JP2000016979A - 置換ジフェニルスルホン架橋型化合物及びそれを用いた記録材料 - Google Patents
置換ジフェニルスルホン架橋型化合物及びそれを用いた記録材料Info
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Landscapes
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Abstract
色画像の保存安定性に優れた記録材料、並びに該記録材
料に画像保存安定剤及び/又は顕色剤として用いられる
新規なジフェニルスルホン架橋型化合や該化合物を少な
くとも2種以上含有する組成物を提供すること。 【解決手段】 記録材料として、発色性染料と、一般式
(I)の化合物又は該化合物を少なくとも2種以上含有
する組成物を用いる。一般式(I)中、Xは分枝を有し
ていてもよく、またエーテル結合を有してもよいC1 〜
C12の飽和もしくは不飽和の炭化水素基等を、R1〜R8
はハロゲン原子、C1〜C6のアルキル基、C1〜C4のア
ルケニル基を、m,n,p,qはそれぞれ0〜5までの
整数を、r,t,u,wはそれぞれ0〜3まで整数を、
aは1〜10の整数を表す。 【化1】
Description
ホン架橋型化合物及びそれを含有する耐可塑剤性、耐油
性、耐水性、耐熱性等画像保存安定性に優れた記録材料
に関する。
を利用した記録材料は、現像定着等の煩雑な処理を施す
ことなく比較的簡単な装置で短時間に記録できることか
ら、ファクシミリ、プリンター等の出力記録のための感
熱感光紙又は数枚同時に複写する帳票の感圧複写紙等に
広く使用されている。これらの記録材料としては、速や
かに発色し、未発色部分(以下地肌という。)の白度が
保持され、又発色した画像及び地膚の堅牢性の高いもの
が要望されている。更に近年に至ってはラベル等記録画
像の信頼性の重視される分野でかかる記録材料が多量に
使用されるようになり、包装等に使用される有機高分子
材料に含有される可塑剤や油脂等に対して高い保存安定
性を示す材料が求められている。そのために、発色染料
や顕色剤の他、保存安定剤等種々の助剤の開発努力がな
されているが、充分に満足できるものは未だ見出されて
はいない。
ホン架橋型の化合物の骨格を有するする化合物は、特公
平5−194368号公報、特公平5−310683号
公報、特開平7−149713号公報、国際公開WO9
3/06074号、WO95/33714号、ヨーロッ
パ公開特許公報第706997号等に開示されている
が、これらの化合物についても画像の高保存性という点
では未だ充分とは言い難い。また、国際公開WO97/
16420号において画像の耐可塑剤性に優れているジ
フェニルスルホン架橋型の化合物が開示されているが、
耐水性及び耐熱性の点については充分とは言えない。
料においては発色画像の保存安定性、特に近年では、耐
可塑剤性、耐油性、耐光性、耐水性、耐乾熱性、耐湿熱
性等の改良が待たれている。本発明の課題は、耐可塑剤
性、耐油性、耐水性、耐熱性等の発色画像の保存安定性
に優れた記録材料、並びに該記録材料に画像保存安定剤
及び/又は顕色剤として用いられる新規なジフェニルス
ルホン架橋型化合や該化合物を少なくとも2種以上含有
する組成物を提供することにある。
式(I)
またエーテル結合を有してもよいC1〜C12の飽和もし
くは不飽和の炭化水素基、又は、
Tは水素原子又はC1〜C4のアルキル基を示す)を表
し、R1〜R8は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、C1
〜C6のアルキル基、C1〜C4のアルケニル基を表し、
m,n,p,qはそれぞれ0〜5までの整数を、r,
t,u,wはそれぞれ0〜3まで整数を表し、m,n,
p,q,r,t,u,wのそれぞれが2以上のときには
R1〜R8はそれぞれ異なっていてもよく、aは1〜10
の整数を表す。]で表されるジフェニルスルホン架橋型
化合物に関する。
フェニルスルホン架橋型化合物を少なくとも2種以上含
有する組成物や、発色性染料を含有する記録材料におい
て一般式(I)で表されるジフェニルスルホン架橋型化
合物の少なくとも一種を含有する記録材料に関する。
て、具体的には、メチレン基、エチレン基、トリメチレ
ン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメ
チレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナ
メチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ド
デカメチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン
基、メチルエチレン基、エチルエチレン基、1,2−ジ
メチルエチレン基、1−メチルトリメチレン基、1−メ
チルテトラメチレン基、1,3−ジメチルトリメチレン
基、1−エチル−4−メチルテトラメチレン基、ビニレ
ン基、プロピニレン基、2−ブテニレン基、エチニレン
基、2−ブチニレン基、1−ビニルエチレン基、エチレ
ンオキシエチレン基、テトラメチレンオキシテトラメチ
レン基、エチレンオキシエチレンオキシエチレン基、エ
チレンオキシメチレンオキシエチレンオキシ基、1,3
−ジオキサン−5,5−ビスメチレン基、1,2−キシ
リル基、1,3−キシリル基、1,4−キシリル基、2
−ヒドリキシトリメチレン基、2−ヒドロキシ−2−メ
チルトリメチレン基、2−ヒドロキシ−2−エチルトリ
メチレン基、2−ヒドロキシ−2−プロピルトリメチレ
ン基、2−ヒドロキシ−2−イソプロピルトリメチレン
基、2−ヒドロキシ−2−ブチルトリメチレン基などを
例示することができる。
ては、具体的に、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n
−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、te
rt−ペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、
1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、ビニル
基、アリル基、イソプロペニル基、1−プロペニル基、
2−ブテニル基、3−ブテニル基、1,3−ブタンジエ
ニル基、2−メチル−2−プロペニル基などを例示する
ことができる。
ルスルホン架橋型化合物は、下記反応式に従って製造す
ることができる。原料としては4,4′−ジヒドロキシ
−3,3′−置換もしくは無置換フェニルスルホニル−
ジフェニルスルホン誘導体が入手しやすいため好まし
く、かかる4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−置換も
しくは無置換フェニルスルホニル−ジフェニルスルホン
誘導体は、入手容易な4,4′−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを塩化第一鉄等のルイス酸存在下、置換もし
くは無置換フェニルスルホニルクロライドとのフリーデ
ルクラフツ反応を行うことにより容易に得ることができ
る。
ているように、一般式(I)で表されるジフェニルスル
ホン架橋型化合物の製造は、塩基の存在下、水溶媒又は
水と有機溶媒の二層系で行うのが好ましい。水と有機溶
媒の二層系での反応では、例えばベンゼン、トルエン、
クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒
ジエチルケトン、メチルブチルケトン(MIBK)等の
ケトン系の有機溶媒、酢酸エチル等のエステル系有機溶
媒などの非水溶性溶媒中で、アルカリ性物質、例えばア
ルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物、具体的には
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等
の存在下、反応温度−20℃〜150℃、好ましくは3
0℃〜120℃で数時間から十数時間反応が行われ、水
溶媒での反応では、水溶媒中、上記アルカリ性物質存在
下、反応温度0〜20℃で数時間から十数時間反応が行
われる。また、用いるジハロゲン化合物とジフェニルス
ルホン化合物のモル比を適当に調節することで所望の鎖
長の化合物を単一化合物として得ることができる。反応
後、溶媒で選択抽出することにより純度の高い単一化合
物を得ることができる。
