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JP2000084811A - ウェーハ面取り装置 - Google Patents

ウェーハ面取り装置

Info

Publication number
JP2000084811A
JP2000084811A JP10261902A JP26190298A JP2000084811A JP 2000084811 A JP2000084811 A JP 2000084811A JP 10261902 A JP10261902 A JP 10261902A JP 26190298 A JP26190298 A JP 26190298A JP 2000084811 A JP2000084811 A JP 2000084811A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
measurement
unit
measuring
section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10261902A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazumi Ikeda
一実 池田
Mikio Hisamatsu
美樹雄 久松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP10261902A priority Critical patent/JP2000084811A/ja
Publication of JP2000084811A publication Critical patent/JP2000084811A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】機上でウェーハの外形測定と、傷、欠けの有無
の測定を行うことができるウェーハ面取り装置の提供。 【解決手段】ウェーハWの外形及び面取り面に生じてい
る傷等の有無を画像処理によって測定する後測定装置4
8を装置本体に組み込む。面取り加工されたウェーハW
は、この後測定装置48で外形及び傷等の有無を測定さ
れる。そして、その測定結果に基づいて良好ウェーハW
はウェーハカセット30に、また、不良ウェーハWX
不良ウェーハ回収カセット124に回収される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はウェーハ面取り装置
に係り、特に半導体素子の素材となるシリコン等のウェ
ーハを面取り加工するウェーハ面取り装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシン等
の切断機で薄くスライスされたのち、割れや欠けを防止
するために周縁をウェーハ面取り装置によって面取り加
工される。このウェーハ面取り装置で面取り加工するウ
ェーハには所定の規格があり、ウェーハ面取り装置は、
その規格に合致するように加工条件を設定してウェーハ
の面取り加工を行うようにしている。
【0003】しかしながら、正確に加工条件を設定した
場合であっても、常に規格通りのウェーハが面取り加工
されるとは限らず、砥石の磨耗具合や研削液の供給具合
等により、規格から外れて加工される場合がある。この
ため、通常は面取り加工されたウェーハの外形を測定し
て、規格通りにウェーハが面取り加工されているかが検
査される。従来、この面取り加工後の検査は、ウェーハ
面取り装置とは別に設置された検査部に搬送においてオ
ペレータが1枚ずつ又は抜き取りで検査していた。
【0004】また、ウェーハは面取り加工することによ
って面取り面に傷や欠けが発生する場合があり、このよ
うな傷や欠けが発生したウェーハは不良品となるため、
後段の処理装置に供給する前に予め取り除いておく必要
がある。このため、通常、ウェーハは面取り加工された
のち、面取り面に傷や欠けが無いかが検査される。そし
て、従来は、この検査をオペレータが目視またはスコー
プを用いて1枚ずつ又は抜き取りで検査していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ように、加工後に別途検査部に搬送してウェーハの外形
測定や不良検査を行う方式では、生産効率が悪く、ま
た、オペレータの負担も多大であるという欠点があっ
た。本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、
機上でウェーハの外形測定、外周部断面形状測定、及び
傷、欠けの有無の測定を行うことができるウェーハ面取
り装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は前
記目的を達成するために、ウェーハを面取り加工する加
工部と、該加工部にウェーハを供給する供給部と、該加
工部で面取り加工されたウェーハの面取り面に生じてい
る傷、欠けを検出する検出部と、該検出部で検出を終え
たウェーハを回収する回収部と、を備えたウェーハ面取
り装置であって、前記検出部は、ウェーハを保持して回
転させる測定テーブルと、前記測定テーブルに保持され
て回転するウェーハの面取り面を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段で撮像して得られた画像データに基づいて
前記ウェーハの面取り面に生じた傷、欠けを検出する画
像データ処理手段と、からなることを特徴とする。
【0007】本発明によれば、機上に設置した検出部で
画像処理によってウェーハの面取り面に生じた傷や欠け
を検出する。これにより、加工後に別途検査部にウェー
ハを搬送して検査する手間が省け、生産効率が向上す
る。また、請求項5に係る発明は前記目的を達成するた
めに、ウェーハを面取り加工する加工部と、該加工部に
ウェーハを供給する供給部と、該加工部で面取り加工さ
れたウェーハの外形を測定する測定部と、該測定部で測
定を終えたウェーハを回収する回収部と、を備えたウェ
ーハ面取り装置であって、前記測定部は、ウェーハを保
持して回転する測定テーブルと、前記測定テーブルの回
転中心から所定距離離れた位置に設置され、該測定テー
ブルに保持されて回転するウェーハの外周部を該ウェー
ハの軸線に沿った方向から撮像する撮像手段と、前記撮
像手段で撮像して得られた画像データに基づいて前記ウ
ェーハの外形を測定する画像データ処理手段と、からな
ることを特徴とする。
【0008】本発明によれば、機上に設置した測定部で
画像処理によってウェーハの外形測定を行う。これによ
り、加工後に別途検査部にウェーハを搬送して測定する
手間が省け、生産効率が向上する。また、請求項5に係
る発明は前記目的を達成するために、ウェーハを面取り
加工する加工部と、該加工部にウェーハを供給する供給
部と、該加工部で面取り加工されたウェーハの外周部断
面形状を測定する測定部と、該測定部で測定を終えたウ
ェーハを回収する回収部と、を備えたウェーハ面取り装
置であって、前記測定部は、ウェーハを保持して回転す
る測定テーブルと、前記測定テーブルの回転中心から所
定距離離れた位置に設置され、該測定テーブルに保持さ
れて回転するウェーハの外周部を該ウェーハの軸線に対
して直交する方向から撮像する撮像手段と、前記撮像手
段で撮像して得られた画像データに基づいて前記ウェー
ハの外周部断面形状を測定する画像データ処理手段と、
からなることを特徴とする。
【0009】本発明によれば、機上に設置した測定部で
画像処理によってウェーハの外周部断面形状を測定を行
う。これにより、加工後に別途検査部にウェーハを搬送
して測定する手間が省け、生産効率が向上する。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って本発明に
係るウェーハ面取り装置の好ましい実施の形態について
詳説する。図1は、本発明に係るウェーハ面取り装置の
第1の実施の形態の全体構成を示す平面図であり、図2
は、その斜視図である。
【0011】図1及び図2に示すように、第1の実施の
形態のウェーハ面取り装置10は、供給回収部12、測
定搬送部14、測定部16、加工部18、洗浄部20、
加工搬送部22、不良ウェーハ回収部24及びマスター
ウェーハ格納部26から構成されている。まず、供給回
収部12の構成について説明する。供給回収部12で
は、面取り加工するウェーハWをウェーハカセット30
から供給するとともに、面取り加工されたウェーハWを
ウェーハカセット30に回収する。このウェーハ供給回
収部12は、図1に示すように、4台のカセットテーブ
ル32、32、…と、1台の供給回収ロボット34から
構成されている。
【0012】4台のカセットテーブル32、32、…
は、直列して配置されており、このカセットテーブル3
2、32、…上にウェーハカセット30、30、…がセ
ットされる。供給回収ロボット34は、カセットテーブ
ル32、32、…にセットされた各ウェーハカセット3
0からウェーハWを1枚ずつ取り出して測定搬送部14
に供給するとともに、面取り加工されたウェーハWを測
定搬送部14からウェーハカセット30に収納する。
【0013】この供給回収ロボット34の搬送アーム3
6は、上面部に図示しない吸着パッドを有しており、こ
の吸着パッドでウェーハWの下面を真空吸着してウェー
ハWを保持する。また、この供給回収ロボット34の搬
送アーム36は、ターンテーブル38上を前後移動する
とともに、ターンテーブル38が回転することにより旋
回し、ターンテーブル38が上下動することにより昇降
移動する。さらに、この供給回収ロボット34の搬送ア
