JP2000098920A - フラットパネルディスプレイの製造ライン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 １枚の駆動回路が完成するまでの時間を短縮
して、在庫を少なくすることができるフラットパネルデ
ィスプレイの製造ラインを提供する。 【解決手段】 製造ライン１を構成する複数のパターン
形成工程は、洗浄工程２、薄膜形成工程３、レジスト塗
布工程４、露光工程５、現像工程６、エッチング工程７
及びレジスト剥離工程８を備えている。レジスト塗布工
程４、露光工程５及び現像工程６を除く各工程２，３，
７，８はパターン形成工程毎にフローショップ方式で配
置されている。フローショップ方式の各工程は、自走型
搬送車10のループ状の走行路11の外側に該走行路11に沿
って配置され、レジスト塗布工程４、露光工程５及び現
像工程６は走行路11の内側に配置されている。フローシ
ョップ方式の各工程はガラス基板を１枚ずつ順次受け入
れて枚葉処理を行うように構成され、各工程間は基板を
１枚ずつ順次搬送する搬送装置で連結されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はフラットパネルディ
スプレイの製造ラインに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】フラットパネルディスプレイの駆動回路
は、図６に示す各工程、即ち洗浄工程６１、薄膜形成工
程６２、レジスト塗布工程６３、露光工程６４、現像工
程６５、エッチング工程６６及びレジスト剥離工程６７
から成るパターン形成工程を所定回数繰り返すことによ
り形成される。

【０００３】従来、フラットパネルディスプレイ（例え
ば液晶表示装置）の駆動回路の製造ラインは、同種機能
の製造装置群をまとめて配置するジョブショップが主に
なっている。そして、基板は複数枚収容可能なカセット
に収容されて各工程間を搬送される。各工程では処理能
力を高めるため複数枚のガラス基板を同時に処理するバ
ッチ処理が行われるものが多いが、マザー・ガラスの大
型化によってバッチ方式では均一性を確保するのが難し
くなった。そのため、エッチング、レジスト剥離工程等
がガラス基板を１枚単位で処理する枚葉処理に変わり、
露光工程では枚葉式が主流になっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来装置で
は枚葉処理を行う工程でも、ガラス基板は複数枚（例え
ば２０枚）のガラス基板を収容するカセットに収容され
た状態で当該工程に搬入される。そして、カセットに収
容されたガラス基板が１枚ずつ処理され、当該工程の処
理が完了したものが順次カセットに収容され、１カセッ
ト分のガラス基板の処理が終了した後、次工程あるいは
ストッカーへ搬送される。従って、従来装置では枚葉処
理が行われる場合でも、各工程の処理単位はカセットに
収容されるガラス基板の枚数になる。その結果、１枚当
たりの処理時間が同じでもパターン形成工程にガラス基
板が受け入れられた後、製品として出てくるまでの時間
が長くなり、少量の製品を短期で納入するためには、工
程内在庫を確保しておく必要があるという問題がある。
また、各工程で製品検査を行う場合１カセット分の処理
が終了した後に搬送されるため、工程の故障で不良品が
発生した時に１カセット分が不良品となって製品の歩留
まりが低下するという問題もある。

【０００５】本発明は前記の問題点に鑑みてなされたも
のであって、その目的は１枚の駆動回路が完成するまで
の時間を短縮して、在庫を少なくすることができるフラ
ットパネルディスプレイの製造ラインを提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明では、駆動回路の製造工程を
構成する、洗浄工程、薄膜形成工程、レジスト塗布工
程、露光工程、現像工程、エッチング工程及びレジスト
剥離工程のうち、レジスト塗布工程、露光工程及び現像
工程を除く各工程を、パターン形成工程毎にフローショ
ップ方式とし、レジスト塗布工程、露光工程及び現像工
程に使用する処理装置は複数のパターン形成工程で共用
し、かつ前記フローショップ方式の各工程で基板を１枚
ずつ順次受け入れて枚葉処理を行う。

【０００７】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の発明において、前記フローショップ方式の各工程は
第１のゾーンとして配置され、前記レジスト塗布工程、
露光工程及び現像工程は第２のゾーンとして配置され、
第１のゾーンと第２のゾーンとの間の基板の搬送は自走
型搬送車を介して行われる。

