JP2000038217A - Wafer shifting device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はウェーハ移送装置に
関する。より詳しくは、ウェーハを一定のスロットおき
に移送するウェーハ移送装置に関するものである。The present invention relates to a wafer transfer device. More specifically, the present invention relates to a wafer transfer apparatus for transferring a wafer at regular intervals.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体製造プロセスにおいて、ウェーハ
は、例えば25枚を処理枚数の単位となる1ロット分と
してキャリアに収納される。このキャリアの内壁には溝
が複数段設けられ、この溝で複数段のスロットを形成
し、各スロットにウェーハが1枚ずつ水平に収納されて
いる。ウェーハはこのようなキャリアに収納されて保管
され、また各処理装置間を搬送される。2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, 25 wafers are stored in a carrier as one lot, which is a unit of the number of processed wafers. A plurality of grooves are provided on the inner wall of the carrier, and a plurality of slots are formed by the grooves, and one wafer is stored horizontally in each slot. Wafers are stored and stored in such carriers, and are transported between processing apparatuses.
【0003】キャリアに収納されたウェーハは各処理装
置において、ロボット等の搬送装置により取り出され処
理装置内に搬入される。この場合ロボットの搬送アーム
をキャリア内の各ウェーハ間に挿入してウェーハが1枚
ずつ取り出される。このような搬送アームによってウェ
ーハをキャリアから取り出す場合、このキャリア内のウ
ェーハとウェーハの間の狭い隙間に搬送アームを衝突さ
せずに出し入れすることが難しく、ウェーハのサイズが
大きくなると搬送アームはさらに奥まで挿入しなければ
ならずウェーハと接触するおそれが大きくなる。このた
め、ウェーハ間幅を広げて搬送アームが衝突しにくくす
るため、キャリア内にウェーハを一定のスロットおき
に、即ち1スロットまたは2スロットあるいは3スロッ
ト等またはそれ以上の1スロットの整数倍おきに収納す
る場合があった。[0003] In each processing apparatus, the wafer stored in the carrier is taken out by a transfer device such as a robot and carried into the processing apparatus. In this case, the transfer arm of the robot is inserted between the wafers in the carrier, and the wafers are taken out one by one. When a wafer is taken out of the carrier by such a transfer arm, it is difficult to move the transfer arm into and out of the narrow gap between the wafers in the carrier without colliding with the transfer arm. And the risk of contact with the wafer increases. For this reason, in order to increase the width between the wafers and make it difficult for the transfer arm to collide, the wafers are placed in the carrier at regular intervals, that is, every 1 slot, 2 slots, 3 slots, or an integer multiple of 1 slot or more. There was a case to store.
【0004】またウェーハ洗浄プロセスでウェーハを洗
浄する場合、ウェーハ間幅が広い方が洗浄液の流れが良
くなるので洗浄効果が高くなる。このため、洗浄プロセ
スにおいて、キャリア内にウェーハを上記と同様一定の
スロットおきに収納する場合があった。また、CVD等
のウェーハの成膜工程においてもウェーハ間幅が広い方
が反応ガスの流れが良くなるので成膜効果が高くなる。
従って、このような成膜工程においてもキャリア内にウ
ェーハを一定のスロットおきに収納する場合があった。When a wafer is cleaned in a wafer cleaning process, the larger the width between the wafers, the better the flow of the cleaning liquid, and the higher the cleaning effect. For this reason, in the cleaning process, the wafer may be stored in the carrier at regular intervals as described above. Also, in a wafer deposition process such as CVD, the wider the inter-wafer width, the better the flow of the reaction gas, and the higher the deposition effect.
Therefore, even in such a film forming process, the wafer may be stored in the carrier at regular intervals.