ーム36は、ターンテーブル38が図中Y方向にスライ
ド移動することにより、4台のカセットテーブル32、
32、…に沿ってスライド移動する。すなわち、この供
給回収ロボット34の搬送アーム36は、ウェーハWを
保持した状態で前後、左右、昇降移動及び旋回すること
ができ、この動作を組み合わせることによりウェーハW
の搬送を行う。
【0014】次に、測定搬送部14の構成について説明
する。測定搬送部14は、供給回収部12と測定部16
との間、加工搬送部22と測定部16との間、及び不良
ウェーハ回収部24と測定部16との間におけるウェー
ハWの搬送を行う。この測定搬送部14には測定搬送ロ
ボット40が備えられている。測定搬送ロボット40
は、上下一対からなる搬送アーム42A、42Bを備え
ており、各搬送アーム42A、42Bは、それぞれその
上面部に図示しない吸着パッドを有している。各搬送ア
ーム42A、42Bは、この吸着パッドでウェーハWの
下面部を真空吸着してウェーハWを保持する。また、こ
の測定搬送ロボット40の搬送アーム42A、42B
は、ターンテーブル44上を前後移動するとともに、タ
ーンテーブル44が回転することにより旋回し、ターン
テーブル44が上下動することにより昇降移動する。す
なわち、この測定搬送ロボット40の搬送アーム42
A、42Bは、ウェーハWを保持した状態で前後移動、
昇降移動及び旋回することができ、この動作を組み合わ
せることによりウェーハWの搬送を行う。なお、以下の
説明では、必要に応じて上側の搬送アーム42Aを『第
1搬送アーム42A』と呼び、下側の搬送アーム42B
を『第2搬送アーム42B』と呼ぶ。
【0015】次に、測定部16の構成について説明す
る。測定部16では、面取り加工するウェーハWの前測
定と、面取り加工されたウェーハWの後測定を行う。こ
の測定部16は、前測定装置46と後測定装置48とか
ら構成されている。なお、後測定装置48は、前測定装
置46の上部に設置されており、このため、図1には後
測定装置48のみが図示されている。
【0016】前測定装置46は、図2に示すように、測
定テーブル50、プリセンタリングセンサ52、厚さセ
ンサ54、プリアライメントセンサ56及びファインア
ライメントセンサ58から構成されている。測定テーブ
ル50は、回転及び上下動自在に構成されており、ウェ
ーハWの裏面部を吸着保持して回転させる。プリセンタ
リングセンサ52は、測定搬送ロボット40によって測
定テーブル50に搬送されるウェーハWの概略中心位置
を測定する。厚さセンサ54は、ウェーハWの厚さを測
定する。プリアライメントセンサ56は、ウェーハWの
外周に形成されているノッチ又はオリフラの概略位置を
検出する。ファインアライメントセンサ58は、ノッチ
付きウェーハWの直径、中心位置、ノッチ位置及びノッ
チ深さを測定する。また、オリフラ付きウェーハWのA
直径、B直径、中心位置及びオリフラ位置を測定する。
【0017】以上のように構成された前測定装置46で
は、次のようにしてウェーハWの前測定を行う。測定搬
送部14の測定搬送ロボット40は、供給回収部12か
らウェーハWを受け取ると、そのウェーハWを厚さセン
サ54に向けて搬送する。この搬送過程でウェーハWが
プリセンタリングセンサ52を通過し、これにより、ウ
ェーハWの概略中心位置が測定される。そして、その測
定された概略中心位置情報に基づいて搬送アーム42
A、42Bの移動が制御され、ウェーハWの中心が厚さ
センサ54の測定位置に位置する。厚さセンサ54は、
そのウェーハWの中心部の厚さを測定する。
【0018】中心厚さの測定が終了すると、搬送アーム
42A、42Bが所定量後退する。この結果、ウェーハ
Wの中心が測定テーブル50の中心と略一致する。搬送
アーム42A、42Bは、測定テーブル50にウェーハ
Wを受け渡したのち、所定量後退して測定テーブル50
上から退避する。ウェーハWを受け取った測定テーブル
50は、ウェーハWを所定の回転速度で回転させる。回
転が安定すると、プリアライメントセンサ56が、その
ウェーハWのノッチの概略位置を測定する(オリフラ付
きウェーハWの場合は、オリフラ概略位置を測定す
る。)。
【0019】また、これと同時にファインアライメント
センサ58が、ウェーハWの直径を測定して、ウェーハ
Wの中心位置を正確に求める(オリフラ付きウェーハW
の場合は、A直径を測定して、ウェーハWの中心位置を
正確に求める。)。また、測定テーブル50に保持され
たウェーハWは、その外周部が厚さセンサ54の測定位
置に位置するので、厚さセンサ54が、そのウェーハW
の外周部の厚さを測定する。
【0020】以上の各測定が終了すると、測定テーブル
50の回転が停止する。そして、プリアライメントセン
サ56の測定結果に基づいて、測定テーブル50が所定
量回転して、ノッチが所定のノッチ測定位置に移動する
(オリフラ付きウェーハWの場合は、オリフラが所定の
オリフラ測定位置に移動する。)。ノッチがノッチ測定
位置に位置すると、測定テーブル50がゆっくりとウェ
ーハWを回転させる。そして、その回転するウェーハW
に対して、ファインアライメントセンサ58がノッチ位
置とノッチ深さを正確に測定する(オリフラ付きウェー
ハWの場合は、オリフラ位置とB直径を正確に測定す
る。)。
【0021】以上一連の工程を経ることにより、前測定
装置46によるウェーハWの前測定が終了する。後測定
装置48は、図2及び図3に示すように、測定テーブル
60、第1カメラ62A、第2カメラ62B、第1透過
照明装置64A、第2透過照明装置64B、第1反射照
明装置66A、第2反射照明装置66B、及び画像デー
タ処理装置68から構成されている。
【0022】測定テーブル60は、ウェーハWの裏面部
を真空吸着して保持し、回転及び上下動する。第1カメ
ラ62Aは、測定テーブル60に保持されたウェーハW
の表面周縁部を撮像し、第2カメラ62Bは、測定テー
ブル60に保持されたウェーハWの裏面周縁部を撮像す
る。この第1カメラ62Aと第2カメラ62Bは、測定
テーブル60の回転中心を通る直線上に設置されてお
り、互いに測定テーブル60の回転中心から等距離の位
置に設置されている。
【0023】第1透過照明装置64Aは、第1カメラ6
2Aと対向するように設置されており、ウェーハWの裏
面側から第1カメラ62Aに向けて透過光を照射する。
一方、第2透過照明装置64Bは、第2カメラ62Bと
対向するように設置されており、ウェーハWの表面側か
ら第2カメラ62Bに向けて透過光を照射する。第1反
射照明装置66Aは、第1カメラ62Aに撮像されるウ
ェーハWの裏面側の面取り面に向けて反射光を照射す
る。一方、第2反射照明装置66Bは、第2カメラ62
Bに撮像されるウェーハWの表面側の面取り面に向けて
反射光を照射する。
【0024】画像データ処理装置68は、第1カメラ6
2A、第2カメラ62Bで撮像して得られた画像データ
に基づいてウェーハの外形を測定するとともに、面取り
面に生じている傷や欠けの有無を検出する。後測定装置
48は、以上のように構成される。なお、具体的な測定
方法については、後に詳述する。
【0025】次に、加工部18の構成について説明す
る。加工部18ではウェーハWの面取り加工を行う。こ
の加工部18は、図1、図2、図4及び図5に示すよう
に、ウェーハ送り装置70、外周研削装置72及びノッ
チ研削装置74から構成されている。ウェーハ送り装置
70は、ウェーハWを吸着保持する研削テーブル76を
有しており、該研削テーブル76は、図示しない駆動手
段に駆動されて前後方向(Y軸方向)、左右方向(X軸
方向)及び上下方向(Z軸方向)の各方向に移動すると
ともに、図示しないモータに駆動されて中心軸(θ軸)
回りに回転する。
【0026】外周研削装置72は、図示しない外周モー
タに駆動されて回転する外周スピンドル80を有してお
り、この外周スピンドル80にウェーハWの外周を面取
り加工する外周研削砥石82が装着される。外周研削砥
石82はその外周面にウェーハWに要求される面取り形
状に対応した溝が形成されており(総形砥石)、この溝
にウェーハWの外周又はオリフラを押し当てることによ
り、外周又はオリフラが面取り加工される。
【0027】ノッチ研削装置74は、ノッチモータ84
に駆動されて回転するノッチスピンドル86を有してお
り、このノッチスピンドル86にウェーハWのノッチを
面取り加工するノッチ研削砥石88が装着される。ノッ
チ研削砥石88は、その外周面にノッチに要求される面
取り形状に対応した溝が形成されており(総形砥石)、
この溝にウェーハWのノッチを押し当てることにより、
ノッチが面取り加工される。
【0028】前記のごとく構成された加工部18では、
次のようにしてウェーハWを面取り加工する。なお、ウ
ェーハWは、その外周(円形の部分)と、オリフラ部又
はノッチ部を加工する場合では、それぞれ加工方法が異
なるので、各々の場合に分けて説明する。初めに、ウェ
ーハWの外周を面取り加工する場合について説明する。
まず、研削テーブル76上にウェーハWを載置し、その
載置されたウェーハWを研削テーブル76で吸着保持す
る。次に、外周研削砥石82を高速回転させる。次に、
研削テーブル76を外周研削砥石82に向けて移動させ
る。研削テーブル76が所定量移動することにより、ウ
ェーハWの外周が外周研削砥石82の溝に当接するの
で、その位置で研削テーブル76の移動を停止する。次
に、研削テーブル76を回転させる。この結果、ウェー
ハWの外周が外周研削砥石82に研削されて、面取り加
工される。
【0029】次に、ウェーハWのオリフラOFを面取り
加工する場合について説明する。まず、外周研削砥石8