【０００８】請求項３に記載の発明では、請求項２に記
載の発明において、前記第２のゾーンには基板を一時保
管するストッカーが設けられている。請求項４に記載の
発明では、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の
発明において、前記フローショップ方式の各工程は各処
理装置がほぼ一列に配置され、各工程間は基板を搬送す
る搬送装置で連結されている。

【０００９】請求項５に記載の発明では、請求項４に記
載の発明において、前記フローショップ方式の各工程で
の基板の搬送は、各工程の任意の二つの工程間で基板を
搬送可能とするため、各工程を連絡する共通の経路に沿
って基板を往復搬送可能な搬送装置を備えたシャトル方
式で行われる。

【００１０】従って、請求項１に記載の発明では、駆動
回路のパターン形成工程において、高価な装置あるいは
広い設置スペースが必要なレジスト塗布工程、露光工程
及び現像工程を除く、洗浄工程、薄膜形成工程、エッチ
ング工程及びレジスト剥離工程に、基板が１枚ずつ順次
受け入れられる。そして、各工程で枚葉処理が行われ
る。レジスト塗布工程、露光工程及び現像工程は複数の
パターン形成工程で共用されるため、薄膜形成工程が終
了した基板は、レジスト塗布工程に搬送され、現像工程
を経てエッチング工程に受け入れられる。パターン形成
工程毎に設けられた洗浄工程、薄膜形成工程、エッチン
グ工程及びレジスト剥離工程はフローショップ方式のた
め、基板の搬送経路がジョブショップ方式に比較して単
純になる。

【００１１】請求項２に記載の発明では、請求項１に記
載の発明において、第１のゾーンに配置された各パター
ン形成工程間及びパターン形成工程内のフローショップ
方式の各工程間の基板の搬送はそれぞれ個別の搬送装置
を介して行われる。第１のゾーンと第２のゾーンとの間
の基板の搬送は自走型搬送車を介して行われる。即ち、
薄膜形成工程で処理が完了した基板は、自走型搬送車を
介してレジスト塗布工程に搬送される。また、現像処理
が完了した基板は、自走型搬送車を介してエッチング工
程に搬送される。従って、複数のパターン形成工程でレ
ジスト塗布工程、露光工程及び現像工程を共用しても基
板の搬送が円滑に行われる。

【００１２】請求項３に記載の発明では、請求項２に記
載の発明において、基板がストッカーに一時保管され、
ストッカーがバッファの役割を果たす。請求項４に記載
の発明では、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載
の発明において、前記フローショップ方式の各工程は各
処理装置がほぼ一列に配置されているため、各工程間を
連絡する搬送装置の配置が簡単になる。

【００１３】請求項５に記載の発明では、請求項４に記
載の発明において、前記フローショップ方式の各工程で
の基板の搬送は、各工程を連絡する共通の経路に沿って
基板を往復搬送可能な搬送装置によって行われる。例え
ば、検査工程を各工程共通とすると、基板は検査工程と
他の工程との間を繰り返し搬送される。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明をフラットパネルデ
ィスプレイとしての液晶表示装置の駆動回路の製造ライ
ンに具体化した一実施の形態を図１〜図３に従って説明
する。

【００１５】図１に示すように、駆動回路としてのＴＦ
Ｔ（薄膜トランジスタ）の製造ライン１を構成する複数
のパターン形成工程は、洗浄工程２、薄膜形成工程３、
レジスト塗布工程４、露光工程５、現像工程６、エッチ
ング工程７及びレジスト剥離工程８を備えている。フォ
トリソグラフ工程を構成するレジスト塗布工程４、露光
工程５及び現像工程６を除く各工程２，３，７，８はＴ
ＦＴの各層のパターン形成工程毎にフローショップ方式
で配置されている。レジスト塗布工程４、露光工程５及
び現像工程６は複数のパターン形成工程で共用するた
め、各パターン形成工程の配置とは関係なく配置されて
いる。この実施の形態ではパターン形成工程の数が７に
対して、レジスト塗布工程４、露光工程５及び現像工程
６は２組設けられている。現像工程６の近傍にはストッ
カー９がそれぞれ設けられている。

