JP2000075521A - 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジ及び電子写真装置 - Google Patents
電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジ及び電子写真装置Info
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- JP2000075521A JP2000075521A JP10259138A JP25913898A JP2000075521A JP 2000075521 A JP2000075521 A JP 2000075521A JP 10259138 A JP10259138 A JP 10259138A JP 25913898 A JP25913898 A JP 25913898A JP 2000075521 A JP2000075521 A JP 2000075521A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】長波長領域において十分な高感度を有する、繰
り返し使用時の電位が安定に維持され、かつ温度や湿度
の使用環境によらず安定した画像特性を示す、反転現像
系でも転写メモリ−が生じにくい、耐光性があり、フォ
トメモリ−が生じにくい電子写真感光体を提供すること
である。 【解決手段】導電性支持体上に感光層を設けてなる電子
写真感光体において、該感光層が電荷発生物質としてク
ロロガリウムフタロシアニン化合物またはヒドロキシガ
リウムフタロシアニン化合物を含有し、かつ電荷輸送物
質として下記構造式の化合物を含有することを特徴とす
る電子写真感光体。
り返し使用時の電位が安定に維持され、かつ温度や湿度
の使用環境によらず安定した画像特性を示す、反転現像
系でも転写メモリ−が生じにくい、耐光性があり、フォ
トメモリ−が生じにくい電子写真感光体を提供すること
である。 【解決手段】導電性支持体上に感光層を設けてなる電子
写真感光体において、該感光層が電荷発生物質としてク
ロロガリウムフタロシアニン化合物またはヒドロキシガ
リウムフタロシアニン化合物を含有し、かつ電荷輸送物
質として下記構造式の化合物を含有することを特徴とす
る電子写真感光体。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体並び
に該電子写真感光体を備えたプロセスカ−トリッジ及び
電子写真装置に関する。
に該電子写真感光体を備えたプロセスカ−トリッジ及び
電子写真装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真法は米国特許第2297691
号明細書に示されるように画像露光の間に受けた照射量
に応じて電気抵抗が変化しかつ暗所では絶縁性の物質を
コ−ティングした支持体よりなる光導電材料を用いる。
この光導電材料を用いた電子写真感光体に要求される基
本的な特性としては(1)暗所で適当な電位に帯電でき
ること、(2)暗所において電荷の逸散が少ないこと、
(3)光照射によって速やかに電荷を逸散せしめうるこ
と等が挙げられる。
号明細書に示されるように画像露光の間に受けた照射量
に応じて電気抵抗が変化しかつ暗所では絶縁性の物質を
コ−ティングした支持体よりなる光導電材料を用いる。
この光導電材料を用いた電子写真感光体に要求される基
本的な特性としては(1)暗所で適当な電位に帯電でき
ること、(2)暗所において電荷の逸散が少ないこと、
(3)光照射によって速やかに電荷を逸散せしめうるこ
と等が挙げられる。
【0003】従来より、電子写真感光体としてはセレ
ン、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性化合物
を主成分とする感光層を有する無機感光体が広く用いら
れてきた。しかし、これ等は前記(1)〜(3)の条件
は満足するが熱安定性、耐湿性、耐久性、生産性等にお
いて必ずしも満足しうるものではない。例えば、セレン
は結晶化すると感光体としての特性が劣化してしまう。
また硫化カドミウムは耐湿性や耐久性、酸化亜鉛では平
滑性、硬度や耐摩耗性に問題がある。更に無機感光体の
多くは感光波長が限定されている。れている。例えば、
セレンでの感光波長領域は青色領域であり、赤色領域に
は殆ど感度を有しない。
ン、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電性化合物
を主成分とする感光層を有する無機感光体が広く用いら
れてきた。しかし、これ等は前記(1)〜(3)の条件
は満足するが熱安定性、耐湿性、耐久性、生産性等にお
いて必ずしも満足しうるものではない。例えば、セレン
は結晶化すると感光体としての特性が劣化してしまう。
また硫化カドミウムは耐湿性や耐久性、酸化亜鉛では平
滑性、硬度や耐摩耗性に問題がある。更に無機感光体の
多くは感光波長が限定されている。れている。例えば、
セレンでの感光波長領域は青色領域であり、赤色領域に
は殆ど感度を有しない。
【0004】そこで、感光性を長波長領域に広げるため
に種々の方法が考案されているが、感光波長領域の選択
には制約が多い。酸化亜鉛あるいは硫化カドミウムを感
光体として用いる場合にもそれ自体の感光波長領域は狭
く、種々の増感剤の添加が必要である。これ等の無機感
光体の持つ欠点を克服する目的で、近年、様々な有機光
導電性化合物を主成分とする電子写真感光体の開発が盛
んに行われている。例えば、米国特許第3837851
号明細書にはトリアリルピラゾリンを含有する電荷輸送
層を有する感光体、米国特許第3871882号明細書
にはペリレン顔料の誘導体からなる電荷発生層と3−プ
ロピレンとホルムアルデヒドの縮合体からなる電荷輸送
層とからなる感光体等が既に公知である。
に種々の方法が考案されているが、感光波長領域の選択
には制約が多い。酸化亜鉛あるいは硫化カドミウムを感
光体として用いる場合にもそれ自体の感光波長領域は狭
く、種々の増感剤の添加が必要である。これ等の無機感
光体の持つ欠点を克服する目的で、近年、様々な有機光
導電性化合物を主成分とする電子写真感光体の開発が盛
んに行われている。例えば、米国特許第3837851
号明細書にはトリアリルピラゾリンを含有する電荷輸送
層を有する感光体、米国特許第3871882号明細書
にはペリレン顔料の誘導体からなる電荷発生層と3−プ
ロピレンとホルムアルデヒドの縮合体からなる電荷輸送
層とからなる感光体等が既に公知である。
【0005】有機化合物を用いた電子写真感光体は電荷
を発生する電荷発生物質とそれを輸送する電荷輸送物質
とに分類した機能分離型電子写真感光体が可能である
が、このような機能分離型感光体は、電荷発生物質と電
荷輸送物質の各々の材料選択範囲が広く、任意の特性を
有する電子写真感光体を比較的容易に作成できるという
利点を有している。電荷発生物質としてビスアゾ顔料ま
たはトリスアゾ顔料を用いた感光体として特開昭59−
33445号公報、特開昭56−46237号公報及び
特開昭60−111249号公報等が既に公知である。
を発生する電荷発生物質とそれを輸送する電荷輸送物質
とに分類した機能分離型電子写真感光体が可能である
が、このような機能分離型感光体は、電荷発生物質と電
荷輸送物質の各々の材料選択範囲が広く、任意の特性を
有する電子写真感光体を比較的容易に作成できるという
利点を有している。電荷発生物質としてビスアゾ顔料ま
たはトリスアゾ顔料を用いた感光体として特開昭59−
33445号公報、特開昭56−46237号公報及び
特開昭60−111249号公報等が既に公知である。
【0006】更に、有機光導電性化合物を用いた感光体
は、その化合物によって電子写真感光体の感光波長を自
由に選択することが可能である。例えば、アゾ系の有機
顔料に関して言えば特開昭61−272754号公報及
び特開昭56−167759号公報に示された物質は可
視光領域で高感度を示すものが開示されており、また特
開昭57−195767号公報及び特開昭61−228
453号公報に示された物質は赤外領域にまで感度を有
しているものもある。
は、その化合物によって電子写真感光体の感光波長を自
由に選択することが可能である。例えば、アゾ系の有機
顔料に関して言えば特開昭61−272754号公報及
び特開昭56−167759号公報に示された物質は可
視光領域で高感度を示すものが開示されており、また特
開昭57−195767号公報及び特開昭61−228
453号公報に示された物質は赤外領域にまで感度を有
しているものもある。
【0007】これ等の材料のうち赤外領域に感度を有す
る材料は近年進歩の著しいレ−ザ−ビ−ムプリンタ−
(以下LBPと略す)等に使用されてその需要頻度は高
くなっている。
る材料は近年進歩の著しいレ−ザ−ビ−ムプリンタ−
(以下LBPと略す)等に使用されてその需要頻度は高
くなっている。
【0008】アゾ顔料とは別に、従来より赤外領域に感
度を有するものとして特開昭50−38543号公報に
示されるような銅フタロシアニン等のフタロシアニン化
合物が注目されていたが、特に近年赤外領域に高感度を
有する材料として特開昭61−21705号公報、特開
昭61−239248号公報、特開昭64−17066
号公報及び特開平3−128973号公報等に示される
オキシチタニウムフタロシアニン化合物等が注目を集め
ている。
度を有するものとして特開昭50−38543号公報に
示されるような銅フタロシアニン等のフタロシアニン化
合物が注目されていたが、特に近年赤外領域に高感度を
有する材料として特開昭61−21705号公報、特開
昭61−239248号公報、特開昭64−17066
号公報及び特開平3−128973号公報等に示される
オキシチタニウムフタロシアニン化合物等が注目を集め
ている。
【0009】更に、本発明の電子写真感光体に用いられ
るクロロガリウムフタロシアニン化合物の先行技術とし
ては、特開平1−221459号公報、特開平5−98
181号公報、特開平5−194523号公報、特開平
5−247361号公報、特開平6−73303号公
報、特開平7−53891号公報及び特開平7−207
171号公報等に開示されている。
るクロロガリウムフタロシアニン化合物の先行技術とし
ては、特開平1−221459号公報、特開平5−98
181号公報、特開平5−194523号公報、特開平
5−247361号公報、特開平6−73303号公
報、特開平7−53891号公報及び特開平7−207
171号公報等に開示されている。
【0010】また、本発明の電子写真感光体に用いられ
るヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物の先行技術
としては特開平5−236007号公報、特開平5−2
79591号公報、特開平6−93203号公報、特開
平6−279698号公報及び特開平7−53892号
公報等の開示されている。
るヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物の先行技術
としては特開平5−236007号公報、特開平5−2
79591号公報、特開平6−93203号公報、特開
平6−279698号公報及び特開平7−53892号
公報等の開示されている。
【0011】また、機能分離型感光体のもう一方の構成
要素である電荷輸送物質に関しては、例えば特公昭52
−4188号公報のピラゾリン化合物、特公昭55−4
2380号公報、特開昭54−150128号公報及び
特開昭57−101844号公報のヒドラゾン化合物、
特公昭58−32372号公報及び特開昭61−123
955号公報のトリフェニルアミン化合物、特開昭54
−151955号公報及び特開昭58−198043号
公報のスチルベン化合物等が知られている。
要素である電荷輸送物質に関しては、例えば特公昭52
−4188号公報のピラゾリン化合物、特公昭55−4
2380号公報、特開昭54−150128号公報及び
特開昭57−101844号公報のヒドラゾン化合物、
特公昭58−32372号公報及び特開昭61−123
955号公報のトリフェニルアミン化合物、特開昭54
−151955号公報及び特開昭58−198043号
公報のスチルベン化合物等が知られている。
【0012】これ等電荷発生物質と電荷輸送物質の組み
合わせの例として、特開平5−55860号公報に示さ
れるオキシチタニウムフタロシアニンと特定の構造を有
するヒドラゾン系化合物の組み合わせ、特開平6−32
4502号公報に示されるヒドロキシガリウムフタロシ
アニンと特定の構造を有するトリアリ−ルアミン系化合
物の組み合わせ等がある。
合わせの例として、特開平5−55860号公報に示さ
れるオキシチタニウムフタロシアニンと特定の構造を有
するヒドラゾン系化合物の組み合わせ、特開平6−32
4502号公報に示されるヒドロキシガリウムフタロシ
アニンと特定の構造を有するトリアリ−ルアミン系化合
物の組み合わせ等がある。
【0013】このように特定の構造を有する電荷発生物
質と特定の構造を有する電荷輸送物質を組み合わせるこ
とにより改善された特性を有する感光体も供給されてい
るが、必ずしも赤外領域に高い感度を有するとは言え
ず、繰り返し使用時の電位安定性が悪かったり、帯電能
が悪かったり、使用環境の変化による画像劣化が見られ
る。
質と特定の構造を有する電荷輸送物質を組み合わせるこ
とにより改善された特性を有する感光体も供給されてい
るが、必ずしも赤外領域に高い感度を有するとは言え
ず、繰り返し使用時の電位安定性が悪かったり、帯電能
が悪かったり、使用環境の変化による画像劣化が見られ
る。
【0014】また、LBP等の用途のためにデジタル化
に対応した反転現像系を採用する装置の場合、一次帯電
と転写が逆極性であり、転写の有無により帯電性が異な
る、いわゆる転写メモリ−が生じ、画像上に濃度むらと
して非常に現れやすくなっている。
に対応した反転現像系を採用する装置の場合、一次帯電
と転写が逆極性であり、転写の有無により帯電性が異な
る、いわゆる転写メモリ−が生じ、画像上に濃度むらと
して非常に現れやすくなっている。
【0015】また、高感度化された電子写真感光体にお
いては、外部からのもれ光等により明部と暗部の帯電性
が異なる、いわゆるフォトメモリ−が発生し、これも画
像上に濃度むらとして非常に現れやすくなっている。
いては、外部からのもれ光等により明部と暗部の帯電性
が異なる、いわゆるフォトメモリ−が発生し、これも画
