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JP2000063702A - Method of forming cured film - Google Patents

Method of forming cured film

Info

Publication number
JP2000063702A
JP2000063702A JP10236704A JP23670498A JP2000063702A JP 2000063702 A JP2000063702 A JP 2000063702A JP 10236704 A JP10236704 A JP 10236704A JP 23670498 A JP23670498 A JP 23670498A JP 2000063702 A JP2000063702 A JP 2000063702A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
meth
group
acrylate
formula
hydrogen atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10236704A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Teruo Shiono
輝雄 塩野
Masashi Arishima
真史 有島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Artience Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Ink Mfg Co Ltd filed Critical Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority to JP10236704A priority Critical patent/JP2000063702A/en
Publication of JP2000063702A publication Critical patent/JP2000063702A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【課題】酸素濃度が高い雰囲気下でも、不活性ガスで置
換した雰囲気下と同様に高い硬化性を得ることができる
電子線による硬化皮膜の形成方法の提供。 【解決手段】テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ
ート、アルキレンオキサイド単位を有する(メタ)アク
リレート化合物、水酸基含有(メタ)アクリレート化合
物などの電子線照射により水素引き抜きを受けてラジカ
ルを発生し易い特定の単量体(A)、単量体(A)以外
の多官能(メタ)アクリレート化合物(B)、および下
記一般式(6)で示される化合物以外のアミンまたは3
価リン化合物(C)を含む硬化性組成物に、500pp
m以上の酸素濃度下において電子線を照射することを特
徴とする硬化皮膜の形成方法。
(57) [Problem] To provide a method for forming a cured film by an electron beam, which can obtain high curability even in an atmosphere having a high oxygen concentration as in an atmosphere substituted with an inert gas. Kind Code: A1 Abstract: A specific monomer which is liable to generate a radical upon being subjected to hydrogen abstraction by electron beam irradiation, such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, a (meth) acrylate compound having an alkylene oxide unit, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound. Compound (A), polyfunctional (meth) acrylate compound (B) other than monomer (A), and amine or 3 other than the compound represented by the following general formula (6)
500 pp to the curable composition containing the trivalent phosphorus compound (C)
A method for forming a cured film, comprising irradiating an electron beam under an oxygen concentration of at least m.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、500ppm以上
の酸素濃度下における硬化皮膜の形成方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for forming a cured film under an oxygen concentration of 500 ppm or more.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子線、紫外線等の活性エネルギー線硬
化技術は、(1)速硬化性であり、生産性が高い、
(2)エネルギーコストが低い、(3)無溶剤化により
揮発性分の環境への排出を低減できるなどの利点を有し
ており、塗料、インキ、接着剤等の用途に広く利用され
ている。活性エネルギー線の中で、特に電子線は透過性
が高く顔料の影響を受けにくい、開始剤の添加を必ずし
も必要とせずコストおよび衛生面で有利であるなどの特
徴を有することから、電子線硬化技術を応用した用途は
拡大傾向にある。それらに使用される電子線硬化性化合
物としては、(メタ)アクリロイル基を有するラジカル
重合性化合物が一般的である。
2. Description of the Related Art A technique for curing active energy rays such as electron beams and ultraviolet rays is (1) fast curing and high in productivity.
(2) Low energy cost, (3) It has the advantages of being able to reduce the emission of volatile components to the environment by eliminating solvent, and is widely used for applications such as paints, inks, and adhesives. . Among the active energy rays, the electron beam has high transparency, is not easily affected by the pigment, does not require the addition of an initiator, and is advantageous in terms of cost and hygiene. The application of technology is expanding. Radical polymerizable compounds having a (meth) acryloyl group are generally used as the electron beam curable compounds used therein.

【0003】しかしながら、活性エネルギー線硬化性組
成物を空気中のような酸素濃度が高い雰囲気下で硬化さ
せると表面層の硬化が酸素により阻害を受け、硬化性が
不十分となるという欠点を有していた。このような欠点
を克服するために、これまで多くの提案がなされてい
る。例えば、窒素ガス等の不活性ガスを吹き込み、雰囲
気中の酸素濃度を低下させる方法が知られている。ま
た、活性エネルギー線硬化性樹脂にアミンを添加する方
法が特公昭49−10358号公報等に、亜リン酸エス
テル類およびホスフィン類等の3価リン化合物を添加す
る方法が特開昭46−1790号公報等に開示されてい
る。
However, when the active energy ray-curable composition is cured in an atmosphere having a high oxygen concentration, such as in air, the surface layer is impeded by oxygen, which results in insufficient curability. Was. Many proposals have been made to overcome such drawbacks. For example, a method is known in which an inert gas such as nitrogen gas is blown in to reduce the oxygen concentration in the atmosphere. Further, a method of adding an amine to an active energy ray-curable resin is disclosed in JP-B-49-10358, and a method of adding a trivalent phosphorus compound such as phosphite and phosphine is disclosed in JP-A-46-1790. It is disclosed in Japanese Patent Publication No.

【0004】上記の不活性ガスを用いる方法は、不活性
ガスが高価であり、経済的に適用できる用途が限定され
るという欠点を有しているため、紫外線硬化では一般的
に用いられていない。一方、電子線硬化においては、不
活性ガスにより酸素濃度を通常200ppm以下に調整
して電子線照射を行っている。しかし、高速で印刷およ
び塗装を行う場合には、被照射物が空気を巻き込むため
酸素濃度が上昇し、硬化阻害を引き起こす場合がある。
また、上記のアミンまたは3価リン化合物を添加する方
法は、実用とされる表面硬化性を得るためには大量の添
加が必要であるが、それらを過剰に添加すると、それら
自体はラジカル重合性基を有していないため、未反応成
分の増加により逆に表面硬度が低下する欠点がある。
The above-mentioned method using an inert gas is not generally used for ultraviolet curing because it has the drawbacks that the inert gas is expensive and the economically applicable applications are limited. . On the other hand, in electron beam curing, electron beam irradiation is performed by adjusting the oxygen concentration to 200 ppm or less with an inert gas. However, when printing and painting are performed at high speed, the irradiated object entrains air, which increases the oxygen concentration and may cause curing inhibition.
Further, the above-mentioned method of adding an amine or a trivalent phosphorus compound requires a large amount of addition in order to obtain practical surface curability, but if they are added excessively, they themselves are radically polymerizable. Since it does not have a group, it has a drawback that the surface hardness is decreased due to the increase of unreacted components.

【0005】また、多官能(メタ)アクリレート化合物
は、その配合割合が多いほど反応性が高くなり、高酸素
雰囲気下でも良好な硬化皮膜が得られるが、粘度が高く
なり、塗装方法に制約を受ける。そこで単量体で希釈す
ることによる低粘度化が必要となるが、単量体は一般的
には反応性が低く酸素阻害を受けやすい。
Further, the polyfunctional (meth) acrylate compound has a higher reactivity as the blending ratio is higher, and a good cured film can be obtained even in a high oxygen atmosphere, but it has a high viscosity, which limits the coating method. receive. Therefore, it is necessary to reduce the viscosity by diluting with a monomer, but the monomer is generally low in reactivity and susceptible to oxygen inhibition.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、酸素
濃度が高い雰囲気下でも、不活性ガスで置換した雰囲気
下と同様に高い硬化性を得ることができる電子線による
硬化皮膜の形成方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for forming a cured film by an electron beam, which is capable of obtaining high curability even in an atmosphere having a high oxygen concentration as in an atmosphere in which an inert gas is substituted. To provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究し
た結果、電子線照射により水素引き抜きを受けてラジカ
ルを発生し易い特定の単量体と、多官能(メタ)アクリ
レート化合物と、アミンまたは3価リン化合物とを組み
合わせた硬化性組成物に、500ppm以上の酸素濃度
下で電子線を照射することにより良好な硬化皮膜を形成
できることを見出し、本発明に至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies by the present inventors, a specific monomer which easily receives a hydrogen abstraction by electron beam irradiation to generate a radical, a polyfunctional (meth) acrylate compound, and an amine. Further, it has been found that a good cured film can be formed by irradiating a curable composition in which a trivalent phosphorus compound is combined with an electron beam under an oxygen concentration of 500 ppm or more, and has reached the present invention.

