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JP2000147215A - Lenticular lens sheet and its production - Google Patents

Lenticular lens sheet and its production

Info

Publication number
JP2000147215A
JP2000147215A JP10317991A JP31799198A JP2000147215A JP 2000147215 A JP2000147215 A JP 2000147215A JP 10317991 A JP10317991 A JP 10317991A JP 31799198 A JP31799198 A JP 31799198A JP 2000147215 A JP2000147215 A JP 2000147215A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
layer
region
entering
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10317991A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Yamashita
下 禎 之 山
Kunpei Oda
田 訓 平 織
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP10317991A priority Critical patent/JP2000147215A/en
Publication of JP2000147215A publication Critical patent/JP2000147215A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a lenticular lens sheet capable of ensuring good contrast and diffusing property by forming an accurate light absorption layer whose registration is matching fine pitch light incident lenses. SOLUTION: The lenticular lens sheet 20 has a film substrate 21, plural light incident lenses 22 arranged on the light incident side of the substrate 21 and black stripes 23 disposed over part of the surface of the substrate 21 of the light emergent side avoiding the light converging regions of the light incident lenses 22. A positive type resist layer comprising a light shielding positive type resist material is formed on the light emergent side of the surface of the substrate 21, exposed to the light coming from the incident side of the substrate 21 through the light incident lenses 22 and developed to form the black stripes 23. Light diffusion stripes 26 are disposed over the light converging regions of the light incident lenses 22 on the light emergent side of the substrate 21 so that the stripes 26 abut on the black stripes 23.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は背面投射型プロジェ
クションテレビ等で用いられる透過型スクリーンを構成
するレンチキュラーレンズシートに係り、とりわけ出光
側の表面にストライプ状の遮光パターン(ブラックスト
ライプ)が設けられたレンチキュラーレンズシートおよ
びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lenticular lens sheet constituting a transmissive screen used in a rear projection type projection television or the like, and in particular, a light-shielding pattern (black stripe) in the form of a stripe is provided on the light emitting side surface. The present invention relates to a lenticular lens sheet and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、赤、緑および青の3本のCR
T(Cathode Ray Tube)からなる光源と、この光源から
の画像を投影するための透過型スクリーンとを備えた背
面投射型プロジェクションテレビが知られており、この
うち透過型スクリーンとしては一般に、フレネルレンズ
シートとレンチキュラーレンズシートとを組み合わせた
ものが用いられている。ここで、このようなレンチキュ
ラーレンズシートとしては、入光側に複数の入光レンズ
が設けられたフィルム状の基材(以下「フィルム基材」
ともいう)の出光側の表面のうち各入光レンズの集光領
域以外の領域にブラックストライプが設けられたものが
一般的に用いられており、このブラックストライプによ
り光を広範囲に拡散させるとともに外光の影響を低減さ
せてコントラストを向上させることができるようになっ
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, three CRs of red, green and blue have been used.
2. Description of the Related Art A rear-projection projection television including a light source composed of a T (Cathode Ray Tube) and a transmissive screen for projecting an image from the light source is known. Of these, a transmissive screen is generally a Fresnel lens A combination of a sheet and a lenticular lens sheet is used. Here, as such a lenticular lens sheet, a film-shaped substrate provided with a plurality of light-entering lenses on the light-entering side (hereinafter, “film substrate”)
In general, a black stripe is provided in a region other than the converging region of each light-entering lens on the light-emitting side of the light-exiting side. The contrast can be improved by reducing the influence of light.

【0003】ところで、このようなプロジェクションテ
レビにおいては、CRTの代わりにLCD(Liquid Cry
stal Display)やDMD(Digital Micro-mirror Devic
e)等の光源を用いたものも開発されており、データプ
ロジェクタやコンピュータ用モニタ、デジタルテレビ放
送等の分野で広く用いられるようになってきている。し
かしながら、光源としてLCDやDMD等を用いたプロ
ジェクションテレビにおいては、LCDやDMD等のセ
ル構造に起因する格子パターンが透過型スクリーン上に
投影されるので、周期的な構造を有するレンチキュラー
レンズシート上に画像を投影して観察すると、レンチキ
ュラーレンズシートのサンプリング効果によりモアレが
発生する可能性がある。
In such a projection television, instead of a CRT, an LCD (Liquid Cry) is used.
stal Display) and DMD (Digital Micro-mirror Devic)
Light sources using light sources such as e) have also been developed and are being widely used in fields such as data projectors, computer monitors, and digital television broadcasting. However, in a projection television using an LCD, a DMD, or the like as a light source, a lattice pattern due to a cell structure of the LCD, a DMD, or the like is projected on a transmission screen, so that the light is projected on a lenticular lens sheet having a periodic structure. When an image is projected and observed, moire may occur due to the sampling effect of the lenticular lens sheet.

【0004】このため、光源としてLCDやDMD等を
用いたプロジェクションテレビにおいては、モアレの発
生を効果的に低減するため、従来において一般的に用い
られていた0.6〜1.0mmのレンズピッチのレンチ
キュラーレンズシートに代わって、0.2mm以下の小
さなレンズピッチのレンチキュラーレンズシートが必要
とされるようになってきている。なお、上述したような
レンチキュラーレンズシートにおいては、レンズピッチ
が小さくなるにつれてフィルム基材の出光側の表面に設
けられるブラックストライプのピッチも小さくなる。
For this reason, in a projection television using an LCD, a DMD, or the like as a light source, a lens pitch of 0.6 to 1.0 mm, which has been generally used in the past, is used in order to effectively reduce the occurrence of moire. In place of the lenticular lens sheet, a lenticular lens sheet having a small lens pitch of 0.2 mm or less has been required. In the lenticular lens sheet described above, as the lens pitch decreases, the pitch of the black stripe provided on the light-emitting side surface of the film substrate also decreases.

【0005】ところで、このようなレンズピッチの小さ
いレンチキュラーレンズシートにおいては、上述したよ
うなピッチの小さいブラックストライプを形成する方法
として、レンチキュラーレンズシートの出光側の表面に
直接ブラックストライプのパターンを印刷する方法に加
えて、フォトリソグラフィ法を用いて、フィルム基材の
入光側に設けられた各入光レンズを介してフィルム基材
の出光側の表面に形成されたレジスト材料(レジスト
層)を露光および現像することによりブラックストライ
プの高精細なパターンを形成する方法が広く用いられる
ようになってきている。
In such a lenticular lens sheet having a small lens pitch, as a method of forming a black stripe having a small pitch as described above, a black stripe pattern is printed directly on the light-emitting side surface of the lenticular lens sheet. In addition to the method, using a photolithography method, the resist material (resist layer) formed on the light emitting side surface of the film substrate is exposed through each light incident lens provided on the light incident side of the film substrate. In addition, a method of forming a high-definition pattern of a black stripe by developing has been widely used.

【0006】また、このようなレンチキュラーレンズシ
ートにおいては、シンチレーションと呼ばれる映像のち
らつきを防止するためにレンチキュラーレンズシートに
対して何らかの拡散特性を付与する必要があるが、この
ための方法としては例えば、レンチキュラーレンズシー
トのフィルム基材全体に拡散剤を混入させる方法の他、
レンチキュラーレンズシートの一部として所定厚の光拡
散層を設ける方法が提案されている。なお、ゲインの低
下や解像度の低下等を防止するという観点から、現状で
は後者の方法がより広く用いられるようになってきてい
る。
In such a lenticular lens sheet, it is necessary to impart some diffusion characteristics to the lenticular lens sheet in order to prevent the image flicker called scintillation. Other than the method of mixing a diffusing agent into the entire film substrate of the lenticular lens sheet,
A method of providing a light diffusion layer having a predetermined thickness as a part of a lenticular lens sheet has been proposed. From the viewpoint of preventing a decrease in gain, a decrease in resolution, and the like, the latter method has been widely used at present.