像上に濃度むらとして非常に現れやすくなっている。
【0016】以上のように、実際の使用上の問題となる
点がいくつかあり、未だ、これ等の特性を高い次元で達
成した感光体が供給されているとは言い難く、問題点や
要求の全てをより高いレベルで満足する電子写真感光体
が検討されている。
点がいくつかあり、未だ、これ等の特性を高い次元で達
成した感光体が供給されているとは言い難く、問題点や
要求の全てをより高いレベルで満足する電子写真感光体
が検討されている。
【0017】一般的に電子写真感光体においてはある特
定の電荷発生物質に対して非常に有効な電荷輸送物質
が、他の電荷発生物質に対して同程度に有効であるとは
限らず、また逆に、ある特定の電荷輸送物質に非常に有
効な電荷発生物質が他の電荷輸送物質に対して同程度有
効であるとは限らない。すなわち、電荷の受け渡しをす
るこれ等の電荷発生物質と電荷輸送物質の間には必ずよ
り好ましい組み合わせがある。
定の電荷発生物質に対して非常に有効な電荷輸送物質
が、他の電荷発生物質に対して同程度に有効であるとは
限らず、また逆に、ある特定の電荷輸送物質に非常に有
効な電荷発生物質が他の電荷輸送物質に対して同程度有
効であるとは限らない。すなわち、電荷の受け渡しをす
るこれ等の電荷発生物質と電荷輸送物質の間には必ずよ
り好ましい組み合わせがある。
【0018】より好ましい組み合わせの電荷発生物質及
び電荷輸送物質を用いると、残留電位や繰り返し使用時
の電位安定性等の点でより優れた特性を有する電子写真
感光体を得ることができる。更に、より好ましい組み合
わせの電荷発生物質と電荷輸送物質を用いると、前述の
転写メモリ−やフォトメモリ−も効率的に改善すること
ができる。
び電荷輸送物質を用いると、残留電位や繰り返し使用時
の電位安定性等の点でより優れた特性を有する電子写真
感光体を得ることができる。更に、より好ましい組み合
わせの電荷発生物質と電荷輸送物質を用いると、前述の
転写メモリ−やフォトメモリ−も効率的に改善すること
ができる。
【0019】しかしながら、電荷発生物質と電荷輸送物
質の相性についての一般的な法則は見出されておらず、
ある特定の電荷発生物質に最適な電荷輸送物質を予め予
想することは現状では非常に困難である。
質の相性についての一般的な法則は見出されておらず、
ある特定の電荷発生物質に最適な電荷輸送物質を予め予
想することは現状では非常に困難である。
【0020】本発明者等は、種々の電荷発生物質と電荷
輸送物質の組み合わせについて実験的検討を数多く重ね
た結果、電荷発生物質としてクロロガリウムフタロシア
ニン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合
物から選択された少なくとも1種を用い、電荷輸送物質
として特定の構造を有するヒドラゾン系化合物を組み合
わせた場合に、赤外領域に高い感度と耐久性を有し、様
々な環境においても安定した画像を供給することがで
き、更に、転写メモリ−やフォトメモリ−をも改善する
感光体ができることを見出し、本発明に到達したもので
ある。
輸送物質の組み合わせについて実験的検討を数多く重ね
た結果、電荷発生物質としてクロロガリウムフタロシア
ニン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合
物から選択された少なくとも1種を用い、電荷輸送物質
として特定の構造を有するヒドラゾン系化合物を組み合
わせた場合に、赤外領域に高い感度と耐久性を有し、様
々な環境においても安定した画像を供給することがで
き、更に、転写メモリ−やフォトメモリ−をも改善する
感光体ができることを見出し、本発明に到達したもので
ある。
【0021】本発明のクロロガリウムフタロシアニン化
合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物と本
発明の特定の構造を有するヒドラゾン系化合物の組み合
わせが好ましい理由は定かではないが、イオン化ポテン
シャルの適合または電荷発生物質と電荷輸送物質とが混
在する際の立体的重なりがよい等の理由で、電荷発生物
質から電荷輸送物質への電荷の注入が良好に行われるた
め感度が良好で残留電位も小さく、繰り返し使用時の電
位安定性にも優れ、転写メモリ−やフォトメモリ−も小
さい特性を発現すると推定される。
合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物と本
発明の特定の構造を有するヒドラゾン系化合物の組み合
わせが好ましい理由は定かではないが、イオン化ポテン
シャルの適合または電荷発生物質と電荷輸送物質とが混
在する際の立体的重なりがよい等の理由で、電荷発生物
質から電荷輸送物質への電荷の注入が良好に行われるた
め感度が良好で残留電位も小さく、繰り返し使用時の電
位安定性にも優れ、転写メモリ−やフォトメモリ−も小
さい特性を発現すると推定される。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、
(1)長波長領域において十分な高感度を有する、
(2)繰り返し使用時の電位が安定に維持される、
(3)温度や湿度の使用環境によらず安定した画像特性
を示す、(4)反転現像系でも転写メモリ−が生じにく
い、(5)耐光性があり、フォトメモリ−が生じにくい
電子写真感光体を提供することである。また該電子写真
感光体を用いたプロセスカ−トリッジ並びに電子写真装
置を提供することである。
(1)長波長領域において十分な高感度を有する、
(2)繰り返し使用時の電位が安定に維持される、
(3)温度や湿度の使用環境によらず安定した画像特性
を示す、(4)反転現像系でも転写メモリ−が生じにく
い、(5)耐光性があり、フォトメモリ−が生じにくい
電子写真感光体を提供することである。また該電子写真
感光体を用いたプロセスカ−トリッジ並びに電子写真装
置を提供することである。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明は、導電性支持体
上に感光層を設けてなる電子写真感光体において、該感
光層が電荷発生物質としてクロロガリウムフタロシアニ
ン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
から選択された少なくとも1種を含有し、かつ電荷輸送
物質として下記一般式(1)で示される化合物の少なく
とも1種を含有することを特徴とする電子写真感光体か
ら構成される。 一般式(1)
上に感光層を設けてなる電子写真感光体において、該感
光層が電荷発生物質としてクロロガリウムフタロシアニ
ン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
から選択された少なくとも1種を含有し、かつ電荷輸送
物質として下記一般式(1)で示される化合物の少なく
とも1種を含有することを特徴とする電子写真感光体か
ら構成される。 一般式(1)
【化2】 式中、X及びYは一般式(2)または一般式(3)で示
される基を表し、 一般式(2)−Z−Ar nは0または1の整数を表す。R1 、R2 及びR3 はハ
ロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基
を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいア
リ−ル基あるいは置換アミノ基を表し、p及びrは0〜
4の整数を表す。qはn=0のとき0〜5の整数を表
し、n=1のとき0〜4の整数を表す。R4 は水素原
子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有して
もよいアリ−ル基あるいは置換基を有してもよい複素環
基を表し、R5 及びR6 は置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有
してもよいアリ−ル基あるいは置換基を有してもよい複
素環基を表し、R5 及びR6 は同一でも異なっていても
よく、直接もしくは結合基を介して環を形成してもよ
い。Zは置換基を有してもよいアルキレン基を表し、A
rは置換基を有してもよいアリ−ル基あるいは置換基を
有してもよい複素環基を示す。R7 は置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、
置換基を有してもよいアリ−ル基あるいは置換基を有し
てもよい複素環基を示す。
される基を表し、 一般式(2)−Z−Ar nは0または1の整数を表す。R1 、R2 及びR3 はハ
ロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基
を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいア
リ−ル基あるいは置換アミノ基を表し、p及びrは0〜
4の整数を表す。qはn=0のとき0〜5の整数を表
し、n=1のとき0〜4の整数を表す。R4 は水素原
子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有して
もよいアリ−ル基あるいは置換基を有してもよい複素環
基を表し、R5 及びR6 は置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有
してもよいアリ−ル基あるいは置換基を有してもよい複
素環基を表し、R5 及びR6 は同一でも異なっていても
よく、直接もしくは結合基を介して環を形成してもよ
い。Zは置換基を有してもよいアルキレン基を表し、A
rは置換基を有してもよいアリ−ル基あるいは置換基を
有してもよい複素環基を示す。R7 は置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、
置換基を有してもよいアリ−ル基あるいは置換基を有し
てもよい複素環基を示す。
【0024】また、本発明は前記本発明の電子写真感光
体、及び帯電手段、現像手段及びクリ−ニング手段から
なる群より選ばれる少なくとも一つの手段を一体に支持
し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とす
るプロセスカ−トリッジから構成される。
体、及び帯電手段、現像手段及びクリ−ニング手段から
なる群より選ばれる少なくとも一つの手段を一体に支持
し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とす
るプロセスカ−トリッジから構成される。
【0025】また、本発明は、前記本発明の電子写真感
光体、帯電手段、像露光手段、現像手段及び転写手段を
有することを特徴とする電子写真装置から構成される。
光体、帯電手段、像露光手段、現像手段及び転写手段を
有することを特徴とする電子写真装置から構成される。
【0026】
【発明の実施の形態】本発明の電子写真感光体は、感光
層中に電荷発生物質としてクロロガリウムフタロシアニ
ン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
から選択された少なくとも1種を含有する。これ等ガリ
ウムフタロシアニン系化合物の中でも以下に示すような
いくつかの結晶型を有するものが本発明のより好ましい
特性を発揮する。
層中に電荷発生物質としてクロロガリウムフタロシアニ
ン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
から選択された少なくとも1種を含有する。これ等ガリ
ウムフタロシアニン系化合物の中でも以下に示すような
いくつかの結晶型を有するものが本発明のより好ましい
特性を発揮する。
【0027】クロロガリウムフタロシアニン化合物が、
CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°
が7.4°、16.6°、25.5°及び28.2°に
強いピ−クを有する結晶型の顔料より構成される。
CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°
が7.4°、16.6°、25.5°及び28.2°に
強いピ−クを有する結晶型の顔料より構成される。
【0028】クロロガリウムフタロシアニン化合物が、
CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°
が8.7°〜9.2°、17.5°、24.0°、2
7.4°及び28.7°に強いピ−クを有する結晶型の
顔料より構成される。
CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°
が8.7°〜9.2°、17.5°、24.0°、2
7.4°及び28.7°に強いピ−クを有する結晶型の
顔料より構成される。
【0029】ヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が6.8°及び26.2°に強いピ−クを有する結
晶型の顔料より構成される。
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が6.8°及び26.2°に強いピ−クを有する結
晶型の顔料より構成される。
【0030】ヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が7.4°及び28.2°に強いピ−クを有する結
晶型の顔料より構成される。
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が7.4°及び28.2°に強いピ−クを有する結
晶型の顔料より構成される。
【0031】ヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が7.5°、16.3°、24.9°及び26.4
°に強いピ−クを有する結晶型の顔料より構成される。
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が7.5°、16.3°、24.9°及び26.4
°に強いピ−クを有する結晶型の顔料より構成される。
【0032】ヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が6.9°、13.3°、16.5°及び26.7
°に強いピ−クを有する結晶型の顔料より構成される。
が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.
