JP2000143776A - Electroconductive paste - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、速硬化性および耐
湿性に優れ、半導体装置の製造におけるチップマウント
や各種電子部品類等の接着に好適に使用できる導電性ペ
ーストに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive paste which is excellent in quick-curing property and moisture resistance and can be suitably used for bonding chip mounts and various electronic components in the production of semiconductor devices.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置の製造に際し、金属薄板(リ
ードフレーム)上の所定部分に、IC、LSI等の半導
体チップを接続する工程は、素子の長期信頼性に大きな
影響を与える重要な工程の一つである。従来からこの接
続方法として、低融点の合金(半田)を用いてろう付け
をする方法や、銀粉末を配合したエポキシ樹脂からなる
導電性ペーストを使用して接続する方法がとられてき
た。2. Description of the Related Art In manufacturing a semiconductor device, a process of connecting a semiconductor chip such as an IC or an LSI to a predetermined portion on a thin metal plate (lead frame) is an important process which has a great influence on the long-term reliability of an element. One. Conventionally, as the connection method, a method of brazing using an alloy (solder) having a low melting point, and a method of connecting using a conductive paste made of an epoxy resin mixed with silver powder have been adopted.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、半田等の低融
点合金を用いたろう付けによる接続方法は、一部で実用
化されているが半田や半田ボールが飛散して電極等に付
着し、腐食断線の原因となる可能性が指摘されている。However, the connection method by brazing using a low melting point alloy such as solder has been put to practical use in part, but the solder and solder balls are scattered and adhere to electrodes and the like, and the corrosion is caused. It has been pointed out that it may cause disconnection.
【0004】一方、導電性ペーストを使用して接続する
方法は、シリコンチップにおけるAu−Siの共晶合金
を生成させる共晶法に比較して信頼性に欠けるという問
題があった。即ち、導電性ペーストを用いて接続する
と、半田等の低融点合金を用いたろう付けによる接続方
法と比較して耐熱性には優れるが、反面、導電性ペース
トが熱硬化性樹脂であるため、その硬化に時間を要する
という問題があった。[0004] On the other hand, the method of connecting using a conductive paste has a problem in that it is less reliable than the eutectic method of producing an Au-Si eutectic alloy in a silicon chip. That is, when connected using a conductive paste, the heat resistance is superior to the connection method by brazing using a low melting point alloy such as solder, but on the other hand, since the conductive paste is a thermosetting resin, There was a problem that time was required for curing.
【0005】また、上記導電性ペーストを短時間で硬化
させた場合には、導電性ペーストを用いて形成された接
着層に空隙が発生するという問題があった。Further, when the conductive paste is cured in a short time, there is a problem that voids are generated in an adhesive layer formed using the conductive paste.
【0006】さらに、ICやLSI等の半導体素子の大
型化に伴って、アッセンブリ工程や実装工程中の熱履歴
により、チップクラックやパッケージクラックが発生す
るという問題があった。Furthermore, as semiconductor devices such as ICs and LSIs have become larger, there has been a problem that chip cracks and package cracks occur due to heat history during the assembly process and the mounting process.
【0007】本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされ
たもので、速硬化性を示すとともに、接着性、耐湿性に
優れ、硬化後の空隙の発生と熱収縮がほぼ防止された導
電性ペーストを提供しようとするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has a fast curing property, an excellent adhesive property and excellent moisture resistance, and a conductive property in which generation of voids after curing and heat shrinkage are substantially prevented. It is intended to provide a paste.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、後述する組成物
が、上記の目的を達成できることを見いだし、本発明を
完成したものである。即ち、本発明は、(A)(a)次
の一般式に示されるグリシジルエステルとMeans for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, have found that the composition described below can achieve the above object, and have completed the present invention. is there. That is, the present invention relates to (A) (a) a glycidyl ester represented by the following general formula:
【0009】[0009]
【化3】 (但、式中、Rは2価以上の有機基を、nは0〜15の
整数を、mは2〜4の整数をそれぞれ表す)(b)脂環
式エポキシ樹脂と(c)ビスフェノール型エポキシ樹脂
と(d)アクリレート樹脂とを、[(a)+(b)]1
00重量部に対して、(c)成分の配合量が10〜50
重量部また(d)成分の配合量が10〜50重量部の割
合となるように、配合した樹脂成分、(B)(1 )次の
一般式(1)又は(2)で示されるスルフォニウム塩とEmbedded image (Wherein, R represents a divalent or higher valent organic group, n represents an integer of 0 to 15, and m represents an integer of 2 to 4) (b) alicyclic epoxy resin and (c) bisphenol type [(A) + (b)] 1
The amount of the component (c) is 10 to 50 parts by weight with respect to 00 parts by weight.
