ITMO20130010A1

ITMO20130010A1 - METHOD FOR REALIZING A BUFFER WITH TAPE DEVELOPMENT.

Info

Publication number: ITMO20130010A1
Application number: IT000010A
Authority: IT
Inventors: Enrico Fontanini
Original assignee: S R S S P A
Priority date: 2013-01-18
Filing date: 2013-01-18
Publication date: 2014-07-19

Description

DESCRIZIONE DESCRIPTION

“Metodo per realizzare un tampone a sviluppo nastriforme.” "Method for making a pad with a ribbon-like development."

La presente invenzione ha per oggetto un metodo per realizzare un tampone a sviluppo nastriforme. The present invention relates to a method for making a pad with a ribbon-like development.

Per tampone si intende un supporto, rigido o semirigido, dotato di una superficie di base presentante un decoro almeno in parte sporgente dalla superficie di base e/o rientrante nella superficie di base. By pad is meant a support, rigid or semi-rigid, provided with a base surface having a decoration at least partly protruding from the base surface and / or re-entering the base surface.

Per sviluppo nastriforme si intende una forma tridimensionale del tampone a spessore considerevolmente ridotto rispetto le dimensioni di larghezza e lunghezza che lo stesso può assumere. By strip-like development is meant a three-dimensional shape of the pad with a considerably reduced thickness with respect to the dimensions of width and length that it can assume.

Il presente metodo e conseguentemente il tampone a sviluppo nastriforme trova preferibilmente campo di applicazione nel settore ceramico per la produzione e decorazione di piastrelle di rivestimento e piastrelle per pavimenti. The present method and consequently the strip-shaped pad preferably finds a field of application in the ceramic sector for the production and decoration of wall tiles and floor tiles.

Più estensivamente il presente metodo trova campo di applicazione nella decorazione di pellame, lastre rigide e semirigide in materiale plastico, carta da parati e più genericamente la decorazione di materiali di grandi formati. More extensively, the present method finds field of application in the decoration of leather, rigid and semi-rigid plates in plastic material, wallpaper and more generally the decoration of large-format materials.

Per piastrella, si deve intendere, nel contesto della presente invenzione, un elemento architettonico usato per rivestire le superfici di pavimento e muri, avente preferibilmente uno spessore inferiore a 7 mm e realizzata in laterizio, oppure graniglia, oppure marmo, oppure ceramica, oppure cemento. By tile, in the context of the present invention, it is meant an architectural element used to cover floor and wall surfaces, preferably having a thickness of less than 7 mm and made of brick, or grit, or marble, or ceramic, or concrete. .

In particolari applicazioni, quali ad esempio l’allestimento di bagni, cucine o altri locali di pregio, è noto ricorrere all’uso di piastrelle decorative. In particular applications, such as the preparation of bathrooms, kitchens or other prestigious rooms, it is known to resort to the use of decorative tiles.

Tali piastrelle presentano in alcuni casi ornamenti grafici, dati dallo spessore dei colori/smalti depositati sulla superficie espositiva della piastrella, e in altri casi decori in rilievo, vale a dire emergenti o rientranti dalla/nella superficie della piastrella, per ottenere un effetto tridimensionale del decoro. In some cases these tiles have graphic ornaments, given by the thickness of the colors / glazes deposited on the display surface of the tile, and in other cases embossed decorations, that is to say emerging or re-entering from / in the surface of the tile, to obtain a three-dimensional effect of the decor.

Recentemente si sta diffondendo l’uso di piastrelle di grande formato, preferibilmente di contorno rettangolare a forma di lastra, dotate di uno spessore ridotto, compreso tra 7 e 3 mm, rispetto alle dimensioni dei lati della piastrella che possono ad esempio superare in lunghezza anche i 3 mt. Recently, the use of large-format tiles, preferably with rectangular slab-shaped contours, with a reduced thickness, between 7 and 3 mm, is spreading, compared to the dimensions of the sides of the tile which can, for example, exceed in length even the 3 mt.

Quest’ultima tipologia di piastrella, benché largamente diffusa nel mercato, risulta inconsueta rispetto ai formati di piastrella standard che assumono dimensioni in pianta, compresi tra 15x15 cm e 130x130 cm, e spessori compresi tra 8 e 12 mm. The latter type of tile, although widely used in the market, is unusual compared to standard tile formats that take on plan dimensions, ranging from 15x15 cm to 130x130 cm, and thicknesses between 8 and 12 mm.

Per realizzare piastrelle di dimensioni standard, le tecniche note più largamente diffuse sono due: la pressatura e l’estrusione. To make standard-sized tiles, the most widely used known techniques are two: pressing and extrusion.

La pressatura prevede tramite una pressa la formatura di polveri, con umidità compresa tra il 4% e il 7%, all’interno di un semistampo superiore (generalmente mobile) e un semistampo inferiore (generalmente fisso). Sul semistampo superiore è applicato un tampone, generalmente in resina o gomma, che riproduce in negativo il decoro, in alto/basso rilievo, che si desidera imprimere alla piastrella. Pressing uses a press to form powders, with humidity between 4% and 7%, inside an upper half-mold (generally mobile) and a lower half-mold (generally fixed). A pad, generally in resin or rubber, is applied to the upper half-mold, which reproduces in negative the decoration, in high / low relief, to be impressed on the tile.

Tale tecnica di produzione prevede per le presse una pressione di esercizio che può indicativamente variare, a seconda del formato ovvero delle dimensioni della piastrella, da 20 a 40 MPa. This production technique provides for an operating pressure for the presses which can indicatively vary, depending on the format or size of the tile, from 20 to 40 MPa.

Questo processo di produzione risulta svantaggioso all’aumentare delle dimensioni della piastrella dal momento che sono necessari, ad esempio per formati di piastrelle che superano le dimensioni di 33x33 cm, tempi di formatura elevati essendo il processo suddiviso in due distinti cicli di pressatura. This production process is disadvantageous as the size of the tile increases since long forming times are required, for example for tile sizes exceeding 33x33 cm, as the process is divided into two distinct pressing cycles.

Estendere tale procedimento alla fabbricazione di piastrelle di grandi formato si è rilevata una procedura inefficace e antieconomica. Extending this process to the manufacture of large-format tiles has proved to be an ineffective and uneconomical procedure.

Oltre a un elevato costo di adattamento delle presse esistenti, le energie in gioco per la formazione di piastrelle di grandi formati risultano spropositate. In addition to the high cost of adapting existing presses, the energy involved in forming large-format tiles is disproportionate.

