JP2000075105A - Antireflection film and image display device - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体、低屈
折率層およびオーバーコート層が、この順で積層されて
いる反射防止膜およびそれを用いた画像表示装置に関す
る。The present invention relates to an antireflection film in which a transparent support, a low refractive index layer and an overcoat layer are laminated in this order, and an image display device using the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】反射防止膜は、液晶表示装置(LC
D)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレク
トロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表
示装置(CRT)のような様々な画像表示装置に設けら
れている。反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄膜
を積層させた多層膜が従来から普通に用いられている。
複数の透明薄膜を用いるのは、様々な波長の光の反射を
防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸
着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、特に物理蒸着
法の一種である真空蒸着法により形成されている。金属
酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学的性
質を有しているが、蒸着による形成方法は、生産性が低
く大量生産に適していない。蒸着法に代えて、透明支持
体上に光学的機能層を塗布により形成して反射防止膜を
製造する方法も提案されている。2. Description of the Related Art An antireflection film is used for a liquid crystal display (LC).
D), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). As the antireflection film, a multilayer film in which a transparent thin film of a metal oxide is laminated has conventionally been commonly used.
The reason for using a plurality of transparent thin films is to prevent reflection of light of various wavelengths. The transparent thin film of a metal oxide is formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, in particular, a vacuum vapor deposition method which is a kind of the physical vapor deposition method. Although a transparent thin film of a metal oxide has excellent optical properties as an antireflection film, the method of forming by vapor deposition has low productivity and is not suitable for mass production. Instead of the vapor deposition method, there has been proposed a method of producing an antireflection film by forming an optically functional layer on a transparent support by coating.
【0003】反射防止機能のためには、透明支持体の屈
折率よりも低い屈折率を有する層(低屈折率層)を設け
る必要がある。透明支持体上に複数の光学的機能層を設
ける場合、低屈折率層は透明支持体から最も遠い側に設
けられる。塗布層の屈折率を低下させるためには、低屈
折率層内に空隙を導入する方法が有効である。空気の屈
折率は1.00であって、空隙中に空気を含む層は、非
常に低い屈折率を有する。低屈折率層に微粒子を含ま
せ、微粒子間または微粒子内に空隙を形成する方法が提
案されている。特公昭60−59250号公報は、微細
空孔と微粒子状無機物とを有する反射防止層を開示して
いる。反射防止層は、塗布により形成される。微細空孔
は、層の塗布後に活性化ガス処理を行ない、ガスが層か
ら離脱することによって形成される。For the antireflection function, it is necessary to provide a layer having a lower refractive index than the transparent support (low refractive index layer). When a plurality of optically functional layers are provided on the transparent support, the low refractive index layer is provided on the side farthest from the transparent support. In order to lower the refractive index of the coating layer, it is effective to introduce a void in the low refractive index layer. The refractive index of air is 1.00, and the layer containing air in the air gap has a very low refractive index. A method has been proposed in which fine particles are contained in a low refractive index layer to form a gap between or within the fine particles. Japanese Patent Publication No. 60-59250 discloses an antireflection layer having fine pores and particulate inorganic substances. The antireflection layer is formed by coating. The micropores are formed by performing an activation gas treatment after the application of the layer, and the gas is released from the layer.
【0004】特開平2−245702号公報は、二種類
以上の超微粒子(例えば、MgF2とSiO2 )を混在
させて、膜厚方向にその混合比を変化させた反射防止膜
を開示している。混合比を変化させることにより屈折率
を変化させ、高屈折率層と低屈折率層を設けた反射防止
膜と同様の光学的性質を得ている。超微粒子は、エチル
シリケートの熱分解で生じたSiO2 により接着してい
る。エチルシリケートの熱分解では、エチル部分の燃焼
によって、二酸化炭素と水蒸気も発生する。同公報の第
1図に示されているように、二酸化炭素と水蒸気が層か
ら離脱することにより、超微粒子の間に間隙が生じてい
る。特開平7−48527号公報は、多孔質シリカより
なる無機微粉末とバインダーとを含有する反射防止膜を
開示している。特開平9−288201号公報は、含フ
ッ素ポリマーからなる微粒子を二個以上積み重ねること
により、微粒子間に空隙を形成した低屈折率層を有する
反射防止膜を開示している。Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-245702 discloses an antireflection film in which two or more kinds of ultrafine particles (for example, MgF 2 and SiO 2 ) are mixed and the mixing ratio is changed in the thickness direction. I have. The refractive index is changed by changing the mixing ratio, and the same optical properties as those of the antireflection film provided with the high refractive index layer and the low refractive index layer are obtained. The ultrafine particles are bonded by SiO 2 generated by thermal decomposition of ethyl silicate. In the thermal decomposition of ethyl silicate, carbon dioxide and water vapor are also generated by burning the ethyl portion. As shown in FIG. 1 of the publication, a gap is formed between the ultrafine particles due to the separation of carbon dioxide and water vapor from the layer. JP-A-7-48527 discloses an antireflection film containing a binder and an inorganic fine powder made of porous silica. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-288201 discloses an antireflection film having a low refractive index layer in which voids are formed between fine particles by stacking two or more fine particles made of a fluoropolymer.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】空隙を有する低屈折率
層は、空隙中の空気によって非常に低い屈折率が得られ
るとの特徴がある。一方、低屈折率層は、低屈折率層は
透明支持体から最も遠い側、すなわち反射防止膜の表面
側に設けられる。そのため、低屈折率層の表面は汚れや
すく、傷も付きやすい。汚れや傷により、低屈折率層の
反射防止機能が低下する。表面側の層を汚れから保護
し、耐傷性を向上させるためには、含フッ素化合物を含
むオーバーコート層を表面側の層の上に設ける対策が、
反射防止膜の技術分野に限らず一般に、良く知られてい
る。しかし、本発明者が研究したところ、空隙を有する
低屈折率層の上に、含フッ素化合物を含むオーバーコー
ト層を設けようとすると、オーバーコート層の塗布液が
低屈折率層の空隙に浸入して、低屈折率層の空隙率が低
下する問題が認められた。低屈折率層の空隙率が低下す
れば、低屈折率層の屈折率は上昇してしまう。本発明の
目的は、低屈折率層の屈折率を上昇させることなく、低
屈折率層の表面が汚れから保護され、かつ耐傷性も改善
されている反射防止膜を提供することである。The low refractive index layer having a void is characterized in that a very low refractive index can be obtained by air in the void. On the other hand, the low refractive index layer is provided on the side farthest from the transparent support, that is, on the surface side of the antireflection film. Therefore, the surface of the low refractive index layer is easily stained and easily scratched. The antireflection function of the low refractive index layer decreases due to dirt and scratches. In order to protect the surface side layer from dirt and improve scratch resistance, a measure to provide an overcoat layer containing a fluorine-containing compound on the surface side layer,
It is generally well known, not limited to the technical field of antireflection films. However, as a result of research conducted by the present inventors, when an overcoat layer containing a fluorine-containing compound is to be provided on a low-refractive-index layer having a void, the coating solution for the overcoat layer penetrates into the void of the low-refractive-index layer. As a result, the problem that the porosity of the low-refractive-index layer was reduced was recognized. If the porosity of the low refractive index layer decreases, the refractive index of the low refractive index layer increases. An object of the present invention is to provide an antireflection film in which the surface of the low refractive index layer is protected from dirt and the scratch resistance is improved without increasing the refractive index of the low refractive index layer.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記
(1)〜(8)の反射防止膜および下記(9)の画像表
示装置により達成された。 (1)透明支持体および透明支持体の屈折率よりも低い
屈折率と3乃至50体積%の空隙率とを有する低屈折率
層が積層されている反射防止膜であって、低屈折率層の
上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層がさらに積
層されており、オーバーコート層の材料が低屈折率層の
空隙を占有している割合が70体積%未満であることを
特徴とする反射防止膜。 (2)オーバーコート層が粒径が10nm以上の含フッ
素化合物の微粒子を含む(1)に記載の反射防止膜。 (3)オーバーコート層の塗布量が、低屈折率層の空隙
の量の80体積%以下である(1)に記載の反射防止
膜。The object of the present invention has been attained by the following antireflection films (1) to (8) and the following image display device (9). (1) An antireflection film in which a transparent support and a low refractive index layer having a refractive index lower than the refractive index of the transparent support and a porosity of 3 to 50% by volume are laminated, wherein the low refractive index layer An overcoat layer containing a fluorine-containing compound is further laminated thereon, and the ratio of the material of the overcoat layer occupying the voids in the low refractive index layer is less than 70% by volume. film. (2) The antireflection film according to (1), wherein the overcoat layer contains fine particles of a fluorine-containing compound having a particle size of 10 nm or more. (3) The antireflection film according to (1), wherein the coating amount of the overcoat layer is 80% by volume or less of the void amount of the low refractive index layer.
【0007】(4)含フッ素化合物が重量平均分子量2
万以上の含フッ素ポリマーであることを特徴とする
(1)に記載の反射防止膜。 (5)含フッ素化合物が含フッ素ポリマーであり、含フ
ッ素ポリマーがオーバーコート層の形成後に架橋してい
る(1)または(4)に記載の反射防止膜。 (6)含フッ素ポリマーが放射線照射により架橋してい
る(5)に記載の反射防止膜。 (7)低屈折率層が微粒子を含み、微粒子間または微粒
子内に空隙が形成されている(1)に記載の反射防止
膜。 (8)透明支持体の屈折率よりも高い屈折率を有する高
屈折率層が、透明支持体と低屈折率層との間に設けられ
ている(1)に記載の反射防止膜。 (9)画像表示面上に、透明支持体および透明支持体よ
りも低い屈折率と3乃至50体積%の空隙率とを有する
低屈折率層がこの順に積層されている反射防止膜であっ
て、該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバー
コート層がさらに積層されており、オーバーコート層の
材料が低屈折率層の空隙を占有している割合が70体積
%未満であることを特徴とする画像表示装置。本明細書
において、低屈折率層の空隙と空隙率は、オーバーコー
ト層の材料が占有している部分を含めた空隙とその割合
を意味する。(4) The fluorine-containing compound has a weight average molecular weight of 2
The antireflection film according to (1), wherein the antireflection film is 10,000 or more fluoropolymers. (5) The antireflection film according to (1) or (4), wherein the fluorine-containing compound is a fluorine-containing polymer, and the fluorine-containing polymer is crosslinked after forming the overcoat layer. (6) The antireflection film according to (5), wherein the fluoropolymer is crosslinked by irradiation with radiation. (7) The antireflection film according to (1), wherein the low refractive index layer contains fine particles, and voids are formed between or within the fine particles. (8) The antireflection film according to (1), wherein a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent support is provided between the transparent support and the low refractive index layer. (9) An antireflection film in which a transparent support and a low refractive index layer having a lower refractive index than the transparent support and a porosity of 3 to 50% by volume are laminated in this order on the image display surface. An overcoat layer containing a fluorine-containing compound is further laminated on the low refractive index layer, and the ratio of the material of the overcoat layer occupying the voids in the low refractive index layer is less than 70% by volume. An image display device characterized by the above-mentioned. In the present specification, the voids and the porosity of the low refractive index layer mean the voids including the portion occupied by the material of the overcoat layer and the ratio thereof.
【0008】[0008]
【発明の効果】本発明者の研究により、空隙を有する低
屈折率層の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層
を設けても、オーバーコート層の材料が低屈折率層の空
隙を占有している割合が70体積%未満とすることが可
能であることが判明した。第1に、オーバーコート層中
の含フッ素化合物を、粒径が10nm以上の含フッ素化
合物の微粒子とすれば、微粒子が空隙の開口を塞ぐこと
になり、低屈折率層の空隙が維持される。第2に、オー
バーコート層の塗布量を、低屈折率層の空隙の80体積
%以下となるように調整することによっても、低屈折率
層の空隙を維持することができる。第3に、オーバーコ
ート層中の含フッ素ポリマーの重量平均分子量を2万以
上にすることにより、ポリマーの溶液中での回転二乗半
径(Rg)の二倍が空隙のサイズ以上となり、空隙中に
拡散しなくなるため、低屈折率層の空隙が維持される。
以上の結果、本発明の反射防止膜では、低屈折率層の屈
折率を上昇させることなく、低屈折率層の表面が汚れか
ら保護され、耐傷性も改善されている。このような反射
防止膜を用いることで、画像表示装置の画像表示面にお
ける光の反射を有効に防止することができる。According to the study of the present inventors, even if an overcoat layer containing a fluorine-containing compound is provided on a low refractive index layer having a void, the material of the overcoat layer occupies the void in the low refractive index layer. It has been found that it is possible to make the ratio of less than 70% by volume. First, if the fluorine-containing compound in the overcoat layer is fine particles of a fluorine-containing compound having a particle size of 10 nm or more, the fine particles close the opening of the void, and the void in the low refractive index layer is maintained. . Second, the gap in the low refractive index layer can be maintained by adjusting the amount of the overcoat layer to be 80% by volume or less of the gap in the low refractive index layer. Third, by setting the weight-average molecular weight of the fluoropolymer in the overcoat layer to 20,000 or more, twice the radius of gyration (Rg) of the polymer in the solution becomes equal to or larger than the size of the voids. Since the diffusion does not occur, the gap in the low refractive index layer is maintained.