2を高速回転させる。次に、研削テーブル76を外周研
削砥石82に向けて移動させる。これにより、オリフラ
の部分が外周研削砥石82の溝に当接するので、その位
置で研削テーブル76の移動を停止する。次に、研削テ
ーブル76をオリフラに沿って移動させる。これによ
り、ウェーハWのオリフラが外周研削砥石82に研削さ
れて、面取り加工される。
【0030】次に、ウェーハWのノッチを面取り加工す
る場合について説明する。まず、ノッチ研削砥石88を
高速回転させる。次に、研削テーブル76をノッチ研削
砥石88に向けて移動させる。これにより、ノッチの部
分がノッチ研削砥石88の溝に当接するので、その位置
で研削テーブル76の移動を停止する。次に、研削テー
ブル76をノッチの形状に沿って移動させる。すなわ
ち、ノッチは通常V字状に形成されているので、V字を
描くように研削テーブル76を移動させる。これによ
り、ウェーハWのノッチがノッチ研削砥石88に研削さ
れて、面取り加工される。
【0031】次に、洗浄部20の構成について説明す
る。洗浄部20では、面取り加工されたウェーハWの洗
浄を行う。この洗浄部20は、図1及び図2に示すよう
に、スピン洗浄装置90とウェーハ昇降装置92とから
構成されている。スピン洗浄装置90は、ウェーハWを
スピン洗浄する。すなわち、ウェーハWを回転させなが
ら、その表面に洗浄液をかけて洗浄する。ウェーハW
は、洗浄テーブル94に吸着保持されて回転し、この回
転するウェーハWに向けて図示しないノズルから洗浄液
が噴射される。
【0032】ウェーハ昇降装置92は、スピン洗浄装置
90によって洗浄されたウェーハWを昇降移動自在な昇
降アーム96によって所定高さの位置まで搬送する。こ
のウェーハ昇降装置92の昇降アーム96は、先端下部
に吸着パッド98を備えており、この吸着パッド98で
ウェーハWの上面を真空吸着してウェーハWを保持す
る。
【0033】次に、加工搬送部22の構成について説明
する。加工搬送部22は、測定部16と加工部18との
間、加工部18と洗浄部20との間、及び、洗浄部20
と測定搬送部14との間のウェーハWの搬送を行う。こ
の搬送部22は、図1に示すように、供給用トランスフ
ァー100と回収用トランスファー102とから構成さ
れている。
【0034】供給用トランスファー100は、測定部1
6の前測定装置46で前測定されたウェーハWを加工部
18の研削テーブル76に搬送する。この供給用トラン
スファー100は、水平ガイド104に沿って移動する
供給用水平スライドブロック106と、その供給用水平
スライドブロック106上に旋回及び上下動自在に設け
られた供給用トランスファーアーム108とから構成さ
れている。
【0035】供給用トランスファーアーム108は、先
端下部に吸着パッド110を備えており、この吸着パッ
ド110でウェーハWの上面を真空吸着してウェーハW
を保持する。回収用トランスファー102は、加工部1
8で面取り加工されたウェーハWを洗浄部20の洗浄テ
ーブル94上に搬送するとともに、洗浄部20で洗浄さ
れたウェーハWを測定搬送部14の測定搬送ロボット4
0に搬送する。この回収用トランスファー102は、水
平ガイド104に沿って移動する回収用水平スライドブ
ロック112と、その回収用水平スライドブロック11
2上に上下動自在に設けられた回収用トランスファーア
ーム116とから構成されている。
【0036】回収用トランスファーアーム116は、先
端下部に第1吸着パッド118を有するとともに、先端
上部に一対の第2吸着パッド120、120を有してい
る。加工部18で面取り加工されたウェーハWは、その
上面部を第1吸着パッド118に吸着保持されて洗浄部
20の洗浄テーブル94上に搬送される。また、洗浄部
20で洗浄されたウェーハWは、その下面部を第2吸着
パッド120に吸着保持されて測定搬送部14の測定搬
送ロボット40に搬送される。
【0037】なお、回収用トランスファー116と供給
用トランスファー108とは、互いに抵触しないように
上下方向に所定の間隔をもって配設されている。したが
って、回収用トランスファー116の第1吸着パッド1
18と第2吸着パッド120は、供給用トランスファー
108の吸着パッド110の真下に位置することができ
るようにされている。
【0038】以上のように構成された加工搬送部22で
は、その供給用トランスファーアーム108と回収用ト
ランスファーアーム116が、図6に示すように、『ウ
ェーハ受取位置』、『加工部受渡位置』、『待機位置』
及び『洗浄部受渡位置』の間を移動してウェーハWの搬
送を行う。なお、具体的な搬送方法については後に詳述
する。
【0039】次に、不良ウェーハ回収部24の構成につ
いて説明する。不良ウェーハ回収部24では、後測定装
置48の測定結果に基づいて不良ウェーハWX を回収す
る。この不良ウェーハ回収部24は、図1及び図2に示
すように、カセットテーブル122を有しており、この
カセットテーブル122上に不良ウェーハ回収用カセッ
ト124がセットされる。後測定装置48で不良ウェー
ハと判断されたウェーハWは、測定搬送部14の測定搬
送ロボット40に搬送されて、この不良ウェーハ回収用
カセット124に格納される。
【0040】次に、マスターウェーハ格納部26の構成
について説明する。マスターウェーハ格納部26は、測
定部16で使用するマスターウェーハWM を格納する。
このマスターウェーハ格納部26は、前記不良ウェーハ
回収部24の下部に設置されており、図示しないマスタ
ーウェーハ格納カセットを有している。マスターウェー
ハWM は、このマスターウェーハ格納カセットに格納さ
れている。
【0041】前記のごとく構成された第1の実施の形態
のウェーハ面取り装置10の作用は次の通りである。な
お、以下の説明では、ノッチ付きウェーハWを面取り加
工する場合について説明する。図1に示すように、ま
ず、供給回収ロボット34が、4つあるウェーハカセッ
ト30、30、…のうち1つのウェーハカセット30か
ら1枚のウェーハWを取り出す。供給回収ロボット34
は、その取り出したウェーハWを測定搬送ロボット40
の第2搬送アーム42Bに受け渡す。なお、このウェー
ハWの受け渡しは、次のように行われる。
【0042】初期状態において、測定搬送ロボット40
の搬送アーム42A、42Bは、所定の待機位置(図1
に示す位置)に位置して待機している。供給回収ロボッ
ト34の搬送アーム36は、ウェーハカセット30から
ウェーハWを取り出すと、所定のウェーハ受渡位置(図
1に示す位置)に移動する。供給回収ロボット34の搬
送アーム36がウェーハ受渡位置に移動すると、この供
給回収ロボット34の搬送アーム36に対向するように
測定搬送ロボット40の搬送アーム42A、42Bが所
定量旋回する。そして、この旋回した測定搬送ロボット
40の搬送アーム42A、42Bに対して供給回収ロボ
ット34の搬送アーム36が所定量前進し、測定搬送ロ
ボット40の第2搬送アーム42BにウェーハWを受け
渡す。
【0043】ウェーハWを受け渡した供給回収ロボット
34の搬送アーム36は所定量後退する。一方、測定搬
送ロボット40の搬送アーム42A、42Bは所定量旋
回して、元の待機位置に復帰する。これにより、ウェー
ハWの受け取りが完了する。この状態において、測定搬
送ロボット40の搬送アーム42A、42Bは、前測定
装置46の厚さ測定センサ54と対向するように位置す
る。
【0044】ウェーハWを受け取った測定搬送ロボット
40は、搬送アーム42A、42Bを前進させて、ウェ
ーハWを前測定装置46に搬送する。そして、この搬送
過程でプリセンタリングセンサ52を通過することによ
り、ウェーハWの概略中心位置が測定される。前測定装
置46に搬送されたウェーハWは、まず、厚さセンサ5
4によって中心部の厚さが測定される。そして、その測
定後、測定テーブル50に受け渡される。ウェーハWを
受け渡した測定搬送ロボット40の搬送アーム42A、
42Bは後退して測定テーブル50上から退避する。
【0045】一方、ウェーハWが受け渡された測定テー
ブル50は、ウェーハWを回転させ、この回転するウェ
ーハWに対して、プリアライメントセンサ56がノッチ
の概略位置を測定するとともに、ファインアライメント
センサ58がウェーハWの直径を測定し、ウェーハ中心
位置を正確に求める。また、これと同時に厚さセンサ5
4がウェーハWの外周部の厚さを測定する。
【0046】以上の各測定が終了すると、測定テーブル
50が回転を一時停止する。そして、プリアライメント
センサ58の測定結果に基づいて所定量回転し、ノッチ
を所定のノッチ測定位置に位置させる。ノッチがノッチ
測定位置に位置すると、測定テーブル50がゆっくりと
ウェーハWを回転させる。そして、その回転するウェー
ハWに対してファインアライメントセンサ58がノッチ
位置を正確に測定する。また、これと同時にノッチ深さ
を測定する。測定終了後、測定テーブル50は回転を停
止する。
【0047】以上により、ウェーハWの前測定が終了す
る。そして、この測定結果に基づいてウェーハWの位置
決めが行われる。位置決めは、次のようにして行われ
る。まず、測定テーブル50を所定量回転させてノッチ
を所定方向に向ける。なお、ノッチの位置は前測定の結
果から知ることができるので、測定テーブル50の回転
量は、この前測定の測定結果に基づいて決定する。
【0048】次に、研削テーブル76を所定の原点位置
からX−Y方向に所定量移動させる。これは、次述する
供給用トランスファーアーム108によってウェーハW
を測定テーブル50から研削テーブル76に搬送した際