ン架橋型化合物のうち、ブテニルオキシ型の化合物は、
4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−置換もしくは無置
換フェニルスルホニル−ジフェニルスルホンと、例えば
1,4−ジハロブテン類をアルカリ金属やアルカリ土類
金属の水酸化物(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム等)又は炭酸塩(炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等)などの存在下、ト
ルエン、ベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族系溶媒、
アセトン、MIBK等のケトン系溶媒中、もしくはそれ
ら有機溶媒と水の二層系中にて反応させることによって
得られる。
ン架橋型化合物のうち、アルキレン架橋型の化合物は、
例えば4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−置換もしく
は無置換フェニルスルホニル−ジフェニルスルホンと例
えば1−ブロモ−4−クロロブタンをアルカリ金属やア
ルカリ土類金属の水酸化物(例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウム等)又は炭酸塩(炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等)などの存
在下トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン等の芳香系溶
媒、アセトン、MIBK等のケトン系溶媒中もしくは、
それら有機溶媒と水の二層系中にて反応させることによ
って得られた生成物と、上記4,4′−ジヒドロキシ−
3,3′−置換もしくは無置換フェニルスルホニル−ジ
フェニルスルホンをアルカリ金属やアルカリ土類金属も
しくはそれらの炭酸塩等の存在下にジメチルスルホキサ
イド(DMSO)、ジメチルホルムアミド(DMF)、
MIBK、メチルセルソルブ等のエチレングリコール系
の溶媒中にて反応せしめることによって得られる。
(I)で表されるジフェニルスルホン架橋型化合物の少
なくとも2種を含有するものであり、その含有比率は任
意であるが、一般式(I)(a=1)で表されるジフェ
ニルスホン架橋型化合物が0.05〜99重量%、好ま
しくは1〜90重量%、特に好ましくは5〜80重量%
含有されているものが望ましい。また、好ましい本発明
の組成物としては、一般式(I)で表される化合物のa
の値のみが異なる2種以上を含有するものであり、かか
る好ましい組成物として、具体的に(化7)の組成物
(式中、X、R1、R5、m、rは前記と同じ)を挙げる
ことができる。
合、一般式(I)の化合物の誘導体の合成晶析出時添加
混合、あるいは一般式(I)の化合物の製造条件を変え
ることなどにより製造することができるが、製造条件を
変えることにより製造する方法が簡便であり好ましい。
例えば、原料の反応比率を変えることで一般式(I)で
表されるジフェニルスルホン架橋型化合物の含有比率を
任意に変えることができる。原料の反応比率を変える本
発明の組成物の製造例を以下に示す。
ルスルホン架橋型化合物は、一般式(I)におけるaが
1〜10の整数のものであるが、一般式(I)において
a=0で表される化合物は、前記ヨーロッパ公開特許公
報706997号に開示されており、その代表的なもの
としては、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ビス
(フェニルスルホニル)ジフェニルスルホン、4,4′
−ジヒドロキシ−3,3′−ビス(4−メチルフェニル
スルホニル)ジフェニルスルホン、4,4′−ジヒドロ
キシ−3,3′−ビス(4−クロロフェニルスルホニ
ル)ジフェニルスルホン、4,4′−ジヒドロキシ−
3,3′−ビス(4−ブロモフェニルスルホニル)ジフ
ェニルスルホンを挙げることができる。
明のジフェニルスルホン架橋型化合物としては、具体的
に以下の化合物を例示することができる。 (1−1)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(フェニルスルホニル)フェニルスルホニル)−2−
(フェニルスルホニル)フェノキシ]エタン (1−2)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(4−メチルフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)フェノキ
シ]エタン (1−3)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(4−ブロモフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル)−2−(4−ブロモフェニルスルホニル)フェノキ
シ]エタン (1−4)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(4−クロロフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル)−2−(4−クロロフェニルスルホニル)フェノキ
シ]エタン (1−5)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェニルスル
ホニル)−2−(2,4−ジメチルフェニル)スルホニ
ルフェノキシ]エタン
ロキシ−3−(3,4−ジメチルフェニルスルホニル)
フェニルスルホニル)−2−(3,4−ジメチルフェニ
ルスルホニル)フェノキシ]エタン (1−7)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)フェニルスル
ホニル)−2−(2,5−ジメチルフェニルスルホニ
ル)フェノキシ]エタン (1−8)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(2,4,6−トリメチルフェニルスルホニル)フェニ
ルスルホニル)−2−(2,4,6−トリメチルフェニ
ル)スルホニルフェノキシ]エタン (1−9)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(4−エチルフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル)−2−(4−エチルフェニルスルホニル)フェノキ
シ]エタン (1−10)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3
−(4−イソプロピルフェニルスルホニル)フェニルス
ルホニル)−2−(4−イソプロピルフェニルスルホニ
ル)フェノキシ]エタン
ヒドロキシ−3−フェニルスルホニルフェニルスルホニ
ル)−2−(フェニルスルホニル)フェノキシ]ジエチ
ルエーテル (1−12)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(4−メチルフェニルスルホニル)フェニルスルホ
ニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)フェノ
キシ]ジエチルエーテル (1−13)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(4−ブロモフェニルスルホニル)フェニルスルホ
ニル)−2−(4−ブロモフェニルスルホニル)フェノ
キシ]ジエチルエーテル (1−14)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(4−クロロフェニルスルホニル)フェニルスルホ
ニル)−2−(4−クロロフェニルスルホニル)フェノ
キシ]ジエチルエーテル (1−15)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(2,4−ジメチルフェニルスルホ
ニル)フェノキシ]ジエチルエーテル
ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチルフェニルスルホニ
ル)フェニルスルホニル)−2−(3,4−ジメチルフ
ェニルスルホニル)フェノキシ]ジエチルエーテル (1−17)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(2,5−ジメチルフェニルスルホ