As a result, in the antireflection film of the present invention, the surface of the low refractive index layer is protected from dirt and the scratch resistance is improved without increasing the refractive index of the low refractive index layer. By using such an antireflection film, reflection of light on the image display surface of the image display device can be effectively prevented.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】本発明の反射防止膜の基本的な構
成を図面を引用しながら説明する。図1は、反射防止膜
の主な層構成を示す断面模式図である。図1の(a)に
示す態様は、透明支持体(1)、低屈折率層(3)、そ
してオーバーコート層(3)の順序の層構成を有する。
透明支持体(1)と低屈折率層(2)は、以下の関係を
満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率<透明支
持体の屈折率図1の(b)に示す態様は、透明支持体
(1)、ハードコート層(4)、低屈折率層(2)、そ
してオーバーコート層(3)の順序の層構成を有する。
透明支持体(1)と低屈折率層(2)の屈折率の関係
は、上記(a)と同様である。図1の(c)に示す態様
は、透明支持体(1)、ハードコート層(4)、高屈折
率層(5)、低屈折率層(2)、そしてオーバーコート
層(3)の順序の層構成を有する。透明支持体(1)、
高屈折率層(5)および低屈折率層(2)は、以下の関
係を満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率<透
明支持体の屈折率<高屈折率層の屈折率図1の(d)に
示す態様は、透明支持体(1)、ハードコート層
(4)、中屈折率層(6)、高屈折率層(5)、低屈折
率層(2)、そしてオーバーコート層(3)の順序の層
構成を有する。透明支持体(1)、中屈折率層(6)、
高屈折率層(5)および低屈折率層(2)は、以下の関
係を満足する屈折率を有する。低屈折率層の屈折率<透
明支持体の屈折率<中屈折率層の屈折率<高屈折率層の
屈折率図2は、本発明の好ましい態様における低屈折率
層とオーバーコート層の断面模式図である。図2に示す
低屈折率層(2)は、微粒子(21)およびバインダー
(22)を含む。そして、微粒子(21)間に空隙(2
3)が形成されている。空隙は、微粒子の内部に存在し
ていてもよい。オーバーコート層(3)は、粒径が10
nm以上の含フッ素化合物の微粒子(31)を含む。含
フッ素化合物の微粒子(31)により、低屈折率層
(2)の空隙(23)の開口が塞がれるため、オーバー
コート層(3)の形成後も、低屈折率層(2)の空隙
(23)が維持されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The basic structure of an antireflection film according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a main layer configuration of the antireflection film. The embodiment shown in FIG. 1A has a layer structure in the order of a transparent support (1), a low refractive index layer (3), and an overcoat layer (3).
The transparent support (1) and the low refractive index layer (2) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low-refractive-index layer <the refractive index of the transparent support The embodiment shown in FIG. It has a layer configuration in the order of layer (3).
The relationship between the refractive index of the transparent support (1) and the refractive index of the low refractive index layer (2) is the same as in the above (a). In the embodiment shown in FIG. 1C, the order of the transparent support (1), the hard coat layer (4), the high refractive index layer (5), the low refractive index layer (2), and the overcoat layer (3) is as follows. Having the following layer configuration. Transparent support (1),
The high refractive index layer (5) and the low refractive index layer (2) have a refractive index satisfying the following relationship. The refractive index of the low-refractive-index layer <the refractive index of the transparent support <the refractive index of the high-refractive-index layer In the embodiment shown in FIG. 1 (d), the transparent support (1), the hard coat layer (4), the medium refractive index It has a layer structure of a layer (6), a high refractive index layer (5), a low refractive index layer (2), and an overcoat layer (3) in this order. Transparent support (1), medium refractive index layer (6),
The high refractive index layer (5) and the low refractive index layer (2) have a refractive index satisfying the following relationship. Refractive index of low refractive index layer <Refractive index of transparent support <Refractive index of medium refractive index layer <Refractive index of high refractive index layer FIG. 2 shows cross sections of the low refractive index layer and the overcoat layer in a preferred embodiment of the present invention. It is a schematic diagram. The low refractive index layer (2) shown in FIG. 2 includes fine particles (21) and a binder (22). And, a gap (2) between the fine particles (21).
3) is formed. The void may be present inside the fine particles. The overcoat layer (3) has a particle size of 10
Including fine particles (31) of a fluorine-containing compound having a diameter of at least nm. Since the openings of the voids (23) of the low refractive index layer (2) are closed by the fine particles (31) of the fluorine-containing compound, the voids of the low refractive index layer (2) remain even after the formation of the overcoat layer (3). (23) is maintained.
【0010】図3は、本発明の別の好ましい態様におけ
る低屈折率層とオーバーコート層の断面模式図である。
図3に示す低屈折率層(2)も、微粒子(21)および
バインダー(22)を含む。そして、微粒子(21)間
に空隙(23)が形成されている。オーバーコート層
(3)の塗布量は、低屈折率層(2)の空隙(23)の
80体積%以下に調整されている。言い換えると、オー
バーコート層(3)の塗布量は、低屈折率層(3)の表
面に付着する程度の量に調整されている。そのため、オ
ーバーコート層(3)の塗布液が低屈折率層(2)の空
隙(23)に浸入する量が少なく、オーバーコート層
(3)の形成後も、低屈折率層(2)の空隙(23)が
維持されている。図4は、本発明の別の好ましい態様に
おける低屈折率層とオーバーコート層の断面模式図であ
る。図4においても、低屈折率層(2)は、微粒子(2
1)およびバインダー(22)を含む。そして、微粒子
(21)間に空隙(23)が形成されている。オーバー
コート層(3)は重量平均分子量2万以上の含フッ素ポ
リマーからなり、低屈折率層の表面の凹凸は覆うが、低
屈折率層内部の空隙(23)には浸入しない。従って、
オーバーコート層(3)の形成後も、低屈折率層(2)
の空隙(23)が維持される。この態様の場合、オーバ
ーコート層(3)の塗布量を低屈折率層(2)の空隙
(23)の容積以上に塗布しても空隙が維持される。そ
のため、図4に示す態様では、オーバーコート層(3)
が連続層として、低屈折率層(2)の表面を覆ってい
る。FIG. 3 is a schematic sectional view of a low refractive index layer and an overcoat layer according to another preferred embodiment of the present invention.
The low refractive index layer (2) shown in FIG. 3 also contains fine particles (21) and a binder (22). And a void (23) is formed between the fine particles (21). The coating amount of the overcoat layer (3) is adjusted to 80% by volume or less of the void (23) of the low refractive index layer (2). In other words, the applied amount of the overcoat layer (3) is adjusted to an amount that adheres to the surface of the low refractive index layer (3). Therefore, the amount of the coating liquid for the overcoat layer (3) penetrating into the voids (23) of the low-refractive-index layer (2) is small. The air gap (23) is maintained. FIG. 4 is a schematic sectional view of a low refractive index layer and an overcoat layer according to another preferred embodiment of the present invention. Also in FIG. 4, the low refractive index layer (2) has fine particles (2
1) and a binder (22). And a void (23) is formed between the fine particles (21). The overcoat layer (3) is made of a fluoropolymer having a weight-average molecular weight of 20,000 or more, and covers irregularities on the surface of the low refractive index layer, but does not enter the voids (23) inside the low refractive index layer. Therefore,
Even after the formation of the overcoat layer (3), the low refractive index layer (2)
(23) is maintained. In the case of this embodiment, the gap is maintained even if the amount of the overcoat layer (3) applied is equal to or larger than the volume of the gap (23) of the low refractive index layer (2). Therefore, in the embodiment shown in FIG. 4, the overcoat layer (3)
Covers the surface of the low refractive index layer (2) as a continuous layer.
【0011】[透明支持体]透明支持体としては、プラ
スチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチッ
クフイルムを形成するポリマーの例には、セルロースエ
ステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセル
ロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロー
ス、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロー
ス)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル
(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−1,2−ジフェノキシエ
タン−4,4’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート)、ポリスチレン(例、シンジオタクチッ
クポリスチレン)、ポリオレフィン(例、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン)、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエー
テルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエー
テルケトンが含まれる。トリアセチルセルロース、ポリ
カーボネートおよびポリエチレンテレフタレートが好ま
しい。透明支持体の光透過率は、80%以上であること
が好ましく、86%以上であることがさらに好ましい。
透明支持体のヘイズは、2.0%以下であることが好ま
しく、1.0%以下であることがさらに好ましい。透明
支持体の屈折率は、1.4乃至1.7であることが好ま
しい。[Transparent Support] As the transparent support, a plastic film is preferably used. Examples of the polymer forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, butyryl cellulose, acetyl propionyl cellulose, nitrocellulose), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene Naphthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4′-dicarboxylate, polybutylene terephthalate), polystyrene (eg, syndiotactic polystyrene), polyolefin ( For example, polypropylene, polyethylene, polymethylpentene), polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, polyetherimide, Includes polymethyl methacrylate and polyether ketone. Triacetyl cellulose, polycarbonate and polyethylene terephthalate are preferred. The light transmittance of the transparent support is preferably 80% or more, and more preferably 86% or more.
The haze of the transparent support is preferably 2.0% or less, more preferably 1.0% or less. The refractive index of the transparent support is preferably from 1.4 to 1.7.
【0012】[ハードコート層]透明支持体に耐傷性を
付与するために、ハードコート層を支持体表面に設ける
ことが好ましい。ハードコート層は、架橋しているポリ
マーを含むことが好ましい。架橋しているポリマーを含
むハードコート層は、多官能モノマーと重合開始剤を含
む塗布液を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーを重
合させることにより形成できる。多官能モノマーは、多
価アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエス
テルであることが好ましい。多価アルコールの例には、
エチレングリコール、1,4−シクロヘキサノール、ペ
ンタエリスリトール、トリメチロールプロパン、トリメ
チロールエタン、ジペンタエリスリトール、1,2,4
−シクロヘキサノール、ポリウレタンポリオールおよび
ポリエステルポリオールが含まれる。トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトー
ルおよびポリウレタンポリオールが好ましい。二種類以
上の多官能モノマーを併用してもよい。多官能モノマー
の重合反応には、光重合開始剤を用いることが好まし
い。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾ
フェノン類、ミヒラーのベンゾイルベンゾエート、α−
アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサル
ファイドおよびチオキサントン類が含まれる。光重合開
始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の例
には、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n
−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサ
ントンが含まれる。[Hard coat layer] In order to impart scratch resistance to the transparent support, it is preferable to provide a hard coat layer on the surface of the support. The hard coat layer preferably contains a cross-linked polymer. The hard coat layer containing the crosslinked polymer can be formed by applying a coating solution containing a polyfunctional monomer and a polymerization initiator on a transparent support, and polymerizing the polyfunctional monomer. The polyfunctional monomer is preferably an ester of a polyhydric alcohol and acrylic acid or methacrylic acid. Examples of polyhydric alcohols include:
Ethylene glycol, 1,4-cyclohexanol, pentaerythritol, trimethylolpropane, trimethylolethane, dipentaerythritol, 1,2,4
-Cyclohexanol, polyurethane polyols and polyester polyols. Trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and polyurethane polyols are preferred. Two or more polyfunctional monomers may be used in combination. It is preferable to use a photopolymerization initiator for the polymerization reaction of the polyfunctional monomer. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzophenones, Michler's benzoylbenzoate, α-
Includes amiloxime esters, tetramethylthiuram monosulfide and thioxanthones. A photosensitizer may be used in addition to the photopolymerization initiator. Examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n
-Butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
【0013】光重合開始剤は、多官能モノマー100重
量部に対して、0.1乃至15重量部の範囲で使用する
ことが好ましく、1乃至10重量部の範囲で使用するこ
とがさらに好ましい。光重合反応は、ハードコート層の
塗布および乾燥後、紫外線照射により実施することが好
ましい。ハードコート層には、充填剤を添加することが
好ましい。充填剤はハードコート層の硬度を高くし、多
官能モノマーの硬化収縮を抑える機能がある。充填剤と
しては、無機微粒子または有機微粒子を用いることが好
ましい。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素粒子、二酸
チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸
カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリン
および硫酸カルシウム粒子が含まれる。有機微粒子の例
には、メタクリル酸−メチルアクリレートコポリマー粉
末、シリコン樹脂粉末、ポリスチレン粉末、ポリカーボ
ネート粉末、アクリル酸−スチレンコポリマー粉末、ベ
ンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン樹脂粉末、ポリオレ
フィン粉末、ポリエステル粉末、ポリアミド粉末、ポリ
イミド粉末およびポリフッ化エチレン粉末が含まれる。
充填剤として使用する微粒子の平均粒子径は、0.01
乃至2μmであることが好ましく、0.02乃至0.5
μmであることがさらに好ましい。ハードコート層また
はその塗布液には、さらに、着色剤(顔料、染料)、消
泡剤、増粘剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、
酸化防止剤や改質用樹脂を添加してもよい。ハードコー
ト層の厚さは、1乃至15μmであることが好ましい。The photopolymerization initiator is used in an amount of preferably 0.1 to 15 parts by weight, more preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyfunctional monomer. The photopolymerization reaction is preferably carried out by irradiating ultraviolet rays after applying and drying the hard coat layer. It is preferable to add a filler to the hard coat layer. The filler has the function of increasing the hardness of the hard coat layer and suppressing the shrinkage of the polyfunctional monomer upon curing. It is preferable to use inorganic fine particles or organic fine particles as the filler. Examples of the inorganic fine particles include silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles, tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles, talc, kaolin and calcium sulfate particles. Examples of organic fine particles include methacrylic acid-methyl acrylate copolymer powder, silicon resin powder, polystyrene powder, polycarbonate powder, acrylic acid-styrene copolymer powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin powder, polyester powder, polyamide powder, polyimide Powder and polyfluoroethylene powder.
The average particle diameter of the fine particles used as the filler is 0.01
To 2 μm, preferably 0.02 to 0.5 μm.
More preferably, it is μm. The hard coat layer or its coating solution further includes a coloring agent (pigment, dye), an antifoaming agent, a thickener, a leveling agent, a flame retardant, an ultraviolet absorber,
An antioxidant or a modifying resin may be added. The thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 15 μm.
【0014】[高屈折率層および中屈折率層]図1の
(b)に示すように、透明支持体と低屈折率層との間
に、高屈折率層を設けてもよい。また、図1の(c)に
示すように、透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率
層を設けてもよい。高屈折率層の屈折率は、1.65乃
至2.40であることが好ましく、1.70乃至2.2
0であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈折率
は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間
の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、
1.55乃至1.70であることが好ましい。高屈折率
層および中屈折率層の厚さは、5nm乃至100μmで
あることが好ましく、10nm乃至10μmであること
がさらに好ましく、30nm乃至1μmであることが最
も好ましい。高屈折率層および中屈折率層のヘイズは、
5%以下であることが好ましく、3%以下であることが
さらに好ましく、1%以下であることが最も好ましい。
高屈折率層および中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛
筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上である
ことがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ま
しい。高屈折率層および中屈折率層は、無機微粒子とポ
リマーとを含むことが好ましい。[High Refractive Index Layer and Medium Refractive Index Layer] As shown in FIG. 1B, a high refractive index layer may be provided between the transparent support and the low refractive index layer. Further, as shown in FIG. 1C, a middle refractive index layer may be provided between the transparent support and the high refractive index layer. The refractive index of the high refractive index layer is preferably from 1.65 to 2.40, and is preferably from 1.70 to 2.2.