【0007】このような状況において、所定厚の光拡散
層を備えたレンチキュラーレンズシートにおいて、その
出光側の表面に設けられたレジスト層をフィルム基材の
入光側から露光および現像してブラックストライプのパ
ターンを形成するための各種の方法が提案されている
(特開平2−135431号公報、特開平9−2695
46号公報、特開平9−120101号公報および特開
平10−83029号公報参照)。
In such a situation, in a lenticular lens sheet provided with a light diffusion layer having a predetermined thickness, a resist layer provided on the light-emitting side is exposed and developed from the light-entering side of the film substrate to form a black stripe. There have been proposed various methods for forming the above-mentioned pattern (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-135431 and 9-2695).
46, JP-A-9-120101 and JP-A-10-83029.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の方法のうち、上記特開平2−135431号公
報および上記特開平9−269546号公報に記載され
た方法では、レンチキュラーレンズシートにおいてレジ
スト層の内側に光拡散層が存在するので、露光工程にて
フィルム基材の入光側から平行光を照射してレジスト層
を露光すると、レジスト層の内側に設けられた光拡散層
にて平行光が拡散してしまい、ブラックストライプのパ
ターンが均一とならず、このためファインピッチ化され
た各入光レンズとレジストレーションの合った正確なブ
ラックストライプを形成することができないという問題
がある。
However, of the above-mentioned conventional methods, the methods described in JP-A-2-135431 and JP-A-9-269546 disclose a method for forming a resist layer on a lenticular lens sheet. Since the light diffusion layer exists on the inside, when the resist layer is exposed by irradiating parallel light from the light incident side of the film substrate in the exposure step, the parallel light is emitted by the light diffusion layer provided inside the resist layer. As a result, the pattern of the black stripe is not uniform, and therefore, there is a problem that an accurate black stripe matching the registration with each of the finely pitched light-entering lenses cannot be formed.

【0009】一方、上記特開平9−120101号公報
および上記特開平10−83029号公報に記載された
方法では、レンチキュラーレンズシートにおいてレジス
ト層の外側に光拡散層が形成されているので、上記特開
平2−135431号公報および上記特開平9−269
546号公報に記載された方法のような問題は生じない
が、フィルム基材の出光側に設けられたブラックストラ
イプ上に光拡散層が直接形成されているので、コントラ
ストが低下するという問題がある。
On the other hand, in the methods described in JP-A-9-120101 and JP-A-10-83029, the light diffusion layer is formed outside the resist layer in the lenticular lens sheet. JP-A-2-135431 and JP-A-9-269.
No problem as in the method described in Japanese Patent No. 546 is produced, but there is a problem that the contrast is reduced because the light diffusion layer is directly formed on the black stripe provided on the light exit side of the film substrate. .

【0010】本発明はこのような点を考慮してなされた
ものであり、ファインピッチ化された各入光レンズとレ
ジストレーションの合った正確な光吸収層が形成される
とともに、良好なコントラストおよび拡散特性を得るこ
とができるレンチキュラーレンズシートおよびその製造
方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and an accurate light absorption layer which is registered with each of the finely pitched light-entering lenses is formed. An object of the present invention is to provide a lenticular lens sheet capable of obtaining diffusion characteristics and a method for manufacturing the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の特徴は、
フィルム状の基材と、前記基材の入光側に設けられた複
数の入光レンズと、前記基材の出光側の表面のうち前記
各入光レンズの集光領域以外の領域に設けられた光吸収
層と、前記基材の出光側の表面のうち前記各入光レンズ
の集光領域にて前記光吸収層と隣接するようにして設け
られた光拡散層とを備えたことを特徴とするレンチキュ
ラーレンズシートである。
A first feature of the present invention is as follows.
A film-shaped base, a plurality of light-entering lenses provided on the light-entering side of the base, and a light-exiting surface provided on the light-exiting side of the base other than the converging area of each light-entering lens. Light absorbing layer, and a light diffusion layer provided so as to be adjacent to the light absorbing layer in the condensing area of each of the light incident lenses on the light exit side surface of the base material. Is a lenticular lens sheet.

【0012】本発明の第2の特徴は、入光側に複数の入
光レンズが設けられたフィルム状の基材の出光側の表面
に遮光性のポジ型レジスト層を形成する工程と、前記各
入光レンズを介して前記基材の入光側から前記ポジ型レ
ジスト層を露光する工程と、前記ポジ型レジスト層を現
像して前記ポジ型レジスト層のうち露光領域のポジ型レ
ジスト材料を除去するとともに未露光領域のポジ型レジ
スト材料を残すことにより前記基材の出光側の表面のう
ち前記各入光レンズの集光領域以外の領域に光吸収層を
形成する工程と、ポジ型レジスト材料が除去された前記
露光領域に対して拡散剤が混入された樹脂を塗布するこ
とにより前記基材の出光側の表面のうち前記各入光レン
ズの集光領域に光拡散層を形成する工程とを含むことを
特徴とするレンチキュラーレンズシートの製造方法であ
る。
A second feature of the present invention is that a light-shielding positive type resist layer is formed on a light-emitting side surface of a film-like substrate provided with a plurality of light-entering lenses on a light-entering side; Exposing the positive resist layer from the light incident side of the base material through each light incident lens, and developing the positive resist layer to form a positive resist material in an exposed region of the positive resist layer. Forming a light-absorbing layer in a region other than the converging region of each of the light-entering lenses on the light-emitting side surface of the substrate by removing and leaving a positive resist material in an unexposed region; Forming a light diffusion layer in the light-collecting area of each light-entering lens on the light-emitting side surface of the substrate by applying a resin mixed with a diffusing agent to the exposed area from which the material has been removed; And a wrench characterized by including A Interview color lens sheet manufacturing method of.

【0013】本発明の第3の特徴は、入光側に複数の入
光レンズが設けられたフィルム状の基材の出光側の表面
に透光性のポジ型レジスト層を形成する工程と、前記各
入光レンズを介して前記基材の入光側から前記ポジ型レ
ジスト層を露光する工程と、前記ポジ型レジスト層を現
像して前記ポジ型レジスト層のうち露光領域のポジ型レ
ジスト材料を除去するとともに未露光領域のポジ型レジ
スト材料を突出部として残す工程と、前記突出部上に着
色インキを塗布することにより前記基材の出光側の表面
のうち前記各入光レンズの集光領域以外の領域に光吸収
層を形成する工程と、ポジ型レジスト材料が除去された
前記露光領域に対して拡散剤が混入された樹脂を塗布す
ることにより前記基材の出光側の表面のうち前記各入光
レンズの集光領域に光拡散層を形成する工程とを含むこ
とを特徴とするレンチキュラーレンズシートの製造方法
である。
[0013] A third feature of the present invention is that a light-transmitting positive resist layer is formed on a light-emitting side surface of a film-like substrate provided with a plurality of light-entering lenses on a light-entering side; Exposing the positive resist layer from the light incident side of the substrate through each of the light incident lenses, and developing the positive resist layer to form a positive resist material in an exposed region of the positive resist layer Removing the positive resist material in the unexposed areas as protrusions, and applying a colored ink on the protrusions to collect the light-receiving lenses of the light-emitting lenses on the light-emitting side surface of the base material. Forming a light absorbing layer in a region other than the region, and applying a resin mixed with a diffusing agent to the exposed region from which the positive resist material has been removed. Focusing area of each of the light incident lenses A method for producing a lenticular lens sheet, which comprises a step of forming a light diffusion layer.

【0014】本発明の第4の特徴は、入光側に複数の入
光レンズが設けられたフィルム状の基材の出光側の表面
にネガ型レジスト層を形成する工程と、前記各入光レン
ズを介して前記基材の入光側から前記ネガ型レジスト層
を露光する工程と、前記ネガ型レジスト層を現像するこ
とにより前記ネガ型レジスト層のうち未露光領域のネガ
型レジスト材料を除去する工程と、ネガ型レジスト材料
が除去された前記未露光領域に対して着色インキを塗布
することにより前記基材の出光側の表面のうち前記各入
光レンズの集光領域以外の領域に光吸収層を形成する工
程と、ネガ型レジスト材料が除去されずに前記露光領域
に残されたネガ型レジスト層を除去して前記基材の出光
側の表面を露出させる工程と、ネガ型レジスト材料が除
去された前記露光領域に対して拡散剤が混入された樹脂
を塗布することにより前記基材の出光側の表面のうち前
記各入光レンズの集光領域に光拡散層を形成する工程と
を含むことを特徴とするレンチキュラーレンズシートの
製造方法である。
A fourth feature of the present invention is that a negative resist layer is formed on a light-emitting side surface of a film-like substrate provided with a plurality of light-entering lenses on a light-entering side; Exposing the negative resist layer from the light incident side of the substrate via a lens, and removing the negative resist material in the unexposed areas of the negative resist layer by developing the negative resist layer And applying a colored ink to the unexposed areas from which the negative resist material has been removed, so that light is emitted to areas other than the light-collecting areas of the light-entering lenses on the light-emitting side surface of the base material. Forming an absorption layer, removing the negative resist layer left in the exposed region without removing the negative resist material, and exposing the light emitting side surface of the base material, The exposure in which is removed Forming a light diffusion layer in the light condensing area of each of the light incident lenses on the light emitting side surface of the base material by applying a resin mixed with a diffusing agent to the region. This is a method for producing a lenticular lens sheet.

