JP2000154303A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
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- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims abstract description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims abstract description 17
- -1 imidazolin compound Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 9
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 17
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 abstract description 3
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005007 epoxy-phenolic resin Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- SSUJUUNLZQVZMO-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,8,9,10,10a-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCC=CN2CCCNC21 SSUJUUNLZQVZMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1Br QSSXJPIWXQTSIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVPYRTGRGVYXSR-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-4,5-dihydroimidazole Chemical compound CCCCCCCCCCN1CCN=C1 RVPYRTGRGVYXSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NCCN1 QUPKCFBHJFNUEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHYARJUKNREDGB-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCC1=NCC(C)N1 SHYARJUKNREDGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCVGSSQICKMAIA-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NCCN1 NCVGSSQICKMAIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC1=NCCN1 VWSLLSXLURJCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1CCN=C1C1=CC=CC=C1 BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CC(C)C1=NCCN1 BTYIFQSAIPDZQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJUVAPMVTXLLFR-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1C(C)CN=C1C1=CC=CC=C1 JJUVAPMVTXLLFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWPDAKSNPWIZOX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-undecyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NCC(C)N1 YWPDAKSNPWIZOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- CAYGQBVSOZLICD-UHFFFAOYSA-N hexabromobenzene Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br CAYGQBVSOZLICD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- DIHAURBCYGTGCV-UHFFFAOYSA-N xi-4,5-Dihydro-2,4(5)-dimethyl-1H-imidazole Chemical compound CC1CN=C(C)N1 DIHAURBCYGTGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、半導体封止材料として有用なエポ