(B) (1) a sulfonium salt represented by the following general formula (1) or (2) in which the amount of the component (d) is 10 to 50 parts by weight. When
【0010】[0010]
【化4】 (2 )有機過酸化物および(C)導電性粉末を必須成分
としてなることを特徴とする導電性ペーストである。Embedded image (2) A conductive paste comprising an organic peroxide and (C) a conductive powder as essential components.
【0011】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【0012】本発明に用いる(A)樹脂成分は、(a)
のグリシジルエステルと、(b)の脂環式エポキシ樹脂
と、(c)のビスフェノール型エポキシ樹脂と、(d)
アクリレート樹脂との配合物である。The resin component (A) used in the present invention comprises (a)
A glycidyl ester, (b) an alicyclic epoxy resin, (c) a bisphenol type epoxy resin, and (d)
It is a blend with an acrylate resin.
【0013】ここで、(a)グリシジルエステルとして
は、例えば、ダイマー酸グリシジルエステルを好適に用
いることができる。(b)脂環式エポキシ樹脂として
は、例えば、シクロヘキセンオキシド基、トリシクロデ
センオキシド基あるいはシクロペンテンオキシド基等を
有する化合物を挙げることができる。(c)ビスフェノ
ール型エポキシ樹脂としては、ビスフェノールF型液状
エポキシ樹脂や、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂
などが挙げられる。また、(d)アクリレート樹脂は、
ビニルエステル樹脂とも呼ばれ、エポキシ樹脂などとア
クリル酸またはメタクリル酸との付加反応物であって、
ビスフェノールA型エポキシアクリレート樹脂などが挙
げられる。Here, as the glycidyl ester (a), for example, glycidyl dimer acid can be suitably used. (B) Examples of the alicyclic epoxy resin include compounds having a cyclohexene oxide group, a tricyclodecene oxide group, a cyclopentene oxide group, or the like. (C) Examples of the bisphenol type epoxy resin include a bisphenol F type liquid epoxy resin and a bisphenol A type liquid epoxy resin. In addition, (d) the acrylate resin
Also called vinyl ester resin, is an addition reaction product of acrylic resin or methacrylic acid with epoxy resin,
Bisphenol A type epoxy acrylate resin and the like can be mentioned.
【0014】また、(a)に示されるグリシジルエステ
ルと(b)の脂環式エポキシ樹脂との配合比は、(a)
/(b)=10/90〜90/10(重量部)の範囲と
することが望ましい。グリシジルエステルが100重量
部あたり10%未満であると、硬化後の低応力化が損な
われるため、例えば、大型の半導体素子を金属板へのマ
ウントに用いた場合にチップクラックやパッケージクラ
ックが発生しやすくなる。さらに、脂環式エポキシ樹脂
が100重量部あたり10%未満であると、速硬化性を
得ることが困難となる。さらに、(a)グリシジルエス
テルと(b)脂環式エポキシ樹脂との合計の100重量
部に対して(c)ビスフェノール型エポキシ樹脂および
(d)アクリレート樹脂をそれぞれ10〜50重量部添
加することにより接着性を向上できる。The mixing ratio of the glycidyl ester shown in (a) to the alicyclic epoxy resin of (b) is as follows:
/ (B) = 10/90 to 90/10 (parts by weight). When the glycidyl ester content is less than 10% by weight per 100 parts by weight, the reduction in stress after curing is impaired. For example, when a large semiconductor element is used for mounting on a metal plate, chip cracks and package cracks occur. It will be easier. Further, when the content of the alicyclic epoxy resin is less than 10% by weight per 100 parts by weight, it is difficult to obtain fast curability. Further, by adding 10 to 50 parts by weight of (c) a bisphenol type epoxy resin and (d) an acrylate resin to 100 parts by weight of the total of (a) glycidyl ester and (b) alicyclic epoxy resin. Adhesion can be improved.