【００１６】フローショップ方式の各工程は第１のゾー
ンとして配置され、レジスト塗布工程４、露光工程５及
び現像工程６は第２のゾーンとして配置されている。こ
の実施の形態ではフローショップ方式の各工程は、自走
型搬送車１０のループ状の走行路１１の外側に該走行路
１１に沿って配置されている。レジスト塗布工程４、露
光工程５及び現像工程６は走行路１１の内側に配置され
ている。従って、ループ状の走行路１１の外側が第１の
ゾーンとなり、走行路１１の内側が第２のゾーンとな
る。第１のゾーン及び第２のゾーンとの間の基板として
のガラス基板１２（図３に図示）の搬送は自走型搬送車
１０を介して行われる。

【００１７】フローショップ方式の各工程はガラス基板
１２を１枚ずつ順次受け入れて枚葉処理を行うように構
成され、各工程間はガラス基板１２を１枚ずつ順次搬送
する搬送装置１３（図２及び図３に図示）で連結されて
いる。各工程間のガラス基板１２の搬送はカセット等を
使用せずに、ガラス基板１２を搬送装置１３の支持部が
直接支持した状態で行われるようになっている。各工程
は各工程の処理装置がほぼ一列に配置されている。

【００１８】各パターン形成工程の洗浄工程２及び薄膜
形成工程３はそれぞれ隣接して配置され、エッチング工
程７及びレジスト剥離工程８はそれぞれ隣接して配置さ
れている。プロセスフローに従って配設された装置間の
必要箇所に移載ステーション１４が配設されている。こ
の実施の形態では、移載ステーション１４は薄膜形成工
程３とエッチング工程７との間に配設されている。移載
ステーション１４は薄膜形成処理が完了したガラス基板
１２を自走型搬送車１０に載置された収納ステージ（図
示せず）に移載する作業と、現像処理工程６で現像処理
が完了したガラス基板１２を自走型搬送車１０の収納ス
テージから１枚ずつ搬送装置１３上に移載する作業とを
行う。図２に示すように、ループ状の走行路１１には各
移載ステーション１４と対応する箇所に迂回路としての
待避通路１１ａが設けられている。

【００１９】図３に示すように、各工程間あるいは工程
と移載ステーション１４間を連結する搬送装置１３は、
ガラス基板１２の下面を支持する受け台１５を備えた移
動体１６がレール１７に沿って往復移動する構成となっ
ている。移動体１６は例えば駆動源としてリニアモータ
を使用している。受け台１５は図３に鎖線で示す上昇位
置と、実線で示す待機位置とに配置可能となっている。
搬送装置１３はレール１７及び移動体１６の部分がカバ
ー１３ａで覆われ、受け台１５がカバー１３ａの外に出
た状態で移動するようになっている。各搬送装置１３は
同一パターン形成工程内では一直線上に配置され、各搬
送装置１３の端部には搬送装置１３と各工程の処理装置
との間でガラス基板１２の受渡を行うロボット（ハンド
ラー）１８，１９が配設されている。

【００２０】薄膜形成工程３に配置されたＣＶＤ（Chem
ical Vapor Deposition)装置２０と対応する位置には、
搬送装置１３の受け台１５上とＣＶＤ装置２０のロード
ロック室２１との間でガラス基板１２の向きを１８０度
変更して受け渡すロボット１８が配設されている。その
他の各工程及び移載ステーション１４と対応する位置に
は、ガラス基板１２の向きを９０度変更して受渡を行う
ロボット１９が配設されている。

【００２１】レジスト塗布工程４と対応する位置には自
走型搬送車１０に載置された収納ステージからガラス基
板１２を１枚ずつレジスト塗布工程４の搬送装置１３に
受け渡すロボット（図示せず）が配設されている。現像
工程６と対応する位置には、現像工程６の搬送装置１３
上のガラス基板１２を自走型搬送車１０に載置された収
納ステージに収容するように受け渡すロボット（図示せ
ず）が配設されている。走行路１１にはレジスト塗布工
程４及び現像工程６の前記ロボットと対応する箇所に待
避通路１１ａが設けられている。

【００２２】ＣＶＤ装置２０はロードロック室２１と、
ロボット（図示せず）が内蔵されたトランスファ室２２
と、プロセス室２３とが直線状に配列された構成となっ
ている。通常ＣＶＤ装置２０は薄膜形成工程３に１台で
あるが、絶縁膜のパターン形成工程では２台平行に配置
されている。