キシ樹脂組成物の硬化速度を速めると共に、絶縁性不良
や回路の腐蝕の原因となる塩素イオン等の発生を抑制す
る。 【解決手段】 エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促
進剤としてエポキシ化合物にイミダゾリン化合物を反応
させて得られるエポキシ樹脂付加物及び無機質充填剤を
必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して前記の硬化促
進剤を0.002〜2.0重量%の割合で配合する。
キシ樹脂組成物の硬化速度を速めると共に、絶縁性不良
や回路の腐蝕の原因となる塩素イオン等の発生を抑制す
る。 【解決手段】 エポキシ樹脂、フェノール樹脂、硬化促
進剤としてエポキシ化合物にイミダゾリン化合物を反応
させて得られるエポキシ樹脂付加物及び無機質充填剤を
必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して前記の硬化促
進剤を0.002〜2.0重量%の割合で配合する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、硬化性に優れ、硬
化物中に塩素イオン等のイオン性不純物の発生が少ない
半導体封止材用エポキシ樹脂組成物に関するものであ
る。
化物中に塩素イオン等のイオン性不純物の発生が少ない
半導体封止材用エポキシ樹脂組成物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の封止はエポキシ樹脂による
トランスファ成形が一般的であり、なかでもノボラック
型エポキシ樹脂とノボラック型フェノール樹脂を使用す
る系が主流である。この場合の硬化促進剤としてはトリ
フェニルホスフィン、2−メチルイミダゾールあるいは
1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン(D
BU)が使用されることが多い。このような半導体封止
材用エポキシ樹脂組成物に対しては、生産性向上の点か
ら成形工程の短縮化、すなわち速硬化性が求められてい
る。また、同硬化物に対しては、絶縁性不良や回路の腐
蝕の原因となる塩素イオン等のイオン性不純物が少ない
ことが求められている。
トランスファ成形が一般的であり、なかでもノボラック
型エポキシ樹脂とノボラック型フェノール樹脂を使用す
る系が主流である。この場合の硬化促進剤としてはトリ
フェニルホスフィン、2−メチルイミダゾールあるいは
1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン(D
BU)が使用されることが多い。このような半導体封止
材用エポキシ樹脂組成物に対しては、生産性向上の点か
ら成形工程の短縮化、すなわち速硬化性が求められてい
る。また、同硬化物に対しては、絶縁性不良や回路の腐
蝕の原因となる塩素イオン等のイオン性不純物が少ない
ことが求められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のノボラック型エ
ポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール
等のフェノール樹脂、トリフェニルホスフィン、2−メ
チルイミダゾールあるいはDBU等の硬化促進剤、及び
無機質充填剤からなるエポキシ樹脂組成物は、硬化速度
が満足しうる状態にあるとは言えず、さらに硬化物中の
塩素イオン等のイオン性不純物が多く、絶縁性不良によ
るリーク電流や回路の腐蝕による断線を生じるという欠
点があった。硬化速度の向上の点に関しては主に硬化促
進剤について、またイオン性不純物低減に関してはエポ
キシ樹脂、フェノール樹脂及び硬化促進剤について検討
がなされている。
ポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、ノボラック型フェノール
等のフェノール樹脂、トリフェニルホスフィン、2−メ
チルイミダゾールあるいはDBU等の硬化促進剤、及び
無機質充填剤からなるエポキシ樹脂組成物は、硬化速度
が満足しうる状態にあるとは言えず、さらに硬化物中の
塩素イオン等のイオン性不純物が多く、絶縁性不良によ
るリーク電流や回路の腐蝕による断線を生じるという欠
点があった。硬化速度の向上の点に関しては主に硬化促
進剤について、またイオン性不純物低減に関してはエポ
キシ樹脂、フェノール樹脂及び硬化促進剤について検討
がなされている。
【0004】例えば、硬化促進剤としてトリアルキルホ
スフィンのテトラフェニルボレートを用いることによ
り、硬化性を向上させようとするものが特開昭62−1
49721号公報、また、特定の組成のエポキシ樹脂組