【0005】このようにウェーハを一定のスロットおき
にキャリアに収納するために、全スロットにウェーハが
収納されたキャリアからウェーハが一定のスロットおき
に別のキャリアに移送される。この場合、全スロットに
ウェーハが収納してあるキャリアからウェーハを受け入
れるキャリアに対してウェーハを一定のスロットおきに
水平に送り出し、受入側キャリア内に一定のスロットお
きにウェーハを収納する倍ピッチまたは3倍ピッチ、ま
たは4倍ピッチ等のウェーハ移送装置を用いていた。As described above, in order to store a wafer in a carrier every fixed slot, a wafer is transferred from a carrier in which a wafer is stored in all slots to another carrier every fixed slot. In this case, the wafer is sent out horizontally from the carrier in which the wafers are stored in all the slots to the carrier that receives the wafers at predetermined intervals, and the wafers are stored at regular intervals in the receiving carrier. A wafer transfer device having a double pitch or a quadruple pitch has been used.
【0006】図2(A)はこのような一定のスロットお
きにウェーハを移送する例として従来の倍ピッチウェー
ハ移送装置の概略斜視図を示し、(B)はその作用説明
図である。図示したように、基台31上にはキャリア3
2a、32bが対向配置して備わっている。このキャリ
ア32a、32bの内壁には溝41が複数段設けられ、
この溝41で複数段のスロットを形成し、各スロットに
ウェーハ33が1枚ずつ収納される。各キャリア32
a、32bは対向する前面側が開口してウェーハ出し入
れ用の開口部34を形成し、背面側にはウェーハ33を
スロットから押出すための押出し装置35の各アーム3
7が進入する進入口36が開口している。この進入口3
6の開口幅は、ウェーハ33が抜け出せないように狭
く、図示したように、キャリアの両側壁をテーパ状に狭
めたりあるいは適当な枠材でストッパを形成する。FIG. 2A is a schematic perspective view of a conventional double-pitch wafer transfer apparatus as an example of transferring a wafer at such a fixed slot, and FIG. 2B is an explanatory view of its operation. As shown, the carrier 3 is placed on the base 31.
2a and 32b are provided facing each other. A plurality of grooves 41 are provided on the inner walls of the carriers 32a and 32b,
A plurality of slots are formed by the grooves 41, and one wafer 33 is stored in each slot. Each carrier 32
Each of the arms 3a and 32b of an extruding device 35 for extruding a wafer 33 from a slot is formed on the back side thereof so as to form an opening 34 for taking in and out a wafer.
The entrance 36 into which the 7 enters is open. This entrance 3
The opening width of 6 is narrow so that the wafer 33 cannot come out. As shown in the figure, the both side walls of the carrier are tapered, or a stopper is formed by an appropriate frame material.
【0007】前記押出し装置35は基台31に備えてあ
り、一方の端部からは複数のアーム37が突出し、この
アーム37の先端に形成された当接部38がウェーハ3
3に当接してキャリアから押出す。各アーム37は2ス
ロット分の間隔で設けられ、アーム37間には隙間39
が形成される。従って、アーム37がキャリア内に進入
したとき、1スロットおきにウェーハ33が水平に押出
され、押出された1枚おきのウェーハの間のウェーハが
1枚おきにこの隙間39に収まる。The extruding device 35 is provided on the base 31. A plurality of arms 37 project from one end of the extruding device 35.
3 and extruded from the carrier. Each arm 37 is provided at an interval of two slots, and a gap 39 is provided between the arms 37.
Is formed. Therefore, when the arm 37 enters the carrier, the wafers 33 are horizontally pushed out every other slot, and every other wafer between every other pushed out wafers fits in the gap 39.
【0008】この場合、例えば押出し装置35によっ
て、送出側キャリア32aの上から1、3、5、…番目
の奇数段スロット中のウェーハを押出すと、これらのウ
ェーハは対向する受入側キャリア32bの同じ1、3、
5…番目の奇数段スロットに移送され、この送出側キャ
リア32a内には上から2、4、6、…番目の偶数段ス
ロット中のウェーハが残る。In this case, for example, by pushing out the wafers in the first, third, fifth,..., Odd-numbered slots from the top of the sending-side carrier 32 a by the pushing device 35, these wafers are moved to the opposite receiving-side carrier 32 b. Same 1, 3,
The wafers are transferred to the fifth-numbered odd-numbered slots, and the wafers in the second, fourth, sixth,...