【0015】本発明に用いる(B)のうち(1 )のスル
フォニウム塩は、前記化4で示されるものである。この
スルフォニウム塩は、加熱すると活性化され、カチオン
種或いはルイス酸を生成し、カチオノイド重合(陽イオ
ン重合)によってエポキシ樹脂どうしを開環重合させ
る。スルホニウム塩の配合割合は、(A)樹脂成分10
0重量部に対して0.5〜20重量部配合することが望
ましい。スルフォニウム塩が(A)樹脂成分100重量
部に対し0.5重量部未満の場合には、速硬化性の効果
を発揮することが困難となり硬化速度が低下するので実
用性に乏しくなる。また、スルフォニウム塩が(A)樹
脂成分100重量部に対し20重量部を超えた場合に
は、導電性ペーストの硬化により生成した生成物中にル
イス酸が残留するため、例えば、半導体素子の金属薄板
へのマウントに用いた場合に、高湿条件下での半導体素
子の電気特性が劣化したり、金属薄板やアルミ等からな
る配線を腐食(電食)したりして信頼性に欠け好ましく
ない。The sulfonium salt of (1) in (B) used in the present invention is represented by the above formula (4). The sulfonium salt is activated when heated, generates a cationic species or a Lewis acid, and causes ring-opening polymerization of the epoxy resins by cationoid polymerization (cationic polymerization). The compounding ratio of the sulfonium salt is (A) the resin component 10
It is desirable to add 0.5 to 20 parts by weight to 0 part by weight. If the amount of the sulfonium salt is less than 0.5 part by weight based on 100 parts by weight of the resin component (A), it is difficult to exhibit the effect of quick-curing and the curing speed is reduced, resulting in poor practicality. If the sulfonium salt exceeds 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin component (A), Lewis acid remains in the product formed by curing the conductive paste. When used for mounting on a thin plate, the electrical characteristics of the semiconductor element under high humidity conditions are deteriorated, and the wiring made of a thin metal plate or aluminum is corroded (electrically eroded), and the reliability is lacking. .
【0016】本発明に用いる(B)のうち(2 )の有機
過酸化物は、(A)の(d)アクリレート樹脂のラジカ
ル重合開始剤として作用する。その配合割合は、(A)
の(d)アクリレート樹脂100重量部に対して0.5
〜20重量部配合することが望ましい。その配合量が
0.5重量部未満の場合は、速硬化性が失われ、20重
量部を超えた場合には、重合するときの反応熱により樹
脂が劣化し、電気特性が低下することになる。The organic peroxide (2) of (B) used in the present invention acts as a radical polymerization initiator for the acrylate resin (d) of (A). The mixing ratio is (A)
Of (d) 100 parts by weight of the acrylate resin
It is desirable to mix up to 20 parts by weight. If the compounding amount is less than 0.5 part by weight, the quick-curing property is lost, and if it exceeds 20 parts by weight, the resin is deteriorated due to the reaction heat at the time of polymerization, and the electric characteristics are reduced. Become.
【0017】本発明に用いる(C)導電性粉末として
は、例えば銀粉末、銅粉末およびニッケル粉末等の金属
粉末を好適に用いることができ、これらは単独又は2種
以上混合して使用することができる。また、導電性を有
する粉末であれば金属粉末に限定されることなく、例え
ば、表面にのみ金属層を備えた粉末でもよい。また、導
電性粉末の形状については特に限定するものではない
が、導電性粉末の粒径は、50μm以下とすることが好
ましい。導電性粉末粒径が50μmを超えると導電性粉
末の導電性が不安定になる。なお、粒径とは、同一の体
積からなる球の直径として定義している。As the conductive powder (C) used in the present invention, for example, metal powders such as silver powder, copper powder and nickel powder can be preferably used, and these can be used alone or in combination of two or more kinds. Can be. The powder is not limited to metal powder as long as it has electrical conductivity, and may be, for example, a powder having a metal layer only on the surface. The shape of the conductive powder is not particularly limited, but the particle size of the conductive powder is preferably 50 μm or less. If the particle diameter of the conductive powder exceeds 50 μm, the conductivity of the conductive powder becomes unstable. The particle size is defined as the diameter of a sphere having the same volume.
