JP2000084559A - 水処理方法 - Google Patents
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Landscapes
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 産業廃棄物その他種々の物質に汚染された河
川、湖水等の膨大な水量の浄水処理の効率、処理速度の
向上が図れる水処理方法を提供すること。 【解決手段】 処理対象の水中に一対の印加電極と、当
該印加電極に近接せしめた接地電極を配置し、印加電極
として電解性の高い金属からなる電極を用い、一対の印
加電極に交流を印加することにより水の酸化還元電位を
下げる水処理方法において、上記交流周波数を制御する
信号発生器を内蔵しその信号に対応して発振周波数を制
御し、緩やかな周波数変動中において急激な上昇又は下
降に変化する部分を作成するとともに、コロイド溶液を
添加することで浄水処理効率を向上せしめる。
川、湖水等の膨大な水量の浄水処理の効率、処理速度の
向上が図れる水処理方法を提供すること。 【解決手段】 処理対象の水中に一対の印加電極と、当
該印加電極に近接せしめた接地電極を配置し、印加電極
として電解性の高い金属からなる電極を用い、一対の印
加電極に交流を印加することにより水の酸化還元電位を
下げる水処理方法において、上記交流周波数を制御する
信号発生器を内蔵しその信号に対応して発振周波数を制
御し、緩やかな周波数変動中において急激な上昇又は下
降に変化する部分を作成するとともに、コロイド溶液を
添加することで浄水処理効率を向上せしめる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気的処理によっ
て湖沼、河川、或は工場内の工業廃水や加工用水等の大
量の水に電気エネルギーを与えて浄水処理する方法に関
する。
て湖沼、河川、或は工場内の工業廃水や加工用水等の大
量の水に電気エネルギーを与えて浄水処理する方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、かかる水処理方法としては、本願
発明者自身による特許第２６２３２０４号公報や特開平
７−３１９８１号公報に開示された方法が知られてい
る。かかる従来方法は、いずれも処理対象の水中に配置
した一対の印加電極に高周波の交流電圧を交互に印加す
ることにより水の酸化還元電位を下げることによって水
を汚染している有機物、無機物の凝集沈澱乃至は浮揚等
を促進して浄水処理をなすものである。
発明者自身による特許第２６２３２０４号公報や特開平
７−３１９８１号公報に開示された方法が知られてい
る。かかる従来方法は、いずれも処理対象の水中に配置
した一対の印加電極に高周波の交流電圧を交互に印加す
ることにより水の酸化還元電位を下げることによって水
を汚染している有機物、無機物の凝集沈澱乃至は浮揚等
を促進して浄水処理をなすものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、産業廃
棄物その他種々の物質に汚染された河川、湖水等の膨大
な水量を処理対象とする場合はなお一層の処理効率、処
理速度の向上が望ましい。
棄物その他種々の物質に汚染された河川、湖水等の膨大
な水量を処理対象とする場合はなお一層の処理効率、処
理速度の向上が望ましい。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題は、処理対象の
水中に一対の印加電極と、当該印加電極に近接せしめた
接地電極を配置し、印加電極として電解性の高い金属か
らなる電極を用い、一対の印加電極に交流を印加するこ
とにより水の酸化還元電位を下げる水処理方法におい
て、上記交流周波数を制御する信号発生器を内蔵しその
信号に対応して発振周波数を制御し、周波数変化中にお
いて急激な上昇又は下降に変化する部分を作成するとと
もに、コロイド溶液を添加することによって解決され
る。
水中に一対の印加電極と、当該印加電極に近接せしめた
接地電極を配置し、印加電極として電解性の高い金属か
らなる電極を用い、一対の印加電極に交流を印加するこ
とにより水の酸化還元電位を下げる水処理方法におい
て、上記交流周波数を制御する信号発生器を内蔵しその
信号に対応して発振周波数を制御し、周波数変化中にお
いて急激な上昇又は下降に変化する部分を作成するとと
もに、コロイド溶液を添加することによって解決され
る。
【０００５】かかる本発明方法によれば、コロイド溶液
を添加しない場合に比較して水中に溶解、乃至は浮遊す
る汚染物質、特に有機化合物をより迅速に凝集、沈殿さ
せることができ、浄水処理に要する時間が短縮される。
を添加しない場合に比較して水中に溶解、乃至は浮遊す
る汚染物質、特に有機化合物をより迅速に凝集、沈殿さ
せることができ、浄水処理に要する時間が短縮される。
【０００６】かかる水処理方法に使用される装置として
