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JP2000022510A - Rc delay circuit - Google Patents

Rc delay circuit

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Publication number
JP2000022510A
JP2000022510A JP10190807A JP19080798A JP2000022510A JP 2000022510 A JP2000022510 A JP 2000022510A JP 10190807 A JP10190807 A JP 10190807A JP 19080798 A JP19080798 A JP 19080798A JP 2000022510 A JP2000022510 A JP 2000022510A
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JP
Japan
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circuit
delay circuit
resistance element
capacitor
node
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Application number
JP10190807A
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Japanese (ja)
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Inventor
Takashi Ogiwara
隆 荻原
Sumio Tanaka
寿実夫 田中
Yoshiaki Takeuchi
義昭 竹内
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress dispersion in delay time even when the absolute values of the threshold of a PMOS transistor and an NMOS transistor tend to disperse in mutually opposite directions in a RC delay circuit. SOLUTION: This circuit is composed of at least one set of delay circuits composed by serially connecting a first delay circuit 11 and a second delay circuit 12. The first delay circuit 11 is provided with a first RC circuit 110 and a first CMOS inverter circuit IV2 connected to the output side, and the second delay circuit 12 is provided with a second RC circuit 120 and a second CMOS inverter circuit IV2 connected to the output side. The transition direction of the input potential of the first CMOS inverter circuit accompanying the transition of the logic level of the input signals of the first delay circuit 11 and the transition direction of the input potential of the second CMOS inverter circuit are opposite to each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
係り、特にMOS構造を有する集積回路に形成されるR
C遅延回路に関するもので、例えばDRAM、SRAM
などのメモリや論理ゲート、CPUなどに使用されるも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a MOS structure.
C delay circuit, for example, DRAM, SRAM
It is used for memories, logic gates, CPUs and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】図13および図16は、MOS構造を有
する集積回路に形成されるCMOSインバータを用いた
RC遅延回路の従来例1および従来例2を示す。
2. Description of the Related Art FIGS. 13 and 16 show a conventional example 1 and a conventional example 2 of an RC delay circuit using a CMOS inverter formed in an integrated circuit having a MOS structure.

【0003】<従来例1>図13に示すRC遅延回路
は、複数個(本例では2個)の遅延回路131が直列に
接続されており、この遅延回路131は、2段のCMO
SインバータIV1、IV2間の段間にRC回路130
が挿入されてなる。この場合、上記上記CMOSインバ
ータIV1、IV2は、それぞれ図25に示すように、
PMOSトランジスタTP、NMOSトランジスタTN
のドレイン同士が接続され、ゲート同士が接続されてな
る。
<Conventional Example 1> The RC delay circuit shown in FIG. 13 has a plurality of (two in this example) delay circuits 131 connected in series, and this delay circuit 131 has a two-stage CMO.
RC circuit 130 between stages between S inverters IV1 and IV2
Is inserted. In this case, the CMOS inverters IV1 and IV2 are respectively connected as shown in FIG.
PMOS transistor TP, NMOS transistor TN
Are connected to each other, and the gates are connected to each other.

【0004】そして、前記RC回路130は、抵抗素子
RとNMOSキャパシタCが直列に接続され、上記抵抗
素子の一端側が前段のCMOSインバータIV1の出力
ノードに接続され、上記抵抗素子の他端側が次段のCM
OSインバータIV2の入力ノードに接続されている。
つまり、上記抵抗素子の一端側は前段のCMOSインバ
ータIV1のNMOSトランジスタ(図示せず)のドレ
インに接続され、上記抵抗素子の他端側は次段のCMO
SインバータIV2のPMOSトランジスタ(図示せ
ず)のゲートに接続されている。
In the RC circuit 130, a resistance element R and an NMOS capacitor C are connected in series, one end of the resistance element is connected to the output node of the preceding CMOS inverter IV1, and the other end of the resistance element is connected to the next node. Dan CM
It is connected to the input node of OS inverter IV2.
That is, one end of the resistance element is connected to the drain of an NMOS transistor (not shown) of the CMOS inverter IV1 in the previous stage, and the other end of the resistance element is connected to the CMO of the next stage.
It is connected to the gate of a PMOS transistor (not shown) of the S inverter IV2.

【0005】<従来例2>図16に示すRC遅延回路
は、複数個(本例では2個)の遅延回路161が直列に
接続されており、この遅延回路161は、2段のCMO
SインバータIV1、IV2間の段間にRC回路160
が挿入されてなる。この場合、RC回路160は、抵抗
素子RとPMOSキャパシタCが直列に接続され、上記
抵抗素子の一端側が前段のCMOSインバータIV1の
出力ノードに接続され、上記抵抗素子の他端側が次段の
CMOSインバータIV2の入力ノードに接続されてい
る。つまり、上記抵抗素子の一端側は前段のCMOSイ
ンバータIV1のPMOSトランジスタ(図示せず)の
ドレインに接続され、上記抵抗素子の他端側は次段のC
MOSインバータIV2のNMOSトランジスタ(図示
せず)のゲートに接続されている。
<Conventional Example 2> The RC delay circuit shown in FIG. 16 has a plurality of (two in this example) delay circuits 161 connected in series, and this delay circuit 161 has a two-stage CMO.
RC circuit 160 between stages between S inverters IV1 and IV2
Is inserted. In this case, in the RC circuit 160, a resistance element R and a PMOS capacitor C are connected in series, one end of the resistance element is connected to the output node of the preceding CMOS inverter IV1, and the other end of the resistance element is connected to the next CMOS inverter. It is connected to the input node of inverter IV2. That is, one end of the resistance element is connected to the drain of a PMOS transistor (not shown) of the preceding CMOS inverter IV1, and the other end of the resistance element is connected to the next stage C
It is connected to the gate of an NMOS transistor (not shown) of the MOS inverter IV2.

【0006】しかし、図13に示した従来例1のRC遅
延回路および図16に示した従来例2のRC遅延回路
は、製造プロセスのばらつきなどによりCMOSインバ
ータのPMOSトランジスタの閾値の絶対値およびNM
OSトランジスタの閾値の絶対値が互いに逆方向にばら
ついた場合には、遅延時間もばらついてしまうという問
題があり、これについて、以下に詳細に説明する。
However, the RC delay circuit of the first conventional example shown in FIG. 13 and the RC delay circuit of the second conventional example shown in FIG. 16 have the absolute value and NM of the threshold value of the PMOS transistor of the CMOS inverter due to a variation in the manufacturing process.
When the absolute values of the threshold values of the OS transistors vary in opposite directions, there is a problem that the delay time also varies, which will be described in detail below.

【0007】図13および図16に示したRC遅延回路
に関し、(a)PMOSトランジスタの閾値VTPが設計
値(例えば−0.6V)およびNMOSトランジスタの
閾値VTNが設計値(例えば0.5V)の場合と、(b)
プロセスのばらつきによりPMOSトランジスタの閾値
の絶対値|VTP|が0.2V増加し、NMOSトランジ
スタの閾値の絶対値|VTN|が例えば0.2V減少した
場合(VTPが−0.8V、VTNが0.3Vの場合)と、
(c)プロセスのばらつきによりPMOSトランジスタ
の閾値の絶対値|VTP|が0.2V減少し、NMOSト
ランジスタの閾値が例えば0.2V増加した場合(VTP
が−0.4V、VTNが0.7Vの場合)について、入力
信号電圧を“L”レベルから“H”レベルに変化させた
場合の入出力電圧の波形および主要ノードの電圧波形の
シミュレーション結果を図14、図15、図17、図1
8に示す。
With respect to the RC delay circuits shown in FIGS. 13 and 16, (a) the threshold value VTP of the PMOS transistor is equal to the design value (eg, -0.6 V) and the threshold value VTN of the NMOS transistor is equal to the design value (eg, 0.5 V). Case and (b)
When the absolute value | VTP | of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value | VTN | of the threshold value of the NMOS transistor decreases by, for example, 0.2 V due to process variation (VTP is -0.8 V, VTN is 0) .3V) and
(C) When the absolute value | VTP | of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the threshold value of the NMOS transistor increases by, for example, 0.2 V due to process variation (VTP
Are −0.4 V and VTN is 0.7 V), the simulation result of the input / output voltage waveform and the main node voltage waveform when the input signal voltage is changed from “L” level to “H” level is shown. FIG. 14, FIG. 15, FIG. 17, FIG.
FIG.

【0008】図14(a)、(b)、(c)は、図13
に示した従来例1のRC遅延回路のMOSトランジスタ
の閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、入力電圧Vin2、出力電圧Vo
ut2 のシミュレーション波形を示している。
FIGS. 14 (a), 14 (b), and 14 (c) show FIG.
In the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit according to the conventional example 1 shown in (a) is the above-mentioned (a) design value, it fluctuates as shown in (b), or it fluctuates as shown in (c) above About the input voltage Vin2 and the output voltage Vo
The simulation waveform of ut2 is shown.

【0009】図15(a)、(b)、(c)は、図13
に示した従来例1のRC遅延回路のMOSトランジスタ
の閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、主要ノードの電圧Vin2、V1
5 、V16 、V18 、V19 のシミュレーション波形を示して
いる。ここで、t5は入力電圧Vin2から中間ノードの電圧
V16 までの信号伝達時間、t6は中間ノードの電圧V16 か
ら中間ノードの電圧V19 までの信号伝達時間を示してい
る。
FIGS. 15 (a), (b) and (c) show FIG.
In the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit according to the conventional example 1 shown in (a) is the above-mentioned (a) design value, it fluctuates as shown in (b), or it fluctuates as shown in (c) above About the main node voltage Vin2, V1
5, simulation waveforms of V16, V18, and V19 are shown. Here, t5 is the voltage of the intermediate node from the input voltage Vin2.
The signal transmission time till V16, t6 indicates the signal transmission time from the intermediate node voltage V16 to the intermediate node voltage V19.

【0010】即ち、図13に示した従来例1のRC遅延
回路では、図14(a)、(b)、(c)から分かるよ
うに、PMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOS
トランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらつ
いた場合に入出力波形(入出力特性)は大きく変動して
いる。この理由を以下に述べる。
That is, in the RC delay circuit of the conventional example 1 shown in FIG. 13, as can be seen from FIGS. 14A, 14B and 14C, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS
When the absolute value of the threshold value of the transistor varies in the opposite direction, the input / output waveform (input / output characteristics) fluctuates greatly. The reason will be described below.

【0011】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0012】図13中の前段の遅延回路131のインバ
ータIV2の回路閾値が低下し、図15(b)に示すよ
うに信号伝達時間t5の遅延が大きくなる。また、図13
中の後段の遅延回路131のインバータIV2の回路閾
値も低下し、図15(b)に示すように信号伝達時間t6
の遅延も大きくなる。したがって、上記信号伝達時間t
5、t6の和は閾値が設計値である場合よりも大きくな
る。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 131 at the preceding stage in FIG. 13 decreases, and the delay of the signal transmission time t5 increases as shown in FIG. FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 131 at the middle stage also decreases, and the signal transmission time t6 as shown in FIG.
Also increases the delay. Therefore, the signal transmission time t
The sum of 5, t6 is larger than when the threshold is a design value.

【0013】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0014】図13中の前段の遅延回路131のインバ
ータIV2の回路閾値が上昇し、図15(c)に示すよ
うに信号伝達時間t5の遅延が小さくなる。また、図13
中の後段の遅延回路131のインバータIV2の回路閾
値も上昇し、図15(c)に示すように信号伝達時間t6
の遅延も小さくなる。したがって、上記信号伝達時間t
5、t6の和は、閾値が設計値である場合よりも小さくな
る。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 131 at the preceding stage in FIG. 13 rises, and the delay of the signal transmission time t5 decreases as shown in FIG. FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 131 in the middle stage also increases, and the signal transmission time t6 as shown in FIG.
Is also reduced. Therefore, the signal transmission time t
The sum of 5, t6 is smaller than when the threshold is a design value.

【0015】一方、図17(a)、(b)、(c)は、
図16に示した従来例2のRC遅延回路のMOSトラン
ジスタの閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記し
た(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよ
うにばらついた場合について、入力電圧Vin3、出力電圧
Vout3 のシミュレーション波形を示している。
On the other hand, FIGS. 17 (a), (b) and (c)
The threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the conventional example 2 shown in FIG. 16 varies as shown in (a) in the case of the above (a) design value, and as described in the above (c). Input voltage Vin3, output voltage
The simulation waveform of Vout3 is shown.

【0016】図18(a)、(b)、(c)は、図16
に示した従来例2のRC遅延回路のMOSトランジスタ
の閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、主要ノードの電圧V21 、V2
3 、V24 、V26 、V27 のシミュレーション波形を示して
いる。ここで、t7は入力電圧Vin3から中間ノードの電圧
V24 までの信号伝達時間、t8は中間ノードの電圧V24 か
ら中間ノードの電圧V27 までの信号伝達時間を示してい
る。
FIGS. 18A, 18B, and 18C show FIGS.
In the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the conventional example 2 shown in (a) is the above-described (a) design value, the above-mentioned (b) varies, and the above-mentioned (c) varies. About the main node voltages V21, V2
3, simulation waveforms of V24, V26, and V27 are shown. Here, t7 is the voltage of the intermediate node from the input voltage Vin3.
The signal transmission time from V24 to t24 indicates the signal transmission time from the voltage V24 at the intermediate node to the voltage V27 at the intermediate node.