【0015】本発明の第1乃至第4の特徴によれば、フ
ィルム状の基材の出光側の表面に光吸収層を形成した
後、この光吸収層が形成された基材の出光側の表面のう
ち各入光レンズの集光領域にて光吸収層と隣接するよう
にして光拡散層を設けるようにしたので、レジスト層の
露光および現像を光拡散層を介在させることなく行うこ
とができ、また光吸収層上に直接光拡散層が設けられる
ことがない。このため、ファインピッチ化された各入光
レンズとレジストレーションの合った正確な光吸収層が
形成されるとともに、良好なコントラストおよび拡散特
性を得ることができるレンチキュラーレンズシートを得
ることができる。
According to the first to fourth features of the present invention, after a light absorbing layer is formed on the light emitting side surface of a film-shaped substrate, the light emitting side of the substrate on which the light absorbing layer is formed is formed. Since the light diffusion layer is provided so as to be adjacent to the light absorption layer in the condensing area of each light incident lens on the surface, exposure and development of the resist layer can be performed without interposing the light diffusion layer. No light diffusion layer is provided directly on the light absorption layer. For this reason, it is possible to form a lenticular lens sheet that can form an accurate light absorption layer that is registered with each of the finely pitched light-entering lenses and that has good contrast and diffusion characteristics.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1乃至図3は本発明によ
るレンチキュラーレンズシートおよびその製造方法の一
実施の形態を説明するための図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 3 are views for explaining an embodiment of a lenticular lens sheet and a method of manufacturing the same according to the present invention.

【0017】まず、図1により、本実施の形態に係るレ
ンチキュラーレンズシートについて説明する。
First, a lenticular lens sheet according to the present embodiment will be described with reference to FIG.

【0018】図1に示すように、レンチキュラーレンズ
シート20は、フィルム状の基材(以下「フィルム基
材」という)21と、フィルム基材21の入光側に設け
られた複数の入光レンズ22と、フィルム基材21の出
光側の表面のうち各入光レンズ21の集光領域以外の領
域に設けられたブラックストライプ(光吸収層)23と
を備えている。このうちブラックストライプ23は、フ
ィルム基材21の出光側の表面に形成された遮光性のポ
ジ型レジスト材料からなるポジ型レジスト層を、各入光
レンズ22を介してフィルム基材21の入光側から露光
および現像することにより形成することができる。すな
わち、ブラックストライプ23は、各入光レンズ22の
集光領域にてフィルム基材21の出光側の表面を露出さ
せるとともに、各入光レンズ22の集光領域以外の領域
にてポジ型レジスト材料を遮光性の突出部として残すこ
とにより形成することができる。
As shown in FIG. 1, the lenticular lens sheet 20 includes a film-shaped base (hereinafter referred to as a “film base”) 21 and a plurality of light-entering lenses provided on the light-entering side of the film base 21. 22 and a black stripe (light absorbing layer) 23 provided in a region other than the converging region of each light incident lens 21 on the light exit side surface of the film substrate 21. Among them, the black stripe 23 is formed by a light-shielding positive resist layer formed of a light-shielding positive resist material formed on the light-emitting side surface of the film It can be formed by exposing and developing from the side. That is, the black stripe 23 exposes the light-emitting side surface of the film substrate 21 in the light-converging region of each light-entering lens 22, and the positive resist material in the region other than the light-converging region of each light-entering lens 22. Is left as a light-shielding projection.

【0019】また、フィルム基材21の出光側の表面の
うち各入光レンズ22の集光領域にはブラックストライ
プ23と隣接するようにして光拡散層26が設けられて
いる。なお、光拡散層26は、ポジ型レジスト材料が除
去された露光領域に対して拡散剤が混入された樹脂をワ
イピング法等により塗布することにより形成することが
できる。
A light diffusion layer 26 is provided in the light condensing area of each light incident lens 22 on the light exit side surface of the film substrate 21 so as to be adjacent to the black stripe 23. The light diffusion layer 26 can be formed by applying a resin mixed with a diffusing agent to an exposed region from which the positive resist material has been removed by a wiping method or the like.

【0020】図2は図1に示すレンチキュラーレンズシ
ートの一変形例を示す図である。図2に示すように、ブ
ラックストライプ23および光拡散層26上には透明な
粘着層25をラミネート加工またはコーティング加工等
により形成し、この粘着層25を介して所定厚の板基材
30をラミネート加工するようにするとよい。また、板
基材30の出光側の表面(観察側表面)には反射防止
層、低反射層、傷つき防止層(ハードコート層)、帯電
防止層、防眩層(アンチグレアー層)、汚染防止層、偏
光フィルタ層、電磁波シールド層、およびタッチセンサ
機能層等の表面処理層31を設けるようにするとよい。
FIG. 2 is a view showing a modification of the lenticular lens sheet shown in FIG. As shown in FIG. 2, a transparent adhesive layer 25 is formed on the black stripe 23 and the light diffusion layer 26 by laminating or coating, and a plate substrate 30 having a predetermined thickness is laminated via the adhesive layer 25. It is good to process. In addition, an anti-reflection layer, a low-reflection layer, an anti-scratch layer (hard coat layer), an anti-static layer, an anti-glare layer (anti-glare layer), and contamination prevention are provided on the light-emitting side (observation-side surface) of the plate substrate 30. It is preferable to provide a surface treatment layer 31 such as a layer, a polarization filter layer, an electromagnetic wave shielding layer, and a touch sensor functional layer.

【0021】次に、図3により、このような構成からな
る本実施の形態に係るレンチキュラーレンズシートの製
造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the lenticular lens sheet according to the present embodiment having such a configuration will be described with reference to FIG.

【0022】まず、工程(A)において、塗工ユニット
4により成型ロール3のロール面上に放射線硬化性樹脂
を塗布し、この放射線硬化性樹脂が塗布された成型ロー
ル3に対してニップロール5を用いて、給紙ロール2か
ら供給されたフィルム基材21をニップする。その後、
フィルム基材21の表面(放射線硬化性樹脂が塗布され
た面)が成型ロール3に当接している間に、放射線ラン
プ6により、フィルム基材21の裏面側から放射線を照
射して放射線硬化性樹脂を硬化させ、フィルム基材21
の入光側の表面に複数の入光レンズ22を成形する。な
お、このようにして入光レンズ22が成形されたフィル
ム基材21は、離型ロール7により成型ロール3から離
型され、次工程へ搬送される。
First, in the step (A), a radiation curable resin is applied on the roll surface of the molding roll 3 by the coating unit 4, and the nip roll 5 is applied to the molding roll 3 coated with the radiation curable resin. Then, the film substrate 21 supplied from the paper feed roll 2 is nipped. afterwards,
While the surface of the film substrate 21 (the surface on which the radiation-curable resin is applied) is in contact with the molding roll 3, the radiation lamp 6 irradiates radiation from the back side of the film substrate 21 to produce radiation-curable resin. The resin is cured, and the film substrate 21 is cured.
A plurality of light incident lenses 22 are formed on the light incident side surface of. The film substrate 21 on which the light-entering lens 22 is formed in this manner is released from the molding roll 3 by the release roll 7, and is conveyed to the next step.

【0023】次に、工程(B)において、入光レンズ2
2が成形されたフィルム基材21の出光側の表面に対し
て、給紙ロール10により供給された遮光性のポジ型レ
ジスト用ドライフィルム23′を押圧ロール11により
ラミネート加工し、フィルム基材21の出光側の表面に
ポジ型レジスト層を形成する。なお、ポジ型レジスト用
ドライフィルム23′の裏面に貼り合わされたピールP
ET(ポリエチレンテレフタレート)23″は剥離ロー
ル12により剥離された後、排紙ロール13により排出
される。
Next, in the step (B), the light incident lens 2
The light-shielding positive resist dry film 23 ′ supplied by the paper feed roll 10 is laminated on the light-emitting side surface of the film base 21 on which the molded base 2 has been formed by the pressing roll 11, and the film base 21 is formed. A positive-type resist layer is formed on the light-emitting side of the substrate. The peel P adhered to the back surface of the positive resist dry film 23 'was used.
The ET (polyethylene terephthalate) 23 ″ is released by the release roll 12 and then discharged by the paper discharge roll 13.