【0008】すなわち、本発明は、下記一般式(1)〜
(9)で示される化合物から選ばれる少なくとも1種の
単量体(A)、単量体(A)以外の多官能(メタ)アク
リレート化合物(B)、および下記一般式(6)で示さ
れる化合物以外のアミンまたは3価リン化合物(C)を
含む硬化性組成物に、500ppm以上の酸素濃度下に
おいて電子線を照射することを特徴とする硬化皮膜の形
成方法に関する。
That is, the present invention provides the following general formulas (1) to
At least one monomer (A) selected from the compounds represented by (9), a polyfunctional (meth) acrylate compound (B) other than the monomer (A), and the following general formula (6) The present invention relates to a method for forming a cured film, which comprises irradiating a curable composition containing an amine other than a compound or a trivalent phosphorus compound (C) with an electron beam under an oxygen concentration of 500 ppm or more.

【0009】[0009]

【化10】 (式中、R1は水素原子またはメチル基であり、nは0
〜2の整数である。)
[Chemical 10] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and n is 0.
Is an integer of ˜2. )

【0010】[0010]

【化11】 (式中、R1は水素原子またはメチル基であり、R2は
水素原子、炭素数が1〜8のアルキル基、フェニル基、
ノニルフェニル基、または(メタ)アクリロイル基であ
る。また、nは1〜23の整数である。)
[Chemical 11] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, R2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group,
It is a nonylphenyl group or a (meth) acryloyl group. In addition, n is an integer of 1 to 23. )

【0011】[0011]

【化12】 (式中、R1は水素原子またはメチル基である。また、
l、m、nは0〜6の整数であり、l+m+nは1〜6
である。)
[Chemical 12] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group.
l, m, and n are integers of 0 to 6, and l + m + n is 1 to 6.
Is. )

【0012】[0012]

【化13】 (式中、R1は水素原子またはメチル基である。また、
m、nは0〜30の整数であり、m+nは1〜30であ
る。)
[Chemical 13] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group.
m and n are integers of 0 to 30, and m + n is 1 to 30. )

【0013】[0013]

【化14】 (式中、nは1〜3の整数であり、R1は水素原子また
はメチル基である。また、R3は水素原子、メチル基、
エチル基、メチロール基、フェノキシメチル基、または
(メタ)アクリロイルオキシメチル基である。)
[Chemical 14] (In the formula, n is an integer of 1 to 3, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 is a hydrogen atom, a methyl group,
It is an ethyl group, a methylol group, a phenoxymethyl group, or a (meth) acryloyloxymethyl group. )

【0014】[0014]

【化15】 (式中、R1は水素原子またはメチル基であり、R4は
メチル基またはエチル基である。)
[Chemical 15] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R4 is a methyl group or an ethyl group.)

【0015】[0015]

【化16】 (式中、R5は炭素数が2〜18のアルキル基、炭素数
が2〜9のヒドロキシアルキル基、シクロヘキシル基、
または一般式(7a)〜(7d)で示される有機残基で
ある。また、一般式(7a)中、nは2〜6の整数、R
1は水素原子またはメチル基である。)
[Chemical 16] (In the formula, R5 is an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 2 to 9 carbon atoms, a cyclohexyl group,
Alternatively, it is an organic residue represented by any of the general formulas (7a) to (7d). Further, in the general formula (7a), n is an integer of 2 to 6, R
1 is a hydrogen atom or a methyl group. )

【0016】[0016]

【化17】 (式中、R6は一般式(8a)〜(8e)で示される有
機残基である。また、一般式(8a)中、nは4〜9の
整数である。また、一般式(8b)中、nは2〜6の整
数、R1は水素原子またはメチル基である。また、一般
式(8e)中、R1は水素原子またはメチル基である。
また、m、nは0〜6の整数であり、m+nは0〜6で
ある。)
[Chemical 17] (In the formula, R6 is an organic residue represented by the general formulas (8a) to (8e). In the general formula (8a), n is an integer of 4 to 9. Further, the general formula (8b). In the formula, n is an integer of 2 to 6, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and in the general formula (8e), R1 is a hydrogen atom or a methyl group.
Further, m and n are integers of 0 to 6, and m + n is 0 to 6. )

【0017】[0017]

【化18】 (式中、R7はメチロール基、エチル基、またはビニロ
キシメチル基である。)
[Chemical 18] (In the formula, R7 is a methylol group, an ethyl group, or a vinyloxymethyl group.)

【0018】また、本発明は、硬化性組成物中の単量体
(A)と多官能(メタ)アクリレート化合物(B)との
配合比が10:90〜90:10(重量比)であり、ア
ミンまたは3価リン化合物(C)の含有量が(A)と
(B)の合計100重量部に対して0.1〜5重量部で
ある上記硬化皮膜の形成方法に関する。また、本発明
は、加速電圧30〜100kVの電子線を照射する上記
硬化皮膜の形成方法に関する。また、本発明は、電子線
の被照射線量が1〜10kGyである上記硬化皮膜の形
成方法に関する。さらに、本発明は、組成物がインキも
しくは塗料用途である上記硬化皮膜の形成方法に関す
る。
In the present invention, the compounding ratio of the monomer (A) and the polyfunctional (meth) acrylate compound (B) in the curable composition is 10:90 to 90:10 (weight ratio). , The amine or the trivalent phosphorus compound (C) is 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of (A) and (B), and the method for forming a cured film. The present invention also relates to a method for forming the above-mentioned cured film, which comprises irradiating an electron beam with an acceleration voltage of 30 to 100 kV. The present invention also relates to the method for forming a cured coating, wherein the electron beam irradiation dose is 1 to 10 kGy. Furthermore, the present invention relates to a method for forming the above-mentioned cured film, wherein the composition is used for ink or paint.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明において単量体(A)と
は、電子線照射により水素引き抜きを受けてラジカルを
発生し易い単量体であり、上記一般式(1)〜(9)で
示される化合物から選ばれる少なくとも1種の単量体で
ある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the monomer (A) is a monomer which easily undergoes hydrogen abstraction by electron beam irradiation to generate a radical, and is represented by the above general formulas (1) to (9). It is at least one monomer selected from the compounds shown.

【0020】上記一般式(1)で示される化合物の具体
例としては、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ
ート、日本化薬(株)製KAYARAD TC−110
S等のカプロラクトン変性テトラヒドロフルフリルア
クリレートが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, KAYARAD TC-110 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
Caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl acrylate such as S may be mentioned.

