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JP2000138268A - 半導体回路の検査方法及び検査装置 - Google Patents

半導体回路の検査方法及び検査装置

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Publication number
JP2000138268A
JP2000138268A JP10313079A JP31307998A JP2000138268A JP 2000138268 A JP2000138268 A JP 2000138268A JP 10313079 A JP10313079 A JP 10313079A JP 31307998 A JP31307998 A JP 31307998A JP 2000138268 A JP2000138268 A JP 2000138268A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
probe card
probe
inspection
semiconductor circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10313079A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Kawazoe
宏 河添
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP10313079A priority Critical patent/JP2000138268A/ja
Publication of JP2000138268A publication Critical patent/JP2000138268A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】プローブカードの熱変形量を少なくし、プロー
ブテストの精度を向上させる。 【解決手段】ウエハ表面に形成した半導体回路を、ウエ
ハの裏面から加熱しながら、プローブカードに設けたプ
ローブを接触させて行う検査において、プローブカード
をウエハと接触しない面を加熱しながら行う半導体回路
の検査方法と、ウエハを固定する支持台と、支持台に設
けられたウエハを加熱する手段と、ウエハに接触させる
プローブを設けたプローブカードと、プローブカードに
接続された検査のためのアルゴリズムを有する計算機と
を備えた半導体回路の検査装置において、プローブカー
ドのウエハと接触しない面を加熱する手段を有する半導
体回路の検査装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハ表面に形成
した半導体回路の検査方法及び検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ICパッケージなどの半導体装置の製造
工程は、ウエハに集積回路を形成するまでの工程(前工
程)と、形成したそれぞれの半導体チップを切断分割す
るダイシングからリードを取り付け電子部品化するパッ
ケージングまでの工程(後工程)とに大別できる。半導
体装置としての検査は、それぞれの工程の最終段階で実
施されるが、不良品を可能な限り工程の少ない時点で発
見し、以降の工程に流さないことで費用の低減を計るた
め、前工程での検査(以下、プローブテストという。)
に比重が置かれるようになってきた。この前工程での検
査では、ウエハに多数の半導体回路が形成された状態で
行わなければならず、量産の効率化に伴って、ウエハサ
イズの大口径化や半導体チップすなわちダイサイズの縮
小化が行われ、同時に検査する回路数が増加し、半導体
回路と検査のアルゴリズムを有する計算機とのインター
フェイスを担うプローブカードの役割が大きくなってき
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来、プローブテスト
においては、半導体チップに要求される環境温度の上限
での動作を保証するため、ウエハを90℃〜150℃程
度に加熱しながら行われる。この結果、プローブカード
もウエハと共に加熱され、50μm〜500μm程度撓
んでしまう。従来は、それでも、回路の密度も大きく、
ウエハに形成された半導体チップの数も少ないときに
は、プローブカードに圧力を加えて撓みを矯正すること
で、接触不良を避けることはできたが、近年のように、
回路の密度が高く、ウエハに形成される半導体チップの
数も多くなると、プローブカードに圧力を加えて撓みを
矯正すると、プローブの位置が検査する回路からはずれ
てしまうようなことも起こり、また、撓んだままである
と、半導体回路の検査パッドとプローブカードのプロー
ブとの接触不良を誘発し、検査の続行が困難になるとい
う課題がある。
【0004】この現象を改善するために、例えば、プ
ローブカードの板厚を厚くする(現状で5〜6mm)、
プローブカードに金属コア層を追加し低熱膨張性・高
放熱性を付与する、等の対策が講じられてきたが、プロ
ーブカードの製造技術上、板厚の最大値は7mmを超え
ることができず、その厚さでもやはり撓みを生じてしま
うこと、また、についても、プローブカード自体の配
線密度が高くなってきており、金属コア層を設けると、
接続のためのスルーホールやバイアホールを設けること
が困難になるという課題がある。さらには、プローブに
ついても、長さの短縮化、材質の高熱伝導化、低熱膨張
化等が図られ、また、プローブを固定するブロックにつ
いても、材質の高熱伝導化、低熱膨張化等が図られた
が、これらの対策によっても、撓みを抑制できなかっ
た。
【0005】本発明は、プローブカードの熱変形量を少
なくし、プローブテストの精度を向上させることを目的
とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体回路の検
査方法は、ウエハ表面に形成した半導体回路を、ウエハ
の裏面から加熱しながら、プローブカードに設けたプロ
ーブを接触させて行う検査において、プローブカードを
ウエハと接触しない面を加熱しながら行うことを特徴と
する。
【0007】このときに、プローブカードの両面の温度
差を少なくするように、プローブカードを加熱すること
が好ましい。
【0008】このような検査を行うために、本発明の半
導体回路の検査装置は、ウエハを固定する支持台と、支
持台に設けられたウエハを加熱する手段と、ウエハに接
触させるプローブを設けたプローブカードと、プローブ
カードに接続された検査のためのアルゴリズムを有する
計算機とを備えた半導体回路の検査装置において、プロ
ーブカードのウエハと接触しない面を加熱する手段を有
することを特徴とする。
【0009】この装置において、プローブカードの両面
の温度を検知し、比較し、両面の温度差を少なくするよ