In aggiunta le piastrelle derivanti da tale processo produttivo presentano elevati difetti tra cui problemi di planarità, mancanza di uniformità dello spessore lungo la sezione della piastrella e, in alcuni casi, difficoltà nell’imprimere alla piastrella il decoro nelle regioni periferiche della stessa. In altre parole, la piastrella di grande formato derivante dal procedimento di pressatura presenta buone caratteristiche geometriche in un’area limitrofa a quella ricoperta dal punzone della pressa ma nelle regioni lontane al punzone si concentrano i difetti sopra menzionati per disuniformità della pressione applicata dal punzone. In addition, the tiles resulting from this production process have high defects including problems of planarity, lack of uniformity of the thickness along the section of the tile and, in some cases, difficulties in giving the tile the decoration in the peripheral regions of the same. In other words, the large-format tile resulting from the pressing process has good geometric characteristics in an area adjacent to that covered by the press punch, but the above-mentioned defects are concentrated in the regions far from the punch due to unevenness of the pressure applied by the punch.

Meno utilizzata è la tecnica di formatura per estrusione, utilizzata per prodotti quali cotto e clinker, per la quale un impasto, con contenuto di umidità variabile compreso tra il 15% e il 20%, viene generalmente forzata attraverso due rulli accoppiati che svolgono una sorta di laminazione dell’impasto. Less used is the extrusion molding technique, used for products such as terracotta and clinker, for which a mixture, with a variable moisture content between 15% and 20%, is generally forced through two coupled rollers that perform a sort of rolling the dough.

Tale procedimento risulta innanzitutto inefficace per le piastrelle a basso contenuto di umidità per le quali è preferito il processo di pressatura. This process is first of all ineffective for tiles with a low moisture content for which the pressing process is preferred.

L’applicazione di tale procedimento per le piastrelle di grande formato risulta inapplicabile per svariati motivi. The application of this procedure for large format tiles is inapplicable for various reasons.

Innanzitutto aumentare la lunghezza delle piastrella ottenuta dall’estrusione comporta il prolificarsi di difetti superficiali quali ad esempio ondulazioni al bordo, cricche al bordo e/o al centro e delaminazione. First of all, increasing the length of the tile obtained from the extrusion involves the proliferation of surface defects such as undulations at the edge, cracks at the edge and / or in the center and delamination.

In secondo luogo, la progettazione di un decoro grafico per una piastrella di grande formato che presenta, ad esempio, lunghezza pari a 3 mt prevede un dimensionamento dei rulli con diametri elevati vicini al metro. Secondly, the design of a graphic decoration for a large-format tile that has, for example, a length of 3 meters requires a sizing of the rollers with large diameters close to one meter.

Rulli di tali diametri sono difficilmente adattabili alle macchine di estrusione esistenti, e prevedono tempi di fabbricazioni estremamente lunghi e costosi. Rollers of such diameters are difficult to adapt to existing extrusion machines, and require extremely long and expensive manufacturing times.

In aggiunta con rulli di grandi diametri, inconsueti rispetto a quelli presenti sul mercato, l’attrito limita la deformazione della superficie esterna, rendendo problematica l’applicazione del decoro sull’impasto ceramico, e l’interno dell’impasto si deforma di più, risultando in compressione, generando quindi una piastrella con caratteristiche meccaniche di resistenza non uniformi lungo la sezione della stessa. In addition with large diameter rollers, unusual compared to those on the market, the friction limits the deformation of the external surface, making it difficult to apply the decoration on the ceramic body, and the inside of the body deforms more, resulting in compression, thus generating a tile with non-uniform mechanical resistance characteristics along its section.

Per risolvere i problemi delle tecniche produttive sopra esposti, in conformità con l’esigenza del mercato di disporre di piastrelle di grande formato e ridotto spessore, si è consolidata nel settore ceramico una tecnica di formatura attraverso l’uso di nastri pressori realizzati in materiale plastico polimerico. In order to solve the problems of the production techniques described above, in accordance with the market need for large-format and reduced-thickness tiles, a forming technique has been consolidated in the ceramic sector through the use of pressure belts made of plastic material. polymeric.

Il sistema prevede una pressa tradizionale ma con il semistampo superiore avvolto da un nastro, quest’ultimo opportunamente teso attraverso rulli tensori. In questo modo la pressione di esercizio, non più localizzata nell’area limitrofa al punzone, risulta più uniforme lungo l’intera estensione superficiale della piastrella. The system involves a traditional press but with the upper half-mold wrapped in a belt, the latter suitably stretched through tensioning rollers. In this way, the operating pressure, no longer localized in the area adjacent to the punch, is more uniform along the entire surface extension of the tile.

Benché l’uso di nastri pressori abbia consentito la produzione di piastrelle di grande formato si è drasticamente ridotta, se non annullata, la possibilità di applicare decori in alto/basso rilievo sulla piastrella uscente dal processo di formatura. Although the use of pressure belts has allowed the production of large format tiles, the possibility of applying high / low relief decorations on the tile coming out of the forming process has drastically reduced, if not canceled.

Attualmente i tentativi di decorare, ovvero incidere, i nastri in polimero per la formatura delle piastrelle hanno portato a preferire la fase di decorazione solo successivamente alla fase di pressatura determinando come limite la realizzazione di un decoro solo in sporgenza dalla superficie espositiva della piastrella per incapacità di imprimere un segno, o decoro, sulla superficie del nastro. Currently the attempts to decorate, or engrave, the polymer tapes for forming the tiles have led to prefer the decoration phase only after the pressing phase, determining as a limit the creation of a decoration only protruding from the display surface of the tile due to inability to impress a mark, or decoration, on the surface of the tape.

La trasposizione delle consuete tecniche di incisione, ad esempio attraverso l’uso di laser, direttamente sul nastro comporta la perdita delle proprietà meccanico-fisiche del nastro stesso oltre al danneggiamento della macchina laser per incisione. The transposition of the usual engraving techniques, for example through the use of lasers, directly on the tape involves the loss of the mechanical-physical properties of the tape itself in addition to damage to the laser engraving machine.

Difatti la temperatura di esercizio del laser, generalmente intorno ai 1500°C, provoca la sublimazione del materiale polim erico con cui è realizzato il nastro generando un danneggiamento di quest’ultimo fino a renderlo inefficace nel successivo processo di formatura. In fact, the operating temperature of the laser, generally around 1500 ° C, causes the sublimation of the polymeric material with which the belt is made, causing damage to the latter until it becomes ineffective in the subsequent forming process.