【0024】そして、この工程(B)において、露光装
置14から出射された露光光線(平行光)をフィルム基
材21に対して照射し、フィルム基材21の入光側に設
けられた各入光レンズ22を介してフィルム基材21の
出光側の表面に形成されたポジ型レジスト層を露光す
る。
Then, in this step (B), the exposure light (parallel light) emitted from the exposure device 14 is irradiated on the film substrate 21, and each of the light incident on the light incident side of the film substrate 21 is provided. The positive type resist layer formed on the light emitting side surface of the film substrate 21 is exposed through the optical lens 22.

【0025】その後、工程(C)において、現像・水洗
ユニット15により、フィルム基材21の出光側の表面
に設けられた露光済みのポジ型レジスト層を現像し、次
いで、現像済みのポジ型レジスト層のうち露光領域(未
硬化領域)のポジ型レジスト材料を洗浄して除去した
後、乾燥ユニット16により乾燥させる。これにより、
未露光領域(硬化領域)のポジ型レジスト材料のみが遮
光性の突出部として残され、フィルム基材21の出光側
の表面のうち各入光レンズ22の集光領域以外の領域に
ブラックストライプ23が形成される。
Thereafter, in the step (C), the exposed positive resist layer provided on the light-emitting side surface of the film substrate 21 is developed by the developing / washing unit 15, and then the developed positive resist layer is developed. The positive resist material in the exposed area (uncured area) of the layer is washed and removed, and then dried by the drying unit 16. This allows
Only the positive resist material in the unexposed area (cured area) is left as a light-blocking projection, and the black stripe 23 is formed on the light-emitting side surface of the film substrate 21 in a region other than the converging region of each light-entering lens 22. Is formed.

【0026】そして、工程(D)において、このように
してブラックストライプ23が形成されたフィルム基材
21の出光側の表面に対して、拡散樹脂塗工ユニット1
7により拡散剤が混入された樹脂を塗布し、ワイピング
加工を施して乾燥ユニット18により乾燥させることに
より、フィルム基材21の出光側の表面のうちブラック
ストライプ23をなす突出部の間の領域(各入光レンズ
22の集光領域)に光拡散層26を形成する。
In the step (D), the diffusion resin coating unit 1 is applied to the light emitting side surface of the film substrate 21 on which the black stripes 23 are formed in this manner.
7 is applied with a resin mixed with a diffusing agent, subjected to wiping processing, and dried by the drying unit 18, so that the area between the projections forming the black stripes 23 on the light emitting side surface of the film substrate 21 ( The light diffusion layer 26 is formed on the light converging region of each light incident lens 22).

【0027】そして最後に、このようにして入光レンズ
22、ブラックストライプ23および光拡散層26が形
成されたフィルム基材21が排紙ロール19により巻き
取られ、図1に示すようなレンチキュラーレンズシート
20が得られる。
Finally, the film substrate 21 on which the light incident lens 22, the black stripe 23 and the light diffusion layer 26 are formed is wound up by the paper discharge roll 19, and the lenticular lens as shown in FIG. A sheet 20 is obtained.

【0028】なお、図2に示すレンチキュラーレンズシ
ート20を得る場合には、工程(D)に続いて、フィル
ム基材21の出光側の表面に形成されたブラックストラ
イプ23および光拡散層26上に透明な粘着層25をラ
ミネート加工またはコーティング加工等により形成する
とともに、この粘着層25上に所定厚の板基材30をラ
ミネート加工し、次いで、板基材30の出光側の表面
(観察側表面)に上述したような機能を有する表面処理
層31をラミネート加工等により形成する。
In order to obtain the lenticular lens sheet 20 shown in FIG. 2, following the step (D), the black stripe 23 and the light diffusion layer 26 formed on the light emitting side surface of the film substrate 21 are formed. The transparent adhesive layer 25 is formed by laminating or coating, and a plate base 30 of a predetermined thickness is laminated on the adhesive layer 25. Then, the surface of the plate base 30 on the light emitting side (observation side surface) The surface treatment layer 31 having the function described above is formed by laminating or the like.

【0029】このように本実施の形態によれば、フィル
ム基材21の出光側の表面に形成された遮光性のポジ型
レジスト層を露光および現像してブラックストライプ2
3を形成した後、このブラックストライプ23が形成さ
れたフィルム基材21の出光側の表面のうちブラックス
トライプ23をなす突出部の間の領域に光拡散層26を
設けるようにしたので、レジスト層の露光および現像を
光拡散層を介在させることなく行うことができ、またブ
ラックストライプ上に直接光拡散層も設けられることが
ない。このため、ファインピッチ化された各入光レンズ
とレジストレーションの合った正確なブラックストライ
プ23が形成されるとともに、良好なコントラストおよ
び拡散特性を得ることができる。
As described above, according to the present embodiment, the light-shielding positive resist layer formed on the light-emitting side surface of the film base 21 is exposed and developed to form the black stripe 2.
After the formation of the black stripes 23, the light diffusion layer 26 is provided in a region between the projections forming the black stripes 23 on the light emitting side surface of the film base 21 on which the black stripes 23 are formed. Exposure and development can be performed without interposing a light diffusion layer, and a light diffusion layer is not directly provided on a black stripe. Therefore, an accurate black stripe 23 that is registered with each of the finely pitched light-entering lenses is formed, and excellent contrast and diffusion characteristics can be obtained.

【0030】なお、上述した実施の形態においては、レ
ジスト材料をドライフィルムの形態で供給し、フィルム
基材21の出光側の表面にラミネート加工するようにし
ているが、これに限らず、ウェット状のレジスト樹脂を
フィルム基材21の出光側の表面にコーティング加工す
るようにしてもよい。
In the above-described embodiment, the resist material is supplied in the form of a dry film, and the resist material is laminated on the light emitting side surface of the film substrate 21. However, the present invention is not limited to this. The resist resin may be coated on the light emitting surface of the film substrate 21.

【0031】また、上述した実施の形態においては、レ
ジスト材料として遮光性のポジ型レジスト材料を用いて
いるが、これに限らず、透光性のポジ型レジスト材料
や、ネガ型レジスト材料を用いることも可能である。
In the above-described embodiment, a light-shielding positive resist material is used as a resist material. However, the present invention is not limited to this, and a light-transmitting positive resist material or a negative resist material may be used. It is also possible.

【0032】ここで、レジスト材料として透光性のポジ
型レジスト材料を用いた場合には、例えば、上記工程
(B)において、透光性のポジ型レジスト用ドライフィ
ルムとして供給されたポジ型レジスト層を露光し、上記
工程(C)において、現像済みのポジ型レジスト層のう
ち露光領域(未硬化領域)のポジ型レジスト材料を洗浄
して除去するとともに未露光領域のポジ型レジスト材料
を突出部として残し、この残された突出部上に黒色イン
キ等の着色インキを塗布することにより、フィルム基材
21の出光側の表面のうち各入光レンズ22の集光領域
以外の領域にブラックストライプ23を形成するように
するとよい。
Here, when a light-transmitting positive resist material is used as the resist material, for example, in the step (B), the positive resist supplied as a light-transmitting positive resist dry film is used. The layer is exposed, and in the step (C), the positive resist material in the exposed area (uncured area) of the developed positive resist layer is washed and removed, and the positive resist material in the unexposed area is projected. By applying colored ink such as black ink on the remaining protrusions, black stripes are formed on the light exit side surface of the film substrate 21 in regions other than the light converging regions of the light incident lenses 22. 23 may be formed.