うに、プローブカードのウエハと接触しない面を加熱す
る手段を制御する手段を有することが好ましい。
【0010】
【発明の実施の形態】ウエハを加熱する手段は、ウエハ
の支持台に設けることが好ましく、その熱容量は可能な
限り小さくすることが好ましい。また、同様に、プロー
ブカードのウエハと接触しない面を加熱する手段につい
ても、その熱容量は可能な限り小さくすることが好まし
く、具体的には、市販のセラミックヒータやポリイミド
フィルムやシリコンゴムシートの内部に、ニクロム等発
熱体のパターンを形成させた面状ヒータが適する。この
ウエハを加熱する手段と、プローブカードのウエハと接
触しない面を加熱する手段は、プローブカードを挟み込
むような位置関係となるのが好ましい。
【0011】プローブカードの両面の温度差を検出する
方法は、プローブカードの表面温度に可能な限り影響を
与えない方法であることが好ましく、熱電対のような熱
容量が小さなセンサをプローブカードの両面に接触させ
る方法や、赤外線温度センサにより非接触で測定する方
法が好ましい。
【0012】
【実施例】(検査装置)本発明の検査装置は、図1に示
すように、ウエハ11を固定する支持台(ウエハチャッ
ク10)と、支持台に設けられたウエハ11を加熱する
手段(第1のヒータ14)と、ウエハ11に接触させる
プローブ(プローブピン4)を設けたプローブカード3
と、プローブカード3に接続された検査のためのアルゴ
リズムを有する計算機(図示せず。)とを備えた半導体
回路の検査装置において、プローブカード3のウエハ1
1と接触しない面を加熱する手段(第2のヒータ1)を
有するものである。プローブカード3は、直径100μ
mのポリイミド樹脂被覆銅ワイヤで形成したワイヤ回路
層4層、銅箔のエッチングにより形成した電源・グラン
ド回路10層,ガラス繊維強化ポリイミド樹脂で形成し
た層間絶縁層及びスルーホールを有した板厚4.8mm
のマルチワイヤ配線板(日立化成工業株式会社製、商品
名)を作製し、この基板に、約600本のタングステン
−銅製のプローブピン4をグラファイト充填ポリイミド
樹脂製のピンブロック5によって固定して作製し、PC
ホルダ9に装着した。プローブカード3の両面のほぼ同
じ箇所に、直径100μmのオメガエンジニアリング社
製の熱電対6に放熱用シリコンSCH−20(サンハト
ヤ株式会社製、商品名)を塗布したものを、ポリイミド
接着テープで固定した。プローブカード3のウエハ11
と接触しない面を加熱する手段(第2のヒータ1)とし
て、直径180mm、板厚10mmの熱セラミック板ヘ
ンニサル15(田上機器株式会社製、商品名)の片面に
接着した直径180mmの面状ヒータをPCホルダ9の
プローブカード3の裏面側に装着した。プローブカード
3の両面に取り付けた熱電対6に、デジタル温度計測装
置(図示せず。)を接続し、そのデジタル温度計測装置
の出力には計算機を接続して、プローブカード3の表裏
面のそれぞれの温度と、その温度差を記録しながら、第
1のヒータは、90〜150℃の設定温度となるように
計算機に接続されたヒータの駆動回路を制御し、第2の
ヒータ1は、プローブカードの両面の温度差が小さくな
るようにヒータの駆動回路を制御した。
【0013】実施例 (検査方法)被検査体である直径約20cm(8イン
チ)のウエハ11を、ウエハチャック10に取り付け、
第1のヒータ14を、ウエハ11が90℃、120
℃、150℃となるように保ち、検査を行う状態で、
プローブピン4の変位量を3次元測定器で測定し、プロ
ーブカード3の表裏の温度差を測定した。
【0014】比較例 実施例と同じ装置を用いたが、第2のヒータ14を用い
ずに検査状態とし、プローブピン4の変位量と、プロー
ブカード3の表裏の温度差を測定した。
【0015】測定した結果を表1に示すように、実施例
の熱変形は、比較例に比べ小さかった。
【0016】
【表1】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ウエハ温度 プローブピンの プローブカード (℃) 変位量(μm) 両面の温度差(℃) ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 実施例1 90 1 0 実施例2 120 2 0 実施例3 150 2 0 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例1 90 20 1 比較例2 120 50 2 比較例3 150 180 4 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【0017】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明によっ
て、プローブカードの熱変形量を少なくし、プローブテ
ストの精度を向上させることのできる検査方法と検査装
置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す検査装置の概略図であ
る。
【符号の説明】
1.第2のヒータ 3.プローブカ
ード 4.プローブピン 5.ピンブロッ
ク 6.熱電対 9.PCホルダ 10.ウエハチャック 11.ウエハ 14.第1のヒータ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ウエハ表面に形成した半導体回路を、ウエ
    ハの裏面から加熱しながら、プローブカードに設けたプ
    ローブを接触させて行う検査において、プローブカード
    をウエハと接触しない面を加熱しながら行うことを特徴
    とする半導体回路の検査方法。
  2. 【請求項2】プローブカードの両面の温度差を少なくす
    るように、プローブカードを加熱することを特徴とする
    請求項1に記載の半導体回路の検査方法。
  3. 【請求項3】ウエハを固定する支持台と、支持台に設け
    られたウエハを加熱する手段と、ウエハに接触させるプ
    ローブを設けたプローブカードと、プローブカードに接
    続された検査のためのアルゴリズムを有する計算機とを
    備えた半導体回路の検査装置において、プローブカード
    のウエハと接触しない面を加熱する手段を有することを
    特徴とする半導体回路の検査装置。
  4. 【請求項4】プローブカードの両面の温度を検知し、比
    較し、両面の温度差を少なくするように、プローブカー
    ドのウエハと接触しない面を加熱する手段を制御する手
    段を有することを特徴とする請求項3に記載の半導体回
    路の検査装置。
JP10313079A 1998-11-04 1998-11-04 半導体回路の検査方法及び検査装置 Pending JP2000138268A (ja)

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