は、接地電極と一対の印加電極と、直流電源と、当該直
流電源に可変抵抗を介してそれぞれ接続された第１、第
２の交流スイッチと、これらの交流スイッチに抵抗を介
して接続されたフリップフロップ回路からなる交流切換
指令回路と、該交流切換指令回路に接続された交流発振
器と、この交流発振器に接続された制御回路とを備え、
該制御回路は変動信号発生器を内蔵し、変動信号発生器
からの出力制御信号を交流発振器に与えて発振周波数を
制御して変化させるとともに、該交流切換指令回路が交
流発振器からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与
え、これら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされ
て交流を形成して、上記一対の印加電極間に交流電圧を
印加することにより水の酸化還元電位を下げるようにし
た水処理装置を用いる。
は、接地電極と一対の印加電極と、直流電源と、当該直
流電源に可変抵抗を介してそれぞれ接続された第１、第
２の交流スイッチと、これらの交流スイッチに抵抗を介
して接続されたフリップフロップ回路からなる交流切換
指令回路と、該交流切換指令回路に接続された交流発振
器と、この交流発振器に接続された制御回路とを備え、
該制御回路は変動信号発生器を内蔵し、変動信号発生器
からの出力制御信号を交流発振器に与えて発振周波数を
制御して変化させるとともに、該交流切換指令回路が交
流発振器からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与
え、これら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされ
て交流を形成して、上記一対の印加電極間に交流電圧を
印加することにより水の酸化還元電位を下げるようにし
た水処理装置を用いる。
【０００７】かかる水処理装置を用いて上記水処理方法
を実施するには、処理対象の湖沼、河川、工業廃水等の
水中に一対の印加電極を配置して同印加電極に交流電圧
を印加するとともにコロイド溶液を加えればよく、これ
によって短時間で対象水の酸化還元電位が下がり、水中
の有機化合物の速やかな凝集沈殿が生じ、或いは分解さ
れてガス化して浄化される。
を実施するには、処理対象の湖沼、河川、工業廃水等の
水中に一対の印加電極を配置して同印加電極に交流電圧
を印加するとともにコロイド溶液を加えればよく、これ
によって短時間で対象水の酸化還元電位が下がり、水中
の有機化合物の速やかな凝集沈殿が生じ、或いは分解さ
れてガス化して浄化される。
【０００８】なお、ここに使用される印加電極には、ア
ルミニウム、亜鉛アルミニウム合金、マグネシウム合
金、純鉄、銅、ステンレス等の電解性の高い金属を用
い、接地電極としてはチタン、白金等の安定した金属を
用いることが好ましい。また、コロイド溶液としては、
例えば、インク、Fe２O３、TiO２、Al２O３、SiO２等を
用いることができる。
ルミニウム、亜鉛アルミニウム合金、マグネシウム合
金、純鉄、銅、ステンレス等の電解性の高い金属を用
い、接地電極としてはチタン、白金等の安定した金属を
用いることが好ましい。また、コロイド溶液としては、
例えば、インク、Fe２O３、TiO２、Al２O３、SiO２等を
用いることができる。
【０００９】上記水処理装置において、直流電源からの
出力は、変動信号発生器からの出力制御信号が制御回路
から交流発振器に与えられて発振周波数が制御されて変
化させられるとともに、交流切換指令回路が交流発振器
からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与え、これ
ら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされて交流が
形成されるとともに変化する周波数の中に急激な下降か
ら急激な上昇へ転ずる部分が作成され、コロイド溶液が
加えられた対象水の一対の印加電極間にかかる交流電圧
が印加されることにより、水の酸化還元電位が下げら
れ、水中の有機化合物が凝集沈澱、乃至は分解ガス化等
して改質処理される。
出力は、変動信号発生器からの出力制御信号が制御回路
から交流発振器に与えられて発振周波数が制御されて変
化させられるとともに、交流切換指令回路が交流発振器
からの切換指令を第１、第２交流スイッチに与え、これ
ら第１、第２の交流スイッチがオン、オフされて交流が
形成されるとともに変化する周波数の中に急激な下降か
ら急激な上昇へ転ずる部分が作成され、コロイド溶液が
加えられた対象水の一対の印加電極間にかかる交流電圧
が印加されることにより、水の酸化還元電位が下げら
れ、水中の有機化合物が凝集沈澱、乃至は分解ガス化等
して改質処理される。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明の水処理方法に係る
実施例について添付図面を参照しつつさらに詳細に説明