【0033】また、レジスト材料としてネガ型レジスト
材料を用いた場合には、例えば、上記工程(B)におい
て、ネガ型レジスト用ドライフィルムとして供給された
ネガ型レジスト層を露光し、上記工程(C)において、
現像済みのネガ型レジスト層のうち未露光領域(未硬化
領域)のネガ型レジスト材料を洗浄して除去し、このネ
ガ型レジスト材料が除去された未露光領域に対してワイ
ピング法等により黒色インキ等の着色インキを塗布する
ことによりフィルム基材21の出光側の表面に残された
ネガ型レジスト層の間の領域に着色インキを充填させて
フィルム基材21の出光側の表面のうち各入光レンズ2
2の集光領域以外の領域にブラックストライプ23を形
成するようにするとよい。なお、フィルム基材21の出
光側の表面のうち露光領域に残されたネガ型レジスト層
は最終的に剥離(除去)され、フィルム基材21の出光
側の表面のうちブラックストライプ23以外の部分が露
出する。
When a negative resist material is used as the resist material, for example, in the step (B), the negative resist layer supplied as the dry film for the negative resist is exposed to light, )
The negative resist material in the unexposed areas (uncured areas) of the developed negative resist layer is washed and removed, and the unexposed areas from which the negative resist materials have been removed are black ink-coated by a wiping method or the like. The area between the negative resist layers left on the light emitting side surface of the film substrate 21 is filled with the coloring ink by applying a coloring ink such as Optical lens 2
It is preferable to form the black stripe 23 in a region other than the light-collecting region 2. The negative resist layer left in the exposed region of the light emitting side surface of the film substrate 21 is finally peeled off (removed), and the portion of the light emitting side surface of the film substrate 21 other than the black stripe 23 is removed. Is exposed.

【0034】[0034]

【実施例】次に、上述した実施の形態の具体的実施例に
ついて述べる。実施例1 実施例1は、上述した実施の形態のうち、遮光性のポジ
型レジスト材料を用いてブラックストライプを形成する
場合に対応している。
Next, a specific example of the above-described embodiment will be described. Example 1 Example 1 corresponds to the case where a black stripe is formed using a light-shielding positive resist material in the above-described embodiment.

【0035】まず、塗工ユニットからのノズル塗工によ
り成型ロールのロール面上に放射線硬化性樹脂(インク
テック社製:HRF2535)を塗布し、この放射線硬
化性樹脂が塗布された成型ロールに対してニップロール
を用いて、給紙ロールから成形ロールに沿うように供給
されたフィルム基材(東洋紡社製:A−4100、厚さ
188μm)をニップした。その後、フィルム基材の表
面(放射線硬化性樹脂が塗布された面)が成型ロールに
当接している間に、放射線ランプにより、フィルム基材
の裏面側から放射線を照射して放射線硬化性樹脂を硬化
させ、入光側の表面に複数の入光レンズが成形されたフ
ィルム基材を形成した。
First, a radiation-curable resin (HRF2535, manufactured by Inktec Co., Ltd.) is applied onto the roll surface of a molding roll by nozzle coating from a coating unit. Using a nip roll, a film substrate (A-4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness: 188 μm) supplied from the paper feed roll along the forming roll was nipped. Then, while the surface of the film substrate (the surface to which the radiation-curable resin is applied) is in contact with the molding roll, the radiation-curable resin is irradiated by radiation from the back side of the film substrate by a radiation lamp. After curing, a film substrate having a plurality of light-entering lenses formed on the light-incident side surface was formed.

【0036】次に、このようにして得られた入光レンズ
付きのフィルム基材の出光側の表面に対して、黒色のポ
ジ型レジスト用ドライフィルム(東京応化社製:P−R
Z30、厚さ15μm)を押圧ロール(上下ロール)に
よりラミネート加工し、フィルム基材の出光側の表面に
遮光性のポジ型レジスト層を形成した。なお、このとき
のラミネート条件は、ラミネート速度が1m/分、ラミ
ネート圧が2kg、ラミネート温度が上下ロールにて9
0℃とした。
Then, a black positive resist dry film (PR-R, manufactured by Tokyo Ohkasha Co., Ltd.) was applied to the light-emitting side surface of the thus obtained film substrate with a light-entering lens.
Z30, thickness 15 μm) were laminated by a pressing roll (upper and lower rolls) to form a light-shielding positive resist layer on the light-emitting side surface of the film substrate. The lamination conditions were as follows: lamination speed: 1 m / min, lamination pressure: 2 kg, lamination temperature: 9
0 ° C.

【0037】そして、このようにして得られたポジ型レ
ジスト層付きのフィルム基材に対して、露光装置から出
射された露光光線により、フィルム基材の入光側に設け
られた各入光レンズを介して露光を行った。なお、露光
条件は積算光量にて75mJとした。なお、このような
露光により、ポジ型レジスト層は、入光レンズの集光領
域(露光領域)で未硬化状態となり、非集光領域(未露
光領域)で硬化状態のままとなった。
Each of the light-entering lenses provided on the light-entering side of the film substrate with the exposure light beam emitted from the exposure device is applied to the thus obtained film substrate with a positive resist layer. Exposure was carried out. The exposure condition was 75 mJ in terms of the integrated light amount. By such exposure, the positive resist layer was in an uncured state in the light-converging area (exposure area) of the light-entering lens, and remained in a hardened state in the non-light-condensing area (unexposed area).

【0038】その後、このようにして得られた露光済み
のポジ型レジスト層付きフィルム基材を現像した。現像
条件は、1%炭酸ソーダにて1分間のディッピングブラ
ッシング現像とした。次いで、純水にて1分間の洗浄を
行い、洗浄後に1分間の乾燥を行った。なお、このよう
な現像および洗浄により、現像済みのポジ型レジスト層
のうち露光領域(未硬化領域)のポジ型レジスト材料が
除去され、ブラックストライプが形成されるべき未露光
領域のレジスト材料のみが黒色の突出部として残される
ので、入光レンズとレジストレーションの合ったブラッ
クストライプを得ることができた。
Thereafter, the thus-exposed film substrate with an exposed positive resist layer was developed. The development conditions were dipping and brushing development for 1 minute with 1% sodium carbonate. Next, washing was performed for 1 minute with pure water, and after washing, drying was performed for 1 minute. By such development and washing, the positive resist material in the exposed region (uncured region) of the developed positive resist layer is removed, and only the resist material in the unexposed region where the black stripe is to be formed is removed. Since a black projection was left, a black stripe matched with the light-entering lens could be obtained.

【0039】そして、このようにしてブラックストライ
プが形成されたフィルム基材の出光側の表面に拡散剤が
混入された樹脂(インテック社製:ケミカルマットニス
用メジウム)を塗布し、ワイピング加工を施して乾燥さ
せることにより、ブラックストライプが形成された突出
部の間の領域に拡散層を形成した。
Then, a resin mixed with a diffusing agent (manufactured by INTEC: media for a chemical mat varnish) is applied to the light emitting side surface of the film substrate on which the black stripes are formed, and subjected to wiping processing. By drying, a diffusion layer was formed in a region between the protrusions where the black stripes were formed.

【0040】その後、このようにして得られたフィルム
基材の出光側の表面に設けられた拡散層およびブラック
ストライプ上に透明な粘着層(3M社製:9483、厚
さ100μm)をラミネート加工した。
Thereafter, a transparent adhesive layer (manufactured by 3M: 9483, thickness: 100 μm) was laminated on the diffusion layer and the black stripe provided on the light emitting side surface of the film substrate thus obtained. .

【0041】そして、このようにしてラミネート加工さ
れた粘着層上に、押出し成形により製造した厚さ1.0
〜5.0mmの透明な板基材をラミネート加工した。な
お、板基材の表面(観察側表面)には低反射、帯電防止
およびハードコートの各機能を有する表面処理層をラミ
ネート加工した。
Then, on the pressure-sensitive adhesive layer thus laminated, a thickness of 1.0 mm manufactured by extrusion molding is applied.
透明 5.0 mm of a transparent plate substrate was laminated. A surface treatment layer having low reflection, antistatic and hard coat functions was laminated on the surface of the plate substrate (observation side surface).

【0042】実施例2 実施例2は、上述した実施の形態のうち、透光性のポジ
型レジスト材料を用いてブラックストライプを形成する
場合に対応している。
Example 2 Example 2 corresponds to the case where a black stripe is formed using a translucent positive resist material in the above-described embodiment.

【0043】まず、上述した実施例1と同様の方法によ
り、入光側の表面に複数の入光レンズが成形されたフィ
ルム基材を形成した。
First, a film substrate having a plurality of light-entering lenses formed on the light-incident side surface was formed in the same manner as in Example 1 described above.

