更に、ライン番号nの線幅Dを有する部分
の導線長さのうち、封止シール領域26にかかる導線長
さをL1(n)とすると、導線電極密度S(n)は次の
ように考えることができる。即ち、封止シール領域26
の線幅面積は、線幅d1の導線面積と線幅Dの導線面積
との和である。面積密度パラメータである導線電極密度
S(n)は、前述した導線面積に導線ピッチのパラメー
タを付加したものとなる。そのため線幅d1の導線面積
をそのピッチpで除算し、線幅Dの導線面積をそのピッ
チPで除算する。そして各除算値を加算し、その加算値
を封止シール領域26の幅cで除算することにより、
(3.3)式のような導線電極密度S(n)が得られ
る。
【数7】
【0015】このように導線電極密度S(n)は、線幅
だけではなく、ピッチをパラメータとして付加している
ことが重要な意味をなす。尚、ここでも導線電極の幅d
1及びDはnの関数であるが、簡略化のため定値として
ある。但し、封止シール領域26の導線電極Qの幅D及
びd1は、封止シール内の線幅密度を均一化させる構成
をとっている。導線電極密度S(n)の制御は、導線電
極幅d1、Dの最適化によって行う。本実施の形態の場
合、導線電極密度差を緩和させるために、導線電極Qの
抵抗値差ΔRの値を犠牲にし、ギャップ差のよる表示不
良を抑えるようにしている。
【0016】導線電極密度S(n)の最大値をSMAX
し、最小値をSMIN とすると、封止シール領域26の導
線電極Qの導線電極密度差ΔS(%)は、次の(4)式
で表される。
【数8】 図3は、抵抗値差ΔRを約40%とした場合、導線電極
密度差ΔSと表示不良率との関係を経験的に示したグラ
フである。(4)式の値は、0に近いほどより好ましい
が、図3の特性からΔSを5%以下に抑えることで、表
示不良率を1%以下に抑えることができる。また図4
は、導線電極密度差ΔSを1.97%にした場合の、抵
抗値差ΔRと表示不良率との関係を経験的に示したグラ
フである。この特性からも、表示不良率を1%以下にす
るには、抵抗値差ΔRを40%以下にすればよいことが
判る。
【0017】(実施の形態2)次に本発明の実施の形態
2における液晶表示素子について、図1を参照しつつ説
明する。図2の場合と同様に本実施の形態の液晶基板に
は、画素ラインL1,L2,・・Ln・・LNがピッチ
Pで形成され、液晶基板の端部には、N個のデータ入力
端子T1,T2・・Tn・・TNがピッチp(p<P)
で設けられている。そして、各画素ラインLがデータ入
力端子Tに対して導線電極Qで接続されている。画素ラ
インL1,L2,・・Ln・・LNに接続される導線電
極をQ1,Q2・・Qn・・QNとすると、導線電極Q
1,Q2・・Qn・・QNのパターンは図2に示すもの
と異なる。
【0018】導線電極Qが形成される部分を導線電極領
域11と呼び、y軸方向に沿った長さをbとする。導線
電極領域11の一部であって、液晶基板の縁部に沿った
位置に封止シール領域16が設けられている。封止シー
ル領域16のy軸方向に沿った幅cは、導線電極領域2
1の幅bの1/2程度であり、シール材を塗布して硬化
することにより、2枚の液晶基板間で液晶を封止してい
る。この部分での導線電極Qのパターン(形状)に関し
て、左端の導線電極Q1は、一様な幅Dを有する斜線状
に形成されている。しかし左端から中心部に近づくと、
導線電極Qのパターンは、幅Dを有する斜線17と、幅
d1(d1<D)のy軸に平行な細線18と、幅d2の
y軸に平行なダミー細線19とが接続されたものとな
る。
【0019】細線18とダミー細線19は、y軸方向の
長さが等しく、それらの付け根部で斜線17と結合され
る。夫々の細線18は、対応するデータ入力端子Tに接
続されている。データ入力端子Tの最大ライン番号をN
とし、ライン番号n(n=1〜N)のデータ入力端子を
Tnとすると、ライン番号nの導線電極Qnの電極抵抗
値R(n)は、前述した(1.3)式で表される。この
ダミー細線19は外部回路に接続されていないため、導
線電極Qの抵抗値には寄与しない。従ってこの液晶表示
素子の導線電極Qnの抵抗値R(n)は、(1.3)式
と同じ値になる。
【0020】またこの導線電極Qnの封止シール領域1
6での導線電極密度S(n)は、次の(5)式で表され
る。
【数9】 ここでkはダミー細線19の本数である。また(5)式
中のl1(n)は(3.1)式、a(n)は(1.1)
式、φは(3.2)式と夫々同一である。また上記構成
において、導線電極の幅d1,D,d2はnの関数であ
るが、簡略化のため定値となっている。また、封止シー
ル領域16の導線電極幅d1,D,d2は、封止シール
領域16内の導線電極密度を均一化させる構成となって
いる。ここで封止シール領域16における導線電極密度
差ΔSは、前述した(4)式で表される。
【0021】導線電極密度差ΔSは、0に近いほど好ま
しいが、図3のグラフに示されるように、5%以下に抑
えることで、不良率を1%以下に抑えることができる。
尚、このように本実施の形態では、ダミー細線19を設
けることにより、ΔR値とΔS値との制御を両立させて
いるのが特徴である。
【0022】
【実施例】(実施例1)次に実施の形態1を具体化した
実施例1について説明する。データ入力端子Tと、これ
に対応する画素ラインとを接続する導線電極領域11の
幅bを2.3855mmとした。またデータ入力端子T
の最大ライン番号Nを240とした。またデータ入力端