ニル)フェノキシ]ジエチルエーテル (1−18)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(2,4,6−トリメチルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(2,4,6−トリメチルフ
ェニルスルホニル)フェノキシ]ジエチルエーテル (1−19)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(4−エチルフェニルスルホニル)フェニルスルホ
ニル)−2−(4−エチルフェニルスルホニル)フェノ
キシ]ジエチルエーテル (1−20)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−
3−(4−イソプロピルフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−イソプロピルフェニルスルホ
ニル)フェノキシ]ジエチルエーテル
(4−ヒドロキシ−3−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル)−2−フェニルスルホニルフェノキシ]−2
−エチルオキシ]−3,3′−ビス(フェニルスルホニ
ル)ジフェニルスルホン (1−22)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−メチルフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−ビス
[(4−メチルフェニル)スルホニル]ジフェニルスル
ホン (1−23)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−ブロモフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−ブロモフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−ビス
[(4−ブロモフェニル)スルホニル]ジフェニルスル
ホン (1−24)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−クロロフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−クロロフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−ビス
[(4−クロロフェニル)スルホニル]ジフェニルスル
ホン (1−25)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(2,4−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,
3′−ビス[(2,4−ジメチルフェニル)スルホニ
ル]ジフェニルスルホン
(4−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチルフェニルス
ルホニル)フェニルスルホニル)−2−(3,4−ジメ
チルフェニルスルホニル)フェノキシ]−2−エチルオ
キシ]−3,3′−ビス[(3,4−ジメチルフェニ
ル)スルホニル]ジフェニルスルホン (1−27)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,
3′−ビス[(2,5−ジメチルフェニル)スルホニ
ル]ジフェニルスルホン (1−28)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(2,4,6−トリメチルフェニルスルホニ
ル)フェニルスルホニル)−2−(2,4,6−トリメ
チルフェニルスルホニル)フェノキシ]−2−エチルオ
キシ]−3,3′−ビス[(2,4,6−トリメチルフ
ェニル)スルホニル]ジフェニルスルホン (1−29)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−エチルフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−エチルフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−ビス
[(4−エチルフェニル)スルホニル]ジフェニルスル
ホン (1−30)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−イソプロピルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(4−イソプロピルフェニル
スルホニル)フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,
3′−ビス[(4−イソプロピルフェニル)スルホニ
ル]ジフェニルスルホン
(4−ヒドロキシ−3−フェニルスルホニルフェニルス
ルホニル)−2−フェニルスルホニルフェノキシ]−2
−エチレンオキシエトキシ]−3,3′−ビス(フェニ
ルスルホニル)ジフェニルスルホン (1−32)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−メチルフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチレンオキシエトキシ]−3,
3′−ビス[(4−メチルフェニル)スルホニル]ジフ
ェニルスルホン (1−33)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−ブロモフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−ブロモフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチレンオキシエトキシ]−3,
3′−ビス[(4−ブロモフェニル)スルホニル]ジフ
ェニルスルホン (1−34)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−クロロフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−クロロフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチレンオキシエトキシ]−3,
3′−ビス[(4−クロロフェニル)スルホニル]ジフ
ェニルスルホン (1−35)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(2,4−ジメチルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(2,4−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノキシ]−2−エチレンオキシエトキ
シ]−3,3′−ビス[(2,4−ジメチルフェニル)
スルホニル]ジフェニルスルホン
(4−ヒドロキシ−3−(3,4−ジメチルフェニルス
ルホニル)フェニルスルホニル)−2−(3,4−ジメ
チルフェニルスルホニル)フェノキシ]−2−エチレン
オキシエトキシ]−3,3′−ビス[(3,4−ジメチ
ルフェニル)スルホニル]ジフェニルスルホン (1−37)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(2,5−ジメチルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(2,5−ジメチルフェニル
スルホニル)フェノキシ]−2−エチレンオキシエトキ
シ]−3,3′−ビス[(2,5−ジメチルフェニル)
スルホニル]ジフェニルスルホン (1−38)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(2,4,6−トリメチルフェニルスルホニ
ル)フェニルスルホニル)−2−(2,4,6−トリメ
チルフェニルスルホニル)フェノキシ]−2−エチレン
オキシエトキシ]−3,3′−ビス[(2,4,6−ト
リメチルフェニル)スルホニル]ジフェニルスルホン (1−39)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−エチルフェニルスルホニル)フェニル
スルホニル)−2−(4−エチルフェニルスルホニル)
フェノキシ]−2−エチレンオキシエトキシ]−3,
3′−ビス[(4−エチルフェニル)スルホニル]ジフ