成物を用いて、硬化物の信頼性を向上させようとするも
のが特開平8−245762号公報に開示されている
が、必ずしも満足し得る状態に改善されたとはいえな
い。本発明は、硬化性に優れ、且つ信頼性の点から有害
な塩素イオン等のイオン性不純物の発生が少ない硬化物
を与え得る、半導体封止材用途として有用なエポキシ樹
脂組成物を提供するものである。
スフィンのテトラフェニルボレートを用いることによ
り、硬化性を向上させようとするものが特開昭62−1
49721号公報、また、特定の組成のエポキシ樹脂組
成物を用いて、硬化物の信頼性を向上させようとするも
のが特開平8−245762号公報に開示されている
が、必ずしも満足し得る状態に改善されたとはいえな
い。本発明は、硬化性に優れ、且つ信頼性の点から有害
な塩素イオン等のイオン性不純物の発生が少ない硬化物
を与え得る、半導体封止材用途として有用なエポキシ樹
脂組成物を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定の硬化促
進剤を用いることによって、硬化性に優れ、且つ硬化物
中に塩素イオン等のイオン性不純物の発生量が少ないエ
ポキシ樹脂組成物が得られることを見い出し、本発明を
完成したものである。
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定の硬化促
進剤を用いることによって、硬化性に優れ、且つ硬化物
中に塩素イオン等のイオン性不純物の発生量が少ないエ
ポキシ樹脂組成物が得られることを見い出し、本発明を
完成したものである。
【0006】すなわち、本発明のエポキシ樹脂組成物
は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、
(C)硬化促進剤としてエポキシ化合物にイミダゾリン
化合物を反応させて得られるエポキシ樹脂付加物、及び
(D)無機質充填剤を必須成分とし、全体の樹脂組成物
に対して前記(C)の硬化促進剤を0.002〜2.0
重量%の割合で配合したことを特徴とするものである。
は、(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、
(C)硬化促進剤としてエポキシ化合物にイミダゾリン
化合物を反応させて得られるエポキシ樹脂付加物、及び
(D)無機質充填剤を必須成分とし、全体の樹脂組成物
に対して前記(C)の硬化促進剤を0.002〜2.0
重量%の割合で配合したことを特徴とするものである。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明において使用される(A)
エポキシ樹脂は、一般にエポキシ樹脂として使用されて
いるものであれば、特に差し支えはない。エポキシ樹脂
としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシ
ジルアミン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、ハロゲン
化エポキシ樹脂等の1分子中にエポキシ基を2個以上有
するエポキシ樹脂があげられ、これからなる群より選ば
れる1種もしくは2種以上のものが使用される。上記エ
ポキシ樹脂は、塩素イオンの含有量が0.1重量%以下
のものであることが好ましい。また、エポキシ樹脂とし
ては、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂を使用するこ
とが好ましく、とりわけ、エポキシ当量170〜300
を有するノボラック型エポキシ樹脂を使用することによ
って、優れた特性を有する硬化物が得られる。
エポキシ樹脂は、一般にエポキシ樹脂として使用されて
いるものであれば、特に差し支えはない。エポキシ樹脂
としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシ
ジルアミン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、
脂環式エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂、ハロゲン
化エポキシ樹脂等の1分子中にエポキシ基を2個以上有
するエポキシ樹脂があげられ、これからなる群より選ば
れる1種もしくは2種以上のものが使用される。上記エ
ポキシ樹脂は、塩素イオンの含有量が0.1重量%以下
のものであることが好ましい。また、エポキシ樹脂とし
ては、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂を使用するこ
とが好ましく、とりわけ、エポキシ当量170〜300
を有するノボラック型エポキシ樹脂を使用することによ
って、優れた特性を有する硬化物が得られる。
【0008】本発明において使用される(B)フェノー
ル樹脂は、一般にフェノール樹脂として使用されている
ものであればいかなるものでもよいが、ノボラック型フ
ェノール樹脂を使用することが好ましい。ノボラック型
フェノール樹脂としては、例えば、フェノールノボラッ