More preferably, it is 0. The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the transparent support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is
It is preferably from 1.55 to 1.70. The thickness of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably from 5 nm to 100 μm, more preferably from 10 nm to 10 μm, and most preferably from 30 nm to 1 μm. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is
It is preferably at most 5%, more preferably at most 3%, most preferably at most 1%.
The strength of the high refractive index layer and the middle refractive index layer is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more at a pencil hardness of 1 kg load. The high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably contain inorganic fine particles and a polymer.
【0015】高屈折率層および中屈折率層に用いる無機
微粒子は、屈折率が1.80乃至2.80であることが
好ましく、1.90乃至2.80であることがさらに好
ましい。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、1乃至
150nmであることが好ましく、1乃至100nmで
あることがさらに好ましく、1乃至80nmであること
が最も好ましい。塗布層中の無機微粒子の重量平均径
は、1乃至200nmであるることが好ましく、5乃至
150nmであることがより好ましく、10乃至100
nmであることがさらに好ましく、10乃至80nmで
あることが最も好ましい。無機微粒子の比表面積は、1
0乃至400m2 /gであることが好ましく、20乃至
200m2 /gであることがさらに好ましく、30乃至
150m2 /gであることが最も好ましい。The inorganic fine particles used in the high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, and more preferably 1.90 to 2.80. The weight average diameter of the primary particles of the inorganic fine particles is preferably from 1 to 150 nm, more preferably from 1 to 100 nm, and most preferably from 1 to 80 nm. The weight average diameter of the inorganic fine particles in the coating layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, and more preferably 10 to 100 nm.
nm, more preferably 10 to 80 nm. The specific surface area of the inorganic fine particles is 1
Preferably 0 to 400m 2 / g, more preferably from 20 to 200m 2 / g, and most preferably from 30 to 150m 2 / g.
【0016】無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物
から形成することが好ましい。金属の酸化物または硫化
物の例には、二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナ
ターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化
錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよ
び硫化亜鉛が含まれる。二酸化チタン、酸化錫および酸
化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの
金属の酸化物または硫化物を主成分とし、さらに他の元
素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成
分の中で最も含有量(重量%)が多い成分を意味する。
他の元素の例には、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、F
e、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、A
l、Mg、Si、PおよびSが含まれる。無機微粒子を
表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物または有
機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合
物の例には、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウムおよ
び酸化鉄が含まれる。アルミナおよびシリカが好まし
い。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオー
ル、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップ
リング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。
シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表
面処理を組み合わせて実施してもよい。無機微粒子の形
状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不
定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子
を高屈折率層および中屈折率層内で併用してもよい。The inorganic fine particles are preferably formed from a metal oxide or sulfide. Examples of metal oxides or sulfides include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystals, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, and zinc sulfide. Titanium dioxide, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The inorganic fine particles contain oxides or sulfides of these metals as main components and may further contain other elements. The main component means a component having the largest content (% by weight) of the components constituting the particles.
Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, F
e, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, A
1, Mg, Si, P and S. The inorganic fine particles may be surface-treated. The surface treatment is performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of the inorganic compound used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide, and iron oxide. Alumina and silica are preferred. Examples of the organic compound used for the surface treatment include a polyol, an alkanolamine, stearic acid, a silane coupling agent, and a titanate coupling agent.
Silane coupling agents are most preferred. Two or more types of surface treatments may be performed in combination. The shape of the inorganic fine particles is preferably a rice grain, a sphere, a cube, a spindle, or an irregular shape. Two or more kinds of inorganic fine particles may be used together in the high refractive index layer and the medium refractive index layer.
【0017】高屈折率層および中屈折率層中の無機微粒
子の割合は、5乃至65体積%である。無機微粒子の割
合は、10乃至60体積%であることが好ましく、20
乃至55体積%であることがさらに好ましい。無機微粒
子は、分散物の状態で高屈折率層および中屈折率層の形
成に使用する。高屈折率層および中屈折率層の無機微粒
子の分散媒体は、沸点が60乃至170℃の液体を用い
ることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール
(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エ
チル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素
(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水
素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭
素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシ
レン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、N−メチルピロリドン)、エーテル
(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロ
フラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2
−プロパノール)が含まれる。トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンおよびブタノールが特に好ましい。無機微粒子
は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例に
は、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミ
ル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミ
ル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サン
ドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好
ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分
散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロー
ルミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。The proportion of the inorganic fine particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is 5 to 65% by volume. The proportion of the inorganic fine particles is preferably from 10 to 60% by volume,
More preferably, it is from about 55% by volume to about 55% by volume. The inorganic fine particles are used in the form of a dispersion to form a high refractive index layer and a medium refractive index layer. It is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. as a dispersion medium of the inorganic fine particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer. Examples of dispersion media include water, alcohols (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, Propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbon (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbon (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic Hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohols (eg, 1-methyl Carboxymethyl -2
-Propanol). Particularly preferred are toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol. The inorganic fine particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, bead mills with pins), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. Sand grinder mills and high speed impeller mills are particularly preferred. Further, a preliminary dispersion process may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader and an extruder.
【0018】中屈折率層および高屈折率層には、比較的
屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率
が高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重
合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂および環状(脂環式または芳香族)イ
ソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレ
タンが含まれる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂
環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原
子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二
重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの
重合反応によりポリマーを形成してもよい。It is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index for the middle refractive index layer and the high refractive index layer. Examples of high refractive index polymers include polystyrene, styrene copolymers, polycarbonates, melamine resins, phenolic resins, epoxy resins, and polyurethanes obtained by reacting cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanates with polyols. . Other polymers having a cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) group and polymers having a halogen atom other than fluorine as a substituent also have a high refractive index. A polymer may be formed by a polymerization reaction of a monomer capable of radical curing by introducing a double bond.
【0019】[低屈折率層]低屈折率層の屈折率は、
1.20乃至1.55であることが好ましく、1.30
乃至1.55であることがさらに好ましい。低屈折率層
の厚さは、50乃至400nmであることが好ましく、
50乃至200nmであることがさらに好ましい。低屈
折率層は、オーバーコート層の形成前に、3乃至50体
積%の空隙率を有する層として形成する。オーバーコー
ト層の形成前の低屈折率層の空隙率は、5乃至35体積
%であることがさらに好ましい。低屈折率層の空隙は、
微粒子を用いて微粒子間または微粒子内のミクロボイド
として形成することができる。微粒子の平均粒径は、
0.5乃至200mmであることが好ましく、1乃至1
00nmであることがより好ましく、3乃至70nmで
あることがさらに好ましく、5乃至40nmの範囲であ
ることが最も好ましい。微粒子の粒径は、なるべく均一
(単分散)であることが好ましい。無機微粒子あるいは
有機微粒子を低屈折率層に用いることができる。[Low Refractive Index Layer] The low refractive index layer has a refractive index of
1.20 to 1.55, preferably 1.30
It is more preferably from 1.55 to 1.55. The thickness of the low refractive index layer is preferably 50 to 400 nm,
More preferably, it is 50 to 200 nm. The low refractive index layer is formed as a layer having a porosity of 3 to 50% by volume before forming the overcoat layer. The porosity of the low refractive index layer before the formation of the overcoat layer is more preferably 5 to 35% by volume. The void in the low refractive index layer is
It can be formed as microvoids between particles or within particles using fine particles. The average particle size of the fine particles is
It is preferably 0.5 to 200 mm, and 1 to 1
The thickness is more preferably 00 nm, further preferably 3 to 70 nm, and most preferably 5 to 40 nm. The particle size of the fine particles is preferably as uniform (monodispersed) as possible. Inorganic fine particles or organic fine particles can be used for the low refractive index layer.
【0020】無機微粒子は、非晶質であることが好まし
い。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物また
はハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物ま
たは金属ハロゲン化物からなることがさらに好ましく、
金属酸化物または金属フッ化物からなることが最も好ま
しい。金属原子としては、Na、K、Mg、Ca、B
a、Al、Zn、Fe、Cu、Ti、Sn、In、W、
Y、Sb、Mn、Ga、V、Nb、Ta、Ag、Si、
B、Bi、Mo、Ce、Cd、Be、PbおよびNiが
好ましく、Mg、Ca、BおよびSiがさらに好まし
い。二種類の金属を含む無機化合物を用いてもよい。特
に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリ
カである。The inorganic fine particles are preferably amorphous. The inorganic fine particles are preferably made of a metal oxide, nitride, sulfide or halide, more preferably a metal oxide or metal halide,
Most preferably, it consists of a metal oxide or metal fluoride. As metal atoms, Na, K, Mg, Ca, B
a, Al, Zn, Fe, Cu, Ti, Sn, In, W,
Y, Sb, Mn, Ga, V, Nb, Ta, Ag, Si,
B, Bi, Mo, Ce, Cd, Be, Pb and Ni are preferred, and Mg, Ca, B and Si are more preferred. An inorganic compound containing two kinds of metals may be used. A particularly preferred inorganic compound is silicon dioxide, ie, silica.
【0021】無機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成するシリカの分子を架橋させることにより形成
することができる。シリカの分子を架橋させると体積が
縮小し、粒子が多孔質になる。ミクロボイドを有する
(多孔質)無機微粒子は、ゾル−ゲル法(特開昭53−
112732号、特公昭57−9051号の各公報記
載)または析出法(APPLIED OPTICS、27、3356頁(198
8)記載)により、分散物として直接合成することがで
きる。また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に
粉砕して分散物を得ることもできる。市販の多孔質無機
微粒子(例えば、二酸化ケイ素ゾル)を用いてもよい。
ミクロボイドを有する無機微粒子は、低屈折率層の形成
のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好
ましい。分散媒としては、水、アルコール(例、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール)およびケ
トン(例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン)が好ましい。The microvoids in the inorganic fine particles can be formed, for example, by crosslinking the silica molecules forming the particles. Crosslinking silica molecules reduces the volume and makes the particles porous. Microporous (porous) inorganic fine particles can be obtained by a sol-gel method (Japanese Patent Laid-Open No.
No. 112732, JP-B-57-9051) or a precipitation method (APPLIED OPTICS, 27 , p. 3356 (198
According to 8)), it can be directly synthesized as a dispersion. Further, the powder obtained by the drying / precipitation method can be mechanically pulverized to obtain a dispersion. Commercially available porous inorganic fine particles (for example, silicon dioxide sol) may be used.
The inorganic fine particles having microvoids are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium for forming a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropyl alcohol) and ketone (eg, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone) are preferable.
【0022】有機微粒子も、非晶質であることが好まし
い。有機微粒子は、モノマーの重合反応(例えば乳化重
合法)により合成されるポリマー微粒子であることが好
ましい。有機微粒子のポリマーはフッ素原子を含むこと
が好ましい。ポリマー中のフッ素原子の割合は、35乃
至80重量%であることが好ましく、45乃至75重量
%であることがさらに好ましい。含フッ素ポリマーを合
成するために用いるフッ素原子を含むモノマーの例に
は、フルオロオレフィン類(例、フルオロエチレン、ビ
ニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキ
サフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソール)、アクリル酸またはメタク
リル酸のフッ素化アルキルエステル類およびフッ素化ビ
ニルエーテル類が含まれる。フッ素原子を含むモノマー
とフッ素原子を含まないモノマーとのコポリマーを用い
てもよい。フッ素原子を含まないモノマーの例には、オ
レフィン類(例、エチレン、プロピレン、イソプレン、
塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル類
(例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類
(例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル)、スチレン類(例、スチレン、ビニル
トルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル類
(例、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル類
(例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル)、アクリルア
ミド類(例、N−tert−ブチルアクリルアミド、N−シ
クロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド類お
よびアクリロニトリル類が含まれる。The organic fine particles are also preferably amorphous. The organic fine particles are preferably polymer fine particles synthesized by a polymerization reaction of a monomer (for example, an emulsion polymerization method). The polymer of the organic fine particles preferably contains a fluorine atom. The proportion of fluorine atoms in the polymer is preferably from 35 to 80% by weight, more preferably from 45 to 75% by weight. Examples of the fluorine atom-containing monomer used for synthesizing the fluoropolymer include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1). , 3-dioxole), fluorinated alkyl esters of acrylic or methacrylic acid and fluorinated vinyl ethers. A copolymer of a monomer containing a fluorine atom and a monomer not containing a fluorine atom may be used. Examples of monomers containing no fluorine atom include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene,
Vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylates (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate), methacrylates (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate), styrene (Eg, styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ethers (eg, methyl vinyl ether), vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate), acrylamides (eg, N-tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamides and acrylonitriles.
【0023】有機微粒子内ミクロボイドは、例えば、粒
子を形成するポリマーを架橋させることにより形成する
ことができる。ポリマーを架橋させると体積が縮小し、
粒子が多孔質になる。粒子を形成するポリマーを架橋さ
せるためには、ポリマーを合成するためのモノマーの2
0モル%以上を多官能モノマーとすることが好ましい。
多官能モノマーの割合は、30乃至80モル%であるこ
とがさらに好ましく、35乃至50モル%であることが
最も好ましい。多官能モノマーの例には、ジエン類
(例、ブタジエン、ペンタジエン)、多価アルコールと
アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジア
クリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)、多価ア
ルコールとメタクリル酸とのエステル(例、エチレング
リコールジメタクリレート、1,2,4−シクロヘキサ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート)、ジビニル化合物(例、ジビニルシク
ロヘキサン、1,4−ジビニルベンゼン)、ジビニルス
ルホン、ビスアクリルアミド類(例、メチレンビスアク
リルアミド)およびビスメタクリルアミド類が含まれ
る。The microvoids in the organic fine particles can be formed, for example, by crosslinking a polymer forming the particles. Crosslinking the polymer reduces its volume,
The particles become porous. In order to crosslink the polymer forming the particles, two of the monomers for synthesizing the polymer are used.
It is preferable that 0 mol% or more be a polyfunctional monomer.