ェニルスルホン (1−40)4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−(4−イソプロピルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(4−イソプロピルフェニル
スルホニル)フェノキシ]−2−エチレンオキシエトキ
シ]−3,3′−ビス[(4−イソプロピルフェニル)
スルホニル]ジフェニルスルホン
[4−(4−ヒドロキシ−3−フェニルスルホニルフェ
ニルスルホニル)−2−フェニルスルホニルフェノキシ
−2−エチレンオキシエトキシ]−3−フェニルスルホ
ニルフェニルスルホニル]−2−フェニルスルホニルフ
ェノキシ]ジエチルエーテル (1−42)2,2′−ビス[4−[4−[4−(4−
ヒドロキシ−3−(4−メチルフェニルスルホニル)フ
ェニルスルホニル)−2−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)フェノキシ−2−エチレンオキシエトキシ]−3
−(4−メチルフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル]−2−(4−メチルフェニルスルホニル)フェノキ
シ]ジエチルエーテル (1−43)2,2′−ビス[4−[4−[4−(4−
ヒドロキシ−3−フェニルスルホニルフェニルスルホニ
ル)−2−フェニルスルホニルフェノキシ−2−エトキ
シ]−3−フェニルスルホニルフェニルスルホニル]−
2−フェニルスルホニルフェノキシ]エタン
有する本発明の組成物の具体例を以下に示す。 (2−1)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(フェニルスルホニル)フェニルスルホニル)−2−
(フェニルスルホニル)フェノキシ]エタンと、4,
4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロキシ−3−フェニ
ルスルホニルフェニルスルホニル)−2−フェニルスル
ホニルフェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−
ビス(フェニルスルホニル)ジフェニルスルホンとを含
有する組成物 (2−2)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(フェニルスルホニル)フェニルスルホニル)−2−
(フェニルスルホニル)フェノキシ]エタンと、4,
4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロキシ−3−フェニ
ルスルホニルフェニルスルホニル)−2−フェニルスル
ホニルフェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−
ビス(フェニルスルホニル)ジフェニルスルホンと、
2,2′−ビス[4−[4−[4−(4−ヒドロキシ−
3−フェニルスルホニルフェニルスルホニル)−2−フ
ェニルスルホニルフェノキシ−2−エトキシ]−3−フ
ェニルスルホニルフェニルスルホニル]−2−フェニル
スルホニルフェノキシ]エタンとを含有する組成物 (2−3)2,2′−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3
−フェニルスルホニルフェニルスルホニル)−2−(フ
ェニルスルホニル)フェノキシ]ジエチルエーテルと、
4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロキシ−3−フ
ェニルスルホニルフェニルスルホニル)−2−フェニル
スルホニルフェノキシ]−2−エチレンオキシエトキ
シ]−3,3′−ビス(フェニルスルホニル)ジフェニ
ルスルホンとを含有する組成物
ドロキシ−3−フェニルスルホニルフェニルスルホニ
ル)−2−(フェニルスルホニル)フェノキシ]ジエチ
ルエーテルと4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒドロ
キシ−3−フェニルスルホニルフェニルスルホニル)−
2−フェニルスルホニルフェノキシ]−2−エチレンオ
キシエトキシ]−3,3′−ビス(フェニルスルホニ
ル)ジフェニルスルホンと、2,2′−ビス[4−[4
−[4−(4−ヒドロキシ−3−フェニルスルホニルフ
ェニルスルホニル)−2−フェニルスルホニルフェノキ
シ−2−エチレンオキシエトキシ]−3−フェニルスル
ホニルフェニルスルホニル]−2−フェニルスルホニル
フェノキシ]ジエチルエーテルとを含有する組成物 (2−5)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(4−メチルフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)フェノキ
シ]エタンと、4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒド
ロキシ−3−(4−メチルフェニルスルホニル)フェニ
ルスルホニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニ
ル)フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−ビ
ス[(4−メチルフェニル)スルホニル]ジフェニルス
ルホンとを含有する組成物 (2−6)1,2−ビス[4−(4−ヒドロキシ−3−
(4−メチルフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)フェノキ
シ]エタンと、4,4′−ビス[4−[4−(4−ヒド
ロキシ−3−(4−メチルフェニルスルホニル)フェニ
ルスルホニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニ
ル)フェノキシ]−2−エチルオキシ]−3,3′−ビ
ス[(4−メチルフェニル)スルホニル]ジフェニルス
ルホンと、2,2′−ビス[4−[4−[4−(4−ヒ
ドロキシ−3−(4−メチルフェニルスルホニル)フェ
ニルスルホニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニ
ル)フェノキシ−2−エチレンオキシエトキシ]−3−
(4−メチルフェニルスルホニル)フェニルスルホニ
ル]−2−(4−メチルフェニルスルホニル)フェノキ
シ]ジエチルエーテルとを含有する組成物
般式(I)で表される本発明のジフェニルスルホン架橋
型化合物の少なくとも1種とを含有する。本発明の記録
材料としては、発色性染料を使用する記録材料であれ
ば、感熱記録材料、感圧複写材料等どのようなものもの
でもよい。そして、本発明の記録材料に、一般式(I)
で表されるジフェニルスルホン架橋型化合物の少なくと
も1種と含有させることにより、耐可塑剤性、耐油性、
耐水性、耐熱性等の発色画像の保存安定性に優れた記録
材料とすることができる。また、一般式(I)で表され
る本発明のジフェニルスルホン架橋型化合物は、画像保
存安定剤として使用できるばかりでなく、顕色剤として
も使用することができる。
的に行われている従来公知の方法を用いればよく、例え
ば本発明のジフェニルスルホン架橋型化合物を画像保存
安定剤として用いる場合は他の顕色剤と増感剤等各種助
剤類と一緒に使用し、顕色剤として用いる場合は増感剤
等各種助剤類と一緒に使用して製造することができる。
また、本発明のジフェニルスルホン架橋型化合物を組み
合わせて用い、一方を画像保存安定剤、他方を顕色剤と
して使用することもできる他、本発明のジフェニルスル
ホン架橋型化合物と同じ用途の化合物を併用して、発色
特性に特徴を持たせる記録材料を製造することもでき
る。このように、本発明のジフェニルスルホン架橋型化
合物は、画像保存安定剤の他、顕色剤としても使用する
ことができるという特性を有することから、発色性染料
に対する画像保存安定剤と顕色剤の相対的使用量を相互
に減じることができ、より安価に記録材料を製造するこ
とができる。
を感熱記録紙に使用する場合には、既知の画像保存安定
剤、顕色剤の使用方法と同様に行えばよく、例えば、本
発明の化合物の微粒子及び発色性染料の微粒子のそれぞ
れをポリビニルアルコールやセルロースなどの水溶性結
合剤の水溶液中に分散させた懸濁液を混合して紙等の支
持体に塗布して乾燥することにより記録材料を製造する
ことができる。
ルホン架橋型化合物の使用割合は、画像保存安定剤とし
て使用する場合には、発色性染料1重量部に対して0.