【0017】即ち、図16に示した従来例2のRC遅延
回路では、図17(a)、(b)、(c)から分かるよ
うに、PMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOS
トランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらつ
いた場合に入出力波形(入出力特性)は大きく変動して
いる。この理由を以下に述べる。
That is, in the RC delay circuit of the conventional example 2 shown in FIG. 16, as can be seen from FIGS. 17A, 17B and 17C, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS
When the absolute value of the threshold value of the transistor varies in the opposite direction, the input / output waveform (input / output characteristics) fluctuates greatly. The reason will be described below.

【0018】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0019】図16中の前段の遅延回路161のインバ
ータIV2の回路閾値が低下し、図18(b)に示すよ
うに信号伝達時間t7の遅延が小さくなる。また、図16
中の後段の遅延回路161のインバータIV2の回路閾
値も低下し、図18(b)に示すように信号伝達時間t8
の遅延も小さくなる。したがって、上記信号伝達時間t
7、t8の和は、閾値が設計値である場合よりも小さくな
る。
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 161 at the preceding stage in FIG. 16 decreases, and the delay of the signal transmission time t7 decreases as shown in FIG. FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 161 at the latter stage in the middle also decreases, and the signal transmission time t8 as shown in FIG.
Is also reduced. Therefore, the signal transmission time t
The sum of 7, t8 is smaller than when the threshold is a design value.

【0020】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0021】図16中の前段の遅延回路161のインバ
ータIV2の回路閾値が上昇し、図18(c)に示すよ
うに信号伝達時間t7の遅延が大きくなる。また、図16
中の後段の遅延回路161のインバータIV2の回路閾
値も上昇し、図18(c)に示すように信号伝達時間t8
の遅延も大きくなる。したがって、上記信号伝達時間t
7、t8の和は閾値が設計値である場合よりも大きくな
る。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 161 at the preceding stage in FIG. 16 rises, and the delay of the signal transmission time t7 increases as shown in FIG. FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 161 in the latter stage also increases, and the signal transmission time t8 as shown in FIG.
Also increases the delay. Therefore, the signal transmission time t
The sum of 7 and t8 is larger than when the threshold is a design value.

【0022】図19および図22は、MOS構造を有す
る集積回路に形成される変形CMOSインバータを用い
たRC遅延回路の従来例3および従来例4を示す。
FIGS. 19 and 22 show Conventional Examples 3 and 4 of RC delay circuits using a modified CMOS inverter formed in an integrated circuit having a MOS structure.

【0023】<従来例3>図19に示すRC遅延回路
は、複数個(本例では2個)の遅延回路191が直列に
接続されており、この遅延回路191は、PMOSトラ
ンジスタTPとNMOSトランジスタTNのドレイン相
互間に抵抗素子Rが挿入され、ゲート相互が接続された
変形CMOSインバータIV1aと、前記PMOSトラ
ンジスタTPのドレインと接地ノードとの間に接続され
たNMOSキャパシタCと、前記PMOSトランジスタ
TPのドレインに入力ノードが接続された次段のCMO
SインバータIV2とからなる。この場合、変形CMO
SインバータIV1aの抵抗素子Rと前記NMOSキャ
パシタCによりRC回路が形成されている。
<Conventional Example 3> The RC delay circuit shown in FIG. 19 has a plurality (two in this example) of delay circuits 191 connected in series. This delay circuit 191 is composed of a PMOS transistor TP and an NMOS transistor. A modified CMOS inverter IV1a in which a resistance element R is inserted between the drains of TN and their gates are connected, an NMOS capacitor C connected between the drain of the PMOS transistor TP and a ground node, and the PMOS transistor TP Next stage CMO with input node connected to the drain of
And an S inverter IV2. In this case, the modified CMO
An RC circuit is formed by the resistance element R of the S inverter IV1a and the NMOS capacitor C.

【0024】つまり、上記RC回路の抵抗素子Rの一端
側は前段の変形CMOSインバータIV1aのNMOS
トランジスタTNのドレインに接続され、上記抵抗素子
Rの他端側は次段のCMOSインバータIV2のPMO
Sトランジスタ(図示せず)のゲートに接続されてい
る。
That is, one end of the resistance element R of the RC circuit is connected to the NMOS of the preceding modified CMOS inverter IV1a.
The other end of the resistance element R is connected to the drain of the transistor TN.
It is connected to the gate of an S transistor (not shown).

【0025】<従来例4>図22に示すRC遅延回路
は、複数個(本例では2個)の遅延回路221が直列に
接続されており、この遅延回路221は、PMOSトラ
ンジスタTPとNMOSトランジスタTNのドレイン相
互間に抵抗素子Rが挿入され、ゲート相互が接続された
変形CMOSインバータIV1aと、前記NMOSトラ
ンジスタのドレインTNとVCCノードとの間に接続され
たPMOSキャパシタCと、前記NMOSトランジスタ
TNのドレインに入力ノードが接続された次段のCMO
SインバータIV2とからなる。この場合、変形CMO
SインバータIV1aの抵抗素子Rと前記PMOSキャ
パシタCによりRC回路が形成されている。
<Conventional Example 4> The RC delay circuit shown in FIG. 22 has a plurality of (two in this example) delay circuits 221 connected in series. This delay circuit 221 is composed of a PMOS transistor TP and an NMOS transistor. A modified CMOS inverter IV1a in which a resistance element R is inserted between the drains of TN and their gates are connected, a PMOS capacitor C connected between the drain TN of the NMOS transistor and a VCC node, and the NMOS transistor TN Next stage CMO with input node connected to the drain of
And an S inverter IV2. In this case, the modified CMO
An RC circuit is formed by the resistance element R of the S inverter IV1a and the PMOS capacitor C.

【0026】つまり、上記RC回路の抵抗素子Rの一端
側は前段の変形CMOSインバータIV1aのPMOS
トランジスタTPのドレインに接続され、上記抵抗素子
Rの他端側は次段のCMOSインバータIV2のNMO
Sトランジスタ(図示せず)のゲートに接続されてい
る。
That is, one end of the resistance element R of the RC circuit is connected to the PMOS of the preceding modified CMOS inverter IV1a.
The other end of the resistor R is connected to the NMO of the next-stage CMOS inverter IV2.
It is connected to the gate of an S transistor (not shown).

【0027】しかし、図19に示した従来例3のRC遅
延回路および図22に示した従来例4のRC遅延回路に
おいても、製造プロセスのばらつきなどによりCMOS
インバータのPMOSトランジスタの閾値の絶対値およ
びNMOSトランジスタの閾値の絶対値が互いに逆方向
にばらついた場合には、遅延時間もばらついてしまうと
いう問題があり、これについて、以下に詳細に説明す
る。
However, in the RC delay circuit of Conventional Example 3 shown in FIG. 19 and the RC delay circuit of Conventional Example 4 shown in FIG.
When the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor of the inverter vary in opposite directions, there is a problem that the delay time also varies. This will be described in detail below.

【0028】図20(a)、(b)、(c)は、図19
に示した従来例3のRC遅延回路のMOSトランジスタ
の閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、入力電圧Vin2、出力電圧Vo
ut2 のシミュレーション波形を示している。
FIGS. 20 (a), 20 (b) and 20 (c) show FIGS.
In the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the conventional example 3 shown in (a) is the above-mentioned (a) design value, it fluctuates as shown in (b) above, and if it fluctuates as shown in (c) above About the input voltage Vin2 and the output voltage Vo
The simulation waveform of ut2 is shown.

【0029】図21(a)、(b)、(c)は、図19
に示した従来例3のRC遅延回路のMOSトランジスタ
の閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、主要ノードの電圧Vin2、V1
0 、V11 、V12 、V13 のシミュレーション波形を示して
いる。ここで、t5は入力電圧Vin2から中間ノードの電圧
V11 までの信号伝達時間、t6は中間ノードの電圧V11 か
ら中間ノードの電圧V13 までの信号伝達時間を示してい
る。
FIGS. 21 (a), 21 (b) and 21 (c) show FIG.
In the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the conventional example 3 shown in (a) is the above-mentioned (a) design value, it fluctuates as shown in (b) above, and if it fluctuates as shown in (c) above About the main node voltage Vin2, V1
7 shows simulation waveforms of 0, V11, V12, and V13. Here, t5 is the voltage of the intermediate node from the input voltage Vin2.
The signal transmission time from V11 to t11 indicates the signal transmission time from the voltage V11 at the intermediate node to the voltage V13 at the intermediate node.

【0030】即ち、図19に示した従来例3のRC遅延
回路では、図20(a)、(b)、(c)から分かるよ
うに、PMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOS
トランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらつ
いた場合に入出力波形(入出力特性)は大きく変動して
いる。この理由を以下に述べる。
That is, in the RC delay circuit of the conventional example 3 shown in FIG. 19, as can be seen from FIGS. 20 (a), (b) and (c), the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS
When the absolute value of the threshold value of the transistor varies in the opposite direction, the input / output waveform (input / output characteristics) fluctuates greatly. The reason will be described below.

【0031】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0032】図19中の前段の遅延回路191のインバ
ータIV2の回路閾値が低下し、図21(b)に示すよ
うに信号伝達時間t5の遅延が大きくなる。また、図19
中の後段の遅延回路191のインバータIV2の回路閾
値も低下し、図21 (b)に示すように信号伝達時間
t6の遅延も大きくなる。したがって、上記信号伝達時間
t5、t6の和は閾値が設計値である場合よりも大きくな
る。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 191 at the preceding stage in FIG. 19 decreases, and the delay of the signal transmission time t5 increases as shown in FIG. 21B. FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 191 in the middle stage also decreases, and as shown in FIG.
The delay of t6 also increases. Therefore, the above signal transmission time
The sum of t5 and t6 is larger than when the threshold is a design value.

【0033】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0034】図19中の前段の遅延回路191のインバ
ータIV2の回路閾値が上昇し、図21(c)に示すよ
うに信号伝達時間t5の遅延が小さくなる。また、図19
中の後段の遅延回路191のインバータIV2の回路閾
値も上昇し、図21(c)に示すように信号伝達時間t6
の遅延も小さくなる。したがって、上記信号伝達時間t
5、t6の和は、閾値が設計値である場合よりも小さくな
る。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 191 in the preceding stage in FIG. 19 rises, and the delay of the signal transmission time t5 decreases as shown in FIG. FIG.
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 191 in the latter stage also increases, and the signal transmission time t6 as shown in FIG.
Is also reduced. Therefore, the signal transmission time t
The sum of 5, t6 is smaller than when the threshold is a design value.

【0035】一方、図23(a)、(b)、(c)は、
図22に示した従来例4のRC遅延回路のMOSトラン
ジスタの閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記し
た(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよ
うにばらついた場合について、入力電圧Vin3、出力電圧
Vout3 のシミュレーション波形を示している。
On the other hand, FIGS. 23 (a), (b) and (c)
The threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the conventional example 4 shown in FIG. 22 varies as shown in FIG. Input voltage Vin3, output voltage
The simulation waveform of Vout3 is shown.

【0036】図24(a)、(b)、(c)は、図22
に示した従来例4のRC遅延回路のMOSトランジスタ
の閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、主要ノードの電圧V15 、V1
6 、V17 、V18 、V19 のシミュレーション波形を示して
いる。ここで、t7は入力電圧Vin3から中間ノードの電圧
V17 までの信号伝達時間、t8は中間ノードの電圧V17 か
ら中間ノードの電圧V19 までの信号伝達時間を示してい
る。
FIGS. 24 (a), 24 (b) and 24 (c) show the state shown in FIG.
In the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit according to the conventional example 4 shown in (a) is the above-mentioned (a) design value, the above-mentioned (b) varies, and the above-mentioned (c) varies. About the main node voltage V15, V1
6, V17, V18, and V19 are shown. Here, t7 is the voltage of the intermediate node from the input voltage Vin3.
A signal transmission time from V17 to t17 indicates a signal transmission time from the voltage V17 at the intermediate node to the voltage V19 at the intermediate node.

【0037】即ち、図22に示した従来例4のRC遅延
回路では、図23(a)、(b)、(c)から分かるよ
うに、PMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOS
トランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらつ
いた場合に入出力波形(入出力特性)は大きく変動して
いる。この理由を以下に述べる。
That is, in the RC delay circuit of the conventional example 4 shown in FIG. 22, as can be seen from FIGS. 23A, 23B and 23C, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS
When the absolute value of the threshold value of the transistor varies in the opposite direction, the input / output waveform (input / output characteristics) fluctuates greatly. The reason will be described below.

【0038】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0039】図22中の前段の遅延回路221のインバ
ータIV2の回路閾値が低下し、図24(b)に示すよ
うに信号伝達時間t7の遅延が小さくなる。また、図22
中の後段の遅延回路221のインバータIV2の回路閾
値も低下し、図24(b)に示すように信号伝達時間t8
の遅延も小さくなる。したがって、上記信号伝達時間t
7、t8の和は、閾値が設計値である場合よりも小さくな
る。
The threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 221 at the preceding stage in FIG. 22 decreases, and the delay of the signal transmission time t7 decreases as shown in FIG. FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 221 in the latter stage also decreases, and the signal transmission time t8 as shown in FIG.
Is also reduced. Therefore, the signal transmission time t
The sum of 7, t8 is smaller than when the threshold is a design value.