【0021】上記一般式(2)で示される化合物のう
ち、エチレンオキサイド単位を有する化合物としては、
メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、
メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、メトキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリ
レート、ブトキシトリエチレングリコール(メタ)アク
リレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、
2−エチルヘキシルジエチレングリコール(メタ)アク
リレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フ
ェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、
フェノキシテトラエチレングリコール(メタ)アクリレ
ート、フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられ
る。
Of the compounds represented by the general formula (2), the compound having an ethylene oxide unit is
Methoxydiethylene glycol (meth) acrylate,
Methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, butoxytriethylene glycol (meth) acrylate, ethylcarbitol (meth) acrylate,
2-ethylhexyldiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate,
Phenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, phenoxyhexaethylene glycol (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate Is mentioned.

【0022】また、その市販品の具体例としては、日本
油脂(株)製ブレンマーPE−90、ブレンマーPE−
200、ブレンマーPE−350等のポリエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、共栄社化学(株)製
ライトアクリレート130A、新中村化学工業(株)製
NKエステルAM−90G、NKエステルM−230
G、NKエステルM−90G、日本油脂(株)製ブレン
マーPME−400等のメトキシポリエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、共栄社化学(株)製ライトア
クリレート9EGA、ライトアクリレート14EGA、
ライトエステル14EG、ライトエステル9EG、東亜
合成(株)製アロニックスM−245、アロニックスM
−260、日本化薬(株)製KAYARAD PEG4
00DA、日本油脂(株)製ブレンマーPDE−40
0、化薬サートマー社製KS−PEG400DA、SR
−210A、SR−252、サートマー社製SR−34
4、新中村化学工業(株)製NKエステル9G、NKエ
ステル14G、NKエステル23G、NKエステルA−
400、NKエステルA−600等のポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、共栄社化学(株)製ラ
イトアクリレートNP−4EA、ライトアクリレートN
P−8EA、東亜合成(株)社製アロニックスM−11
1、アロニックスM−113等のノニルフェノールポリ
エチレングリコール(メタ)アクリレート、大阪有機化
学工業(株)製ビスコート193等のフェノキシポリエ
チレングリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられ
る。
Further, specific examples of the commercially available products thereof include Bremmer PE-90 and Bremmer PE- manufactured by NOF CORPORATION.
200, polyethylene glycol mono (meth) acrylates such as Bremmer PE-350, light acrylate 130A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., NK ester AM-90G, NK ester M-230 manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
G, NK ester M-90G, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate such as BLEMMER PME-400 manufactured by NOF CORPORATION, light acrylate 9 EGA, light acrylate 14 EGA manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.,
Light ester 14EG, light ester 9EG, Toagosei Co., Ltd. Aronix M-245, Aronix M
-260, KAYARAD PEG4 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
00DA, Bremmer PDE-40 manufactured by NOF CORPORATION
0, KS-PEG400DA, SR manufactured by Kayaku Sartomer Co., Ltd.
-210A, SR-252, SR-34 manufactured by Sartomer Company.
4, NK ester 9G, NK ester 14G, NK ester 23G, NK ester A-, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
400, polyethylene glycol di (meth) acrylates such as NK ester A-600, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate NP-4EA, light acrylate N
P-8EA, Aronix M-11 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
1, nonylphenol polyethylene glycol (meth) acrylate such as Aronix M-113, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate such as biscoat 193 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., and the like.

【0023】さらに、プロピレンオキサイド単位を有す
る化合物としては、メトキシジプロピレングリコール
(メタ)アクリレート、フェノキシジプロピレングリコ
ール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレング
リコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシプロ
ピレングリコール(メタ)アクリレート、トリプロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレートが挙げられる。ま
た、その市販品の具体例としては、大阪有機化学工業
(株)製ビスコート312、新中村化学工業(株)製N
Kエステル9PG、NKエステルAPG−400、NK
エステルAPG−700、東亜合成(株)社製アロニッ
クスM−270等のポリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、サートマー社製SR−604、日本
油脂(株)製ブレンマーPP−330、ブレンマーPP
−500、ブレンマーPP−800等のポリプロピレン
グリコールモノ(メタ)アクリレートなどが挙げられ
る。
Further, as the compound having a propylene oxide unit, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, phenoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypropylene glycol (meth) acrylate, Examples include tripropylene glycol di (meth) acrylate. Specific examples of the commercially available products include Viscoat 312 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. and N manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
K ester 9PG, NK ester APG-400, NK
Ester APG-700, polypropylene glycol di (meth) acrylates such as Aronix M-270 manufactured by Toagosei Co., Ltd., SR-604 manufactured by Sartomer, Bremmer PP-330 manufactured by NOF CORPORATION, Bremmer PP.
Examples include polypropylene glycol mono (meth) acrylates such as -500 and Bremmer PP-800.

【0024】上記一般式(3)で示される化合物の具体
例としては、大阪有機化学工業(株)製ビスコート36
0、化薬サートマー社製CD−499、CD−502、
SR−454、共栄社化学(株)製ライトアクリレート
TMP−3EO−A、ライトアクリレートTMP−6E
O−3A、東亜合成(株)社製アロニックスM−35
0、アロニックスM−360、日本化薬(株)製KAY
ARAD THE−330等のポリエチレンオキサイド
変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート
や、化薬サートマー社製SR−492、サンノプコ社製
フォトマー4072、東亜合成(株)社製アロニックス
M−310、アロニックスM−320、日本化薬(株)
製KAYARAD TPA−310、KAYARAD
TPA−320、KAYARAD TPA−330等の
ポリプロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (3) include VISCOAT 36 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
0, Kayaku Sartomer's CD-499, CD-502,
SR-454, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate TMP-3EO-A, light acrylate TMP-6E
O-3A, Aronix M-35 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
0, Aronix M-360, KAY manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
Polyethylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate such as ARAD THE-330, SR-492 manufactured by Kayaku Sertomer Co., Photomer 4072 manufactured by San Nopco, Aronix M-310 manufactured by Toagosei Co., Ltd., and Aronix M-320. , Nippon Kayaku Co., Ltd.
KAYARAD TPA-310, KAYARAD
Examples include polypropylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate such as TPA-320 and KAYARAD TPA-330.

【0025】上記一般式(4)で示される化合物の具体
例としては、大阪有機化学工業(株)製ビスコート70
0、化薬サートマー社製SR−349、SR−348、
共栄社化学(株)製ライトアクリレートBP−4EA、
ライトエステルBP−2EM、新中村化学工業(株)製
NKエステルA−BPE−4、NKエステルBPE−1
00、NKエステルBPE−200、NKエステルBP
E−500、NKエステルBPE−1300、東亜合成
(株)社製アロニックスM−210、日本化薬(株)製
KAYARAD R−551等のポリエチレンオキサイ
ド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、共栄
社化学(株)製ライトアクリレートBP−4PA、サン
ノプコ社製フォトマー4020等のポリプロピレンオキ
サイド変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、
日本化薬(株)製KAYARADR−712等のポリエ
チレンオキサイド変性ビスフェノールFジ(メタ)アク
リレートなどが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (4) include VISCOAT 70 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
0, Kayaku Sartomer SR-349, SR-348,
Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate BP-4EA,
Light ester BP-2EM, NK ester A-BPE-4, NK ester BPE-1 manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.
00, NK ester BPE-200, NK ester BP
E-500, NK ester BPE-1300, Toon Gosei Co., Ltd. Aronix M-210, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD R-551, and other polyethylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. ) Light acrylate BP-4PA manufactured by Sannopco Ltd., polypropylene oxide-modified bisphenol A di (meth) acrylate such as Photon 4020 manufactured by San Nopco,
Examples include polyethylene oxide-modified bisphenol F di (meth) acrylate such as KAYARADR-712 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

【0026】上記一般式(5)で示される化合物の具体
例としては、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メ
タ)アクリレート、グリセリンメタクリレートアクリレ
ート、2−ヒドロキシー3−フェノキシプロピル(メ
タ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート
等の水酸基含有(メタ)アクリレート化合物が挙げられ
る。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (5) include 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
Hydroxy group-containing (meth) acrylate such as hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, glycerin methacrylate acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, and glycerol (meth) acrylate. ) Acrylate compounds are mentioned.