ク樹脂、クレゾールノボラック樹脂、tert―ブチル
フェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラッ
ク樹脂などがあげられ、これから選ばれた1種、もしく
は2種以上のものが使用される。フェノール樹脂の配合
量は,エポキシ樹脂のエポキシ基当量との関係から適宣
選択することが望ましく、エポキシ基に対するフェノー
ル性水酸基の当量比が0.5〜1.5の範囲内にあるこ
とが好ましい。当量比が0.5未満、あるいは1.5を
超えると反応が充分進行せず、硬化物の特性が低下す
る。
ル樹脂は、一般にフェノール樹脂として使用されている
ものであればいかなるものでもよいが、ノボラック型フ
ェノール樹脂を使用することが好ましい。ノボラック型
フェノール樹脂としては、例えば、フェノールノボラッ
ク樹脂、クレゾールノボラック樹脂、tert―ブチル
フェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラッ
ク樹脂などがあげられ、これから選ばれた1種、もしく
は2種以上のものが使用される。フェノール樹脂の配合
量は,エポキシ樹脂のエポキシ基当量との関係から適宣
選択することが望ましく、エポキシ基に対するフェノー
ル性水酸基の当量比が0.5〜1.5の範囲内にあるこ
とが好ましい。当量比が0.5未満、あるいは1.5を
超えると反応が充分進行せず、硬化物の特性が低下す
る。
【0009】本発明において使用される(C)硬化促進
剤は、イミダゾリン化合物とエポキシ樹脂を付加反応さ
せたのち、得られたエポキシアダクトを粉砕することに
よって調製することができる。その際に使用されるイミ
ダゾリン化合物の代表的なものとしては、2−メチルイ
ミダゾリン、2、4−ジメチルイミダゾリン、2−エチ
ルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリ
ン、2−イソプロピルイミダゾリン、2−ウンデシルイ
ミダゾリン、2−ウンデシル−4−メチルイミダゾリ
ン、2−ヘプタデシルイミダゾリン、2−フェニルイミ
ダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等が
挙げられる。これらは単独または2種以上を混合して使
用することができる。また、本発明の実施に当たっては
前記硬化促進剤とDBU等のアミン化合物やトリフェニ
ルホスフィン等のリン化合物を併用しても差し支えな
い。
剤は、イミダゾリン化合物とエポキシ樹脂を付加反応さ
せたのち、得られたエポキシアダクトを粉砕することに
よって調製することができる。その際に使用されるイミ
ダゾリン化合物の代表的なものとしては、2−メチルイ
ミダゾリン、2、4−ジメチルイミダゾリン、2−エチ
ルイミダゾリン、2−エチル−4−メチルイミダゾリ
ン、2−イソプロピルイミダゾリン、2−ウンデシルイ
ミダゾリン、2−ウンデシル−4−メチルイミダゾリ
ン、2−ヘプタデシルイミダゾリン、2−フェニルイミ
ダゾリン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等が
挙げられる。これらは単独または2種以上を混合して使
用することができる。また、本発明の実施に当たっては
前記硬化促進剤とDBU等のアミン化合物やトリフェニ
ルホスフィン等のリン化合物を併用しても差し支えな
い。
【0010】この硬化促進剤の配合割合は、全体の樹脂
組成物に対して0.002〜2.0重量%の範囲内にす
べきである。硬化促進剤の配合割合が0.002重量%
未満では硬化に時間がかかり過ぎて実用に適さず、また
2.0重量%を超えると硬化物中に塩素イオンが多量に
生成したり、硬化物の耐湿安定性が低下するなど硬化物
の物性が低下する。
組成物に対して0.002〜2.0重量%の範囲内にす
べきである。硬化促進剤の配合割合が0.002重量%
未満では硬化に時間がかかり過ぎて実用に適さず、また
2.0重量%を超えると硬化物中に塩素イオンが多量に
生成したり、硬化物の耐湿安定性が低下するなど硬化物
の物性が低下する。
【0011】本発明において使用される(D)無機質充
填剤としては、例えば、石英ガラス粉末、結晶性シリカ
粉末、ガラス繊維、タルク、アルミナ粉末、珪酸カルシ
ウム粉末、炭酸カルシウム粉末、硫酸バリウム粉末、マ
グネシア粉末などがあげられ、これから成る群より選ば
れる1種もしくは2種以上のものが使用される。これら
のうちで、石英ガラス粉末、結晶性シリカ粉末を用いる
ことが、高純度及び低熱膨張係数を有することから好ま
しい。
填剤としては、例えば、石英ガラス粉末、結晶性シリカ
粉末、ガラス繊維、タルク、アルミナ粉末、珪酸カルシ
ウム粉末、炭酸カルシウム粉末、硫酸バリウム粉末、マ
グネシア粉末などがあげられ、これから成る群より選ば
れる1種もしくは2種以上のものが使用される。これら
のうちで、石英ガラス粉末、結晶性シリカ粉末を用いる
ことが、高純度及び低熱膨張係数を有することから好ま
しい。
【0012】このような無機質充填剤の配合量は、使用