【0040】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0041】図22中の前段の遅延回路221のインバ
ータIV2の回路閾値が上昇し、図24(c)に示すよ
うに信号伝達時間t7の遅延が大きくなる。また、図22
中の後段の遅延回路221のインバータIV2の回路閾
値も上昇し、図24(c)に示すように信号伝達時間t8
の遅延も大きくなる。したがって、上記信号伝達時間t
7、t8の和は閾値が設計値である場合よりも大きくな
る。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 221 at the preceding stage in FIG. 22 rises, and the delay of the signal transmission time t7 increases as shown in FIG. FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the delay circuit 221 in the latter stage also increases, and the signal transmission time t8 as shown in FIG.
Also increases the delay. Therefore, the signal transmission time t
The sum of 7 and t8 is larger than when the threshold is a design value.

【0042】[0042]

【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
RC遅延回路は、回路に含まれるPMOSトランジスタ
の閾値の絶対値とNMOSトランジスタの閾値の絶対値
とが互いに逆方向にばらついた場合には、遅延時間もば
らついてしまうという問題があった。
As described above, in the conventional RC delay circuit, when the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor included in the circuit vary in directions opposite to each other, However, there is a problem that the delay time varies.

【0043】本発明は上記の問題点を解決すべくなされ
たもので、回路に含まれるPMOSトランジスタの閾値
の絶対値とNMOSトランジスタの閾値の絶対値とが互
いに逆方向にばらついた場合でも、遅延時間のばらつき
が少ないRC遅延回路を提供することを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problem. Even when the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor included in the circuit vary in directions opposite to each other, the delay can be reduced. An object of the present invention is to provide an RC delay circuit with less time variation.

【0044】[0044]

【課題を解決するための手段】第1の発明のRC遅延回
路は、第1の遅延回路および第2の遅延回路が直列に接
続されてなる単位遅延回路が少なくとも1組設けられて
なり、前記第1の遅延回路は、第1の入力回路と、前記
第1の入力回路の出力ノードに第1の抵抗素子および第
1のキャパシタが直列に接続されてなる第1のRC回路
と、前記第1の抵抗素子および第1のキャパシタの直列
接続ノードに入力ノードが接続された第1のCMOSイ
ンバータ回路とからなり、前記第2の遅延回路は、第2
の入力回路と、前記第2の入力回路の出力ノードに第2
の抵抗素子および第2のキャパシタが直列に接続されて
なる第2のRC回路と、前記第2の抵抗素子および第2
のキャパシタの直列接続ノードに入力ノードが接続され
た第2のCMOSインバータ回路とからなり、入力信号
の論理レベルの遷移に伴う前記第1のCMOSインバー
タ回路の入力電位の遷移方向と前記第2のCMOSイン
バータ回路の入力電位の遷移方向とは逆方向であること
を特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an RC delay circuit comprising at least one set of unit delay circuits each having a first delay circuit and a second delay circuit connected in series. A first RC circuit including a first input circuit, a first resistor element and a first capacitor connected in series to an output node of the first input circuit; A first CMOS inverter circuit having an input node connected to a series connection node of a first resistor element and a first capacitor, and the second delay circuit has a second delay circuit.
And an output node of the second input circuit
A second RC circuit in which a second resistance element and a second capacitor are connected in series;
A second CMOS inverter circuit in which an input node is connected to a series connection node of a capacitor of the second type, and a transition direction of an input potential of the first CMOS inverter circuit in accordance with a transition of a logic level of an input signal and the second CMOS inverter circuit. The input potential of the CMOS inverter circuit is opposite to the transition direction.

【0045】第2の発明のRC遅延回路は、第1の遅延
回路および第2の遅延回路が直列に接続されてなる単位
遅延回路が少なくとも1組設けられてなり、前記第1の
遅延回路は、第1のPMOSトランジスタと第1のNM
OSトランジスタのドレイン相互間に第1の抵抗素子が
挿入され、前記第1のPMOSトランジスタと第1のN
MOSトランジスタのゲート相互が接続された第1の入
力回路と、前記第1のPMOSトランジスタのドレイン
と放電電位ノードとの間に接続され、前記第1の抵抗素
子とともに第1のRC回路を形成する第1のキャパシタ
と、前記第1のPMOSトランジスタのドレインに入力
ノードが接続された第1のCMOSインバータ回路とか
らなり、前記第2の遅延回路は、第2のPMOSトラン
ジスタと第2のNMOSトランジスタのドレイン相互間
に第2の抵抗素子が挿入され、前記第2のPMOSトラ
ンジスタと第2のNMOSトランジスタのゲート相互が
接続された第2の入力回路と、前記第2のNMOSトラ
ンジスタのドレインと充電電位ノードとの間に接続さ
れ、前記第2の抵抗素子とともに第2のRC回路を形成
する第2のキャパシタと、前記第2のNMOSトランジ
スタのドレインに入力ノードが接続された第2のCMO
Sインバータ回路とからなることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an RC delay circuit comprising at least one set of unit delay circuits each including a first delay circuit and a second delay circuit connected in series. , A first PMOS transistor and a first NM
A first resistance element is inserted between the drains of the OS transistor, and the first PMOS transistor and the first N
A first input circuit in which the gates of the MOS transistors are connected to each other, and a drain connected to the drain of the first PMOS transistor and a discharge potential node to form a first RC circuit together with the first resistance element; A first CMOS inverter circuit having an input node connected to a drain of the first PMOS transistor, wherein the second delay circuit includes a second PMOS transistor and a second NMOS transistor A second input circuit in which a second resistance element is inserted between the drains of the second NMOS transistor and the gates of the second PMOS transistor and the second NMOS transistor are connected to each other; A second capacitor connected between the second node and a potential node to form a second RC circuit with the second resistance element; When the second CMO input node to the drain of the second NMOS transistor is connected
And an S inverter circuit.

【0046】第3の発明のRC遅延回路は、第1の遅延
回路および第2の遅延回路が直列に接続されてなる単位
遅延回路が少なくとも1組設けられてなり、前記第1の
遅延回路は、第1のPMOSトランジスタと第1のNM
OSトランジスタのドレイン相互間に第1の抵抗素子お
よび第2の抵抗素子が直列に挿入され、前記第1のPM
OSトランジスタと第1のNMOSトランジスタのゲー
ト相互が接続された第1の入力回路と、前記第1の抵抗
素子および第2の抵抗素子の直列接続ノードと放電電位
ノードとの間に接続された第1のキャパシタと、前記第
1の抵抗素子および第2の抵抗素子の直列接続ノードと
充電電位ノードとの間に接続された第2のキャパシタ
と、前記第1の抵抗素子および第2の抵抗素子の直列接
続ノードに入力ノードが接続された第1のCMOSイン
バータ回路とからなり、前記第2の遅延回路は、第2の
PMOSトランジスタと第2のNMOSトランジスタの
ドレイン相互間に第3の抵抗素子および第4の抵抗素子
が直列に挿入され、前記第2のPMOSトランジスタと
第2のNMOSトランジスタのゲート相互が接続された
第2の入力回路と、前記第3の抵抗素子および第4の抵
抗素子の直列接続ノードと放電電位ノードとの間に接続
された第3のキャパシタと、前記第3の抵抗素子および
第4の抵抗素子の直列接続ノードと充電電位ノードとの
間に接続された第4のキャパシタと、前記第3の抵抗素
子および第4の抵抗素子の直列接続ノードに入力ノード
が接続された第2のCMOSインバータ回路とからなる
ことを特徴とする。
The RC delay circuit according to a third aspect of the present invention is provided with at least one set of unit delay circuits each having a first delay circuit and a second delay circuit connected in series, wherein the first delay circuit is , A first PMOS transistor and a first NM
A first resistance element and a second resistance element are inserted in series between the drains of the OS transistor, and the first PM
A first input circuit in which the gates of the OS transistor and the first NMOS transistor are connected to each other; and a second input circuit connected between a series connection node of the first resistance element and the second resistance element and a discharge potential node. A first capacitor, a second capacitor connected between a series connection node of the first resistance element and the second resistance element and a charging potential node, and the first resistance element and the second resistance element A first CMOS inverter circuit having an input node connected to a series connection node of the first and second transistors, and the second delay circuit includes a third resistance element between a drain of a second PMOS transistor and a drain of a second NMOS transistor. And a second input circuit in which a fourth resistance element is inserted in series, and gates of the second PMOS transistor and the second NMOS transistor are connected to each other; A third capacitor connected between a series connection node of the third resistance element and the fourth resistance element and a discharge potential node; and a series connection node of the third resistance element and the fourth resistance element. A fourth capacitor connected between the third node and the charging potential node; and a second CMOS inverter circuit having an input node connected to a series connection node of the third resistor and the fourth resistor. Features.

【0047】第4の発明のRC遅延回路は、集積回路内
に、それぞれ抵抗素子とキャパシタを直列に接続したR
C回路を含む第1の遅延回路および第2の遅延回路が直
列に設けられ、入力信号の論理レベルの遷移に伴って、
前記第1の遅延回路におけるRC回路の抵抗素子とキャ
パシタとの接続ノードの電位および第2の遅延回路にお
けるRC回路の抵抗素子とキャパシタとの接続ノードの
電位が逆方向に遷移するように構成されてなることを特
徴とする。
A RC delay circuit according to a fourth aspect of the present invention is an RC delay circuit in which a resistance element and a capacitor are connected in series in an integrated circuit.
A first delay circuit and a second delay circuit including a C circuit are provided in series, and with the transition of the logic level of the input signal,
The potential of a connection node between the resistance element and the capacitor of the RC circuit in the first delay circuit and the potential of the connection node between the resistance element and the capacitor of the RC circuit in the second delay circuit transition in opposite directions. It is characterized by becoming.

【0048】[0048]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0049】<第1実施例>図1は、本発明の第1実施
例に係るRC遅延回路を示している。
<First Embodiment> FIG. 1 shows an RC delay circuit according to a first embodiment of the present invention.

【0050】図1に示すRC遅延回路は、集積回路内に
おいて、2種類の遅延回路11、12が奇数段(本例で
は1段)のCMOSインバータ回路13を介して直列に
接続されてなる遅延回路が少なくとも1組(本例では1
組)設けられている。
The RC delay circuit shown in FIG. 1 is a delay circuit in which two types of delay circuits 11 and 12 are connected in series via an odd-number (one in this example) CMOS inverter circuit 13 in an integrated circuit. At least one set of circuits (1 in this example)
Pairs) are provided.

【0051】上記遅延回路における第1の遅延回路11
は、2段のCMOSインバータIV1、IV2間の段間
に第1のRC回路110が挿入されてなる。この場合、
上記CMOSインバータIV1、IV2は、それぞれ例
えば図25に示すように、VCCノードと接地ノードとの
間にPMOSトランジスタTPのソース・ドレイン間と
NMOSトランジスタTNのドレイン・ソース間が直列
に接続され、上記PMOSトランジスタTPとNMOS
トランジスタTNのゲート同士が接続されてなる通常の
構成を有する。
First delay circuit 11 in the above delay circuit
Has a first RC circuit 110 inserted between the two stages of CMOS inverters IV1 and IV2. in this case,
In the CMOS inverters IV1 and IV2, for example, as shown in FIG. 25, the source-drain of the PMOS transistor TP and the drain-source of the NMOS transistor TN are connected in series between the VCC node and the ground node. PMOS transistor TP and NMOS
It has a normal configuration in which the gates of the transistor TN are connected to each other.

【0052】そして、第1のRC回路110は、抵抗素
子RとNMOSキャパシタCnが直列に接続され、上記
抵抗素子Rの一端側が前段のCMOSインバータIV1
の出力ノードに接続され、上記抵抗素子Rの他端側が次
段のCMOSインバータIV2の入力ノードに接続され
ている。
In the first RC circuit 110, a resistance element R and an NMOS capacitor Cn are connected in series, and one end of the resistance element R is connected to the CMOS inverter IV1 in the preceding stage.
And the other end of the resistance element R is connected to the input node of the next-stage CMOS inverter IV2.

【0053】つまり、上記抵抗素子Rの一端側は前段の
CMOSインバータIV1のNMOSトランジスタTN
のドレインに接続され、上記抵抗素子Rの他端側は次段
のCMOSインバータIV2のPMOSトランジスタT
Pのゲートに接続されている。
That is, one end of the resistance element R is connected to the NMOS transistor TN of the preceding CMOS inverter IV1.
The other end of the resistance element R is connected to the PMOS transistor T of the next-stage CMOS inverter IV2.
It is connected to the gate of P.

【0054】また、前記遅延回路における第2の遅延回
路12は、2段のCMOSインバータIV1、IV2間
の段間に第2のRC回路120が挿入されてなる。この
場合、上記第2のRC回路120は、抵抗素子RとPM
OSキャパシタCpが直列に接続され、上記抵抗素子R
の一端側が前段のCMOSインバータIV1の出力ノー
ドに接続され、上記抵抗素子Rの他端側が次段のCMO
SインバータIV2の入力ノードに接続されている。
The second delay circuit 12 in the delay circuit has a second RC circuit 120 inserted between the two stages of CMOS inverters IV1 and IV2. In this case, the second RC circuit 120 includes the resistance element R and the PM
An OS capacitor Cp is connected in series, and the resistance element R
Is connected to the output node of the preceding CMOS inverter IV1, and the other end of the resistance element R is connected to the next-stage CMOS inverter IV1.
It is connected to the input node of S inverter IV2.