La sublimazione del materiale polimerico provoca infatti la perdita del comportamento gommoso del nastro, in favore di un comportamento vetroso, che genera un adesione delle particelle del materiale ceramico al nastro stesso durante il processo di formatura con conseguente danneggiamento della superficie espositiva della piastrella formata. In fact, the sublimation of the polymeric material causes the loss of the rubbery behavior of the tape, in favor of a glassy behavior, which generates an adhesion of the ceramic material particles to the tape itself during the forming process with consequent damage to the display surface of the formed tile.

Inoltre i gas sprigionati dal materiale polimerico durante il processo di incisione a laser, derivanti dalla fase di sublimazione del polimero, danneggiano e compromettono la funzionalità della macchina laser sia durante il procedimento sia per successive operazioni di incisione. Furthermore, the gases released by the polymeric material during the laser engraving process, deriving from the polymer sublimation step, damage and compromise the functionality of the laser machine both during the process and for subsequent engraving operations.

In questo contesto, il compito tecnico alla base della presente invenzione è proporre un metodo per realizzare un tampone a sviluppo nastriforme che superi gli inconvenienti della tecnica nota sopra citati. In this context, the technical task underlying the present invention is to propose a method for making a ribbon-shaped pad which overcomes the aforementioned drawbacks of the known art.

In particolare, è scopo della presente invenzione mettere a disposizione un metodo per realizzare un tampone a sviluppo nastriforme in grado di formare una piastrella di grande formato dotata di un decoro in rilievo e/o bassorilievo. In particular, it is an object of the present invention to provide a method for making a ribbon-shaped pad capable of forming a large-format tile equipped with a relief and / or bas-relief decoration.

Altro scopo della presente invenzione è quello di realizzare un metodo per la formazione di un tampone a sviluppo nastriforme che non alteri le caratteristiche meccanico-fisiche del materiale polimerico con cui è realizzato il tampone. Another object of the present invention is to provide a method for forming a pad with a ribbon-like development that does not alter the mechanical-physical characteristics of the polymeric material with which the pad is made.

I compiti tecnici precisati e gli scopi specificati sono sostanzialmente raggiunti da un metodo per realizzare un tampone a sviluppo nastriforme, comprendente le caratteristiche tecniche esposte in una o più delle unite rivendicazioni. The specified technical tasks and the specified purposes are substantially achieved by a method for making a pad with a ribbon-like development, comprising the technical characteristics set out in one or more of the appended claims.

Ulteriori caratteristiche e vantaggi della presente invenzione appariranno maggiormente chiari dalla descrizione indicativa, e pertanto non limitativa, di una forma di realizzazione preferita ma non esclusiva di un metodo per tampone a sviluppo nastriforme, come illustrato negli uniti disegni in cui: - la figura 1 è un tampone a sviluppo nastriforme realizzato in accordo con il metodo oggetto della presente invenzione; Further characteristics and advantages of the present invention will become clearer from the indicative, and therefore non-limiting, description of a preferred but not exclusive embodiment of a method for a ribbon-shaped pad, as illustrated in the accompanying drawings in which: - Figure 1 is a pad with a ribbon-like development made in accordance with the method object of the present invention;

- la figura 2 è una fase preliminare del metodo per produrre il tampone a sviluppo nastriforme in accordo con la presente invenzione; Figure 2 is a preliminary step of the method for producing the web-shaped pad according to the present invention;

- la figura 3 è un ingrandimento di una fase operativa del metodo per produrre un tampone a sviluppo nastriforme in accordo con la presente invenzione; Figure 3 is an enlargement of an operative step of the method for producing a web-shaped pad according to the present invention;

- la figura 4 è un’ulteriore ingrandimento di una fase operativa del metodo, successiva alla fase di figura 3, per realizzare un tampone a sviluppo nastriforme. - Figure 4 is a further enlargement of an operating step of the method, subsequent to the step of Figure 3, to make a pad with a ribbon-like development.

- la figura 5 è un’ulteriore ingrandimento di una fase operativa del metodo successiva alla fase di figura 4. - Figure 5 is a further enlargement of an operational step of the method subsequent to the step of Figure 4.

- la figura 6 è una fase conclusiva del metodo per realizzare il tampone a sviluppo nastriforme. - figure 6 is a final step of the method for making the pad with a ribbon-like development.

La figura 1 mostra un tampone 1 a sviluppo nastriforme ottenuto con un metodo in accordo con la presente invenzione. Figure 1 shows a pad 1 with a ribbon-like development obtained with a method in accordance with the present invention.

Il metodo per realizzare il tampone 1 a sviluppo nastriforme prevede le seguenti fasi: The method for making the pad 1 with a ribbon-like development involves the following steps:

- predisporre su un primo supporto 2, dotato di un piano ideale di riferimento 3, un decoro 4. Il decoro 4 si sviluppa su una superficie di lavoro 5 del supporto 2 e comprende almeno un rilievo 4a, sporgente dal piano ideale di riferimento 3, e/o almeno una cavità 4b, rientrane nel piano ideale di riferimento 3; - arranging on a first support 2, equipped with an ideal reference plane 3, a decoration 4. The decoration 4 extends over a work surface 5 of the support 2 and comprises at least one relief 4a, protruding from the ideal reference plane 3, and / or at least one cavity 4b, falls within the ideal reference plane 3;

- predisporre un secondo supporto 6, dotato di una superficie esterna 7, a sviluppo nastriforme; - providing a second support 6, provided with an external surface 7, with a ribbon-like development;

- disporre a contatto, all’interno di una camera 8 chiusa, la superficie esterna 7 del secondo supporto 6 sul primo supporto 2; - arrange in contact, inside a closed chamber 8, the external surface 7 of the second support 6 on the first support 2;

- depressurizzare detta camera 8, favorendo l’adesione della superficie esterna 7 del secondo supporto 6 sulla superficie di lavoro 5 del primo supporto 2; - depressurize said chamber 8, favoring the adhesion of the external surface 7 of the second support 6 on the work surface 5 of the first support 2;

- riscaldare la camera 8 per termoformare il secondo supporto 6 imprimendo in modo permanentemente sulla superficie esterna 7 un profilo 9 riproducente in negativo la superficie di lavoro 5 del primo supporto 2. - heating the chamber 8 to thermoform the second support 6 by permanently impressing on the external surface 7 a profile 9 reproducing in negative the working surface 5 of the first support 2.