することとする。第１図は、本発明の水処理方法に使用
される水処理装置の回路図であり、水中に配置される接
地電極１と、当該接地電極近くに配置した一対の印加電
極２Ａ、２Ｂを有する。接地電極１の材料としては白金
を用い、印加電極２Ａ、２Ｂとしては溶解性の高いアル
ミニウムが用いられている。
実施例について添付図面を参照しつつさらに詳細に説明
することとする。第１図は、本発明の水処理方法に使用
される水処理装置の回路図であり、水中に配置される接
地電極１と、当該接地電極近くに配置した一対の印加電
極２Ａ、２Ｂを有する。接地電極１の材料としては白金
を用い、印加電極２Ａ、２Ｂとしては溶解性の高いアル
ミニウムが用いられている。
【００１１】上記印加電極２Ａ、２Ｂと直流電源３の間
には可変抵抗４を介して、該直流電源からの直流電流を
高周波の交流に変換して印加電極２Ａ、２Ｂに与える第
１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂが接続されてい
る。これら第１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂは、
トランジスタ６Ａ、７Ａと、６Ｂ、７Ｂとでそれぞれ構
成されている。印加電極２Ａ、２Ｂ間は、コンデンサ８
を介して接続されている。上記直流電源には処理水の用
途に応じて適宜調整しつつ用いることができるが本実施
例では１００Ｖで用いた。
には可変抵抗４を介して、該直流電源からの直流電流を
高周波の交流に変換して印加電極２Ａ、２Ｂに与える第
１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂが接続されてい
る。これら第１、第２の高周波スイッチ５Ａ、５Ｂは、
トランジスタ６Ａ、７Ａと、６Ｂ、７Ｂとでそれぞれ構
成されている。印加電極２Ａ、２Ｂ間は、コンデンサ８
を介して接続されている。上記直流電源には処理水の用
途に応じて適宜調整しつつ用いることができるが本実施
例では１００Ｖで用いた。
【００１２】第１、第２の高周波スイッチ６Ａ、６Ｂに
は、抵抗９Ａ、９Ｂをそれぞれ介して当該スイッチに高
周波の切換指令を与えるフリップフロップ回路よりなる
高周波切換指令回路１０が接続され、この高周波切換指
令回路１０には制御信号に応動して発振周波数が変化す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）からなる高周波発振回路１
１が接続されている。この高周波発振回路１１にはラン
ダム電圧発生器を内蔵した制御回路１２が接続されてい
る。
は、抵抗９Ａ、９Ｂをそれぞれ介して当該スイッチに高
周波の切換指令を与えるフリップフロップ回路よりなる
高周波切換指令回路１０が接続され、この高周波切換指
令回路１０には制御信号に応動して発振周波数が変化す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）からなる高周波発振回路１
１が接続されている。この高周波発振回路１１にはラン
ダム電圧発生器を内蔵した制御回路１２が接続されてい
る。
【００１３】高周波発振回路１１は可変周波数形の発振
回路であって、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に与えられる
制御信号の電圧値によってその発振周波数が制御され
る。この時の周波数の変動幅は、例えば、中心周波数
（約４０KHz）の上下に約３〜５KHz 程度のものであ
る。
回路であって、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に与えられる
制御信号の電圧値によってその発振周波数が制御され
る。この時の周波数の変動幅は、例えば、中心周波数
（約４０KHz）の上下に約３〜５KHz 程度のものであ
る。
【００１４】制御回路１２は前記発振回路１１へその発
振周波数を制御するための制御電圧を供給するものであ
る。この制御回路１２はランダム信号発生器を内蔵して
いて、それが発生するランダム信号に応じて電圧値の変
化する制御信号を出力する。図中のシフトレジスタＳＦ
Ｒ１３は１６ステージ構成のものであり、その蓄積情報
は端子Ｑ0〜Ｑ15より並列に読取ることができるように
構成されている。このシフトレジスタＳＦＲのシフト動
作はシフトレジスタＳＦＲの端子ＣＫにパルス発生器
（ＰＧ）１４より供給されるシフトパルスによって制御
される。また、フリップフロップ１５はパルス発生器１
４のパルスにより反転動作を行ない、反転する毎に図２
の"Ｉ"部分の急激な周波数変動を行なっている。
振周波数を制御するための制御電圧を供給するものであ
る。この制御回路１２はランダム信号発生器を内蔵して
いて、それが発生するランダム信号に応じて電圧値の変
化する制御信号を出力する。図中のシフトレジスタＳＦ
Ｒ１３は１６ステージ構成のものであり、その蓄積情報