【0027】上記一般式(6)で示される化合物の具体
例としては、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)ア
クリレート等が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (6) include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate and N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate.

【0028】上記一般式(7)で示される化合物の具体
例としては、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニ
ルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチル
ビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、2−エチ
ルヘキシルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、
オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエ
ーテル、アリルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチル
ビニルエーテル、2−ヒドロキシブチルビニルエーテ
ル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、9−ヒドロ
キシノニルビニルエーテル、4−ヒドロキシシクロヘキ
シルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノ
ビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエー
テル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テ
トラエチレングリコールモノビニルエーテル、ペンタエ
チレングリコールモノビニルエーテル、ヘキサエチレン
グリコールモノビニルエーテルなどが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (7) include ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether,
Octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, allyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 9-hydroxynonyl vinyl ether, 4-hydroxycyclohexyl vinyl ether, cyclohexanedimethanol monovinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, tri Examples thereof include ethylene glycol monovinyl ether, tetraethylene glycol monovinyl ether, pentaethylene glycol monovinyl ether, and hexaethylene glycol monovinyl ether.

【0029】上記一般式(8)で示される化合物の具体
例としては、エチレングリコールジビニルエーテル、ジ
エチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレング
リコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコー
ル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、プロピレ
ングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコー
ルジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニ
ルエーテル、1,4−ブタンジオールジビニルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールジビニルエーテル、グリ
セロールジビニルエーテル、1,9−ノナンジオールジ
ビニルエーテル、1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン
ジビニルエーテル、1,4−ジヒドロキシメチルシクロ
ヘキサンジビニルエーテル、ポリエチレンオキサイド変
性ビスフェノールAジビニルエーテルなどが挙げられ
る。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (8) include ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol, pentaerythritol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether and dipropylene. Glycol divinyl ether, tripropylene glycol divinyl ether, 1,4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, glycerol divinyl ether, 1,9-nonanediol divinyl ether, 1,4-dihydroxycyclohexanedivinyl ether, 1,4-dihydroxymethylcyclohexane divinyl ether, polyethylene oxide modified bisphenol A di Vinyl ether and the like.

【0030】上記一般式(9)で示される化合物の具体
例としては、トリメチロールプロパントリビニルエーテ
ル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタ
エリスリトールテトラビニルエーテルが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the above general formula (9) include trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol trivinyl ether and pentaerythritol tetravinyl ether.

【0031】本発明における単量体(A)以外の多官能
(メタ)アクリレート化合物(B)の(メタ)アクリロ
イル基の数は2個以上、好ましくは2〜9個、特に好ま
しくは3〜6個である。単官能の(メタ)アクリレート
化合物は反応性が低いため、高酸素雰囲気下で十分な硬
化皮膜が得られない。また、(メタ)アクリロイル基の
数は、多いほど反応性が高くなり、高酸素雰囲気下でも
良好な硬化皮膜が得られる反面、化合物の粘度が高くな
る傾向に有り、組成物中の配合量や塗装方法において制
約を受ける場合が有るため、特に3〜6個の範囲が好ま
しい。但し、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、アミ
ド結合、ウレタン結合などの極性基を有する場合は(メ
タ)アクリロイル基数が2個であっても好適に使用でき
る。
The number of (meth) acryloyl groups in the polyfunctional (meth) acrylate compound (B) other than the monomer (A) in the present invention is 2 or more, preferably 2 to 9, and particularly preferably 3 to 6. It is an individual. Since the monofunctional (meth) acrylate compound has low reactivity, a sufficient cured film cannot be obtained in a high oxygen atmosphere. Further, the larger the number of (meth) acryloyl groups, the higher the reactivity becomes, and although a good cured film can be obtained even in a high oxygen atmosphere, the viscosity of the compound tends to increase, and the compounding amount in the composition or Since there are cases where there are restrictions on the coating method, the range of 3 to 6 is particularly preferable. However, when it has a polar group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide bond or a urethane bond, it can be preferably used even if the number of (meth) acryloyl groups is two.

【0032】多官能(メタ)アクリレート化合物(B)
の具体例としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アク
リレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレー
ト、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテト
ラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレ
ート、ウレタン(メタ)アクリレート、エステル(メ
タ)アクリレートなどが挙げられる。
Polyfunctional (meth) acrylate compound (B)
Specific examples of 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate
Acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethylene oxide modified Examples thereof include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate and ester (meth) acrylate.

【0033】エポキシ(メタ)アクリレートは、エポキ
シ化合物とカルボキシル基を有する(メタ)アクリル系
化合物とを反応させて得られる化合物である。エポキシ
化合物としては、ビスフェノール型エポキシ化合物、フ
ェノールノボラック型エポキシ化合物、脂肪族系エポキ
シ化合物などがある。ビスフェノール型エポキシ化合物
の具体例としては、油化シェルエポキシ(株)製のエピ
コート801、エピコート807、エピコート808、
エピコート815、エピコート816、エピコート81
9、エピコート828、エピコート834、エピコート
1001、エピコート4010P、チバガイギー(株)
製のアラルダイトGY−257、アラルダイトGY−2
52、アラルダイトGY−250、アラルダイトGY−
260、アラルダイドGY−280、ダウケミカル日本
(株)製のD.E.R.324、D.E.R.331、
D.E.R.332、D.E.R.334、D.E.
R.335、D.E.R.336、D.E.R.33
7、D.E.R.353J、D.E.R.732、D.
E.R.736等が挙げられる。
Epoxy (meth) acrylate is a compound obtained by reacting an epoxy compound with a (meth) acrylic compound having a carboxyl group. Examples of the epoxy compound include a bisphenol type epoxy compound, a phenol novolac type epoxy compound, and an aliphatic epoxy compound. Specific examples of the bisphenol type epoxy compound include Epicoat 801, Epicoat 807, Epicoat 808 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
Epicoat 815, Epicoat 816, Epicoat 81
9, Epicoat 828, Epicoat 834, Epicoat 1001, Epicoat 4010P, Ciba Geigy Corporation
Made Araldite GY-257, Araldite GY-2
52, Araldite GY-250, Araldite GY-
260, Araldite GY-280, D.C. E. R. 324, D.I. E. R. 331,
D. E. R. 332, D.I. E. R. 334, D.I. E.
R. 335, D.I. E. R. 336, D.I. E. R. 33
7, D.I. E. R. 353J, D.I. E. R. 732, D.I.
E. R. 736 and the like.