Per tampone 1 si intende un supporto, rigido o semirigido, dotato di una superficie esterna 7 presentante un decoro, sviluppatesi su un profilo 9, almeno in parte sporgente dalla superficie esterna 7 e/o almeno in parte rientrane nella superficie esterna 7. By pad 1 we mean a support, rigid or semi-rigid, provided with an external surface 7 presenting a decoration, developed on a profile 9, at least partly protruding from the external surface 7 and / or at least partly falling into the external surface 7.

Il tampone 1 può essere utilizzato singolarmente e può essere applicato a un punzone atto a pressare e imprimere, in modo tradizionale, un decoro su polveri opportunamente predisposte all’interno di un semistampo inferiore. The pad 1 can be used individually and can be applied to a punch designed to press and impress, in the traditional way, a decoration on powders suitably prepared inside a lower half-mold.

Alternativamente, il tampone 1 può essere utilizzato in una pluralità di tamponi fra loro collegati per formare un nastro ad anello chiuso atto a effettuare una pressatura direttamente su polveri opportunamente predisposte al di sopra di un ulteriore nastro inferiore di formatura. Alternatively, the pad 1 can be used in a plurality of pads connected to each other to form a closed loop belt suitable for carrying out a pressing directly on powders suitably arranged above a further lower forming belt.

Detto tampone 1, preferibilmente semirigido, è realizzato in materiale plastico polimerico. Said pad 1, preferably semi-rigid, is made of polymeric plastic material.

Detto tampone 1 è definito attraverso un secondo supporto 6 a sviluppo nastriforme. Said pad 1 is defined by means of a second support 6 with a ribbon-like development.

Per sviluppo nastriforme si intende una forma tridimensionale del tampone 1 a spessore considerevolmente ridotto rispetto le dimensioni di larghezza e lunghezza che lo stesso può assumere. By strip-like development is meant a three-dimensional shape of the pad 1 with a considerably reduced thickness with respect to the dimensions of width and length that it can assume.

Per sviluppo nastriforme si intende un nastro a contorno quadrangolare, preferibilmente rettangolare, con spessore S, lunghezza A e larghezza B. Lo spessore S può assumere dimensioni variabili da 2 a 10 mm. By strip-like development is meant a ribbon with a quadrangular contour, preferably rectangular, with thickness S, length A and width B. The thickness S can take on dimensions ranging from 2 to 10 mm.

Detto spessore S può assumere preferibilmente dimensione pari a 2,5 mm. Said thickness S can preferably assume a size equal to 2.5 mm.

La larghezza B può assumere dimensioni variabili da 100 a 2000 mm. The width B can assume variable dimensions from 100 to 2000 mm.

Detta larghezza B può assumere preferibilmente dimensione pari a 1000 mm. Said width B can preferably assume a size equal to 1000 mm.

La lunghezza A può assumere dimensioni variabili da 2000 a 4000 mm. Detta larghezza A può assumere preferibilmente dimensioni pari a 3000 mm. The length A can assume variable dimensions from 2000 to 4000 mm. Said width A can preferably assume dimensions equal to 3000 mm.

In altre parole il tampone 1, ottenuto dal secondo supporto 6, presenta sviluppo predominante lungo la lunghezza A In other words, the plug 1, obtained from the second support 6, has a predominant development along the length A

Più in particolare il rapporto adimensionale tra spessore S e larghezza B è compreso tra 0,02 e 0,0005. More specifically, the dimensionless ratio between thickness S and width B is between 0.02 and 0.0005.

Allo stesso modo il rapporto adimensionale tra spessore S e larghezza A è compreso tra 0,001 e 0,00025. Similarly, the dimensionless ratio between thickness S and width A is between 0.001 and 0.00025.

Preferibilmente il secondo supporto 6 a sviluppo nastriforme presenta rapporto adimensionale tra spessore S e larghezza B pari a 0,0025. Preferably, the second support 6 with a ribbon-like development has a dimensionless ratio between thickness S and width B equal to 0.0025.

Ancor più preferibilmente il secondo supporto 6 a sviluppo nastriforme presenta rapporto adimensionale tra spessore S e lunghezza A pari a 0,0008. Even more preferably, the second web-shaped support 6 has a dimensionless ratio between thickness S and length A equal to 0.0008.

Detto tampone nastriforme 1 è funzionale alla successiva formatura di piastrelle di rivestimento di muri e pavimenti. Said ribbon-like pad 1 is functional for the subsequent forming of wall and floor covering tiles.

Le piastrelle di rivestimento, presentano generalmente un contorno rettangolare con lunghezza compresa tra 2 e 3 mt, larghezza compresa tra 1 e 2 mt e spessore compreso tra 3 e 7 mm. The cladding tiles generally have a rectangular outline with a length between 2 and 3 meters, a width between 1 and 2 meters and a thickness between 3 and 7 mm.

Per piastrella, si deve intendere, nel contesto della presente invenzione, un elemento architettonico usato per rivestire le superfici di pavimenti e muri, realizzata in laterizio, oppure graniglia, oppure marmo, oppure ceramica, oppure cemento. By tile, in the context of the present invention, it is meant an architectural element used to cover the surfaces of floors and walls, made of brick, or grit, or marble, or ceramic, or concrete.

Preliminarmente alla fase di formatura del tampone 1 è necessaria una fase di realizzazione del decoro 4 sul primo supporto 2. Preliminarily to the step of forming the pad 1, a step of making the decoration 4 on the first support 2 is necessary.

Detta fase si compone in una sottofase progettuale (illustrata in fugura 2) e una serie di fasi produttive (illustrate nelle figure da 3 a 5. This phase consists of a design sub-phase (illustrated in figure 2) and a series of production phases (illustrated in figures 3 to 5.

Durante la fase progettuale si stabilisce il decoro che la piastrella dovrà assumere in produzione partendo dall’analisi di un decoro ausiliario 10. During the design phase, the decoration that the tile will have to assume in production is established starting from the analysis of an auxiliary decoration 10.

L’analisi del decoro ausiliario 10 prevede la definizione, attraverso un elaboratore grafico 13 del numero e dell’andamento di eventuali altorilievi e bassorilievi presenti nel decoro ausiliario 10. The analysis of the auxiliary decoration 10 provides for the definition, through a graphic processor 13, of the number and trend of any high-reliefs and bas-reliefs present in the auxiliary decoration 10.

In corrispondenza di un altorilievo, l’elaboratore grafico 13 traccerà il profilo geometrico di un corrispondente rilievo ausiliario 10a. At a high relief, the graphic processor 13 will trace the geometric profile of a corresponding auxiliary relief 10a.