【0009】また、前記押出し装置35の他方の端部に
は取っ手40が設けてあり、この取っ手40を操作する
ことにより押出し装置35のアーム37がキャリア内へ
進入する。A handle 40 is provided at the other end of the pushing device 35. By operating the handle 40, the arm 37 of the pushing device 35 enters the carrier.
【0010】このようにして、キャリア32aに複数枚
水平に収納されていたウェーハ33に対しキャリア32
a内に進入してきたアーム37の当接部38が当接し、
ウェーハを1スロットおきにキャリア32aから押出
し、対向するキャリア32b内へ移送して1スロットお
きに収納する。In this manner, a plurality of wafers 33 stored horizontally in the carrier 32a are
The contact portion 38 of the arm 37 that has entered the inside a contacts the
The wafer is extruded from the carrier 32a every other slot, transferred to the opposing carrier 32b, and stored every other slot.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来構造
の倍ピッチウェーハ移送装置では、ウェーハが収納され
た送出側キャリアの例えば奇数段スロット中のウェーハ
を他方の受入側キャリアへ移送すると、受入側キャリア
の奇数段スロットへ収納され、送出側キャリアには偶数
段スロットにウェーハが残る。これらのキャリアを様々
な搬送系で移送する場合、奇数段スロットにウェーハが
あるキャリアと偶数段スロットにウェーハがあるキャリ
アでは、搬送装置等における押出し装置の高さ調整やウ
ェーハと押出し装置のクリアランス調整等が異なり、従
って2通りの調整作業が必要となり、調整時間が長くな
って、効率が悪かった。However, in the conventional double-pitch wafer transfer apparatus, when a wafer, for example, in an odd-numbered slot of a sending-side carrier in which a wafer is stored is transferred to the other receiving-side carrier, the receiving-side carrier is transferred to the other receiving-side carrier. The wafer is stored in the odd-numbered slot, and the wafer remains in the even-numbered slot on the sending-side carrier. When transporting these carriers by various transport systems, for carriers with wafers in odd-numbered slots and carriers with wafers in even-numbered slots, adjust the height of the extrusion device in the transport device or adjust the clearance between the wafer and the extrusion device. Thus, two types of adjustment work were required, and the adjustment time was prolonged, resulting in poor efficiency.
【0012】本発明は上記従来技術を考慮したものであ
って、例えば倍ピッチウェーハ移送装置において、1ス
ロットおきに移送したウェーハが受入側および送出側の
キャリアともに同じ奇数段スロット又は同じ偶数段スロ
ットに収納されるように、両キャリアともに同じスロッ
ト位置にウェーハが収納されるウェーハ移送装置の提供
を目的とする。The present invention has been made in consideration of the above-mentioned prior art. For example, in a double-pitch wafer transfer apparatus, a wafer transferred every other slot has the same odd-numbered slot or the same even-numbered slot for both the receiving and sending carriers. It is an object of the present invention to provide a wafer transfer apparatus in which wafers are stored in the same slot position in both carriers so that the wafers are stored in the same slot position.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明では、ウェーハを水平に収納する複数段のス
ロットを有するキャリアを基台上に対向配置し、一方の
キャリアに収納されたウェーハを一定のスロットおきに
水平に押出して他方のキャリアのスロットへ移送するウ
ェーハ移送装置において、前記両キャリアは、高さ方向
に1スロットの整数倍分相互にずれていることを特徴と
している。In order to achieve the above object, according to the present invention, a carrier having a plurality of slots for horizontally storing wafers is arranged on a base so as to face each other, and a wafer stored in one carrier is provided. In the wafer transfer apparatus, the carrier is horizontally extruded at regular intervals and transferred to the slot of the other carrier, the two carriers are offset from each other by an integral multiple of one slot in the height direction.