【0018】さらに、(C)導電性粉末の上記(A)樹
脂成分に対する混合比は、導電性ペースト中の(A)樹
脂成分および(C)導電性粉末の含有量を100重量部
とした場合、(A)/(C)=40/60〜5/95
(重量部)の範囲とすることが望ましい。(C)導電性
粉末が60重量部未満である場合には、十分な導電性を得
ることが困難となり、95重量部を超えた場合には作業
性や密着性が低下する。本発明においては、例えば、導
電性ペーストの粘度を調整するための溶剤、エポキシ基
の開環重合に対する反応性を備えた希釈剤、消泡剤、カ
ップリング剤、その他の各種の添加剤を本発明の目的に
反しない限り、必要に応じて配合することができる。具
体的な溶剤としては、酢酸セロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、
ブチルカルビトールアセテート、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジアセトンアルコール、N−メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イ
ミダゾリジノン等が挙げられ、これらは単独又は2種以
上混合して使用することができる。さらに、希釈剤とし
ては、n−ブチルグリシジルエーテル、アリルグリシジ
ルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、
スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテル、ク
レジルグリシジルエーテル、p−sec−ブチルフェニ
ルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレート、
(t−ブチルフェニル)グリシジルエーテル、ジグリシ
ジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエ
ーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテ
ル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパントリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサ
ンジオールジグリシジルエーテル等が挙げられ、これら
は単独又は2種以上混合して使用することができる。さ
らにカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシランやγ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。Further, the mixing ratio of the (C) conductive powder to the (A) resin component is based on the case where the contents of the (A) resin component and (C) conductive powder in the conductive paste are 100 parts by weight. , (A) / (C) = 40 / 60-5 / 95
(Parts by weight). (C) When the amount of the conductive powder is less than 60 parts by weight, it is difficult to obtain sufficient conductivity, and when the amount exceeds 95 parts by weight, workability and adhesiveness are reduced. In the present invention, for example, a solvent for adjusting the viscosity of the conductive paste, a diluent having reactivity to ring-opening polymerization of the epoxy group, an antifoaming agent, a coupling agent, and other various additives are used. It can be blended as needed as long as it does not violate the purpose of the invention. Specific solvents include cellosolve acetate, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate,
Butyl carbitol acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diacetone alcohol, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, dimethylacetamide, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. It can be mixed and used. Further, as a diluent, n-butyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether,
Styrene oxide, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, p-sec-butylphenyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate,
(T-butylphenyl) glycidyl ether, diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, butanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, and the like. These can be used alone or in combination of two or more. Further, examples of the coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane.
【0019】本発明の導電性ペーストは、上述した
(A)樹脂成分、(B)の(1 )スルフォニウム塩、
(B)の(2 )有機過酸化物、(C)導電性粉末、その
他添加剤を常法に従い十分混合した後、更にディスパー
ス、ニーダーまたは三本ロールミル等により混練処理を
行い、その後、減圧脱泡して製造することができる。こ
うして製造した導電性ペーストは、半導体装置の製造や
各種電子部品類等の接着に好適に用いることができる。
例えば、半導体装置の製造に用いる場合には、導電性ペ
ーストをシリンジ等に充填した後、ディスペンサを用い
て金属薄板上に吐出し、導電性ペーストを介して半導体
素子を金属薄板上にマウントし、短時間の加熱により導
電性ペーストを硬化させる。なお、本発明に係る導電性
ペーストを硬化するにあたっては、通常、120〜20
0℃で10sec〜120secの間加熱することによ
り容易に実施される。The conductive paste of the present invention comprises (A) a resin component described above, (B) (1) a sulfonium salt,
After sufficiently mixing (2) the organic peroxide of (B), the (C) conductive powder, and other additives according to a conventional method, a kneading treatment is further performed by a disperse, a kneader, a three-roll mill, or the like. It can be manufactured by defoaming. The conductive paste thus manufactured can be suitably used for manufacturing semiconductor devices and bonding various electronic components and the like.