は端子Ｑ0〜Ｑ15より並列に読取ることができるように
構成されている。このシフトレジスタＳＦＲのシフト動
作はシフトレジスタＳＦＲの端子ＣＫにパルス発生器
（ＰＧ）１４より供給されるシフトパルスによって制御
される。また、フリップフロップ１５はパルス発生器１
４のパルスにより反転動作を行ない、反転する毎に図２
の"Ｉ"部分の急激な周波数変動を行なっている。
【００１５】ゲートＧＴは両入力端子に入力される信号
が同一であれば１、相違すれば０の信号を出力する。所
謂排他的論理和動作を行なうゲートであり、一致検出回
路として作用する。このゲートＧＴの入力端子の一方に
は前記シフトレジスタＳＦＲの偶数ステージ、例えば、
第６ステージの端子Ｑ6より出力される信号が、また、
他方には奇数ステージ、例えば、第９ステージの端子Ｑ
9より出力される信号が夫々入力される。このゲートＧ
Ｔによる一致検出の結果はシフトレジスタＳＦＲの端子
Ｄより最下位の第０ステージへ入力される。この情報を
逐次上位へシフトしてゆくことによってシフトレジスタ
ＳＦＲ内に乱数情報が蓄えられる。
が同一であれば１、相違すれば０の信号を出力する。所
謂排他的論理和動作を行なうゲートであり、一致検出回
路として作用する。このゲートＧＴの入力端子の一方に
は前記シフトレジスタＳＦＲの偶数ステージ、例えば、
第６ステージの端子Ｑ6より出力される信号が、また、
他方には奇数ステージ、例えば、第９ステージの端子Ｑ
9より出力される信号が夫々入力される。このゲートＧ
Ｔによる一致検出の結果はシフトレジスタＳＦＲの端子
Ｄより最下位の第０ステージへ入力される。この情報を
逐次上位へシフトしてゆくことによってシフトレジスタ
ＳＦＲ内に乱数情報が蓄えられる。
【００１６】このシフトレジスタＳＦＲ内に蓄えられた
乱数情報は適当に選択された約半数のステージから抵抗
器ｒによって取り出される。本実施例に於ては、第１、
第３、第８、第１０、第１２〜１５の各ステージから信
号を取り出している。抵抗器ｒはこれら各ステージの端
子Ｑ1、Ｑ3、Ｑ8、Ｑ10、Ｑ12〜Ｑ15を共通の接続点Ａ
に接続している。この接続点Ａは発振回路１１を構成す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）に接続されている。また一
方、電圧制御発振器（ＶＣＯ）はパルス発生器１４に接
続されたフリップフロップ回路１５にも接続されてい
る。
乱数情報は適当に選択された約半数のステージから抵抗
器ｒによって取り出される。本実施例に於ては、第１、
第３、第８、第１０、第１２〜１５の各ステージから信
号を取り出している。抵抗器ｒはこれら各ステージの端
子Ｑ1、Ｑ3、Ｑ8、Ｑ10、Ｑ12〜Ｑ15を共通の接続点Ａ
に接続している。この接続点Ａは発振回路１１を構成す
る電圧制御発振器（ＶＣＯ）に接続されている。また一
方、電圧制御発振器（ＶＣＯ）はパルス発生器１４に接
続されたフリップフロップ回路１５にも接続されてい
る。
【００１７】従って、これら各ステージに蓄積された乱
数情報のパターンが変化すると、高レベルと低レベルと
に接続される抵抗器ｒの合成値が夫々変化するため、接
続点Ａの電圧がこれに応じて変動してランダム信号が作
成される。この動作はＣＰＵにより再現できる。
数情報のパターンが変化すると、高レベルと低レベルと
に接続される抵抗器ｒの合成値が夫々変化するため、接
続点Ａの電圧がこれに応じて変動してランダム信号が作
成される。この動作はＣＰＵにより再現できる。
【００１８】パルス発生器１４は例えば５Ｈzを中心周
波数とする連続パルスを送出するパルス発生器であつ
て、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に入力される信号の電圧
値に従ってパルス繰返し周期が変化するように構成され
ている。この周波数の変動範囲は中心周波数の上下に夫
々数ヘルツ程度のものとなっている。このパルス発生器
１４の端子には、前記接続点Ａの電圧が抵抗器ｒ2を介
して与えられる。従って、このパルス発生器１４はシフ
トレジスタＳＦＲによるランダム信号に応じてそのパル
ス繰返し周期が変動することになる。シフトレジスタＳ
ＦＲはこのパルス発生器１４の出力をシフトパルスとし
て用いている。従って、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に出
力される制御信号はその電圧値、変動周期共に全くラン
ダムに変化することになるとともに、フリップフロップ
回路１５により、図２に示す急変化Ｉ部分を作りだして
いる。
波数とする連続パルスを送出するパルス発生器であつ
て、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に入力される信号の電圧
値に従ってパルス繰返し周期が変化するように構成され
ている。この周波数の変動範囲は中心周波数の上下に夫
々数ヘルツ程度のものとなっている。このパルス発生器
１４の端子には、前記接続点Ａの電圧が抵抗器ｒ2を介