【0014】この構成によれば、対向配置した両キャリ
アの高さが1スロットの整数倍分ずれている状態でウェ
ーハを移送するので、例えば倍ピッチの移送であれば、
送出側キャリアの1、3、5、…番目の奇数段スロット
中のウェーハを移送するとそれらのウェーハは受入側キ
ャリアの2、4、6、…番目の偶数段スロットに収ま
り、送出側キャリアには、奇数段スロット中のウェーハ
を移送したので偶数段スロットにウェーハが残る。従っ
て、送出側キャリアと受入側キャリア内のウェーハ収納
位置は共に偶数段スロットとなる。よってそれらのキャ
リアを様々な搬送系で移送するとき、搬送装置等の調整
は1通りの調整でよくなり、調整時間が短縮でき、搬送
作業効率が高まる。According to this structure, the wafers are transferred in a state where the heights of the opposing carriers are shifted by an integral multiple of one slot.
When the wafers in the first, third, fifth,..., Odd-numbered slot of the sending carrier are transferred, the wafers are accommodated in the second, fourth, sixth,. Since the wafer in the odd-numbered slot is transferred, the wafer remains in the even-numbered slot. Therefore, the wafer storage positions in the sending-side carrier and the receiving-side carrier are both even-numbered slots. Therefore, when these carriers are transported by various transport systems, the adjustment of the transport device and the like can be performed by one type of adjustment, the adjustment time can be shortened, and the transport work efficiency is improved.
【0015】好ましい構成例においては、前記両キャリ
アのうち一方のキャリアは、1スロットの整数倍分の厚
さの支持板を介して前記基台上に搭載されたことを特徴
としている。In a preferred configuration example, one of the two carriers is mounted on the base via a support plate having a thickness of an integral multiple of one slot.
【0016】この構成によれば、基台に対し1スロット
の整数倍分の厚さの支持板を介してキャリアを載置する
だけの簡単な構造でウェーハを送出側キャリアと受入側
キャリアには1スロットの整数倍分の高さのズレが生じ
ることになり、例えば倍ピッチウェーハ移送装置を用い
て両キャリア間に1スロット分の高さをずらして移送後
は、両キャリアともに同じ位置のスロットにウェーハが
収納される。According to this structure, the wafer is supplied to the sending-side carrier and the receiving-side carrier with a simple structure in which the carrier is placed on the base via the support plate having an integral multiple of one slot in thickness. A shift of a height equivalent to an integral multiple of one slot occurs. For example, after transferring by shifting the height of one slot between both carriers by using a double-pitch wafer transfer device, the slots of both carriers are in the same position. The wafer is housed in.
【0017】また、3倍ピッチまたはそれ以上のスロッ
トピッチ間幅でウェーハを送りだす移送装置において
は、1回移送するごとに送出側キャリアの高さを受入側
キャリアより1スロット分高くして受入側キャリアには
そのつど新たな空のキャリアを用意すれば、常に受入側
キャリアの同一高さ位置のスロットにウェーハを収納す
ることができる。In a transfer apparatus for transferring wafers at a triple pitch or more slot pitch, the transfer-side carrier is raised by one slot from the reception-side carrier for each transfer, and the transfer-side carrier is moved to the reception side. If a new empty carrier is prepared for each carrier, the wafer can always be stored in the slot at the same height position of the receiving carrier.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】図1(A)は本発明の実施の形態
に係る倍ピッチウェーハ移送装置の概略斜視図、(B)
は作用説明図である。図1は本発明に係る例としてウェ
ーハを受け入れる側のキャリア3bを送り出す側のキャ
リア3aより1スロット分高くしたものである。FIG. 1A is a schematic perspective view of a double-pitch wafer transfer apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. FIG. 1 shows an example according to the present invention in which a carrier 3b on the side for receiving a wafer is higher than the carrier 3a on the side for sending out by one slot.
【0019】基台2上にキャリア3a、3bが対向配置
して載置されている。前述の図2の例と同様に、各キャ
リア3a、3bの内壁には溝12が複数段設けられ、こ
の溝12で複数段のスロットを形成し、各スロットにウ
ェーハ4が1枚ずつ収納される。各キャリア3a、3b
は対向した前面側は開口して開口部5を形成し、この開
口部5を通してウェーハ4の移送が行われる。背面側に
はウェーハ4をスロットから押出すための押出し装置6
のアーム9が進入する進入口7が開口する。この進入口
7の開口幅は、前述のように、ウェーハ4が抜け出せな
いように狭く、図示したように、キャリアの両側壁をテ
ーパ状に狭めたりあるいは適当な枠材でストッパを形成
する。Carriers 3a and 3b are placed on the base 2 so as to face each other. As in the example of FIG. 2 described above, a plurality of grooves 12 are provided on the inner wall of each of the carriers 3a and 3b, and a plurality of slots are formed by the grooves 12, and one wafer 4 is stored in each slot. You. Each carrier 3a, 3b
An opening 5 is formed by opening the opposite front side, and the wafer 4 is transferred through the opening 5. On the back side, an extruder 6 for extruding the wafer 4 from the slot.