2°が6.9°、13.3°、16.5°及び26.7
°に強いピ−クを有する結晶型の顔料より構成される。
【0033】本発明の電子写真感光体は、電荷輸送物質
として前記一般式(1)で示される特定のアリ−ルアミ
ンヒドラゾン系化合物を含有する。前記一般式(1)に
おいて、X及びYは前記一般式(2)または一般式
(3)で示される基であり、特に一般式(2)で示され
る基が好ましい。
として前記一般式(1)で示される特定のアリ−ルアミ
ンヒドラゾン系化合物を含有する。前記一般式(1)に
おいて、X及びYは前記一般式(2)または一般式
(3)で示される基であり、特に一般式(2)で示され
る基が好ましい。
【0034】また、一般式(1)において、nは0また
は1の整数であり、n=0であることがより好ましい。
更に、一般式(1)において、n=0であり、かつ、X
−O−の置換位置が4−位(n原子の置換位置から見て
パラ位)であることが更に好ましい。
は1の整数であり、n=0であることがより好ましい。
更に、一般式(1)において、n=0であり、かつ、X
−O−の置換位置が4−位(n原子の置換位置から見て
パラ位)であることが更に好ましい。
【0035】一般式(1)中、R1 、R2 及びR3 は、
それぞれ塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン
原子、メチル基、エチル基、プリピル基等のアルキル
基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコ
キシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリ−ル基、ジメ
チルアミノ基等のジアルキルアミノ基、ジフェニルアミ
ノ基等のジアリ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基等の
ジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ基等のジ複素
環アミノ基、ジアリルアミノ基、更には上記アミノ基の
置換基を組み合わせた二置換アミノ基等の置換アミノ基
であり、これ等は互いに同一でも異なっていてもよく、
特に、水素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基が好
ましい。
それぞれ塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン
原子、メチル基、エチル基、プリピル基等のアルキル
基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコ
キシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリ−ル基、ジメ
チルアミノ基等のジアルキルアミノ基、ジフェニルアミ
ノ基等のジアリ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基等の
ジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ基等のジ複素
環アミノ基、ジアリルアミノ基、更には上記アミノ基の
置換基を組み合わせた二置換アミノ基等の置換アミノ基
であり、これ等は互いに同一でも異なっていてもよく、
特に、水素原子、塩素原子、メチル基、メトキシ基が好
ましい。
【0036】上記アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル
基は置換基を有していてもよく、置換基としては、水酸
基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基、
ナフチル基等のアリ−ル基、ベンジル基、ナフチルメチ
ル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェノキシ基、
トリロキシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ
基、フェネチルオキシ基等のアリ−ルアルコキシ基、ス
チリル基、ナフチルビニル基等のアリ−ルビニル基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミ
ノ基、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジ
アリ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェネチル
アミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ
基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基、ジアリ
ルアミノ基、更には上記のアミノ基の置換基を組み合わ
せた二置換アミノ基等が挙げられる。
基は置換基を有していてもよく、置換基としては、水酸
基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基、
ナフチル基等のアリ−ル基、ベンジル基、ナフチルメチ
ル基、フェネチル基等のアラルキル基、フェノキシ基、
トリロキシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ
基、フェネチルオキシ基等のアリ−ルアルコキシ基、ス
チリル基、ナフチルビニル基等のアリ−ルビニル基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミ
ノ基、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジ
アリ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェネチル
アミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ
基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基、ジアリ
ルアミノ基、更には上記のアミノ基の置換基を組み合わ
せた二置換アミノ基等が挙げられる。
【0037】p及びrは0〜4の整数であり、qは、n
=0のとき0〜5の整数であり、n=1のとき0〜4の
整数である。
=0のとき0〜5の整数であり、n=1のとき0〜4の
整数である。
【0038】R4 は、水素原子、メチル基、エチル基、
プロピル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、
アントラセニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニ
ル基、フリル基、カリバゾリル基等の複素環基である。
これ等のアルキル基、アリ−ル基、複素環基は置換基を
有していてもよく、置換基としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基等のアルコキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリ
−ル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基
等のアラルキル基、フェノキシ基、トリロキシ基等のア
リ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ
基等のアリ−ルアルコキシ基、スチリル基、ナフチルビ
ニル基等のアリ−ルビニル基、ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基等のジアルキルアミノ基、ジフェニルアミ
ノ基、ジナフチルアミノ基等のジアリ−ルアミノ基、ジ
ベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラル
キルアミノ基、ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ
基等のジ複素環アミノ基、ジアリルアミノ基、更には上
記のアミノ基の置換基を組み合わせた二置換アミノ基等
が挙げられる。
プロピル基等のアルキル基、フェニル基、ナフチル基、
アントラセニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニ
ル基、フリル基、カリバゾリル基等の複素環基である。
これ等のアルキル基、アリ−ル基、複素環基は置換基を
有していてもよく、置換基としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基等のアルコキシ基、フェニル基、ナフチル基等のアリ
−ル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基
等のアラルキル基、フェノキシ基、トリロキシ基等のア
リ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ
基等のアリ−ルアルコキシ基、スチリル基、ナフチルビ
ニル基等のアリ−ルビニル基、ジメチルアミノ基、ジエ
チルアミノ基等のジアルキルアミノ基、ジフェニルアミ
ノ基、ジナフチルアミノ基等のジアリ−ルアミノ基、ジ
ベンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラル
キルアミノ基、ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ
基等のジ複素環アミノ基、ジアリルアミノ基、更には上
記のアミノ基の置換基を組み合わせた二置換アミノ基等
が挙げられる。
【0039】R5 及びR6 は、それぞれメチル基、エチ
ル基、プロピル基等のアルキル基、、ベンジル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、
アントラセニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニ
ル基、フリル基、カリバゾリル基等の複素環基である。
これ等のアルキル基、アラルキル基、アリ−ル基、複素
環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基、ナフチ
ル基等のアリ−ル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、
フェネチル基等のアラルキル基、フェノキシ基、トリロ
キシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェ
ネチルオキシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ
基、フェネチルオキシ基等のアリ−ルアルコキシ基、ス
チリル基、ナフチルビニル基等のアリ−ルビニル基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミ
ノ基、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジ
アリ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェネチル
アミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ
基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基、ジアリ
ルアミノ基、更には上記のアミノ基の置換基を組み合わ
せた二置換アミノ基等が挙げられる。特にR5 とR6 の
うち、少なくとも 1つが置換基を有していてもよいア
リ−ル基であることが好ましい。また、R5 とR6 とは
直接もしくは結合基を介して連結していてもよい。結合
基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基
等のアルキレン基、−S−、−O−、−N−等のヘテロ
原子が挙げられ、特に−S−、−O−、−CH2 −が好
ましく、更には−S−が好ましい。
ル基、プロピル基等のアルキル基、、ベンジル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、
アントラセニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニ
ル基、フリル基、カリバゾリル基等の複素環基である。
これ等のアルキル基、アラルキル基、アリ−ル基、複素
環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基、ナフチ
ル基等のアリ−ル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、
フェネチル基等のアラルキル基、フェノキシ基、トリロ
キシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェ
ネチルオキシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ
基、フェネチルオキシ基等のアリ−ルアルコキシ基、ス
チリル基、ナフチルビニル基等のアリ−ルビニル基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミ
ノ基、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジ
アリ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェネチル
アミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ
基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基、ジアリ
ルアミノ基、更には上記のアミノ基の置換基を組み合わ
せた二置換アミノ基等が挙げられる。特にR5 とR6 の
うち、少なくとも 1つが置換基を有していてもよいア
リ−ル基であることが好ましい。また、R5 とR6 とは
直接もしくは結合基を介して連結していてもよい。結合
基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基
等のアルキレン基、−S−、−O−、−N−等のヘテロ
原子が挙げられ、特に−S−、−O−、−CH2 −が好
ましく、更には−S−が好ましい。
【0040】Zは、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基等のアルキレン基であり、特にメチレン基が好まし
い。これ等のアルキレン基は置換基を有していてもよ
く、置換基としては、メチル基、エチル基等の低級アル
キル基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ
基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニル
基、ナフチル基等のアリ−ル基等が挙げられる。