して与えられる。従って、このパルス発生器１４はシフ
トレジスタＳＦＲによるランダム信号に応じてそのパル
ス繰返し周期が変動することになる。シフトレジスタＳ
ＦＲはこのパルス発生器１４の出力をシフトパルスとし
て用いている。従って、電圧制御発振器（ＶＣＯ）に出
力される制御信号はその電圧値、変動周期共に全くラン
ダムに変化することになるとともに、フリップフロップ
回路１５により、図２に示す急変化Ｉ部分を作りだして
いる。
【００１９】ここで、この制御回路１２においては、制
御信号をシフトレジスタＳＦＲの約半数のステージに蓄
積された乱数情報のパターンを利用して作成しており、
その採用ステージにも偏りがあり、さらに前述のように
シフトレジスタＳＦＲの入力情報として、偶数、奇数の
各々から１ステージずつ選ばれた情報の一致検出結果を
用いているため、電圧値が急上昇して急降下するような
極めて変動の激しい部分が頻繁に現われ、また、短期間
で同一の変化パターンを繰返すようなことはない。
御信号をシフトレジスタＳＦＲの約半数のステージに蓄
積された乱数情報のパターンを利用して作成しており、
その採用ステージにも偏りがあり、さらに前述のように
シフトレジスタＳＦＲの入力情報として、偶数、奇数の
各々から１ステージずつ選ばれた情報の一致検出結果を
用いているため、電圧値が急上昇して急降下するような
極めて変動の激しい部分が頻繁に現われ、また、短期間
で同一の変化パターンを繰返すようなことはない。
【００２０】上述のように構成された水処理装置の直流
電源３のスイッチがオンされると、該制御回路１２が上
述のように動作してランダム信号に対応した制御信号が
高周波発振回路１１に送出され、発振周波数が制御され
てランダムに変化する。そして高周波発振器から高周波
切換指令回路１０にランダムに変化する高周波信号が与
えられる。高周波切換指令回路１０にランダムな高周波
信号が与えられると、当該高周波切換指令回路から高周
波の切換指令が出され、第１、第２高周波スイッチ５
Ａ、５Ｂに交互に与えられ、これら第１、第２の高周波
スイッチが高周期でオン、オフされてランダムに変化す
る高周波交流が形成され、水中に配置された１対の印加
電極２Ａ、２Ｂに交互に印加される。
電源３のスイッチがオンされると、該制御回路１２が上
述のように動作してランダム信号に対応した制御信号が
高周波発振回路１１に送出され、発振周波数が制御され
てランダムに変化する。そして高周波発振器から高周波
切換指令回路１０にランダムに変化する高周波信号が与
えられる。高周波切換指令回路１０にランダムな高周波
信号が与えられると、当該高周波切換指令回路から高周
波の切換指令が出され、第１、第２高周波スイッチ５
Ａ、５Ｂに交互に与えられ、これら第１、第２の高周波
スイッチが高周期でオン、オフされてランダムに変化す
る高周波交流が形成され、水中に配置された１対の印加
電極２Ａ、２Ｂに交互に印加される。
【００２１】ここで、高周波発振回路１１から送出され
る発振周波数は、その電圧値及びその電圧値の持続時間
が全くランダムに変化するとともに、電圧値が急上昇し
てから急降下する極めて激しく変動する部分を頻繁に含
んでいる（図２参照）。かかる装置を用いてした本発明
方法の試験例を以下に示す。
る発振周波数は、その電圧値及びその電圧値の持続時間
が全くランダムに変化するとともに、電圧値が急上昇し
てから急降下する極めて激しく変動する部分を頻繁に含
んでいる（図２参照）。かかる装置を用いてした本発明
方法の試験例を以下に示す。
【００２２】試験例１ タンク内に採取した手賀沼の水に対して当該試料１００
ml当り２滴の割合で黒インクを添加して攪拌しつつ上記
処理装置を作動せしめたところ、黒インクを添加しない
従来の処理方法と比較してみると、従来方法だと凝集沈
殿が生じるまでに１５分を要したが、黒インクを添加し
た場合だと１０分で凝集沈殿が生じた。また、黒インク
による黒色がほとんど消えて透明となった。
ml当り２滴の割合で黒インクを添加して攪拌しつつ上記
処理装置を作動せしめたところ、黒インクを添加しない
従来の処理方法と比較してみると、従来方法だと凝集沈
殿が生じるまでに１５分を要したが、黒インクを添加し
た場合だと１０分で凝集沈殿が生じた。また、黒インク
による黒色がほとんど消えて透明となった。
【００２３】試験例２ 酢酸ビニル系接着剤２％の白濁溶液（pH3.5、 pH5.5、 pH
10.5）それぞれに対して当該溶液１００ml当り２滴の割
合で黒インクを添加して攪拌しつつ上記装置を作動せし
めたところ、黒インクを添加しない従来の処理方法だと
２０分を経過してもいずれも凝集沈殿が生じなかった
が、黒インクを添加した本発明方法の場合だと酸性、中
性、アルカリ性のいずれの場合も１５分で凝集沈殿が生
じ白濁溶液は透明になった。
10.5）それぞれに対して当該溶液１００ml当り２滴の割
合で黒インクを添加して攪拌しつつ上記装置を作動せし
めたところ、黒インクを添加しない従来の処理方法だと