The entrance 7 into which the arm 9 enters is opened. As described above, the opening width of the entrance 7 is narrow so that the wafer 4 cannot come out, and as shown in the figure, both side walls of the carrier are tapered or a stopper is formed with a suitable frame material.
【0020】前記押出し装置6は基台2内で取っ手8と
連結され、取っ手8によってアームの移動操作が可能で
ある。押出し装置6の端部からは複数のアーム9が突出
し、このアーム9の先端に形成された当接部10がウェ
ーハ4に当接する。各アーム9は2スロット分の間隔で
設けられ、各アーム9間には隙間11が形成される。取
っ手8を動かして複数枚のウェーハ4が収納されたキャ
リア3a内に押出し装置6のアーム9を進入させ、当接
部10が1スロットおきにウェーハ4を水平に押出す。
押出されたウェーハ4と1つずれたスロットのウェーハ
はアーム9間に形成された隙間11に1スロットおきに
収まる。The pushing device 6 is connected to a handle 8 in the base 2, and the handle 8 allows the arm to be moved. A plurality of arms 9 project from the end of the pushing device 6, and a contact portion 10 formed at the tip of the arm 9 contacts the wafer 4. Each arm 9 is provided at an interval of two slots, and a gap 11 is formed between each arm 9. The handle 8 is moved to allow the arm 9 of the pushing device 6 to enter the carrier 3a in which a plurality of wafers 4 are stored, and the contact portion 10 pushes the wafer 4 horizontally every other slot.
The extruded wafers 4 and the wafers in the slots which are shifted by one slot fit into the gaps 11 formed between the arms 9 every other slot.
【0021】このウェーハ4を受け入れる側のキャリア
3bは、1スロット分の厚さの支持板1を介して基台2
上に搭載されている。従って、受入側キャリア3bは送
出側キャリア3aより1スロット分高い位置にある。こ
のため、例えばキャリア3aの1段目のスロットから移
送したウェーハ4はキャリア3bの2段目のスロットに
収納される。以下同様に、3段目、5段目…のスロット
のウェーハはそれぞれ4段目、6段目…のスロットに収
納される。よって送出側キャリア3aには偶数段目のス
ロットにウェーハ4が残り、受入側キャリア3bにも偶
数段目のスロットにウェーハ4が収納される。これによ
り両キャリア3a、3bには同じ偶数段目のスロットに
ウェーハ4が収納されることになる。The carrier 3b which receives the wafer 4 is supported on the base 2 via the support plate 1 having a thickness of one slot.
Mounted on top. Therefore, the receiving carrier 3b is at a position higher by one slot than the transmitting carrier 3a. Therefore, for example, the wafer 4 transferred from the first slot of the carrier 3a is stored in the second slot of the carrier 3b. Similarly, the wafers in the third, fifth,... Slots are stored in the fourth, sixth,. Therefore, the wafer 4 remains in the even-numbered slot in the sending-side carrier 3a, and the wafer 4 is stored in the even-numbered slot also in the receiving-side carrier 3b. As a result, the wafers 4 are stored in the same even-numbered slot in both carriers 3a and 3b.
【0022】別の構成例として、支持板1を送出側キャ
リア3aの下に設け、送出側キャリア3aを受入側キャ
リア3bより1スロット分高くすることもできる。この
場合には、2、4、6、…の偶数スロットのウェーハが
相手側の1、3、5、…の奇数スロットに移送され、送
出側キャリアの奇数スロットにウェーハが残る。従っ
て、両キャリアともに奇数スロットにウェーハが収納さ
れる。As another configuration example, the support plate 1 may be provided below the sending-side carrier 3a, and the sending-side carrier 3a may be higher than the receiving-side carrier 3b by one slot. In this case, the wafers in the even-numbered slots of 2, 4, 6,... Are transferred to the odd-numbered slots of 1, 3, 5,. Therefore, both carriers accommodate wafers in odd slots.