The ratio of the polyfunctional monomer is more preferably from 30 to 80 mol%, and most preferably from 35 to 50 mol%. Examples of polyfunctional monomers include dienes (eg, butadiene, pentadiene), esters of polyhydric alcohol and acrylic acid (eg, ethylene glycol diacrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate,
Dipentaerythritol hexaacrylate), esters of polyhydric alcohol and methacrylic acid (eg, ethylene glycol dimethacrylate, 1,2,4-cyclohexanetetramethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate), divinyl compounds (eg, divinylcyclohexane, 1, 4-divinylbenzene), divinylsulfone, bisacrylamides (eg, methylenebisacrylamide) and bismethacrylamides.
【0024】粒子間のミクロボイドは、微粒子を少なく
とも2個以上積み重ねることにより形成することができ
る。なお、粒径が等しい(完全な単分散の)球状微粒子
を最密充填すると、26体積%の空隙率の微粒子間ミク
ロボイドが形成される。粒径が等しい球状微粒子を単純
立方充填すると、48体積%の空隙率の微粒子間ミクロ
ボイドが形成される。実際の低屈折率層では、微粒子の
粒径の分布や粒子内ミクロボイドが存在するため、空隙
率は上記の理論値からかなり変動する。空隙率を増加さ
せると、低屈折率層の屈折率が低下する。微粒子を積み
重ねてミクロボイドを形成し、微粒子の粒径を調整する
ことで、粒子間ミクロボイドの大きさも適度の(光を散
乱せず、低屈折率層の強度に問題が生じない)値に容易
に調節できる。さらに、微粒子の粒径を均一にすること
で、粒子間ミクロボイドの大きさも均一である光学的に
均一な低屈折率層を得ることができる。これにより、低
屈折率層は微視的にはミクロボイド含有多孔質膜である
が、光学的あるいは巨視的には均一な膜にすることがで
きる。The microvoids between the particles can be formed by stacking at least two or more fine particles. When spherical particles having the same particle size (perfectly monodispersed) are closest packed, microvoids between particles having a porosity of 26% by volume are formed. When the spherical fine particles having the same particle size are simply cubically filled, microvoids between the fine particles having a porosity of 48% by volume are formed. In an actual low refractive index layer, the porosity considerably fluctuates from the above theoretical value due to the particle size distribution of the fine particles and the presence of microvoids in the particles. Increasing the porosity lowers the refractive index of the low refractive index layer. By forming microvoids by stacking fine particles and adjusting the particle size of the fine particles, the size of the microvoids between the particles can be easily adjusted to an appropriate value (does not scatter light and does not cause a problem in the strength of the low refractive index layer). Can be adjusted. Further, by making the particle diameter of the fine particles uniform, an optically uniform low refractive index layer in which the size of the microvoids between particles is also uniform can be obtained. Thus, the low refractive index layer can be a microvoid-containing porous film microscopically, but can be an optically or macroscopically uniform film.
【0025】ミクロボイドを形成することにより、低屈
折率層の巨視的屈折率は、低屈折率層を構成する成分の
屈折率の和よりも低い値になる。層の屈折率は、層の構
成要素の体積当りの屈折率の和になる。微粒子やポリマ
ーのような低屈折率層の構成成分の屈折率は1よりも大
きな値であるのに対して、空気の屈折率は1.00であ
る。そのため、ミクロボイドを形成することによって、
屈折率が非常に低い低屈折率層を得ることができる。粒
子間ミクロボイドは、微粒子およびポリマーによって低
屈折率層内で閉じていることが好ましい。空隙を閉じる
と、オーバーコート層の形成後も空隙が低屈折率層内に
残存する。閉じている空隙には、低屈折率層表面に開か
れた開口と比較して、低屈折率層表面での光の散乱が少
ないとの利点もある。By forming microvoids, the macroscopic refractive index of the low refractive index layer becomes a value lower than the sum of the refractive indices of the components constituting the low refractive index layer. The refractive index of a layer is the sum of the refractive indices per volume of the components of the layer. The refractive index of a component of the low refractive index layer such as fine particles or a polymer is a value larger than 1, while the refractive index of air is 1.00. Therefore, by forming microvoids,
A low refractive index layer having a very low refractive index can be obtained. The intergranular microvoids are preferably closed in the low refractive index layer by the fine particles and the polymer. When the gap is closed, the gap remains in the low refractive index layer even after the formation of the overcoat layer. The closed void also has the advantage that light is less scattered on the surface of the low-refractive-index layer compared to an opening opened on the surface of the low-refractive-index layer.
【0026】低屈折率層は、5乃至50重量%の量のポ
リマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接
着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有
する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低
屈折率層の強度を維持できるように調整する。ポリマー
の量は、低屈折率層の全量の10乃至30重量%である
ことが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するために
は、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させる
か、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシ
ェルを形成するか、あるいは(3)微粒子間のバインダ
ーとして、ポリマーを使用することが好ましい。(1)
の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェル
ポリマーまたは(3)のバインダーポリマーであること
が好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布液
の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成するこ
とが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層の塗布
液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または
塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。
(1)〜(3)を二種類または三種類組み合わせて、実
施することが好ましく、(1)と(3)の二種類の組み
合わせ、または(1)〜(3)の三種類の組み合わせで
実施することが特に好ましい。(1)表面処理、(2)
シェルおよび(3)バインダーについて、順次説明す
る。The low refractive index layer preferably contains the polymer in an amount of 5 to 50% by weight. The polymer has a function of adhering the fine particles and maintaining the structure of the low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the void. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by weight based on the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) bonding the polymer to the surface treatment agent of the fine particles, (2) forming a polymer shell around the fine particles as a core, or (3) forming a polymer shell around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. (1)
The polymer to be bonded to the surface treatment agent is preferably the shell polymer of (2) or the binder polymer of (3). It is preferable that the polymer (2) is formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The polymer of (3) is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer and performing a polymerization reaction simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer.
(1) to (3) are preferably carried out in combination of two or three types, and carried out in two combinations of (1) and (3) or in a combination of three types of (1) to (3). It is particularly preferred to do so. (1) Surface treatment, (2)
The shell and the binder (3) will be described sequentially.
【0027】(1)表面処理 微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を実施して、
ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処
理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理
的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処
理に分類できる。化学的表面処理のみ、または物理的表
面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが
好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキ
シメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカ
ップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子が二酸化
ケイ素からなる場合は、シランカップリング剤による表
面処理が特に有効に実施できる。シランカップリング剤
の例には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例、オル
トケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n
−プロピル、オルトケイ酸イソプロピル、オルトケイ酸
n−ブチル、オルトケイ酸sec-ブチル、オルトケイ酸t
−ブチル)およびその加水分解物が含まれる。カップリ
ング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリ
ング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間か
ら10日間分散物を放置することにより実施できる。表
面処理反応を促進するため、無機酸(例、硫酸、塩酸、
硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、
リン酸、炭酸)、有機酸(例、酢酸、ポリアクリル酸、
ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン
酸)、またはこれらの塩(例、金属塩、アンモニウム
塩)を、分散物に添加してもよい。(1) Surface Treatment Fine particles (particularly, inorganic fine particles) are subjected to a surface treatment,
It is preferable to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into a physical surface treatment such as a plasma discharge treatment or a corona discharge treatment, and a chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only a chemical surface treatment or a combination of a physical surface treatment and a chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, a titanium coupling agent, a silane coupling agent) is preferably used. When the fine particles are made of silicon dioxide, surface treatment with a silane coupling agent can be particularly effectively performed. Examples of silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicic acid (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-orthosilicate)
-Propyl, isopropyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, t-orthosilicate
-Butyl) and its hydrolysates. The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the dispersion of fine particles, and leaving the dispersion at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, an inorganic acid (eg, sulfuric acid, hydrochloric acid,
Nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid,
Phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (eg, acetic acid, polyacrylic acid,
Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid) or a salt thereof (eg, metal salt, ammonium salt) may be added to the dispersion.
【0028】(2)シェル シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖とし
て有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を
主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子
を側鎖に含むポリマーがさらに好ましい。ポリアクリル
酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好まし
く、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリ
メタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリ
マーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増
加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるた
め、シェルポリマーは35乃至80重量%のフッ素原子
を含むことが好ましく、45乃至75重量%のフッ素原
子を含むことがさらに好ましい。フッ素原子を含むポリ
マーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの
重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を
含むエチレン性不飽和モノマーの例には、フルオロオレ
フィン(例、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライ
ド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキ
ソール)、フッ素化ビニルエーテルおよびフッ素置換ア
ルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステル
が含まれる。(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain. Polymers containing a fluorine atom in the main chain or side chain are preferred, and polymers containing a fluorine atom in the side chain are more preferred. Polyacrylates or polymethacrylates are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. To reduce the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by weight of fluorine atoms, and more preferably 45 to 75% by weight of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of the ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Includes esters of fluorinated vinyl ethers and fluorinated alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.
【0029】シェルを形成するポリマーは、フッ素原子
を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単
位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含
まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン
性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好まし
い。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの
例には、オレフィン(例、エチレン、プロピレン、イソ
プレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エ
ステル(例、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル
(例、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレー
ト)、スチレンおよびその誘導体(例、スチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレ
ン)、ビニルエーテル(例、メチルビニルエーテル)、
ビニルエステル(例、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例、N−tertブ
チルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミ
ド)、メタクリルアミドおよびアクリロニトリルが含ま
れる。The polymer forming the shell may be a copolymer comprising a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit containing no fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of the ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylates (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethylhexyl), methacrylates (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (eg, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether),
Includes vinyl esters (eg, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (eg, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamide and acrylonitrile.
【0030】後述する(3)のバインダーポリマーを併
用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入し
て、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋によ
り化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶
性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温
度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、
低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。ただ
し、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微
粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されな
い(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合
は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バ
インダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成
することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを
形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微
粒子中に無機微粒子からなるコアが5乃至90体積%含
まれていることが好ましく、15乃至80体積%含まれ
ていることがさらに好ましい。ポリマーシェルは、ラジ
カル重合法により形成することが好ましい。ラジカル重
合法については、大津隆行・木下雅悦共著、高分子合成
の実験法、化学同人(1972)および大津隆行、講座重合反
応論1ラジカル重合(I)、化学同人(1971)に記載があ
る。ラジカル重合法は、具体的には、乳化重合法または
分散重合により実施することが好ましい。乳化重合につ
いては、室井宗一、高分子ラテックスの化学、高分子刊
行会(1970)に記載がある。分散重合法については、Barr
ett, Keih E.J.、Dispersion Polymerization in Organ
ic Media、JOHN WILLEY & SONS(1975)に記載がある。When a binder polymer described in (3) below is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer, and the shell polymer and the binder polymer may be chemically bonded by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer,
It is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if the Tg is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, the fine particles may not be fused and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (as a result, the strength may be reduced). In this case, it is desirable to use the binder polymer of (3) described later in combination and to form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain a core composed of inorganic fine particles in an amount of 5 to 90% by volume, and more preferably 15 to 80% by volume. The polymer shell is preferably formed by a radical polymerization method. The radical polymerization method is described in Takayuki Otsu and Masayoshi Kinoshita, Experimental Methods for Polymer Synthesis, Doujin Kagaku (1972) and Takayuki Otsu, Lecture Polymerization Reaction Theory 1 Radical Polymerization (I), Kagaku Dojin (1971) . Specifically, the radical polymerization method is preferably performed by an emulsion polymerization method or a dispersion polymerization method. Emulsion polymerization is described in Soichi Muroi, Chemistry of Polymer Latex, Polymer Publishing Association (1970). For the dispersion polymerization method, see Barr
ett, Keih EJ, Dispersion Polymerization in Organ
ic Media, JOHN WILLEY & SONS (1975).
【0031】乳化重合法に使用する熱重合開始剤の例に
は、無機過酸化物(例、過硫酸カリウム、過硫酸アンモ
ニウム)、アゾニトリル化合物(例、アゾビスシアノ吉
草酸ナトリウム)、アゾアミジン化合物(例、2,2’
−アゾビス(2−メチルプロピオンアミド)塩酸塩)、
環状アゾアミジン化合物(例、2,2’−アゾビス〔2
−(5−メチル−2−イミダゾリン−2−イル)プロパ
ン塩酸塩)、アゾアミド化合物(例、2,2’−アゾビ
ス{2−メチル−N−〔1,1’−ビス(ヒドロキシメ
チル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオンアミド)が
含まれる。無機過酸化物が好ましく、過硫酸カリウムお
よび過硫酸アンモニウムが特に好ましい。分散重合法に
使用する熱重合開始剤の例には、アゾ化合物(例、2,
2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビ
ス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル−
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、ジ
メチル−2,2’−アゾビスイソブチレート)および有
機過酸化物(例、ラウリルパーオキシド、ベンゾイルパ
ーオキシド、tert−ブチルパーオクトエート)が含まれ
る。Examples of the thermal polymerization initiator used in the emulsion polymerization method include inorganic peroxides (eg, potassium persulfate, ammonium persulfate), azonitrile compounds (eg, sodium azobiscyanovalerate), and azoamidine compounds (eg, 2). , 2 '
-Azobis (2-methylpropionamide) hydrochloride),
Cyclic azoamidine compound (eg, 2,2′-azobis [2
-(5-methyl-2-imidazolin-2-yl) propane hydrochloride), an azoamide compound (eg, 2,2′-azobis {2-methyl-N- [1,1′-bis (hydroxymethyl) -2) -Hydroxyethyl] propionamide). Inorganic peroxides are preferred, potassium persulfate and ammonium persulfate are particularly preferred. Examples of the thermal polymerization initiator used in the dispersion polymerization method include azo compounds (eg, 2,
2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), dimethyl-
2,2′-azobis (2-methylpropionate), dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate) and organic peroxides (eg, lauryl peroxide, benzoyl peroxide, tert-butyl peroctoate) ) Is included.