２０分を経過してもいずれも凝集沈殿が生じなかった
が、黒インクを添加した本発明方法の場合だと酸性、中
性、アルカリ性のいずれの場合も１５分で凝集沈殿が生
じ白濁溶液は透明になった。
【００２４】試験例３ デンプン白濁溶液（200ppm）に対して当該溶液１００ml
当り２滴の割合で黒インクを添加して攪拌しつつ上記装
置を作動せしめたところ、黒インクを添加しない従来の
処理方法と比較してみたところ、従来方法だと凝集沈殿
が生じるまでにいずれも２５分を要したが、黒インクを
添加した場合だと１５分で凝集沈殿が生じ白濁溶液は透
明になった。
当り２滴の割合で黒インクを添加して攪拌しつつ上記装
置を作動せしめたところ、黒インクを添加しない従来の
処理方法と比較してみたところ、従来方法だと凝集沈殿
が生じるまでにいずれも２５分を要したが、黒インクを
添加した場合だと１５分で凝集沈殿が生じ白濁溶液は透
明になった。
【００２５】
【発明の効果】本発明方法によれば、産業廃棄物その他
種々の物質に汚染された河川、湖水等の膨大な水量に対
する浄水処理における処理効率を向上することができ
る。
種々の物質に汚染された河川、湖水等の膨大な水量に対
する浄水処理における処理効率を向上することができ
る。
【図１】本発明の水処理方法に用いる水処理装置の一実
施例における回路図である。
施例における回路図である。
【図２】同上の制御回路から送出される制御周波数の変
動を示すグラフである。
動を示すグラフである。
１、１Ａ、１Ｂ 接地電極 ２Ａ、２Ｂ 電極板セット ３ 直流電源 ４ 可変抵抗 ５Ａ 第１高周波スイッチ ５Ｂ 第２高周波スイッチ ６Ａ、６Ｂ、７Ａ、７Ｂ トランジスタ ８ コンデンサ ９Ａ、９Ｂ 抵抗 １０ 高周波切換指令回路 １１ 高周波発振器 １２ 制御回路 １３ シフトレジスタ １４ パルス発生器 １５ フリップフロップ回路
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年１月６日（１９９９．１．６）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】なお、ここに使用される印加電極には、ア
ルミニウム、亜鉛アルミニウム合金、マグネシウム合
金、純鉄、銅、ステンレス等の電解性の高い金属を用
い、接地電極としてはチタン、白金等の安定した金属を
用いることが好ましい。また、コロイド溶液としては、
例えば、インク、Fe2 O3 、TiO2 、Al2 O3 、SiO2 等を用いる
ことができる。
ルミニウム、亜鉛アルミニウム合金、マグネシウム合
金、純鉄、銅、ステンレス等の電解性の高い金属を用
い、接地電極としてはチタン、白金等の安定した金属を
用いることが好ましい。また、コロイド溶液としては、
例えば、インク、Fe2 O3 、TiO2 、Al2 O3 、SiO2 等を用いる
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D061 AA01 AA02 AA08 AB16 AB18 AC08 AC11 BA02 BA03 BB09 BB26 BB27 BB28 BB39 BB40 BD10
Claims (2)
- 【請求項１】 処理対象の水中に一対の印加電極と、当
該印加電極に近接せしめた接地電極を配置し、印加電極
として電解性の高い金属からなる電極を用い、一対の印
加電極に交流を印加することにより水の酸化還元電位を
下げる水処理方法において、上記交流周波数を制御する
信号発生器を内蔵しその信号に対応して発振周波数を制
御し、緩やかな周波数変動中において急激な上昇又は下
降に変化する部分を作成するとともに、コロイド溶液を
添加することを特徴とする水処理方法。 - 【請求項２】 上記コロイド溶液としてインクを用いて
なる請求項１記載の水処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25523698A JP2000084559A (ja) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 水処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25523698A JP2000084559A (ja) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 水処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000084559A true JP2000084559A (ja) | 2000-03-28 |
Family