【0055】つまり、上記抵抗素子Rの一端側は前段の
CMOSインバータIV1のPMOSトランジスタTP
のドレインに接続され、上記抵抗素子Rの他端側は次段
のCMOSインバータIV2のNMOSトランジスタT
Nのゲートに接続されている。
That is, one end of the resistance element R is connected to the PMOS transistor TP of the preceding CMOS inverter IV1.
The other end of the resistance element R is connected to the NMOS transistor T2 of the next-stage CMOS inverter IV2.
It is connected to the N gate.

【0056】ここで、図1に示した第1実施例に係るR
C遅延回路に関し、(a)PMOSトランジスタの閾値
VTPが設計値(例えば−0.6V)およびNMOSトラ
ンジスタの閾値VTNが設計値(例えば0.5V)の場合
と、(b)プロセスのばらつきによりPMOSトランジ
スタの閾値の絶対値|VTP|が0.2V増加し、NMO
Sトランジスタの閾値の絶対値|VTN|が例えば0.2
V減少した場合(VTPが−0.8V、VTNが0.3Vの
場合)と、(c)プロセスのばらつきによりPMOSト
ランジスタの閾値の絶対値|VTP|が0.2V減少し、
NMOSトランジスタの閾値が例えば0.2V増加した
場合(VTPが−0.4V、VTNが0.7Vの場合)につ
いて、入力信号電圧を“L”レベルから“H”レベルに
変化させた場合の入出力電圧の波形および主要ノードの
電圧波形のシミュレーション結果を図2および図3に示
す。
Here, the R according to the first embodiment shown in FIG.
Regarding the C delay circuit, (a) a case where the threshold value VTP of the PMOS transistor is a design value (for example, -0.6 V) and a threshold value VTN of the NMOS transistor is a design value (for example, 0.5 V); The absolute value of the threshold value of the transistor | VTP |
The absolute value of the threshold value of the S transistor | VTN |
V (when VTP is -0.8 V and VTN is 0.3 V), and (c) the absolute value | VTP |
For example, when the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V (when VTP is −0.4 V and VTN is 0.7 V), the input when the input signal voltage is changed from “L” level to “H” level Simulation results of the output voltage waveform and the voltage waveform of the main node are shown in FIGS.

【0057】図2(a)、(b)、(c)は、図1に示
した第1実施例のRC遅延回路のMOSトランジスタの
閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した(b)
のようにばらついた場合、前記した(c)のようにばら
ついた場合について、入力電圧Vin0、出力電圧Vout0 の
シミュレーション波形を示している。
FIGS. 2A, 2B, and 2C show the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the first embodiment shown in FIG. 1 is the aforementioned (a) design value. (B)
The simulation waveforms of the input voltage Vin0 and the output voltage Vout0 are shown for the case of the variation as shown in FIG.

【0058】図3(a)、(b)、(c)は、図1に示
した第1実施例のRC遅延回路のMOSトランジスタの
閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した(b)
のようにばらついた場合、前記した(c)のようにばら
ついた場合について、主要ノードの電圧Vin0、V1、V2、
V3、V5、V6のシミュレーション波形を示している。
FIGS. 3 (a), 3 (b) and 3 (c) show the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the first embodiment shown in FIG. (B)
In the case of the variation as shown in (c), the voltages Vin0, V1, V2,
7 shows simulation waveforms of V3, V5, and V6.

【0059】ここで、t1は入力電圧Vin0から中間ノード
の電圧V2までの信号伝達時間、t2は中間ノードの電圧V3
から中間ノードの電圧V6までの信号伝達時間を示してい
る。
Here, t1 is the signal transmission time from the input voltage Vin0 to the intermediate node voltage V2, and t2 is the intermediate node voltage V3
5 shows the signal transmission time from the signal V1 to the intermediate node voltage V6.

【0060】上記第1実施例のRC遅延回路のシミュレ
ーションの結果を、従来例1のRC遅延回路のシミュレ
ーションの結果と比較すると、従来例1のRC遅延回路
ではPMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOSト
ランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらつい
た場合に入出力特性は大きく変動しているが、第1実施
例のRC遅延回路ではPMOSトランジスタの閾値の絶
対値とNMOSトランジスタの閾値の絶対値とが互いに
逆方向にばらついた場合でも入出力特性は図2(a)、
(b)、(c)に示すように殆ど変化していない。
When the result of the simulation of the RC delay circuit of the first embodiment is compared with the result of the simulation of the RC delay circuit of the first conventional example, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS of the RC delay circuit of the first conventional example are compared. Although the input / output characteristics greatly fluctuate when the absolute value of the threshold value of the transistor varies in the opposite direction, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor in the RC delay circuit of the first embodiment. The input / output characteristics are shown in FIG.
(B) and (c) show little change.

【0061】この理由を述べる。The reason will be described.

【0062】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0063】図1中の第1の遅延回路11のインバータ
IV2の回路閾値が低下し、図3(b)に示すように信
号伝達時間t1の遅延が大きくなる。これに対して、図1
中の第2の遅延回路12のインバータIV2の回路閾値
も低下し、図3(b)に示すように信号伝達時間t2の遅
延は小さくなる。この場合、上記信号伝達時間t1、t2の
和は、閾値が設計値である場合とほぼ等しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the first delay circuit 11 in FIG. 1 decreases, and the delay of the signal transmission time t1 increases as shown in FIG. 3B. In contrast, FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the middle second delay circuit 12 also decreases, and the delay of the signal transmission time t2 decreases as shown in FIG. In this case, the sum of the signal transmission times t1 and t2 is substantially equal to the case where the threshold is a design value.

【0064】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0065】図1中の第1の遅延回路11のインバータ
IV2の回路閾値が上昇し、図3(c)に示すように信
号伝達時間の遅延が小さくなる。これに対して、図1中
の第2の遅延回路12のインバータIV2の回路閾値も
上昇し、図3(c)に示すように信号伝達時間t2の遅延
は大きくなる。この場合、上記信号伝達時間t1、t2の和
は、閾値が設計値である場合とほぼ等しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the first delay circuit 11 in FIG. 1 rises, and the delay in the signal transmission time decreases as shown in FIG. 3 (c). On the other hand, the circuit threshold of the inverter IV2 of the second delay circuit 12 in FIG. 1 also increases, and the delay of the signal transmission time t2 increases as shown in FIG. 3C. In this case, the sum of the signal transmission times t1 and t2 is substantially equal to the case where the threshold is a design value.

【0066】即ち、上記第1実施例のRC遅延回路は、
集積回路内において、それぞれ抵抗素子Rとキャパシタ
CnあるいはCpを直列に接続したRC回路110、1
20をそれぞれ含む第1の遅延回路11および第2の遅
延回路12が直列に設けられている。
That is, the RC delay circuit of the first embodiment is
In the integrated circuit, RC circuits 110 and 1 each having a resistance element R and a capacitor Cn or Cp connected in series are provided.
A first delay circuit 11 and a second delay circuit 12, each of which includes a second delay circuit 20, are provided in series.

【0067】そして、RC遅延回路に対する入力信号の
論理レベルの遷移に伴って、前記第1の遅延回路11の
RC回路110の抵抗素子RとキャパシタCnとの接続
ノードの電位(本例では第1の遅延回路11のCMOS
インバータ回路IV2の入力電位)V1および第2の遅延
回路12のRC回路120の抵抗素子RとキャパシタC
pとの接続ノードの電位VS(本例では第2の遅延回路1
2のCMOSインバータ回路IV2の入力電位)が逆方
向に遷移するように構成されている。
Then, with the transition of the logic level of the input signal to the RC delay circuit, the potential of the connection node between the resistance element R and the capacitor Cn of the RC circuit 110 of the first delay circuit 11 (the first node in this example). CMOS of delay circuit 11
Input potential of inverter circuit IV2) V1 and resistance element R and capacitor C of RC circuit 120 of second delay circuit 12
The potential VS of the connection node with the p (in this example, the second delay circuit 1
(The input potentials of the two CMOS inverter circuits IV2) transition in the opposite direction.

【0068】この場合、第1の遅延回路11の入力信号
の論理レベルの遷移方向に対して第2の遅延回路12の
入力信号の論理レベルの遷移方向が逆方向になるよう
に、2個の遅延回路の間に奇数段のインバータ回路13
が挿入されている。
In this case, the two transitions of the logic level of the input signal of the second delay circuit 12 are opposite to the transition direction of the logic level of the input signal of the first delay circuit 11. Odd-numbered inverter circuit 13 between delay circuits
Is inserted.

【0069】このような構成によって、回路に含まれる
PMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOSトラン
ジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらついた場
合でも、2個の遅延回路11、12の遅延時間の変化は
打ち消し合うようになり、全体として遅延時間のばらつ
きを抑制することができる。
With such a configuration, even when the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor included in the circuit vary in opposite directions, the delay time of the two delay circuits 11 and 12 is reduced. Changes cancel each other, and variations in delay time can be suppressed as a whole.

【0070】なお、第1の遅延回路11における入力側
の回路は、CMOSインバータIV1に限らず、第1の
RC回路110の抵抗素子Rと放電電位ノードとの間に
接続されたNMOSトランジスタを有する入力回路であ
ればよく、複数の入力信号を論理処理するCMOS論理
回路(例えばナンド回路、ノア回路)であってもよい。
The circuit on the input side of the first delay circuit 11 is not limited to the CMOS inverter IV1, but has an NMOS transistor connected between the resistance element R of the first RC circuit 110 and the discharge potential node. Any input circuit may be used, and a CMOS logic circuit (for example, a NAND circuit or a NOR circuit) that performs logical processing on a plurality of input signals may be used.

【0071】同様に、第2の遅延回路12における入力
側の回路も、CMOSインバータIV1に限らず、第2
のRC回路120の抵抗素子Rと充電電位ノードとの間
に接続されたPMOSトランジスタを有する入力回路で
あればよく、複数の入力信号を論理処理するCMOS論
理回路であってもよい。
Similarly, the circuit on the input side of the second delay circuit 12 is not limited to the CMOS inverter IV1 but may be the second circuit.
The input circuit may be any input circuit having a PMOS transistor connected between the resistance element R of the RC circuit 120 and the charging potential node, and may be a CMOS logic circuit that logically processes a plurality of input signals.

【0072】また、第1のRC回路110におけるキャ
パシタは、前記したようにNMOSトランジスタのドレ
イン・ソース同士を短絡して使用するNMOSキャパシ
タCnに限らず、他の構成のキャパシタであってもよい
が、設計およびプロセスの簡略化の観点からNMOSキ
ャパシタが望ましい。
The capacitor in the first RC circuit 110 is not limited to the NMOS capacitor Cn used by short-circuiting the drain and source of the NMOS transistor as described above, but may be a capacitor having another configuration. NMOS capacitors are desirable from the viewpoint of simplification of design and process.

【0073】同様に、第2のRC回路120におけるキ
ャパシタは、前記したようにPMOSトランジスタのド
レイン・ソース同士を短絡して使用するPMOSキャパ
シタCpに限らず、他の構成のキャパシタであってもよ
いが、設計およびプロセスの簡略化の観点からPMOS
キャパシタが望ましい。なお、以上におけるNMOS、
PMOSおよび容量素子は、ゲート絶縁膜が酸化膜以外
の絶縁膜で形成されたいわゆるMIS構造のものであっ
てもよいことはいうまでもなく、以下についても同様で
ある。
Similarly, the capacitor in the second RC circuit 120 is not limited to the PMOS capacitor Cp used by short-circuiting the drain and source of the PMOS transistor as described above, but may be a capacitor having another configuration. However, in terms of design and process simplification, PMOS
Capacitors are preferred. The above NMOS,
It goes without saying that the PMOS and the capacitor may have a so-called MIS structure in which the gate insulating film is formed of an insulating film other than an oxide film, and the same applies to the following.

【0074】さらに、上記第1実施例のRC遅延回路で
は、第1のRC回路110を備えた第1の遅延回路11
を前段、第2のRC回路120を備えた第2の遅延回路
12を後段に設けた構成としたが、第1の遅延回路11
および第2の遅延回路12の前後関係を入れ替えた構成
としてもよい。
Further, in the RC delay circuit of the first embodiment, the first delay circuit 11 having the first RC circuit 110
Is provided in the first stage, and the second delay circuit 12 including the second RC circuit 120 is provided in the second stage.
Alternatively, the configuration may be such that the order of the second delay circuit 12 is reversed.