1〜5重量部、好ましくは0.2〜2重量部であり、顕
色剤として使用する場合には、発色性染料の1重量部に
対して1〜10重量部、好ましくは1.5〜5重量部の
割合である。
スルホン架橋型化合物を2種以上併用することが好まし
い。例えば、一般式(I)で示される2種の化合物のう
ち、一方を画像保存安定剤、他方を顕色剤として使用す
ることもできるが、画像保存安定剤、あるいは顕色剤と
して本発明のジフェニルスルホン架橋型化合物を2種以
上併用しても、その効果が飛躍的に増大する。かかる2
種以上の化合物として前記本発明の組成物を有利に使用
することができるが、これに限らず使用に際して混合し
てもよい。また、発色性染料等との混合方法としては粉
体として混合しても、塗布液の調製分散時に添加して
も、分散液の状態で添加してもよい。特に、本発明の組
成物を顕色剤として用いた場合、非常に効果的である。
合物や組成物には、二重結合を含む化合物のように異性
体をもつものや、同じ化合物でも結晶を析出させる際の
条件、例えば溶媒の種類、析出温度などによって結晶形
が異なったり、アモルファス状になったり、あるいは溶
媒と付加体を形成したものなどもあるが、これらは全て
本発明の化合物に属する。そして、これらは、その結晶
の融点、赤外分光分析あるいはX線回折分析等で明らか
にすることができる。また、これら化合物を使用した場
合、記録材料の地肌や感度が改善される場合がある。特
に結晶化度の高いものはアモルファスのものに比べて地
肌の白色度、地肌の耐熱性に優れている。
剤、他の画像保存安定剤、増感剤、填料、分散剤、酸化
防止剤、減感剤、粘着防止剤、消泡剤、光安定剤、蛍光
増白剤等を必要に応じ含有させることができ、これらの
薬剤は、発色層中に含有せしめてもよいが、多層構造か
らなる場合には、例えば保護層等任意の層中に含有せし
めてもよい。特に発色層の上部及び又は下部にオーバコ
ート層やアンダーコート層を設けてた場合、これらの層
には酸化防止剤、光安定剤などを含有することができ
る。更に、酸化防止剤、光安定剤は必要に応じマイクロ
カプセルに内包する形で、これらの層に含有させること
ができる。
としては、フルオラン系、フタリド系、ラクタム系、ト
リフェニルメタン系、フェノチアジン系、スピロピラン
系等のロイコ染料を挙げることができるが、これらに限
定されるものではなく、酸性物質と接触することにより
発色する発色性染料であればどのようなものでも使用で
きる。また、これらの発色性染料は単独で使用し、その
発色する色の記録材料を製造することは勿論であるが、
それらの2種以上を混合使用することができる。例え
ば、赤色、青色、緑色の3原色発色性染料又は黒発色染
料を混合使用して真に黒色に発色する記録材料を製造す
ることができる。
を例示すれば、3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−
アニリノフルオラン、3−ジブチルアミノ−6−メチル
−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N−イ
ソブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラ
ン、3−(N−メチル−N−プロピルアミノ)−6−メ
チル−7−アニリノフルオラン、3−(N−エチル−N
−イソペンチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフ
ルオラン、3−ジエチルアミノ−7−(o−クロオアニ
リノ)フルオラン、3−ジブチルアミノ−7−(o−ク
ロロアニリノ)フルオラン、3−(N−エチル−p−ト
ルイジノ)−6−メチル−7−アニリノ−フルオラン、
3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−
メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6
−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピペリジノ−
6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ジメチルア
ミノ−7−(m−トリフルオロメチルアニリノ)フルオ
ラン、3−ジペンチルアミノ−6−メチル−7−アニリ
ノフルオラン、3−(N−エトキシプロピル−N−エチ
ルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3
−ジブチルアミノ−7−(o−フルオロアニリノ)フル
オラン、3−ジエチルアミノベンゾ[a]フルオラン、
3−ジエチルアミノ−6−メチル−7−クロオフルオラ
ン、3−ジエチルアミノ−5−メチル−7−ベンジルア
ミノフルオラン、3−ジエチルアミノ−5−クロオフル
オラン、3−ジエチルアミノ−6−(N,N′−ジベン
ジルアミノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラ
ン、2,4−ジメチル−6−(4−ジメチルアミノフェ
ニル)アミノフルオラン等を挙げることができる。
−(4−アニリノ)−アニリノ)アニリノ−6−メチル
−7−クロロフルオラン、3,3′−ビス(2−(4−
ジメチルアミノフェニル)−2−(4−メトキシフェニ
ル)ビニル)−4,5,6,7−テトラクロロフタリ
ド、3,6,6′−トリス(ジメチルアミノ)スピロ
(フルオレン−9,3′−フタリド)等を例示すること
ができる。その他、3,3−ビス(4′−ジエチルアミ
ノフェニル)−6−ジエチルアミノフタリドなども挙げ
られる。
剤として使用する場合、あるいは本発明の化合物又は組
成物を他の顕色剤と組み合わせて顕色剤として使用する
場合に用いられる顕色剤としては、ビスフェノールA、
4,4′−sec−ブチリデンビスフェノール、4,
4′−シクロヘキシリデンビスフェノール、2,2′−
ジメチル−3,3′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
ブタン、2,2′−ジヒドロキシジフェニル、ペンタメ
チレン−ビス(4−ヒドロキシベンゾエート)、2,
2′−ジメチル−3,3′−ジ(4−ヒドロキシフェニ
ル)ペンタン、2,2′−ジ(4−ジヒドロキシフェニ
ル)ヘキサン等のビスフェノール化合物、4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルチオエーテル、1,7−ジ(4−
ヒドロキシフェニルチオ)−3,5−ジオキサヘプタ
ン、2,2′−ジ(4−ヒドロキシフェニルチオ)ジエ
チルエーテル、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジ
メチルフェニルチオエーテル等の含硫黄ビスフェノー
ル、4−ヒドロキシ安息香酸ベンジル、4−ヒドロキシ
安息香酸エチル、4−ヒドロキシ安息香酸プロピル、4
−ヒドロキシ安息香酸イソプロピル、4−ヒドロキシ安
息香酸ブチル、4−ヒドロキシ安息香酸イソブチル、4
−ヒドロキシ安息香酸クロベンジル、4−ヒドロキシ安
息香酸メチルベンジル、4−ヒドロキシ安息香酸ジフェ
ニルメチル等の4−ヒドロキシ安息香酸エステル類、安
息香酸亜鉛、4−ニトロ安息香酸亜鉛等の安息香酸金属
塩、4−(2−(4−メトキシフェニルオキシ)サリチ
ル酸などのサリチル酸類、サリチル酸亜鉛、ビス(4−
(オクチルカルボニルアミノ)−2−ヒドロキシ安息香
酸)亜鉛等のサリチル酸金属塩、4,4′−ジヒドロキ
ジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4−イソプロポ
キシジフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−ブト
キシジュフェニルスルホン、4−ヒドロキシ−4′−フ
ェニルスルホニルオキシ−3,3′−フェニルスルホニ
ルジフェニルスルホン、4,4′−ジヒドロキシ−3,
3′−ジアリルジフェニルスルホン、3,4−ジヒドロ
キシ−4′−メチルジフェニルスルホン、4,4′−ジ
ヒドロキシ−3,3′、5,5′−テトラブロモジフェ
ニルスルホン等のヒドロキシスルホン類、4−フェニル
スルホニルフェノキシ亜鉛マグネシウム、アルミニウ
ム、チタン等のヒドロキシスルホン類の多価金属塩類、
4−ヒドロキシフタル酸ジメチル、4−ヒドロキシフタ
ル酸ジシクロヘキシル、4−ヒドロキシフタル酸ジフェ
ニル等の4−ヒドロキシフタル酸ジエステル類、2−ヒ
ドロキシ−6−カルボキシナフタレン等のヒドロキシナ
フトエン酸エステル類、ヒドロキシアセトフェノン、p
−フェニルフェノール、4−ヒドロキシフェニル酢酸ベ
ンジル、p−ベンジルフェノール、ハイドロキノン−モ
ノベンジルエーテル、トリハロメチルスルホン類、スル
ホニルウレア類、テトラシアノキノジメタン類、2,4
−ジヒドロキシ−2′−メトキシベンズアニルド等を例
示することができる。
使用する場合、あるいは本発明の化合物又は組成物を他
の画像保存安定剤と組み合わせて画像保存安定剤として
