FR3152020A1 - Vitrage contrôle solaire et/ou bas émissif - Google Patents
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 129
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims abstract description 83
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 63
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 61
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 393
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 102
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 41
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 39
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 37
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 36
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 35
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 25
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 24
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 21
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 15
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 33
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 33
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 26
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 22
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 22
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 21
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 16
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 15
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 12
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 10
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 9
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 7
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 7
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 7
- -1 NbOx Substances 0.000 description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- 238000004151 rapid thermal annealing Methods 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 5
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 4
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000004320 controlled atmosphere Methods 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dihydrothiophene Chemical compound C1CC=CS1 OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017105 AlOxNy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019912 CrN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019923 CrOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920007925 Ethylene chlorotrifluoroethylene (ECTFE) Polymers 0.000 description 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005855 NiOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000005407 aluminoborosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N ethene;1,1,2,2-tetrafluoroethene Chemical group C=C.FC(F)=C(F)F QHSJIZLJUFMIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013532 laser treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002578 polythiourethane polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
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- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
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Abstract
L’invention concerne un matériau comprenant un substrat transparent revêtu d’un revêtement fonctionnel pouvant agir sur le rayonnement solaire et/ou le rayonnement infrarouge. L'invention concerne également les vitrages comprenant ces matériaux ainsi que l'utilisation de tels matériaux pour fabriquer des vitrages d'isolation thermique et/ou de protection solaire. L’invention s’intéresse précisément à développer un matériau comprenant un revêtement fonctionnel à deux couches fonctionnelles à base d’argent présentant une sélectivité proche des revêtements fonctionnels à trois couches fonctionnelles, tout en conservant une excellente neutralité en couleur.
Description
L’invention concerne un matériau comprenant un substrat transparent revêtu d’un revêtement fonctionnel pouvant agir sur le rayonnement solaire et/ou le rayonnement infrarouge. L'invention concerne également les vitrages comprenant ces matériaux ainsi que l'utilisation de tels matériaux pour fabriquer des vitrages d'isolation thermique et/ou de protection solaire. Dans la suite de la description, le terme « fonctionnel » qualifiant « revêtement fonctionnel » signifie « pouvant agir sur le rayonnement solaire et/ou le rayonnement infrarouge ».
Ces vitrages peuvent être destinés aussi bien à équiper les bâtiments que les véhicules, en vue notamment de :
- diminuer l’effort de climatisation et/ou d’empêcher une surchauffe excessive, vitrages dits « de contrôle solaire » et/ou
- diminuer la quantité d’énergie dissipée vers l’extérieur, vitrages dits « bas émissifs ».
- diminuer l’effort de climatisation et/ou d’empêcher une surchauffe excessive, vitrages dits « de contrôle solaire » et/ou
- diminuer la quantité d’énergie dissipée vers l’extérieur, vitrages dits « bas émissifs ».
La sélectivité « S » permet d’évaluer la performance de ces vitrages. Elle correspond au rapport de la transmission lumineuse TLvisdans le visible du vitrage sur le facteur solaire FS du vitrage (S = TLvis/ FS). Le facteur solaire « FS ou g » correspond au rapport en % entre l'énergie totale entrant dans le local à travers le vitrage et l'énergie solaire incidente. Le facteur solaire mesure donc la contribution d'un vitrage à l'échauffement de la « pièce ». Plus le facteur solaire est petit, plus les apports solaires sont faibles.
Des vitrages sélectifs connus comprennent des substrats transparents revêtus d'un revêtement fonctionnel comprenant un empilement d’une ou plusieurs couches fonctionnelles métalliques, chacune disposée entre deux revêtements diélectriques. De tels vitrages permettent d’améliorer la protection solaire tout en conservant une transmission lumineuse élevée. Ces revêtements fonctionnels sont généralement obtenus par une succession de dépôts effectués par pulvérisation cathodique éventuellement assistée par champ magnétique.
De manière conventionnelle, les faces d'un vitrage sont désignées à partir de l'extérieur du bâtiment et en numérotant les faces des substrats de l'extérieur vers l'intérieur de l'habitacle ou du local qu'il équipe. Cela signifie que la lumière solaire incidente traverse les faces dans l’ordre croissant de leur numéro.
Les vitrages sélectifs connus sont en général des doubles vitrages comprenant le revêtement fonctionnel situé en face 2, c’est-à-dire sur le substrat le plus à l’extérieur du bâtiment sur sa face tournée vers la lame de gaz intercalaire.
Actuellement, les matériaux les plus performants présentent une sélectivité supérieure à 2 et comprennent un revêtement fonctionnel avec au moins trois couches fonctionnelles métalliques à base d’argent. A titre de comparaison :
- un matériau comprenant un revêtement fonctionnel avec deux couches à base d’argent permet d’obtenir une sélectivité de 1,7 jusqu’à 1,9,
- un matériau comprenant un revêtement fonctionnel avec une couche à base d’argent permet d’obtenir une sélectivité jusqu’à 1,2,
- un matériau comprenant un revêtement fonctionnel sans couche à base d’argent permet d’obtenir une sélectivité jusqu’à 1.
- un matériau comprenant un revêtement fonctionnel avec deux couches à base d’argent permet d’obtenir une sélectivité de 1,7 jusqu’à 1,9,
- un matériau comprenant un revêtement fonctionnel avec une couche à base d’argent permet d’obtenir une sélectivité jusqu’à 1,2,
- un matériau comprenant un revêtement fonctionnel sans couche à base d’argent permet d’obtenir une sélectivité jusqu’à 1.
Toutefois, les revêtements fonctionnels comprenant au moins trois couches fonctionnelles sont complexes. En effet, en multipliant le nombre de couches et de matériaux constituant ces revêtements fonctionnels, il est de plus en plus difficile d’adapter les réglages des conditions de dépôt afin d’obtenir des revêtements fonctionnels constants en couleur et en propriétés.
L’invention s’intéresse précisément à développer un matériau comprenant un revêtement fonctionnel à deux couches fonctionnelles à base d’argent présentant une sélectivité améliorée, tout en conservant une excellente neutralité en couleur.