子Tのラインピッチpを0.065mmとし、画素ライ
ンLのピッチPを0.1025mmとした。そして封止
シール領域26の幅cを1.500mmとし、ライン番
号nの導線電極Qの幅d1を0.050mmとし、ライ
ン番号nの導線電極Qの幅Dを0.038mmとした。
更に導線電極Qのシート抵抗値rを7Ωとした。
【0023】この実施例では、導線電極Qによる抵抗値
差ΔRは、(2)式により64.02%となった。また
導線電極密度差ΔSは1.97%となった。これによっ
て、従来構成では10%以上の確率で発生していた表示
不良を、本実施例では5%以下にすることができた。
【0024】(実施例2)次に本実施の形態2を具体化
した実施例2について説明する。図1の導線電極領域1
1の幅bを2.3855mmとした。そしてデータ入力
端子Tの最大ライン番号Nを240とした。またデータ
入力端子Tのラインピッチpを0.065mmとし、画
素ラインLのピッチPを0.1025mmとした。また
封止シール領域16の幅cを1.500mmとし、ライ
ン番号nの細線18の導線電極幅d1を0.030mm
とし、導線電極幅Dを0.038mmとした。更にダミ
ー細線19の導線電極幅d2を0.010mmとした。
尚、導線電極Qのシート抵抗値rは7Ωとした。
【0025】この例での導線電極Qによる抵抗値差ΔR
は、(2)式により40.31%となり、導線電極密度
差ΔSは、1.97%となった。これによって、従来構
成では10%以上の確率で発生していた表示不良を、本
実施例では1%以下にすることができた。
【0026】以上の液晶表示素子では、一対の基板のう
ち、y軸方向にN本の画素ラインLが形成されている液
晶基板について説明したが、x軸方向にM本の画素ライ
ンが形成されている液晶基板についても、同様の構成を
取るものとする。この場合は、データ入力端子、導線電
極の各総数Mを、Nに置き換えて解釈するものとする。
【0027】
【発明の効果】このように請求項1記載の発明によれ
ば、導線電極の抵抗値差を抑えつつ、封止シールと密着
する領域の導線電極密度差を5%以内にすることによっ
て、液晶表示素子の表示品位を向上させることができ
る。
【0028】さらに請求項2記載の発明によれば、導線
電極の抵抗値差を抑えつつ、更にダミー電極の設置によ
って、封止シールと密着する領域の導線電極密度差を5
%以内にすることで、より表示品位を向上させることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態2による液晶表示素子にお
いて、導線電極部のパターンとその配列方法を示す平面
図である。
【図2】従来例及び本発明の実施の形態1による液晶表
示素子において、導線電極部のパターンとその配列方法
を示す平面図である。
【図3】導線電極密度差ΔSと表示不良率の関係を示す
特性図である。
【図4】導線電極の抵抗値差ΔRと表示不良率の関係を
示す特性図である。
【符号の説明】
11,21 導線電極領域 16,26 封止シール領域 17 斜線 18 細線 19 ダミー細線 L,L1〜LN 画素ライン Q,Q1〜Qn〜QN 導線電極 T,T1〜Tn〜TN データ入力端子 d1,d2,D 線幅

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の液晶基板の間に液晶が狭持され、
    前記一対の液晶基板の外周部が封止シールにより封止さ
    れた液晶表示素子であって、 前記一対の液晶基板のうち、少なくとも一方の液晶基板
    の表示部にピッチPで線状に形成されたN本の画素ライ
    ンと、 前記液晶基板の縁部にピッチp(p<P)で形成され、
    外部回路と接続するためのN個のデータ入力端子と、 前記画素ラインと前記データ入力端子とを、対応ライン
    毎に接続するN個の導線電極と、を具備し、 前記封止シールの塗布領域に位置する前記N個の導線電
    極の配列密度を導線電極密度Sとするとき、導線電極密
    度Sの最大値と最小値の差である導線電極密度差ΔSを
    5%以内にしたことを特徴とする液晶表示素子。
  2. 【請求項2】 一対の液晶基板の間に液晶が狭持され、
    前記一対の液晶基板の外周部が封止シールにより封止さ
    れた液晶表示素子であって、 前記一対の液晶基板のうち、少なくとも一方の液晶基板
    の表示部にピッチPで線状に形成されたN本の画素ライ
    ンと、 前記液晶基板の縁部にピッチp(p<P)で形成され、
    外部回路と接続するためのN個のデータ入力端子と、 前記画素ラインと前記データ入力端子とを、対応ライン
    毎に接続するN個の導線電極と、を具備し、 前記封止シールの塗布領域に位置する各導線電極Qi
    (i=1〜N)に対して、隣接導線電極との間隙部に前
    記導線電極Qiと平行に、前記データ入力端子Ti(i
    =1〜N)と前記画素ラインLi(i=1〜N)との接
    続抵抗に寄与しない線状のダミー細線qiを前記導線電
    極Qiの一部としてパターン化して形成し、前記封止シ
    ールの塗布領域に位置する前記N個の導線電極の配列密
    度を導線電極密度Sとするとき、導線電極密度Sの最大
    値と最小値の差である導線電極密度差ΔSを5%以内に
    したことを特徴とする液晶表示素子。
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