【0075】また、第1の遅延回路11の遅延時間のば
らつきと第2の遅延回路12の遅延時間のばらつきとを
打ち消すためには、第1の遅延回路11における抵抗素
子Rの抵抗値とキャパシタCnの容量値およびCMOS
インバータIV2の入力ゲート容量値の和との積が、第
2の遅延回路12における抵抗素子Rの抵抗値とキャパ
シタCpの容量値およびCMOSインバータIV2の入
力ゲート容量値の和との積に略等しいことが望ましい
が、両者は許容範囲内で不均衡であっても支障はない。
In order to cancel the variation in the delay time of the first delay circuit 11 and the variation in the delay time of the second delay circuit 12, the resistance value of the resistance element R in the first delay circuit 11 and the capacitor Cn capacitance value and CMOS
The product of the sum of the input gate capacitance value of the inverter IV2 and the sum of the resistance value of the resistance element R in the second delay circuit 12, the capacitance value of the capacitor Cp, and the input gate capacitance value of the CMOS inverter IV2. It is desirable, but there is no problem if both are imbalanced within the allowable range.

【0076】ただし、第1の遅延回路11の抵抗素子R
の抵抗値と第2の遅延回路12の抵抗素子Rの抵抗値と
が略等しいように設定し、第1の遅延回路11のキャパ
シタCnの容量値と第2の遅延回路12のキャパシタC
pの容量値とが略等しいように設定し、第1の遅延回路
11のPMOSトランジスタのサイズと第2の遅延回路
12のPMOSトランジスタのサイズとが略等しいよう
に設定し、第1の遅延回路11のNMOSトランジスタ
のサイズと第2の遅延回路12のNMOSトランジスタ
のサイズとが略等しいように設定することが、設計の簡
略化の観点から特に望ましい。
However, the resistance element R of the first delay circuit 11
And the resistance value of the resistance element R of the second delay circuit 12 are set to be substantially equal, and the capacitance value of the capacitor Cn of the first delay circuit 11 and the capacitance value of the capacitor C of the second delay circuit 12 are set.
The first delay circuit 11 is set so that the capacitance value of the first delay circuit 11 and the size of the PMOS transistor of the second delay circuit 12 are substantially equal to each other. It is particularly desirable to set the size of the NMOS transistor 11 and the size of the NMOS transistor of the second delay circuit 12 to be substantially equal from the viewpoint of simplification of design.

【0077】<第2実施例>図4は、第2実施例に係る
RC遅延回路を示している。
<Second Embodiment> FIG. 4 shows an RC delay circuit according to a second embodiment.

【0078】図4に示すRC遅延回路は、図1に示した
第1実施例のRC遅延回路と比べて、(1)第1の遅延
回路41における抵抗素子RとNMOSキャパシタCn
との接続ノードとVCCノードとの間にPMOSキャパシ
タCpが付加接続されている点、(2)第2の遅延回路
42における抵抗素子RとPMOSキャパシタCpとの
接続ノードと接地ノードとの間にNMOSキャパシタC
nが付加接続されている点が異なり、その他は同じであ
る。
The RC delay circuit shown in FIG. 4 is different from the RC delay circuit of the first embodiment shown in FIG. 1 in that: (1) the resistance element R and the NMOS capacitor Cn in the first delay circuit 41;
That the PMOS capacitor Cp is additionally connected between the connection node of the second delay circuit 42 and the ground node between the resistance node R and the PMOS capacitor Cp in the second delay circuit 42. NMOS capacitor C
n is additionally connected, and the others are the same.

【0079】図5(a)、(b)、(c)は、図4に示
した第2実施例のRC遅延回路のMOSトランジスタの
閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した(b)
のようにばらついた場合、前記した(c)のようにばら
ついた場合について、入力電圧Vin1、出力電圧Vout1 の
シミュレーション波形を示している。
FIGS. 5A, 5B, and 5C show the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the second embodiment shown in FIG. 4 is the aforementioned (a) design value. (B)
The simulation waveforms of the input voltage Vin1 and the output voltage Vout1 are shown for the case of the variation as shown in FIG.

【0080】図6(a)、(b)、(c)は、図4に示
した第2実施例のRC遅延回路のMOSトランジスタの
閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した(b)
のようにばらついた場合、前記した(c)のようにばら
ついた場合について、主要ノードの電圧Vin1、V8、V9、
V10 、V12 、V13 のシミュレーション波形を示してい
る。ここで、t3は入力電圧Vin1から中間ノードの電圧V9
までの信号伝達時間、t4は中間ノードの電圧V10 から中
間ノードの電圧V13 までの信号伝達時間を示している。
FIGS. 6A, 6B, and 6C show the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the second embodiment shown in FIG. 4 is the aforementioned (a) design value. (B)
In the case of the variation as shown in (c), the voltages Vin1, V8, V9,
The simulation waveforms of V10, V12, and V13 are shown. Here, t3 is the voltage V9 of the intermediate node from the input voltage Vin1.
T4 indicates the signal transmission time from the intermediate node voltage V10 to the intermediate node voltage V13.

【0081】上記第2実施例のRC遅延回路のシミュレ
ーションの結果を、従来例2のRC遅延回路のシミュレ
ーションの結果と比較すると、従来例2のRC遅延回路
ではPMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOSト
ランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらつい
た場合に入出力波形(入出力特性)は大きく変動してい
るが、第2実施例のRC遅延回路ではPMOSトランジ
スタの閾値の絶対値とNMOSトランジスタの閾値の絶
対値とが互いに逆方向にばらついた場合でも図5
(a)、(b)、(c)に示すように入出力波形(入出
力特性)は殆ど変化していない。
When the result of the simulation of the RC delay circuit of the second embodiment is compared with the result of the simulation of the RC delay circuit of the second prior art, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS of the RC delay circuit of the second prior art are compared. Although the input / output waveform (input / output characteristics) greatly fluctuates when the absolute value of the threshold value of the transistor fluctuates in the opposite direction, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS value are different in the RC delay circuit of the second embodiment. Even when the absolute values of the threshold values of the transistors vary in the opposite directions, FIG.
As shown in (a), (b), and (c), the input / output waveform (input / output characteristics) hardly changes.

【0082】この理由を述べる。The reason will be described.

【0083】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0084】図4中の第1の遅延回路41のインバータ
IV2の回路閾値が低下し、図6(b)に示すように信
号伝達時間t3の遅延が大きくなる。これに対して、図4
中の第2の遅延回路42のインバータIV2の回路閾値
も低下し、図6(b)に示すように信号伝達時間t4の遅
延は小さくなる。この場合、上記信号伝達時間t3、t4の
和は、閾値が設計値である場合とほぼ等しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the first delay circuit 41 in FIG. 4 decreases, and the delay of the signal transmission time t3 increases as shown in FIG. 6B. In contrast, FIG.
The circuit threshold of the inverter IV2 of the middle second delay circuit 42 also decreases, and the delay of the signal transmission time t4 decreases as shown in FIG. 6B. In this case, the sum of the signal transmission times t3 and t4 is substantially equal to the case where the threshold value is a design value.

【0085】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0086】図4中の第1の遅延回路41のインバータ
IV2の回路閾値が上昇し、図6(c)に示すように信
号伝達時間t3の遅延が小さくなる。これに対して、図4
中の第2の遅延回路42のインバータIV2の回路閾値
も上昇し、図6(c)に示すように信号伝達時間t4の遅
延は大きくなる。この場合、上記信号伝達時間t3、t4の
和は、閾値が設計値である場合とほぼ等しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the first delay circuit 41 in FIG. 4 rises, and the delay of the signal transmission time t3 decreases as shown in FIG. 6C. In contrast, FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the middle second delay circuit 42 also increases, and the delay of the signal transmission time t4 increases as shown in FIG. In this case, the sum of the signal transmission times t3 and t4 is substantially equal to the case where the threshold value is a design value.

【0087】したがって、上記第2実施例のRC遅延回
路は、前記第1実施例のRC遅延回路と同様に、回路に
含まれるPMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMO
Sトランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばら
ついた場合でも、2個の遅延回路の遅延時間の変化は打
ち消し合うようになり、全体として遅延時間のばらつき
を抑制することができる。
Therefore, like the RC delay circuit of the first embodiment, the RC delay circuit of the second embodiment differs from the RC delay circuit of the first embodiment in that the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMO
Even when the absolute value of the threshold value of the S transistor varies in the opposite direction, the changes in the delay time of the two delay circuits cancel each other out, and the variation in the delay time can be suppressed as a whole.

【0088】しかも、上記第2実施例のRC遅延回路
は、前記第1実施例のRC遅延回路と比べて、入力信号
電圧が“L”レベルから“H”レベルに変化した場合
と、入力信号電圧が“H”レベルから“L”レベルに変
化した場合とで、ほぼ等しい遅延が得られ、かつ上記し
たようなMOSトランジスタの閾値電圧のばらつきがあ
っても全体としての遅延時間はほぼ等しい。
Further, the RC delay circuit of the second embodiment differs from the RC delay circuit of the first embodiment in that the input signal voltage changes from "L" level to "H" level, When the voltage changes from the "H" level to the "L" level, almost the same delay can be obtained, and even if the threshold voltage of the MOS transistor varies as described above, the overall delay time is almost the same.

【0089】なお、上記第2実施例のRC遅延回路にお
いても、前述した第1実施例のRC遅延回路と同様に、
種々の変形実施、適切な定数設定を行うことが可能であ
る。
The RC delay circuit of the second embodiment also has the same structure as the RC delay circuit of the first embodiment.
Various modifications can be made and appropriate constants can be set.

【0090】<第3実施例>図7は、第3実施例に係る
RC遅延回路を示している。
<Third Embodiment> FIG. 7 shows an RC delay circuit according to a third embodiment.

【0091】図7のRC遅延回路は、図1に示した第1
実施例のRC遅延回路と比べて、遅延回路が異なる。
The RC delay circuit shown in FIG. 7 uses the first delay circuit shown in FIG.
The delay circuit differs from the RC delay circuit of the embodiment.

【0092】即ち、図7に示すRC遅延回路は、集積回
路内において、2種類の遅延回路71、72が奇数段
(本例では1段)のCMOSインバータ回路73を介し
て直列に接続されてなる遅延回路が少なくとも1組(本
例では1組)設けられている。
That is, in the RC delay circuit shown in FIG. 7, in the integrated circuit, two types of delay circuits 71 and 72 are connected in series via an odd-numbered (one in this example) CMOS inverter circuit 73. At least one set (in this example, one set) is provided.

【0093】上記遅延回路における第1の遅延回路71
は、PMOSトランジスタTPとNMOSトランジスタ
TNのドレイン相互間に抵抗素子Rが挿入され、前記P
MOSトランジスタとNMOSトランジスタのゲート相
互が接続された変形CMOSインバータIV1aと、前
記PMOSトランジスタTPのドレインと接地ノードと
の間に接続されたNMOSキャパシタCnと、前記PM
OSトランジスタTPのドレインに入力ノードが接続さ
れた次段のCMOSインバータIV2とからなる。
First delay circuit 71 in the above delay circuit
The resistor R is inserted between the drains of the PMOS transistor TP and the NMOS transistor TN;
A modified CMOS inverter IV1a in which the gates of a MOS transistor and an NMOS transistor are connected to each other; an NMOS capacitor Cn connected between the drain of the PMOS transistor TP and a ground node;
It comprises a next-stage CMOS inverter IV2 in which the input node is connected to the drain of the OS transistor TP.

【0094】この場合、変形CMOSインバータIV1
aの抵抗素子Rと前記NMOSキャパシタCnにより第
3のRC回路が形成されている。つまり、上記第3のR
C回路の抵抗素子Rの一端側は前段の変形CMOSイン
バータIV1aのNMOSトランジスタTNのドレイン
に接続され、上記抵抗素子Rの他端側は次段のCMOS
インバータIV2のPMOSトランジスタ(図25のT
P)のゲートに接続されている。
In this case, the modified CMOS inverter IV1
A third RC circuit is formed by the resistance element R and the NMOS capacitor Cn. That is, the third R
One end of the resistance element R of the C circuit is connected to the drain of the NMOS transistor TN of the preceding modified CMOS inverter IV1a, and the other end of the resistance element R is connected to the next CMOS.
The PMOS transistor of the inverter IV2 (T in FIG. 25)
P).

【0095】また、上記遅延回路における第2の遅延回
路72は、PMOSトランジスタTPとNMOSトラン
ジスタTNのドレイン相互間に抵抗素子Rが挿入され、
前記PMOSトランジスタとNMOSトランジスタのゲ
ート相互が接続された変形CMOSインバータIV1b
と、前記NMOSトランジスタTNのドレインとVCCノ
ードとの間に接続されたPMOSキャパシタCpと、前
記NMOSトランジスタTNのドレインに入力ノードが
接続された次段のCMOSインバータIV2とからな
る。
In the second delay circuit 72 of the delay circuit, a resistance element R is inserted between the drains of the PMOS transistor TP and the NMOS transistor TN.
Modified CMOS inverter IV1b in which the gates of the PMOS transistor and the NMOS transistor are connected to each other
And a PMOS capacitor Cp connected between the drain of the NMOS transistor TN and the Vcc node, and a CMOS inverter IV2 at the next stage having an input node connected to the drain of the NMOS transistor TN.