L’invention a pour objet un matériau comprenant un substrat revêtu d’un revêtement fonctionnel comprenant une alternance de uniquement deux couches fonctionnelles métalliques à base d’argent dénommées en partant du substrat première et deuxième couches fonctionnelles et de trois revêtements diélectriques dénommés en partant du substrat Di1, Di2 et Di3, chaque revêtement diélectrique comportant au moins une couche diélectrique, de manière à ce que chaque couche métallique fonctionnelle soit disposée entre deux revêtements diélectriques, caractérisé en ce que :
- le troisième revêtement diélectrique Di3 situé au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de titane située au-dessus et au contact de la deuxième couche métallique fonctionnelle à base d’argent, cette couche d’oxyde de titane ayant une épaisseur supérieure ou à égale à 3 nm, de préférence une épaisseur d’au moins 5 nm,
- le premier revêtement diélectrique Di1 situé en dessous de la première couche fonctionnelle comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 3,0 nm, de préférence supérieure à 5 nm.
L’invention convient pour tout matériaux présentant une transmission lumineuse supérieure à 40 %. L’invention est toutefois particulièrement adaptée pour les matériaux à haute transmission lumineuse.
La solution de l’invention consiste à utiliser une couche de blocage épaisse haut indice au contact de la deuxième couche fonctionnelle et une couche haut indice dans le premier revêtement diélectrique.
La solution de l’invention convient pour les matériaux dont l’empilement est destiné à être utilisé :
- tel que déposé, c’est à dire sans traitement thermique quel qu’il soit,
- traité au laser, c’est à dire que seul l’empilement est traité et non le substrat,
- traité thermiquement tel qu’une trempe.
- tel que déposé, c’est à dire sans traitement thermique quel qu’il soit,
- traité au laser, c’est à dire que seul l’empilement est traité et non le substrat,
- traité thermiquement tel qu’une trempe.
Le demandeur a découvert que l’utilisation d’une couche épaisse à haut indice au contact de la troisième couche fonctionnelle permet d’améliorer encore davantage la sélectivité sous réserve que cette couche soit épaisse, de préférence d’épaisseur supérieure à 5 nm, voire supérieure à 10 nm. Ce mode de réalisation est particulièrement avantageux lorsque l’on souhaite améliorer la sélectivité des vitrages à haute transmission lumineuse, c’est à dire de transmission lumineuse supérieure à 70 %. Une autre alternative à ce mode de réalisation peut être d’utiliser, en plus ou à la place de la couche à base d’oxyde de titane au contact de l’argent, une autre couche à haut indice de réfraction.
Le demandeur a également découvert que les propriétés mécaniques sont améliorées lorsque la couche de blocage épaisse à base d’oxyde de titane est combinée avec une couche à base d’oxyde d’étain.
L’invention présente également les caractéristiques suivantes seules ou en combinaison :
- la couche à base d’oxyde de titane située au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur d’au moins 5 nm,
- le deuxième revêtement diélectrique Di2 situé au-dessus de la première couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de titane située au-dessus et au contact de la première couche métallique fonctionnelle à base d’argent ayant une épaisseur supérieure ou à égale à 3 nm, de préférence supérieure à 5 nm, voire supérieure à 10 nm,
- le deuxième revêtement diélectrique comprend, en outre, une couche à base d’oxyde d’étain comprenant au moins 10 %, ou moins 20 % ou au moins 30 % en masse d’étain par rapport à la masse totale d’éléments autres que l’azote et l’oxygène, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane, cette couche à base d’oxyde d’étain présente généralement une épaisseur supérieure à 5 nm, voire supérieure à 10 nm et/ou inférieure à 40 nm, voire inférieure à 30 nm,
- le deuxième revêtement diélectrique comprend, en outre, une couche à base d’oxyde d’étain, de préférence à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 10 %, au moins 20 % ou au moins 30 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane, cette couche à base d’oxyde d’étain présente généralement une épaisseur supérieure à 5 nm, voire supérieure à 10 nm et/ou inférieure à 40 nm, voire inférieure à 30 nm,
- le troisième revêtement diélectrique Di3 situé au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 5 nm, cette couche est distincte de la couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche d’argent,
- le deuxième revêtement diélectrique Di2 comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 5 nm, de préférence supérieure à 10 nm, cette couche est distincte de l’éventuelle couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche d’argent,
- les couches à haut indice de réfraction sont choisies parmi les couches à base d’oxyde de titane, les couche d’oxyde de niobium et les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium,
- les couches d’indice de réfraction supérieur à 2,20 autres que les couches à base d’oxyde de titane au contact des couches fonctionnelles ont une épaisseur supérieure à 10 nm,
- le revêtement fonctionnel comporte une ou plusieurs couches de blocage métalliques situées de préférence au contact et en dessous de la première et/ou de la deuxième couche fonctionnelle métallique,
- le revêtement diélectrique situé en-dessous de la première couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la première couche fonctionnelle ou séparée de la première couche fonctionnelle par une couche de blocage,
- le revêtement diélectrique situé en-dessous de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la deuxième couche fonctionnelle ou séparée de la deuxième couche fonctionnelle par une couche de blocage,
- le matériau présente une transmission lumineuse supérieure à 70%, supérieure à 75 %, supérieure à 76 % ou supérieure à 78 %,
- le matériau présente une transmission lumineuse inférieure à 70%, de préférence comprise entre 30 et 50%.