For example, when used in the manufacture of a semiconductor device, after filling a conductive paste into a syringe or the like, discharging it onto a thin metal plate using a dispenser, mounting the semiconductor element on the thin metal plate via the conductive paste, The conductive paste is cured by heating for a short time. When the conductive paste according to the present invention is cured, it is usually 120 to 20.
It is easily carried out by heating at 0 ° C. for 10 seconds to 120 seconds.
【0020】[0020]
【作用】本発明の導電性ペーストは、スルフォニウム塩
によるカチオノイド重合性樹脂(グリシジルエステル、
脂環式エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂)
とラジカル重合性樹脂(アクリレート樹脂)、導電性粉
末およびその他の添加剤を用いることによって目的を達
成したものである。即ち、樹脂成分のグリシジルエステ
ル、脂環式エポキシ樹脂、さらにビスフェノール型エポ
キシ樹脂の有するエポキシ基を、スルフォニウム塩によ
るカチオノイド重合(陽イオン重合)により開環結合さ
せるので、硬化に際して速硬化性を示すとともに優れた
接着性、耐湿性を発揮する。さらに、アクリレート樹脂
は、ラジカル重合により重合させるが、ラジカル重合性
樹脂は、重合時の反応熱が高いため、カチオノイド重合
性樹脂の開環重合も促進するので、より速硬化性を示す
とともに優れた接着性、耐湿性を発揮することが可能と
なる。また、重合により得られた生成物は、三次元の網
目構造をもった緻密なものとなるので、溶剤に不溶で、
かつ、加熱により不融な安定した性質を示すことにな
る。したがって、硬化後の空隙の発生と熱収縮がほぼ防
止された生成物を生成することが可能となる。さらに、
本発明の導電性ペーストを半導体装置の製造に適用した
場合には、上述した生成物を生成することから、信頼性
の高い半導体装置を製造することが可能となる。The conductive paste of the present invention is a cationoid polymerizable resin (glycidyl ester,
Alicyclic epoxy resin, bisphenol type epoxy resin)
The object is achieved by using a radical polymerizable resin (acrylate resin), a conductive powder and other additives. That is, the glycidyl ester of the resin component, the alicyclic epoxy resin, and the epoxy group of the bisphenol-type epoxy resin are ring-opened and bonded by cationoid polymerization (cationic polymerization) using a sulfonium salt, so that they exhibit fast curing properties upon curing. Demonstrates excellent adhesion and moisture resistance. Further, the acrylate resin is polymerized by radical polymerization, but the radical polymerizable resin has a high reaction heat at the time of polymerization, and therefore promotes the ring-opening polymerization of the cationoid polymerizable resin. Adhesion and moisture resistance can be exhibited. In addition, the product obtained by the polymerization is a dense product having a three-dimensional network structure, so that it is insoluble in a solvent,
In addition, it exhibits infusible and stable properties by heating. Therefore, it is possible to produce a product in which the generation of voids after curing and the heat shrinkage are substantially prevented. further,
When the conductive paste of the present invention is applied to the manufacture of a semiconductor device, since the above-described products are generated, a highly reliable semiconductor device can be manufactured.
【0021】[0021]
【実施例】次に本発明を実施例によって具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。以下の実施例および比較例において「部」と
は特に説明のない限り「重量部」を意味する。Next, the present invention will be described specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following Examples and Comparative Examples, “parts” means “parts by weight” unless otherwise specified.