【００２３】次に前記のように構成された製造ライン１
の作用を説明する。図示しない搬送装置により製造ライ
ン１に１枚ずつガラス基板１２が搬入され、複数のパタ
ーン形成工程を経てＴＦＴアレイ基板が完成する。完成
したＴＦＴアレイ基板はカラーフィルタ形成工程に搬出
される。即ち、ガラス基板１２は基本的に１枚ずつ図１
に矢印で示すように各パターン形成工程を順次フローシ
ョップ的な流れで移動する。

【００２４】各パターン形成工程では、ガラス基板１２
は洗浄工程２、薄膜形成工程３、レジスト塗布工程４、
露光工程５、現像工程６、エッチング工程７及びレジス
ト剥離工程８の順に１枚ずつ処理を受ける。ガラス基板
１２は洗浄工程２と薄膜形成工程３、薄膜形成工程３と
移載ステーション１４、移載ステーション１４とエッチ
ング工程７、エッチング工程７とレジスト剥離工程８と
の間はそれぞれ搬送装置１３を介して搬送される。ガラ
ス基板１２は移載ステーション１４とレジスト塗布工程
４、現像工程６と移載ステーション１４との間は自走型
搬送車１０を介して搬送される。

【００２５】前工程から搬送装置１３を介して搬送され
てきたガラス基板１２は、当該工程の処理装置と対応す
る位置で停止し、ロボット１８又はロボット１９により
当該工程の処理装置に受け渡される。当該工程の処理が
完了したガラス基板１２はロボット１８又はロボット１
９により搬送装置１３の移動体１６に受け渡される。移
載ステーション１４と対応する位置に搬送されたガラス
基板１２はロボット１８により、移動体１６と自走型搬
送車１０との間で受渡が行われる。移載ステーション１
４でのガラス基板１２の受渡は、自走型搬送車１０が移
載ステーション１４と対応する待避通路１１ａに停止し
た状態で行われる。

【００２６】薄膜形成工程３と移載ステーション１４と
を連結する搬送装置１３の移動体１６に支持されたガラ
ス基板１２は、ロボット１８により自走型搬送車１０の
収納ステージに搬入される。収納ステージに所定枚数収
容されると、自走型搬送車１０によりガラス基板１２が
第２のゾーンのレジスト塗布工程４へ搬送される。収納
ステージに収容されて第２のゾーンの現像工程６から自
走型搬送車１０により移載ステーション１４まで搬送さ
れたガラス基板１２は、ロボット１８により収納ステー
ジから１枚ずつ取り出されて移載ステーション１４とエ
ッチング工程７とを連結する搬送装置１３の移動体１６
上に受け渡される。

【００２７】レジスト塗布工程４、露光工程５及び現像
工程６の処理能力は大きいため、現像処理が完了したガ
ラス基板１２は一旦ストッカー９に収容される。その
後、自走型搬送車１０の収納ステージに所定枚数収容さ
れた状態で移載ステーション１４へ搬送される。

【００２８】この実施の形態では以下の効果を有する。 （１） ＴＦＴの各層のパターン形成工程毎に基本的に
フローショップ方式で各工程が配置され、フローショッ
プ方式の各工程でガラス基板を１枚ずつ受け入れて枚葉
処理が行われる。従って、１枚のＴＦＴが完成するまで
の時間が短縮され、在庫を少なくできる。また、仕掛品
の検査は１枚の処理が完了した段階でできるため、複数
枚の処理が完了した段階で検査が行われる場合に比較し
て、工程に故障が発生した際の歩留まりが向上する。

【００２９】（２） 第１のゾーンと第２のゾーンとの
間のガラス基板１２の搬送が、両ゾーン間に配置された
自走型搬送車１０を介して行われる。従って、複数のパ
ターン形成工程でレジスト塗布工程４、露光工程５及び
現像工程６を共用しても、ガラス基板１２の搬送が円滑
に行われる。

【００３０】（３） フローショップ方式の各工程は各
処理装置がほぼ一列に配置されているため、各工程間で
ガラス基板１２を搬送する搬送装置１３の配置が簡単に
なるとともに、メンテナンス作業がやり易くなる。