【0032】分散重合法では、表面処理された微粒子に
ポリマー分散剤を加え、モノマーと重合開始剤を溶解
し、生成するポリマーは不溶である重合媒体中で重合反
応を実施することが好ましい。重合媒体の例には、水、
アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、2−メトキシ−1−プロパノー
ル、ブタノール、t−ブタノール、ペンタノール、ネオ
ペンタノール、シクロヘキサノール、1−メトキシ−2
−プロパノール)、メチルエチルケトン、アセトニトリ
ル、テトラヒドロフラン、酢酸エチルが含まれる。水、
メタノール、エタノールおよびイソプロパノールが好ま
しい。二種類以上の重合媒体を併用してもよい。乳化重
合法または分散重合法において、連鎖移動剤を使用して
もよい。連鎖移動剤の例には、ハロゲン化炭化水素
(例、四塩化炭素、四臭化炭素、二臭化酢酸エチル、三
臭化酢酸エチル、二臭化エチルベンゼン、二臭化エタ
ン、二塩化エタン)、炭化水素(例、ベンゼン、エチル
ベンゼン、イソプロピルベンゼン)、チオエーテル
(例、ジアゾチオエーテル)、メルカプタン(例、t−
ドデシルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、ヘ
キサデシルメルカプタン、n−オクタデシルメルカプタ
ン、チオグリセロール)、ジスルフィド(例、ジイソプ
ロピルザントゲンジスルフィド)、チオグリコール酸お
よびその誘導体(例、チオグリコール酸、チオグリコー
ル酸2−エチルヘキシル、チオグリコール酸ブチル、チ
オグリコール酸メトキシブチル、トリメチロールプロパ
ントリス(チオグリコレート))が含まれる。二種類以
上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェル
のない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよ
い。In the dispersion polymerization method, it is preferable to add a polymer dispersant to the surface-treated fine particles, dissolve the monomer and the polymerization initiator, and carry out the polymerization reaction in a polymerization medium in which the produced polymer is insoluble. Examples of polymerization media include water,
Alcohol (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 2-methoxy-1-propanol, butanol, t-butanol, pentanol, neopentanol, cyclohexanol, 1-methoxy-2
-Propanol), methyl ethyl ketone, acetonitrile, tetrahydrofuran, ethyl acetate. water,
Methanol, ethanol and isopropanol are preferred. Two or more polymerization media may be used in combination. In the emulsion polymerization method or the dispersion polymerization method, a chain transfer agent may be used. Examples of chain transfer agents include halogenated hydrocarbons (eg, carbon tetrachloride, carbon tetrabromide, ethyl dibromide acetate, ethyl tribromide acetate, ethyl dibromide benzene, ethane dibromide, ethane dichloride) , Hydrocarbons (eg, benzene, ethylbenzene, isopropylbenzene), thioethers (eg, diazothioether), mercaptans (eg, t-
Dodecyl mercaptan, n-dodecyl mercaptan, hexadecyl mercaptan, n-octadecyl mercaptan, thioglycerol), disulfide (eg, diisopropylzantogen disulfide), thioglycolic acid and derivatives thereof (eg, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate) Butyl thioglycolate, methoxy butyl thioglycolate, trimethylolpropane tris (thioglycolate)). Two or more types of core-shell fine particles may be used in combination. Also, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.
【0033】(3)バインダー バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテ
ルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、
飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが
さらに好ましい。バインダーポリマーは架橋しているこ
とが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマ
ーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得る
ことが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得
るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーを用いることが好ましい。二以上のエチレン性不飽
和基を有するモノマーの例には、多価アルコールと(メ
タ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アク
リレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレ
ート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレー
ト、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレー
ト、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリ
アクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体
(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸
−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニル
シクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルス
ルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリル
アミド)およびメタクリルアミドが含まれる。ポリエー
テルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポキシ化
合物の開環重合反応により合成することが好ましい。(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as a main chain.
More preferably, the polymer has a saturated hydrocarbon as a main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as a main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexane diacrylate, pentaerythritol tetraester). (Meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethanetri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (examples) 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. . The polymer having a polyether as a main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound.
【0034】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタンも、架
橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブ
ロックイソシアナート基のように、分解反応の結果とし
て架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明に
おいて架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分
解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダ
ーポリマーの重合反応および架橋反応に使用する重合開
始剤は、(2)シェルポリマーの合成に用いる熱重合開
始剤よりも、光重合開始剤の方が好ましい。光重合開始
剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾ
フェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アン
トラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化
物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィ
ド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニ
ウム類がある。アセトフェノン類の例には、2,2−ジ
エトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノ
ン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4
−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよ
び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モル
フォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン
類の例には、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエ
チルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが
含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノ
ン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロ
ロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含
まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−
トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド
が含まれる。Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by a reaction of a crosslinkable group.
Examples of the crosslinkable functional group include an isocyanate group, an epoxy group, an aziridine group, an oxazoline group, an aldehyde group, a carbonyl group, a hydrazine group, a carboxyl group, a methylol group, and an active methylene group. Vinyl sulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine,
Etherified methylols, esters and urethanes can also be used as monomers to introduce the crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of a decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. Further, in the present invention, the cross-linking group is not limited to the above-mentioned compound, but may be one which shows reactivity as a result of decomposition of the above-mentioned functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a photopolymerization initiator is more preferable than the thermal polymerization initiator used for (2) synthesis of the shell polymer. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenylketone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, and 2-methyl-4.
-Methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-
Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
【0035】前記(2)のシェルポリマーと併用する場
合、バインダーポリマーのガラス転移温度(Tg)は、
シェルポリマーのTgよりも低いことが好ましい。バイ
ンダーポリマーのTgとシェルポリマーのTgとの温度
差は、5℃以上であることが好ましく、20℃以上であ
ることがさらに好ましい。バインダーポリマーは、低屈
折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布
と同時または塗布後に重合反応(必要ならばさらに架橋
反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗
布液に、少量のポリマー(例、ポリビニルアルコール、
ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセ
チルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、ア
ルキド樹脂)を添加してもよい。When used in combination with the shell polymer (2), the glass transition temperature (Tg) of the binder polymer is as follows:
It is preferably lower than the Tg of the shell polymer. The temperature difference between the Tg of the binder polymer and the Tg of the shell polymer is preferably 5 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher. The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the coating liquid for the low refractive index layer and performing a polymerization reaction (and, if necessary, a crosslinking reaction) simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer. A small amount of polymer (eg, polyvinyl alcohol,
Polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) may be added.
【0036】[オーバーコート層]オーバーコート層
は、含フッ素化合物を含む塗布液を、低屈折率層の上に
塗布して形成する。本発明では、オーバーコート層の材
料が低屈折率層の空隙を占有している割合を70体積%
未満とする。オーバーコート層の材料が低屈折率層の空
隙を占有している割合は、50体積%未満であることが
好ましく、40体積%未満であることがより好ましく、
30体積%未満であることがさらに好ましく、20体積
%未満であることが最も好ましい。低屈折率層の空隙を
残してオーバーコート層を形成するためには、様々な手
段が採用できる。例えば、前述したように低屈折率層の
空隙を微粒子とバインダーポリマーで閉じた状態で形成
すれば、オーバーコート層を塗布により形成しても低屈
折率層の空隙が残存する。また、オーバーコート層の塗
布液が低屈折率層の空隙に浸入しないように塗布液の粘
度を高くしてもよい。具体的には、オーバーコート層中
の含フッ素化合物を粒径10nm以上の微粒子とする
か、オーバーコート層の塗布量を低屈折率層の空隙の8
0体積%以下となるように調整するか、あるいはオーバ
ーコート層中の含フッ素化合物を重量平均分子量2万以
上の含フッ素ポリマーとする。重量平均分子量2万以上
の含フッ素ポリマーを用いる方法が特に好ましい。[Overcoat layer] The overcoat layer is formed by applying a coating solution containing a fluorine-containing compound on the low refractive index layer. In the present invention, the ratio of the material of the overcoat layer occupying the voids of the low refractive index layer is reduced to 70% by volume.
Less than The proportion of the material of the overcoat layer occupying the voids in the low refractive index layer is preferably less than 50% by volume, more preferably less than 40% by volume,
More preferably, it is less than 30% by volume, most preferably less than 20% by volume. Various means can be adopted to form the overcoat layer while leaving the voids in the low refractive index layer. For example, as described above, if the voids of the low refractive index layer are formed in a state where the voids are closed by the fine particles and the binder polymer, the voids of the low refractive index layer remain even when the overcoat layer is formed by coating. Further, the viscosity of the coating liquid may be increased so that the coating liquid for the overcoat layer does not enter the gaps in the low refractive index layer. Specifically, the fluorine-containing compound in the overcoat layer is made into fine particles having a particle size of 10 nm or more, or the amount of the overcoat layer applied is set to 8 of the voids of the low refractive index layer.
It is adjusted to be 0% by volume or less, or the fluorine-containing compound in the overcoat layer is a fluorine-containing polymer having a weight average molecular weight of 20,000 or more. A method using a fluoropolymer having a weight average molecular weight of 20,000 or more is particularly preferred.
【0037】オーバーコート層中の含フッ素化合物を微
粒子とする方法では、微粒子のサイズを低屈折率層の空
隙の開口サイズよりも大きくなるように調製する。これ
により、微粒子は低屈折率層表面の開口部を塞ぎ、オー
バーコート層は低屈折率層の内部の空隙には拡散しな
い。微粒子の粒径は、10nm以上であることが好まし
く、10乃至100nmであることがより好ましく、1
5乃至70nmであることがさらに好ましく、20乃至
50nmであることが最も好ましい。含フッ素化合物の
微粒子は、含フッ素化合物の溶液を乳化することにより
形成できる。また、含フッ素化合物の溶液から微粒子を
析出してもよい。さらに、含フッ素ポリマーのラテック
スを微粒子として用いてもよい。含フッ素ポリマーのラ
テックスは、含フッ素モノマーを乳化重合させて得るこ
とができる。市販のフッ素系微粒子の分散物も使用でき
る。オーバーコート層の塗布量を低屈折率層の空隙の8
0体積%以下となるように調整する方法では、オーバー
コート層を表面に付着する程度の量とすることで、低屈
折率層の空隙を維持する。オーバーコート層の塗布量
は、オーバーコート層形成前の低屈折率層の空隙の70
体積%以下であることがさらに好ましく、60体積%以
下であることが特に好ましい。オーバーコートの塗布量
は、一般に2mg/m2 以上である。In the method of using the fluorine-containing compound in the overcoat layer as fine particles, the size of the fine particles is adjusted so as to be larger than the opening size of the void in the low refractive index layer. Thereby, the fine particles close the opening on the surface of the low refractive index layer, and the overcoat layer does not diffuse into the voids inside the low refractive index layer. The particle size of the fine particles is preferably 10 nm or more, more preferably 10 to 100 nm, and
The thickness is more preferably from 5 to 70 nm, and most preferably from 20 to 50 nm. The fine particles of the fluorine-containing compound can be formed by emulsifying a solution of the fluorine-containing compound. Further, fine particles may be precipitated from the solution of the fluorine-containing compound. Further, a latex of a fluoropolymer may be used as fine particles. The fluoropolymer latex can be obtained by emulsion polymerization of a fluoromonomer. A commercially available dispersion of fluorine-based fine particles can also be used. Adjust the amount of the overcoat layer to 8
In the method of adjusting the amount to be 0% by volume or less, the gap of the low refractive index layer is maintained by adjusting the amount of the overcoat layer to such an amount as to adhere to the surface. The coating amount of the overcoat layer is 70% of the gap of the low refractive index layer before the overcoat layer is formed.
It is more preferably at most 60% by volume, particularly preferably at most 60% by volume. The coating amount of the overcoat is generally 2 mg / m 2 or more.
【0038】オーバーコート層中の含フッ素化合物を重
量平均分子量2万以上の含フッ素ポリマーとする方法で
は、高分子量のポリマーを用いてオーバーコート層の塗
布液が低屈折率層の内部の空隙中に拡散しないようにす
る。含フッ素ポリマーの重量平均分子量は、4万乃至2
00万であることがさらに好ましく、5万乃至100万
であることが最も好ましい。In the method in which the fluorine-containing compound in the overcoat layer is converted into a fluorine-containing polymer having a weight-average molecular weight of 20,000 or more, a coating solution for the overcoat layer is formed by using a polymer having a high molecular weight in a void inside the low refractive index layer. Avoid spreading to The weight average molecular weight of the fluoropolymer is from 40,000 to 2
More preferably, it is 100,000, most preferably 50,000 to 1,000,000.
【0039】オーバーコート層に用いる含フッ素化合物
としては、含フッ素界面活性剤、含フッ素ポリマー、含
フッ素エーテルおよび含フッ素シラン化合物が好ましく
用いられる。含フッ素界面活性剤としては、親水性部が
アニオン性、カチオン性、ノニオン性、および両性のい
ずれでも良い。含フッ素界面活性剤では、疎水性部を構
成する炭化水素の水素原子の一部または全部がフッ素原
子により置換されている。含フッ素ポリマーは、フッ素
原子を含むエチレン性不飽和モノマー(含フッ素モノマ
ー)の重合反応により合成することが好ましい。含フッ
素モノマーの例には、フルオロオレフィン(例、フルオ
ロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロ
エチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプ
ロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−
ジオキソール)、フッ素置換アルコールとアクリル酸ま
たはメタアクリル酸とのエステルおよびフッ素化ビニル
エーテルが含まれる。二種類以上の含フッ素モノマーか
ら得られるコポリマーを用いてもよい。含フッ素モノマ
ーとフッ素原子を含有しないモノマーとのコポリマーを
用いてもよい。フッ素原子を含有しないモノマーの例に
は、オレフィン(例、エチレン、プロピレン、イソプレ
ン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステ
ル(例、アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタク
リル酸エステル(例、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジ
メタクリレート)、スチレンおよびその誘導体(例、ス
チレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチ
ルスチレン)、ビニルエーテル(例、メチルビニルエー
テル)、ビニルエステル(例、酢酸ビニル、プロピオン
酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例、N−
tert−ブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド)、メタクリルアミド、アクリロニトリルお
よびその誘導体が含まれる。As the fluorine-containing compound used in the overcoat layer, a fluorine-containing surfactant, a fluorine-containing polymer, a fluorine-containing ether and a fluorine-containing silane compound are preferably used. As the fluorinated surfactant, the hydrophilic portion may be any of anionic, cationic, nonionic, and amphoteric. In the fluorinated surfactant, part or all of the hydrogen atoms of the hydrocarbon constituting the hydrophobic part are replaced by fluorine atoms. The fluorine-containing polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom (fluorine-containing monomer). Examples of the fluorine-containing monomer include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-
Dioxol), esters of fluorinated alcohols with acrylic acid or methacrylic acid and fluorinated vinyl ethers. A copolymer obtained from two or more kinds of fluorine-containing monomers may be used. A copolymer of a fluorine-containing monomer and a monomer containing no fluorine atom may be used. Examples of monomers containing no fluorine atom include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylates (eg, methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethylhexyl), methacrylates (eg, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (eg, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether), vinyl ester (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (for example, N-
tert-butylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide), methacrylamide, acrylonitrile and derivatives thereof.