【0022】実施例1 グリシジルエステルとしてPG207S(東都化成株式
会社製、商品名)20部、脂環式エポキシ樹脂としてセ
ロキサイド2081(ダイセル化学工業株式会社製、商
品名)40部、ビスフェノール型エポキシ樹脂としてY
L983U(油化シェルエポキシ株式会社製、商品名)
20部、アクリレート樹脂としてKAYARAD R−
712(日本化薬株式会社製、商品名)20部、スルフ
ォニウム塩としてSI−80L(三新化学工業株式会社
製、商品名)2部、有機過酸化物としてパーヘキサ3M
(日本油脂株式会社製、商品名)0.5部、カップリン
グ剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン1部、および銀粉末412部を十分に混合した後、さ
らに、三本ロールで混練して導電性ペーストを得た。Example 1 20 parts of PG207S (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) as glycidyl ester, 40 parts of celloxide 2081 (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) as alicyclic epoxy resin, and bisphenol-type epoxy resin Y
L983U (product name, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.)
20 parts, KAYARAD R- as acrylate resin
712 (trade name, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2 parts of SI-80L (trade name, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) as a sulfonium salt, and Perhexa 3M as an organic peroxide
(Nippon Yushi Co., Ltd., trade name) 0.5 part, 1 part of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane as a coupling agent, and 412 parts of silver powder were sufficiently mixed, and then kneaded with a three-roll mill. Thus, a conductive paste was obtained.
【0023】実施例2 グリシジルエステルとしてPG207S(東都化成株式
会社製、商品名)20部、脂環式エポキシ樹脂としてセ
ロキサイド2083(ダイセル化学工業株式会社製、商
品名)50部、ビスフェノール型エポキシ樹脂としてG
L62(ダイセル化学工業株式会社製、商品名)20
部、アクリレート樹脂としてBE3700(ダイセル・
ユーシービー株式会社製、商品名)10部、スルフォニ
ウム塩としてSI−100L(三新化学工業株式会社
製、商品名)2部、有機過酸化物としてパーヘキサ3M
(日本油脂株式会社製、商品名)0.5部、カップリン
グ剤としてγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン1部、および銀粉末412部を十分に混合した後、
さらに、三本ロールで混練して導電性ペーストを得た。 比較例 市販のエポキシ樹脂ベースの無溶剤型半導体用導電性ペ
ーストを準備した。なお、該無溶剤型導電性ペースト
は、イミダゾール系の硬化剤およびイミダゾール系の促
進剤を含有したものである。Example 2 20 parts of PG207S (trade name, manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.) as a glycidyl ester, 50 parts of celloxide 2083 (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) as an alicyclic epoxy resin, and bisphenol type epoxy resin G
L62 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., trade name) 20
Part, BE3700 (Daicel
UCB Co., Ltd., 10 parts, SI-100L as sulfonium salt (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd., 2 parts), Perhexa 3M as organic peroxide
After sufficiently mixing 0.5 part (manufactured by NOF CORPORATION, trade name), 1 part of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane as a coupling agent, and 412 parts of silver powder,
Further, the mixture was kneaded with three rolls to obtain a conductive paste. Comparative Example A commercially available epoxy resin-based conductive paste for a semiconductor without solvent was prepared. The solventless conductive paste contains an imidazole-based curing agent and an imidazole-based accelerator.
【0024】次いで、実施例1〜2および比較例により
得られた導電性ペーストを用いて、半導体チップと金属
薄板(リードフレーム)とを接着硬化させ、接着強度、
チップの反り量、空隙の発生の有無およびポットライフ
について特性試験を行った。なお、これらの特性試験は
以下の条件の下で実行した。Next, using the conductive pastes obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example, a semiconductor chip and a metal thin plate (lead frame) are bonded and cured to obtain an adhesive strength,
Characteristic tests were performed on the amount of chip warpage, the presence or absence of voids, and the pot life. Note that these characteristic tests were performed under the following conditions.
【0025】接着強度:Cuフレーム上に導電性ペース
トを介して2mm角のシリコンチップを配置し、180
℃のヒートブロック上で導電性ペーストを所定の時間
(15sec〜120sec)キュアした後、即破壊
(剥離)させることにより測定した。Adhesive strength: A 2 mm square silicon chip is placed on a Cu frame via a conductive paste,
After the conductive paste was cured on a heat block at a predetermined temperature for 15 seconds to 120 seconds, the paste was immediately destroyed (peeled).