使用する場合に用いられる画像保存安定剤としては、4
−ベンジルオキシ−4−(2−メチルグリジルオキシ)
−ジフェニルスルホン、4−4′−ジグリジルオキシジ
フェニルスルホン、などのエポキシ基含有ジフェニルス
ルホン類、1,4−ジグリジルオキシベンゼン、4−
(α−(ヒドロキシメチル)ベンジルオキシ)−4′−
ヒドロキシジフェニルスルホン、2−プロパノール誘導
体、サリチル酸誘導体、オキシナフトエン酸誘導体の金
属塩(特に亜鉛塩)、2,2−メチレンビス(4,6−
tert−ブチルフェニル)フォスフェイトの金属塩、
その他水不溶性の亜鉛化合物等を挙げることができる。
ン酸アミドなどの高級脂肪酸アミド、ベンツアミド、ス
テアリン酸アニリド、アセト酢酸アニリド、チオアセト
アニリド、シュウ酸ジベンジル、シュウ酸ジ(4−メチ
ルベンジル)、シュウ酸ジ(4−クロロベンジル)、フ
タル酸ジメチル、テレフタル酸ジメチル、テレフタル酸
ジベンジル、イソフタル酸ジベンジル、ビス(tert
−ブチルフェノール)類、ジフェニルスルホン及びその
誘導体、4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンの
ジエーテル類、2,4′−ジヒドロキシジフェニルスル
ホンのジエーテル類、1,2−ビス(フェノキシ)エタ
ン、1,2−ビス(4−メチルフェノキシ)エタン、
1,2−ビス(3−メチルフェノキシ)エタン、2−ナ
フトールベンジルエーテル、ジフェニルアミン、カルバ
ゾール、2,3−ジ−m−トリルブタン、4−ベンジル
ビフェニル、4,4′−ジメチルビフェニル、m−ター
フェニル、ジ−β−ナフチルフェニレンジアミン、1−
ヒドロキシ−ナフトエ酸フェニル、2−ナフチルベンジ
イルエーテル、4−メチルフェニル−ビフェニルエーテ
ル、2,2′−ビス(3,4−ジメチルフェニル)エタ
ン、2,3,5,6−テトラメチル−4′−メチルジフ
ェニルメタン、炭酸ジフェニル等を挙げることができ
る。
ェノキシ)エタン、2−ナフトールベンジルエーテルな
どのエーテル類、m−ターフェニル、4−ベンジルフェ
ニル、シュウ酸ジ(4−メチルベンジル)、などの芳香
族炭化水素類を挙げることができ、さらに好ましくは、
ジフェニルスルホン及びその誘導体、特に4,4′−ジ
ヒドロキシジフェニルスルホンのジエーテル類及び2,
4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンのジエーテル類
が好ましく、4,4′−ジメトキシジフェニルスルホ
ン、4,4′−ジエトキシジフェニルスルホン、4,
4′−ジプロポキシジフェニルスルホン、4,4′−ジ
イソプロポキシジフェニルスルホン、4,4′−ジブト
キシジフェニルスルホン、4,4′−ジイソブトキシジ
フェニルスルホン、4,4′−ジペンチルオキシジフェ
ニルスルホン、4,4′−ジヘキシルフェニルスルホ
ン、2,4′−ジメトキシジフェニルスルホン、2,
4′−ジエトキシジフェニルスルホン、2,4′−ジプ
ロポキシジフェニルスルホン、2,4′−ジイソプロポ
キシジフェニルスルホン、2,4′−ジブトキシジフェ
ニルスルホン、2,4′−ジペンチルオキシジフェニル
スルホン、2,4′−ジヘキシルオキシジフェニルスル
ホン等を挙げることができる。
ン、焼成カオリン、タルク、サテンホワイト、水酸化ア
ルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化
亜鉛、酸化チタン、硫酸バリウム、珪酸マグネシウム、
珪酸アルミニウム、プラスチックピグメント等が使用で
きる。特に本発明の記録材料ではアルカリ土類金属の塩
が好ましい。更に炭酸塩が好ましく、炭酸カルシウム、
炭酸マグネシウムなどが好適である。填料の使用割合
は、発色染料1重量部に対して0.1〜15重量部、好
ましくは1〜10重量部である。また上記填料を混合し
て使用することも可能である。
ルナトリウム等のスルホコハク酸エステル類、ドデシル
ベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリルアルコール硫
酸エステルのナトリウム塩、脂肪酸塩等を挙げることが
できる。
ビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノー
ル)、2,2′−メチレンビス(4−エチル−6−te
rt−ブチルフェノール)4,4′−プロピルメチレン
ビス(3−メチル−6−tert−ブチルフェノー
ル)、4,4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t
ert−ブチルフェノール)、4,4′−チオビス(2
−tert−ブチルー5−メチルフェノール)、1,
1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t
ert−ブチルフェノール)ブタン、4−[4−{1,
1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エチル}−α、
α′−ジメチルベンジル]フェノール等を挙げることが
できる。
ポリエチレングリコール、グアニジン誘導体等を挙げる
ことができる。
アリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム、カルナウバワ
ックス、パラフィンワックス、エステルワックス等を例
示することができる。
ト、p−tert−ブチルフェニルサリシレート、p−
オクチルフェニルサリシレートなどのサリチル酸系紫外
線吸収剤、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−
ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2′−
ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′
−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾ
フェノン、ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−
ベンゾイルフェニル)メタン等のベンゾフェノン系紫外
線吸収剤、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
5′−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシー3′、5′−ジ−ter
t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′
−ヒドロキシ−3−tert−ブチルー5′−メチルフ
ェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−
(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−アミ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロ
キシ−3′−(3″、4″、5″、6″−テトラヒドロ
フタリイミドメチル)−5′−メチルフェニル]ベンゾ
トリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−ter
t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
[2′−ヒドロキシ−3′、5′−ビス(α、α′−ジ
メチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′−ドデシル−5′−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒ
ドロキシ−3′−ウンデシル−5′−メチルフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−
トリデシル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2′−ヒドロキシ−3′−テトラデシル−
5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2′−ヒドロキシ−3′−ペンタデシル−5′−メチ
ルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロ
キシ−3′ヘキサデシル−5′−メチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−4′−
(2″−エチルヘキシル)オキシフェニル]ベンゾトリ
アゾール、2−[2′−ヒドロキシ−4′−(2″−エ
チルヘプチル)オキシフェニル]ベンゾトリアゾール、
2−[2′−ヒドロキシ−4′−(2″−エチルオクチ
ル)オキシフェニル]ベンゾトリアゾール、2−[2′
−ヒドロキシ−4′−(2″−プロピルオクチル)オキ