に、研削テーブル76の中心とウェーハWの中心が一致
するようにするためである。ここで、原点位置は次のよ
うに設定されている。すなわち、中心が測定テーブル5
0の中心と一致しているウェーハWを供給トランスファ
ーアーム108によって研削テーブル76に搬送した場
合に、研削テーブル76の中心とウェーハWの中心とが
一致する位置に研削テーブル76の原点位置は設定され
ている。
【0049】なお、ウェーハWの中心位置は、前測定の
結果から知ることができるので、研削テーブル76の移
動量は、この前測定の測定結果に基づいて決定する。以
上によりウェーハWの位置決めが終了する。そして、こ
の位置決め終了後、測定テーブル50から研削テーブル
76にウェーハWが搬送される。搬送は、次のように行
われる。
【0050】上記の位置決め中、供給トランスファーア
ーム108は、図6に示すウェーハ受取位置に位置して
待機している。一方、回収トランスファーアーム116
は待機位置で待機している。位置決めが終了すると、供
給トランスファーアーム108が時計回りの方向に90
°旋回する。これにより、図6に2点破線で示すよう
に、供給トランスファーアーム108の吸着パッド11
0が、測定テーブル50の上方に位置する。供給トラン
スファーアーム108は所定量下降して測定テーブル5
0上のウェーハWを受け取り、その後再び所定量上昇す
る。そして、反時計回りの方向に90°旋回してウェー
ハ受取位置に復帰する。ウェーハ受取位置に復帰した供
給トランスファーアーム108は、水平ガイド104に
沿ってスライド移動することにより、図6に示す加工部
受渡位置に移動する。
【0051】加工部受渡位置には、前記のごとく所定位
置に位置決めされた研削テーブル76が待機しているの
で、供給トランスファーアーム108は所定量下降し
て、研削テーブル76にウェーハWを受け渡す。ウェー
ハWを受け渡した供給トランスファーアーム108は、
再び所定量上昇し、その後、水平ガイド104に沿って
スライド移動することにより、再びウェーハ受渡位置に
移動する。
【0052】一方、研削テーブル76は、その受け渡さ
れたウェーハWを真空吸着によって吸着保持する。ここ
で、研削テーブル76に保持されたウェーハWは、上述
した位置決め操作によって、その中心が研削テーブル7
6の中心と一致した状態で保持されるとともに、ノッチ
が所定方向に位置した状態で保持される。したがって、
改めて位置決めする必要がなく、そのまま加工を開始す
ることができる。加工部18は、研削テーブル76でウ
ェーハWを吸着保持したのち、そのウェーハWの面取り
加工を開始する。
【0053】ここで、加工部18がウェーハWの面取り
加工を行っているうちに、測定部16の前測定装置46
では、次に加工部18で面取り加工するウェーハWの前
測定をあらかじめ行っておく。また、これと同時に回収
用トランスファーアーム116が加工部受渡位置に移動
して待機している。加工部18で一連の面取り加工(外
周とノッチの面取り加工)が終了すると、研削テーブル
76は加工部受渡位置に移動する。研削テーブル76は
加工部受渡位置に移動すると、既に待機していた回収ト
ランスファーアーム116が所定量下降して、研削テー
ブル76からウェーハWを受け取り上昇する。回収トラ
ンスファーアーム116は、この後、水平ガイド104
に沿ってスライド移動することにより、図6に示す洗浄
部受渡位置に移動する。
【0054】洗浄部受渡位置に移動した回収トランスフ
ァーアーム116は、そこで所定距離下降して、スピン
洗浄装置90の洗浄テーブル94にウェーハWを受け渡
す。そして、受け渡したのち、再び所定距離上昇し、そ
の後、水平ガイド104に沿ってスライド移動すること
により、図6に示す待機位置に移動する。一方、ウェー
ハWを受け取ったスピン洗浄装置90は、回収トランス
ファーアーム116の上昇後、そのウェーハWの洗浄を
開始する。
【0055】ここで、上記のようにスピン洗浄装置90
においてウェーハWの洗浄が行われている間、上記同様
の工程を経て次に面取りされるウェーハWが加工部18
に供給される。そして、そのウェーハWの面取り加工が
行われる。すなわち、加工部18と洗浄部20において
同時にウェーハWの処理が行われる。スピン洗浄装置9
0でウェーハWの洗浄が終了すると、ウェーハ昇降装置
92の昇降アーム96が所定量下降して、洗浄テーブル
94からウェーハWを受け取る。ウェーハWを受け取っ
た昇降アーム96は、ウェーハWを保持したまま所定量
上昇して元の位置に復帰する。
【0056】一方、加工部18で次のウェーハWの面取
り加工が終了すると、上記同様の手順によって回収トラ
ンスファーアーム116が、そのウェーハWを研削テー
ブル76から受け取り、洗浄テーブル94に搬送する。
ここで、この洗浄テーブル94の上方には、先にスピン
洗浄装置90で洗浄されたウェーハWが、ウェーハ昇降
装置92の昇降アーム96に保持された状態で待機して
いるので、回収トランスファーアーム116は、加工部
18から搬送したウェーハWをスピン洗浄装置80に受
け渡したのち、所定量上昇して、そのウェーハWを昇降
アーム96から受け取る。この際、回収トランスファー
アーム116は、その先端上部に設けられている吸着パ
ッド120、120でウェーハWの裏面を吸着保持して
受け取る。ウェーハWを受け取った回収トランスファー
アーム116は所定量下降し待機位置に移動する。
【0057】ここで、上記のように加工部18で面取り
加工されたウェーハWが回収用トランスファーアーム1
16によってスピン洗浄装置90に搬送されると、加工
部18では次に面取り加工するウェーハWのアライメン
トが行われる。そして、そのアライメントが終了する
と、供給用トランスファーアーム108が測定部16の
前測定装置46から加工部18の研削テーブル76にウ
ェーハWを搬送する。加工部18では、研削テーブル7
6でウェーハWを受け取ったのち、ウェーハWの面取り
加工を開始する。
【0058】一方、ウェーハWを研削テーブル76に搬
送した供給用トランスファーアーム108はウェーハ受
取位置に移動する。これと同時に待機位置に位置してい
た回収トランスファーアーム116がウェーハ受取位置
に移動する。供給用トランスファーアーム108と回収
トランスファーアーム116がウェーハ受取位置に移動
すると、測定搬送ロボット40の搬送アーム42A、4
2Bが時計回りの方向に90°旋回する。この結果、測
定搬送ロボット40の搬送アーム42A、42Bが回収
トランスファーアーム116に保持されたウェーハWと
対向するように位置する。測定搬送ロボット40の搬送
アーム42A、42Bは、この後、回収トランスファー
アーム116に保持されたウェーハWに向かって所定量
前進する。そして、第1搬送アーム42Aで、その回収
トランスファーアーム116に保持されたウェーハWを
受け取り、再び後退する。測定搬送ロボット40の搬送
アーム42A、42Bは、この後、反時計回りの方向に
90°旋回して元の位置に復帰する。
【0059】一方、ウェーハWを受け渡した回収トラン
スファーアーム116は、水平ガイド104に沿ってス
ライド移動することにより加工部受渡位置に移動する。
また、前測定装置46の測定テーブル50上には、次に
面取り加工するウェーハWが待機しており(位置決め処
理された状態で待機している。)、供給トランスファー
アーム108は、この測定テーブル50からウェーハW
を受け取る。そして、その受け取ったウェーハWを加工
部18に搬送する。加工部18では、その搬送されたウ
ェーハWの面取り加工を行う。
【0060】供給トランスファーアーム108が前測定
装置46から加工部18にウェーハWを搬送すると、測
定搬送ロボット40の搬送アーム42A、42Bが所定
量上昇する。この結果、測定搬送ロボット40の搬送ア
ーム42A、42Bが、後測定装置48と対向するよう
に位置する。測定搬送ロボット40の搬送アーム42
A、42Bは、この後、後測定装置48の測定テーブル
60に向かって所定量前進する。そして、その測定テー
ブル60にウェーハWを受け渡す。ウェーハWを受け渡
した測定搬送ロボット40の搬送アーム42A、42B
は所定量後退して一時退避する。
【0061】一方、後測定装置48は、その測定テーブ
ル60に受け渡されたウェーハWの後測定を行う。この
後測定は、次のように行われる。なお、この測定に先立
ってキャリブレーションが実施されており、まず、その
キャリブレーションの方法について説明する。まず、測
定搬送部14の測定搬送ロボット40が、マスターウェ
ーハ格納部26に設置された図示しないマスターウェー
ハ格納カセットからマスターウェーハWM を取り出す。
そして、そのマスターウェーハWM を後測定装置48の
測定テーブル60上にセットする。ここで、このマスタ
ーウェーハWM は、所定直径(例えば直径φ200m
m)の真円のウェーハであって、その裏面と表面の周縁
部近傍にそれぞれ所定寸法(□10mm)の正方形マー
クMが付されている。
【0062】マスターウェーハWM が測定テーブル60
上にセットされると、図7(a)、(b)に示すよう
に、そのマスターウェーハWの周縁部の画像が第1カメ
ラ62Aと第2カメラ62Bによって撮像される。そし
て、その第1カメラ62Aと第2カメラ62Bによって
撮像して得られた画像データが画像データ処理装置68
に出力される。
【0063】図示しない制御装置は、測定テーブル60
を駆動してマスターウェーハWM を1回転させる。画像
データ処理装置68は、そのとき第1カメラ62Aと第
2カメラ62Bによって撮像して得られた画像データに
基づいて第1カメラ62Aの基準座標と第2カメラ62