【0044】次に、このようにして得られた入光レンズ
付きのフィルム基材の出光側の表面に対して、給紙ロー
ルにより供給された透明なポジ型レジスト用ドライフィ
ルムを押圧ロール(上下ロール)によりラミネート加工
し、フィルム基材の出光側の表面にポジ型レジスト層を
形成した。なお、このときのラミネート条件は、ラミネ
ート速度が1m/分、ラミネート圧が2kg、ラミネー
ト温度が上下ロールにて90℃とした。
Next, the transparent positive resist dry film supplied by the paper feed roll is pressed against the light emitting side surface of the thus obtained film substrate with the light incident lens provided with the light input lens (up and down). (A roll) to form a positive resist layer on the light emitting surface of the film substrate. The lamination conditions at this time were a lamination speed of 1 m / min, a lamination pressure of 2 kg, and a lamination temperature of 90 ° C. with upper and lower rolls.

【0045】そして、このようにして得られたポジ型レ
ジスト層付きのフィルム基材に対して、露光装置から出
射された露光光線により、フィルム基材の入光側に設け
られた各入光レンズを介して露光を行った。なお、露光
条件は積算光量にて180mJとした。なお、このよう
な露光により、ポジ型レジスト層は、入光レンズの集光
領域(露光領域)で未硬化状態となり、非集光領域(未
露光領域)で硬化状態のままとなった。
Then, each of the light incident lenses provided on the light incident side of the film substrate with the exposure light emitted from the exposure device is applied to the thus obtained film substrate with the positive resist layer. Exposure was carried out. The exposure condition was 180 mJ in terms of the integrated light amount. By such exposure, the positive resist layer was in an uncured state in the light-converging area (exposure area) of the light-entering lens, and remained in a hardened state in the non-light-condensing area (unexposed area).

【0046】その後、このようにして得られた露光済み
のポジ型レジスト層付きフィルム基材を現像した。現像
条件は、1%炭酸ソーダにて1分間のディッピングブラ
ッシング現像とした。次いで、純水にて1分間の洗浄を
行い、洗浄後に1分間の乾燥を行った。なお、このよう
な現像および洗浄により、現像済みのポジ型レジスト層
のうち露光領域(未硬化領域)のポジ型レジスト材料が
除去され、ブラックストライプが形成されるべき未露光
領域(硬化領域)のレジスト材料のみが突出部として残
されるので、入光レンズとレジストレーションの合った
ブラックストライプ形状を得ることができた。
Thereafter, the exposed film substrate with a positive resist layer thus obtained was developed. The development conditions were dipping and brushing development for 1 minute with 1% sodium carbonate. Next, washing was performed for 1 minute with pure water, and after washing, drying was performed for 1 minute. By such development and washing, the positive resist material in the exposed region (uncured region) of the developed positive resist layer is removed, and the unexposed region (cured region) where the black stripe is to be formed is formed. Since only the resist material was left as a protrusion, a black stripe shape matched with the light-entering lens could be obtained.

【0047】そして、このようにしてフィルム基材の出
光側の表面に残された突出部上に黒色インキを塗布して
乾燥させ、フィルム基材の出光側の表面のうち各入光レ
ンズの集光領域以外の領域にブラックストライプを形成
した。また、このようにしてブラックストライプが形成
されたフィルム基材の出光側の表面に拡散剤が混入され
た樹脂を塗布し、ワイピング加工を施して乾燥させるこ
とにより、ブラックストライプレジストが形成された突
出部の間の領域に光拡散層を形成した。
Then, the black ink is applied to the protrusions left on the light-emitting side surface of the film substrate in this manner and dried, and the collection of each light-entering lens on the light-emitting side surface of the film substrate is performed. A black stripe was formed in an area other than the light area. Further, a resin mixed with a diffusing agent is applied to the surface on the light emitting side of the film substrate on which the black stripes are formed, and wiping is performed, followed by drying. A light diffusion layer was formed in a region between the portions.

【0048】その後、このようにして得られたフィルム
基材の出光側の表面およびブラックストライプ上に透明
な粘着層(3M社製:9483、厚さ100μm)をラ
ミネート加工した。
Thereafter, a transparent adhesive layer (manufactured by 3M: 9483, thickness: 100 μm) was laminated on the light-emitting side surface and the black stripe of the film substrate thus obtained.

【0049】そして、このようにしてラミネート加工さ
れた粘着層上に、押出し成形により製造した厚さ1.0
〜5.0mmの透明な板基材をラミネート加工した。な
お、板基材の表面(観察側表面)には低反射、帯電防止
およびハードコートの各機能を有する表面処理層をラミ
ネート加工した。
Then, on the pressure-sensitive adhesive layer laminated as described above, a thickness of 1.0
透明 5.0 mm of a transparent plate substrate was laminated. A surface treatment layer having low reflection, antistatic and hard coat functions was laminated on the surface of the plate substrate (observation side surface).

【0050】実施例3 実施例3は、上述した実施の形態のうち、ネガ型レジス
ト材料を用いてブラックストライプを形成する場合に対
応している。
Example 3 Example 3 corresponds to the case where a black stripe is formed using a negative resist material in the above-described embodiment.

【0051】まず、上述した実施例1と同様の方法によ
り、入光側の表面に複数の入光レンズが成形されたフィ
ルム基材を形成した。
First, a film substrate having a plurality of light-entering lenses formed on the light-entering surface was formed in the same manner as in Example 1 described above.

【0052】次に、このようにして得られた入光レンズ
付きのフィルム基材の出光側の表面に対して、給紙ロー
ルにより供給されたネガ型レジスト用ドライフィルム
(日合モートン社製:NCP−315、厚さ15μm、
解像度10μm)を押圧ロール(上下ロール)によりラ
ミネート加工し、フィルム基材の出光側の表面にネガ型
レジスト層を形成した。なお、このときのラミネート条
件は、ラミネート速度が1m/分、ラミネート圧が2k
g、ラミネート温度が上下ロールにて90℃とした。
Next, a dry film for negative resist supplied by a paper feed roll (manufactured by Nichigo Morton Co., Ltd.) was applied to the light-emitting side surface of the thus obtained film substrate with a light-entering lens. NCP-315, thickness 15 μm,
(A resolution of 10 μm) was laminated by a pressing roll (upper and lower rolls) to form a negative resist layer on the light emitting side surface of the film substrate. The lamination conditions at this time were as follows: lamination speed: 1 m / min, lamination pressure: 2 k
g, the laminating temperature was 90 ° C. with the upper and lower rolls.

【0053】そして、このようにして得られたネガ型レ
ジスト層付きのフィルム基材に対して、露光装置から出
射された露光光線(平行光)により、フィルム基材の入
光側に設けられた各入光レンズを介して露光を行った。
なお、露光条件は積算光量にて75mJとした。なお、
このような露光により、ネガ型レジスト層は、入光レン
ズの集光領域(露光領域)で硬化状態のままとなり、非
集光領域(未露光領域)で未硬化状態となった。
The thus obtained film substrate with a negative resist layer was provided on the light incident side of the film substrate by exposure light (parallel light) emitted from an exposure device. Exposure was performed through each light entrance lens.
The exposure condition was 75 mJ in terms of the integrated light amount. In addition,
As a result of such exposure, the negative resist layer remained in a hardened state in the light-converging region (exposed region) of the light-entering lens, and was in an uncured state in the non-light-condensing region (unexposed region).

【0054】その後、このようにして得られた露光済み
のネガ型レジスト層付きフィルム基材を現像した。現像
条件は、1%炭酸ソーダにて1分間のシャワリング現像
とした。次いで、純水にて1分間の洗浄を行い、洗浄後
に1分間の乾燥を行った。なお、このような現像および
洗浄により、現像済みのネガ型レジスト層のうちブラッ
クストライプが形成されるべき未露光領域(未硬化領
域)のネガ型レジスト材料が除去され、露光領域(硬化
領域)のネガ型レジスト材料が突出部として残されるの
で、入光レンズとレジストレーションの合ったブラック
ストライプ形状を凹形状として得ることができた。
Thereafter, the exposed film substrate with a negative resist layer thus obtained was developed. The developing condition was a showering development for 1 minute with 1% sodium carbonate. Next, washing was performed for 1 minute with pure water, and after washing, drying was performed for 1 minute. By such development and washing, the negative resist material in the unexposed area (uncured area) where the black stripe is to be formed in the developed negative resist layer is removed, and the exposed area (cured area) is removed. Since the negative resist material was left as a protruding portion, a black stripe shape matched with the light incident lens and registration could be obtained as a concave shape.