【0026】チップの反り量:厚さ200μmのCuフ
レーム上に4mm×12mmのシリコンチップを導電性
ペーストを介して配置し、180℃に熱したオーブンで
2時間キュアした後、チップの表面を表面粗さ計を用い
て測定した。Chip warpage: A silicon chip of 4 mm × 12 mm was placed on a 200 μm thick Cu frame via a conductive paste, and cured in an oven heated to 180 ° C. for 2 hours. It was measured using a roughness meter.
【0027】空隙の発生の有無:Cuフレーム上に導電
性ペーストを介して8mm角のガラスチップを配置し、
180℃のヒートブロック上で導電性ペーストを2分間
キュアした後、肉眼にて観察した。Presence / absence of voids: An 8 mm square glass chip is placed on a Cu frame via a conductive paste.
After the conductive paste was cured on a heat block at 180 ° C. for 2 minutes, it was visually observed.
【0028】ポットライフ:得られた導電性ペーストを
25℃,湿度50%の環境中に放置して6時間毎にその
一部を採取し、上記接着強度と同様の試験を行って接着
強度が劣化するまでの期間を測定した。Pot life: The obtained conductive paste was left in an environment of 25 ° C. and 50% humidity, and a part thereof was sampled every 6 hours. The period until deterioration was measured.
【0029】以上、これらの結果を表1に示したが、い
ずれも本発明が優れており、本発明の顕著な効果が認め
られた。As described above, the results are shown in Table 1. The present invention was excellent in each case, and remarkable effects of the present invention were recognized.
【0030】[0030]
【表1】 [Table 1]
【0031】表1から明らかなように、実施例1、2お
よび比較例において、キュアに要する時間を同一とした
場合には、実施例1、2により得られた導電性ペースト
は、比較例により得られた導電性ペーストと比べて接着
強度が高くなっている。また、キュアに要する時間を1
20secとした場合、比較例では接着強度が14.8
Nとなっているが、この接着強度は、実施例1および実
施例2において、キュアに要する時間が30secの
時、すでに到達していた値である。従って、実施例1お
び実施例2において得られた導電性ペーストは、比較例
の導電性ペーストと比べて硬化に要する時間が短く、短
時間で高い接着強度を示すことが理解できる。また、実
施例1および実施例2におけるチップの反り量は、比較
例におけるチップの反り量と比べ半分以下であることか
ら、実施例1おび実施例2において得られた導電性ペー
ストは、熱に対して安定であり、熱履歴の影響を受けに
くいことが理解された。さらに、実施例1および実施例
2の導電性ペーストは、硬化に要する時間が短く容易に
高い接着強度を示すが、硬化後の生成物に空隙を生じさ
せず、環境に対しても安定であることが空隙の発生の有
無およびポットライフから理解された。As is clear from Table 1, when the curing time is the same in Examples 1 and 2 and Comparative Example, the conductive paste obtained in Examples 1 and 2 The adhesive strength is higher than that of the obtained conductive paste. In addition, the time required for curing is 1
In the case of 20 sec, the adhesive strength is 14.8 in the comparative example.
The adhesive strength is N, which is the value which has already been reached when the time required for curing is 30 seconds in Examples 1 and 2. Therefore, it can be understood that the conductive paste obtained in Example 1 and Example 2 requires less time for curing than the conductive paste of Comparative Example, and exhibits high adhesive strength in a short time. Further, since the amount of warpage of the chips in Examples 1 and 2 was less than half the amount of warpage of the chips in the comparative example, the conductive paste obtained in Examples 1 and 2 was exposed to heat. It was understood that this was stable against heat and was not easily affected by heat history. Furthermore, the conductive pastes of Example 1 and Example 2 have a short curing time and easily exhibit high adhesive strength, but do not generate voids in the cured product and are stable to the environment. This was understood from the presence or absence of voids and the pot life.