Bの基準座標との間の距離を求める。次に、図示しない
制御装置は、測定テーブル60を駆動してマスターウェ
ーハWM を所定量回転させ、図7(a)、(b)に示す
ように、正方形マークMを第1カメラ62Aと第2カメ
ラ62Bの撮像領域内に位置させる。画像データ処理装
置68は、そのとき第1カメラ62Aと第2カメラ62
Bによって撮像して得られた画像データに基づいて正方
形マークMに対応するピクセルを読み込み、倍率校正を
行う。
【0064】以上により、キャリブレーションが終了す
る。キャリブレーションが終了すると、測定搬送部14
の測定搬送ロボット40が、測定テーブル60からマス
ターウェーハWM を回収し、元のマスターウェーハ格納
カセットに終了する。なお、以上のキャリブレーション
は、面取り加工の開始前に行われる。次に、後測定装置
48によるウェーハWの後測定方法について説明する。
後測定は、ウェーハWの外形測定と面取り面に生じてい
る傷、欠けの有無を測定する。具体的には、図8に示す
ように、ウェーハWの直径、外周面幅(表、裏)、
ノッチ角度、ノッチコーナーR、ノッチボトム
R、ノッチ深さ、及び、面取り面に生じている傷、
欠けの有無(表、裏)を測定する。
【0065】直径の測定は次の通りである。ウェーハW
が測定テーブル60上にセットされると、図9(a)、
(b)に示すように、そのウェーハWの周縁部の画像が
第1カメラ62Aと第2カメラ62Bによって撮像され
る。そして、その第1カメラ62Aと第2カメラ62B
で撮像して得られた画像データが画像データ処理装置6
8に出力される。画像データ処理装置68は、その第1
カメラ62Aと第2カメラ62Bで撮像して得られた画
像データに基づいてウェーハWの直径を求める。
【0066】すなわち、画像データ処理装置68は、第
1カメラ62Aと第2カメラ62Bで撮像して得られた
画像データに基づいてウェーハWのエッジ位置を検出
し、そのエッジの位置情報からウェーハWの中心位置を
求めて、ウェーハWの直径を求める。外周面幅(表、
裏)の測定も上記直径の測定と同様に、第1カメラ62
Aと第2カメラ62Bで撮像して得られた画像データに
基づいて画像データ処理装置68が測定する。すなわ
ち、画像データ処理装置68は、第1カメラ62Aで撮
像して得られた画像データに基づいて表側の面取り面C
F の両エッジ位置を検出し、その両エッジの位置情報か
らウェーハWの表側の外周面幅を求める。同様に、画像
データ処理装置68は、第1カメラ62Aで撮像して得
られた画像データに基づいて裏側の面取り面CB の両エ
ッジ位置を検出し、その両エッジの位置情報からウェー
ハWの裏側の外周面幅を求める。
【0067】ノッチ角度、ノッチコーナーR、ノッチボ
トムR及びノッチ深さの測定は次の通りである。まず、
図示しない制御装置が、測定テーブル60を駆動してウ
ェーハWを1回転させる。画像データ処理装置68は、
そのとき第1カメラ62Aと第2カメラ62Bによって
撮像して得られた画像データに基づいてノッチの概略位
置を測定する。図示しない制御手段は、その測定結果に
基づいて測定テーブル60を駆動し、図10(a)、
(b)に示すように、ノッチを第1カメラ62Aの撮像
領域内に位置させる。画像データ処理装置68は、その
とき第1カメラ62Aと第2カメラ62Bで撮像して得
られた画像データに基づいてノッチ角度、ノッチコーナ
ーR、ノッチボトムR及びノッチ深さを測定する。
【0068】すなわち、ノッチ角度を求める場合は、図
11に示すように、第1カメラ62Aで撮像して得られ
た画像データに基づいてノッチの両直線部LN1、LN2
検出し(両直線部LN1、LN2を形成するエッジを検出し
て両直線部LN1、LN2を検出する。)、その両直線部L
N1、LN2の成す角を算出してノッチ角度(θN )を求め
る。
【0069】また、ノッチコーナーRを求める場合は、
図11に示すように、まず、第1カメラ62Aで撮像し
て得られた画像データに基づいて一方のノッチコーナー
部NC1 を検出する(ノッチコーナー部NCを形成する
エッジを検出してノッチコーナー部NCを検出する)。
そして、そのノッチコーナー部NC1 上の三点からノッ
チコーナー部NC1 の中心ONC1 を求めて、ノッチコー
ナーR(rNC1 )を求める。同様の方法で他方側のノッ
チコーナー部NC2 のノッチコーナーR(rNC 2 )を求
める。
【0070】また、ノッチボトムRを求める場合は、図
11に示すように、まず、第1カメラ62Aで撮像して
得られた画像データに基づいてノッチボトム部Bを検出
する(ノッチボトム部Bを形成するエッジを検出してノ
ッチボトム部NBを検出する。)。そして、そのノッチ
ボトム部NB上の三点からノッチボトム部NBの中心O
NBを求めて、ノッチボトムR(rNB)を求める。
【0071】また、ノッチ深さを求める場合は、図11
に示すように、まず、第1カメラ62Aで撮像して得ら
れた画像データに基づいてノッチボトム部Bの頂部B
MAX の位置を検出する。そして、その頂部BMAX の位置
情報とウェーハWの中心位置の位置情報及びウェーハW
の直径からノッチ深さDを求める。以上により、ノッチ
角度、ノッチコーナーR、ノッチボトムR及びノッチ深
さが測定される。
【0072】また、ウェーハWの表側の面取り面CF
裏側の面取り面CB に生じている傷、欠けの有無の測定
は次の通りである。上述したように、ウェーハWが測定
テーブル60上にセットされると、そのウェーハWの周
縁部の画像が第1カメラ62Aと第2カメラ62Bによ
って撮像される。ここで、ウェーハWの面取り面CF
B は、傷等がない場合、第1反射照明装置66Aと第
2反射照明装置66Bの作用によってに白く撮像され
る。しかし、傷等が生じている場合、面取り面C F 、C
B は、その部分が黒く撮像される。画像データ処理装置
68は、第1カメラ62Aと第2カメラ62Bによって
撮像して得られた画像データに基づいて面取り面CF
B における所定明るさ以下の領域の有無を検査する。
そして、所定明るさ以下の領域が検出されれば、その領
域を傷、欠けと判断する。この操作をウェーハWの全周
に渡って行う。
【0073】以上一連の測定により、ウェーハWの直
径、外周面幅(表、裏)、ノッチ角度、ノッチコ
ーナーR、ノッチボトムR、ノッチ深さ、及び、
面取り面に生じている傷、欠けの有無(表、裏)が測定
される。図示しない制御装置は、この後測定の測定結果
に基づいてウェーハWの良否を判断する。すなわち、所
定の規格通りに加工されているか否か、及び面取り面に
傷や欠けが生じているか否かを判断する。そして、面取
り面に傷や欠けがなく所定の規格通りに加工されていれ
ば良好ウェーハWとし、所定の規格通りに加工されてい
ない場合や、面取り面に傷や欠け等が生じている場合は
不良ウェーハWX とする。
【0074】上記の判断の結果、良好ウェーハWと判断
された場合、そのウェーハWは元のウェーハカセット3
0に回収される。すなわち、まず、測定搬送ロボット4
0の搬送アーム42A、42Bが所定量前進し、第1搬
送アーム42Aによって測定テーブル60からウェーハ
Wを受け取る。そして、所定量後退したのち、所定量下
降して待機位置に復帰する。
【0075】ここで、前記のごとく後測定装置48によ
ってウェーハWの後測定が行われている間、供給回収ロ
ボット34が、次に面取り加工するウェーハWをウェー
ハカセット30から取り出して、所定のウェーハ受渡位
置に待機している。測定搬送ロボット40の搬送アーム
42A、42Bは、待機位置に復帰すると、この供給回
収ロボット34の搬送アーム36に対向するように所定
量旋回する。そして、この旋回した測定搬送ロボット4
0の搬送アーム42A、42Bに対して供給回収ロボッ
ト34の搬送アーム36が所定量前進し、測定搬送ロボ
ット40の第2搬送アーム42BにウェーハWを受け渡
す。
【0076】第2搬送アーム42BにウェーハWを受け
渡した供給回収ロボット34の搬送アーム36は、一度
所定量後退したのち所定量上昇する。そして、再び所定
量前進して測定搬送ロボット40の第1搬送アーム42
Aに保持されている面取り加工済のウェーハWを受け取
る。面取り加工済のウェーハWを受け取った供給回収ロ
ボット34の搬送アーム36は、所定量後退したのち所
定量旋回する。そして、そのウェーハWを取り出した時
と同じウェーハカセット30の位置に移動して、取り出
したときと同じ位置にウェーハWを収納する。
【0077】一方、新たに加工するウェーハWを受け取
った測定搬送ロボット40の搬送アーム42A、42B
は、所定量旋回したのち所定量前進して前測定装置46
にウェーハWを搬送する。これにより、面取り加工され
たウェーハWの回収と同時に、新たに面取り加工するウ
ェーハWの供給を行うことができる。したがって、良好
ウェーハWの場合は、上記の工程を実施することによ
り、ウェーハカセット30内のウェーハWを順次処理し
てゆくことができる。
【0078】一方、後測定の結果から、不良ウェーハW
X と判断された場合、そのウェーハWX は不良ウェーハ
回収カセット124に回収される。この場合の処理は、
次のように行われる。まず、測定搬送ロボット40の搬
送アーム42A、42Bが所定量前進して、第1搬送ア
ーム42Aによって測定テーブル60から不良ウェーハ
X を受け取る。そして、所定量後退したのち、所定量
下降して待機位置に復帰する。
【0079】待機位置に復帰した測定搬送ロボット40
の搬送アーム42A、42Bは、180°旋回して、不
良ウェーハ回収カセット124と対向する。測定搬送ロ
ボット40の搬送アーム42A、42Bは、この後、所