するエポキシ樹脂、フェノール樹脂及び無機質充填剤の
種類によって適宣選択する必要があるが、例えば、トラ
ンスファ成形に使用する場合には、エポキシ樹脂及びフ
ェノール樹脂の総量に対し、重量比で1.5〜4倍程度
が好ましい。また、無機質充填剤の粒径は、適宣選択し
て使用すればよく、粒子の粗いものと細かいものを組み
合わせて混合することにより、成形性を改善できる。
するエポキシ樹脂、フェノール樹脂及び無機質充填剤の
種類によって適宣選択する必要があるが、例えば、トラ
ンスファ成形に使用する場合には、エポキシ樹脂及びフ
ェノール樹脂の総量に対し、重量比で1.5〜4倍程度
が好ましい。また、無機質充填剤の粒径は、適宣選択し
て使用すればよく、粒子の粗いものと細かいものを組み
合わせて混合することにより、成形性を改善できる。
【0013】本発明のエポキシ樹脂組成物は、(A)エ
ポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)硬化促進剤
としてエポキシ化合物にイミダゾリン化合物を反応させ
て得られるエポキシ樹脂付加物及び(D)無機質充填剤
を必須成分とするが、必要に応じてこれらの外に少量の
天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属
塩、酸アミド類、エステル類、パラフィン類などの離型
剤、塩素化パラフィン、ブロムトルエン、ヘキサブロム
ベンゼン、三酸化アンチモンなどの難燃剤及びシランカ
ップリング剤などを適宣に添加したものであってもよ
い。
ポキシ樹脂、(B)フェノール樹脂、(C)硬化促進剤
としてエポキシ化合物にイミダゾリン化合物を反応させ
て得られるエポキシ樹脂付加物及び(D)無機質充填剤
を必須成分とするが、必要に応じてこれらの外に少量の
天然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属
塩、酸アミド類、エステル類、パラフィン類などの離型
剤、塩素化パラフィン、ブロムトルエン、ヘキサブロム
ベンゼン、三酸化アンチモンなどの難燃剤及びシランカ
ップリング剤などを適宣に添加したものであってもよ
い。
【0014】本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記の各
成分から通常の方法を用いて調製することができる。例
えば、所定の配合量の各成分をミキサー等で混合後、加
熱ロール、ニーダーまたは押出機によって溶融混合し、
ついで冷却固化させ適当な大きさに粉砕して成形材料を
得ることができる。
成分から通常の方法を用いて調製することができる。例
えば、所定の配合量の各成分をミキサー等で混合後、加
熱ロール、ニーダーまたは押出機によって溶融混合し、
ついで冷却固化させ適当な大きさに粉砕して成形材料を
得ることができる。
【0015】
【実施例】以下、実施例及び比較例により、本発明を更
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限さ
れるものではない。なお、各例中の組成割合はいずれも
重量部で表したものである。
に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限さ
れるものではない。なお、各例中の組成割合はいずれも
重量部で表したものである。
【0016】〔実施例1〜8、比較例1〜5〕表1に示
すイミダゾリン化合物とエポキシ樹脂を当量比1:1で
メチルエチルケトンに溶解したのち、3時間の加熱還流
を行い、次いで溶媒を減圧留去し固形ないしアメ状のエ
ポキシアダクトを得た。
すイミダゾリン化合物とエポキシ樹脂を当量比1:1で
メチルエチルケトンに溶解したのち、3時間の加熱還流
を行い、次いで溶媒を減圧留去し固形ないしアメ状のエ
ポキシアダクトを得た。
【0017】
【表1】
【0018】
【表2】 表3に示した配合組成に従って、各成分を室温で混合
し、さらに95〜100℃で混練冷却した後、粉砕して
エポキシ樹脂組成物を調製した。
し、さらに95〜100℃で混練冷却した後、粉砕して
エポキシ樹脂組成物を調製した。
【0019】
【表3】
【0020】エポキシ樹脂としてノボラック型エポキシ
樹脂(エポキシ当量190)、フェノール樹脂としてノ
ボラック型フェノール樹脂(水酸基当量117)、無機
質充填剤として溶融シリカ粉末を用いた。比較例1〜3
では硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、DB
U、2−メチルイミダゾールを使用した。比較例4及び
5では、実施例1で用いた硬化促進剤をエポキシ樹脂組
成物100重量部に対し、夫々2.2重量%及び0.0
016重量%配合している。
樹脂(エポキシ当量190)、フェノール樹脂としてノ
ボラック型フェノール樹脂(水酸基当量117)、無機
質充填剤として溶融シリカ粉末を用いた。比較例1〜3
では硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、DB
U、2−メチルイミダゾールを使用した。比較例4及び