【0032】[0032]
【発明の効果】以上の説明および表1から明らかなよう
に、本発明の導電性ペーストによれば、スルフォニウム
塩によるカチオノイド重合性樹脂(グリシジルエステ
ル、脂環式エポキシ樹脂およびビスフェノール型エポキ
シ樹脂)とラジカル重合性樹脂(アクリレート樹脂)と
の併用により、速硬化性を示すとともに耐湿性にも優れ
る導電性ペーストを提供することができる。また、本発
明の導電性ペーストによれば、重合により得られた生成
物は、三次元の網目構造をもった緻密なものとなるの
で、溶剤に不溶で、かつ、加熱により不融な安定した性
質を示すことになる。したがって、硬化後の空隙の発生
と熱収縮がほぼ防止された生成物を生成する導電性ペー
ストを提供することができる。そして、この導電性ペー
ストを用いることによって、信頼性の高い半導体装置お
よび電子部品を製造することができる。As apparent from the above description and Table 1, according to the conductive paste of the present invention, the cationoid polymerizable resin (glycidyl ester, alicyclic epoxy resin and bisphenol type epoxy resin) with sulfonium salt is used. When used in combination with a radically polymerizable resin (acrylate resin), it is possible to provide a conductive paste that exhibits fast curing properties and has excellent moisture resistance. Further, according to the conductive paste of the present invention, the product obtained by polymerization is a dense product having a three-dimensional network structure, so that it is insoluble in a solvent, and is insoluble and stable by heating. It will show its properties. Therefore, it is possible to provide a conductive paste that produces a product in which generation of voids after curing and thermal shrinkage are substantially prevented. By using this conductive paste, highly reliable semiconductor devices and electronic components can be manufactured.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09J 163/00 C09J 163/00 Fターム(参考) 4J002 CD022 CD053 CD101 CD204 DA078 DA088 EK007 EV296 FD118 FD146 FD147 GQ02 4J036 AA06 AD01 AG03 AG04 AJ08 EA02 EA04 FA02 GA03 JA15 4J040 DF042 EC062 EC091 EC261 HA066 HB41 HD18 JB02 JB10 KA32 LA09 MA02 MA10 NA19 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (reference) C09J 163/00 C09J 163/00 F term (reference) 4J002 CD022 CD053 CD101 CD204 DA078 DA078 EK007 EV296 FD118 FD146 FD147 GQ02 4J036 AA06 AD01 AG03 AG04 AJ08 EA02 EA04 FA02 GA03 JA15 4J040 DF042 EC062 EC091 EC261 HA066 HB41 HD18 JB02 JB10 KA32 LA09 MA02 MA10 NA19
Claims (1)
シジルエステルと 【化1】 (但、式中、Rは2価以上の有機基を、nは0〜15の
整数を、mは2〜4の整数をそれぞれ表す)(b)脂環
式エポキシ樹脂と(c)ビスフェノール型エポキシ樹脂
と(d)アクリレート樹脂とを、[(a)+(b)]1
00重量部に対して、(c)成分の配合量が10〜50
重量部また(d)成分の配合量が10〜50重量部の割合と
なるように、配合した樹脂成分、(B)(1 )次の一般
式(1)又は(2)で示されるスルフォニウム塩と 【化2】 (2 )有機過酸化物および(C)導電性粉末を必須成分
としてなることを特徴とする導電性ペースト。(A) (a) a glycidyl ester represented by the following general formula: (Wherein, R represents a divalent or higher valent organic group, n represents an integer of 0 to 15, and m represents an integer of 2 to 4) (b) alicyclic epoxy resin and (c) bisphenol type [(A) + (b)] 1
The amount of the component (c) is 10 to 50 parts by weight with respect to 00 parts by weight.
(B) (1) a sulfonium salt represented by the following general formula (1) or (2), in which the amount of the component (d) is 10 to 50 parts by weight. And (2) A conductive paste comprising an organic peroxide and (C) a conductive powder as essential components.
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1998
- 1998-11-12 JP JP10321893A patent/JP2000143776A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002179769A (en) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Hitachi Chem Co Ltd | Resin paste composition and semiconductor device using the same |
WO2016189829A1 (en) * | 2015-05-28 | 2016-12-01 | タツタ電線株式会社 | Conductive paste for mounting |
JPWO2016189829A1 (en) * | 2015-05-28 | 2018-03-15 | タツタ電線株式会社 | Conductive paste for mounting |
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