- la couche à base d’oxyde de titane située au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur d’au moins 5 nm,
- le deuxième revêtement diélectrique Di2 situé au-dessus de la première couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de titane située au-dessus et au contact de la première couche métallique fonctionnelle à base d’argent ayant une épaisseur supérieure ou à égale à 3 nm, de préférence supérieure à 5 nm, voire supérieure à 10 nm,
- le deuxième revêtement diélectrique comprend, en outre, une couche à base d’oxyde d’étain comprenant au moins 10 %, ou moins 20 % ou au moins 30 % en masse d’étain par rapport à la masse totale d’éléments autres que l’azote et l’oxygène, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane, cette couche à base d’oxyde d’étain présente généralement une épaisseur supérieure à 5 nm, voire supérieure à 10 nm et/ou inférieure à 40 nm, voire inférieure à 30 nm,
- le deuxième revêtement diélectrique comprend, en outre, une couche à base d’oxyde d’étain, de préférence à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 10 %, au moins 20 % ou au moins 30 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane, cette couche à base d’oxyde d’étain présente généralement une épaisseur supérieure à 5 nm, voire supérieure à 10 nm et/ou inférieure à 40 nm, voire inférieure à 30 nm,
- le troisième revêtement diélectrique Di3 situé au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 5 nm, cette couche est distincte de la couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche d’argent,
- le deuxième revêtement diélectrique Di2 comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 5 nm, de préférence supérieure à 10 nm, cette couche est distincte de l’éventuelle couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche d’argent,
- les couches à haut indice de réfraction sont choisies parmi les couches à base d’oxyde de titane, les couche d’oxyde de niobium et les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium,
- les couches d’indice de réfraction supérieur à 2,20 autres que les couches à base d’oxyde de titane au contact des couches fonctionnelles ont une épaisseur supérieure à 10 nm,
- le revêtement fonctionnel comporte une ou plusieurs couches de blocage métalliques situées de préférence au contact et en dessous de la première et/ou de la deuxième couche fonctionnelle métallique,
- le revêtement diélectrique situé en-dessous de la première couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la première couche fonctionnelle ou séparée de la première couche fonctionnelle par une couche de blocage,
- le revêtement diélectrique situé en-dessous de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la deuxième couche fonctionnelle ou séparée de la deuxième couche fonctionnelle par une couche de blocage,
- le matériau présente une transmission lumineuse supérieure à 70%, supérieure à 75 %, supérieure à 76 % ou supérieure à 78 %,
- le matériau présente une transmission lumineuse inférieure à 70%, de préférence comprise entre 30 et 50%.
Avantageusement, les couches d’indice de réfraction supérieur à 2,20 autres que les couches à base d’oxyde de titane au contact des couches fonctionnelles, ont une épaisseur supérieure à 10 nm.
Le demandeur a également découvert que l’utilisation de couches de blocage métalliques, situées en dessous et au contact de la première et/ou de la deuxième couche fonctionnelle à base d’argent, permet de renforcer les propriétés mécaniques. Cela se traduit par de meilleurs résultats aux tests EBT et TT-EBT. Cela permet également de régler l’optique plus facilement. Ce mode de réalisation convient mieux pour les vitrages à transmission lumineuse inférieure à 70 %, notamment de transmission lumineuse comprise entre 30 et 50 %.
En particulier, le revêtement diélectrique situé en-dessous de la première couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la première couche fonctionnelle ou séparée de la première couche fonctionnelle par une couche de blocage.
En particulier, le revêtement diélectrique situé en-dessous de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la deuxième couche fonctionnelle ou séparée de la deuxième couche fonctionnelle par une couche de blocage.
La présente invention a également pour objet un vitrage comprenant un matériau tel que décrit ci-dessus, ledit vitrage pouvant être sous forme de vitrage multiple ou vitrage feuilleté.
L’invention concerne également :
- un vitrage comprenant un matériau selon l’invention,
- un vitrage comprenant un matériau selon l’invention monté sur un véhicule ou sur un bâtiment, et
- le procédé de préparation d’un matériau ou d’un vitrage selon l’invention,
- l’utilisation d’un vitrage selon l’invention en tant que vitrage de contrôle solaire et/ou bas émissif pour le bâtiment ou les véhicules,
- un bâtiment, un véhicule ou un dispositif comprenant un vitrage selon l’invention.
- un vitrage comprenant un matériau selon l’invention,
- un vitrage comprenant un matériau selon l’invention monté sur un véhicule ou sur un bâtiment, et
- le procédé de préparation d’un matériau ou d’un vitrage selon l’invention,
- l’utilisation d’un vitrage selon l’invention en tant que vitrage de contrôle solaire et/ou bas émissif pour le bâtiment ou les véhicules,
- un bâtiment, un véhicule ou un dispositif comprenant un vitrage selon l’invention.
Dans toute la description le substrat selon l'invention est considéré posé horizontalement. L’empilement de couches minces est déposé au-dessus du substrat. Le sens des expressions « au-dessus » et « en-dessous » et « inférieur » et « supérieur » est à considérer par rapport à cette orientation. A défaut de stipulation spécifique, les expressions « au-dessus » et « en-dessous » ne signifient pas nécessairement que deux couches et/ou revêtements sont disposés au contact l'un de l'autre. Lorsqu’il est précisé qu’une couche est déposée « au contact » d’une autre couche ou d’un revêtement, cela signifie qu’il ne peut y avoir une (ou plusieurs) couche(s) intercalée(s) entre ces deux couches (ou couche et revêtement).
Toutes les caractéristiques lumineuses décrites sont obtenues selon les principes et méthodes des normes européennes EN 410 se rapportant à la détermination des caractéristiques lumineuses et solaires des vitrages utilisés dans le verre pour la construction. On considère que la lumière solaire entrant dans un bâtiment va de l’extérieur vers l’intérieur.
Selon l’invention, les caractéristiques lumineuses sont mesurées selon l’illuminant D65 à 2° perpendiculairement au matériau monté dans un double vitrage :
- TL correspond à la transmission lumineuse dans le visible en %,
- Rext (ou RL1) correspond à la réflexion lumineuse extérieure dans le visible en %, observateur côté espace extérieur,
- Rint (ou RL2) correspond à la réflexion lumineuse intérieure dans le visible en %, observateur coté espace intérieur,
- a*T et b*T correspondent aux couleurs en transmission a* et b* dans le système L*a*b*,
- a*Rext et b*Rext correspondent aux couleurs en réflexion a* et b* dans le système L*a*b*, observateur côté espace extérieur,
- a*Rint (ou a*RL1) et b*Rint (ou b*RL2) correspondent aux couleurs en réflexion a* et b* dans le système L*a*b*, observateur côté espace intérieur.
- TL correspond à la transmission lumineuse dans le visible en %,
- Rext (ou RL1) correspond à la réflexion lumineuse extérieure dans le visible en %, observateur côté espace extérieur,
- Rint (ou RL2) correspond à la réflexion lumineuse intérieure dans le visible en %, observateur coté espace intérieur,
- a*T et b*T correspondent aux couleurs en transmission a* et b* dans le système L*a*b*,
- a*Rext et b*Rext correspondent aux couleurs en réflexion a* et b* dans le système L*a*b*, observateur côté espace extérieur,
- a*Rint (ou a*RL1) et b*Rint (ou b*RL2) correspondent aux couleurs en réflexion a* et b* dans le système L*a*b*, observateur côté espace intérieur.