5では、実施例1で用いた硬化促進剤をエポキシ樹脂組
成物100重量部に対し、夫々2.2重量%及び0.0
016重量%配合している。
【0021】これらのエポキシ樹脂組成物について、ゲ
ル化時間及び硬化物中のイオン性不純物量を測定したと
ころ、その結果は表4に示したとおりであった。なお、
ゲル化時間及び硬化物中のイオン性不純物量の測定は以
下の方法により行った。 (イ)ゲル化時間 実施例及び比較例のエポキシ樹脂組成物の硬化性を熱板
ゲル化法(150℃)により測定した。 (ロ)硬化物中のイオン性不純物量 実施例及び比較例のエポキシ樹脂組成物を、170℃で
5時間加熱硬化させて成形体を得た。成形体を粉砕した
後、60メッシュの篩で分級し、通過した粉末4gを蒸
留水15gと共にテフロン性の高圧容器(容量25m
l)に入れて加熱し(180℃で20時間)、成形体中
のイオン性不純分の抽出を行った。このようにして得ら
れた抽出水について電気伝導度及びイオンクロマトグラ
フィー法で塩素イオン量を測定した。
ル化時間及び硬化物中のイオン性不純物量を測定したと
ころ、その結果は表4に示したとおりであった。なお、
ゲル化時間及び硬化物中のイオン性不純物量の測定は以
下の方法により行った。 (イ)ゲル化時間 実施例及び比較例のエポキシ樹脂組成物の硬化性を熱板
ゲル化法(150℃)により測定した。 (ロ)硬化物中のイオン性不純物量 実施例及び比較例のエポキシ樹脂組成物を、170℃で
5時間加熱硬化させて成形体を得た。成形体を粉砕した
後、60メッシュの篩で分級し、通過した粉末4gを蒸
留水15gと共にテフロン性の高圧容器(容量25m
l)に入れて加熱し(180℃で20時間)、成形体中
のイオン性不純分の抽出を行った。このようにして得ら
れた抽出水について電気伝導度及びイオンクロマトグラ
フィー法で塩素イオン量を測定した。
【0022】
【表4】
【0023】
【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化性
に優れ、且つ塩素イオン等のイオン性不純物の発生が少
ない硬化物を与えるので、半導体封止材用エポキシ樹脂
として使用上の効果は多大である。
に優れ、且つ塩素イオン等のイオン性不純物の発生が少
ない硬化物を与えるので、半導体封止材用エポキシ樹脂
として使用上の効果は多大である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 23/31 Fターム(参考) 4J002 CC04X CC05X CD01W CD02W CD05W CD06W CD08W CD12W CD13W CD133 CD203 DE076 DE146 DE236 DG046 DJ006 DJ016 DJ046 DL006 FA046 FD016 FD130 FD14X FD153 FD160 GJ02 GQ00 4J036 AA02 AD08 AF01 AF06 AG00 AH00 DA05 DC41 FA02 FA04 FA05 FA06 FB07 JA07 4M109 AA01 BA01 CA21 EA02 EB03 EB04 EB06 EB07 EB08 EB09 EB12 EB19 EC01 EC20
Claims (1)
- 【請求項1】(A)エポキシ樹脂、(B)フェノール樹
脂、(C)硬化促進剤としてエポキシ化合物にイミダゾ
リン化合物を反応させて得られるエポキシ樹脂付加物及
び(D)無機質充填剤を必須成分とし、全体の樹脂組成
物に対して前記(C)の硬化促進剤を0.002〜2.
0重量%の割合で配合したことを特徴とするエポキシ樹
脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10331582A JP2000154303A (ja) | 1998-11-20 | 1998-11-20 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10331582A JP2000154303A (ja) | 1998-11-20 | 1998-11-20 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000154303A true JP2000154303A (ja) | 2000-06-06 |
Family
ID=18245274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10331582A Pending JP2000154303A (ja) | 1998-11-20 | 1998-11-20 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000154303A (ja) |
-
1998
- 1998-11-20 JP JP10331582A patent/JP2000154303A/ja active Pending
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