ン基等のアルキレン基であり、特にメチレン基が好まし
い。これ等のアルキレン基は置換基を有していてもよ
く、置換基としては、メチル基、エチル基等の低級アル
キル基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ
基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニル
基、ナフチル基等のアリ−ル基等が挙げられる。
【0041】Arは、フェニル基、ナフチル基。アント
ラセニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニル基、
フリル基、カルバゾリル基等の複素環基であり、特にフ
ェニル基が好ましい。これ等のアリ−ル基及び複素環基
は置換基を有していてもよく、置換基としては、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の
アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基、ナフチル基
等のアリ−ル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基、フェノキシ基、トリロキシ
基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチ
ルオキシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基等のアリ−ルアルコキシ基、スチリ
ル基、ナフチルビニル基等のアリ−ルビニル基、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ
基、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジア
リ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェネチルア
ミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ
基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基、ジアリ
ルアミノ基、更には上記のアミノ基の置換基を組み合わ
せた二置換アミノ基等が挙げられる。
ラセニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニル基、
フリル基、カルバゾリル基等の複素環基であり、特にフ
ェニル基が好ましい。これ等のアリ−ル基及び複素環基
は置換基を有していてもよく、置換基としては、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の
アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
ブトキシ基等のアルコキシ基、フェニル基、ナフチル基
等のアリ−ル基、ベンジル基、ナフチルメチル基、フェ
ネチル基等のアラルキル基、フェノキシ基、トリロキシ
基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチ
ルオキシ基等のアリ−ルオキシ基、ベンジルオキシ基、
フェネチルオキシ基等のアリ−ルアルコキシ基、スチリ
ル基、ナフチルビニル基等のアリ−ルビニル基、ジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジアルキルアミノ
基、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基等のジア
リ−ルアミノ基、ジベンジルアミノ基、ジフェネチルア
ミノ基等のジアラルキルアミノ基、ジピリジルアミノ
基、ジチエニルアミノ基等のジ複素環アミノ基、ジアリ
ルアミノ基、更には上記のアミノ基の置換基を組み合わ
せた二置換アミノ基等が挙げられる。
【0042】R7 は、それぞれメチル基、エチル基、プ
ロピル基等のアルキル基、、ベンジル基、フェネチル基
等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、アントラ
セニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニル基、フ
リル基、カリバゾリル基等の複素環基であり、特にアル
キル基が好ましい。これ等のアルキル基、アラルキル
基、アリ−ル基、複素環基は置換基を有していてもよ
く、置換基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ
基、フェニル基、ナフチル基等のアリ−ル基、ベンジル
基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル
基、フェノキシ基、トリロキシ基等のアリ−ルオキシ
基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアリ−
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等
のアリ−ルアルコキシ基、スチリル基、ナフチルビニル
基等のアリ−ルビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基、ジフェニルアミノ
基、ジナフチルアミノ基等のジアリ−ルアミノ基、ジベ
ンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキ
ルアミノ基、ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基
等のジ複素環アミノ基、ジアリルアミノ基、更には上記
のアミノ基の置換基を組み合わせた二置換アミノ基等が
挙げられる。
ロピル基等のアルキル基、、ベンジル基、フェネチル基
等のアラルキル基、フェニル基、ナフチル基、アントラ
セニル基等のアリ−ル基、ピロリル基、チエニル基、フ
リル基、カリバゾリル基等の複素環基であり、特にアル
キル基が好ましい。これ等のアルキル基、アラルキル
基、アリ−ル基、複素環基は置換基を有していてもよ
く、置換基としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ
基、フェニル基、ナフチル基等のアリ−ル基、ベンジル
基、ナフチルメチル基、フェネチル基等のアラルキル
基、フェノキシ基、トリロキシ基等のアリ−ルオキシ
基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等のアリ−
ルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等
のアリ−ルアルコキシ基、スチリル基、ナフチルビニル
基等のアリ−ルビニル基、ジメチルアミノ基、ジエチル
アミノ基等のジアルキルアミノ基、ジフェニルアミノ
基、ジナフチルアミノ基等のジアリ−ルアミノ基、ジベ
ンジルアミノ基、ジフェネチルアミノ基等のジアラルキ
ルアミノ基、ジピリジルアミノ基、ジチエニルアミノ基
等のジ複素環アミノ基、ジアリルアミノ基、更には上記
のアミノ基の置換基を組み合わせた二置換アミノ基等が
挙げられる。
【0043】本発明における効果は上記の電荷発生物質
と電荷輸送物質を組み合わせて用いたときにだけ、選択
的に優れた効果を発現するものである。
と電荷輸送物質を組み合わせて用いたときにだけ、選択
的に優れた効果を発現するものである。
【0044】次に一般式(1)で示される化合物の具体
例を表1〜11に挙げる。ただし、これ等の具体例に限
定されるものではない。
例を表1〜11に挙げる。ただし、これ等の具体例に限
定されるものではない。
【0045】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【表7】
【表8】
【表9】
【表10】
【表11】
【0046】本発明において用いられるクロロガリウム
フタロシアニンの構造を下記一般式(4)として示す。
フタロシアニンの構造を下記一般式(4)として示す。
【化3】 式中、X1 、X2 、X3 及びX4 はClまたはBrを表
わし、n、m、l及びkは0〜4の整数である。
わし、n、m、l及びkは0〜4の整数である。
【0047】また、本発明において用いられるヒドロキ
シガリウムフタロシアニンの構造を下記一般式(5)と
して示す。
シガリウムフタロシアニンの構造を下記一般式(5)と
して示す。
【化4】 式中、X1 、X2 、X3 及びX4 はClまたはBrを表
わし、n、m、l及びkは0〜4の整数である。
わし、n、m、l及びkは0〜4の整数である。
【0048】次に、本発明において用いられる電荷発生
物質と電荷輸送物質の製造例を示す。ただしこれ等の例
に限定されるものではない。
物質と電荷輸送物質の製造例を示す。ただしこれ等の例
に限定されるものではない。
【0049】クロロガリウムフタロシアニンの製造 製造例1 o−フタロニトリル72.6g、三塩化ガリウム25
g、α−クロロナフタレン375mlを窒素雰囲気下2
00℃で4時間反応させた。反応後、析出した生成物を
130℃まで冷却してろ過した。得られた生成物をN,
N−ジメチルホルムアミドを用いて130℃で1時間分
散洗浄し、ろ過する。メタノ−ルでろ過器上洗浄した
後、減圧下で乾燥してクロロガリウムフタロシアニン3
9.8gを得た。収率45%。得られたクロロガリウム
フタロシアニンの元素分析の結果を示す。この結晶の赤
外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図1に、粉末X線
回折図を図2に示す。
g、α−クロロナフタレン375mlを窒素雰囲気下2
00℃で4時間反応させた。反応後、析出した生成物を
130℃まで冷却してろ過した。得られた生成物をN,
N−ジメチルホルムアミドを用いて130℃で1時間分
散洗浄し、ろ過する。メタノ−ルでろ過器上洗浄した
後、減圧下で乾燥してクロロガリウムフタロシアニン3
9.8gを得た。収率45%。得られたクロロガリウム
フタロシアニンの元素分析の結果を示す。この結晶の赤
外吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図1に、粉末X線
回折図を図2に示す。
【0050】製造例2 次に、製造例1で得られたクロロガリウムフタロシアニ
ン30gを10mmφのメノウボ−ル100gと20m
mφのメノウボ−ル200gと共にボ−ルミルで24時
間乾式ミリング処理を行った。次に、乾式ミリング処理
後の結晶7gとベンジルアルコ−ル280gを1mmφ
のガラスビ−ズ420gと共にサンドミルでミリング処
理を室温(22℃)下で20時間行った。この分散液か
ら顔料をろ別し,メタノ−ルで洗浄して減圧下で乾燥す
ることにより、CuKαのX線回折におけるブラッグ角
2θ±0.2°が7.4°、16.6°、25.5°及
び28.2°に強いピ−クを有する結晶型のクロロガリ
ウムフタロシアニン6.3gを得た。この結晶の粉末X
線回折図を図3に示す。
ン30gを10mmφのメノウボ−ル100gと20m
mφのメノウボ−ル200gと共にボ−ルミルで24時
間乾式ミリング処理を行った。次に、乾式ミリング処理
後の結晶7gとベンジルアルコ−ル280gを1mmφ
のガラスビ−ズ420gと共にサンドミルでミリング処
理を室温(22℃)下で20時間行った。この分散液か
ら顔料をろ別し,メタノ−ルで洗浄して減圧下で乾燥す
ることにより、CuKαのX線回折におけるブラッグ角
2θ±0.2°が7.4°、16.6°、25.5°及
び28.2°に強いピ−クを有する結晶型のクロロガリ
ウムフタロシアニン6.3gを得た。この結晶の粉末X
線回折図を図3に示す。
【0051】製造例3 製造例2と同様に乾式ミリングを施したクロロガリウム
フタロシアニンの結晶7gとメタノ−ル280gを1m
mφのガラスビ−ズ420部と共にサンドミルでミリン
グ処理を室温(22℃)下で20時間行った。この分散
液から顔料をろ別して減圧下で乾燥することにより、C
uKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°が
8.7°〜9.2°、17.5°、24.0°、27.
4°及び28.7°に強いピ−クを有する結晶型のクロ
ロガリウムフタロシアニン6.8gを得た。この結晶の
粉末X線回折図を図4に示す。
フタロシアニンの結晶7gとメタノ−ル280gを1m
mφのガラスビ−ズ420部と共にサンドミルでミリン
グ処理を室温(22℃)下で20時間行った。この分散
液から顔料をろ別して減圧下で乾燥することにより、C
uKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°が
8.7°〜9.2°、17.5°、24.0°、27.
4°及び28.7°に強いピ−クを有する結晶型のクロ
ロガリウムフタロシアニン6.8gを得た。この結晶の
粉末X線回折図を図4に示す。
【0052】ヒドロキシガリウムフタロシアニンの製造 製造例4 製造例1で得られたクロロガリウムフタロシアニン35
gを0℃に冷却した濃硫酸1050gに徐々に加えて溶
解させ、0℃下で30分間撹拌する。次いで氷水525
0g中に撹拌しながらゆっくり滴下し再沈させた。再沈
後ろ過し、得られた粉末をイオン交換水2500g中で
分散洗浄し、再びろ過する。更に、得られた粉末を2%
アンモニア水2500g中で分散洗浄して、更にイオン
交換水で十分洗浄して得られた個体を減圧下で乾燥す
る。低結晶性のヒドロキシガリウムフタロシアニンを3
3.9g得た。収率97%。得られたヒドロキシガリウ
ムフタロシアニンの元素分析値を示す。この結晶の赤外
吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図5に、粉末X線回
折図を図6に示す。
gを0℃に冷却した濃硫酸1050gに徐々に加えて溶
解させ、0℃下で30分間撹拌する。次いで氷水525
0g中に撹拌しながらゆっくり滴下し再沈させた。再沈
後ろ過し、得られた粉末をイオン交換水2500g中で
分散洗浄し、再びろ過する。更に、得られた粉末を2%
アンモニア水2500g中で分散洗浄して、更にイオン
交換水で十分洗浄して得られた個体を減圧下で乾燥す
る。低結晶性のヒドロキシガリウムフタロシアニンを3
3.9g得た。収率97%。得られたヒドロキシガリウ
ムフタロシアニンの元素分析値を示す。この結晶の赤外
吸収スペクトル(KBr錠剤法)を図5に、粉末X線回
折図を図6に示す。
【0053】製造例5 次に、製造例4において得られたヒドロキシガリウムフ
タロシアニン7gとN,N−ジメチルホルムアミド21
0gを1mmφのガラスビ−ズ300gと共にサンドミ
ルでミリング処理を室温(22℃)下で5時間行った。
この分散液より顔料をろ別し、メタノ−ルで洗浄して減
圧下で乾燥することにより、CuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が7.4°及び28.2°
に強いピ−クを有する結晶型のヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン6.4gを得た。この結晶の粉末X線回折図