【００３１】（４） 各工程間のガラス基板１２の搬送
がカセット（トレイ）を使用せずに行われるため、処理
装置と搬送装置１３との間の移載時にガラス基板１２と
カセットとの衝突でガラス基板１２が破損する虞がな
い。

【００３２】（５） 自走型搬送車１０の走行路１１が
単純なループ状に形成され、走行路１１の外側にフロー
ショップ方式の各工程が配置され、走行路１１の内側に
レジスト塗布工程４、露光工程５及び現像工程６が配置
されている。従って、走行路１１の配置が簡単になる。

【００３３】（６） 複数のパターン形成工程で共用す
る処理装置を備えた第２のゾーン、この実施の形態では
現像工程にストッカー９が設けられている。従って、レ
ジスト塗布工程４、露光工程５及び現像工程６の処理時
間と、エッチング工程での処理時間とのバランスが崩れ
ても、ガラス基板１２をストッカー９に一時保管するこ
とにより、ストッカー９がバッファの役割を果たし、各
工程間の流れが円滑になる。

【００３４】（７） 走行路１１の各移載ステーション
１４と対応する位置に待避通路１１ａが設けられている
ため、１台の自走型搬送車１０が移載ステーション１４
と対応する位置で停止して移載作業中の状態でも、後続
の自走型搬送車１０は支障無く当該移載ステーション１
４を通過できる。

【００３５】（８） ＣＶＤ装置２０はプロセス室２３
が１個で枚葉処理を行う構成のため、ロードロック室２
１、トランスファ室２２及びプロセス室２３の容積が小
さくなり、装置の小型化が容易になる。また、ロードロ
ック室２１、トランスファ室２２及びプロセス室２３を
所定圧力まで減圧するため、及び所定の圧力まで昇圧す
るための時間を短縮でき、１枚当たりの処理時間を短縮
できる。また、他の真空プロセス装置も同様な効果を有
する。

【００３６】なお、実施の形態は前記に限定されるもの
ではなく、例えば、次のように具体化してもよい。 ○ 図５に示すように、フローショップ方式の各工程間
を共通の搬送装置１３で連結する構成としてもよい。洗
浄工程２、薄膜形成工程３、エッチング工程７及びレジ
スト剥離工程８の各工程を１台の搬送装置１３に沿って
配置し、搬送装置１３の端部に移載ステーション１４を
配置する。そして、各工程２，３，７，８に共通の検査
工程２４を搬送装置１３に沿って配置する。各工程の搬
送装置１３と対応する位置にはロボット１８が配置され
ている。

【００３７】この実施の形態では各工程から所望の別の
工程へのガラス基板１２の搬送が共通の搬送装置１３の
移動体１６を介して行われる。各工程の処理が完了した
ガラス基板１２は共通の検査工程２４で検査が行われた
後、次の工程に送られる。また、洗浄工程２は処理能力
が大きいので、他の工程で洗浄が必要な場合に当該工程
に洗浄装置を配置せずに、洗浄工程２の洗浄装置を共用
するようにしている。従って、ガラス基板１２は大きく
見れば工程順にフローショップ的な流れで移動するが、
洗浄工程２及び検査工程２４との間は複数回往復移動す
る。その結果、移動体１６はレール１７上を頻繁に往復
移動する。即ち、移動体１６はシャトルのようにガラス
基板１２を往復搬送する。この実施の形態の場合は、検
査工程を各工程毎に設ける必要がなく、洗浄装置も洗浄
工程２のものを共用するので、その分、設備費を低減で
きるとともに設置スペースが小さくなる。なお、各工程
共通の搬送装置１３の他に、隣接する工程間を連結する
搬送装置１３を設けてもよい。

【００３８】○ 図４に示すように、ループ状の走行路
１１の内側に、各パターン形成工程のフローショップ方
式の各工程を平行に配置し、レジスト塗布工程４、露光
工程５及び現像工程６からなるリソグラフ工程をフロー
ショップ方式の各工程と平行に配置する。そして、各パ
ターン形成工程毎にフローショップ方式の各工程間を共
通の搬送装置１３で連結する。各搬送装置１３の両端に
は移載ステーション１４が配設されている。レジスト塗
布工程４及びストッカー９と対応する位置には自走型搬
送車１０の収納ステージとの間でガラス基板１２の受渡
しを行うロボットが配設されている。この実施の形態で
も検査工程２４や洗浄装置が同一パターン形成工程毎に
共用される。そして、各工程間のガラス基板１２の搬送
は搬送装置１３によって行われ、パターン形成工程間及
びリソグラフ工程との間の搬送は自走型搬送車１０によ
って行われる。