In corrispondenza di un bassorilievo, l’elaboratore grafico 13 traccerà il profilo geometrico di una corrispondente cavità ausiliaria 10b. At a bas-relief, the graphic processor 13 will trace the geometric profile of a corresponding auxiliary cavity 10b.

L’insieme e l’andamento dei rilievi ausiliari 10a e delle cavità ausiliarie 10b definiranno il decoro grafico, in alto e basso rilievo, che apparirà sulla piastrella al termine del processo produttivo. The set and the trend of the auxiliary reliefs 10a and the auxiliary cavities 10b will define the graphic decoration, in high and low relief, which will appear on the tile at the end of the production process.

Detta fase di analisi del decoro ausiliario 10 avviene in modo sostanzialmente noto e preferibilmente per mezzo di scanner grafici, puntatori laser o altro. Said step of analyzing the auxiliary decoration 10 takes place in a substantially known manner and preferably by means of graphic scanners, laser pointers or other.

L’elaboratore grafico 13 effettuerà una trasposizione in negativo del decoro ausiliario 10 sul primo supporto 2 attraverso la realizzazione su quest’ultimo di un decoro 4. The graphic processor 13 will carry out a negative transposition of the auxiliary decoration 10 on the first support 2 by creating a decoration 4 on the latter.

In altre parole, l’elaboratore grafico 13 definirà sul primo supporto 2, una volta identificato un piano ideale di riferimento 3, in corrispondenza di un rilievo ausiliario 10a una cavità 4b e in corrispondenza di una sporgenza ausiliaria 10b un rilievo 4a. In other words, the graphic processor 13 will define on the first support 2, once an ideal reference plane 3 has been identified, at an auxiliary relief 10a a cavity 4b and at an auxiliary projection 10b a relief 4a.

Da un punto di vista dimensionale in caso di sporgenza del rilievo ausiliario 10a, pari a un valore H, l’elaboratore grafico 13 definirà sul primo supporto 2, a partire dal piano ideale di riferimento 3, una profondità di rientranza della cavità 4b dello stesso valore. From a dimensional point of view, if the auxiliary relief 10a protrudes, equal to a value H, the graphic processor 13 will define on the first support 2, starting from the ideal reference plane 3, a recess depth of the cavity 4b of the same value.

Allo stesso modo nel caso di rientranza della cavità ausiliaria 10b, pari a un valore h, l’elaboratore grafico 13 definirà sul primo supporto 2, a partire dal piano ideale di riferimento 3, un altezza di sporgenza del rilievo 4a dello stesso valore. Similarly, in the case of recess of the auxiliary cavity 10b, equal to a value h, the graphic processor 13 will define on the first support 2, starting from the ideal reference plane 3, a protrusion height of the relief 4a of the same value.

Da un punto di vista morfologico, nel caso di concavità, o convessità, della cavità ausiliaria 10b, l’elaboratore grafico 13 definirà sul primo supporto 2 un profilo opposto convesso, o concavo, del rilievo 4a. From a morphological point of view, in the case of concavity, or convexity, of the auxiliary cavity 10b, the graphic processor 13 will define on the first support 2 an opposite convex or concave profile of the relief 4a.

Allo stesso modo, nel caso di concavità, o convessità, del rilievo ausiliario 10a, l’elaboratore grafico 13 definirà sul primo supporto 2 un profilo opposto convesso, o concavo, della cavità 4b. Similarly, in the case of concavity, or convexity, of the auxiliary relief 10a, the graphic processor 13 will define on the first support 2 an opposite convex or concave profile of the cavity 4b.

In ultimo, l’andamento della cavità ausiliaria 10b e/o del rilievo ausiliario 10a, ricalcherà in modo speculare l’andamento del corrispondente rilievo 4a e/o della cavità 4b. Finally, the trend of the auxiliary cavity 10b and / or of the auxiliary relief 10a, will mirror the trend of the corresponding relief 4a and / or of the cavity 4b.

Terminata la fase progettuale di acquisizione di informazioni grafico dimensionali dal decoro ausiliario 10 si procede con la fase produttiva del decoro 4 sul primo supporto 2. Once the design phase of acquiring dimensional graphic information from the auxiliary decoration 10 has been completed, we proceed with the production phase of the decoration 4 on the first support 2.

Il primo supporto 2 risulta rigido preferibilmente realizzato in bachelite. In alternativa, il supporto può essere realizzato in alluminio e sue leghe, oppure rame, oppure acciaio oppure magnesio e sue leghe. The first support 2 is rigid, preferably made of bakelite. Alternatively, the support can be made of aluminum and its alloys, or copper, or steel or magnesium and its alloys.

La suddetta fase produttiva avviene preferibilmente per mezzo di incisione attraverso un laser 11. The aforementioned production phase preferably takes place by means of engraving through a laser 11.

Il laser 11 incide sul primo supporto 2 il decoro 4 attraverso asportazione di materiale. The laser 11 engraves the decoration 4 on the first support 2 by removing material.

Detta fase può essere alternativamente realizzata, a seconda del tipo di decoro 4, anche attraverso frese o fusione o altri metodi noti. According to the type of decoration 4, this step can alternatively be carried out also by means of cutters or casting or other known methods.

La fase di predisposizione del primo supporto 2 definisce la realizzazione sullo stesso di un decoro 4 attraverso la formazione di almeno un rilievo 4a e/o almeno una cavità 4b e o almeno una superficie di giunzione 4c. Detti almeno un rilievo 4a, almeno un cavità 4b, almeno una superficie di giunzione 4c definiscono la superficie di lavoro 5 del primo supporto 2. Detta superficie di lavoro 5 può coincidere almeno in parte con il piano ideale di riferimento 3 del primo supporto 2. The step of preparing the first support 2 defines the realization on it of a decoration 4 through the formation of at least one relief 4a and / or at least one cavity 4b and or at least one joining surface 4c. Said at least one relief 4a, at least one cavity 4b, at least one joining surface 4c define the working surface 5 of the first support 2. Said working surface 5 can coincide at least in part with the ideal reference plane 3 of the first support 2.

La superficie di lavoro 5 è definita dalla superficie esteriore del primo supporto 2, rivolta verso l’alto, ottenuta dalla sommatoria degli andamenti dei rilievi 4a, cavità 4b e superfici di giunzione 4c. The work surface 5 is defined by the external surface of the first support 2, facing upwards, obtained by summing the trends of the reliefs 4a, cavity 4b and junction surfaces 4c.