【0034】また、脂肪族系エポキシ化合物の具体例と
しては、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンポリグリシジルエーテル、ジグリセロール
ポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシ
ジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、
エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコ
ールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール
ジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
Specific examples of the aliphatic epoxy compound include neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether,
Dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether,
Examples thereof include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether and polypropylene glycol diglycidyl ether.

【0035】カルボキシル基を有する(メタ)アクリル
系化合物としては、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)
アクリロイロキシエチルこはく酸、2−(メタ)アクリ
ロイロキシプロピルこはく酸、3−(メタ)アクリロイ
ロキシプロピルこはく酸、4−(メタ)アクリロイロキ
シブチルこはく酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチ
ルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルフ
タル酸、3−(メタ)アクリロイロキシプロピルフタル
酸、4−(メタ)アクリロイロキシブチルフタル酸、2
−(メタ)アクリロイロキシエチルマレイン酸、2−
(メタ)アクリロイロキシプロピルマレイン酸、3−
(メタ)アクリロイロキシプロピルマレイン酸、4−
(メタ)アクリロイロキシブチルマレイン酸、2−(メ
タ)アクリロイロキシエチルテトラヒドロフタル酸、2
−(メタ)アクリロイロキシプロピルテトラヒドロフタ
ル酸、3−(メタ)アクリロイロキシプロピルテトラヒ
ドロフタル酸、4−(メタ)アクリロイロキシブチルテ
トラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエ
チルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロ
キシプロピルヘキサヒドロフタル酸、3−(メタ)アク
リロイロキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、4−(メ
タ)アクリロイロキシブチルヘキサヒドロフタル酸等が
挙げられる。
Examples of the (meth) acrylic compound having a carboxyl group include (meth) acrylic acid and 2- (meth) acrylic acid.
Acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl succinic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl succinic acid, 4- (meth) acryloyloxybutyl succinic acid, 2- (meth) acryloyl Roxyethylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 3- (meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 4- (meth) acryloyloxybutylphthalic acid, 2
-(Meth) acryloyloxyethyl maleic acid, 2-
(Meth) acryloyloxypropyl maleic acid, 3-
(Meth) acryloyloxypropyl maleic acid, 4-
(Meth) acryloyloxybutyl maleic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl tetrahydrophthalic acid, 2
-(Meth) acryloyloxypropyl tetrahydrophthalic acid, 3- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrophthalic acid, 4- (meth) acryloyloxybutyl tetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid Acid, 2- (meth) acryloyloxypropylhexahydrophthalic acid, 3- (meth) acryloyloxypropylhexahydrophthalic acid, 4- (meth) acryloyloxybutylhexahydrophthalic acid and the like can be mentioned.

【0036】ウレタン(メタ)アクリレートは、ポリイ
ソシアネート化合物、ポリオール化合物、水酸基含有
(メタ)アクリレート化合物を常法によってウレタン化
反応させることにより、あるいはポリイソシアネート化
合物と水酸基含有(メタ)アクリレート化合物をウレタ
ン化反応させることによって得られる化合物である。ポ
リイソシアネート化合物としては、イソホロンジイソシ
アネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、
2,6−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレン
ジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネー
ト、1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナ
フタレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジ
イソシアネート、水添キシリレンジイソシアネートなど
のジイソシアネート化合物、上記のような各種ジイソシ
アネート化合物と水との反応から得られるビュレット型
ポリイソシアネート化合物、トリメチロールプロパンの
ような低分子ポリオールと上記のジイソシアネート化合
物を反応させて得られるアダクト型ポリイソシアネート
化合物、上記のようなジイソシアネート化合をイソシア
ヌレート化して得られるポリイソシアネート化合物など
が挙げられる。
The urethane (meth) acrylate is obtained by subjecting a polyisocyanate compound, a polyol compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound to a urethane reaction by a conventional method, or a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound. It is a compound obtained by reacting. Examples of the polyisocyanate compound include isophorone diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate,
2,6-tolylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, etc. Diisocyanate compound, a burette type polyisocyanate compound obtained from the reaction of various diisocyanate compounds as described above with water, an adduct type polyisocyanate compound obtained by reacting a low molecular polyol such as trimethylolpropane with the above diisocyanate compound, Examples thereof include polyisocyanate compounds obtained by converting the above-mentioned diisocyanate compound to isocyanurate.

【0037】ポリオール化合物としては、エチレングリ
コール、ジエチレングリコール、1,2−プロピレング
リコール、1,3−プロピレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3−ブタ
ンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、シクロヘキサン
ジメタノール、1,4−シクロヘキサンジオール、トリ
メチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリ
ン、水添ビスフェノールAなどが挙げられる。
As the polyol compound, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1 , 6-hexanediol, 1,9-nonanediol, cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclohexanediol, trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerin, hydrogenated bisphenol A and the like.

【0038】さらに、上記ポリオール化合物と下記のカ
ルボン酸類またはそれらの酸無水物類とをエステル化さ
せて得られるポリエステルポリオール化合物も使用でき
る。カルボン酸類としては、マレイン酸、イタコン酸、
フマル酸、アジピン酸、コハク酸、テトラヒドロフタル
酸、ハイミック酸、ダイマー酸、セバチン酸、アゼライ
ン酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ヘキサヒドロフ
タル酸、ピロメリット酸、またはこれらの酸無水物など
が挙げられる。
Further, a polyester polyol compound obtained by esterifying the above-mentioned polyol compound with the following carboxylic acids or their acid anhydrides can also be used. As the carboxylic acids, maleic acid, itaconic acid,
Examples include fumaric acid, adipic acid, succinic acid, tetrahydrophthalic acid, hymic acid, dimer acid, sebacic acid, azelaic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, and their acid anhydrides. To be

【0039】また、水酸基含有の(メタ)アクリレート
化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、グリシジルメタクリレート
の(メタ)アクリル酸付加物などが挙げられる。エステ
ル(メタ)アクリレートは,上記ポリエステルポリオー
ル化合物と(メタ)アクリル酸とをエステル化反応して
得られる化合物である。
As the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2
-Hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, glycidyl methacrylate (meth) acrylic acid addition The thing etc. are mentioned. Ester (meth) acrylate is a compound obtained by esterifying the polyester polyol compound and (meth) acrylic acid.