【0055】そして、このようにしてフィルム基材の出
光側の表面に黒色インキを塗布し、ワイピング加工を施
して乾燥させることにより、フィルム基材の出光側の表
面に残された突出部(ネガ型レジスト層)の間の領域
(ブラックストライプ形状に対応する領域)に黒色イン
キを充填させ、フィルム基材の出光側の表面のうち各入
光レンズの集光領域以外の領域にブラックストライプを
形成した。
Then, the black ink is applied to the light-emitting side surface of the film substrate in this manner, wiped, and dried, so that the protrusions (negative parts) left on the light-emitting side surface of the film substrate are removed. The black ink is filled in the area between the mold resist layers (the area corresponding to the black stripe shape), and black stripes are formed on the light-emitting side surface of the film substrate in areas other than the condensing area of each light-entering lens. did.

【0056】その後、フィルム基材の出光側の表面にブ
ラックストライプを形成した後、このブラックストライ
プが形成されたフィルム基材の出光側の表面に対して、
3%アルカリ水溶液にて約1〜2分間のレジスト剥離処
理を施した後、純水にて1分間の洗浄を行ってフィルム
基材の出光側の表面に残されたネガ型レジスト材料(突
出部)を剥離し、フィルム基材の出光側の表面のうちブ
ラックストライプ以外の部分を露出させた。
Thereafter, a black stripe is formed on the light-emitting side surface of the film substrate, and then the light-emitting surface of the film substrate on which the black stripe is formed is
After performing a resist stripping treatment with a 3% alkaline aqueous solution for about 1 to 2 minutes, the film is washed with pure water for 1 minute, and a negative resist material (protruding portion) left on the light-emitting side surface of the film base material ) Was peeled off to expose portions other than the black stripes on the light emitting side surface of the film substrate.

【0057】そして、このようにしてブラックストライ
プが形成されたフィルム基材の出光側の表面に拡散剤が
混入された樹脂(インテック社製:ケミカルマットニス
用メジウム)を塗布し、ワイピング加工を施して乾燥さ
せることにより、ブラックストライプが形成された突出
部の間の領域に拡散層を形成した。
Then, a resin mixed with a diffusing agent (manufactured by INTEC: media for chemical mat varnish) is applied to the light emitting side surface of the film substrate on which the black stripes are formed as described above, and subjected to wiping processing. By drying, a diffusion layer was formed in a region between the protrusions where the black stripes were formed.

【0058】その後、このようにして得られたフィルム
基材の出光側の表面に設けられた拡散層およびブラック
ストライプ上に透明な粘着層(3M社製:9483、厚
さ100μm)をラミネート加工した。
Thereafter, a transparent adhesive layer (manufactured by 3M: 9483, thickness: 100 μm) was laminated on the diffusion layer and the black stripe provided on the light emitting side surface of the film substrate thus obtained. .

【0059】そして、このようにしてラミネート加工さ
れた粘着層上に、押出し成形により製造した厚さ1.0
〜5.0mmの透明な板基材をラミネート加工した。な
お、板基材の表面(観察側表面)には低反射、帯電防止
およびハードコートの各機能を有する表面処理層をラミ
ネート加工した。
Then, on the pressure-sensitive adhesive layer laminated as described above, a thickness of 1.0
透明 5.0 mm of a transparent plate substrate was laminated. A surface treatment layer having low reflection, antistatic and hard coat functions was laminated on the surface of the plate substrate (observation side surface).

【0060】評価結果 上述した実施例1〜3の製造方法に従ってレンチキュラ
ーレンズシートを製造した結果、このようにして製造さ
れたいずれのレンチキュラーレンズシートにおいても、
ファインピッチ化された各入光レンズとレジストレーシ
ョンの合った正確なブラックストライプが形成され、ま
た良好なコントラストおよび拡散特性が得られた。
Evaluation Results As a result of manufacturing lenticular lens sheets according to the manufacturing methods of Examples 1 to 3 described above, any of the lenticular lens sheets manufactured as described above shows that:
Accurate black stripes were formed in registration with each of the finely pitched light-entering lenses, and good contrast and diffusion characteristics were obtained.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、フ
ァインピッチ化された各入光レンズとレジストレーショ
ンの合った正確な光吸収層が形成されるとともに、良好
なコントラストおよび拡散特性を得ることができる。
As described above, according to the present invention, an accurate light absorbing layer which is registered with each of the finely pitched light-entering lenses is formed, and good contrast and diffusion characteristics are obtained. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係るレンチキュラーレ
ンズシートを示す図。
FIG. 1 is a diagram showing a lenticular lens sheet according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すレンチキュラーレンズシートの一変
形例を示す図。
FIG. 2 is a view showing a modification of the lenticular lens sheet shown in FIG. 1;

【図3】本発明によるレンチキュラーレンズシートの製
造方法の一実施の形態を説明するための図。
FIG. 3 is a view for explaining an embodiment of a method for manufacturing a lenticular lens sheet according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 給紙ロール(フィルム基材用) 3 成型ロール 4 塗工ユニット 5 ニップロール 6 放射線ランプ 7 離型ロール 10 給紙ロール(レジスト用ドライフィルム用) 11 押圧ロール 12 剥離ロール 13 排紙ロール 14 露光装置 15 現像・水洗ユニット 16,18 乾燥ユニット 17 拡散樹脂塗工ユニット 19 排紙ロール 21 フィルム基材 22 入光レンズ 23 ブラックストライプ(光吸収層) 25 粘着層 26 光拡散層 30 板基材 31 表面処理層 2 Feed Roll (for Film Substrate) 3 Forming Roll 4 Coating Unit 5 Nip Roll 6 Radiation Lamp 7 Release Roll 10 Feed Roll (for Resist Dry Film) 11 Press Roll 12 Release Roll 13 Discharge Roll 14 Exposure Device 15 Developing / Washing Unit 16, 18 Drying Unit 17 Diffusion Resin Coating Unit 19 Discharge Roll 21 Film Base 22 Light Input Lens 23 Black Stripe (Light Absorbing Layer) 25 Adhesive Layer 26 Light Diffusion Layer 30 Plate Base 31 Surface Treatment layer

フロントページの続き Fターム(参考) 2H021 BA23 BA26 BA28 BA32 2H042 AA03 AA20 AA28 BA04 BA12 BA14 BA15 BA19 4F213 AA44 AG03 AH73 WA06 WA58 WA86 WA87 WB01 Continued on the front page F-term (reference) 2H021 BA23 BA26 BA28 BA32 2H042 AA03 AA20 AA28 BA04 BA12 BA14 BA15 BA19 4F213 AA44 AG03 AH73 WA06 WA58 WA86 WA87 WB01