を図7に示す。
タロシアニン7gとN,N−ジメチルホルムアミド21
0gを1mmφのガラスビ−ズ300gと共にサンドミ
ルでミリング処理を室温(22℃)下で5時間行った。
この分散液より顔料をろ別し、メタノ−ルで洗浄して減
圧下で乾燥することにより、CuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が7.4°及び28.2°
に強いピ−クを有する結晶型のヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン6.4gを得た。この結晶の粉末X線回折図
を図7に示す。
【0054】製造例6 次に、製造例4で得られたヒドロキシガリウムフタロシ
アニン7gとメタノ−ル210gを1mmφのガラスビ
−ズ300gと共にサンドミルでミリング処理を室温
(22℃)下で5時間行った。この分散液から顔料をろ
別して減圧下で乾燥することにより、CuKαのX線回
折におけるブラッグ角2θ±0.2°が7.5°、1
6.3°、24.9°及び26.4°に強いピ−クを有
する結晶型のヒドロキシガリウムフタロシアニン6.1
gを得た。この結晶の粉末X線回折図を図8に示す。
アニン7gとメタノ−ル210gを1mmφのガラスビ
−ズ300gと共にサンドミルでミリング処理を室温
(22℃)下で5時間行った。この分散液から顔料をろ
別して減圧下で乾燥することにより、CuKαのX線回
折におけるブラッグ角2θ±0.2°が7.5°、1
6.3°、24.9°及び26.4°に強いピ−クを有
する結晶型のヒドロキシガリウムフタロシアニン6.1
gを得た。この結晶の粉末X線回折図を図8に示す。
【0055】製造例7 次に、製造例4で得られたヒドロキシガリウムフタロシ
アニン7gとクロロホルム210gを1mmφのガラス
ビ−ズ300gと共にサンドミルでミリング処理を室温
(22℃)下で5時間行った。この分散液から顔料をろ
別して減圧下で乾燥することにより、CuKαのX線回
折におけるブラッグ角2θ±0.2°が6.9°、1
3.3°、16.5°及び26.7°に強いピ−クを有
する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン6.6
gを得た。この結晶の粉末X線回折図を図9に示す。
アニン7gとクロロホルム210gを1mmφのガラス
ビ−ズ300gと共にサンドミルでミリング処理を室温
(22℃)下で5時間行った。この分散液から顔料をろ
別して減圧下で乾燥することにより、CuKαのX線回
折におけるブラッグ角2θ±0.2°が6.9°、1
3.3°、16.5°及び26.7°に強いピ−クを有
する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン6.6
gを得た。この結晶の粉末X線回折図を図9に示す。
【0056】本発明において用いるクロロガリウムフタ
ロシアニン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン化合物は上記のようにして製造することができるが、
これ等の製造例に限定されるものではない。
ロシアニン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン化合物は上記のようにして製造することができるが、
これ等の製造例に限定されるものではない。
【0057】例示ヒドラゾン系化合物3の製造 製造例8 一般式(1)で示されるヒドラゾン系化合物は、下記一
般式(6)で示されるヒドラジン誘導体 一般式(6)
般式(6)で示されるヒドラジン誘導体 一般式(6)
【化5】 式中、R5 及びR6 は前記と同義と一般式(7)で示さ
れるトリフェニルアミン誘導体一般式(7)
れるトリフェニルアミン誘導体一般式(7)
【化6】 式中、R1 、R2 R3 、R4 、X、Y、n、p、q及び
rは前記と同義を用いて合成することができる。
rは前記と同義を用いて合成することができる。
【0058】300ml三ッ口フラスコにエタノ−ル5
0ml、酢酸50ml、1、1−ジフェニルヒドラジン
(一般式(6)でR5 及びR6 がフェニル基で示される
化合物)3.21g(0.0174mol)及び下記構
造式の化合物6.85g(0.0174mol)
0ml、酢酸50ml、1、1−ジフェニルヒドラジン
(一般式(6)でR5 及びR6 がフェニル基で示される
化合物)3.21g(0.0174mol)及び下記構
造式の化合物6.85g(0.0174mol)
【化7】 を加え室温で1時間反応し、水に注加した。次に、得ら
れた固形分をろ過し、水洗を繰り返し固形分をろ別乾燥
した。次に、メチルエチルケトン/エタノ−ルより再結
晶し黄色の結晶を3.21g得た。収率33%。
れた固形分をろ過し、水洗を繰り返し固形分をろ別乾燥
した。次に、メチルエチルケトン/エタノ−ルより再結
晶し黄色の結晶を3.21g得た。収率33%。
【0059】本発明において用いられる他のヒドラゾン
系化合物も同様にして製造することができる。ただし、
これ等の製造例に限定されるものではない。
系化合物も同様にして製造することができる。ただし、
これ等の製造例に限定されるものではない。
【0060】本発明の電子写真感光体の代表的な層構成
としては、電荷発生物質と電荷輸送物質を同一の層に含
有する形態、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷
輸送物質を含有する電荷輸送層を積層する形態がある。
更に、導電性支持体、電荷発生層及び電荷輸送層をこの
順に積層する形態と導電性支持体、電荷輸送層及び電荷
発生層をこの順に積層する形態がある。
としては、電荷発生物質と電荷輸送物質を同一の層に含
有する形態、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷
輸送物質を含有する電荷輸送層を積層する形態がある。
更に、導電性支持体、電荷発生層及び電荷輸送層をこの
順に積層する形態と導電性支持体、電荷輸送層及び電荷
発生層をこの順に積層する形態がある。
【0061】本発明の電子写真感光体において、電荷発
生層は、十分な吸光度を得るためにできる限り多くの電
荷発生物質を含有し、かつ、発生した電荷キャリヤ−の
飛程を短くするために薄膜層、5μm以下、好ましくは
0.01〜1μmの薄膜層とすることが望ましい。
生層は、十分な吸光度を得るためにできる限り多くの電
荷発生物質を含有し、かつ、発生した電荷キャリヤ−の
飛程を短くするために薄膜層、5μm以下、好ましくは
0.01〜1μmの薄膜層とすることが望ましい。
【0062】電荷発生層は電荷発生物質を適当なバイン
ダ−に分散させ、これを導電性支持体上に塗工すること
により形成できる。
ダ−に分散させ、これを導電性支持体上に塗工すること
により形成できる。
【0063】塗工によって形成する際に用いるバインダ
−としては、広範な絶縁性樹脂から選択でき、また、ポ
リ−N−ビニルカルバゾ−ル、ポリビニルアントラセン
やポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマ−から選択
できる。好ましくは、ポリビニルブチラ−ル、ポリアリ
レ−ト(ビスフェノ−ルと芳香族ジカルボン酸の重縮合
体)、ポリカ−ボネ−ト、ポリエステル、フェノキシ樹
脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロ−ス系樹
脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコ−ル、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。
電荷発生層中に含有される樹脂は80重量%以下、好ま
しくは40重量%以下が適している。
−としては、広範な絶縁性樹脂から選択でき、また、ポ
リ−N−ビニルカルバゾ−ル、ポリビニルアントラセン
やポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマ−から選択
できる。好ましくは、ポリビニルブチラ−ル、ポリアリ
レ−ト(ビスフェノ−ルと芳香族ジカルボン酸の重縮合
体)、ポリカ−ボネ−ト、ポリエステル、フェノキシ樹
脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミ
ド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロ−ス系樹
脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニ
ルアルコ−ル、ポリビニルピロリドン等が挙げられる。
電荷発生層中に含有される樹脂は80重量%以下、好ま
しくは40重量%以下が適している。
【0064】これ等の樹脂を溶解する溶剤は、樹脂の種
類によって異なり、また電荷輸送層や下引き層を溶解し
ない種類から選択することが好ましい。具体的には、メ
タノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル等のアルコ−
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン
等のケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホ
キシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル等のエ
−テル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ク
ロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化
炭素、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水
素あるいはベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合
物等が用いられる。
類によって異なり、また電荷輸送層や下引き層を溶解し
ない種類から選択することが好ましい。具体的には、メ
タノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル等のアルコ−
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン
等のケトン類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホ
キシド等のスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、エチレングリコ−ルモノメチルエ−テル等のエ
−テル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ク
ロロホルム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化
炭素、トリクロロエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水
素あるいはベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合
物等が用いられる。
【0065】塗布方法としては、浸漬コ−ティング法、
スプレ−コ−ティング法、スピンナ−コ−ティング法、
ビ−ドコ−ティング法、マイヤ−バ−コ−ティング法、
ブレ−ドコ−ティング法、ロ−ラ−コ−ティング法、カ
−テンコ−ティング法等の方法が採用できる。乾燥は、
室温における指触乾燥後、加熱乾燥する方法が好まし
い。加熱乾燥は30〜200℃の範囲で5分間〜2時間
の範囲で静止または送風下で行う。
スプレ−コ−ティング法、スピンナ−コ−ティング法、
ビ−ドコ−ティング法、マイヤ−バ−コ−ティング法、
ブレ−ドコ−ティング法、ロ−ラ−コ−ティング法、カ
−テンコ−ティング法等の方法が採用できる。乾燥は、
室温における指触乾燥後、加熱乾燥する方法が好まし
い。加熱乾燥は30〜200℃の範囲で5分間〜2時間
の範囲で静止または送風下で行う。
【0066】電荷輸送層は、電荷発生層と電気的に接続
されており、電界の存在下で電荷発生層から注入された
電荷キャリヤ−を受け取ると共に、これ等の電荷キャリ
ヤ−を表面まで輸送する機能を有している。この際、電
荷輸送層は電荷発生層の上に積層されていてもよく、ま
た、その下に積層されていてもよい。電荷輸送層は一般
式(1)で示される特定の構造を有するアリ−ルアミン
ヒドラゾン系化合物を適当なバインダ−と共に溶解し、
これを塗布して形成できる。
されており、電界の存在下で電荷発生層から注入された
電荷キャリヤ−を受け取ると共に、これ等の電荷キャリ
ヤ−を表面まで輸送する機能を有している。この際、電
荷輸送層は電荷発生層の上に積層されていてもよく、ま
た、その下に積層されていてもよい。電荷輸送層は一般
式(1)で示される特定の構造を有するアリ−ルアミン
ヒドラゾン系化合物を適当なバインダ−と共に溶解し、
これを塗布して形成できる。
【0067】バインダ−としては、例えば、アクリル樹
脂、ポリアリレ−ト、ポリエステル、ポリカ−ボネ−
ト、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレンコポリ
マ−、アクリロニトリル−ブタジエンコポリマ−、ポリ
ビニルブチラ−ル、ポリビニルホルマ−ル、ポリサルホ
ン、ポリアクリルアミド、ポリアミド、塩素化ゴム等の
絶縁性樹脂あるいはポリ−N−ビニルカルバゾ−ル、ポ
リビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導
電性ポリマ−等が挙げられる。電荷輸送層は電荷キャリ
ヤ−を輸送できる限界があるので必要以上に膜厚を厚く
することはできないが、3〜50μm、好ましくは8〜
30μmである。塗工によって電荷輸送層を形成する際
には、前記電荷発生層の形成に用いたと同様の適当な塗
布方法を採用できる。
脂、ポリアリレ−ト、ポリエステル、ポリカ−ボネ−
ト、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレンコポリ
マ−、アクリロニトリル−ブタジエンコポリマ−、ポリ
ビニルブチラ−ル、ポリビニルホルマ−ル、ポリサルホ
ン、ポリアクリルアミド、ポリアミド、塩素化ゴム等の
絶縁性樹脂あるいはポリ−N−ビニルカルバゾ−ル、ポ
リビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導
電性ポリマ−等が挙げられる。電荷輸送層は電荷キャリ
ヤ−を輸送できる限界があるので必要以上に膜厚を厚く
することはできないが、3〜50μm、好ましくは8〜
30μmである。塗工によって電荷輸送層を形成する際
には、前記電荷発生層の形成に用いたと同様の適当な塗
布方法を採用できる。
【0068】電荷発生層と電荷輸送層の積層構造からな
る感光層は導電性支持体上に設けられる。導電性支持体
としては支持体自体が導電性を有するもの、例えばアル
ミニウム、アルミニウム合金等の金属や合金が用いら
れ、その他にアルミニウム、アルミニウム合金、酸化イ
ンジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ合金等
を真空蒸着法によって塗膜形成された層を有するプラス
チック、導電性粒子(例えばカ−ボンブラック、銀粒子
等)を適当なバインダ−と共にプラスチックや前記金属
支持体の上に被覆した導電性支持体、導電性粒子をプラ
スチックや紙に含浸した導電性支持体や導電性ポリマ−
を有するプラスチック等が用いられる。
る感光層は導電性支持体上に設けられる。導電性支持体
としては支持体自体が導電性を有するもの、例えばアル
ミニウム、アルミニウム合金等の金属や合金が用いら
れ、その他にアルミニウム、アルミニウム合金、酸化イ
ンジウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化スズ合金等
を真空蒸着法によって塗膜形成された層を有するプラス
チック、導電性粒子(例えばカ−ボンブラック、銀粒子
等)を適当なバインダ−と共にプラスチックや前記金属
支持体の上に被覆した導電性支持体、導電性粒子をプラ
スチックや紙に含浸した導電性支持体や導電性ポリマ−
を有するプラスチック等が用いられる。
【0069】導電性支持体と感光層の中間に、バリヤ−
機能と接着機能を有する下引き層を設けることができ
る。下引き層はカゼイン、ポリビニルアルコ−ル、ニト
ロセルロ−ス、エチレン−アクリル酸コポリマ−、ポリ
アミド(ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、
共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイロン等)、ポ
リウレタン、ゼラチン、酸化アルミニウム等によって形
成できる。下引き層の膜厚は0.1〜5μm、好ましく
は0.5〜3μmである。
機能と接着機能を有する下引き層を設けることができ
る。下引き層はカゼイン、ポリビニルアルコ−ル、ニト
ロセルロ−ス、エチレン−アクリル酸コポリマ−、ポリ
アミド(ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、
共重合ナイロン、アルコキシメチル化ナイロン等)、ポ
リウレタン、ゼラチン、酸化アルミニウム等によって形
成できる。下引き層の膜厚は0.1〜5μm、好ましく
は0.5〜3μmである。
【0070】また、本発明の電子写真感光体は必要に応
じて表面保護層を設けてもよい。
じて表面保護層を設けてもよい。
【0071】本発明の電子写真感光体は電子写真複写機
に利用するのみならず、レ−ザ−ビ−ムプリンタ−、C
RTプリンタ−、LEDプリンタ−、液晶プリンタ−、
レ−ザ−製版、ファクシミリ等の電子写真応用分野にも
広く利用することができる。
に利用するのみならず、レ−ザ−ビ−ムプリンタ−、C
RTプリンタ−、LEDプリンタ−、液晶プリンタ−、
レ−ザ−製版、ファクシミリ等の電子写真応用分野にも
広く利用することができる。
【0072】次に、本発明のプロセスカ−トリッジ並び
に電子写真装置について説明する。図10に本発明の電
子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジを有する電
子写真装置の概略構成を示す。図において、1はドラム
状の本発明の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印
方向に所定の周速度で回転駆動される。感光体1は回転
過程において、一次帯電手段3によりその周面に正また
は負の所定電位の均一帯電を受け、次いで、スリット露
光やレ−ザ−ビ−ム走査露光等の像露光手段(不図示)
からの画像露光光4を受ける。こうして感光体1の周面
に静電潜像が順次形成されていく。
に電子写真装置について説明する。図10に本発明の電
子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジを有する電
子写真装置の概略構成を示す。図において、1はドラム
状の本発明の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印
方向に所定の周速度で回転駆動される。感光体1は回転
過程において、一次帯電手段3によりその周面に正また
は負の所定電位の均一帯電を受け、次いで、スリット露
光やレ−ザ−ビ−ム走査露光等の像露光手段(不図示)
からの画像露光光4を受ける。こうして感光体1の周面
に静電潜像が順次形成されていく。
【0073】形成された静電潜像は、次いで現像手段5
によりトナ−現像され、現像されたトナ−現像像は、不
図示の給紙部から感光体1と転写手段6との間に感光体
1の回転と同期取りされて給送された転写材7に、転写
手段6により順次転写されていく。像転写を受けた転写
材7は感光体面から分離されて像定着手段8へ導入され
て像定着を受けることにより複写物(コピ−)として装
置外へプリントアウトされる。像転写後の感光体1の表
面は、クリ−ニング手段9によって転写残りトナ−の除
去を受けて清浄面化され、更に前露光手段(不図示)か
らの前露光光10により除電処理がされた後、繰り返し
画像形成に使用される。なお、一次帯電手段3が帯電ロ
−ラ−等を用いた接触帯電手段である場合は、前露光は
必ずしも必要ではない。
によりトナ−現像され、現像されたトナ−現像像は、不
図示の給紙部から感光体1と転写手段6との間に感光体
1の回転と同期取りされて給送された転写材7に、転写
手段6により順次転写されていく。像転写を受けた転写
材7は感光体面から分離されて像定着手段8へ導入され
て像定着を受けることにより複写物(コピ−)として装
置外へプリントアウトされる。像転写後の感光体1の表
面は、クリ−ニング手段9によって転写残りトナ−の除
去を受けて清浄面化され、更に前露光手段(不図示)か
らの前露光光10により除電処理がされた後、繰り返し
画像形成に使用される。なお、一次帯電手段3が帯電ロ
−ラ−等を用いた接触帯電手段である場合は、前露光は
必ずしも必要ではない。
【0074】本発明においては、上述の感光体1、一次
帯電手段3、現像手段5及びクリ−ニング手段9等の構
成要素のうち、複数のものをプロセスカ−トリッジとし
て一体に結合して構成し、このプロセスカ−トリッジを
複写機やレ−ザ−ビ−ムプリンタ−等の電子写真装置本
体に対して着脱可能に構成してもよい。例えば一次帯電
手段3、現像手段5及びクリ−ニング手段9の少なくと
も1つを感光体1と共に一体に支持してカ−トリッジ化
し、装置本体のレ−ル12等の案内手段を用いて装置本
体に着脱可能なプロセスカ−トリッジ11とすることが
できる。また、画像露光光4は、電子写真装置が複写機
やプリンタ−である場合には、原稿からの反射光や透過
光を用いる、あるいは、センサ−で原稿を読み取り、信
号化し、この信号に従って行われるレ−ザ−ビ−ムの走
査、LEDアレイの駆動及び液晶シャッタ−アレイの駆
動等により照射される光である。
帯電手段3、現像手段5及びクリ−ニング手段9等の構
成要素のうち、複数のものをプロセスカ−トリッジとし
て一体に結合して構成し、このプロセスカ−トリッジを
複写機やレ−ザ−ビ−ムプリンタ−等の電子写真装置本
体に対して着脱可能に構成してもよい。例えば一次帯電
手段3、現像手段5及びクリ−ニング手段9の少なくと
も1つを感光体1と共に一体に支持してカ−トリッジ化
し、装置本体のレ−ル12等の案内手段を用いて装置本
体に着脱可能なプロセスカ−トリッジ11とすることが
できる。また、画像露光光4は、電子写真装置が複写機
やプリンタ−である場合には、原稿からの反射光や透過
光を用いる、あるいは、センサ−で原稿を読み取り、信
号化し、この信号に従って行われるレ−ザ−ビ−ムの走
査、LEDアレイの駆動及び液晶シャッタ−アレイの駆
動等により照射される光である。
【0075】次に、実施例と比較例で用いた電荷発生物
質について示す。
質について示す。
【0076】実施例で用いた電荷発生物質の結晶形
【表12】
【0077】比較例で用いた電荷発生物質の結晶形
【表13】
【0078】実施例1 アルミ支持体上に0.42μmの塩化ビニル・無水マレ
イン酸・酢酸ビニル共重合体よりなる下引き層を形成し
た。次に、表12に示される顔料番号P−4の結晶型を
持つヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物4部とポ
リビニルブチラ−ル(ブチラ−ル化度65モル%、平均
分子量35000)2部をシクロヘキサノン80部に添
加し、ガラスビ−ズと共にサンドミルで4時間分散し、
これに80部の酢酸エチルを加え希釈した分散液を下引
き層上に乾燥後の膜厚が0.24μmとなるようにマイ
ヤバ−で塗布し、電荷発生層を形成した。
イン酸・酢酸ビニル共重合体よりなる下引き層を形成し
た。次に、表12に示される顔料番号P−4の結晶型を
持つヒドロキシガリウムフタロシアニン化合物4部とポ
リビニルブチラ−ル(ブチラ−ル化度65モル%、平均
分子量35000)2部をシクロヘキサノン80部に添
加し、ガラスビ−ズと共にサンドミルで4時間分散し、
これに80部の酢酸エチルを加え希釈した分散液を下引
き層上に乾燥後の膜厚が0.24μmとなるようにマイ
ヤバ−で塗布し、電荷発生層を形成した。
【0079】次に、電荷輸送物質として例示化合物1を
4.5部とビスフェノ−ルZ型ポリカ−ボネ−ト(粘度
平均分子量20000)5部をモノクロロベンゼン38
部に溶解し、この液を電荷発生層上に乾燥後の膜厚が2
3μmとなるようにマイヤ−バ−で塗布し、乾燥して電
荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作成(感光体1)
した。
4.5部とビスフェノ−ルZ型ポリカ−ボネ−ト(粘度
平均分子量20000)5部をモノクロロベンゼン38
部に溶解し、この液を電荷発生層上に乾燥後の膜厚が2
3μmとなるようにマイヤ−バ−で塗布し、乾燥して電
荷輸送層を形成し、電子写真感光体を作成(感光体1)
した。
【0080】電荷発生物質として実施例1で用いた顔料
番号P−4に代えて、顔料番号P−1の結晶型を持つク
ロロガリウムフタロシアニンを用いた他は、実施例1と
同様にして電子写真感光体(感光体2)を作成した。
番号P−4に代えて、顔料番号P−1の結晶型を持つク
ロロガリウムフタロシアニンを用いた他は、実施例1と
同様にして電子写真感光体(感光体2)を作成した。
【0081】比較例1 電荷発生物質として実施例1における顔料番号P−4に
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−1を用いた
他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成(比
較感光体1)した。
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−1を用いた
他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成(比
較感光体1)した。
【0082】比較例2 電荷発生物質として実施例1における顔料番号P−4に
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−2を用いた
他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成(比
較感光体2)した。
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−2を用いた
他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成(比
較感光体2)した。
【0083】比較例3 電荷発生物質として実施例1における顔料番号P−4に
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−3を用いた
他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成(比
較感光体3)した。
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−3を用いた
他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成(比
較感光体3)した。
【0084】比較例4 電荷発生物質として実施例1における顔料番号P−4に
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−4の顔料を
用いた他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作
成(比較感光体4)した。
代えて、表13に示される比較顔料番号Q−4の顔料を
用いた他は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作
成(比較感光体4)した。
【0085】感光体1及び2、比較感光体1〜4の電子
写真感光体をそれぞれレ−ザ−ビ−ムプリンタ−(商品
名LBP−SX、キヤノン(株)製)の改造機のシリン
ダ−に貼り付けて暗部電位が−700Vになるように帯
電設定をし、これに波長780nmのレ−ザ−光を照射
して、−700Vの電位を−200Vまで下げるのに必
要な光量を測定し感度とした。さらに20μJ/cm2
の光量を照射した場合の電位を残留電位Vrとして測定
した。結果を表14に示す。
写真感光体をそれぞれレ−ザ−ビ−ムプリンタ−(商品
名LBP−SX、キヤノン(株)製)の改造機のシリン
ダ−に貼り付けて暗部電位が−700Vになるように帯
電設定をし、これに波長780nmのレ−ザ−光を照射
して、−700Vの電位を−200Vまで下げるのに必
要な光量を測定し感度とした。さらに20μJ/cm2
の光量を照射した場合の電位を残留電位Vrとして測定
した。結果を表14に示す。
【0086】
【表14】
【0087】次に、これ等6種類の電子写真感光体をレ
−ザ−ビ−ムプリンタ−(前出)の改造機のシリンダ−
に貼り付けて装着し、湿度10%/気温5℃、湿度50
%/気温18℃、湿度80%/気温35℃の3環境にお
いて、画像テストを行った。条件は次の通りである。暗
部電位:−700V、明部電位:−200V、転写電
位:+700v、現像極性:負極性、プロセススピ−
ド:54mm/sec、現像バイアス:−450V、像
露光スキャン方式:イメ−ジスキャン、一次帯電前露
光:6.50lux・secの赤色全面露光、画像形成
はレ−ザ−ビ−ムを文字信号及び画像信号に従ってライ
ンスキャンして行った。また、連続3000枚の通紙耐
久を行って耐久後の暗部電位、明部電位の絶対値の変動
量ΔVdとΔVlを測定した。
−ザ−ビ−ムプリンタ−(前出)の改造機のシリンダ−
に貼り付けて装着し、湿度10%/気温5℃、湿度50
%/気温18℃、湿度80%/気温35℃の3環境にお
いて、画像テストを行った。条件は次の通りである。暗
部電位:−700V、明部電位:−200V、転写電
位:+700v、現像極性:負極性、プロセススピ−
ド:54mm/sec、現像バイアス:−450V、像
露光スキャン方式:イメ−ジスキャン、一次帯電前露