【0096】この場合、変形CMOSインバータIV1
bの抵抗素子Rと前記PMOSキャパシタCnにより第
4のRC回路が形成されている。つまり、上記第4のR
C回路の抵抗素子Rの一端側は前段の変形CMOSイン
バータIV1bのPMOSトランジスタTPのドレイン
に接続され、上記抵抗素子Rの他端側は次段のCMOS
インバータIV2のNMOSトランジスタ(図25のT
N)のゲートに接続されている。
In this case, the modified CMOS inverter IV1
A fourth RC circuit is formed by the resistance element R of b and the PMOS capacitor Cn. That is, the fourth R
One end of the resistance element R of the C circuit is connected to the drain of the PMOS transistor TP of the preceding modified CMOS inverter IV1b, and the other end of the resistance element R is connected to the next CMOS.
The NMOS transistor of the inverter IV2 (T in FIG. 25)
N).

【0097】図8(a)、(b)、(c)は、図7に示
した第3実施例のRC遅延回路のMOSトランジスタの
閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した(b)
のようにばらついた場合、前記した(c)のようにばら
ついた場合について、入力電圧Vin0、出力電圧Vout0 の
シミュレーション波形を示している。
FIGS. 8A, 8B and 8C show the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the third embodiment shown in FIG. 7 is the aforementioned (a) design value. (B)
The simulation waveforms of the input voltage Vin0 and the output voltage Vout0 are shown for the case of the variation as shown in FIG.

【0098】図9(a)、(b)、(c)は、図7に示
した第3実施例のRC遅延回路のMOSトランジスタの
閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した(b)
のようにばらついた場合、前記した(c)のようにばら
ついた場合について、主要ノードの電圧Vin0、V0、V1、
V2、V3、V4のシミュレーション波形を示している。ここ
で、t1は入力電圧Vin0から中間ノードの電圧V1までの信
号伝達時間、t2は中間ノードの電圧V2から中間ノードの
電圧V4までの信号伝達時間を示している。
FIGS. 9 (a), 9 (b) and 9 (c) show the case where the threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit of the third embodiment shown in FIG. (B)
In the case of the variation as shown in (c), the voltages Vin0, V0, V1,
7 shows simulation waveforms of V2, V3, and V4. Here, t1 indicates the signal transmission time from the input voltage Vin0 to the intermediate node voltage V1, and t2 indicates the signal transmission time from the intermediate node voltage V2 to the intermediate node voltage V4.

【0099】上記第3実施例のRC遅延回路のシミュレ
ーションの結果を、従来例3のRC遅延回路のシミュレ
ーションの結果と比較すると、従来例3のRC遅延回路
ではPMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMOSト
ランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばらつい
た場合に入出力波形(入出力特性)は大きく変動してい
るが、第2実施例のRC遅延回路ではPMOSトランジ
スタの閾値の絶対値とNMOSトランジスタの閾値の絶
対値とが互いに逆方向にばらついた場合でも図8
(a)、(b)、(c)に示すように入出力波形(入出
力特性)は殆ど変化していない。
When the result of the simulation of the RC delay circuit of the third embodiment is compared with the result of the simulation of the RC delay circuit of the third conventional example, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS of the RC delay circuit of the third conventional example are compared. Although the input / output waveform (input / output characteristics) greatly fluctuates when the absolute value of the threshold value of the transistor fluctuates in the opposite direction, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMOS value are different in the RC delay circuit of the second embodiment. Even when the absolute values of the threshold values of the transistors vary in opposite directions, FIG.
As shown in (a), (b), and (c), the input / output waveform (input / output characteristics) hardly changes.

【0100】この理由を述べる。The reason will be described.

【0101】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0102】図7中の第1の遅延回路71のインバータ
IV2の回路閾値が低下し、図9(b)に示すように信
号伝達時間t1の遅延が大きくなる。これに対して、図7
中の第2の遅延回路72のインバータIV2の回路閾値
も低下し、図9(b)に示すように信号伝達時間t2の遅
延は小さくなる。この場合、上記信号伝達時間t1、t2の
和は、閾値が設計値である場合とほぼ等しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the first delay circuit 71 in FIG. 7 decreases, and the delay of the signal transmission time t1 increases as shown in FIG. 9B. In contrast, FIG.
The circuit threshold value of the inverter IV2 of the second delay circuit 72 in the middle also decreases, and the delay of the signal transmission time t2 decreases as shown in FIG. 9B. In this case, the sum of the signal transmission times t1 and t2 is substantially equal to the case where the threshold is a design value.

【0103】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0104】図7中の第1の遅延回路71のインバータ
IV2の回路閾値が上昇し、図9(c)に示すように信
号伝達時間t1の遅延が小さくなる。これに対して、図7
中の第2の遅延回路72のインバータIV2の回路閾値
も上昇し、図9(c)に示すように信号伝達時間t2の遅
延は大きくなる。この場合、上記信号伝達時間t1、t2の
和は、閾値が設計値である場合とほぼ等しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the first delay circuit 71 in FIG. 7 rises, and the delay of the signal transmission time t1 decreases as shown in FIG. 9C. In contrast, FIG.
The circuit threshold of the inverter IV2 of the second middle delay circuit 72 also increases, and the delay of the signal transmission time t2 increases as shown in FIG. 9C. In this case, the sum of the signal transmission times t1 and t2 is substantially equal to the case where the threshold is a design value.

【0105】したがって、上記第3実施例のRC遅延回
路は、前記第1実施例のRC遅延回路と同様に、回路に
含まれるPMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMO
Sトランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばら
ついた場合でも、2個の遅延回路の遅延時間の変化は打
ち消し合うようになり、全体として遅延時間のばらつき
を抑制することができる。
Therefore, the RC delay circuit of the third embodiment, like the RC delay circuit of the first embodiment, has the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the NMO of the PMOS transistor included in the circuit.
Even when the absolute value of the threshold value of the S transistor varies in the opposite direction, the changes in the delay time of the two delay circuits cancel each other out, and the variation in the delay time can be suppressed as a whole.

【0106】なお、上記第3実施例のRC遅延回路にお
いても、前述した第1実施例のRC遅延回路と同様に、
種々の変形実施、適切な定数設定を行うことが可能であ
る。
The RC delay circuit of the third embodiment also has the same structure as the RC delay circuit of the first embodiment.
Various modifications can be made and appropriate constants can be set.

【0107】<第4実施例>図10は、第4実施例に係
るRC遅延回路を示している。
<Fourth Embodiment> FIG. 10 shows an RC delay circuit according to a fourth embodiment.

【0108】図10のRC遅延回路は、図7に示した第
3実施例のRC遅延回路と比べて、遅延回路が異なる。
The RC delay circuit of FIG. 10 differs from the RC delay circuit of the third embodiment shown in FIG. 7 in the delay circuit.

【0109】即ち、図10に示すRC遅延回路は、集積
回路内において、少なくとも2個(本例では2個)の遅
延回路100が奇数段(本例では1段)のCMOSイン
バータ回路73を介して直列に接続されてなる単位遅延
回路が少なくとも1組(本例では1組)設けられてい
る。
That is, in the RC delay circuit shown in FIG. 10, at least two (two in this example) delay circuits 100 are connected via odd-numbered (one in this example) CMOS inverter circuit 73 in the integrated circuit. At least one set of unit delay circuits (one set in this example) connected in series is provided.

【0110】この遅延回路100は、PMOSトランジ
スタTPとNMOSトランジスタTNのドレイン相互間
に2個の抵抗素子R1、R2が挿入され、ゲート相互が
接続された変形CMOSインバータIV1cと、前記2
個の抵抗素子R1、R2の直列接続ノードと接地ノード
との間に接続されたNMOSキャパシタCnと、前記2
個の抵抗素子R1、R2の直列接続ノードとVCCノード
との間に接続されたPMOSキャパシタCpと、前記2
個の抵抗素子R1、R2の直列接続ノードに入力ノード
が接続された次段のCMOSインバータIV2とからな
る。
The delay circuit 100 includes a modified CMOS inverter IV1c in which two resistance elements R1 and R2 are inserted between the drains of a PMOS transistor TP and an NMOS transistor TN, and whose gates are connected to each other.
An NMOS capacitor Cn connected between a series connection node of the resistance elements R1 and R2 and a ground node;
A PMOS capacitor Cp connected between a series connection node of the resistance elements R1 and R2 and a Vcc node;
It comprises a next-stage CMOS inverter IV2 in which an input node is connected to a series connection node of the resistance elements R1 and R2.

【0111】この場合、前段の遅延回路100におい
て、変形CMOSインバータIV1cの1個の抵抗素子
R2と前記NMOSキャパシタCnにより第3のRC回
路が形成されている。つまり、上記第3のRC回路の抵
抗素子R2の一端側は前段の変形CMOSインバータI
V1cのNMOSトランジスタTNのドレインに接続さ
れ、上記抵抗素子R1の他端側は次段のCMOSインバ
ータIV2のPMOSトランジスタ(図25のTP)の
ゲートに接続されている。
In this case, in the delay circuit 100 in the preceding stage, a third RC circuit is formed by one resistance element R2 of the modified CMOS inverter IV1c and the NMOS capacitor Cn. That is, one end of the resistance element R2 of the third RC circuit is connected to the modified CMOS inverter I of the preceding stage.
The other end of the resistance element R1 is connected to the gate of the PMOS transistor (TP in FIG. 25) of the next-stage CMOS inverter IV2.

【0112】また、後段の遅延回路100において、変
形CMOSインバータIV1cの1個の抵抗素子R1と
前記PMOSキャパシタCpにより第4のRC回路が形
成されている。つまり、上記第4のRC回路の抵抗素子
R1の一端側は前段の変形CMOSインバータIV1c
のPMOSトランジスタTPのドレインに接続され、上
記抵抗素子R1の他端側は次段のCMOSインバータI
V2のNMOSトランジスタ(図25のTN)のゲート
に接続されている。
In the delay circuit 100 at the subsequent stage, a fourth RC circuit is formed by one resistance element R1 of the modified CMOS inverter IV1c and the PMOS capacitor Cp. In other words, one end of the resistance element R1 of the fourth RC circuit is connected to the former modified CMOS inverter IV1c.
And the other end of the resistor R1 is connected to the next-stage CMOS inverter I.
It is connected to the gate of the NMOS transistor V2 (TN in FIG. 25).

【0113】図11(a)、(b)、(c)は、図10
に示した第4実施例のRC遅延回路のMOSトランジス
タの閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、入力電圧Vin1、出力電圧Vo
ut1 のシミュレーション波形を示している。
FIGS. 11A, 11B, and 11C are diagrams of FIG.
The threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit according to the fourth embodiment shown in (a) varies as shown in (b) in the case of the above (a) design value, and as shown in (c) above. For the case, the input voltage Vin1 and the output voltage Vo
The simulation waveform of ut1 is shown.

【0114】図12(a)、(b)、(c)は、図10
に示した第4実施例のRC遅延回路のMOSトランジス
タの閾値が、前記した(a)設計値の場合、前記した
(b)のようにばらついた場合、前記した(c)のよう
にばらついた場合について、主要ノードの電圧Vin1、V
5、V6、V7、V8、V9のシミュレーション波形を示してい
る。ここで、t3は入力電圧Vin1から中間ノードの電圧V6
までの信号伝達時間、t4は中間ノードの電圧V7から中間
ノードの電圧V9までの信号伝達時間を示している。
FIGS. 12A, 12B, and 12C are diagrams of FIG.
The threshold value of the MOS transistor of the RC delay circuit according to the fourth embodiment shown in (a) varies as shown in (b) in the case of the above (a) design value, and as shown in (c) above. For the case, the main node voltage Vin1, V
5 shows simulation waveforms of V6, V7, V8, and V9. Here, t3 is from the input voltage Vin1 to the voltage V6 of the intermediate node.
T4 indicates a signal transmission time from the intermediate node voltage V7 to the intermediate node voltage V9.

【0115】上記第4実施例に係るRC遅延回路のシミ
ュレーションの結果を、従来例4のRC遅延回路のシミ
ュレーションの結果と比較すると、従来例4のRC遅延
回路ではPMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMO
Sトランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばら
ついた場合に入出力波形(入出力特性)は大きく変動し
ているが、第4実施例のRC遅延回路ではPMOSトラ
ンジスタの閾値の絶対値とNMOSトランジスタの閾値
の絶対値とが互いに逆方向にばらついた場合でも図11
(a)、(b)、(c)に示すように入出力波形(入出
力特性)は殆ど変化していない。
When the result of the simulation of the RC delay circuit according to the fourth embodiment is compared with the result of the simulation of the RC delay circuit of the fourth prior art, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor in the RC delay circuit of the fourth prior art is NMO
When the absolute value of the threshold value of the S transistor fluctuates in the opposite direction, the input / output waveform (input / output characteristics) greatly fluctuates. However, in the RC delay circuit of the fourth embodiment, the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the input / output waveform are different. Even when the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor fluctuates in the opposite direction to each other, FIG.
As shown in (a), (b), and (c), the input / output waveform (input / output characteristics) hardly changes.

【0116】また、上記第4実施例に係るRC遅延回路
は、前記第3実施例のRC遅延回路と比べて、入力信号
電圧が“L”レベルから“H”レベルに変化した場合
と、入力信号電圧が“H”レベルから“L”レベルに変
化した場合とで、ほぼ等しい遅延が得られ、かつ上記し
たようなMOSトランジスタの閾値電圧のばらつきがあ
っても全体としての遅延時間はほぼ等しい。
The RC delay circuit according to the fourth embodiment differs from the RC delay circuit of the third embodiment in that the input signal voltage changes from "L" level to "H" level, When the signal voltage changes from the "H" level to the "L" level, substantially equal delays can be obtained, and the overall delay time is substantially equal even if there is variation in the threshold voltage of the MOS transistor as described above. .