定量上昇したのち所定量前進して不良ウェーハ回収カセ
ット124に不良ウェーハWX を収納する。収納後、測
定搬送ロボット40の搬送アーム42A、42Bは所定
量後退し、所定量下降する。そして、供給回収部12に
向かって90°旋回する。
【0080】ここで、前記同様に後測定装置48によっ
てウェーハWの後測定が行われている間、供給回収ロボ
ット34が次に面取り加工するウェーハWをウェーハカ
セット30から取り出して、所定のウェーハ受渡位置に
待機している。測定搬送ロボット40の搬送アーム42
A、42Bは90°旋回することにより、この供給回収
ロボット34の搬送アーム36に対向する。供給回収ロ
ボット34の搬送アーム36は所定量前進して、対向す
る測定搬送ロボット40の第2搬送アーム42Bにウェ
ーハWを受け渡す。ウェーハWを受け取った測定搬送ロ
ボット40の搬送アーム42A、42Bは、所定量旋回
したのち所定量前進して前測定装置46にウェーハWを
搬送する。
【0081】これにより、不良ウェーハWX の回収と同
時に、新たに面取り加工するウェーハWの供給を行うこ
とができる。したがって、不良ウェーハWX の場合であ
っても、上記の工程を実施することにより、ウェーハカ
セット30内のウェーハWを順次処理してゆくことがで
きる。また、後測定の結果から、不良ウェーハWX と判
断された場合、加工部18の加工条件(加工寸法)に狂
いが生じているので、図示しない加工部18の制御装置
は、この後測定の測定結果に基づいて加工条件(加工寸
法)の修正を行う(フィードバック制御)。たとえば、
直径が小さく加工された場合(研削多過の場合)は、ウ
ェーハWの送りを少なくし、逆に、直径が大きく加工さ
れた場合(研削不足の場合)は、ウェーハWの送りを多
くする。また、偏心して研削されている場合などは、位
置決め精度の修正を実施する。
【0082】このように、第1の実施の形態のウェーハ
面取り装置10によれば、機上で面取り加工後のウェー
ハWの外形測定と、傷、欠けの有無の測定を行うことが
できる。そして、この測定結果に基づいて加工されたウ
ェーハWの良否を判断し、良好ウェーハWと不良ウェー
ハWX とを分けて回収することができる。したがって、
従来、別途行われていた各作業を連続的に実施すること
ができるので、処理効率が向上する。
【0083】後測定の測定結果をフィードバックして順
次加工条件(加工寸法)の修正を行うようにしているの
で、精度の高い加工を実施することができる。なお、上
記の第1の実施の形態では、ノッチ付きウェーハWを面
取り加工する場合について説明したが、同様の方法によ
ってオリフラ付きウェーハWの面取り加工も行うことが
できる。
【0084】なお、後測定装置48でオリフラ付きウェ
ーハWの後測定を実施する場合は、次の通りである。オ
リフラ付きウェーハWの後測定は、図12に示すよう
に、ウェーハWのA直径、B直径、A−B直径、
外周面幅(表、裏)、オリフラコーナーR、及び、
面取り面に生じている傷、欠けの有無(表、裏)を測
定する。ここで、A直径、外周面幅(表、裏)、及び面
取り面に生じている傷、欠けの有無(表、裏)の測定方
法については、上述したノッチ付きウェーハWの場合と
同じである。
【0085】B直径の測定は次の通りである。まず、図
示しない制御装置が、測定テーブル60を駆動してウェ
ーハWを1回転させる。画像データ処理装置68は、そ
のとき第1カメラ62Aと第2カメラ62Bによって撮
像して得られた画像データに基づいてオリフラの概略位
置を測定する。図示しない制御手段は、その測定結果に
基づいて測定テーブル60を駆動し、図13(a)、
(b)に示すように、オリフラを第1カメラ62Aの撮
像領域内に位置させる。画像データ処理装置68は、そ
のとき第1カメラ62Aと第2カメラ62Bで撮像して
得られた画像データに基づいてウェーハWのB直径を求
める。すなわち、画像データ処理装置68は、第1カメ
ラ62Aと第2カメラ62Bで撮像して得られた画像デ
ータに基づいてオリフラの直線部LF のエッジ位置を検
出し、そのエッジの位置情報からウェーハWのB直径を
求める。
【0086】以上のようにしてB直径を求め、この求め
たB直径とA直径から、A−B直径を求める。オリフラ
コーナーRの測定は次の通りである。まず、図14
(a)、(b)に示すように、一方のオリフラコーナー
部OC1 を第1カメラ62Aの撮像領域内に位置させ
る。画像データ処理装置68は、図15に示すように、
そのとき第1カメラ62Aと第2カメラ62Bで撮像し
て得られた画像データに基づいてウェーハWのオリフラ
コーナー部OC1 を検出する(オリフラコーナー部OC
1 を形成するエッジを検出してオリフラコーナー部OC
1 を検出する)。そして、そのオリフラコーナー部OC
1 上の三点からオリフラコーナー部OC1 の中心OOC1
を求めてオリフラコーナーR(rOC1 )を求める。同様
の方法で他方側のオリフラコーナー部OC2 のオリフラ
コーナーR(rOC2 )を求める。
【0087】以上の方法により、オリフラ付きウェーハ
WのA直径、B直径、A−B直径、外周面幅
(表、裏)、オリフラコーナーR、及び、面取り面
に生じている傷、欠けの有無(表、裏)が測定される。
なお、上記の測定ではウェーハ上の1か所のみを測定し
てA直径や外周面幅の測定値を得ているが、例えば45
°間隔でA直径や外周面幅を測定するようにしてもよ
い。これにより、更なる測定精度の向上を図ることがで
きる。
【0088】また、第1カメラ62Aと第2カメラ62
Bで撮像して得られた画像データに基づいて測定する方
法であれば上記の測定方法に限定されるものではない。
さらに、第1の実施の形態の後測定装置48は、2台の
カメラ62A、62Bを用いて後測定を実施している
が、1台のカメラのみで後測定を実施するようにしても
よい。この場合、例えば、最初にウェーハWの表面側の
測定を行い、その後、ウェーハWを裏返して裏面側の測
定を行うようにする。
【0089】また、第1の実施の形態のウェーハ面取り
装置10は、前測定と後測定をそれぞれ別々の装置で実
施するように構成しているが、共通化を図ってもよい。
すなわち、測定部16を後測定装置48のみで構成し、
この後測定装置48で前測定と後測定を実施するように
構成する。これにより、無駄を省き装置のコンパクト化
を図ることができる。
【0090】また、第1の実施の形態のウェーハ面取り
装置10では、後測定装置48で不良ウェーハWX が検
出された場合、良好ウェーハWと分けて回収するように
しているが、面取り面に傷や欠け等が生じた不良ウェー
ハWX が検出された場合は、加工部18の外周研削砥石
82又はノッチ研削砥石88に異常(目詰まり等)が発
生していると考えられるので、装置自体の運転を自動的
に停止するように構成してもよい。すなわち、後測定装
置48で面取り面に傷や欠け等が生じた不良ウェーハW
X が検出された場合は、ウェーハ面取り装置10の運転
を制御する制御装置(図示せず)に装置停止信号を出力
するように構成する。これにより、更なる不良ウェーハ
X の発生を未然に防止することができるようになる。
【0091】また、面取り面に傷や欠け等が生じた不良
ウェーハWX が検出された場合は、運転を一時停止し、
自動でドレッシングを実施して再び運転を開始するよう
に構成してもよい。これにより、スループットを低下さ
せずに、高精度なウェーハを加工することができるよう
になる。なお、この場合ドレッシングは次のように実施
する。
【0092】ドレッシングは、高速回転させた外周研削
砥石82又はノッチ研削砥石88の溝にドレッシングス
トーン150を当接させることにより行う。ドレッシン
グストーン150は、図16及び図17に示すように、
円盤状に形成されたドレッシング治具152に保持され
ており、このドレッシング治具152を研削テーブル7
6で保持する。通常、このドレッシング治具152は、
図示しないドレッシング治具収納カセット(不良ウェー
ハ回収カセット124の下部に設置されている。)に収
納されており、ドレッシング時に取り出して、研削テー
ブル76上にセットする。具体的な実施手順は次の通り
である。
【0093】後測定装置48で不良ウェーハWX が検出
され、ドレッシング実施信号が出力されると、図示しな
い制御装置は、まず、ウェーハWの加工処理を一時中断
する。そして、運転モードをドレッシング実施モードに
変更する。ドレッシング実施モードになると、まず、測
定搬送部14の測定搬送ロボット40が、図示しないド
レッシング治具収納カセットに収納されているドレッシ
ング治具152をドレッシング治具収納カセットから取
り出す。そして、そのドレッシング治具152を前測定
装置46に搬送する。
【0094】ドレッシング治具152が搬送された前測
定装置46は、円盤状に形成されているドレッシング治
具152の中心位置と、ドレッシングストーン150の
位置を測定し、アライメントを実施する。すなわち、ド
レッシング治具152を研削テーブル76上に移送した
際、ドレッシング治具152の中心が研削テーブル76
の中心と一致するように研削テーブル76を移動させる
とともに、ドレッシングストーン150が所定位置(外
周研削砥石82と対向する位置)に位置するように測定
テーブル50を回転させる。
【0095】アライメントが終了すると、供給トランス
ファーアーム108が測定テーブル50から研削テーブ
ル76にドレッシング治具150を移送する。研削テー
ブル76は、その移送されたドレッシング治具152を
吸着保持する。ここで、研削テーブル76に保持された
ドレッシング治具152は、上述したアライメントによ
って、その中心が研削テーブル76の中心と一致した状