Le revêtement est déposé par pulvérisation cathodique assistée par un champ magnétique (procédé magnétron). Selon ce mode de réalisation avantageux, toutes les couches de l’empilement sont déposées par pulvérisation cathodique assistée par un champ magnétique.
A défaut de stipulation spécifique, les expressions « au-dessus » et « en-dessous » ne signifient pas nécessairement que deux couches et/ou revêtements sont disposés au contact l'un de l'autre. Lorsqu’il est précisé qu’une couche est déposée « au contact » d’une autre couche ou d’un revêtement, cela signifie qu’il ne peut y avoir une (ou plusieurs) couche(s) intercalée(s) entre ces deux couches (ou couche et revêtement).
Sauf mention contraire, les épaisseurs évoquées dans le présent document sont des épaisseurs physiques et les couches sont des couches minces. On entend par couche mince, une couche présentant une épaisseur comprise entre 0,1 nm et 100 micromètres.
Selon l’invention, sauf autre indication, l’expression « à base de », utilisée pour qualifier un matériau ou une couche métallique quant à ce qu’il ou elle contient, signifie que la fraction massique du constituant qu’il ou elle comprend est d’au moins 50%, en particulier au moins 70%, de préférence au moins 90%.
Selon l’invention, sauf autre indication, l’expression « à base de », utilisée pour qualifier un matériau ou une couche diélectrique quant à ce qu’il ou elle contient, signifie que la fraction massique du constituant qu’il ou elle comprend est d’au moins 50%, en particulier au moins 70%, de préférence au moins 90% en masse par rapport à la masse totale des éléments autres que l’oxygène et l’azote.
Selon l’invention, on entend par « couches distinctes » deux couches de nature chimique différentes, c’est à dire constituées d’éléments chimiques différents ou deux couches de même nature mais séparées par au moins une couche de nature chimique différente.
La couche à base d’oxyde de titane est avantageusement déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique, dans une atmosphère contrôlée comprenant de l’oxygène. De préférence, on dépose au contact de la couche d’argent une première fine épaisseur de couche à base d’oxyde de titane, à partir d’une cible céramique, dans une atmosphère non oxydante ou très faiblement oxydante. Puis, on dépose une épaisseur plus épaisse de couche à base d’oxyde de titane à partir d’une cible céramique dans une atmosphère oxydante. La couche à base d’oxyde de titane est constituée de ces deux parties. Lors du dépôt, la partie de la couche à base d’oxyde de titane en contact avec la couche fonctionnelle est moins oxydée que la partie la plus éloignée de la couche fonctionnelle. En procédant ainsi on obtient à la fois :
- une basse résistance par carré grâce à l’interface Ag / TiOx déposé sans oxygène et
- une faible absorption grâce à la deuxième partie de la couche d’oxyde de titane.
- une basse résistance par carré grâce à l’interface Ag / TiOx déposé sans oxygène et
- une faible absorption grâce à la deuxième partie de la couche d’oxyde de titane.
Ce dépôt en plusieurs étapes permet d’obtenir majoritairement dans l’empilement une couche d’oxyde de titane avec une grande quantité d’oxygène, tout en protégeant la couche fonctionnelle à base d’argent d’une première couche d’oxyde de titane faiblement oxydée. L’absorption de l’empilement est alors fortement réduite à la fois en l’absence d’un traitement thermique et suite à un traitement thermique.
La couche est une couche à base d’oxyde de titane sur toute cette épaisseur. Selon l’invention, cette couche à base d’oxyde de titane fait partie d’un revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche d’argent. Cela signifie que lorsque l’on détermine l’épaisseur de ce revêtement diélectrique, on prend en considération l’épaisseur de cette couche.
Cette couche à base d’oxyde de titane épaisse à proximité de l’argent concourt à l’obtention des propriétés avantageuses de l’invention. Cette couche d’oxyde est non absorbante et ce, a fortiori, quand elle est en majeure partie déposée à partir d’une cible céramique dans une atmosphère oxydante.
Les couches à base d’oxyde de titane comprennent au moins 50 %, au moins 60 %, au moins 70 %, au moins 80 %, au moins 95,0 %, au moins 96,5 % et mieux au moins 98,0 % en masse de titane par rapport à la masse de tous les éléments constituant la couche à base d’oxyde de titane autre que de l’oxygène.
Les couches à base d’oxyde de titane peuvent avoir une épaisseur :
- supérieure ou égale à 3 nm, supérieure ou égale à 4 nm, supérieure ou égale à 5 nm, et/ou
- inférieure ou égale à 30 nm, inférieure ou égale à 25 nm, inférieure ou égale à 20 nm, inférieure ou égale à 15 nm, inférieure ou égale à 10 nm, inférieure ou égale à 8 nm, inférieure ou égale à 6 nm.
Les couches à base d’oxyde de titane peuvent avoir une épaisseur comprise entre 5 et 30 nm.
- supérieure ou égale à 3 nm, supérieure ou égale à 4 nm, supérieure ou égale à 5 nm, et/ou
- inférieure ou égale à 30 nm, inférieure ou égale à 25 nm, inférieure ou égale à 20 nm, inférieure ou égale à 15 nm, inférieure ou égale à 10 nm, inférieure ou égale à 8 nm, inférieure ou égale à 6 nm.
Les couches à base d’oxyde de titane peuvent avoir une épaisseur comprise entre 5 et 30 nm.
Les couches à base d’oxyde de titane peuvent comprendre ou être constituées d’éléments autres que le titane et l’oxygène. Ces éléments peuvent être choisis parmi le silicium, le chrome et le zirconium. De préférence, les éléments sont choisis parmi le zirconium. De préférence, la couche à base d’oxyde de titane comprend au plus 35 %, au plus 20 % ou au plus 10 % en masse d’éléments autres que du titane par rapport à la masse de tous les éléments constituant la couche à base d’oxyde de titane autres que de l’oxygène.
La couche à base d’oxyde de titane est de préférence déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique dans une atmosphère oxydante, de préférence dont le pourcentage en débit volumique d’oxygène représente entre 0 et 20 %, de préférence 2 à 15 %.