【0117】この理由を述べる。The reason will be described.

【0118】1)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V増加し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V減少した場合。
1) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor increases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor decreases by 0.2 V.

【0119】図10中の前段の遅延回路100のインバ
ータIV2の回路閾値が低下し、図12(b)に示すよ
うに信号伝達時間t3の遅延が大きくなる。これに対し
て、図10中の後段の遅延回路100のインバータIV
2の回路閾値も低下し、図12(b)に示すように信号
伝達時間t4の遅延は小さくなる。この場合、上記信号伝
達時間t3、t4の和は、閾値が設計値である場合とほぼ等
しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 100 at the preceding stage in FIG. 10 decreases, and the delay of the signal transmission time t3 increases as shown in FIG. 12B. On the other hand, the inverter IV of the delay circuit 100 at the subsequent stage in FIG.
The circuit threshold value of No. 2 also decreases, and the delay of the signal transmission time t4 decreases as shown in FIG. In this case, the sum of the signal transmission times t3 and t4 is substantially equal to the case where the threshold value is a design value.

【0120】2)PMOSトランジスタの閾値の絶対値
が0.2V減少し、NMOSトランジスタの閾値の絶対
値が0.2V増加した場合。
2) The case where the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor decreases by 0.2 V and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor increases by 0.2 V.

【0121】図10中の前段の遅延回路100のインバ
ータIV2の回路閾値が上昇し、図12(c)に示すよ
うに信号伝達時間t3の遅延が小さくなる。これに対し
て、図10中の後段の遅延回路100のインバータIV
2の回路閾値も上昇し、図12(c)に示すように信号
伝達時間t4の遅延は大きくなる。この場合、上記信号伝
達時間t3、t4の和は、閾値が設計値である場合とほぼ等
しくなる。
The circuit threshold of the inverter IV2 of the delay circuit 100 at the preceding stage in FIG. 10 rises, and the delay of the signal transmission time t3 decreases as shown in FIG. On the other hand, the inverter IV of the delay circuit 100 at the subsequent stage in FIG.
The circuit threshold value of 2 also increases, and the delay of the signal transmission time t4 increases as shown in FIG. In this case, the sum of the signal transmission times t3 and t4 is substantially equal to the case where the threshold value is a design value.

【0122】したがって、上記第4実施例のRC遅延回
路は、前記第1実施例のRC遅延回路と同様に、回路に
含まれるPMOSトランジスタの閾値の絶対値とNMO
Sトランジスタの閾値の絶対値とが互いに逆方向にばら
ついた場合でも、2個の遅延回路の遅延時間の変化は打
ち消し合うようになり、全体として遅延時間のばらつき
を抑制することができる。
Therefore, the RC delay circuit of the fourth embodiment, like the RC delay circuit of the first embodiment, has the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor included in the circuit and the NMO.
Even when the absolute value of the threshold value of the S transistor varies in the opposite direction, the changes in the delay time of the two delay circuits cancel each other out, and the variation in the delay time can be suppressed as a whole.

【0123】しかも、上記第4実施例のRC遅延回路
は、前記第1実施例のRC遅延回路と比べて、入力信号
電圧が“L”レベルから“H”レベルに変化した場合
と、入力信号電圧が“H”レベルから“L”レベルに変
化した場合とで、ほぼ等しい遅延が選られ、かつ上記し
たようなMOSトランジスタの閾値電圧のばらつきがあ
っても全体としての遅延時間はほぼ等しい。
Further, the RC delay circuit of the fourth embodiment is different from the RC delay circuit of the first embodiment in that the input signal voltage changes from "L" level to "H" level, When the voltage changes from the "H" level to the "L" level, substantially equal delays are selected, and the overall delay time is substantially equal even if there is variation in the threshold voltage of the MOS transistor as described above.

【0124】なお、上記第4実施例のRC遅延回路にお
いても、前述した第1実施例のRC遅延回路と同様に、
種々の変形実施、適切な定数設定を行うことが可能であ
る。この場合、各段の遅延回路100において、抵抗素
子R1の抵抗値と抵抗素子R2の抵抗値とが略等しく、
キャパシタCnの容量値とキャパシタCpの容量値とが
略等しく、前段の遅延回路100と後段の遅延回路10
0との間で抵抗素子R1の抵抗値、抵抗素子R2の抵抗
値、キャパシタCnの容量値、キャパシタCpの容量値
がそれぞれ略等しいように設定することが、設計の簡略
化の観点から特に望ましい。
Note that the RC delay circuit of the fourth embodiment is also similar to the RC delay circuit of the first embodiment described above.
Various modifications can be made and appropriate constants can be set. In this case, in the delay circuit 100 of each stage, the resistance value of the resistance element R1 is substantially equal to the resistance value of the resistance element R2,
The capacitance value of the capacitor Cn is substantially equal to the capacitance value of the capacitor Cp, and the delay circuit 100 in the first stage and the delay circuit 10 in the second stage
It is particularly desirable from the viewpoint of simplification of design that the resistance value of the resistance element R1, the resistance value of the resistance element R2, the capacitance value of the capacitor Cn, and the capacitance value of the capacitor Cp are set to be substantially equal to zero. .

【0125】[0125]

【発明の効果】上述したように本発明のRC遅延回路に
よれば、回路に含まれるPMOSトランジスタの閾値の
絶対値とNMOSトランジスタの閾値の絶対値とが互い
に逆方向にばらついた場合でも、遅延時間のばらつきを
抑制することができる。
As described above, according to the RC delay circuit of the present invention, even when the absolute value of the threshold value of the PMOS transistor and the absolute value of the threshold value of the NMOS transistor included in the circuit vary in the opposite directions, the delay can be reduced. Time variation can be suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係るRC遅延回路を示す
回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an RC delay circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のRC遅延回路においてPMOSトランジ
スタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値の場
合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合のシミ
ュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
FIG. 2 is a diagram showing waveforms of input / output voltages obtained by simulation in a case where a threshold value of a PMOS transistor and a threshold value of an NMOS transistor in the RC delay circuit in FIG.

【図3】図1のRC遅延回路においてPMOSトランジ
スタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値の場
合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合のシミ
ュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す図。
3 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 1 when a threshold value of a PMOS transistor and a threshold value of an NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図4】本発明の第2実施例に係るRC遅延回路を示す
回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an RC delay circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図5】図4のRC遅延回路においてPMOSトランジ
スタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値の場
合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合のシミ
ュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing waveforms of input / output voltages obtained by simulation when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor in the RC delay circuit of FIG. 4 are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図6】図4のRC遅延回路においてPMOSトランジ
スタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値の場
合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合のシミ
ュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す図。
FIG. 6 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 4 when the threshold value of a PMOS transistor and the threshold value of an NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図7】本発明の第3実施例に係るRC遅延回路を示す
回路図。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an RC delay circuit according to a third embodiment of the present invention.

【図8】図7のRC遅延回路においてPMOSトランジ
スタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値の場
合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合のシミ
ュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
8 is a diagram showing input / output voltage waveforms obtained by simulation in the RC delay circuit of FIG. 7 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図9】図7のRC遅延回路においてPMOSトランジ
スタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値の場
合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合のシミ
ュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す図。
9 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 7 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図10】本発明の第4実施例に係るRC遅延回路を示
す回路図。
FIG. 10 is a circuit diagram showing an RC delay circuit according to a fourth embodiment of the present invention.

【図11】図10のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
11 is a diagram showing input / output voltage waveforms obtained by simulation in the RC delay circuit of FIG. 10 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図12】図10のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す
図。
12 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 10 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図13】従来例1のRC遅延回路を示す回路図。FIG. 13 is a circuit diagram showing an RC delay circuit of Conventional Example 1.

【図14】図13のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
14 is a diagram showing input / output voltage waveforms obtained by simulation when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor in the RC delay circuit of FIG. 13 are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図15】図13のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す
図。
FIG. 15 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 13 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図16】従来例2のRC遅延回路を示す回路図。FIG. 16 is a circuit diagram showing an RC delay circuit of Conventional Example 2.

【図17】図16のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
FIG. 17 is a diagram showing waveforms of input / output voltages obtained by simulation in the RC delay circuit of FIG. 16 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図18】図16のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す
図。
FIG. 18 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 16 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図19】従来例3のRC遅延回路を示す回路図。FIG. 19 is a circuit diagram showing an RC delay circuit of Conventional Example 3.

【図20】図19のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
20 is a diagram showing input / output voltage waveforms obtained by simulation when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor in the RC delay circuit of FIG. 19 are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図21】図19のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す
図。
FIG. 21 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 19 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is scattered in two different directions.

【図22】従来例4のRC遅延回路を示す回路図。FIG. 22 is a circuit diagram showing an RC delay circuit of Conventional Example 4.

【図23】図22のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる入出力電圧の波形を示す図。
23 is a diagram showing waveforms of input and output voltages obtained by simulation in the RC delay circuit of FIG. 22 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図24】図22のRC遅延回路においてPMOSトラ
ンジスタの閾値とNMOSトランジスタの閾値が設計値
の場合および互いに逆方向にばらついた2通りの場合の
シミュレーションによる主要ノードの電圧の波形を示す
図。
24 is a diagram showing waveforms of voltages at main nodes in simulations in the RC delay circuit of FIG. 22 when the threshold value of the PMOS transistor and the threshold value of the NMOS transistor are designed values and when the threshold value is varied in two different directions.

【図25】従来例および実施例で使用されるCMOSイ
ンバータの一例を示す回路図。
FIG. 25 is a circuit diagram showing an example of a CMOS inverter used in a conventional example and an embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…第1の遅延回路、 110…第1のRC回路、 12…第2の遅延回路、 120…第2のRC回路、 13、IV1、IV2…インバータ回路、 R…抵抗素子、 Cn…NMOSキャパシタ、 Cp…PMOSキャパシタ。 11: first delay circuit, 110: first RC circuit, 12: second delay circuit, 120: second RC circuit, 13, IV1, IV2: inverter circuit, R: resistance element, Cn: NMOS capacitor , Cp ... PMOS capacitor.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹内 義昭 神奈川県川崎市幸区堀川町580番1号 株 式会社東芝半導体システム技術センター内 Fターム(参考) 5J001 AA05 BB10 BB11 BB12 BB17 CC03 DD01 DD04  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Yoshiaki Takeuchi 580-1, Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in the Toshiba Semiconductor System Technology Center (reference) 5J001 AA05 BB10 BB11 BB12 BB17 CC03 DD01 DD04