ID=17275933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25523698A Pending JP2000084559A (ja) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 水処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000084559A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7090753B2 (en) | 2001-09-14 | 2006-08-15 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Electrolytic cell for producing charged anode water suitable for surface cleaning or treatment, and method for producing the same and use of the same |
| US8062500B2 (en) | 2001-12-05 | 2011-11-22 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method and apparatus for producing negative and positive oxidative reductive potential (ORP) water |
| US8147444B2 (en) | 2006-01-20 | 2012-04-03 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Methods of treating or preventing peritonitis with oxidative reductive potential water solution |
| US8323252B2 (en) | 2005-03-23 | 2012-12-04 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method of treating skin ulcers using oxidative reductive potential water solution |
| US9168318B2 (en) | 2003-12-30 | 2015-10-27 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Oxidative reductive potential water solution and methods of using the same |
| US9498548B2 (en) | 2005-05-02 | 2016-11-22 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method of using oxidative reductive potential water solution in dental applications |
| US10342825B2 (en) | 2009-06-15 | 2019-07-09 | Sonoma Pharmaceuticals, Inc. | Solution containing hypochlorous acid and methods of using same |
-
1998
- 1998-09-09 JP JP25523698A patent/JP2000084559A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7442288B2 (en) | 2001-09-14 | 2008-10-28 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Electrolytic cell for producing charged anode water suitable for surface cleaning or treatment, and method for producing the same and use of the same |
| US7090753B2 (en) | 2001-09-14 | 2006-08-15 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Electrolytic cell for producing charged anode water suitable for surface cleaning or treatment, and method for producing the same and use of the same |