Selon le mode de réalisation préféré, une couche à base d’oxyde de titane est déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique. La couche à base d’oxyde de titane peut être déposée à partir d'une cible céramique de TiOxsous stœchiométrique, où x est un nombre différent de la stœchiométrie de l'oxyde de titane TiO2, c'est-à-dire différent de 2 et de préférence inférieur à 2, en particulier compris entre 0,75 fois et 0,99 fois la stœchiométrie normale de l'oxyde. TiOx peut être en particulier tel que 1,5 < x < 1,98 ou 1,5 < x < 1,7, voire 1,7 < x < 1,95.
Le matériau selon l’invention peut présenter les caractéristiques suivantes seules ou en combinaison :
- la couche à base d’oxyde de titane est déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique de préférence dans une atmosphère oxydante dont le pourcentage en débit volumique d’oxygène représente entre 0 et 20 %, de préférence 2 à 15 %,
- la couche à base d’oxyde de titane a une épaisseur comprise entre 5 et 30 nm,
- la couche à base d’oxyde de titane située au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur :
- supérieure à 5 nm, supérieure à 10 nm,
- inférieure à 30 nm, inférieure à 25 nm, inférieure à 20 nm,
- la couche à base d’oxyde de titane située au-dessus de la première couche fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur :
- supérieure à 5 nm, supérieure à 10 nm,
- inférieure à 30 nm, inférieure à 25 nm, inférieure à 20 nm,
- les couches à base d’oxyde de titane peuvent être déposées à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique,
- la couche à base d’oxyde de titane comprend un gradient d’oxydation, la partie de la couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche à base de zinc est plus oxydée que la partie la plus éloignée,
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 10 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane,
- la couche à base d’oxyde de zinc et d’étain présente une épaisseur :
- supérieure à 5 nm,
- inférieure à 40 nm.
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium ou les couches de nitrure de silicium et de zirconium,
- le revêtement diélectrique situé en dessous de la couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la couche fonctionnelle,
- le revêtement diélectrique situé en-dessous de la première couche fonctionnelle métallique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la première couche fonctionnelle métallique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle métallique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- chaque revêtement diélectrique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- la couche d’indice de réfraction supérieure à 2,20 est choisie parmi les couches à base d’oxyde de titane et les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium,
- le revêtement a été soumis à un recuit thermique rapide,
- le revêtement et le substrat ont été soumis à un traitement thermique à une température élevée supérieure à 500 °C tel qu’une trempe, un recuit ou un bombage.
- la couche à base d’oxyde de titane est déposée à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique de préférence dans une atmosphère oxydante dont le pourcentage en débit volumique d’oxygène représente entre 0 et 20 %, de préférence 2 à 15 %,
- la couche à base d’oxyde de titane a une épaisseur comprise entre 5 et 30 nm,
- la couche à base d’oxyde de titane située au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur :
- supérieure à 5 nm, supérieure à 10 nm,
- inférieure à 30 nm, inférieure à 25 nm, inférieure à 20 nm,
- la couche à base d’oxyde de titane située au-dessus de la première couche fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur :
- supérieure à 5 nm, supérieure à 10 nm,
- inférieure à 30 nm, inférieure à 25 nm, inférieure à 20 nm,
- les couches à base d’oxyde de titane peuvent être déposées à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique,
- la couche à base d’oxyde de titane comprend un gradient d’oxydation, la partie de la couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche à base de zinc est plus oxydée que la partie la plus éloignée,
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 10 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane,
- la couche à base d’oxyde de zinc et d’étain présente une épaisseur :
- supérieure à 5 nm,
- inférieure à 40 nm.
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium ou les couches de nitrure de silicium et de zirconium,
- le revêtement diélectrique situé en dessous de la couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la couche fonctionnelle,
- le revêtement diélectrique situé en-dessous de la première couche fonctionnelle métallique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la première couche fonctionnelle métallique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- le revêtement diélectrique situé au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle métallique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- chaque revêtement diélectrique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches de nitrure de silicium,
- la couche d’indice de réfraction supérieure à 2,20 est choisie parmi les couches à base d’oxyde de titane et les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium,
- le revêtement a été soumis à un recuit thermique rapide,
- le revêtement et le substrat ont été soumis à un traitement thermique à une température élevée supérieure à 500 °C tel qu’une trempe, un recuit ou un bombage.
Les couches fonctionnelles métalliques à base d’argent comprennent au moins 95,0 %, de préférence au moins 96,5 % et mieux au moins 98,0 % en masse d’argent par rapport à la masse de la couche fonctionnelle. De préférence, une couche métallique fonctionnelle à base d’argent comprend moins de 1,0 % en masse de métaux autres que de l’argent par rapport à la masse de la couche métallique fonctionnelle à base d’argent.
Les couches fonctionnelles métalliques à base d’argent ont une épaisseur :
- supérieure à 5 nm, 6, nm, 7 nm, 8 nm, 9,nm, 10 nm, 11 nm, 12 nm, 13 nm, 14 nm, 15 nm ou 16 nm, et/ou
- inférieure à 25 nm, 22 nm, 20 nm, 18, nm.
- supérieure à 5 nm, 6, nm, 7 nm, 8 nm, 9,nm, 10 nm, 11 nm, 12 nm, 13 nm, 14 nm, 15 nm ou 16 nm, et/ou
- inférieure à 25 nm, 22 nm, 20 nm, 18, nm.
Par « revêtement diélectrique » au sens de la présente invention, il faut comprendre qu’il peut y avoir une seule couche ou plusieurs couches de matériaux différents à l’intérieur du revêtement. Un « revêtement diélectrique » selon l’invention comprend majoritairement des couches diélectriques. Cependant, selon l’invention ces revêtements peuvent comprendre également des couches d’autre nature notamment des couches absorbantes par exemple métalliques.
On considère qu’un « même » revêtement diélectrique se situe :
- entre le substrat et la première couche fonctionnelle,
- entre chaque couche métallique fonctionnelle à base d’argent,
- au-dessus de la dernière couche fonctionnelle (la plus éloignée du substrat).
- entre le substrat et la première couche fonctionnelle,
- entre chaque couche métallique fonctionnelle à base d’argent,
- au-dessus de la dernière couche fonctionnelle (la plus éloignée du substrat).