【0040】本発明においてアミンまたは3価リン化合
物(C)は、皮膜表面の硬化阻害の原因となる酸素ラジ
カルと反応し、その濃度を低減させる目的で配合され
る。アミンとしてはトリメチルアミン、トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオク
チルアミン、トリラウリルアミン、ジメチルオクチルア
ミン、ジメチルステアリルアミン、ペンタメチルジエチ
ルテトラミン、テトラメチルジアミノヘキサミン、トリ
エタノールアミン、N−メチル−N,N−ジエタノール
アミン、ブチルジエタノールアミン、ジメチルアミノプ
ロパノール、N,N−ジメチルエタノールアミン、N,
N−ジエチルエタノールアミン、N,N−ジブチルエタ
ノールアミン、ジメチルベンジルアミン、N−メチル−
3−ピペリジンメタノール、ジピペリジノメタン、N−
メチルモルホリン、テトラメチルエチレンジアミンなど
の3級アミン、N−メチルエタノールアミン、ジイソプ
ロピルアミン、ジエチルアミン、モルホリン、ジー2−
エチルヘキシルアミン、ジエタノールアミン、N−メチ
ルピペラジンなどの2級アミン、アミノエチルエタノー
ルアミン、3−アミノー1−プロパノール、イソプロピ
ルアミン、モノエチルアミン、2−エチルヘキシルアミ
ン、t−ブチルアミンなどの1級アミンが挙げられる。
In the present invention, the amine or trivalent phosphorus compound (C) is blended for the purpose of reacting with oxygen radicals which cause the inhibition of curing of the film surface and reducing the concentration thereof. Examples of the amine include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, trihexylamine, trioctylamine, trilaurylamine, dimethyloctylamine, dimethylstearylamine, pentamethyldiethyltetramine, tetramethyldiaminohexamine, triethanolamine, N-methyl-N, N-diethanolamine, butyldiethanolamine, dimethylaminopropanol, N, N-dimethylethanolamine, N,
N-diethylethanolamine, N, N-dibutylethanolamine, dimethylbenzylamine, N-methyl-
3-piperidinemethanol, dipiperidinomethane, N-
Tertiary amines such as methylmorpholine and tetramethylethylenediamine, N-methylethanolamine, diisopropylamine, diethylamine, morpholine, di2-
Secondary amines such as ethylhexylamine, diethanolamine and N-methylpiperazine, and primary amines such as aminoethylethanolamine, 3-amino-1-propanol, isopropylamine, monoethylamine, 2-ethylhexylamine and t-butylamine can be mentioned.

【0041】また、3価リン化合物にはホスフィン類と
亜リン酸エステル類があり、ホスフィン類の代表例とし
てはトリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、
トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィ
ン、トリベンジルホスフィン、トリトリルホスフィン、
p−スチリルジフェニルホスフィンなどが挙げられ、亜
リン酸エステル類の代表例としてはトリフェニルホスフ
ァイト、トリ−p−(ノニルフェニル)ホスファイト、
トリ−p−トリルホスファイト、ジフェニルデシルホス
ファイト、モノフェニルジデシルホスファイトなどが挙
げられる。アミンまたは3価リン化合物(C)は上記化
合物の中から一種類または必要に応じて複数を組み合わ
せて使用できる。
The trivalent phosphorus compounds include phosphines and phosphites. Typical examples of phosphines are tributylphosphine, trioctylphosphine,
Tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine, tribenzylphosphine, tritolylphosphine,
p-styryldiphenylphosphine and the like, and typical examples of the phosphite ester are triphenylphosphite, tri-p- (nonylphenyl) phosphite,
Tri-p-tolyl phosphite, diphenyl decyl phosphite, monophenyl didecyl phosphite, etc. are mentioned. The amine or trivalent phosphorus compound (C) can be used alone or in combination of two or more as necessary from the above compounds.

【0042】硬化性組成物中の単量体(A)と多官能
(メタ)アクリレート化合物(B)との配合比は、単量
体(A):多官能(メタ)アクリレート化合物(B)=
10:90〜90:10(重量比)、さらには30:7
0〜70:30(重量比)であることが好ましい。単量
体(A)の配合比が上記範囲より少ないと期待される粘
度低下効果が低く、上記範囲を越えると組成物中の官能
基数が不足して、十分な硬化性が得られ難い。
The compounding ratio of the monomer (A) and the polyfunctional (meth) acrylate compound (B) in the curable composition is as follows: monomer (A): polyfunctional (meth) acrylate compound (B) =
10:90 to 90:10 (weight ratio), and further 30: 7
It is preferably 0 to 70:30 (weight ratio). When the compounding ratio of the monomer (A) is less than the above range, the expected viscosity lowering effect is low, and when it exceeds the above range, the number of functional groups in the composition is insufficient, and it is difficult to obtain sufficient curability.

【0043】また、硬化性組成物中のアミンまたは3価
リン化合物(C)の含有量は、単量体(A)と多官能
(メタ)アクリレート化合物(B)の合計100重量部
に対して0.1〜5重量部、さらには0.3〜3重量部
であることが好ましい。含有量が0.1重量部未満では
酸素による硬化阻害の抑制効果が低く、5重量部を越え
ると、未反応のアミンまたはリン化合物が増加して、皮
膜硬度を低下させる。
The content of the amine or trivalent phosphorus compound (C) in the curable composition is 100 parts by weight based on the total of 100 parts by weight of the monomer (A) and the polyfunctional (meth) acrylate compound (B). It is preferably 0.1 to 5 parts by weight, more preferably 0.3 to 3 parts by weight. When the content is less than 0.1 parts by weight, the effect of suppressing curing inhibition by oxygen is low, and when it exceeds 5 parts by weight, unreacted amine or phosphorus compound increases and the film hardness decreases.

【0044】硬化性組成物は、上記化合物を配合した状
態で液状であればよいが、組成物を容易かつ平滑に塗工
するには、配合状態での粘度が100〜10000cp
s(25℃) であることが好ましい。ここで言う液状
には、二種類以上の化合物が完全に相溶して液状になっ
ているものだけでなく、液状化合物に粉状化合物が分散
している不均一系も含まれる。硬化性組成物には、混合
時に液状であれば、任意の化合物を使用することができ
るが、作業環境や安全性の面からそれぞれ液状であり、
引火点が70〜300℃(危険物第4類第3石油類、第
4石油類)の臭気の少ないものを選ぶのが好ましい。
The curable composition may be in a liquid state when the above compound is blended, but in order to apply the composition easily and smoothly, the viscosity in the blended state is 100 to 10,000 cp.
It is preferably s (25 ° C.). The liquid state here includes not only a liquid state in which two or more kinds of compounds are completely compatible with each other, but also a heterogeneous system in which a powdery compound is dispersed in a liquid compound. In the curable composition, any compound can be used as long as it is liquid at the time of mixing, but it is liquid from the viewpoint of working environment and safety,
It is preferable to select a substance having a flash point of 70 to 300 ° C. (hazardous substance, fourth class, third class petroleum, fourth class petroleum) and having a small odor.

【0045】硬化性組成物中には、種々の目的のため、
各種添加成分を加えることができる。例えば、硬化物性
向上、粘度調節あるいはコストダウンのためにフィラ
ー、希釈剤あるいは樹脂成分を加えたり、付加価値を与
えるために抗菌剤、防黴剤あるいは防腐剤等を添加した
り、着色するために顔料を添加することができる。さら
に意匠性向上を目的として、硅素系微粒子および有機系
微粒子などの艶消し剤を添加することができる。また、
粘度低下のため、有機溶剤を添加することができる。有
機溶剤としては、イソプロピルアルコール、メチルエチ
ルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル等が挙げら
れる。
In the curable composition, for various purposes,
Various additive components can be added. For example, to add a filler, a diluent or a resin component to improve the cured properties, to adjust the viscosity or to reduce the cost, to add an antibacterial agent, a fungicide or an antiseptic agent to give added value, or to add a color. Pigments can be added. Further, a matting agent such as silicon fine particles and organic fine particles can be added for the purpose of improving the design. Also,
An organic solvent can be added to reduce the viscosity. Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, ethyl acetate and the like.