In altre parole la superficie di lavoro 5 è definita dal profilo dell’apice, che definisce il rilievo 4a, dal profilo della gola, che definisce la cavità 4b, e dal profilo della superficie di giunzione 4c, che collega rilievo a cavità. In other words, the work surface 5 is defined by the profile of the apex, which defines the relief 4a, by the profile of the groove, which defines the cavity 4b, and by the profile of the junction surface 4c, which connects the relief to the cavity.

Per citare un esempio, laddove il decoro 4 riproducesse l’andamento di un profilo a dente di sega la superficie di lavoro 5 sarebbe definita dalla sommatoria dei picchi dei rilievi, delle gole delle cavità e delle superfici oblique che collegano i picchi alle gole. To cite an example, where the decoration 4 reproduced the pattern of a sawtooth profile, the work surface 5 would be defined by the sum of the peaks of the reliefs, the grooves of the cavities and the oblique surfaces that connect the peaks to the grooves.

Realizzato il decoro 4 sul primo supporto 2 si procede con la formatura del secondo supporto 6. Once the decoration 4 has been created on the first support 2, the second support 6 is formed.

All’interno di una camera 8 a tenuta stagna, si pongono a contatto il primo supporto 2 con il secondo supporto 6. Inside a watertight chamber 8, the first support 2 comes into contact with the second support 6.

Il contatto viene effettuato sovrapponendo la superficie esterna 7 sulla superficie di lavoro 5 del primo supporto 2. The contact is made by superimposing the external surface 7 on the working surface 5 of the first support 2.

A pressione atmosferica il secondo supporto 6, posto a contatto con il primo supporto 2, poggia in modo lasco sulla superficie di lavoro 5. A seconda della tipologia di decoro 4, il secondo supporto 6 poggerà su almeno un rilievo 4a e/o su almeno una superficie di giunzione 4c (come illustrato in figura 4). At atmospheric pressure, the second support 6, placed in contact with the first support 2, rests loosely on the work surface 5. Depending on the type of decoration 4, the second support 6 will rest on at least one relief 4a and / or on at least one a junction surface 4c (as illustrated in figure 4).

Successivamente si procede con la chiusura della camera 8 e alla depressurizzazione della stessa per realizzare all’interno della stessa il vuoto. Subsequently, chamber 8 is closed and depressurized to create a vacuum inside it.

Attraverso l’adozione di sistemi noti, ad esempio l’uso di una pompa a vuoto meccanica, si produce all’interno della camera 8 un grado di vuoto compreso tra vuoto alto e vuoto basso, ovvero tra 105Pa e 10-5Pa. Through the adoption of known systems, for example the use of a mechanical vacuum pump, a degree of vacuum between high vacuum and low vacuum is produced inside chamber 8, ie between 105Pa and 10-5Pa.

Preferibilmente il grado di vuoto realizzato all’interno della camera 8 è dell’ordine di 0,9105Pa. Preferably the degree of vacuum created inside the chamber 8 is of the order of 0.9105Pa.

Attraverso la depressurizzazione della camera 8 si favorisce un’adesione della superficie esterna 7 sulla superficie di lavoro 5. Through the depressurization of the chamber 8, an adhesion of the external surface 7 on the work surface 5 is favored.

L’uso del vuoto permette una adesione uniforme della superficie esterna 7 sulla superficie di lavoro 5 senza generare aree dove il contatto tra i due supporti è lasco o particolarmente serrato. The use of vacuum allows uniform adhesion of the external surface 7 to the work surface 5 without generating areas where the contact between the two supports is loose or particularly tight.

In altre parole l’uso del vuoto permette una distribuzione di pressione di adesione costante tra tutta la superficie di lavoro 5 e tutta la superficie esterna 7. In other words, the use of vacuum allows a constant pressure distribution of adhesion between the entire work surface 5 and the entire external surface 7.

Come illustrato in figura 5, la superficie esterna 7 segue e ricalca uniformemente l’andamento dei rilievi 4a, delle cavità 4b e delle superfici di giunzione 4c presenti sulla superficie di lavoro 5 del primo supporto 2. In virtù di una ridotta indeformabilità del secondo supporto 6 la superficie di supporto 7, genera in corrispondenza delle aree di intersezione tra superficie di giunzione e rilievo e/o superficie di giunzione e cavità, degli spazi vuoti 12 dove la superficie di supporto 7 non entra in contatto con la superficie di lavoro 5. As shown in Figure 5, the external surface 7 follows and uniformly traces the pattern of the projections 4a, the cavities 4b and the joint surfaces 4c present on the work surface 5 of the first support 2. By virtue of a reduced non-deformability of the second support 6 the support surface 7 generates empty spaces 12 where the support surface 7 does not come into contact with the work surface 5 at the intersection areas between the junction surface and the relief and / or the junction surface and the cavity.

Successivamente alla fase di depressurizzazione si procede con la fase di riscaldamento della camera 8. After the depressurization phase, the chamber 8 heating phase proceeds.

Attraverso l’apporto di calore la superficie esterna 7, conseguentemente il secondo supporto 6, si deforma in modo permanente. Through the contribution of heat, the external surface 7, consequently the second support 6, is permanently deformed.

La deformazione permanente del secondo supporto 6 definisce sulla superficie esterna 7 un profilo 9 riproducente in negativo il decoro 4 presente sulla superficie di lavoro 5. The permanent deformation of the second support 6 defines on the external surface 7 a profile 9 reproducing in negative the decoration 4 present on the work surface 5.

In altre parole il profilo 9 è l’immagine tridimensionale speculare del decoro 4. In other words, profile 9 is the three-dimensional mirror image of the decoration 4.

Detta fase di riscaldamento avviene a un intervallo di temperatura compreso tra 70°C e 170°C. Said heating phase takes place at a temperature range between 70 ° C and 170 ° C.

Preferibilmente detta fase di riscaldamento avviene a una temperatura di 125°C. Preferably, said heating step takes place at a temperature of 125 ° C.

Il tempo di sosta del secondo supporto 6 nella fase di riscaldamento ricade in un intervallo compreso tra 10 e 30 minuti. The dwell time of the second support 6 in the heating phase falls within an interval between 10 and 30 minutes.

Preferibilmente detta fase di riscaldamento avviene per un intervallo di circa 20 minuti. Preferably, said heating step takes place for an interval of about 20 minutes.