Les revêtements diélectriques comprennent des couches diélectriques. Par « couche diélectrique » au sens de la présente invention, il faut comprendre que du point de vue de sa nature, le matériau est « non métallique », c’est-à-dire n’est pas un métal. Dans le contexte de l’invention, ce terme désigne un matériau présentant un rapport n/k sur toute la plage de longueur d’onde du visible (de 380 nm à 780 nm) égal ou supérieur à 5. n désigne l’indice de réfraction réel du matériau à une longueur d’onde donnée et k représente la partie imaginaire de l’indice de réfraction à une longueur d’onde donnée ; le rapport n/k étant calculé à une longueur d’onde donnée identique pour n et pour k.
L’épaisseur d’un revêtement diélectrique correspond à la somme des épaisseurs des couches le constituant. De préférence, les revêtements diélectriques présentent une épaisseur supérieure à 10 nm, supérieure à 15 nm, comprise entre 15 et 200 nm, comprise entre 15 et 100 nm ou comprise entre 15 et 70 nm.
Les couches diélectriques des revêtements présentent les caractéristiques suivantes seules ou en combinaison :
- elles sont déposées par pulvérisation cathodique assistée par champ magnétique,
- elles sont choisies parmi les oxydes, nitrures ou oxynitrures d’un ou plusieurs éléments choisi(s) parmi le titane, le silicium, l’aluminium, le zirconium, l’étain et le zinc,
- elles ont une épaisseur supérieure à 2 nm, de préférence comprise entre 2 et 100 nm.
- elles sont déposées par pulvérisation cathodique assistée par champ magnétique,
- elles sont choisies parmi les oxydes, nitrures ou oxynitrures d’un ou plusieurs éléments choisi(s) parmi le titane, le silicium, l’aluminium, le zirconium, l’étain et le zinc,
- elles ont une épaisseur supérieure à 2 nm, de préférence comprise entre 2 et 100 nm.
Les couches diélectriques, outre leur fonction optique, peuvent avoir différentes autres fonctions. Le choix de la nature et la position des couches diélectrique au sein des revêtement diélectrique dépend de cette fonction. A titre d’exemple, on peut citer les fonctions suivantes : - les couches de stabilisantes ou de mouillages situées à proximité immédiate de couches fonctionnelles à base d’argent telles que les couche à base d’oxyde de zinc,
- les couches de lissage situées en dessous des couches de mouillage telles que le couches à base d’oxyde d’étain,
- les couches barrières ou à fonction optique.
- les couches de lissage situées en dessous des couches de mouillage telles que le couches à base d’oxyde d’étain,
- les couches barrières ou à fonction optique.
Une même couche diélectrique assure en général plusieurs fonctions. En effet, chaque couche diélectrique joue un rôle optique qui dépend de son indice de réfraction et de son épaisseur.
Les couches diélectriques sont classiquement choisies parmi les couches à base d’oxyde, à base de nitrure ou à base d’oxynitrure. Les couches à base d’oxyde d’un ou plusieurs éléments comprennent essentiellement de l’oxygène et très peu d’azote. Les couches à base d’oxyde comprennent notamment au moins 90 % en pourcentage atomique d’oxygène par rapport à l’oxygène et l’azote dans ladite couche. Les couches à base de nitrure comprennent essentiellement de l’azote et très peu d’oxygène. Les couches à base nitrure comprennent au moins 90 % en pourcentage atomique d’azote par rapport à l’oxygène et l’azote dans ladite couche. Les couches à base d’oxynitrure comprennent un mélange d’oxygène et d’azote. Les couches à base d’oxynitrure de silicium comprennent 10 à 90 % (bornes exclues) en pourcentage atomique d’azote par rapport à l’oxygène et l’azote dans ladite couche.
Les quantités d’oxygène et d’azote dans une couche sont déterminées en pourcentages atomiques par rapport aux quantités totales d’oxygène et d’azote dans la couche considérée.
Les couches diélectriques sont classiquement choisies parmi :
- les couches comprenant du silicium, de l’aluminium et/ou du zirconium, éventuellement dopé à l’aide d’au moins un autre élément,
- les couches à base d’oxyde d’étain,
- les couches à base d’oxyde de titane,
- les couches à base d’oxyde de zinc.
- les couches comprenant du silicium, de l’aluminium et/ou du zirconium, éventuellement dopé à l’aide d’au moins un autre élément,
- les couches à base d’oxyde d’étain,
- les couches à base d’oxyde de titane,
- les couches à base d’oxyde de zinc.
L’empilement peut comprendre au moins une couche comprenant du silicium ou de l’aluminium. De préférence, le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle peut comprendre une couche comprenant du silicium notamment choisie parmi les couches de nitrure de silicium ou les couches de nitrure de silicium et de zirconium. Chaque revêtement diélectrique peut aussi comprendre au moins une couche comprenant du silicium.
Les couches comprenant du silicium sont extrêmement stables aux traitements thermiques. Par exemple, on n’observe pas de migration des éléments les constituant. Par conséquent, ces éléments ne sont pas susceptibles d’altérer la couche d’argent. Les couches comprenant du silicium contribuent donc également à la non altération des couches d’argent et donc à l’obtention d’une faible émissivité après traitement thermique.
Les couches comprenant du silicium comprennent au moins 50 % en masse de silicium par rapport à la masse de tous les éléments constituant la couche comprenant du silicium autres que de l’azote et de l’oxygène.
Les couches comprenant du silicium peuvent être choisies parmi les couches à base d’oxyde, à base de nitrure ou à base d’oxynitrure telles que les couches à base d’oxyde de silicium, les couches à base de nitrure de silicium et les couches à base d’oxynitrure de silicium.
Les couches à base d’oxyde de silicium comprennent au moins 90 % en pourcentage atomique d’oxygène par rapport à l’oxygène et l’azote dans la couche à base d’oxyde de silicium. Les couches à base nitrure de silicium comprennent au moins 90 % en pourcentage atomique d’azote par rapport à l’oxygène et l’azote dans la couche à base de nitrure de silicium. Les couches à base d’oxynitrure de silicium comprennent 10 à 90 % (bornes exclues) en pourcentage atomique d’azote par rapport à l’oxygène et l’azote dans la couche à base d’oxyde de silicium. De préférence, les couches à base d’oxyde de silicium sont caractérisées par un indice de réfraction à 550 nm, inférieur ou égale à 1,55. De préférence, les couches à base de nitrure de silicium sont caractérisées par un indice de réfraction à 550 nm, supérieur ou égale à 1,95.