【0040】オーバーコート層に滑り性を付与するた
め、含フッ素ポリマーに、ポリオルガノシロキサンから
なる繰り返し単位を導入してもよい。ポリオルガノシロ
キサンからなる繰り返し単位を有する含フッ素ポリマー
は、例えば、末端に反応性基を持つポリオルガノシロキ
サンと含フッ素モノマーとの重合によって得られる。反
応性基は、エチレン不飽和性モノマー(例、アクリル酸
およびそのエステル、メタクリル酸およびそのエステ
ル、ビニルエーテル、スチレンおよび誘導体)をポリオ
ルガノシロキサンの末端に化学的に結合させる。市販の
含フッ素ポリマー、例えば、サイトップ(旭硝子(株)
製)、テフロンAF(デュポン社製)、ルミフロン(旭
硝子(株)製)、オプスター(JSR(株)製)を用い
てもよい。含フッ素エーテルは、一般に潤滑剤として使
用されている化合物である。含フッ素エーテルの例に
は、パーフルオロポリエーテルおよびその誘導体が含ま
れる。含フッ素シラン化合物の例には、パーフルオロア
ルキル基を含むシラン化合物(例、ヘプタデカフルオロ
−1,2,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラ
ン)が含まれる。市販の含フッ素シラン化合物、例え
ば、KBM−7803、KP−801M(信越化学
(株)製)を用いてもよい。In order to impart lubricity to the overcoat layer, a repeating unit composed of polyorganosiloxane may be introduced into the fluoropolymer. The fluorine-containing polymer having a repeating unit composed of a polyorganosiloxane is obtained, for example, by polymerization of a polyorganosiloxane having a reactive group at a terminal and a fluorine-containing monomer. Reactive groups chemically bond ethylenically unsaturated monomers (eg, acrylic acid and its esters, methacrylic acid and its esters, vinyl ethers, styrene and derivatives) to the ends of the polyorganosiloxane. A commercially available fluoropolymer, for example, Cytop (Asahi Glass Co., Ltd.)
), Teflon AF (manufactured by DuPont), Lumiflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), and Opstar (manufactured by JSR Corporation) may be used. Fluorinated ethers are compounds generally used as lubricants. Examples of the fluorinated ether include perfluoropolyether and derivatives thereof. Examples of the fluorine-containing silane compound include a silane compound containing a perfluoroalkyl group (eg, heptadecafluoro-1,2,2,2-tetradecyl) triethoxysilane. A commercially available fluorine-containing silane compound, for example, KBM-7803 or KP-801M (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) may be used.
【0041】オーバーコート層に用いる含フッ素化合物
は、フッ素原子を30乃至80重量%の範囲で含むこと
が好ましく、40乃至75重量%の範囲で含むことがさ
らに好ましい。オーバーコート層に含フッ素ポリマーを
用いることが特に好ましい。含フッ素ポリマーは、さら
に架橋していることが好ましい。具体的には、架橋性基
を含フッ素ポリマーに導入するか、あるいは架橋剤を用
いて含フッ素ポリマーを架橋させる。架橋性基は含フッ
素ポリマーに側鎖として導入することが好ましい。含フ
ッ素ポリマーの合成において架橋性基を有するモノマー
を共重合することにより、架橋性基を含フッ素ポリマー
に側鎖として導入できる。また、2以上の架橋性基を有
する化合物(架橋剤)を含フッ素ポリマーの側鎖と反応
させることにより、含フッ素ポリマーを架橋させること
ができる。架橋性基は、光(好ましくは紫外線)や電子
ビーム(EB)のような放射線の照射あるいは加熱によ
り反応して含フッ素ポリマーを架橋させる官能基である
ことが好ましい。放射線の照射により架橋させる官能基
であることがさらに好ましく、紫外線の照射により架橋
させる官能基であることが最も好ましい。すなわち、架
橋反応の処理温度が低いと、支持体の平面性の悪化が少
なく、製造工程の加熱ラインを短縮できる。また、紫外
線の照射は、比較的安価な設備で実施できるとの利点が
ある。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイ
ル、アリル、イソシアナート、エポキシ、アルコキシシ
リル、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボ
ニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロールおよび活
性メチレンが含まれる。オーバーコート層の厚さは、2
乃至50nmであることが好ましく、5乃至30nmで
あることがさらに好ましく、5乃至20nmであること
が最も好ましい。The fluorine-containing compound used in the overcoat layer preferably contains fluorine atoms in the range of 30 to 80% by weight, more preferably 40 to 75% by weight. It is particularly preferable to use a fluorine-containing polymer for the overcoat layer. Preferably, the fluoropolymer is further crosslinked. Specifically, a crosslinkable group is introduced into the fluoropolymer, or the fluoropolymer is crosslinked using a crosslinking agent. The crosslinkable group is preferably introduced as a side chain into the fluoropolymer. By copolymerizing a monomer having a crosslinkable group in the synthesis of the fluoropolymer, the crosslinkable group can be introduced into the fluoropolymer as a side chain. The fluorine-containing polymer can be crosslinked by reacting a compound having two or more crosslinkable groups (crosslinking agent) with the side chain of the fluorine-containing polymer. The crosslinkable group is preferably a functional group that reacts upon irradiation with radiation such as light (preferably ultraviolet light) or electron beam (EB) or upon heating to crosslink the fluoropolymer. More preferably, it is a functional group that is crosslinked by irradiation with radiation, and most preferably, it is a functional group that is crosslinked by irradiation with ultraviolet light. That is, when the treatment temperature of the crosslinking reaction is low, the flatness of the support is hardly deteriorated, and the heating line in the production process can be shortened. In addition, there is an advantage that irradiation of ultraviolet rays can be performed with relatively inexpensive equipment. Examples of crosslinkable groups include acryloyl, methacryloyl, allyl, isocyanate, epoxy, alkoxysilyl, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol and active methylene. The thickness of the overcoat layer is 2
To 50 nm, more preferably 5 to 30 nm, and most preferably 5 to 20 nm.
【0042】[反射防止膜]反射防止膜には、以上述べ
た以外の層を設けてもよい。例えば、透明支持体の上に
は、ハードコート層に加えて、接着層、シールド層、滑
り層や帯電防止層を設けてもよい。シールド層は、電磁
波や赤外線を遮蔽するために設けられる。反射防止膜
は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していても
よい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を
形成することにより得られる。反射防止膜のヘイズは、
3乃至30%であることが好ましく、5乃至20%であ
ることがさらに好ましく、7乃至20%であることが最
も好ましい。反射防止膜は、液晶表示装置(LCD)、
プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置
(CRT)のような画像表示装置に適用する。反射防止
膜の透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着す
る。[Anti-Reflection Film] The anti-reflection film may be provided with a layer other than those described above. For example, an adhesive layer, a shield layer, a slip layer, and an antistatic layer may be provided on the transparent support in addition to the hard coat layer. The shield layer is provided to shield electromagnetic waves and infrared rays. The anti-reflection film may have an anti-glare function for scattering external light. The anti-glare function is obtained by forming irregularities on the surface of the antireflection film. The haze of the anti-reflective coating is
It is preferably from 3 to 30%, more preferably from 5 to 20%, and most preferably from 7 to 20%. The anti-reflection film is a liquid crystal display (LCD),
The present invention is applied to an image display device such as a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a cathode ray tube display (CRT). The transparent support side of the antireflection film is adhered to the image display surface of the image display device.
【0043】[0043]
【実施例】[実施例1] (ハードコート層用塗布液の調製)市販のハードコート
材料(デソライトZ7503、JSR(株)製)のメチ
ルエチルケトン溶液(固形分濃度:72重量%、シリカ
含量:38重量%)625gを、メチルエチルケトンと
シクロヘキサノンとの混合溶媒(重量比:50/50)
375gに混合した。混合物を撹拌した後、孔径0.4
μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコ
ート層の塗布液を調製した。[Example 1] (Preparation of coating solution for hard coat layer) Methyl ethyl ketone solution (solid content: 72% by weight, silica content: 38) of a commercially available hard coat material (Desolite Z7503, manufactured by JSR Corporation) 625 g of a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone (weight ratio: 50/50)
375 g. After stirring the mixture, a pore size of 0.4
The solution was filtered through a μm polypropylene filter to prepare a coating solution for the hard coat layer.
【0044】(二酸化チタン分散物の調製)二酸化チタ
ン(一次粒子重量平均粒径:50nm、屈折率:2.7
0)30重量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
(商品名:PM21、日本化薬(株)製)4.5重量
部、カチオン性メタクリレートモノマー(商品名:DM
AEA、興人(株)製)0.3重量部およびメチルエチ
ルケトン65.2重量部を、サンドグラインダーにより
分散し、二酸化チタン分散物を調製した。(Preparation of Titanium Dioxide Dispersion) Titanium dioxide (primary particle weight average particle diameter: 50 nm, refractive index: 2.7)
0) 30 parts by weight, 4.5 parts by weight of anionic diacrylate monomer (trade name: PM21, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), cationic methacrylate monomer (trade name: DM)
0.3 parts by weight of AEA (produced by Kojin Co., Ltd.) and 65.2 parts by weight of methyl ethyl ketone were dispersed by a sand grinder to prepare a titanium dioxide dispersion.
【0045】(中屈折率層用塗布液の調製)シクロヘキ
サノン151.9gおよびメチルエチルケトン37.0
gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)0.14gおよび光増感剤(カヤキュアーDE
TX、日本化薬(株)製)0.04gを溶解した。さら
に、上記の二酸化チタン分散物6.1gおよびジペンタ
エリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化
薬(株)製)2.4gを加え、室温で30分間攪拌した
後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾
過して、中屈折率層用塗布液を調製した。(Preparation of coating liquid for middle refractive index layer) 151.9 g of cyclohexanone and 37.0 g of methyl ethyl ketone
g, 0.14 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DE)
TX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.). Further, 6.1 g of the above titanium dioxide dispersion and 2.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.
【0046】(高屈折率層用塗布液の調製)シクロヘキ
サノン1152.8gおよびメチルエチルケトン37.
2gに、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイ
ギー社製)0.06gおよび光増感剤(カヤキュアーD
ETX、日本化薬(株)製)0.02gを溶解した。さ
らに、上記の二酸化チタン分散物13.13gおよびジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、
日本化薬(株)製)0.76gを加え、室温で30分間
攪拌した後、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィル
ターで濾過して、高屈折率層用塗布液を調製した。(Preparation of Coating Solution for High Refractive Index Layer) 1152.8 g of cyclohexanone and methyl ethyl ketone
To 2 g, 0.06 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure D)
0.02 g of ETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was dissolved. Further, 13.13 g of the above titanium dioxide dispersion and a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA,
After adding 0.76 g of Nippon Kayaku Co., Ltd. and stirring at room temperature for 30 minutes, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer.
【0047】(低屈折率層用塗布液の調製)平均粒径が
15nmのシリカ微粒子のメタノール分散液(メタノー
ルシリカゾル、日産化学(株)製)200gに、シラン
カップリング剤(KBM−503、信越シリコーン
(株)製)3gおよび0.1N塩酸2gを加え、室温で
5時間攪拌した後、3日間室温で放置して、シランカッ
プリング処理したシリカ微粒子分散物を調製した。分散
物35.04gに、イソプロピルアルコール58.35
gおよびジアセトンアルコール39.34gを加えた。
また、光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギ
ー社製)1.02gおよび光増感剤(カヤキュアーDE
TX、日本化薬(株)製)0.51gを772.85g
のイソプロピルアルコールに溶解した溶液を加え、さら
にジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペン
タエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPH
A、日本化薬(株)製)25.6gを加えて溶解した。
得られた溶液67.23gを、上記分散液、イソプロピ
ルアルコールおよびジアセトンアルコールの混合液に添
加した。混合物を20分間室温で撹拌し、孔径0.4μ
mのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率
層用塗布液を調製した。(Preparation of Coating Solution for Low Refractive Index Layer) A silane coupling agent (KBM-503, Shin-Etsu) was added to 200 g of a methanol dispersion of silica fine particles having an average particle size of 15 nm (methanol silica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.). 3 g of Silicone Co., Ltd.) and 2 g of 0.1N hydrochloric acid were added, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours and then left at room temperature for 3 days to prepare a silane-coupled silica fine particle dispersion. To 35.04 g of the dispersion, 58.35 of isopropyl alcohol was added.
g and 39.34 g of diacetone alcohol were added.
Further, 1.02 g of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) and a photosensitizer (Kayacure DE)
TX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.51 g to 772.85 g
Was added to a solution of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPH).
A, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and dissolved.
67.23 g of the resulting solution was added to a mixture of the above dispersion, isopropyl alcohol and diacetone alcohol. The mixture is stirred for 20 minutes at room temperature and a pore size of 0.4μ
Then, the mixture was filtered through a polypropylene filter of m to prepare a coating solution for a low refractive index layer.
【0048】(オーバーコート層用塗布液の調製)熱架
橋性含フッ素ポリマー(JN−7214、JSR(株)
製)にイソプロピルアルコールを加えて、0.6重量%
の粗分散液を調製した。粗分散液を超音波で微細分散
し、オーバーコート層用塗布液を調製した。塗布液中の
含フッ素ポリマー微粒子の平均粒径をコールターカウン
ターで測定したところ、30nmであった。(Preparation of Coating Solution for Overcoat Layer) Thermally crosslinkable fluoropolymer (JN-7214, JSR Corporation)
0.6% by weight of isopropyl alcohol
Was prepared. The coarse dispersion was finely dispersed by ultrasonic waves to prepare a coating liquid for an overcoat layer. It was 30 nm when the average particle diameter of the fluoropolymer fine particles in the coating solution was measured by a Coulter counter.