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1の遅延回路および第2の遅延回路が
直列に接続されてなる単位遅延回路が少なくとも1組設
けられてなり、 前記第1の遅延回路は、 第1の入力回路と、 前記第1の入力回路の出力ノードに第1の抵抗素子およ
び第1のキャパシタが直列に接続されてなる第1のRC
回路と、 前記第1の抵抗素子および第1のキャパシタの直列接続
ノードに入力ノードが接続された第1のCMOSインバ
ータ回路とからなり、 前記第2の遅延回路は、 第2の入力回路と、 前記第2の入力回路の出力ノードに第2の抵抗素子およ
び第2のキャパシタが直列に接続されてなる第2のRC
回路と、 前記第2の抵抗素子および第2のキャパシタの直列接続
ノードに入力ノードが接続された第2のCMOSインバ
ータ回路とからなり、 入力信号の論理レベルの遷移に伴う前記第1のCMOS
インバータ回路の入力電位の遷移方向と前記第2のCM
OSインバータ回路の入力電位の遷移方向とは逆方向で
あることを特徴とするRC遅延回路。
At least one set of unit delay circuits each comprising a first delay circuit and a second delay circuit connected in series is provided, wherein the first delay circuit comprises: a first input circuit; A first RC having a first resistance element and a first capacitor connected in series to an output node of the first input circuit;
A first CMOS inverter circuit having an input node connected to a series connection node of the first resistance element and the first capacitor, wherein the second delay circuit has a second input circuit; A second RC having a second resistance element and a second capacitor connected in series to an output node of the second input circuit;
And a second CMOS inverter circuit having an input node connected to a series connection node of the second resistance element and the second capacitor, wherein the first CMOS circuit is connected to a transition of a logic level of an input signal.
The transition direction of the input potential of the inverter circuit and the second CM
An RC delay circuit having a direction opposite to a transition direction of an input potential of an OS inverter circuit.
【請求項2】 請求項1記載のRC遅延回路において、 前記第1の入力回路は、その出力ノードと放電電位ノー
ドとの間に接続された第1のNMOSトランジスタを有
し、前記第1のキャパシタから前記第1の抵抗素子およ
び前記第1のNMOSトランジスタを通じて放電される
時に前記第1のCMOSインバータ回路の入力電位が
“H”レベルから“L”レベルに遷移し、 前記第2の入力回路は、その出力ノードと充電電位ノー
ドとの間に接続された第1のPMOSトランジスタを有
し、前記第2のキャパシタから前記第2の抵抗素子およ
び前記第1のPMOSトランジスタを通じて充電される
時に前記第2のCMOSインバータ回路の入力電位が
“L”レベルから“H”レベルに遷移することを特徴と
するRC遅延回路。
2. The RC delay circuit according to claim 1, wherein said first input circuit has a first NMOS transistor connected between an output node thereof and a discharge potential node, and The input potential of the first CMOS inverter circuit transitions from “H” level to “L” level when discharged from the capacitor through the first resistance element and the first NMOS transistor, and the second input circuit Has a first PMOS transistor connected between its output node and a charging potential node, and is charged when charged from the second capacitor through the second resistance element and the first PMOS transistor. An RC delay circuit wherein the input potential of the second CMOS inverter circuit changes from "L" level to "H" level.
【請求項3】 請求項2記載のRC遅延回路において、 前記第1の入力回路は、前記第1のNMOSトランジス
タのドレイン、ゲートに対応して第2のPMOSトラン
ジスタのドレイン、ゲートが接続されてなるCMOSイ
ンバータ回路あるいは複数の入力信号を論理処理するC
MOS論理回路であり、 前記第2の入力回路は、前記第1のPMOSトランジス
タのドレイン、ゲートに対応して第2のNMOSトラン
ジスタのドレイン、ゲートが接続されてなるCMOSイ
ンバータ回路あるいは複数の入力信号を論理処理するC
MOS論理回路であることを特徴とするRC遅延回路。
3. The RC delay circuit according to claim 2, wherein the first input circuit has a drain and a gate of a second PMOS transistor connected to a drain and a gate of the first NMOS transistor. CMOS inverter circuit or C for logically processing a plurality of input signals
A MOS logic circuit, wherein the second input circuit is a CMOS inverter circuit having a drain and a gate of a second NMOS transistor connected to a drain and a gate of the first PMOS transistor, or a plurality of input signals. C to logically process
An RC delay circuit, which is a MOS logic circuit.
【請求項4】 第1の遅延回路および第2の遅延回路が
直列に接続されてなる単位遅延回路が少なくとも1組設
けられてなり、 前記第1の遅延回路は、 第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジ
スタのドレイン相互間に第1の抵抗素子が挿入され、前
記第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトラン
ジスタのゲート相互が接続された第1の入力回路と、 前記第1のPMOSトランジスタのドレインと放電電位
ノードとの間に接続され、前記第1の抵抗素子とともに
第1のRC回路を形成する第1のキャパシタと、 前記第1のPMOSトランジスタのドレインに入力ノー
ドが接続された第1のCMOSインバータ回路とからな
り、 前記第2の遅延回路は、 第2のPMOSトランジスタと第2のNMOSトランジ
スタのドレイン相互間に第2の抵抗素子が挿入され、前
記第2のPMOSトランジスタと第2のNMOSトラン
ジスタのゲート相互が接続された第2の入力回路と、 前記第2のNMOSトランジスタのドレインと充電電位
ノードとの間に接続され、前記第2の抵抗素子とともに
第2のRC回路を形成する第2のキャパシタと、 前記第2のNMOSトランジスタのドレインに入力ノー
ドが接続された第2のCMOSインバータ回路とからな
ることを特徴とするRC遅延回路。
4. At least one set of unit delay circuits each comprising a first delay circuit and a second delay circuit connected in series is provided, wherein the first delay circuit comprises a first PMOS transistor and a second PMOS transistor. A first input circuit in which a first resistance element is inserted between drains of the first NMOS transistor and a gate of the first PMOS transistor and a gate of the first NMOS transistor are connected to each other; A first capacitor connected between the drain of the first PMOS transistor and a discharge potential node to form a first RC circuit together with the first resistance element; and a first capacitor having an input node connected to the drain of the first PMOS transistor. A second CMOS inverter circuit, and the second delay circuit includes a drain of a second PMOS transistor and a second NMOS transistor. A second input circuit in which a second resistance element is inserted between the gates and the gates of the second PMOS transistor and the second NMOS transistor are connected to each other; a drain of the second NMOS transistor and a charging potential A second capacitor connected between the second resistor and a second resistor, the second capacitor forming a second RC circuit with the second resistance element; a second CMOS inverter circuit having an input node connected to a drain of the second NMOS transistor An RC delay circuit comprising:
【請求項5】 第1の遅延回路および第2の遅延回路が
直列に接続されてなる単位遅延回路が少なくとも1組設
けられてなり、 前記第1の遅延回路は、 第1のPMOSトランジスタと第1のNMOSトランジ
スタのドレイン相互間に第1の抵抗素子および第2の抵
抗素子が直列に挿入され、前記第1のPMOSトランジ
スタと第1のNMOSトランジスタのゲート相互が接続
された第1の入力回路と、 前記第1の抵抗素子および第2の抵抗素子の直列接続ノ
ードと放電電位ノードとの間に接続された第1のキャパ
シタと、 前記第1の抵抗素子および第2の抵抗素子の直列接続ノ
ードと充電電位ノードとの間に接続された第2のキャパ
シタと、 前記第1の抵抗素子および第2の抵抗素子の直列接続ノ
ードに入力ノードが接続された第1のCMOSインバー
タ回路とからなり、 前記第2の遅延回路は、 第2のPMOSトランジスタと第2のNMOSトランジ
スタのドレイン相互間に第3の抵抗素子および第4の抵
抗素子が直列に挿入され、前記第2のPMOSトランジ
スタと第2のNMOSトランジスタのゲート相互が接続
された第2の入力回路と、 前記第3の抵抗素子および第4の抵抗素子の直列接続ノ
ードと放電電位ノードとの間に接続された第3のキャパ
シタと、 前記第3の抵抗素子および第4の抵抗素子の直列接続ノ
ードと充電電位ノードとの間に接続された第4のキャパ
シタと、 前記第3の抵抗素子および第4の抵抗素子の直列接続ノ
ードに入力ノードが接続された第2のCMOSインバー
タ回路とからなることを特徴とするRC遅延回路。
5. A semiconductor device comprising: at least one set of unit delay circuits each including a first delay circuit and a second delay circuit connected in series; wherein the first delay circuit includes a first PMOS transistor and a second PMOS transistor. A first input circuit in which a first resistance element and a second resistance element are inserted in series between the drains of one NMOS transistor, and the gates of the first PMOS transistor and the first NMOS transistor are connected to each other A first capacitor connected between a series connection node of the first resistance element and the second resistance element and a discharge potential node; and a series connection of the first resistance element and the second resistance element A second capacitor connected between the node and a charging potential node; a first CM having an input node connected to a series connection node of the first resistance element and the second resistance element An S inverter circuit, wherein the second delay circuit includes a third resistance element and a fourth resistance element inserted in series between the drains of a second PMOS transistor and a second NMOS transistor; A second input circuit in which the gates of the second PMOS transistor and the second NMOS transistor are connected to each other, and a second input circuit connected between a series connection node of the third resistance element and the fourth resistance element and a discharge potential node A third capacitor connected between a series connection node of the third resistance element and the fourth resistance element and a charging potential node; a third capacitor connected to the third resistance element and the fourth resistance element; An RC delay circuit comprising a second CMOS inverter circuit having an input node connected to a series connection node of a resistance element.
【請求項6】 請求項1、4、5のいずれか1項に記載
のRC遅延回路において、 前記第1の遅延回路および第2の遅延回路は奇数段のC
MOSインバータ回路を介して接続されていることを特
徴とするRC遅延回路。
6. The RC delay circuit according to claim 1, wherein the first delay circuit and the second delay circuit have an odd-numbered C delay circuit.
An RC delay circuit connected via a MOS inverter circuit.
【請求項7】 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の
RC遅延回路において、 前記第1のキャパシタは、前記第1の抵抗素子の一端側
ノードと前記放電電位ノードとの間に接続されたNMO
Sキャパシタであり、 前記第2のキャパシタは、前記第2の抵抗素子の一端側
ノードと充電電位ノードとの間に接続されたPMOSキ
ャパシタであることを特徴とするRC遅延回路。
7. The RC delay circuit according to claim 1, wherein the first capacitor is connected between one end node of the first resistance element and the discharge potential node. NMO
An RC delay circuit, which is an S capacitor, wherein the second capacitor is a PMOS capacitor connected between one end node of the second resistance element and a charging potential node.
【請求項8】 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の
RC遅延回路において、 前記第1の抵抗素子の抵抗値と第1のキャパシタの容量
値および第1のCMOSインバータ回路の入力ゲート容
量値の和との積は、前記第2の抵抗素子の抵抗値と第2
のキャパシタの容量値および第2のCMOSインバータ
回路の入力ゲート容量値の和との積に略等しいことを特
徴とするRC遅延回路。
8. The RC delay circuit according to claim 1, wherein a resistance value of said first resistance element, a capacitance value of a first capacitor, and an input gate of a first CMOS inverter circuit. The product of the capacitance value and the sum of the capacitance values is the resistance value of the second resistance element and the second resistance element.
An RC delay circuit substantially equal to the product of the capacitance value of the capacitor and the sum of the input gate capacitance values of the second CMOS inverter circuit.
【請求項9】 請求項8記載のRC遅延回路において、 前記第1の抵抗素子の抵抗値と前記第2の抵抗素子の抵
抗値とは略等しいことを特徴とするRC遅延回路。
9. The RC delay circuit according to claim 8, wherein a resistance value of said first resistance element is substantially equal to a resistance value of said second resistance element.
【請求項10】 請求項8または9記載のRC遅延回路
において、 前記第1のキャパシタの容量値と前記第2のキャパシタ
の容量値とは略等しいことを特徴とするRC遅延回路。
10. The RC delay circuit according to claim 8, wherein a capacitance value of the first capacitor is substantially equal to a capacitance value of the second capacitor.
【請求項11】 請求項1に記載のRC遅延回路におい
て、 前記第1のキャパシタは、前記第1の抵抗素子の一端側
ノードと放電電位ノードとの間に接続されたNMOSキ
ャパシタおよび前記第1の抵抗素子の一端側ノードと充
電電位ノードとの間に接続されたPMOSキャパシタで
あり、 前記第2のキャパシタは、前記第2の抵抗素子の一端側
ノードと前記充電電位ノードとの間に接続されたPMO
Sキャパシタおよび前記第2の抵抗素子の一端側ノード
と前記放電電位ノードとの間に接続されたNMOSキャ
パシタであることを特徴とするRC遅延回路。
11. The RC delay circuit according to claim 1, wherein said first capacitor is an NMOS capacitor connected between a node on one end of said first resistance element and a discharge potential node, and said first capacitor is A PMOS capacitor connected between one end node of the resistance element and a charging potential node, wherein the second capacitor is connected between the one end node of the second resistance element and the charging potential node PMO
An RC delay circuit comprising an S capacitor and an NMOS capacitor connected between one end node of the second resistance element and the discharge potential node.
【請求項12】 請求項5記載のRC遅延回路におい
て、 前記第3のキャパシタは、前記第3の抵抗素子の一端側
ノードと前記放電電位ノードとの間に接続されたNMO
Sキャパシタであり、 前記第4のキャパシタは、前記第4の抵抗素子の一端側
ノードと充電電位ノードとの間に接続されたPMOSキ
ャパシタであることを特徴とするRC遅延回路。
12. The RC delay circuit according to claim 5, wherein the third capacitor is connected to a node between the one end node of the third resistance element and the discharge potential node.
An RC delay circuit, wherein the RC capacitor is an S capacitor, and the fourth capacitor is a PMOS capacitor connected between one end node of the fourth resistance element and a charging potential node.
【請求項13】 請求項3乃至12のいずれか1項に記
載のRC遅延回路において、 前記第1のPMOSトランジスタのサイズと第2のPM
OSトランジスタのサイズとは略等しいことを特徴とす
るRC遅延回路。
13. The RC delay circuit according to claim 3, wherein a size of the first PMOS transistor and a second PM are set.
An RC delay circuit, wherein the size of the OS transistor is substantially equal to the size of the OS transistor.
【請求項14】 請求項3乃至13のいずれか1項に記
載のRC遅延回路において、 前記第1のNMOSトランジスタのサイズと第2のNM
OSトランジスタのサイズとは略等しいことを特徴とす
るRC遅延回路。
14. The RC delay circuit according to claim 3, wherein a size of the first NMOS transistor and a second NM are set.
An RC delay circuit, wherein the size of the OS transistor is substantially equal to the size of the OS transistor.
【請求項15】 集積回路内に、それぞれ抵抗素子とキ
ャパシタを直列に接続したRC回路を含む第1の遅延回
路および第2の遅延回路が直列に設けられ、入力信号の
論理レベルの遷移に伴って、前記第1の遅延回路におけ
るRC回路の抵抗素子とキャパシタとの接続ノードの電
位および第2の遅延回路におけるRC回路の抵抗素子と
キャパシタとの接続ノードの電位が逆方向に遷移するよ
うに構成されてなることを特徴とするRC遅延回路。
15. A first delay circuit and a second delay circuit each including an RC circuit in which a resistive element and a capacitor are connected in series are provided in series in an integrated circuit. The potential of the connection node between the resistance element and the capacitor of the RC circuit in the first delay circuit and the potential of the connection node between the resistance element and the capacitor of the RC circuit in the second delay circuit transition in opposite directions. An RC delay circuit comprising:
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