Les couches comprenant du silicium peuvent comprendre ou être constituées d’éléments autres que le silicium, l’oxygène et l’azote. Ces éléments peuvent être choisis parmi l’aluminium, le bore, le titane, et le zirconium. Les couches comprenant du silicium peuvent comprendre au moins 2 %, au moins 5 % ou au moins 8 % en masse d’aluminium par rapport à la masse de tous les éléments constituant la couche comprenant du silicium autres que de l’oxygène et l’azote.
Les couches comprenant de l’aluminium peuvent être choisies parmi les couches à base d’oxyde, à base de nitrure ou à base d’oxynitrure telles que les couches à base d’oxyde de d’aluminium tels que Al2O3, les couches à base de nitrure d’aluminium tels que AIN et les couches à base d’oxynitrure d’aluminium tels que AlOxNy.
Les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium SixZryNzfont parties des couches comprenant du silicium, notamment des couches à base de nitrure du silicium. L’indice de réfraction des couches à base de nitrure de silicium et de zirconium augmente avec l’augmentation des proportions de zirconium dans ladite couche.
Les couches à base de nitrure de silicium peuvent comprendre de l’aluminium et/ou du zirconium. De telles couches peuvent comprendre, en proportion atomique par rapport au proportion atomique de Si, Zr et Al :
- 50 à 98 %, 60 à 90 %, 60 à 70 % atomique de silicium,
- 0 à 10%, 2 à 10 % atomique d’aluminium,
- 0 à 40 %, 10 à 40 % ou 15 à 30 % atomique de zirconium.
- 50 à 98 %, 60 à 90 %, 60 à 70 % atomique de silicium,
- 0 à 10%, 2 à 10 % atomique d’aluminium,
- 0 à 40 %, 10 à 40 % ou 15 à 30 % atomique de zirconium.
De préférence, au moins un revêtement diélectrique comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches à base de nitrure de silicium. De préférence, le revêtement diélectrique situé au-dessus de la couche fonctionnelle à base d’argent comprend une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches à base de nitrure de silicium. Chaque revêtement diélectrique peut comprendre une couche comprenant du silicium choisie parmi les couches à base de nitrure de silicium.
De préférence, la somme des épaisseurs de toutes les couches comprenant du silicium à base de nitrure de silicium dans chaque revêtement diélectrique situé au-dessus de la première couche métallique fonctionnelle à base d’argent peut être supérieure à 35 %, supérieure à 50 %, de l’épaisseur totale du revêtement diélectrique.
De préférence, la couche fonctionnelle à base d’argent se trouve au-dessus d’une couche diélectrique dite couche stabilisante ou de mouillage en un matériau apte à stabiliser l'interface avec la couche fonctionnelle. Ces couches sont en général à base d’oxyde de zinc.
De préférence, la couche fonctionnelle à base d’argent se trouve en-dessous d’une couche diélectrique dite couche stabilisante ou de mouillage en un matériau apte à stabiliser l'interface avec la couche fonctionnelle. Ces couches sont en général à base d’oxyde de zinc.
Les couches à base d’oxyde de zinc, peuvent comprendre, au moins 80 % ou au moins 90 % en masse de zinc par rapport à la masse totale de tous les éléments constituant la couche à base d’oxyde de zinc à l’exclusion de l’oxygène et de l’azote.
Les couches à base d’oxyde de zinc peuvent comprendre un ou plusieurs éléments choisis parmi l’aluminium, le titane, le niobium, le zirconium, le magnésium, le cuivre, l’argent, l’or, le silicium, le molybdène, le nickel, le chrome, le platine, l’indium, l’étain et l’hafnium, de préférence l’aluminium.
Les couches à base d’oxyde de zinc peuvent être éventuellement dopée à l’aide d’au moins un autre élément, comme l’aluminium.
A priori, la couche à base d’oxyde de zinc n’est pas nitrurée, cependant des traces peuvent exister.
La couche à base d’oxyde de zinc comprend, par ordre de préférence croissant, au moins 80 %, au moins 90 %, au moins 95 %, au moins 98 % ou au moins 100 %, en masse d’oxygène par rapport à la masse totale de l’oxygène et d’azote.
Le revêtement diélectrique situé entre le substrat et la première couche métallique fonctionnelle et/ou un ou chaque revêtement diélectrique situé au-dessus de la première couche fonctionnelle à base d’argent situé comporte une couche à base d’oxyde de zinc comprenant au moins 80 % en masse de zinc par rapport à la masse de tous les éléments autres que de l’oxygène.
De préférence, chaque revêtement diélectrique comporte une couche à base d’oxyde de zinc comprenant au moins 80 % en masse de zinc par rapport à la masse de tous les éléments autres que de l’oxygène.
De préférence, le revêtement diélectrique situé directement en-dessous de la couche métallique fonctionnelle à base d’argent comporte au moins une couche diélectrique à base d’oxyde de zinc, éventuellement dopé à l’aide d’au moins un autre élément, comme l’aluminium. La couche fonctionnelle métallique déposée au-dessus d’une couche à base d’oxyde de zinc est soit directement au contact, soit séparée par une couche de blocage.
Dans tous les empilements, le revêtement diélectrique le plus proche du substrat est appelé revêtement inférieur et le revêtement diélectrique le plus éloigné du substrat est appelé revêtement supérieur. Les empilements à plus d’une couche d’argent comprennent également des revêtements diélectriques intermédiaires situés entre le revêtement inférieur et supérieur.
De préférence, les revêtements inférieurs ou intermédiaires comprennent une couche diélectrique à base d’oxyde de zinc située au-dessous et directement au contact d’une couche métallique à base d’argent ou séparée de cette couche par une sous couche de blocage.
De préférence, le revêtement diélectrique situé directement au-dessus de la couche métallique fonctionnelle à base d’argent comporte au moins une couche diélectrique à base d’oxyde de zinc, éventuellement dopé à l’aide d’au moins un autre élément, comme l’aluminium. La couche fonctionnelle métallique déposée en-dessous d’une couche à base d’oxyde de zinc est soit directement au contact, soit séparée par une couche de blocage.
De préférence, les revêtements intermédiaires ou supérieurs comprennent une couche diélectrique à base d’oxyde de zinc située au-dessus et directement au contact de la couche métallique à base d’argent ou séparée de cette couche par une sur couche de blocage.