【0049】(反射防止膜の作成)80μmの厚さのト
リアセチルセルロースフイルム(TAC−TD80U、
富士写真フイルム(株)製)上に、上記のハードコート
層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布し、90℃で
乾燥した後、紫外線を照射して、塗布層を硬化させ、厚
さ6μmのハードコート層を形成した。その上に、上記
中屈折率層用塗布液をバーコーターを用いて塗布し、6
0℃で乾燥した後、紫外線を照射して塗布層を硬化さ
せ、中屈折率層(屈折率:1.72、厚さ:0.081
μm)を形成した。その上に、上記高屈折率層用塗布液
をバーコーターを用いて塗布し、60℃で乾燥した後、
紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層(屈折
率:1.92、厚さ:0.053μm)を形成した。高
屈折率層の上に、上記低屈折率層用塗布液をバーコータ
ーを用いて塗布し、60℃で乾燥した後、紫外線を照射
して塗布層を硬化させ、低屈折率層(屈折率:1.4
0、厚さ:0.085μm)を形成した。形成した低屈
折率層の空隙率は、16体積%であった。低屈折率層の
上に、上記オーバーコート層用塗布液を#3のバーコー
ターを用いて塗布し、120℃で1時間乾燥して、反射
防止膜を形成した。(Preparation of antireflection film) Triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, 80 μm thick)
The above coating solution for a hard coat layer was coated on a Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a bar coater, dried at 90 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coated layer and obtain a thickness. A 6 μm hard coat layer was formed. On top of this, the above-mentioned coating solution for the medium refractive index layer was applied using a bar coater.
After drying at 0 ° C., the coating layer is cured by irradiating ultraviolet rays, and a medium refractive index layer (refractive index: 1.72, thickness: 0.081)
μm). The coating liquid for a high refractive index layer was applied thereon using a bar coater and dried at 60 ° C.
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays to form a high refractive index layer (refractive index: 1.92, thickness: 0.053 μm). The coating liquid for a low refractive index layer is applied on the high refractive index layer using a bar coater, dried at 60 ° C., and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating layer. : 1.4
0, thickness: 0.085 μm). The porosity of the formed low refractive index layer was 16% by volume. The coating solution for the overcoat layer was applied on the low refractive index layer using a # 3 bar coater, and dried at 120 ° C. for 1 hour to form an antireflection film.
【0050】(反射防止膜の評価)得られたフィルムに
ついて、以下の項目の評価を行った。結果は、第1表に
示す。(Evaluation of antireflection film) The following items were evaluated for the obtained film. The results are shown in Table 1.
【0051】(1)平均反射率 分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜7
80nmの波長領域において、入射角5゜における分光
反射率を測定した。結果には450〜650nmの平均
反射率を示した。(1) Average reflectance 380-7 using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation)
In the wavelength region of 80 nm, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured. The results showed an average reflectance of 450 to 650 nm.
【0052】(2)低屈折率層の屈折率 反射率の測定結果から計算して、低屈折率層の屈折率を
フィッティングにより求めた。(2) Refractive Index of Low Refractive Index Layer The refractive index of the low refractive index layer was calculated from the measurement result of the reflectance, and the refractive index of the low refractive index layer was determined by fitting.
【0053】(3)表面接触角 反射防止膜を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時
間調湿した後、水に対する接触角を測定した。(3) Surface Contact Angle After the antireflection film was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, the contact angle with water was measured.
【0054】(4)指紋付着性評価 サンプル表面に指紋を付着させて、それを布(ベンコッ
トン、旭化成(株)製)で拭き取った時の状態を観察し
て、以下のように指紋付着製性を評価した。 A:簡単に指紋が拭き取れた B:しっかり擦れば指紋が拭き取れた C:指紋の一部が拭き取れずに残った D:指紋のほとんどが拭き取れずに残った(4) Evaluation of Fingerprint Adhesion A fingerprint was adhered to the surface of the sample, and the state when the fingerprint was wiped off with a cloth (Ben Cotton, manufactured by Asahi Kasei Corporation) was observed. The sex was evaluated. A: Fingerprints were easily wiped off B: Fingerprints were wiped off when firmly rubbed C: Part of fingerprints remained without being wiped D: Most of fingerprints remained without being wiped off
【0055】(5)鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてJIS−K−5400が規定する鉛
筆硬度評価を行った。反射防止膜を温度25℃、湿度6
0%RHで2時間調湿した後、JIS−S−6006の
規定に従う2Hおよび3Hの試験用鉛筆を用いて、1k
gの荷重にて5回試験を行い、3/5以上の試験で傷が
全く認められない硬度を測定した。(5) Evaluation of Pencil Hardness Pencil hardness evaluation specified by JIS-K-5400 was performed as an index of scratch resistance. Anti-reflection coating at a temperature of 25 ° C and a humidity of 6
After humidifying for 2 hours at 0% RH, 1k was applied using a 2H and 3H test pencil according to JIS-S-6006.
The test was performed five times with a load of g, and the hardness at which no flaw was observed was measured in a test of 3/5 or more.
【0056】(6)対傷性試験 #0000のスチールウールを用い、10円硬貨の面積
に400gの荷重をかけ、十往復したときの傷の程度で
評価した。 A:傷が全く付かない。 B:少し傷が付くが、見えにくい。 C:顕著に傷が付く。(6) Scratch resistance test Using # 0000 steel wool, a load of 400 g was applied to the area of a 10-yen coin, and the evaluation was made based on the degree of scratches when ten reciprocations were made. A: No scratches are formed. B: Slightly scratched, but difficult to see. C: Notably scratched.
【0057】(7)動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数を評価した。動摩擦
係数は試料を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時
間調湿した後、動摩擦測定機(HEIDON−14)
で、直径5mmのステンレス鋼球を用い、荷重100
g、速度60cm/分にて測定した値を用いた。(7) Measurement of Dynamic Friction Coefficient The dynamic friction coefficient was evaluated as an index of the surface slip property. The coefficient of kinetic friction was determined by conditioning the sample at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours, and then using a kinetic friction measuring machine (HEIDON-14).
Using a stainless steel ball with a diameter of 5 mm and a load of 100
g, values measured at a speed of 60 cm / min were used.
【0058】[実施例2]下記のフルオロデシルメタク
リレートをフッ素系界面活性剤の存在下で乳化重合し、
ラテックスを得た。 (フルオロデシルメタクリレート) CH2 =C(CH3 )COOCH2 CH2 C8 F17 ラテックスを透析により界面活性剤を除いた後、水/メ
タノール=7/3の組成になるように、固形分2%まで
希釈した。ラテックスを室温乾燥し、粒径をSEMで確
認したところ、約15nmであった。希釈したラテック
スをオーバーコート層用塗布液として用いた以外は、実
施例1と同様にして、反射防止膜を作製して評価した。
結果を第1表に示す。Example 2 The following fluorodecyl methacrylate was emulsion-polymerized in the presence of a fluorine-containing surfactant,
Latex was obtained. (Fluorodecyl methacrylate) CH 2 CC (CH 3 ) COOCH 2 CH 2 C 8 F 17 Latex is subjected to dialysis to remove a surfactant, and then the solid content is adjusted to a water / methanol = 7/3 composition. %. The latex was dried at room temperature and the particle size was confirmed by SEM to be about 15 nm. An antireflection film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the diluted latex was used as a coating liquid for an overcoat layer.
The results are shown in Table 1.
【0059】[比較例1]熱架橋性含フッ素ポリマー
(JN−7214、JSR(株)製)をメチルイソブチ
ルケトンに溶解して、0.6重量%溶液を調製した。得
られた溶液をオーバーコート層用塗布液として用いた以
外は、実施例1と同様にして反射防止膜を作製して評価
した。結果を第1表に示す。なお、オーバーコート層の
材料は、低屈折率層の空隙の94体積%を占有してい
た。Comparative Example 1 A thermally crosslinkable fluoropolymer (JN-7214, manufactured by JSR Corporation) was dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a 0.6% by weight solution. An antireflection film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer. The results are shown in Table 1. The material of the overcoat layer occupied 94% by volume of the voids of the low refractive index layer.
【0060】[比較例2]オーバ−コート層を設けなか
った以外は、実施例1と同様にして反射防止膜を作製し
て評価した。結果を第1表に示す。Comparative Example 2 An antireflection film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the overcoat layer was not provided. The results are shown in Table 1.
【0061】[0061]
【表1】 第1表 ──────────────────────────────────── 反射 空隙 平均 低屈折率 表面 指紋 鉛筆 耐 動摩擦 防止膜 占有率 反射率 層屈折率 接触角 付着性 硬度 傷性 係数 ──────────────────────────────────── 実1 25% 0.41 1.42 100 B 3H B 0.33 実2 33% 0.45 1.44 98 B 3H B 0.30 比1 94% 0.82 1.47 104 B 3H A 0.25 比2 空隙なし 0.30 1.40 45 D 2H C 0.50 ────────────────────────────────────[Table 1] Table 1 ──────────────────────────────────── Reflection air gap Average Low refractive index Surface Fingerprint Pencil Anti-friction film Occupancy ratio Reflectivity Layer refractive index Contact angle Adhesion Hardness Scratch coefficient ───────────────────────────── ─────── Actual 125% 0.41 1.42 100 B 3HB 0.33 Actual 2 33% 0.45 1.44 98 B 3HB 0.30 Ratio 194% 0.82 1. 47 104 B 3H A 0.25 Ratio 2 No void 0.30 1.40 45 D 2H C 0.50 ───────────
【0062】[実施例3]含フッ素シランカップリング
剤(KP−801M、信越化学(株)製)をフッ素系溶
剤(フロリナートFC−7、3M社製)に溶解して、
0.15重量%溶液を調製した。得られた溶液をオーバ
ーコート層用塗布液として用い、実施例1で作成した低
屈折率層の上に、#3のワイヤーバーを用いて塗布し、
120℃で3分間乾燥して反射防止膜を作成した。オー
バーコート層の塗布量は、低屈折率層の空隙の19体積
%となるように調整した。オーバーコート層の材料は、
低屈折率層の空隙の6体積%を占有していた。得られた
反射防止膜について、実施例1と同様に評価した。結果
を第2表に示す。Example 3 A fluorinated silane coupling agent (KP-801M, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was dissolved in a fluorinated solvent (Fluorinert FC-7, manufactured by 3M).
A 0.15% by weight solution was prepared. The obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer, and was coated on the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar.
The coating was dried at 120 ° C. for 3 minutes to form an antireflection film. The coating amount of the overcoat layer was adjusted so as to be 19% by volume of the gap of the low refractive index layer. The material of the overcoat layer is
It occupied 6% by volume of the voids in the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
【0063】[実施例4]熱架橋性含フッ素ポリマー
(JN−7214、JSR(株)製)をメチルイソブチ
ルケトンに溶解して、0.3重量%溶液を調製した。得
られた溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実
施例1で作成した低屈折率層の上に、#3のワイヤーバ
ーを用いて塗布し、120℃で1時間乾燥して反射防止
膜を作成した。オーバーコート層の塗布量は、低屈折率
層の空隙の37体積%となるように調整した。オーバー
コート層の材料は、低屈折率層の空隙の25体積%を占
有していた。得られた反射防止膜について、実施例1と
同様に評価した。結果を第2表に示す。Example 4 A heat-crosslinkable fluoropolymer (JN-7214, manufactured by JSR Corporation) was dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a 0.3% by weight solution. The obtained solution was used as a coating solution for the overcoat layer, and was applied on the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar, and dried at 120 ° C. for 1 hour to obtain an antireflection film. It was created. The coating amount of the overcoat layer was adjusted so as to be 37% by volume of the gap of the low refractive index layer. The material of the overcoat layer occupied 25% by volume of the voids of the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
【0064】[実施例5]紫外線架橋性含フッ素ポリマ
ー(TM−011、JSR(株)製)0.3重量%、光
重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)
0.02重量%および光増感剤(カヤキュアーDET
X、日本化薬(株)製)0.01重量%を含むメチルイ
ソブチルケトン溶液を調製した。得られた溶液をオーバ
ーコート層用塗布液として用い、実施例1で作成した低
屈折率層上に、#3のワイヤーバーを用いて塗布し、6
0℃で1分間乾燥した後、直ちに12W/cmの高圧水
銀灯を用いて1分間紫外線照射して、反射防止膜を作成
した。オーバーコート層の塗布量は、低屈折率層の空隙
の37体積%となるように調整した。オーバーコート層
の材料は、低屈折率層の空隙の25体積%を占有してい
た。得られた反射防止膜について、実施例1と同様に評
価した。結果を第2表に示す。Example 5 0.3% by weight of a UV-crosslinkable fluoropolymer (TM-011, manufactured by JSR Corporation) and a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy)
0.02% by weight and a photosensitizer (Kayacure DET)
X, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was prepared in a methyl isobutyl ketone solution containing 0.01% by weight. The obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer, and was applied onto the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar.
After drying at 0 ° C. for 1 minute, the film was immediately irradiated with ultraviolet light for 1 minute using a 12 W / cm high-pressure mercury lamp to form an antireflection film. The coating amount of the overcoat layer was adjusted so as to be 37% by volume of the gap of the low refractive index layer. The material of the overcoat layer occupied 25% by volume of the voids of the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
【0065】[比較例3]含フッ素シランカップリング
剤(KP−801M、信越化学(株)製)をフッ素系溶
剤(フロリナートFC−7、3M社製)に溶解して、
0.15重量%溶液を調製した。得られた溶液をオーバ
ーコート層用塗布液として用い、実施例1で作成した低
屈折率層の上に、#3のワイヤーバーを用いて塗布し、
120℃で3分間乾燥して反射防止膜を作成した。オー
バーコート層の塗布量は、低屈折率層の空隙の90体積
%となるように調整した。オーバーコート層の材料は、
低屈折率層の空隙の94体積%を占有していた。得られ
た反射防止膜について、実施例1と同様に評価した。結
果を第2表に示す。Comparative Example 3 A fluorinated silane coupling agent (KP-801M, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was dissolved in a fluorinated solvent (Fluorinert FC-7, manufactured by 3M).
A 0.15% by weight solution was prepared. The obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer, and was coated on the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar.