【００３９】○ ループ状の走行路１１の内側に、完成
したＴＦＴアレイ基板と組み合わせて液晶パネルを構成
するカラーフィルタ製造工程を配置してもよい。フロー
ショップ方式の各工程をループ状の走行路１１の外側に
配置した場合、走行路の内側に２組のレジスト塗布工程
４、露光工程５及び現像工程６を配置した残りのスペー
スにカラーフィルタ製造工程を配置できる。従って、工
場のスペースを効率良く利用できる。

【００４０】○ フローショップ方式の各工程をループ
状の走行路１１の内側に、走行路１１に沿って配置し、
レジスト塗布工程４、露光工程５及び現像工程６を走行
路１１の外側に配置してもよい。

【００４１】○ フローショップ方式の各工程に沿って
配置される走行路１１を単純なループ状（環状）ではな
く、蛇行部分と直線部分とが組み合わされた無端状とし
てもよい。

【００４２】○ フローショップ方式の各工程の内側に
配置されたループ状の走行路１１に沿って走行する自走
型搬送車は、天井に設置された軌道に沿って走行するタ
イプの搬送車であってもよい。

【００４３】○ 複数のパターン形成工程で共用するレ
ジスト塗布工程４、露光工程５及び現像工程６と、その
前後の工程との間でガラス基板１２を搬送する自走型搬
送車１０の走行路１１は無端状に限らず、他の形状でも
よい。

【００４４】○ 真空プロセス装置はロードロック室、
トランスファ室及びプロセス室を各１個ずつ備えた構成
に限らず、ロードロック室を搬入用と搬出用に１個ずつ
設けたり、プロセス室を複数（例えば２個）設けてもよ
い。また、ロードロック室、トランスファ室及びプロセ
ス室を各１個ずつ備えた構成において、各室を一直線上
に配置せずに、トランスファ室内のロボットが例えば９
０°回動することでロードロック室とプロセス室との間
でガラス基板１２の受渡が可能な構成としてもよい。

【００４５】○ 第１のゾーンと第２のゾーンとの間の
ガラス基板１２の搬送を、ガラス基板１２を収納ステー
ジに複数枚収容した状態ではなく、１枚ずつ搬送しても
よい。現像工程６での処理能力がエッチング工程７の処
理能力より高いため、移載ステーション１４にはガラス
基板１２を一時保管する保管部が設けられる。そして、
ロボット１９は現像工程６からガラス基板１２を搬送し
てきた自走型搬送車１０が待避通路１１ａで停止する
と、ガラス基板１２を自走型搬送車１０上から保管部に
受け渡す。そして、移載ステーション１４とエッチング
工程７とを連結する搬送装置１３の移動体１６上へはガ
ラス基板１２を保管部から受け渡す。

【００４６】○ 各工程間でガラス基板１２を搬送する
搬送装置１３として、レール１７に沿って往復移動する
移動体１６を備えた構成に代えて、搬送コンベアを使用
してもよい。

【００４７】○ 液晶パネルの駆動回路に限らず、プラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）やＦＥＤ（Field Em
ission Display) 等、他のフラットパネルディスプレイ
の駆動回路の製造ラインに適用してもよい。

【００４８】前記実施の形態から把握できる請求項記載
以外の発明（技術思想）について、以下にその効果とと
もに記載する。 （１） 請求項２に記載の発明において、前記自走型搬
送車はループ状に形成された走行路に沿って走行し、前
記フローショップ方式の各パターン形成工程は前記走行
路の外側に該走行路に沿って配置され、レジスト塗布工
程、露光工程及び現像工程は前記走行路の内側に配置さ
れている。この場合、走行路の配置が簡単になる。