【0046】単量体(A)、単量体(A)以外の多官能
(メタ)アクリレート化合物(B)、および上記一般式
(6)で示される化合物以外のアミンまたは3価リン化
合物(C)を含む硬化性組成物は、各種鋼板、アルミニ
ウム板等の金属板、プラスチックフィルム、紙、プラス
チックフィルムラミネート紙等の基材に、ロールコータ
ー、ナイフコーターなどの塗工方法、またはオフセット
印刷、グラビア印刷、凸版印刷、シルクスクリーン印刷
などの印刷方法で、0.1〜500μmの膜厚で造膜ま
たは充填し、500ppm以上の酸素濃度下において電
子線を照射することにより、硬化皮膜を形成することが
できる。なお、500ppm以上の酸素濃度とは、窒素
やアルゴンなどの不活性ガスによるイナーティングを行
うことにより達成された濃度範囲も含む。
The monomer (A), the polyfunctional (meth) acrylate compound (B) other than the monomer (A), and the amine or trivalent phosphorus compound (C) other than the compound represented by the general formula (6). A curable composition containing a) is applied to a base material such as various steel plates, metal plates such as aluminum plates, plastic films, paper, plastic film laminated paper, etc. by a roll coater, knife coater, etc., or offset printing, gravure coating. Forming or filling a film with a film thickness of 0.1 to 500 μm by a printing method such as printing, letterpress printing, silk screen printing, and irradiating with an electron beam under an oxygen concentration of 500 ppm or more to form a cured film. You can The oxygen concentration of 500 ppm or more also includes the concentration range achieved by performing inerting with an inert gas such as nitrogen or argon.

【0047】電子線照射の加速電圧は、30〜250k
Vの範囲に設定することにより硬化皮膜の形成が可能で
あるが、より低い被照射線量で同等な硬化性が得られる
30〜100kVに設定するのが好ましい。30〜10
0kVの電子線を照射することにより、硬化阻害を生じ
やすい塗工/印刷表面に電子線が集中し、硬化性を向上
させることができる。よって、高酸素濃度下での高硬化
性を得るためには30〜100kVの加速電圧の電子線
を照射することが好ましい。
The acceleration voltage of electron beam irradiation is 30 to 250 k.
Although a cured film can be formed by setting it in the range of V, it is preferable to set it in the range of 30 to 100 kV so that the same curability can be obtained at a lower irradiation dose. 30 to 10
By irradiating with an electron beam of 0 kV, the electron beam concentrates on the coating / printing surface where curing inhibition is likely to occur, and the curability can be improved. Therefore, in order to obtain high curability under high oxygen concentration, it is preferable to irradiate with an electron beam with an acceleration voltage of 30 to 100 kV.

【0048】また、電子線の加速電圧を30〜100k
Vの範囲に設定した場合には、電子線の被照射線量を通
常より低い値とし、高エネルギー効率による省エネルギ
ー化と、塗工および印刷の高速化による生産効率向上と
を図ることも可能である。加速電圧が100〜250k
Vの通常の電子線照射では、3〜30kGyの被照射線
量領域で上記硬化性組成物を500ppm以上の酸素濃
度下において硬化させることができるが、加速電圧を3
0〜100kVの範囲に設定すれば、被照射線量を3分
の1である1〜10kGyに抑えて同様な硬化性が得ら
れる。
Further, the acceleration voltage of the electron beam is set to 30 to 100 k.
When it is set in the range of V, it is possible to set the irradiation dose of the electron beam to a value lower than usual and to achieve energy saving by high energy efficiency and improvement of production efficiency by speeding up coating and printing. . Accelerating voltage is 100 ~ 250k
In the ordinary electron beam irradiation of V, the curable composition can be cured under an oxygen concentration of 500 ppm or more in the irradiation dose region of 3 to 30 kGy, but the accelerating voltage is 3
When the range is set to 0 to 100 kV, the irradiation dose is suppressed to 1 to 10 kGy, which is one-third, and similar curability is obtained.

【0049】[0049]

【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。な
お、表面タックおよび表面硬度の評価は、下記の方法で
行った。 (1)表面タック:ガラス板上に、硬化性組成物を硬化
後の膜厚が5μmになるように塗布した後、日新ハイボ
ルテージ(株)製の「キュアトロン」EBC−200−
20−30およびAIT社製Min−EBを用いて電子
線照射を行い、硬化皮膜の表面タックを評価した。「キ
ュアトロン」は加速電圧150kV、被照射線量5およ
び20kGyで行い、Min−EBは加速電圧50k
V、被照射線量2および5kGyで行った。また、照射
雰囲気の酸素濃度は、窒素ガスを用いて500、500
0、50000、200000ppmに調整した。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention thereto. The surface tack and surface hardness were evaluated by the following methods. (1) Surface tack: A curable composition was applied on a glass plate so that the film thickness after curing was 5 μm, and then “Curetron” EBC-200-manufactured by Nisshin High Voltage Co., Ltd.
20-30 and Min-EB manufactured by AIT were used to perform electron beam irradiation, and the surface tack of the cured film was evaluated. "Curetron" is performed at an accelerating voltage of 150 kV, irradiation dose of 5 and 20 kGy, and Min-EB is at an accelerating voltage of 50 k
V, irradiation dose 2 and 5 kGy. The oxygen concentration in the irradiation atmosphere is 500, 500 using nitrogen gas.
It was adjusted to 0, 50,000 and 200,000 ppm.

【0050】(2)表面硬度:(1)表面タックと同様
の条件で電子線を照射した後、鉛筆(三菱鉛筆(株)製
の「ユニ」)により、塗膜が破損しない最高の鉛筆硬度
を測定した。
(2) Surface hardness: (1) Maximum pencil hardness at which the coating film is not damaged by a pencil ("Uni" manufactured by Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) after being irradiated with an electron beam under the same conditions as the surface tack. Was measured.

【0051】また、実施例および比較例中で用いられる
略号を以下に示す。 UA−306H:共栄社化学(株)製ウレタンアクリレ
ート MDA:N−メチル−N,N−ジエタノールアミン TMP−3EO−A:共栄社化学(株)製ライトアクリ
レートTMP−3EO−A、ポリエチレンオキサイド変
性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート A−BPE−4:新中村化学工業(株)製NKエステル
A−BPE−4、ポリエチレンオキサイド変性ビスフェ
ノールAジアクリレート M−9050:東亜合成(株)製、ポリエステルアクリ
レート R−167:日本化薬(株)製、1,6−ヘキサンジオ
ールジグリシジルエー テルジアクリレート DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
The abbreviations used in Examples and Comparative Examples are shown below. UA-306H: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. urethane acrylate MDA: N-methyl-N, N-diethanolamine TMP-3EO-A: Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light acrylate TMP-3EO-A, polyethylene oxide modified trimethylolpropane tri (Meth) acrylate A-BPE-4: NK ester A-BPE-4 manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., polyethylene oxide modified bisphenol A diacrylate M-9050: manufactured by Toagosei Co., Ltd., polyester acrylate R-167: Nippon Kayaku Co., Ltd., 1,6-hexanediol diglycidyl ether terdiacrylate DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate

【0052】(実施例1〜9、比較例1〜3)表1、2
に示す割合で各成分(数字は重量%を示す)を混合し、
硬化性組成物を得た。次いで、表面タックと表面硬度を
評価した。結果を表1、2に示す。
(Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3) Tables 1 and 2
Mix each component (numbers show weight%) in the ratio shown in
A curable composition was obtained. Then, the surface tack and the surface hardness were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.