光:6.50lux・secの赤色全面露光、画像形成
はレ−ザ−ビ−ムを文字信号及び画像信号に従ってライ
ンスキャンして行った。また、連続3000枚の通紙耐
久を行って耐久後の暗部電位、明部電位の絶対値の変動
量ΔVdとΔVlを測定した。
【0088】次に、以下のような条件で転写メモリ−の
測定を行った。上記同様の装置を用い、転写電流OFF
時の一次帯電電位をVd1、転写電流ON時の一次帯電
電位をVd2として、転写メモリ−(Vd1−Vd2)
を測定した。
測定を行った。上記同様の装置を用い、転写電流OFF
時の一次帯電電位をVd1、転写電流ON時の一次帯電
電位をVd2として、転写メモリ−(Vd1−Vd2)
を測定した。
【0089】更に、白色光に対するフォトメモリ−の測
定として、前記のように作成した電子写真感光体を光照
射前に上記と同様のプリンタ−で−700Vに帯電した
ときの初期電位(Vd)と全面露光後の電位(Vl)を
測定し、次に、この電子写真感光体に暗部と明部ができ
るようにマスキングし、蛍光灯下で3000lux、2
0分間光照射した後、5分間放置し、初期電位との変化
量の絶対値(ΔVdとΔVl)を測定した。
定として、前記のように作成した電子写真感光体を光照
射前に上記と同様のプリンタ−で−700Vに帯電した
ときの初期電位(Vd)と全面露光後の電位(Vl)を
測定し、次に、この電子写真感光体に暗部と明部ができ
るようにマスキングし、蛍光灯下で3000lux、2
0分間光照射した後、5分間放置し、初期電位との変化
量の絶対値(ΔVdとΔVl)を測定した。
【0090】連続3000枚の通紙耐久を行って、暗部
電位と明部電位の絶対値の変動量ΔVdとΔVlの値
と、転写メモリ−の値、フォトメモリ−の値を表15に
示す。
電位と明部電位の絶対値の変動量ΔVdとΔVlの値
と、転写メモリ−の値、フォトメモリ−の値を表15に
示す。
【0091】また、感光体1及び2はいずれの環境にお
いても耐久後でも初期と同様の良好な画像が得られた
が、比較感光体1、2、3及び4では、いずれの環境に
おいても白地に地カブリを起こしており特に湿度80%
/気温35℃において著しく、更に比較感光体4は特に
良好ではない画像が得られた。また、比較感光体1、
2、3及び4については、地カブリを除くために濃度調
節レバ−により調節したところ、黒字部分の濃度が不十
分となった。
いても耐久後でも初期と同様の良好な画像が得られた
が、比較感光体1、2、3及び4では、いずれの環境に
おいても白地に地カブリを起こしており特に湿度80%
/気温35℃において著しく、更に比較感光体4は特に
良好ではない画像が得られた。また、比較感光体1、
2、3及び4については、地カブリを除くために濃度調
節レバ−により調節したところ、黒字部分の濃度が不十
分となった。
【0092】
【表15】
【0093】実施例3〜25 表12に示した各種結晶型のガリウムフタロシアニン化
合物と一般式(1)に示される前記例示の電荷輸送物質
を用い、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成
(感光体3〜25)した。
合物と一般式(1)に示される前記例示の電荷輸送物質
を用い、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成
(感光体3〜25)した。
【0094】これ等の感光体を実施例1と同様にしてレ
−ザ−ビ−ムプリンタ−(前出)の改造機のシリンダ−
に貼り付けて暗部電位が−700Vになる用に帯電設定
をし、これに波長780nmのレ−ザ−光を照射して−
700Vの電位を−200Vまで下げるのに必要な光量
EΔ500を測定し感度とした。更に、20μJ/cm
2 の光量を照射した場合の電位を残留電位Vrとして測
定した。
−ザ−ビ−ムプリンタ−(前出)の改造機のシリンダ−
に貼り付けて暗部電位が−700Vになる用に帯電設定
をし、これに波長780nmのレ−ザ−光を照射して−
700Vの電位を−200Vまで下げるのに必要な光量
EΔ500を測定し感度とした。更に、20μJ/cm
2 の光量を照射した場合の電位を残留電位Vrとして測
定した。
【0095】また、これ等の感光体を暗部電位−700
V、明部電位−200Vになるように設定した後、連続
3000枚の通紙耐久を行って、初期と3000枚後の
暗部電位と明部電位の絶対値の変動量ΔVdとΔVlを
測定した。結果を表16に示す。
V、明部電位−200Vになるように設定した後、連続
3000枚の通紙耐久を行って、初期と3000枚後の
暗部電位と明部電位の絶対値の変動量ΔVdとΔVlを
測定した。結果を表16に示す。
【0096】
【表16】
【0097】更に、フォトメモリ−と転写メモリ−の測
定を実施例1と同様にして行った。結果を表17に示
す。
定を実施例1と同様にして行った。結果を表17に示
す。
【0098】
【表17】
【0099】比較例5〜20 実施例3で用いた電荷発生物質に代えて、表13で示さ
れた各種フタロシアニン化合物を用い、後記表18に示
すように電荷輸送物質と組み合わせた他は、実施例3と
同様にして電子写真感光体を作成(比較感光体5〜2
0)し、同様に評価した。結果を表18に示す。
れた各種フタロシアニン化合物を用い、後記表18に示
すように電荷輸送物質と組み合わせた他は、実施例3と
同様にして電子写真感光体を作成(比較感光体5〜2
0)し、同様に評価した。結果を表18に示す。
【0100】
【表18】
【0101】更に、これ等比較感光体についてもフォト
メモリ−と転写メモリ−の測定を実施例1と同様にして
行った。結果を表19に示す。
メモリ−と転写メモリ−の測定を実施例1と同様にして
行った。結果を表19に示す。
【0102】
【表19】
【0103】比較例21〜26 実施例1において、電荷輸送物質を下記構造式の化合物
H−1〜H−6に代えて用いた他は、実施例1と同様に
して比較感光体21〜26を作成し、同様に評価した。
結果を表20に示す。
H−1〜H−6に代えて用いた他は、実施例1と同様に
して比較感光体21〜26を作成し、同様に評価した。
結果を表20に示す。
【0104】H−1
【化8】 H−2
【化9】 H−3
【化10】 H−4
【化11】 H−5
【化12】 H−6
【化13】
【0105】
【表20】
【0106】更に、これ等比較感光体についてもフォト
メモリ−と転写メモリ−の測定を実施例1と同様にして
行った。結果を表21に示す。
メモリ−と転写メモリ−の測定を実施例1と同様にして
行った。結果を表21に示す。
【0107】
【表21】
【0108】表14〜21の結果より明らかなように、
本発明における電荷発生物質としてのクロロガリウムフ
タロシアニン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシア
ニン化合物と電荷輸送物質として一般式(1)で示され
る特定の構造を有するアリ−ルアミンヒドラゾン化合物
を組み合わせた本発明の電子写真感光体は、高感度、低
残留電位であり、繰り返し使用時における帯電能の低下
や感度低下が極めて小さく、安定した特性を有してお
り、更に、転写メモリ−やフォトメモリ−が極めて小さ
く優れた特性を発現することが解る。
本発明における電荷発生物質としてのクロロガリウムフ
タロシアニン化合物及びヒドロキシガリウムフタロシア
ニン化合物と電荷輸送物質として一般式(1)で示され
る特定の構造を有するアリ−ルアミンヒドラゾン化合物
を組み合わせた本発明の電子写真感光体は、高感度、低
残留電位であり、繰り返し使用時における帯電能の低下
や感度低下が極めて小さく、安定した特性を有してお
り、更に、転写メモリ−やフォトメモリ−が極めて小さ
く優れた特性を発現することが解る。
【0109】実施例26 厚さ50μmのアルミニウムシ−ト支持体上に実施例1
と同様に下引き層をバ−コ−トにより形成し、この上に
実施例1と同様の電荷輸送層を18μmの膜厚で形成し
た。
と同様に下引き層をバ−コ−トにより形成し、この上に
実施例1と同様の電荷輸送層を18μmの膜厚で形成し
た。
【0110】次に、ビスフェノ−ルZ型ポリカ−ボネ−
ト6部をシクロヘキサン66部に溶解し、この溶液に表
12に示す顔料番号P−4のヒドロキシガリウムフタロ
シアニン3.8部を混合し、サンドミルで1時間分散
後、ビスフェノ−ルZ型ポリカ−ボネ−ト5部と実施例
1で用いた電荷輸送物質9.5部を溶解し、更にテトラ
ヒドロフラン40部、ジクロロメタン40部を加えて希
釈して分散塗料を得た。この塗料をスプレ−塗布によ
り、電荷輸送層上に塗布し乾燥して8μmの膜厚の電荷
発生層を形成し、感光体26を作成した。
ト6部をシクロヘキサン66部に溶解し、この溶液に表
12に示す顔料番号P−4のヒドロキシガリウムフタロ
シアニン3.8部を混合し、サンドミルで1時間分散
後、ビスフェノ−ルZ型ポリカ−ボネ−ト5部と実施例
1で用いた電荷輸送物質9.5部を溶解し、更にテトラ
ヒドロフラン40部、ジクロロメタン40部を加えて希
釈して分散塗料を得た。この塗料をスプレ−塗布によ
り、電荷輸送層上に塗布し乾燥して8μmの膜厚の電荷
発生層を形成し、感光体26を作成した。
【0111】実施例27 電荷発生物質として実施例26における顔料番号P−4
に代えて、表12に示される顔料番号P−1の結晶型を
持つクロロガリウムフタロシアニンを用いた他は、実施
例26と同様にして電子写真感光体を作成(感光体2
7)した。
に代えて、表12に示される顔料番号P−1の結晶型を
持つクロロガリウムフタロシアニンを用いた他は、実施
例26と同様にして電子写真感光体を作成(感光体2
7)した。
【0112】比較例27 電荷発生物質として実施例26における顔料番号P−4
に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−1を用い
た他は、実施例26と同様にして電子写真感光体を作成
(比較感光体27)した。
に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−1を用い
た他は、実施例26と同様にして電子写真感光体を作成
(比較感光体27)した。
【0113】比較例28 電荷発生物質として実施例26における顔料番号P−4
に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−2を用い
た他は、実施例26と同様にして電子写真感光体を作成
(比較感光体28)した。
に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−2を用い
た他は、実施例26と同様にして電子写真感光体を作成
(比較感光体28)した。
【0114】比較例29 電荷発生物質として実施例26における顔料番号P−4
の顔料に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−3
の顔料を用いた他は、実施例26と同様にして電子写真
感光体を作成(比較感光体29)した。
の顔料に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−3
の顔料を用いた他は、実施例26と同様にして電子写真
感光体を作成(比較感光体29)した。
【0115】比較例30 電荷発生物質として実施例26における顔料番号P−4
の顔料に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−4
の顔料を用いた他は、実施例26と同様にして電子写真
感光体を作成(比較感光体30)した。
の顔料に代えて、表13に示される比較顔料番号Q−4
の顔料を用いた他は、実施例26と同様にして電子写真
感光体を作成(比較感光体30)した。
【0116】こうして作成した感光体26及び27、比
較感光体27〜30の電子写真感光体を静電試験装置
(商品名EPA−8100、川口電機(株)製)を用い
て評価した。評価は初めに正のコロナ帯電により表面電
位が700Vとなるように設定し、次に、モノクロメ−
タにより分光した800nmの単色光により露光して表
面電位が200Vまで下がるときの光量を測定して感度
とした。結果を表22に示す。
較感光体27〜30の電子写真感光体を静電試験装置
(商品名EPA−8100、川口電機(株)製)を用い
て評価した。評価は初めに正のコロナ帯電により表面電
位が700Vとなるように設定し、次に、モノクロメ−
タにより分光した800nmの単色光により露光して表
面電位が200Vまで下がるときの光量を測定して感度
とした。結果を表22に示す。
【0117】
【表22】
【0118】実施例28 アルミ支持体上に、N−メトキシメチル化6ナイロン樹
脂(重量平均分子量45000)4.2部とアルコ−ル
可溶性共重合ナイロン樹脂(重量平均分子量5000
0)8.8部をメタノ−ル90部に溶解した液をマイヤ
−バ−で塗布し乾燥後の膜厚が0.5μmの下引き層を
形成した。
脂(重量平均分子量45000)4.2部とアルコ−ル
可溶性共重合ナイロン樹脂(重量平均分子量5000
0)8.8部をメタノ−ル90部に溶解した液をマイヤ
−バ−で塗布し乾燥後の膜厚が0.5μmの下引き層を
形成した。
【0119】次に、電荷発生物質として表12に示す顔
料番号P−4を12部、ポリビニルブチラ−ル(ブチラ
−ル化率65%、重量平均分子量45000)10部と
シクロヘキサノン200部をボ−ルミルで24時間分散
を行った。分散液を下引き層上にブレ−ドコ−ティング
により塗布し、乾燥後の膜厚が0.22μmの電荷発生
層を形成した。
料番号P−4を12部、ポリビニルブチラ−ル(ブチラ
−ル化率65%、重量平均分子量45000)10部と
シクロヘキサノン200部をボ−ルミルで24時間分散
を行った。分散液を下引き層上にブレ−ドコ−ティング
により塗布し、乾燥後の膜厚が0.22μmの電荷発生
層を形成した。
【0120】次に、電荷輸送物質として例示化合物3を
6部と例示化合物30を3.5部とビスフェノ−ルZ型
ポリカ−ボネ−ト(重量平均分子量40000)10部
をモノクロロベンゼン70部に溶解し、この液を電荷発
生層上にブレ−ドコ−ティングにより塗布し、乾燥後の
膜厚が20μmの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体
を作成(感光体28)した。
6部と例示化合物30を3.5部とビスフェノ−ルZ型
ポリカ−ボネ−ト(重量平均分子量40000)10部
をモノクロロベンゼン70部に溶解し、この液を電荷発
生層上にブレ−ドコ−ティングにより塗布し、乾燥後の
膜厚が20μmの電荷輸送層を形成し、電子写真感光体
を作成(感光体28)した。
【0121】感光体28に−5KVのコロナ放電を行っ
た。このときの表面電位(初期電位V0)を測定した。
更にこの感光体を1秒間暗所に放置したときの表面電位
を測定した。感度は暗減衰した後の電位V1を1/6に
減衰するのに要する露光量(E1/6:μJ/cm2 )
を測定することによって評価した。この際光源としてイ
ンジウム/ガリウム/アルミニウム/リンの四元系半導
体レ−ザ−(出力:5mW、発振波長680nm)を用
いた。結果を示す。 V0:−700V、V1:−695V、E1/6:0.