【００４９】（２） （１）に記載の発明において、前
記フローショップ方式に配置された各パターン形成工程
の薄膜形成工程とエッチング工程との間には移載ステー
ションが配置され、前記ループ状の走行路には前記各移
載ステーションと対応する箇所に迂回路が設けられてい
る。この場合、１台の自走型搬送車が移載ステーション
と対応する位置で停止して移載作業中の状態でも、後続
の自走型搬送車は支障無く当該移載ステーションを通過
できる。

【００５０】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１〜請求項
５に記載の発明によれば、１枚の駆動回路が完成するま
での時間を短縮して、在庫を少なくすることができる。

【００５１】請求項２に記載の発明によれば、複数のパ
ターン形成工程でレジスト塗布工程、露光工程及び現像
工程を共用しても、ガラス基板の搬送を自走型搬送車に
より円滑に行うことができる。

【００５２】請求項３に記載の発明によれば、レジスト
塗布工程、露光工程及び現像工程の処理時間とエッチン
グ工程の処理時間とのバランスが崩れても、ガラス基板
をストッカーに一時保管することにより、各工程間の流
れが円滑になる。

【００５３】請求項４に記載の発明によれば、フローシ
ョップ方式の各工程間を連絡する搬送装置の配置が簡単
になるとともに、メンテナンス作業がやり易くなる。請
求項５に記載の発明によれば、製造ラインを短く形成で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 一実施の形態の概略構成図。

【図２】 部分概略平面図。

【図３】 搬送装置の概略側面図。

【図４】 別の実施の形態の概略構成図。

【図５】 別の実施の形態の概略構成図。

【図６】 駆動回路のパターン形成工程のフローチャー
ト。

【符号の説明】

１…製造ライン、２…洗浄工程、３…薄膜形成工程、４
…レジスト塗布工程、５…露光工程、６…現像工程、７
…エッチング工程、８…レジスト剥離工程、９…ストッ
カー、１０…自走型搬送車、１１…走行路、１２…ガラ
ス基板、２０…処理装置としてのＣＶＤ装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 進 愛知県刈谷市豊田町２丁目１番地 株式会 社豊田自動織機製作所内 (72)発明者 相場 武 東京都品川区北品川６丁目７番地35号 ソ ニー 株式会社内 (72)発明者 小山 雅弘 東京都品川区北品川６丁目７番地35号 ソ ニー 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 FA17 FA18 FA21 FA25 FA30 HA08 MA20 5G435 BB12 EE33 KK05

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 駆動回路の製造工程を構成する、洗浄工
   程、薄膜形成工程、レジスト塗布工程、露光工程、現像
   工程、エッチング工程及びレジスト剥離工程のうち、レ
   ジスト塗布工程、露光工程及び現像工程を除く各工程
   を、パターン形成工程毎にフローショップ方式とし、レ
   ジスト塗布工程、露光工程及び現像工程に使用する処理
   装置は複数のパターン形成工程で共用し、かつ前記フロ
   ーショップ方式の各工程で基板を１枚ずつ順次受け入れ
   て枚葉処理を行うフラットパネルディスプレイの製造ラ
   イン。
2. 【請求項２】 前記フローショップ方式の各工程は第１
   のゾーンとして配置され、前記レジスト塗布工程、露光
   工程及び現像工程は第２のゾーンとして配置され、第１
   のゾーンと第２のゾーンとの間の基板の搬送は自走型搬
   送車を介して行われる請求項１に記載のフラットパネル
   ディスプレイの製造ライン。
3. 【請求項３】 前記第２のゾーンには基板を一時保管す
   るストッカーが設けられている請求項２に記載のフラッ
   トパネルディスプレイの製造ライン。
4. 【請求項４】 前記フローショップ方式の各工程は各処
   理装置がほぼ一列に配置され、各工程間は基板を搬送す
   る搬送装置で連結されている請求項１〜請求項３のいず
   れか一項に記載のフラットパネルディスプレイの製造ラ
   イン。
5. 【請求項５】 前記フローショップ方式の各工程での基
   板の搬送は、各工程の任意の二つの工程間で基板を搬送
   可能とするため、各工程を連絡する共通の経路に沿って
   基板を往復搬送可能な搬送装置を備えたシャトル方式で
   行われる請求項４に記載のフラットパネルディスプレイ
   の製造ライン。