【0023】また、各処理装置等でその装置専用のキャ
リアにウェーハを移すことが必要なときは、ウェーハ保
管用の通常のキャリアからまず本発明に係る倍ピッチウ
ェーハ移送装置で第1の専用キャリアへ移送する。その
後、保管用キャリアに残っているウェーハを従来の倍ピ
ッチウェーハ移送装置で第2の専用キャリアへ移送すれ
ばウェーハを受け入れた第1、第2の両専用キャリア内
のウェーハは、ともに同じ偶数段目あるいは奇数段目の
スロットに収納される。When it is necessary to transfer a wafer to a dedicated carrier in each processing apparatus or the like, a first dedicated carrier is first used in the double pitch wafer transfer apparatus according to the present invention from a normal wafer storage carrier. Transfer to Thereafter, if the wafer remaining in the storage carrier is transferred to the second dedicated carrier by the conventional double-pitch wafer transfer device, the wafers in the first and second dedicated carriers that have received the wafer are both in the same even-numbered stage. It is stored in the eye or odd numbered slot.
【0024】なお、図ではウェーハ押出し用のアームが
4本示されているが、アーム本数はキャリアのスロット
数により異なり、例えば25スロットのキャリアであれ
ば13本のアームが備わる。Although four wafer pushing arms are shown in the drawing, the number of arms varies depending on the number of slots in the carrier. For example, a carrier having 25 slots has 13 arms.
【0025】また、本発明のウェーハ移送装置の使用方
法の例として、3倍ピッチまたはそれ以上のスロットピ
ッチ間幅でウェーハを送りだす移送装置において、まず
送出側、受入側の両キャリアを同一レベルに設置してウ
ェーハを一定間幅で移送し、受入側キャリア内に一定ス
ロット間隔のスロットおきにウェーハを収納する。次に
送出側のキャリアを1スロット分高くして、移送先に新
たな空のキャリアを置いてウェーハを一定スロット間隔
で移送する。これにより前回のキャリアと同じスロット
位置にウェーハが移送され収納される。Further, as an example of the method of using the wafer transfer apparatus of the present invention, in a transfer apparatus for sending out a wafer at a triple pitch or more slot pitch, first, both carriers on the sending side and the receiving side are set to the same level. The wafer is set and transported at a constant interval, and the wafer is stored in the receiving carrier at intervals of a constant interval. Next, the carrier on the sending side is raised by one slot, a new empty carrier is placed at the transfer destination, and the wafer is transferred at a constant slot interval. As a result, the wafer is transferred and stored at the same slot position as the previous carrier.
【0026】次に、さらに送出側のキャリアを高くして
受入側キャリアより2スロット分高くした状態でウェー
ハを押出せば受入側キャリアには前2回のキャリアと同
じ高さ位置のスロットにウェーハが移送され収納され
る。このようにして常に受入側キャリアの同一高さ位置
のスロットにウェーハを収納することができる。Next, the wafer is extruded in a state in which the carrier on the sending side is further raised to be higher than the carrier on the receiving side by two slots, and the wafer on the receiving side is inserted into the slot at the same height position as the previous two carriers. Is transported and stored. In this manner, the wafer can always be stored in the slot at the same height position of the receiving carrier.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、対向配置した両キャリアの高さが1スロットの整数
倍分ずれている状態でウェーハを移送するので、例えば
倍ピッチウェーハ移送装置において、1スロットおきに
水平にウェーハを移送すると、送出側キャリアに残るウ
ェーハと受入側キャリアのウェーハは共に同じスロット
位置となり、両キャリアともに同じスロット位置にウェ
ーハを収納することになる。従って、これらのキャリア
のウェーハを搬送装置で移送する場合、アーム高さ調整
やクリアランス調整等の搬送装置の調整は1通りの調整
でよくなり、調整時間が短縮でき、搬送作業効率が高ま
る。As described above, in the present invention, the wafers are transferred in a state where the heights of the two opposing carriers are shifted by an integral multiple of one slot. When the wafer is transferred horizontally every other slot, both the wafer remaining on the sending-side carrier and the wafer on the receiving-side carrier have the same slot position, and both carriers store the wafer in the same slot position. Therefore, when the wafers of these carriers are transferred by the transfer device, the adjustment of the transfer device such as the adjustment of the arm height and the clearance can be performed by one type of adjustment, the adjustment time can be shortened, and the transfer work efficiency is improved.