The coating was dried at 120 ° C. for 3 minutes to form an antireflection film. The coating amount of the overcoat layer was adjusted so as to be 90% by volume of the void in the low refractive index layer. The material of the overcoat layer is
It occupied 94% by volume of the voids of the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
【0066】[0066]
【表2】 第2表 ──────────────────────────────────── 反射 塗布 空隙 平均 低屈折率 表面 指 鉛筆 耐 動摩擦 防止膜 量 占有率 反射率 層屈折率 接触角 紋 硬度 傷 係数 ──────────────────────────────────── 実3 19% 6% 0.34 1.40 110 B 2H B 0.30 実4 37% 25% 0.40 1.42 104 B 3H B 0.28 実5 37% 25% 0.38 1.42 103 B 3H B 0.23 比3 90% 94% 0.82 1.47 109 B 2H C 0.30 ────────────────────────────────────[Table 2] Table 2 ──────────────────────────────────── Reflection coating Air gap Average Low refractive index Surface Finger pencil Anti-dynamic friction film Amount Occupancy Reflectivity Layer refractive index Contact angle Crest Hardness Scratch coefficient ───────────────────────────── ─────── Actual 3 19% 6% 0.34 1.40 110 B 2HB 0.30 Actual 4 37% 25% 0.40 1.42 104 B 3HB 0.28 Actual 5 37% 25 % 0.38 1.42 103 B 3H B 0.23 Ratio 3 90% 94% 0.82 1.47 109 B 2H C 0.30 ───────────────────
【0067】[実施例6]重量平均分子量が20万であ
る市販の含フッ素ポリマー(サイトップCTX−809
A、旭硝子(株)製)を、市販のフッ素系溶剤(フロリ
ナートFC77、住友3M(株)製)に溶解して、1.
5重量%溶液を調製した。得られた溶液をオーバーコー
ト層用塗布液として用い、実施例1で作成した低屈折率
層の上に、#3のワイヤーバーを用いて塗布し、、12
0℃で1時間乾燥して反射防止膜を作成した。オーバー
コート層の塗布量は空隙の120体積%となるように調
製した。オーバーコート層の材料は、低屈折率層の空隙
の37体積%を占有していた。得られた反射防止膜につ
いて、実施例1と同様に評価した。結果を第3表に示
す。Example 6 A commercially available fluoropolymer having a weight average molecular weight of 200,000 (Cytop CTX-809)
A, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) in a commercially available fluorinated solvent (Fluorinert FC77, manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.).
A 5% by weight solution was prepared. The obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer, and was applied onto the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar.
After drying at 0 ° C. for 1 hour, an antireflection film was formed. The coating amount of the overcoat layer was adjusted to be 120% by volume of the void. The material of the overcoat layer occupied 37% by volume of the voids of the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
【0068】[実施例7]実施例4で用いた熱架橋性含
フッ素ポリマー(JN−7214,JSR(株)製)の
低分子成分を除去した。得られた含フッ素ポリマーの分
子量は、数平均分子量で5万、重量平均分子量で7万で
あった。得られた含フッ素ポリマーをメチルイソブチル
ケトンに溶解して、1.0重量%溶液を調製した。得ら
れた溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実施
例1で作成した低屈折率層の上に#3のワイヤーバーを
用いて塗布し、120℃で1時間乾燥して反射防止膜を
作成した。オーバーコート層の塗布量は空隙の120体
積%となるように調整した。オーバーコート層の材料
は、低屈折率層の空隙の40体積%を占有していた。得
られた反射防止膜について、実施例1と同様に評価し
た。結果を第3表に示す。Example 7 The low molecular weight component of the thermally crosslinkable fluoropolymer (JN-7214, manufactured by JSR Corporation) used in Example 4 was removed. The molecular weight of the obtained fluoropolymer was 50,000 in number average molecular weight and 70,000 in weight average molecular weight. The obtained fluoropolymer was dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a 1.0% by weight solution. The obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer. The solution was coated on the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar, and dried at 120 ° C. for 1 hour to form an antireflection film. Created. The application amount of the overcoat layer was adjusted to be 120% by volume of the void. The material of the overcoat layer occupied 40% by volume of the voids of the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
【0069】[実施例8]下記の含フッ素ポリマーを合
成した。Example 8 The following fluorine-containing polymer was synthesized.
【0070】[0070]
【化1】 Embedded image
【0071】含フッ素ポリマーの分子量は、数平均分子
量で2.5万、重量平均分子量で4万であった。含フッ
素ポリマーをメチルイソブチルケトンに溶解して、1.
0重量%溶液を調製した。得られた溶液をオーバーコー
ト層用塗布液として用い、実施例1で作成した低屈折率
層の上に#3のワイヤーバーを用いて塗布し、120℃
で1時間乾燥して反射防止膜を作成した。オーバーコー
ト層の塗布量は空隙の120体積%となるように調整し
た。オーバーコート層の材料は、低屈折率層の空隙の4
8体積%を占有していた。得られた反射防止膜につい
て、実施例1と同様に評価した。結果を第3表に示す。The molecular weight of the fluoropolymer was 25,000 in number average molecular weight and 40,000 in weight average molecular weight. Dissolve the fluorine-containing polymer in methyl isobutyl ketone;
A 0% by weight solution was prepared. The obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer, and was applied on the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar, and was applied at 120 ° C.
For 1 hour to form an antireflection film. The application amount of the overcoat layer was adjusted to be 120% by volume of the void. The material of the overcoat layer is 4% of the gap of the low refractive index layer.
8% by volume. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
【0072】[実施例9]実施例5で用いた紫外線架橋
性含フッ素ポリマー(TM−011、JSR(株)製)
の低分子成分を除去した。得られた含フッ素ポリマーの
分子量は、数平均分子量で6万、重量平均分子量で8万
であった。得られた含フッ素ポリマーをメチルイソブチ
ルケトンに溶解して、1.0重量%溶液を調製した。得
られた溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実
施例1で作成した低屈折率層の上に#3のワイヤーバー
を用いて塗布し、60℃で1分間乾燥した後、直ちに1
2W/cmの高圧水銀灯を用いて1分間紫外線を照射し
て塗布層を硬化させ、反射防止膜を作成した。オーバー
コート層の塗布量は空隙の120体積%となるように調
整した。オーバーコート層の材料は、低屈折率層の空隙
の37体積%を占有していた。得られた反射防止膜につ
いて、実施例1と同様に評価した。結果を第3表に示
す。Example 9 The ultraviolet-crosslinkable fluoropolymer used in Example 5 (TM-011, manufactured by JSR Corporation)
Was removed. The molecular weight of the obtained fluoropolymer was 60,000 in number average molecular weight and 80,000 in weight average molecular weight. The obtained fluoropolymer was dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a 1.0% by weight solution. The obtained solution was used as a coating solution for the overcoat layer, and was coated on the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar, dried at 60 ° C. for 1 minute, and immediately dried.
The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays for 1 minute using a high-pressure mercury lamp of 2 W / cm to form an antireflection film. The application amount of the overcoat layer was adjusted to be 120% by volume of the void. The material of the overcoat layer occupied 37% by volume of the voids of the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
【0073】[比較例4]分子量が低下するように重合
条件を調整した以外は、実施例8と同様にして含フッ素
ポリマー合成した。得られた含フッ素ポリマーの分子量
は、数平均で7000、重量平均分子量で1.1万であ
った。得られた含フッ素ポリマーをメチルイソブチルケ
トンに溶解して、1.0重量%溶液を調整した。得られ
た溶液をオーバーコート層用塗布液として用い、実施例
1で作成した低屈折率層の上に#3のワイヤーバーを用
いて塗布し、120℃で1時間乾燥して反射防止膜を作
成した。オーバーコート層の塗布量は空隙の120体積
%となるように調整した。オーバーコート層の材料は、
低屈折率層の空隙の95体積%を占有していた。得られ
た反射防止膜について、実施例1と同様に評価した。結
果を第3表に示す。Comparative Example 4 A fluorine-containing polymer was synthesized in the same manner as in Example 8, except that the polymerization conditions were adjusted so that the molecular weight was reduced. The molecular weight of the obtained fluoropolymer was 7,000 in number average and 11,000 in weight average molecular weight. The obtained fluorine-containing polymer was dissolved in methyl isobutyl ketone to prepare a 1.0% by weight solution. The obtained solution was used as a coating solution for an overcoat layer. The solution was coated on the low refractive index layer prepared in Example 1 using a # 3 wire bar, and dried at 120 ° C. for 1 hour to form an antireflection film. Created. The application amount of the overcoat layer was adjusted to be 120% by volume of the void. The material of the overcoat layer is
It occupied 95% by volume of the voids of the low refractive index layer. The obtained antireflection film was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
【0074】[0074]
【表3】 第3表 ──────────────────────────────────── 反射 分子 空隙 平均 低屈折率 表面 指 鉛筆 耐 動摩擦 防止膜 量 占有率 反射率 層屈折率 接触角 紋 硬度 傷 係数 ──────────────────────────────────── 実6 20万 37% 0.43 1.44 110 A 3H B 0.30 実7 7万 40% 0.42 1.44 104 A 3H A 0.12 実8 4万 48% 0.48 1.45 98 A 3H A 0.22 実9 8万 37% 0.37 1.44 107 A 3H A 0.20 比4 1.1万 95% 0.84 1.47 98 B 3H B 0.25 ────────────────────────────────────[Table 3] Table 3 ──────────────────────────────────── Reflection molecule void average low refractive index Surface Finger pencil Anti-dynamic friction film Amount Occupancy Reflectivity Layer refractive index Contact angle Crest Hardness Scratch coefficient ───────────────────────────── ─────── Actual 6 200,37% 0.43 1.44 110 A 3HB 0.30 Actual 77,40% 0.42 1.44 104 A 3H A 0.12 Actual 8 44,48 % 0.48 1.45 98 A 3H A 0.22 Actual 98,000 37% 0.37 1.44 107 A 3H A 0.20 Ratio 411,000 95% 0.84 1.47 98 B 3H B 0 .25
【図1】反射防止膜の様々な層構成を示す断面模式図で
ある。FIG. 1 is a schematic sectional view showing various layer configurations of an antireflection film.
【図2】本発明の好ましい態様における低屈折率層とオ
ーバーコート層の断面模式図である。FIG. 2 is a schematic sectional view of a low refractive index layer and an overcoat layer according to a preferred embodiment of the present invention.
【図3】本発明の別の好ましい態様における低屈折率層
とオーバーコート層の断面模式図である。FIG. 3 is a schematic sectional view of a low refractive index layer and an overcoat layer according to another preferred embodiment of the present invention.
【図4】本発明のさらに別の好ましい態様における低屈
折率層とオーバーコート層の断面模式図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a low refractive index layer and an overcoat layer according to still another preferred embodiment of the present invention.
【符号の説明】 1 透明支持体 2 低屈折率層 3 オーバーコート層 4 ハードコート層 5 高屈折率層 6 中屈折率層 21 低屈折率層の微粒子 22 低屈折率層のバインダー 23 低屈折率層内の空隙 31 含フッ素化合物の微粒子[Description of Signs] 1 Transparent support 2 Low refractive index layer 3 Overcoat layer 4 Hard coat layer 5 High refractive index layer 6 Medium refractive index layer 21 Fine particles of low refractive index layer 22 Binder of low refractive index layer 23 Low refractive index Void in layer 31 Fine particles of fluorine-containing compound
Claims (9)
屈折率と3乃至50体積%の空隙率とを有する低屈折率
層が積層されている反射防止膜であって、該低屈折率層
の上に含フッ素化合物を含むオーバーコート層がさらに
積層されており、オーバーコート層の材料が低屈折率層
の空隙を占有している割合が70体積%未満であること
を特徴とする反射防止膜。1. An antireflection film comprising a transparent support and a low refractive index layer having a lower refractive index than the transparent support and a porosity of 3 to 50% by volume. An overcoat layer containing a fluorine-containing compound is further laminated thereon, and the ratio of the material of the overcoat layer occupying the voids in the low refractive index layer is less than 70% by volume. film.
含フッ素化合物の微粒子を含む請求項1に記載の反射防
止膜。2. The antireflection film according to claim 1, wherein the overcoat layer contains fine particles of a fluorine-containing compound having a particle size of 10 nm or more.
層の空隙の量の80体積%以下である請求項1に記載の
反射防止膜。3. The antireflection film according to claim 1, wherein the amount of the overcoat layer applied is 80% by volume or less of the amount of voids in the low refractive index layer.
上の含フッ素ポリマーである請求項1に記載の反射防止
膜。4. The antireflection film according to claim 1, wherein the fluorine-containing compound is a fluorine-containing polymer having a weight average molecular weight of 20,000 or more.
り、含フッ素ポリマーがオーバーコート層の形成後に架
橋している請求項1または4に記載の反射防止膜。5. The antireflection film according to claim 1, wherein the fluorine-containing compound is a fluorine-containing polymer, and the fluorine-containing polymer is crosslinked after forming the overcoat layer.
橋している請求項5に記載の反射防止膜。6. The antireflection film according to claim 5, wherein the fluoropolymer is crosslinked by irradiation with radiation.
たは微粒子内に空隙が形成されている請求項1に記載の
反射防止膜。7. The antireflection film according to claim 1, wherein the low refractive index layer contains fine particles, and a void is formed between or within the fine particles.
有する高屈折率層が、透明支持体と低屈折率層との間に
設けられている請求項1に記載の反射防止膜。8. The antireflection film according to claim 1, wherein a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the transparent support is provided between the transparent support and the low refractive index layer.
支持体よりも低い屈折率と3乃至50体積%の空隙率と
を有する低屈折率層がこの順に積層されている画像表示
装置であって、該低屈折率層の上に含フッ素化合物を含
むオーバーコート層がさらに積層されており、オーバー
コート層の材料が低屈折率層の空隙を占有している割合
が70体積%未満であることを特徴とする画像表示装
置。9. An image display device comprising: a transparent support and a low refractive index layer having a lower refractive index than the transparent support and a porosity of 3 to 50% by volume are laminated on the image display surface in this order. An overcoat layer containing a fluorine-containing compound is further laminated on the low-refractive-index layer, and a ratio of a material of the overcoat layer occupying a void in the low-refractive-index layer is less than 70% by volume. An image display device, comprising:
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