34μJ/cm2
た。このときの表面電位(初期電位V0)を測定した。
更にこの感光体を1秒間暗所に放置したときの表面電位
を測定した。感度は暗減衰した後の電位V1を1/6に
減衰するのに要する露光量(E1/6:μJ/cm2 )
を測定することによって評価した。この際光源としてイ
ンジウム/ガリウム/アルミニウム/リンの四元系半導
体レ−ザ−(出力:5mW、発振波長680nm)を用
いた。結果を示す。 V0:−700V、V1:−695V、E1/6:0.
34μJ/cm2
【0122】次に、同上の半導体レ−ザ−を備えた反転
現像方式のレ−ザ−ビ−ムプリンタ−(前出)に感光体
28を取り付けて、実際の画像形成テストを行った。条
件は下記の通りとした。一次帯電の表面電位:−700
V、像露光の表面電位:−150V転写電位+700
V、現像極性:負極性、プロセススピ−ド:50mm/
sec、現像条件(現像バイアス):−450V、像露
光スキャン方式:イメ−ジスキャン、一次帯電前露光:
50lux/secの赤色全面露光、画像形成はレ−ザ
−ビ−ムを文字信号及び画像信号に従ってラインスキャ
ンして行ったが、文字、画像共に良好なプリントが得ら
れた。更に連続5000枚の画出しを行ったが、初期か
ら5000枚まで安定したプリントが得られた。
現像方式のレ−ザ−ビ−ムプリンタ−(前出)に感光体
28を取り付けて、実際の画像形成テストを行った。条
件は下記の通りとした。一次帯電の表面電位:−700
V、像露光の表面電位:−150V転写電位+700
V、現像極性:負極性、プロセススピ−ド:50mm/
sec、現像条件(現像バイアス):−450V、像露
光スキャン方式:イメ−ジスキャン、一次帯電前露光:
50lux/secの赤色全面露光、画像形成はレ−ザ
−ビ−ムを文字信号及び画像信号に従ってラインスキャ
ンして行ったが、文字、画像共に良好なプリントが得ら
れた。更に連続5000枚の画出しを行ったが、初期か
ら5000枚まで安定したプリントが得られた。
【0123】
【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、レ−ザ−ダ
イオ−ドの発振波長のような長波長領域で高い感度と低
残留電位を示し、繰り返し使用や環境の変動によらず、
安定して優れた電位特性を示し、更に、転写メモリ−や
フォトメモリ−が極めて小さく、かぶり等の画像欠陥の
ない良好な画質を与えるという顕著な効果を奏する。ま
た、プロセスカ−トリッジ並びに電子写真装置において
も同様に顕著な効果を奏する。
イオ−ドの発振波長のような長波長領域で高い感度と低
残留電位を示し、繰り返し使用や環境の変動によらず、
安定して優れた電位特性を示し、更に、転写メモリ−や
フォトメモリ−が極めて小さく、かぶり等の画像欠陥の
ない良好な画質を与えるという顕著な効果を奏する。ま
た、プロセスカ−トリッジ並びに電子写真装置において
も同様に顕著な効果を奏する。
【図1】製造例1で得られたクロロガリウムフタロシア
ニンの赤外吸収スペクトル図(KBr錠剤法)である。
ニンの赤外吸収スペクトル図(KBr錠剤法)である。
【図2】製造例1で得られたクロロガリウムフタロシア
ニンの粉末X線回折図である。
ニンの粉末X線回折図である。
【図3】製造例2で得られたCuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が7.4°、16.6°
、25.5°及び28.2°に強いピ−クを有する結
晶型を持つクロロガリウムフタロシアニンのX線回折図
である。
るブラッグ角2θ±0.2°が7.4°、16.6°
、25.5°及び28.2°に強いピ−クを有する結
晶型を持つクロロガリウムフタロシアニンのX線回折図
である。
【図4】製造例3で得られたCuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が8.7〜9.2°、1
7.5°、24.0°、27.4°及び28.7°に強
いピ−クを有する結晶型を持つクロロガリウムフタロシ
アニンのX線回折図である。
るブラッグ角2θ±0.2°が8.7〜9.2°、1
7.5°、24.0°、27.4°及び28.7°に強
いピ−クを有する結晶型を持つクロロガリウムフタロシ
アニンのX線回折図である。
【図5】製造例4で得られたヒドロキシガリウムフタロ
シアニンの赤外吸収スペクトル図(KBr錠剤法)であ
る。
シアニンの赤外吸収スペクトル図(KBr錠剤法)であ
る。
【図6】製造例4で得られたCuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が6.8°及び26.2°
に強いピ−クを有する結晶型を持つヒドロキシガリウム
フタロシアニンのX線回折図である。
るブラッグ角2θ±0.2°が6.8°及び26.2°
に強いピ−クを有する結晶型を持つヒドロキシガリウム
フタロシアニンのX線回折図である。
【図7】製造例5で得られたCuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が7.4°及び28.2°
に強いピ−クを有する結晶型を持つヒドロキシガリウム
フタロシアニンのX線回折図である。
るブラッグ角2θ±0.2°が7.4°及び28.2°
に強いピ−クを有する結晶型を持つヒドロキシガリウム
フタロシアニンのX線回折図である。
【図8】製造例6で得られたCuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が7.5°、16.3°、
24.9°及び26.4°に強いピ−クを有する結晶型
を持つヒドロキシガリウムフタロシアニンのX線回折図
である。
るブラッグ角2θ±0.2°が7.5°、16.3°、
24.9°及び26.4°に強いピ−クを有する結晶型
を持つヒドロキシガリウムフタロシアニンのX線回折図
である。
【図9】製造例7で得られたCuKαのX線回折におけ
るブラッグ角2θ±0.2°が6.9°、13.3°、
16.5°及び26.7°に強いピ−クを有する結晶型
を持つヒドロキシガリウムフタロシアニンのX線回折図
である。
るブラッグ角2θ±0.2°が6.9°、13.3°、
16.5°及び26.7°に強いピ−クを有する結晶型
を持つヒドロキシガリウムフタロシアニンのX線回折図
である。
【図10】本発明の電子写真感光体を有するプロセスカ
−トリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図で
ある。
−トリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図で
ある。
1 本発明の電子写真感光体 2 軸 3 一次帯電手段 4 画像露光光 5 現像手段 6 転写手段 7 転写材 8 像定着手段 9 クリ−ニング手段 10 前露光光 11 プロセスカ−トリッジ 12 レ−ル
Claims (11)
- 【請求項1】 導電性支持体上に感光層を設けてなる電
子写真感光体において、該感光層が電荷発生物質として
クロロガリウムフタロシアニン化合物及びヒドロキシガ
リウムフタロシアニン化合物から選択された少なくとも
1種を含有し、かつ電荷輸送物質として下記一般式
(1)で示される化合物の少なくとも1種を含有するこ
とを特徴とする電子写真感光体。 一般式(1) 【化1】 式中、X及びYは一般式(2)または一般式(3)で示
される基を表し、 一般式(2)−Z−Ar nは0または1の整数を表す。R1 、R2 及びR3 はハ
ロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基
を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいア
リ−ル基あるいは置換アミノ基を表し、p及びrは0〜
4の整数を表す。qはn=0のとき0〜5の整数を表
し、n=1のとき0〜4の整数を表す。R4 は水素原
子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有して
もよいアリ−ル基あるいは置換基を有してもよい複素環
基を表し、R5 及びR6 は置換基を有してもよいアルキ
ル基、置換基を有してもよいアラルキル基、置換基を有
してもよいアリ−ル基あるいは置換基を有してもよい複
素環基を表し、R5 及びR6 は同一でも異なっていても
よく、直接もしくは結合基を介して環を形成してもよ
い。Zは置換基を有してもよいアルキレン基を表し、A
rは置換基を有してもよいアリ−ル基あるいは置換基を
有してもよい複素環基を示す。R7 は置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアラルキル基、
置換基を有してもよいアリ−ル基あるいは置換基を有し
てもよい複素環基を表す。 - 【請求項2】前記一般式(1)で示される化合物におい
て、一般式中のnが0である請求項1記載の電子写真感
光体。 - 【請求項3】前記一般式(1)で示される化合物におい
て、一般式中のnが0であり、かつX−O−が4−位
(n原子の結合位置から見てパラ位)である請求項1記
載の電子写真感光体。 - 【請求項4】 前記クロロガリウムフタロシアニン化合
物が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±
0.2°が7.4°、16.6°、25.5°及び2
8.2°に強いピ−クを有する結晶型である請求項1記
載の電子写真感光体。 - 【請求項5】 前記クロロガリウムフタロシアニン化合
物が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ±
0.2°が8.7°〜9.2°、17.5°、24.0
°、27.4°及び28.7°に強いピ−クを有する結
晶型である請求項1記載の電子写真感光体。 - 【請求項6】 前記ヒドロキシガリウムフタロシアニン
化合物が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ
±0.2°が6.8°及び26.2°に強いピ−クを有
する結晶型である請求項1記載の電子写真感光体。 - 【請求項7】 前記ヒドロキシガリウムフタロシアニン
化合物が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ
±0.2°が7.4°及び28.2°に強いピ−クを有
する結晶型である請求項1記載の電子写真感光体。 - 【請求項8】 前記ヒドロキシガリウムフタロシアニン
化合物が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ
±0.2°が7.5°、16.3°、24.9°及び2
6.4°に強いピ−クを有する結晶型である請求項1記
載の電子写真感光体。 - 【請求項9】 前記ヒドロキシガリウムフタロシアニン
化合物が、CuKαのX線回折におけるブラッグ角2θ
±0.2°が6.9°、13.3°、16.5°及び2
6.7°に強いピ−クを有する結晶型である請求項1記
載の電子写真感光体。 - 【請求項10】 請求項1記載の電子写真感光体、及び
帯電手段、現像手段及びクリ−ニング手段からなる群よ
り選ばれる少なくとも一つの手段を一体に支持し、電子
写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセ
スカ−トリッジ。 - 【請求項11】 請求項1記載の電子写真感光体、帯電
手段、像露光手段、現像手段及び転写手段を有すること
を特徴とする電子写真装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10259138A JP2000075521A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジ及び電子写真装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10259138A JP2000075521A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジ及び電子写真装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000075521A true JP2000075521A (ja) | 2000-03-14 |
Family
ID=17329862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10259138A Withdrawn JP2000075521A (ja) | 1998-08-31 | 1998-08-31 | 電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカ−トリッジ及び電子写真装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000075521A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7270924B2 (en) | 2003-03-19 | 2007-09-18 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus and process cartridge using the electrophotographic photoreceptor |
US7341810B2 (en) | 2003-09-17 | 2008-03-11 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, and electrophotographic apparatus and process cartridge using electrophotographic photoreceptor |
US8252499B2 (en) | 2007-03-06 | 2012-08-28 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming method and image forming apparatus |
JP2018189957A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
-
1998
- 1998-08-31 JP JP10259138A patent/JP2000075521A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7270924B2 (en) | 2003-03-19 | 2007-09-18 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor, and image forming apparatus and process cartridge using the electrophotographic photoreceptor |
US7341810B2 (en) | 2003-09-17 | 2008-03-11 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoreceptor method of manufacturing electrophotographic photoreceptor, and electrophotographic apparatus and process cartridge using electrophotographic photoreceptor |
US8252499B2 (en) | 2007-03-06 | 2012-08-28 | Ricoh Company, Ltd. | Image forming method and image forming apparatus |
JP2018189957A (ja) * | 2017-04-28 | 2018-11-29 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
JP7179484B2 (ja) | 2017-04-28 | 2022-11-29 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び電子写真装置 |
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