【0028】また、3倍ピッチまたはそれ以上のスロッ
トピッチ間幅でウェーハを送りだす移送装置において
は、1回移送するごとに送出側キャリアの高さを受入側
キャリアより1スロット分高くして受入側キャリアには
そのつど新たな空のキャリアを用意すれば、常に受入側
キャリアの同一高さ位置のスロットにウェーハを収納す
ることができる。In a transfer apparatus for transferring a wafer at a pitch of three times or more the slot pitch, the height of the sending carrier is made higher by one slot than the receiving carrier for each transfer so that the receiving carrier is moved. If a new empty carrier is prepared for each carrier, the wafer can always be stored in the slot at the same height position of the receiving carrier.
【図1】 (A)は本発明の実施の形態に係る倍ピッチ
ウェーハ移送装置の概略斜視図、(B)は作用説明図。FIG. 1A is a schematic perspective view of a double-pitch wafer transfer device according to an embodiment of the present invention, and FIG.
【図2】 (A)は従来の倍ピッチウェーハ移送装置の
概略斜視図、(B)は作用説明図。FIG. 2A is a schematic perspective view of a conventional double-pitch wafer transfer device, and FIG.
1:支持板、2:基台、3a、3b:キャリア、4:ウ
ェーハ、5:開口部、6:押出し装置、7:進入口、
8:取っ手、9:アーム、10:当接部、11:隙間、
12:溝。1: support plate, 2: base, 3a, 3b: carrier, 4: wafer, 5: opening, 6: extrusion device, 7: entrance,
8: handle, 9: arm, 10: contact portion, 11: gap,
12: groove.
Claims (2)
トを有するキャリアを基台上に対向配置し、 一方のキャリアに収納されたウェーハを一定のスロット
おきに水平に押出して他方のキャリアのスロットへ移送
するウェーハ移送装置において、 前記両キャリアは、高さ方向に1スロットの整数倍分相
互にずれていることを特徴とするウェーハ移送装置。A carrier having a plurality of slots for horizontally storing wafers is disposed on a base so as to face each other, and a wafer stored in one of the carriers is horizontally extruded at regular intervals, and a slot in the other carrier is extruded. In the wafer transfer apparatus for transferring wafers, the two carriers are shifted from each other by an integral multiple of one slot in the height direction.
1スロットの整数倍分の厚さの支持板を介して前記基台
上に搭載されたことを特徴とする請求項1に記載のウェ
ーハ移送装置。2. One of the two carriers is:
2. The wafer transfer device according to claim 1, wherein the wafer transfer device is mounted on the base via a support plate having a thickness equivalent to an integral multiple of one slot.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20774098A JP2000038217A (en) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Wafer shifting device |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP20774098A JP2000038217A (en) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Wafer shifting device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=16544759
Family Applications (1)
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JP20774098A Pending JP2000038217A (en) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Wafer shifting device |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2000038217A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016213459A (en) * | 2015-04-30 | 2016-12-15 | 環球晶圓股▲ふん▼有限公司 | Wafer transfer apparatus and wafer transfer method |
CN110356828A (en) * | 2018-10-22 | 2019-10-22 | 江苏艾科半导体有限公司 | It is a kind of can bidirectional modulation wafer move sheet devices |
JP7637892B2 (en) | 2021-04-06 | 2025-03-03 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Substrate transport device and substrate transport method |
-
1998
- 1998-07-23 JP JP20774098A patent/JP2000038217A/en active Pending
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