態で保持されるとともに、ドレッシングストーン150
が所定位置(外周研削砥石82と対向する位置)に位置
した状態で保持される。
【0096】ドレッシング治具150が研削テーブル7
6に保持されると、外周研削砥石82が高速回転を開始
し、この高速回転する外周研削砥石82に向かって研削
テーブル76が所定距離前進する。この結果、外周研削
砥石82の溝にドレッシングストーン150が当接しド
レッシングが行われる。外周研削砥石82のドレッシン
グが終了すると、同様の方法でノッチ研削砥石88のド
レッシングが行われる。すなわち、ノッチ研削砥石88
が高速回転を開始し、この高速回転するノッチ研削砥石
88の溝にドレッシングストーン150が当接してドレ
ッシングが行われる。
【0097】ドレッシングが終了すると、回収用トラン
スファーアーム116が研削テーブル76からドレッシ
ング治具152を回収し、ウェーハ受取位置に移動す
る。そして、このウェーハ受取位置に移動した回収トラ
ンスファーアーム116から測定搬送ロボット40がド
レッシング治具152を受け取り、図示しないドレッシ
ング治具収納カセットに収納する。
【0098】ドレッシング治具152がドレッシング治
具収納カセットに収納されると、ドレッシング実施モー
ドが解除される。そして、通常の運転モードに変更さ
れ、中断していたウェーハWの加工処理が再開する。こ
のように不良ウェーハWX が検出されると、直ちにドレ
ッシングを実施するように設定することにより、外周研
削砥石82とノッチ研削砥石88の切刃を常に良好な切
れ味に確保することができ、傷、欠けのない高精度なウ
ェーハWを研削することができるようになる。
【0099】次に、本発明に係るウェーハ面取り装置の
第2の実施の形態について説明する。上述した第1の実
施の形態の形態のウェーハ面取り装置10では、後測定
装置48はウェーハWの外形測定と、面取り面に生じて
いる傷や欠けの有無のみを検出するように構成されてい
る。以下に説明する第2の実施の形態のウェーハ面取り
装置の後測定装置では、ウェーハWの外形測定と、面取
り面に生じている傷や欠けの有無の検出に加え、ウェー
ハWの外周部断面形状をも測定できるように構成されて
いる。
【0100】図18、図19は、それぞれ第2の実施の
形態のウェーハ面取り装置の後測定装置の構成を示す平
面図と側面図である。同図に示すように、第2の実施の
形態の後測定装置200は、測定テーブル60、第1カ
メラ62A、第2カメラ62B、第3カメラ62C、第
1透過照明装置64A、第2透過照明装置64B、第3
透過照明装置64C、第1反射照明装置66A、第2反
射照明装置66B、及び画像データ処理装置68から構
成されている。
【0101】測定テーブル60、第1カメラ62A、第
2カメラ62B、第1透過照明装置64A、第2透過照
明装置64B、及び第1反射照明装置66A、第2反射
照明装置66Bの構成については、上述した実施の形態
の後測定装置48と同じである。第3カメラ62Cは、
測定テーブル60に保持されたウェーハWの外周部をウ
ェーハWの軸線に対して直交する方向、すなわち水平な
方向から撮像する。第3透過照明装置64Cは、第3カ
メラ62Cと対向するように設置されており、ウェーハ
Wの外周部に向けて水平に透過光を照射する。
【0102】画像データ処理装置68は、第1カメラ6
2A、第2カメラ62B及び第3カメラ62Cで撮像し
て得られた画像データに基づいてウェーハの外形測定、
外周部断面形状測定、及び面取り面に生じている傷や欠
けの有無を検出する。後測定装置200は、以上のよう
に構成される。この後測定装置200を組み込んだ第2
の実施の形態のウェーハ面取り装置の作用は次の通りで
ある。なお、ウェーハWが後測定装置200に搬送され
るまでの工程は、上述した第1の実施の形態のウェーハ
面取り装置と同じなので、ここでは後測定装置200に
よる測定方法についてのみ説明する。
【0103】後測定は、ウェーハWの外形測定、外周断
面形状測定、及び面取り面に生じている傷、欠けの有無
を測定する。具体的には、ウェーハWの直径、外周
面幅(表、裏)、ノッチ角度、ノッチコーナーR、
ノッチボトムR、ノッチ深さ、面角度(表、
裏)、先端コーナーR(表、裏)、厚さ方向の面
幅、及び(10)面取り面に生じている傷、欠けの有無
(表、裏)を測定する。この測定項目のうち、直径、
外周面幅(表、裏)、ノッチ角度、ノッチコーナ
ーR、ノッチボトムR、ノッチ深さ、及び(10)面取
り面に生じている傷、欠けの有無(表、裏)の測定方法
については、上述した第1の実施の形態の後測定装置4
8と同じなので、ここでは、面角度(表、裏)、先
端コーナーR(表、裏)及び厚さ方向の面幅の測定方
法について説明する。
【0104】面角度の測定は次の通りである。ウェーハ
Wが測定テーブル60上にセットされると、図20に示
すように、そのウェーハWの外周部を水平方向から見た
画像が第3カメラ62Cによって撮像される。そして、
その第3カメラ62Cで撮像して得られた画像データが
画像データ処理装置68に出力される。画像データ処理
装置68は、その第3カメラ62Cで撮像して得られた
画像データに基づいてウェーハWの面角度をもとめる。
【0105】すなわち、画像データ処理装置68は、第
3カメラ62Cで撮像して得られた画像データに基づい
てウェーハWの表側の面取り面とウェーハWの表面とを
検出し(ウェーハWの表側の面取り面とウェーハWの表
面を形成するエッジを検出してウェーハWの表側の面取
り面とウェーハWの表面を検出する。)、両者の成す角
を算出してウェーハWの表側の面角度を求める。また、
同様にして第3カメラ62Cで撮像して得られた画像デ
ータに基づいてウェーハWの裏側の面取り面とウェーハ
Wの裏面とを検出し(ウェーハWの裏側の面取り面とウ
ェーハWの裏面を形成するエッジを検出してウェーハW
の裏側の面取り面とウェーハWの裏面を検出する。)、
両者の成す角を算出してウェーハWの裏側の面角度を求
める。
【0106】また、先端コーナーRを求める場合は、図
20に示すように、まず、第3カメラ62Cで撮像して
得られた画像データに基づいてウェーハWの表側の先端
コーナー部を検出する(ウェーハWの表側の先端コーナ
ー部を形成するエッジを検出して先端コーナー部を検出
する。)。そして、その先端コーナー部上の三点から先
端コーナー部の中心を求めて、先端コーナーRを求め
る。同様の方法でウェーハWの裏側の先端コーナーRを
求める。
【0107】また、厚さ方向の面幅を求める場合は、図
20に示すように、まず、第3カメラ62Cで撮像して
得られた画像データに基づいて、ウェーハWの表側の先
端コーナーRと裏側の先端コーナーRの中心位置を求め
る。そして、その両者の間の距離を計算してウェーハW
の厚さ方向の面幅を求める。以上の測定により、ウェー
ハWの面角度(表、裏)、先端コーナーR(表、
裏)、及び厚さ方向の面幅が測定される。図示しない
制御装置は、この測定結果に基づいてウェーハWの外周
断面形状の良否を判断する。すなわち、ウェーハWが所
定の規格通りに加工されているか否かを判断する。そし
て、面角度及び先端コーナーRが所定の規格通りに加工
されていれば良好ウェーハWとし、所定の規格通りに加
工されていない場合は不良ウェーハWX とする。
【0108】そして、上述した第1の実施の形態のウェ
ーハ面取り装置10と同様に、上記の判断の結果、良好
ウェーハWと判断された場合は元のウェーハカセット3
0に回収し、不良ウェーハWX と判断された場合は、不
良ウェーハ回収カセット124に回収する。このよう
に、第2の実施の形態のウェーハ面取り装置では、後測
定装置200で、ウェーハWの外形測定と面取り面に生
じている傷、欠けの有無の測定に加えて外周断面形状の
測定(面角度、先端コーナーR及び厚さ方向の面
幅)をも行うことができる。これにより、より正確な加
工状態を把握することができるようになる。
【0109】なお、外周断面形状に不良が生じている場
合は、加工部18の外周研削砥石82又はノッチ研削砥
石88に異常(型崩れ等)が発生していると考えられる
ので、後測定装置200で外周断面形状に不良が検出さ
れた場合は、装置自体の運転を自動的に停止するように
構成してもよい。すなわち、後測定装置200で面角度
と先端コーナーR及び厚さ方向の面幅が規格通りに研削
されていない不良ウェーハWX が検出された場合は、ウ
ェーハ面取り装置10の運転を制御する制御装置(図示
せず)に装置停止信号を出力するように構成する。これ
により、更なる不良ウェーハWX の発生を未然に防止す
ることができるようになる。
【0110】また、外周断面形状が規格通りに研削され
ていない不良ウェーハWX が検出された場合は、運転を
一時停止し、自動でツルーイング(型直し)を実施して
再び運転を開始するように構成してもよい。これによ
り、スループットを低下させずに、高精度なウェーハを
加工することができるようになる。なお、この場合ツル
ーイングは次のように実施する。
【0111】図21に示すように、研削テーブル76の
下部同軸上には、ツルアー160が装着されている。こ
のツルアー160は、外周加工砥石82をツルーイング
するための工具であり、円盤状に形成された台金162
の外周部にツルーイング砥石164が一体的に固着され
て構成されている。ツルーイング砥石164は、その断
面形状が外周加工砥石82の溝形状と同じ形状に形成さ
れており、このツルーイング砥石164を回転させなが
ら、外周加工砥石82又はノッチ研削砥石88の溝に押
し当てることにより、外周加工砥石82又はノッチ研削
砥石88の溝がツルーイングされる。具体的な実施手順