【0053】[0053]

【表1】 [Table 1]

【0054】[0054]

【表2】 [Table 2]

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明により、高酸素雰囲気下でも硬化
性が高く、かつ表面硬度の高い硬化皮膜が得られるよう
になった。
According to the present invention, a cured film having high curability and high surface hardness can be obtained even in a high oxygen atmosphere.

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08F 290/06 C08F 290/06 Fターム(参考) 4J027 AB03 AC02 AC03 AC04 AC06 AC07 AE02 AE03 AE04 AG01 AG03 AG12 AG13 AG14 AG15 AG23 AG24 AG27 AJ02 AJ08 AJ09 BA02 BA07 BA08 BA13 BA17 BA20 BA21 BA23 BA24 BA26 BA27 CA25 CA27 CC06 CD08 4J038 CE051 CG141 CH021 CH051 CH061 CH071 CH121 CH141 CH161 CH201 DB371 DD211 DG211 GA09 JB03 JB09 PA17 4J039 AD06 AD09 AD10 BC20 BC34 BC49 BC56 BE33 CA02 EA04 FA01 FA02 FA04 GA16 Front page continuation (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // C08F 290/06 C08F 290/06 F term (reference) 4J027 AB03 AC02 AC03 AC04 AC06 AC07 AE02 AE03 AE04 AG01 AG03 AG12 AG13 AG14 AG15 AG23 AG24 AG27 AJ02 AJ08 AJ09 BA02 BA07 BA08 BA13 BA17 BA20 BA21 BA23 BA24 BA26 BA27 CA25 CA27 CC06 CD08 4J038 CE051 CG141 CH021 CH051 CH061 CH071 CH121 CH141 CH161 CH201 DB371 DD211 DG211 GA09 JB03 AD10 AD34 AD09 4 EA04 FA01 FA02 FA04 GA16

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記一般式(1)〜(9)で示される化合
物から選ばれる少なくとも1種の単量体(A)、単量体
(A)以外の多官能(メタ)アクリレート化合物
(B)、および下記一般式(6)で示される化合物以外
のアミンまたは3価リン化合物(C)を含む硬化性組成
物に、500ppm以上の酸素濃度下において電子線を
照射することを特徴とする硬化皮膜の形成方法。 【化1】 (式中、R1は水素原子またはメチル基であり、nは0
〜2の整数である。) 【化2】 (式中、R1は水素原子またはメチル基であり、R2は
水素原子、炭素数が1〜8のアルキル基、フェニル基、
ノニルフェニル基、または(メタ)アクリロイル基であ
る。また、nは1〜23の整数である。) 【化3】 (式中、R1は水素原子またはメチル基である。また、
l、m、nは0〜6の整数であり、l+m+nは1〜6
である。) 【化4】 (式中、R1は水素原子またはメチル基である。また、
m、nは0〜30の整数であり、m+nは1〜30であ
る。) 【化5】 (式中、nは1〜3の整数であり、R1は水素原子また
はメチル基である。また、R3は水素原子、メチル基、
エチル基、メチロール基、フェノキシメチル基、または
(メタ)アクリロイルオキシメチル基である。) 【化6】 (式中、R1は水素原子またはメチル基であり、R4は
メチル基またはエチル基である。) 【化7】 (式中、R5は炭素数が2〜18のアルキル基、炭素数
が2〜9のヒドロキシアルキル基、シクロヘキシル基、
または一般式(7a)〜(7d)で示される有機残基で
ある。また、一般式(7a)中、nは2〜6の整数、R
1は水素原子またはメチル基である。) 【化8】 (式中、R6は一般式(8a)〜(8e)で示される有
機残基である。また、一般式(8a)中、nは4〜9の
整数である。また、一般式(8b)中、nは2〜6の整
数、R1は水素原子またはメチル基である。また、一般
式(8e)中、R1は水素原子またはメチル基である。
また、m、nは0〜6の整数であり、m+nは0〜6で
ある。) 【化9】 (式中、R7はメチロール基、エチル基、またはビニロ
キシメチル基である。)
1. At least one monomer (A) selected from compounds represented by the following general formulas (1) to (9) and a polyfunctional (meth) acrylate compound (B other than the monomer (A). ), And a curable composition containing an amine other than the compound represented by the following general formula (6) or a trivalent phosphorus compound (C) is irradiated with an electron beam under an oxygen concentration of 500 ppm or more. Method of forming a film. [Chemical 1] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and n is 0.
Is an integer of ˜2. ) [Chemical 2] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, R2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenyl group,
It is a nonylphenyl group or a (meth) acryloyl group. In addition, n is an integer of 1 to 23. ) [Chemical 3] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group.
l, m, and n are integers of 0 to 6, and l + m + n is 1 to 6.
Is. ) [Chemical 4] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group.
m and n are integers of 0 to 30, and m + n is 1 to 30. ) [Chemical 5] (In the formula, n is an integer of 1 to 3, R 1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 is a hydrogen atom, a methyl group,
It is an ethyl group, a methylol group, a phenoxymethyl group, or a (meth) acryloyloxymethyl group. ) [Chemical 6] (In the formula, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and R4 is a methyl group or an ethyl group.) (In the formula, R5 is an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 2 to 9 carbon atoms, a cyclohexyl group,
Alternatively, it is an organic residue represented by any of the general formulas (7a) to (7d). Further, in the general formula (7a), n is an integer of 2 to 6, R
1 is a hydrogen atom or a methyl group. ) [Chemical 8] (In the formula, R6 is an organic residue represented by the general formulas (8a) to (8e). In the general formula (8a), n is an integer of 4 to 9. Further, the general formula (8b). In the formula, n is an integer of 2 to 6, R1 is a hydrogen atom or a methyl group, and in the general formula (8e), R1 is a hydrogen atom or a methyl group.
Further, m and n are integers of 0 to 6, and m + n is 0 to 6. ) [Chemical 9] (In the formula, R7 is a methylol group, an ethyl group, or a vinyloxymethyl group.)
【請求項2】硬化性組成物中の単量体(A)と多官能
(メタ)アクリレート化合物(B)との配合比が10:
90〜90:10(重量比)であり、アミンまたは3価
リン化合物(C)の含有量が(A)と(B)の合計10
0重量部に対して0.1〜5重量部である請求項1記載
の硬化皮膜の形成方法。
2. The compounding ratio of the monomer (A) and the polyfunctional (meth) acrylate compound (B) in the curable composition is 10:
90 to 90:10 (weight ratio), and the total content of amine or trivalent phosphorus compound (C) is 10 (A) and (B).
The method for forming a cured film according to claim 1, wherein the amount is 0.1 to 5 parts by weight with respect to 0 parts by weight.
【請求項3】加速電圧30〜100kVの電子線を照射
する請求項1または2記載の硬化皮膜の形成方法。
3. The method for forming a cured film according to claim 1, wherein the electron beam having an accelerating voltage of 30 to 100 kV is irradiated.
【請求項4】電子線の被照射線量が1〜10kGyであ
る請求項3記載の硬化皮膜の形成方法。
4. The method for forming a cured film according to claim 3, wherein the irradiation dose of the electron beam is 1 to 10 kGy.
【請求項5】組成物がインキもしくは塗料用途である請
求項1ないし4いずれか記載の硬化皮膜の形成方法。
5. The method for forming a cured film according to claim 1, wherein the composition is used for ink or paint.
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