シフェニル]ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロ
キシ−4′−(2″−プロピルヘプチル)オキシフェニ
ル]ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−
4′−(2″−プロピルヘキシル)オキシフェニル]ベ
ンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−4′−
(1″−エチルヘキシル)オキシフェニル]ベンゾトリ
アゾール、2−[2′−ヒドロキシ−4′−(1″−エ
チルヘプチル)オキシフェニル]ベンゾトリアゾール、
2−[2′−ヒドロキシ−4′−(1″−エチルオクチ
ル)オキシフェニル]ベンゾトリアゾール、2−[2′
−ヒドロキシ−4′−(1″−プロピルオクチル)オキ
シフェニル]ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロ
キシ−4′−(2″−プロピルヘプチル)オキシフェニ
ル]ベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−
4′−(2″−プロピルヘキシル)オキシフェニル]ベ
ンゾトリアゾール、2,2′−メチレンビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、ポリエ
チレングリコールとメチル−3−[3−tert−ブチ
ル−5−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4
−ヒドロキシフェニル]プロピオネートとの縮合物など
のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、2′−エチルヘ
キシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリラー
ト、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレ
ートなどのシアノアクリレート系紫外線吸収剤、ビス
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
ベケート,コハク酸−ビス(2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ピペリジル)エステル、2−(3,5−ジ−
tert−ブチル)マロン酸−ビス(1,2,2,6,
6−ペンタメチル−4−ピペリジル)エステルなどのヒ
ンダードアミン系紫外線吸収剤、1,8−ジヒドロキシ
ー2−アセチル−3−メチル−6−メトキシナフタレン
及びその関連化合物などを挙げることができる。
る。 4,4′−ビス[2−アニリノ−4−(ヒドロキシエチ
ル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミノ]
スチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム塩 4,4′−ビス[2−アニリノ−4−ビス(ヒドロキシ
エチル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミ
ノ]スチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム
塩 4,4′−ビス[2−メトキシ−4−(ヒドロキシエチ
ル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミノ]
スチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム塩 4,4′−ビス[2−アニリノ−4−(ヒドロキシプロ
ピル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−アミ
ノ]スチルベン−2,2′−ジスルホン酸二ナトリウム
塩 4,4′−ビス[2−m−スルホアニリノ−4−ビス
(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジニ
ル−6−アミノ]スチルベン−2,2′−ジスルホン酸
二ナトリウム塩 4,−[2−p−スルホアニリノ−4−ビス(ヒドロキ
シエチル)アミノ−1,3,5−トリアジニル−6−ア
ミノ]−4′−[2−m−スルホアニリノ−4−ビス
(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジニ
ル−6−アミノ]スチルベン−2,2′−ジスルホン酸
四ナトリウム塩 4,4′−ビス[2−p−スルホアニリノ−4−ビス
(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリアジニ
ル−6−アミノ]スチルベン−2,2′−ジスルホン酸
四ナトリウム塩 4,4′−ビス[2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−フェノキシアミノ−1,3,5−トリアジニル−6
−アミノ]スチルベン−2,2′−ジスルホン酸六ナト
リウム塩 4,4′−ビス[2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−(p−メトキシカルボニルフェノキシ)アミノ−
1,3,5−トリアジニル−6−アミノ]スチルベン−
2,2′−ジスルホン酸六ナトリウム塩 4,4′−ビス[2−(p−スルホフェノキシ)−4−
ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−1,3,5−トリア
ジニル−6−アミノ]スチルベン−2,2′−ジスルホ
ン酸六ナトリウム塩 4,4′−ビス[2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−ホルマニリルアミノ−1,3,5−トリアジニル−
6−アミノ]スチルベン−2,2′−ジスルホン酸六ナ
トリウム塩 4,4′−ビス[2−(2,5−ジスルホアニリノ)−
4−ビス(ヒドロキシエチル)アミノー1,3,5−ト
リアジニルー6−アミノ]スチルベン−2,2′−ジス
ルホン酸六ナトリウム塩
使用するには既知の画像保存安定剤、顕色剤あるいは増
感剤を使用する場合と同様にして製造することができ
る。例えば、公知の方法によりマイクロカプセル化した
発色染料を適当な分散剤によって分散し、紙に塗布して
発色剤シートを作成する。また、顕色剤の分散液を紙に
塗布して顕色剤シートを作成する。その際、本発明の化
合物を画像保存安定剤として使用する場合には発色剤シ
ートあるいは顕色剤シートのいずれの分散液中に分散し
て使用してもよい。このようにして作成された両シート
を組み合わせて感熱複写紙が作成される。感熱複写紙と
しては、発色性染料の有機溶媒溶液を内包するマイクロ
カプセルを下面に塗布坦持している上用紙と顕色剤(酸
性物質)を上面に塗布坦持している下用紙とからなるユ
ニットでも、あるいはマイクロカプセルと顕色剤とが同
一の紙面に塗布されているいわゆるセルフコンテントペ
ーパーであてっもよい。
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。 実施例1 水9.6g中に水酸化ナトリウム6.4g(0.16モ
ル)を加え溶解後、これにメチルセルソルブ25ml、
4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ビス(フェニルス
ルホニル)ジフェニルスルホン42.4g(0.08モ
ル)を加えた。100℃で1時間攪拌後、1,2−ジブ
ロモエタン7.5g(0.04モル)を滴下し、100
℃〜110℃で6時間反応させた。反応終了後反応液に
メタノール200mlを加え、室温まで冷却後25%硫
酸にて中和した析出晶を濾別、粗結晶を得た。この粗結
晶を80%メタノールにて洗浄し、白色結晶18.9
g、融点177℃〜200℃を得た。高速液体クロマト
グラフィーにより次のような組成であった。ただし、カ
ラムはMightsil RP−18(関東化学製)、
移動相はCH3CN:H2O:1%H3PO4=650:3
50:5,UV波長は260nmである。
示す。
にビス−2−クロロエチルエーテル5.7g(0.04
モル)を加え、100〜110℃で60時間反応させ
た。反応終了後メタノール200mlを加え、室温まで
冷却後25%硫酸にて中和した析出晶を濾別、粗結晶を
得た。この粗結晶を80%メタノールにて洗浄し、白色
結晶34.6g、融点161℃〜174℃を得た。高速
液体クロマトグラフィーにより次のような組成であっ
た。ただし、カラムはMightsil RP−18
(関東化学製)、移動相はCH3CN:H2O:1%H3
PO4=700:300:5,UV波長は260nmで
ある。
に示す。
3′−ビス(フェニルスルホニル)ジフェニルスルホン
の代わりに4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ビス
(4−トルエンスルホニル)ジフェニルスルホン44.