I parametri della fase di riscaldamento, temperatura e tempo, sono tali da consentire una deformazione plastica della superficie esterna 7 efficace per riempire gli spazi vuoti 12 generati dal mancato contatto, tra primo e secondo supporto 2,6, localizzato nelle aree di intersezione tra rilievo 4a e superficie di giunzione 4c e/o tra cavità 4b e superficie di giunzione 4c. In particolare l’azione combinata di depressurizzazione e calore favorisce il preciso riempimento degli spazi vuoti 12 da parte del secondo supporto 6. The parameters of the heating phase, temperature and time, are such as to allow a plastic deformation of the external surface 7 effective to fill the empty spaces 12 generated by the lack of contact, between the first and second support 2,6, located in the areas of intersection between the relief 4a and joint surface 4c and / or between cavity 4b and joint surface 4c. In particular, the combined action of depressurization and heat favors the precise filling of the empty spaces 12 by the second support 6.

In altre parole l’apporto di calore genera una rammollimento del secondo supporto 6, localizzato nella superficie esterna 7, durante il quale il materiale del nastro passa da un ostato solido a uno stato semi-fluido. La depressurizzazione favorisce il riempimento, da parte del materiale costituente il secondo supporto 6 e passato in uno stato di rammollimento, degli spazi vuoti 12 generati dall’assenza di contatto tra primo supporto 2 e secondo supporto 6. In other words, the heat input generates a softening of the second support 6, located in the external surface 7, during which the material of the belt passes from a solid state to a semi-fluid state. The depressurization favors the filling, by the material constituting the second support 6 and passed into a softening state, of the empty spaces 12 generated by the absence of contact between the first support 2 and the second support 6.

In altre parole, il vuoto all’interno della camera 8 forza la migrazione del materiale rammollito del primo supporto a riempire gli spazi vuoti 12 come percepibile dalla differenza tra la figura 5 e figura 6 con riferimento alla superficie esterna 7 del secondo supporto 6. In other words, the vacuum inside the chamber 8 forces the migration of the softened material of the first support to fill the empty spaces 12 as perceived by the difference between Figure 5 and Figure 6 with reference to the external surface 7 of the second support 6.

Al termine della fase di riscaldamento il secondo supporto 6 definisce il tampone 1 dotato sulla superficie esterna 7 di una impronta 9 speculare al decoro 4 ricavato sul primo supporto 2. At the end of the heating phase, the second support 6 defines the pad 1 provided on the external surface 7 with an imprint 9 mirroring the decoration 4 obtained on the first support 2.

Il presente metodo raggiunge svariati vantaggi. The present method achieves several advantages.

In primo luogo le temperature di esercizio della fase di riscaldamento del presente metodo sono estremamente inferiori ai valori di temperatura di fusione (o alterazione chimico fisica) dei materiali costituenti i nastri di formatura delle piastrelle. In the first place, the operating temperatures of the heating phase of the present method are extremely lower than the melting temperature values (or chemical-physical alteration) of the materials constituting the forming strips of the tiles.

In questo modo il nastro termo-formato non presenta alterazioni chimicofisiche e non perde le sue proprietà gommose necessarie alle successive operazioni di formatura delle piastrelle. In this way, the thermo-formed strip does not exhibit chemical-physical alterations and does not lose its rubbery properties necessary for subsequent tile forming operations.

In aggiunta la creazione del vuoto all’interno della camera 8 permette una adesione uniforme del secondo supporto 6 al primo supporto 2 in modo da realizzare un tampone 1 con una ottima fedeltà riproduttiva del decoro 4 originale presente sul supporto. In addition, the creation of the vacuum inside the chamber 8 allows uniform adhesion of the second support 6 to the first support 2 in order to create a pad 1 with excellent reproductive fidelity of the original decoration 4 present on the support.

Sempre con riferimento al vuoto, la precisa scelta di un valore pari a Xpa consente una limitata adesione tra secondo supporto 6 e primo supporto 2 in corrispondenza di micro aree, localizzate in precise zone della geometria del decoro 4 sopra indicate, che vengono perfettamente riempite dalla deformazione della superficie esterna 7 durante la fase di riscaldamento di quest’ultimo. Again with reference to the vacuum, the precise choice of a value equal to Xpa allows a limited adhesion between the second support 6 and the first support 2 in correspondence with micro areas, located in precise areas of the geometry of the decoration 4 indicated above, which are perfectly filled by the deformation of the external surface 7 during the heating phase of the latter.

In questo modo si prevengono spiacevoli ritorni elastici del materiale costituente il tampone 1, e in particolare della superficie esterna 7, che non consentirebbero una fedeltà tra profilo 9 impresso sul tampone 1 e immagine del decoro 4 ricavato sul primo supporto 1. In this way, unpleasant elastic returns of the material constituting the pad 1, and in particular of the external surface 7, are prevented, which would not allow a fidelity between the profile 9 imprinted on the pad 1 and the image of the decoration 4 obtained on the first support 1.

In ultimo il tampone 1 a sviluppo nastriforme così come realizzato nel presente metodo presenta un’ottima versatilità d’uso potendo essere impiegato nei processi formativi già in uso sia singolarmente che attraverso l’assemblaggio di più tamponi 1 per realizzare un nastro ad anello chiuso. Finally, the pad 1 with ribbon-like development as made in the present method has an excellent versatility of use since it can be used in the training processes already in use both individually and through the assembly of multiple pads 1 to create a closed loop belt.