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フィルム状の基材と、 前記基材の入光側に設けられた複数の入光レンズと、 前記基材の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光
領域以外の領域に設けられた光吸収層と、 前記基材の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光
領域にて前記光吸収層と隣接するようにして設けられた
光拡散層とを備えたことを特徴とするレンチキュラーレ
ンズシート。
1. A film-shaped base material, a plurality of light-entering lenses provided on the light-entering side of the base material, and a light-exiting surface of the base material other than a converging area of each of the light-entering lenses. A light-absorbing layer provided in a region of the substrate, and a light-diffusing layer provided so as to be adjacent to the light-absorbing layer in a light-collecting region of each of the light-entering lenses on the light-emitting side surface of the base material. A lenticular lens sheet comprising:
【請求項2】前記光吸収層は前記基材の出光側の表面に
形成されたレジスト層を前記各入光レンズを介して前記
基材の入光側から露光および現像することにより形成さ
れることを特徴とする請求項1記載のレンチキュラーレ
ンズシート。
2. The light-absorbing layer is formed by exposing and developing a resist layer formed on the light-emitting side surface of the substrate from the light-entering side of the substrate through each of the light-entering lenses. The lenticular lens sheet according to claim 1, wherein:
【請求項3】前記レジスト層は遮光性のポジ型レジスト
材料からなり、 前記各入光レンズの集光領域にて前記基材の出光側の表
面が露出されるとともに、前記各入光レンズの集光領域
以外の領域にて前記ポジ型レジスト材料が前記光吸収層
として残されていることを特徴とする請求項2記載のレ
ンチキュラーレンズシート。
3. The light-shielding positive type resist material, wherein the light-exiting surface of the base material is exposed in a light-converging region of each of the light-entering lenses, The lenticular lens sheet according to claim 2, wherein the positive resist material is left as the light absorbing layer in a region other than the light focusing region.
【請求項4】前記レジスト層は透光性のポジ型レジスト
材料からなり、 前記各入光レンズの集光領域にて前記基材の出光側の表
面が露出されるとともに、前記各入光レンズの集光領域
以外の領域にて前記ポジ型レジスト材料が突出部として
残され、この残された前記突出部上に前記光吸収層が形
成されていることを特徴とする請求項2記載のレンチキ
ュラーレンズシート。
4. The light-transmitting positive resist material, wherein the light-exiting surface of the base material is exposed in the light-converging area of each of the light-entering lenses, and each of the light-entering lenses is formed. 3. The lenticular according to claim 2, wherein the positive resist material is left as a protruding portion in a region other than the light converging region, and the light absorbing layer is formed on the remaining protruding portion. Lens sheet.
【請求項5】前記レジスト層はネガ型レジスト材料から
なり、 前記各入光レンズの集光領域に残された前記ネガ型レジ
スト材料以外の領域に光吸収層が形成された後、前記各
入光レンズの集光領域に残された前記ネガ型レジスト層
が除去されていることを特徴とする請求項2記載のレン
チキュラーレンズシート。
5. The method according to claim 1, wherein the resist layer is made of a negative resist material, and after a light absorbing layer is formed in a region other than the negative resist material left in the light-collecting region of each of the light-entering lenses, The lenticular lens sheet according to claim 2, wherein the negative resist layer left in the light-converging region of the optical lens is removed.
【請求項6】前記基材の出光側に所定厚の板基材が設け
られていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか
記載のレンチキュラーレンズシート。
6. The lenticular lens sheet according to claim 1, wherein a plate base material having a predetermined thickness is provided on the light emitting side of said base material.
【請求項7】前記基材の出光側の表層に表面処理層が設
けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれ
か記載のレンチキュラーレンズシート。
7. The lenticular lens sheet according to claim 1, wherein a surface treatment layer is provided on a surface layer on the light emission side of the base material.
【請求項8】前記表面処理層は反射防止層、低反射層、
傷つき防止層、帯電防止層、防眩層、汚染防止層、偏光
フィルタ層、電磁波シールド層、およびタッチセンサ機
能層のうちの少なくとも1つの層を含むことを特徴とす
る請求項7記載のレンチキュラーレンズシート。
8. The surface treatment layer comprises an antireflection layer, a low reflection layer,
The lenticular lens according to claim 7, further comprising at least one of a damage prevention layer, an antistatic layer, an antiglare layer, a pollution prevention layer, a polarizing filter layer, an electromagnetic wave shielding layer, and a touch sensor function layer. Sheet.
【請求項9】入光側に複数の入光レンズが設けられたフ
ィルム状の基材の出光側の表面に遮光性のポジ型レジス
ト層を形成する工程と、 前記各入光レンズを介して前記基材の入光側から前記ポ
ジ型レジスト層を露光する工程と、 前記ポジ型レジスト層を現像して前記ポジ型レジスト層
のうち露光領域のポジ型レジスト材料を除去するととも
に未露光領域のポジ型レジスト材料を残すことにより前
記基材の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光領
域以外の領域に光吸収層を形成する工程と、 ポジ型レジスト材料が除去された前記露光領域に対して
拡散剤が混入された樹脂を塗布することにより前記基材
の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光領域に光
拡散層を形成する工程とを含むことを特徴とするレンチ
キュラーレンズシートの製造方法。
9. A step of forming a light-blocking positive resist layer on a light-exiting surface of a film-like base material provided with a plurality of light-entering lenses on the light-entering side; Exposing the positive resist layer from the light incident side of the base material, and developing the positive resist layer to remove the positive resist material in the exposed areas of the positive resist layer and unexposed areas Forming a light-absorbing layer in a region other than the converging region of each of the light-entering lenses on the light-emitting side surface of the substrate by leaving the positive-type resist material; and exposing the positive-type resist material to light. Forming a light diffusion layer in the condensing area of each of the light incident lenses on the light emitting side surface of the base material by applying a resin mixed with a diffusing agent to the region. Lenticular lens sheet Manufacturing method.
【請求項10】入光側に複数の入光レンズが設けられた
フィルム状の基材の出光側の表面に透光性のポジ型レジ
スト層を形成する工程と、 前記各入光レンズを介して前記基材の入光側から前記ポ
ジ型レジスト層を露光する工程と、 前記ポジ型レジスト層を現像して前記ポジ型レジスト層
のうち露光領域のポジ型レジスト材料を除去するととも
に未露光領域のポジ型レジスト材料を突出部として残す
工程と、 前記突出部上に着色インキを塗布することにより前記基
材の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光領域以
外の領域に光吸収層を形成する工程と、 ポジ型レジスト材料が除去された前記露光領域に対して
拡散剤が混入された樹脂を塗布することにより前記基材
の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光領域に光
拡散層を形成する工程とを含むことを特徴とするレンチ
キュラーレンズシートの製造方法。
10. A step of forming a light-transmitting positive resist layer on the light-emitting side surface of a film-like base material provided with a plurality of light-entering lenses on the light-entering side; Exposing the positive resist layer from the light incident side of the base material, and removing the positive resist material in the exposed areas of the positive resist layer by developing the positive resist layer and unexposed areas Leaving the positive resist material as a protrusion, and applying a colored ink on the protrusion to absorb light in a region other than the light-collecting region of each of the light-entering lenses on the light-emitting side surface of the base material. Forming a layer, and applying a resin mixed with a diffusing agent to the exposed area from which the positive resist material has been removed, thereby collecting the light-entering lenses on the light-emitting side surface of the base material. Form a light diffusion layer in the light area A method of manufacturing a lenticular lens sheet.
【請求項11】入光側に複数の入光レンズが設けられた
フィルム状の基材の出光側の表面にネガ型レジスト層を
形成する工程と、 前記各入光レンズを介して前記基材の入光側から前記ネ
ガ型レジスト層を露光する工程と、 前記ネガ型レジスト層を現像することにより前記ネガ型
レジスト層のうち未露光領域のネガ型レジスト材料を除
去する工程と、 ネガ型レジスト材料が除去された前記未露光領域に対し
て着色インキを塗布することにより前記基材の出光側の
表面のうち前記各入光レンズの集光領域以外の領域に光
吸収層を形成する工程と、 ネガ型レジスト材料が除去されずに前記露光領域に残さ
れたネガ型レジスト層を除去して前記基材の出光側の表
面を露出させる工程と、 ネガ型レジスト材料が除去された前記露光領域に対して
拡散剤が混入された樹脂を塗布することにより前記基材
の出光側の表面のうち前記各入光レンズの集光領域に光
拡散層を形成する工程とを含むことを特徴とするレンチ
キュラーレンズシートの製造方法。
11. A step of forming a negative resist layer on a light-emitting side surface of a film-like base material provided with a plurality of light-entering lenses on a light-entering side; Exposing the negative resist layer from the light incident side of the negative resist layer; developing the negative resist layer to remove a negative resist material in an unexposed area of the negative resist layer; Forming a light-absorbing layer in a region other than the converging region of each of the light-entering lenses on the light-emitting side of the substrate by applying a coloring ink to the unexposed region from which the material has been removed; Removing the negative-type resist layer left in the exposed region without removing the negative-type resist material to expose the light-emitting side surface of the substrate; and exposing the exposed region from which the negative-type resist material has been removed. Spread against Forming a light diffusion layer in the light condensing area of each of the light incident lenses on the light emitting side surface of the base material by applying a resin mixed with a lenticular lens sheet. Method.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002069036A1 (en) * 2001-02-28 2002-09-06 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Lenticular lens sheet having light-shielding layer and method for manufacture thereof
KR100571367B1 (en) * 2004-08-27 2006-04-14 주식회사 코오롱 Light-sensitive photosensitive resin composition for light shielding of lenticular lens sheet and light-shielding pattern forming method using same
US20110061799A1 (en) * 2005-07-06 2011-03-17 Kun-Chih Wang Miniaturized Lens Assembly and Method for Making the Same

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