7g(0.08モル)を加え、100〜110℃で8時
間反応させた。反応終了後メタノール200mlを加
え、室温まで冷却後25%硫酸にて中和した析出晶を濾
別、粗結晶を得た。この粗結晶を80%メタノールにて
洗浄し、白色結晶21.7g、融点172℃〜182℃
を得た。高速液体クロマトグラフィーにより次のような
組成であった。ただし、カラムはMightsil R
P−18(関東化学製)、移動相はCH3CN:H2O:
1%H3PO4=700:300:5,UV波長は260
nmである。
に示す。
が、以下に示す部及び%はいずれも重量基準である。 実施例4(感熱記録紙の作成) [染料分散液(A液)] 2−アニリノ−3−メチルー6−ジブチルアミノフルオラン 7.0g ポリビニルアルコール15%水溶液 30.0g 填料(炭酸カルシウム) 13.5g 純水 49.5g [顕色剤分散液(B液)] 実施例1により得られた化合物 7.0g ポリビニルアルコール15%水溶液 30.0g 填料(炭酸カルシウム) 13.5g 純水 49.5g [填料分散液(C液)] ポリビニルアルコール15%水溶液 30.0g 填料(炭酸カルシウム) 20.5g 純水 49.5g 上記組成の混合物それぞれサンドグラインダーで充分に
摩砕して、A液、B液及びC液の各分散液を調製し、A
液1重量部、B液2重量部及びC液1重量部を混合して
塗布液を調製した。この塗布液をワイヤーロッド(No
12)を使用して白色紙に塗布、乾燥した後、カレンダ
ー掛け処理して感熱記録紙を作成した(塗布量は乾燥重
量で約5.5g/m2)。
実施例2で得られた本発明化合物を使用する他は実施例
4と同様にして、感熱記録紙を作製した。
実施例3で得られた本発明化合物を使用する他は実施例
4と同様にして、感熱記録紙を作製した。
4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスル
ホンを使用する他は実施例4と同様にして、感熱記録紙
を作製した。 比較例2 実施例4の顕色剤分散液の本発明の化合物の代わりに、
4,4′−ビスー(p−トルエンスルホニルアミノカル
ボニルアミノ)ジフェニルメタンを使用する他は実施例
4と同様にして、感熱記録紙を作製した。
4、4′−ジヒドロキシ−3,3′−ビスフェニルスル
ホニルジフェニルスルホンを使用する他は実施例4と同
様にして、感熱記録紙を作製した。 比較例4 実施例4の顕色剤分散液の本発明の化合物の代わりに、
4、4′−ジヒドロキシ−3,3′−ビス(4−メチル
フェニルスルホニル)ジフェニルスルホンを使用する他
は実施例4と同様にして、感熱記録紙を作製した。 比較例5 実施例4の顕色剤分散液の本発明の化合物の代わりに、
次の(化12)で示される化合物を使用する他は実施例
4と同様にして、感熱記録紙を作製した。
いて、感熱紙発色試験装置(大倉電機製 TH−PMD
型)を使用し、印字電圧26V,パルス幅1.8msの
条件で市松模様に発色させ、その発色面に塩化ビニール
ラップフィルムを密着させた。その状態で40℃雰囲気
下144時間、耐可塑剤性試験を行った。試験前後の発
色濃度をマクベス反射濃度計RD−514(使用フィル
ター:#106)で測定した。その結果を表1に示す。
きい数値ほど発色濃度が高いことを示している。また
「画像残存率(%)」は、発色画像濃度(試験後)÷発色
画像濃度(試験前)×100により求められ、大きい数
値ほど褪色が少ないことを示している。表1から、本発
明の記録材料の方が比較例のものに比べて褪色が少な
く、耐可塑剤性の点で優れていることがわかる。
いて、試験例1と同様にして発色させた。その発色画像
をサラダ油に浸漬したまま、25℃で8日間放置し、耐
油性試験を実施した。それぞれ試験前後の画像の光学濃
度をマクベス反射濃度計RD−514(使用フィルタ
ー:#106)で測定した。その結果を表2に示す。表
2より、比較例1のものは著しく耐油性に乏しいことが
わかる。
いて、試験例1と同様にして発色させた。その発色画像
を25℃で3日間純水に浸漬した後、この試験片を50
℃で3分間乾燥し、画像の光学濃度を測定した。その結
果を表3に示す。表3より、本発明の記録材料の方が比
較例のものに比べて褪色が少なく、耐水性の点で優れて
いることがわかる。
ついて、これらの試験片を80℃、90℃、100℃で
24時間加熱後、地肌の光学濃度を測定した。その結果
を表4に示す。表4における光学濃度の測定値は、数値
が大きいほど地肌の発色濃度が高いことを示しており、
数値が小さいほど地肌の白度が保持されていることを示
している。表4より、本発明の記録材料の方が比較例の
ものに比べて、80℃、90℃、100℃での24時間
加熱における熱安定性において優れており、地肌の被り
が少なく鮮明な画像が得られることがわかる。なお、比
較例1のものは発色濃度が高く、測定不能であった。
物又はそれらを少なくとも2種以上含有する組成物を画
像保存安定剤及び/又は顕色剤として用いる本発明の記
録材料は、発色画像の保存安定性、特に耐可塑剤性、耐
油性、耐水性、耐熱性、耐湿性等に優れている。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 [式中、Xは、分枝を有していてもよく、またエーテル
結合を有してもよいC1〜C12の飽和もしくは不飽和の
炭化水素基、又は、 【化2】 (Rはメチレン基又はエチレン基を示し、Tは水素原子
又はC1〜C4のアルキル基を示す)を表し、R1〜R
8は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、C1〜C6のアル
キル基、C1〜C4のアルケニル基を表し、m,n,p,
qはそれぞれ0〜5までの整数を、r,t,u,wはそ
れぞれ0〜3まで整数を表し、m,n,p,q,r,
t,u,wのそれぞれが2以上のときにはR1〜R8はそ
れぞれ異なっていてもよく、aは1〜10の整数を表
す。]で表されるジフェニルスルホン架橋型化合物。 - 【請求項2】 一般式(I)で表されるジフェニルスル
ホン架橋型化合物を少なくとも2種以上含有することを
特徴とする組成物。 - 【請求項3】 発色性染料を含有する記録材料におい
て、一般式(I)で表されるジフェニルスルホン架橋型
化合物の少なくとも一種を含有することを特徴とする記
録材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18424298A JP3936802B2 (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 置換ジフェニルスルホン架橋型化合物及びそれを用いた記録材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18424298A JP3936802B2 (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | 置換ジフェニルスルホン架橋型化合物及びそれを用いた記録材料 |
Publications (2)
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---|---|
JP2000016979A true JP2000016979A (ja) | 2000-01-18 |
JP3936802B2 JP3936802B2 (ja) | 2007-06-27 |
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-
1998
- 1998-06-30 JP JP18424298A patent/JP3936802B2/ja not_active Expired - Lifetime
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