Claims

CLAIMS 1. Method for making a pad with a ribbon-like development characterized in that it comprises the steps of: - prepare a decoration (4) on a first support (2), equipped with an ideal reference plane (3); said decoration (4) defining a work surface (5) comprising at least one relief (4a), protruding from the ideal reference plane (3), and / or at least one cavity (4b), falls within the ideal reference plane (3) ; - providing a second support (6), equipped with an external surface (7), with a ribbon-like development; - place in contact, inside a closed chamber (8), the external surface (7) of the second support (6) on the first support (2); - depressurize said chamber (8), favoring the adhesion of the external surface (7) of the second support (6) on the work surface (5) of the first support (2); - heating the chamber (8) to thermoform the second support (6) by permanently impressing on the external surface (7) a profile (9) reproducing in negative the working surface (5). 2. Method according to claim 1 characterized in that the step of heating the chamber (8) takes place at a temperature between 70 ° C and 170 ° C, preferably 125 ° C. 3. Method according to claim 2 characterized in that the step of heating the chamber (8) takes place for a time ranging from 10 minutes to 30 minutes, preferably 20 minutes. Method according to any one of the preceding claims, characterized in that the step of depressurizing the chamber (8) takes place by providing a vacuum degree comprised between a low vacuum 10 <5> Pa and a high vacuum 10 <-5> Pa. 5. Method according to any one of the preceding claims characterized in that the step of preparing the first support (2) includes the following sub-steps: - defining by means of a graphic processor an auxiliary decoration (10) comprising at least an auxiliary relief (10a) and / or an auxiliary cavity (10b); - establish on the first support (2) the ideal reference plane (3) to define on the support (2) the decoration (4) reproducing in negative the graphic trend of the auxiliary decoration (10); said ideal plane (3) being able to quantify, in the case of an auxiliary cavity (10b), the projection height, with respect to the ideal plane (3), of the relief (4a) of the decoration (4) reproducing in negative the of the corresponding auxiliary cavity (10b) and / or in the case of an auxiliary relief (10a), the depth of recess, with respect to the ideal plane (3), of the cavity (4b) of the decoration (4) reproducing in negative the trend of the corresponding auxiliary relief (10a); - engrave on the support (2), preferably by means of a laser (11), the decoration (4) developing on the support (2) a work surface (5) defined by at least a relief (4a) and / or at least one cavity (4b) and / or at least one joining surface (4c); said junction surface (4c) coinciding with the work surface (5) or being in connection between relief (4a) and cavity (4b). 6. Method according to any one of the preceding claims characterized in that said first support is preferably made of bakelite. 7. Method according to any one of the preceding claims, characterized in that said second support (6) has a ribbon-like development with thickness (S), length (A) and width (B); said length (A) having a predominant extension with respect to thickness (S) and width (B). 8. Method according to any one of the preceding claims characterized in that said second support (6) is semi-rigid preferably made of plastic material. Method according to any one of the preceding claims characterized in that said work surface (5) comprises at least one relief (4a) and / or at least one cavity (4b) and / or at least one joining surface (4c); said junction surface (4c) coinciding with the work surface (5) or being in connection between relief (4a) and cavity (4b). 10. Method according to claims 5 or 9 characterized in that said depressurizing step favors the adhesion of the external surface (7) of the second support (6) to said at least one relief (4a), at least one cavity (4b) and at least a joint surface (4c) of the work surface (5). 11. Method according to claim 10 characterized in that said external surface (7), in adhering to the work surface (5) during the depressurization phase, generates empty spaces (12) at the intersection between the relief (4a ) and cavity (4b), and / or at the intersection between the relief (4a) and the joint surface (4c), and / or at the intersection between the cavity (4b) and the joint surface (4c). 12. Method according to claim 11 characterized in that said heating step generates a plastic deformation of the external surface (7) able to fill said empty spaces (12) with deformed portions of the external surface (7). CLAIMS 1. Method for producing a pad with a ribbon-shaped development, characterized in that it comprises the steps of: - providing a decoration (4) on a first support (2), equipped with an ideal reference plane (3); said decoration (4) defining a work surface (5) comprising at least one relief (4a), protruding from the ideal reference plane (3), and / or at least one cavity (4b), recessing into the ideal reference plane (3 ); - providing a second support (6), equipped with an external surface (7), with a ribbon-shaped development; - arranging in contact, within a closed chamber (8), the external surface (7) of the second support (6) on the first support (2); - depressurising said chamber (8), promoting the adhesion of the external surface (7) of the second support (6) onto the work surface (5) of the first support (2); - heating the chamber (8) to thermoform the second support (6) imprinting a profile (9) permanently on the external surface (7) reproducing in negative the work surface (5).

2. Method according to claim 1 characterized in that the step of heating the chamber (8) takes place at a temperature comprised from 70 ° C to 170 ° C, preferably 125 ° C.

3. Method according to claim 2 characterized in that the step of heating the chamber (8) takes place for a time comprised from 10 minutes to 30 minutes, preferably 20 minutes.

4. Method according to any one of the preceding claims characterized in that the step of depressurising the chamber (8) takes place by creating a level of vacuum comprised from low vacuum 10 <5> Pa to high vacuum 10 <-5> Pa.

5. Method according to any of the preceding claims characterized in that the step of providing the first support (2) envisages the following sub-steps: - defining through a graphics processor an auxiliary decoration (10) comprising at least one auxiliary relief (10a) and / or one auxiliary cavity (10b); - establishing on the first support (2) the ideal reference plane (3) for defining the decoration (4) on the support (2) reproducing in negative the graphical pattern of the auxiliary decoration (10); said ideal plane (3) being adapted to quantify, in the event of an auxiliary cavity (10b), the protruding height, with respect to the ideal plane (3), of the relief (4a) of the decoration (4) reproducing in negative the pattern of the corresponding auxiliary cavity (10b) and / or in the event of an auxiliary relief (10a), the recess depth, with respect to the ideal plane (3), of the cavity (4b) of the decoration (4 ) reproducing in negative the pattern of the corresponding auxiliary relief (10a); - engraving onto the support (2), preferably through a laser (11), the decoration (4) developing on the support (2) a work surface (5) defined by at least one relief (4a) and / or at least one cavity (4b) and / or at least one junction surface (4c); said junction surface (4c) coinciding with the work surface (5) or being in connection between relief (4a) and cavity (4b).

6. Method according to any one of the preceding claims characterized in that said first support is preferably made of bakelite.

7. Method according to any one of the preceding claims characterized in that said second support (6) has a ribbon-shaped development with thickness (S), length (A) and width (B); said length (A) having a predominant extension with respect to thickness (S) and width (B).

8. Method according to any one of the preceding claims characterized in that said second support (6) is semirigid preferably made of plastic material.

9. Method according to any one of the preceding claims characterized in that said work surface (5) comprises at least one relief (4a) and / or at least one cavity (4b) and / or at least one junction surface (4c); said junction surface (4c) coinciding with the work surface (5) or being in connection between relief (4a) and cavity (4b).

10. Method according to claims 5 or 9 characterized in that said depressurization step promotes the adhesion of the external surface (7) of the second support (6) to said at least one relief (4a), at least one cavity (4b) and at least one junction surface (4c) of the work surface (5).

11. Method according to claim 10 characterized in that said external surface (7), in the adhesion to the work surface (5) during the depressurization step, generates empty spaces (12) at the intersection between relief (4a) and cavity (4b ), and / or at the intersection between relief (4a) and junction surface (4c), and / or at the intersection between cavity (4b) and junction surface (4c).

12. Method according to claim 11 characterized in that said heating step generates the plastic deformation of the external surface (7) adapted to fill said empty spaces (12) with deformed portions of the external surface (7).