は次の通りである。
【0112】後測定装置200で外周断面形状が規格通
りに研削されていない不良ウェーハWX が検出される
と、ツルーイング実施信号が出力される。図示しない制
御装置は、まず、ウェーハWの加工処理を一時中断す
る。そして、運転モードをツルーイング実施モードに変
更する。ツルーイング実施モードになると、図22
(a)に示すように、まず、ツルアー160と外周研削
砥石82に形成されている溝との位置合わせが行われ
る。次に、外周研削砥石82とツルーア160とが回転
する(ツルアー160は研削テーブル76を回転させる
ことにより回転する。)。次に、ツルアー160が外周
研削砥石82に向かって所定距離移動する。この結果、
同図(b)に示すように、ツルーイング砥石164が外
周研削砥石82の溝に当接し、外周研削砥石82がツル
ーイングされる。ツルーイングが終了すると、同図
(c)に示すように、ツルアー160は元の位置に復帰
する。そして、外周研削砥石82と共に回転が停止す
る。
【0113】外周研削砥石82のツルーイングが終了す
ると、同様の手順でノッチ研削砥石88のツルーイング
が行われる。すなわち、ツルアー160とノッチ研削砥
石88に形成されている溝との位置合わせが行われたの
ち、回転するノッチ研削砥石88に向かってツルアー1
60が回転しながら所定距離移動する。この結果、ツル
ーイング砥石164がノッチ研削砥石88の溝に当接
し、ノッチ研削砥石88がツルーイングされる。ツルー
イングが終了すると、ツルアー160は元の位置に復帰
し、ノッチ研削砥石88と共に回転が停止する。
【0114】ツルアー160が元の位置に復帰すると、
ツルーイング実施モードが解除される。そして、通常の
運転モードに変更し、中断していたウェーハWの加工処
理を再開する。このように外径断面形状が規格通りに研
削されていない不良ウェーハWX を検出すると、直ちに
ツルーイングを実施するように設定することにより、規
格に沿った高精度なウェーハWを加工することができる
ようになる。
【0115】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
機上で加工後のウェーハの外形測定と、傷、欠けの有無
の測定を行うことができるので、処理効率が上がりスル
ープットが向上する。また、その測定結果に基づいてウ
ェーハの良否を判別し、良好ウェーハと不良ウェーハと
を分別して回収することにより、更なる処理効率の向上
を図ることができる。また、測定結果を加工部にフィー
ドバックすることにより、精度の高い加工を行うことが
できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るウェーハ面取り装置の実施の形態
構成を示す平面図
【図2】本発明に係るウェーハ面取り装置の実施の形態
構成を示す斜視図
【図3】後測定装置の構成を示す側面図
【図4】加工部及び加工搬送部の構成を示す側面図
【図5】加工部の構成を示す斜視図
【図6】加工搬送部の構成を示す平面図
【図7】後測定装置による測定方法を説明する平面図
【図8】後測定の測定項目を説明する平面図(ノッチ付
きウェーハの場合)
【図9】後測定装置による測定方法を説明する平面図
【図10】後測定装置による測定方法を説明する平面図
【図11】後測定装置による測定方法を説明する平面図
【図12】後測定の測定項目を説明する平面図(オリフ
ラ付きウェーハの場合)
【図13】後測定装置による測定方法を説明する平面図
【図14】後測定装置による測定方法を説明する平面図
【図15】後測定装置による測定方法を説明する平面図
【図16】ドレッシング治具の構成を示す平面図
【図17】ドレッシング治具の構成を示す側面図
【図18】第2の実施の形態の後測定装置の構成を示す
平面図
【図19】第2の実施の形態の後測定装置の構成を示す
側面図
【図20】第2の実施の形態の後測定装置による測定方
法の説明図
【図21】ツルアーの構成を示す正面図部分断面図
【図22】ツルアーを用いたツルーイング方法の説明図
【符号の説明】
10…ウェーハ面取り装置 12…供給回収部 14…測定搬送部 16…測定部 18…加工部 20…洗浄部 22…加工搬送部 24…不良ウェーハ回収部 26…マスターウェーハ格納部 30…ウェーハカセット 34…供給回収ロボット 40…測定搬送ロボット 48…後測定装置 60…測定テーブル 62A…第1カメラ 62B…第2カメラ 68…画像データ処理装置 76…研削テーブル 82…外周研削砥石 88…ノッチ研削砥石 90…スピン洗浄装置 108…供給トランスファーアーム 116…回収トランスファーアーム W…ウェーハ

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェーハを面取り加工する加工部と、該
    加工部にウェーハを供給する供給部と、該加工部で面取
    り加工されたウェーハの面取り面に生じている傷、欠け
    を検出する検出部と、該検出部で検出を終えたウェーハ
    を回収する回収部と、を備えたウェーハ面取り装置であ
    って、 前記検出部は、 ウェーハを保持して回転させる測定テーブルと、 前記測定テーブルに保持されて回転するウェーハの面取
    り面を撮像する撮像手段と、 前記撮像手段で撮像して得られた画像データに基づいて
    前記ウェーハの面取り面に生じた傷、欠けを検出する画
    像データ処理手段と、からなることを特徴とするウェー
    ハ面取り装置。
  2. 【請求項2】 前記回収部は、 傷、欠けのない良好なウェーハを回収する良好ウェーハ
    回収部と、 傷、欠けのある不良なウェーハを回収する不良ウェーハ
    回収部と、からなり、前記検出部の検出結果に基づいて
    分別して回収することを特徴とする請求項1記載のウェ
    ーハ面取り装置。
  3. 【請求項3】 前記ウェーハ面取り装置は、前記検出部
    が傷、欠けのあるウェーハを検出すると運転を停止する
    ことを特徴とする請求項1又は2記載のウェーハ面取り
    装置。
  4. 【請求項4】 前記加工部は砥石のドレッシング手段を
    備えており、該ドレッシング手段は前記検出部が傷、欠
    けのあるウェーハを検出すると前記砥石のドレッシング
    を実施することを特徴とする請求項1又は2記載のウェ
    ーハ面取り装置。
  5. 【請求項5】 ウェーハを面取り加工する加工部と、該
    加工部にウェーハを供給する供給部と、該加工部で面取
    り加工されたウェーハの外形を測定する測定部と、該測
    定部で測定を終えたウェーハを回収する回収部と、を備
    えたウェーハ面取り装置であって、 前記測定部は、 ウェーハを保持して回転する測定テーブルと、 前記測定テーブルの回転中心から所定距離離れた位置に
    設置され、該測定テーブルに保持されて回転するウェー
    ハの外周部を該ウェーハの軸線に沿った方向から撮像す
    る撮像手段と、 前記撮像手段で撮像して得られた画像データに基づいて
    前記ウェーハの外形を測定する画像データ処理手段と、
    からなることを特徴とするウェーハ面取り装置。
  6. 【請求項6】 前記回収部は、 規格通りに加工された良好ウェーハを回収する良好ウェ
    ーハ回収部と、 規格に外れて加工された不良なウェーハを回収する不良
    ウェーハ回収部と、からなり、前記測定部の測定結果に
    基づいて分別して回収することを特徴とする請求項5記
    載のウェーハ面取り装置。
  7. 【請求項7】 前記加工部は、前記測定部の測定結果に
    基づいて加工条件を修正することを特徴とする請求項5
    又は6記載のウェーハ面取り装置。
  8. 【請求項8】 ウェーハを面取り加工する加工部と、該
    加工部にウェーハを供給する供給部と、該加工部で面取
    り加工されたウェーハの外周部断面形状を測定する測定
    部と、該測定部で測定を終えたウェーハを回収する回収
    部と、を備えたウェーハ面取り装置であって、 前記測定部は、 ウェーハを保持して回転する測定テーブルと、 前記測定テーブルの回転中心から所定距離離れた位置に
    設置され、該測定テーブルに保持されて回転するウェー
    ハの外周部を該ウェーハの軸線に対して直交する方向か
    ら撮像する撮像手段と、 前記撮像手段で撮像して得られた画像データに基づいて
    前記ウェーハの外周部断面形状を測定する画像データ処
    理手段と、からなることを特徴とするウェーハ面取り装
    置。
  9. 【請求項9】 前記回収部は、 規格通りに加工された良好ウェーハを回収する良好ウェ
    ーハ回収部と、 規格に外れて加工された不良なウェーハを回収する不良
    ウェーハ回収部と、からなり、前記測定部の測定結果に
    基づいて分別して回収することを特徴とする請求項8記
    載のウェーハ面取り装置。
  10. 【請求項10】 前記ウェーハ面取り装置は、前記検出
    部が規格に外れて加工されたウェーハを検出すると運転
    を停止することを特徴とする請求項8又は9記載のウェ
    ーハ面取り装置。
  11. 【請求項11】 前記加工部は砥石のツルーイング手段
    を備えており、該ツルーイング手段は前記検出部が規格
    に外れて加工されたウェーハを検出すると前記砥石のツ
    ルーイングを実施することを特徴とする請求項8又9記
    載のウェーハ面取り装置。
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