| US8062500B2 (en) | 2001-12-05 | 2011-11-22 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method and apparatus for producing negative and positive oxidative reductive potential (ORP) water |
| US9168318B2 (en) | 2003-12-30 | 2015-10-27 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Oxidative reductive potential water solution and methods of using the same |
| US10016455B2 (en) | 2003-12-30 | 2018-07-10 | Sonoma Pharmaceuticals, Inc. | Method of preventing or treating influenza with oxidative reductive potential water solution |
| US9642876B2 (en) | 2003-12-30 | 2017-05-09 | Sonoma Pharmaceuticals, Inc. | Method of preventing or treating sinusitis with oxidative reductive potential water solution |
| US8323252B2 (en) | 2005-03-23 | 2012-12-04 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method of treating skin ulcers using oxidative reductive potential water solution |
| US8840873B2 (en) | 2005-03-23 | 2014-09-23 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method of treating second and third degree burns using oxidative reductive potential water solution |
| US9498548B2 (en) | 2005-05-02 | 2016-11-22 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Method of using oxidative reductive potential water solution in dental applications |
| US9072726B2 (en) | 2006-01-20 | 2015-07-07 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Methods of treating or preventing inflammation and hypersensitivity with oxidative reductive potential water solution |
| US8834445B2 (en) | 2006-01-20 | 2014-09-16 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Methods of treating or preventing peritonitis with oxidative reductive potential water solution |
| US9782434B2 (en) | 2006-01-20 | 2017-10-10 | Sonoma Pharmaceuticals, Inc. | Methods of treating or preventing inflammation and hypersensitivity with oxidative reductive potential water solution |
| US8147444B2 (en) | 2006-01-20 | 2012-04-03 | Oculus Innovative Sciences, Inc. | Methods of treating or preventing peritonitis with oxidative reductive potential water solution |
| US10342825B2 (en) | 2009-06-15 | 2019-07-09 | Sonoma Pharmaceuticals, Inc. | Solution containing hypochlorous acid and methods of using same |
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