Les couches d’oxyde de zinc ont une épaisseur :
- d'au moins 1,0 nm, d'au moins 2,0 nm, d'au moins 3,0 nm, d'au moins 4,0 nm ou d'au moins 5,0 nm, et/ou
- d’au plus 25 nm, d’au plus 10 nm ou d’au plus 8,0 nm.
- d'au moins 1,0 nm, d'au moins 2,0 nm, d'au moins 3,0 nm, d'au moins 4,0 nm ou d'au moins 5,0 nm, et/ou
- d’au plus 25 nm, d’au plus 10 nm ou d’au plus 8,0 nm.
De préférence, le matériau comprend une ou plusieurs couches à base d’oxyde d’étain, de préférence d’oxyde de zinc et d’étain.
Les couches à base d’oxyde de zinc et d’étain comprennent au moins 20 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain. La couche à base d’oxyde de zinc et d’étain comprend par rapport à la masse totale de zinc et d’étain au moins 20 %, au moins 30 %, au moins 40 %, au moins 50 %, au moins 60 % ou au moins 80 % en masse d’étain. De préférence, la couche à base d’oxyde de zinc et d’étain comprend 40 à 80 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain.
La couche à base d’oxyde d’étain présente une épaisseur :
- supérieure à 5 nm, supérieure à 10 nm, supérieure à 15 nm, supérieure à 20 nm ou supérieure à 25 nm,
- inférieure à 50 nm, inférieure à 40 nm ou inférieure à 35 nm.
- supérieure à 5 nm, supérieure à 10 nm, supérieure à 15 nm, supérieure à 20 nm ou supérieure à 25 nm,
- inférieure à 50 nm, inférieure à 40 nm ou inférieure à 35 nm.
Le revêtement diélectrique situé entre le substrat et la première couche métallique fonctionnelle et/ou un ou chaque revêtement diélectrique situé au-dessus de la première couche fonctionnelle à base d’argent situé comporte une couche à base d’oxyde d’étain, de préférence d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 20 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain. Chaque revêtement diélectrique peut comporter une couche d’oxyde d’étain, de préférence à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 20 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain.
Parmi les couches diélectriques, on distingue, en fonction de leur indice de réfraction à 550 nm, les couches à bas indice de réfraction, les couches d’indice de réfraction intermédiaire et les couches à haut indice de réfraction. Les couches à bas à bas indice de réfraction présentent un indice de réfraction inférieure à 1,70. Les couches d’indice de réfraction intermédiaire présentent un indice de réfraction compris entre 1,70 et 2,2. Les couches à haut indice de réfraction présentent un indice de réfraction supérieur à 2,2.
Le revêtement peut comprendre une couche d’indice de réfraction supérieure à 2,20. La présence de couches haut indice concourt à l’obtention d’une haute transmission lumineuse.
Les couches à haut indice de réfraction peuvent être choisies parmi :
- les couches à base d’oxyde de titane (n550=2,4),
- les couches à base d’oxyde mixte de titane et d’un autre composant choisi dans le groupe constitué par Zn, Zr et Sn,
- les couches à base une couche de nitrure de zirconium (n 550 = 2,55),
- les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium (n550 nm = 2,20 - 2,40),
- les couches à base une couche d’oxyde de zirconium,
- les couches à base une couche d’oxyde de niobium (n550 = 2,30),
- les couches à base une couche d’oxyde de bismuth (n 550 = 2,60).
De préférence, la couche à haut indice de réfraction est choisie parmi les couches à base d’oxyde de titane et les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium.
- les couches à base d’oxyde de titane (n550=2,4),
- les couches à base d’oxyde mixte de titane et d’un autre composant choisi dans le groupe constitué par Zn, Zr et Sn,
- les couches à base une couche de nitrure de zirconium (n 550 = 2,55),
- les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium (n550 nm = 2,20 - 2,40),
- les couches à base une couche d’oxyde de zirconium,
- les couches à base une couche d’oxyde de niobium (n550 = 2,30),
- les couches à base une couche d’oxyde de bismuth (n 550 = 2,60).
De préférence, la couche à haut indice de réfraction est choisie parmi les couches à base d’oxyde de titane et les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium.
Le revêtement fonctionnel peut comprendre au moins une couche de blocage dont la fonction est de protéger les couches d’argent en évitant une éventuelle dégradation liée au dépôt d’un revêtement diélectrique ou liée à un traitement thermique. Ces couches de blocages sont situées de préférence au-contact des couches métalliques fonctionnelles à base d’argent.
Selon des modes de réalisation avantageux, l’empilement peut comprendre au moins une couche de blocage, située en-dessous et directement au-contact d’une couche métallique fonctionnelle à base d’argent (sous couche de blocage) et/ou au moins une couche de blocage située au-dessus et directement au-contact d’une couche métallique fonctionnelle à base d’argent (sur couche de blocage).
Une couche de blocage située au-dessus d’une couche métallique fonctionnelle à base d’argent est appelée surcouche de blocage. Une couche de blocage située en-dessous d’une couche métallique fonctionnelle à base d’argent est appelée sous-couche de blocage.
Les couches de blocage sont choisies parmi les couches métalliques à base d'un métal ou d'un alliage métallique, les couches de nitrure métallique, les couches d’oxyde métallique et les couches d’oxynitrure métallique d’un ou plusieurs éléments choisis parmi le titane, le nickel, le chrome, le tantale et le niobium telles que Ti, TiN, TiOx, Nb, NbN, NbOx, Ni, NiN, NiOx, Cr, CrN, CrOx, NiCr, NiCrN, NiCrOx.
Lorsque ces couches de blocage sont déposées sous forme métallique, nitrurée ou oxynitrurée, ces couches peuvent subir une oxydation partielle ou totale selon leur épaisseur et la nature des couches qui les entourent, par exemple, au moment du dépôt de la couche suivante ou par oxydation au contact de la couche sous-jacente.
Les couches de blocage peuvent être choisies parmi les couches métalliques notamment d'un alliage de nickel et de chrome (NiCr) ou de titane. Le choix de ce type de couche de blocage convient tout particulièrement lorsque le matériau ou le revêtement fonctionnel est destiné à subir un traitement thermique à température élevé.
Avantageusement, les couches de blocage sont des couches métalliques à base de nickel. Les couche de blocage métallique à base de nickel peuvent comprendre, (avant traitement thermique), au moins 20 %, au moins 30 %, au moins 40 %, au moins 50 %, au moins 60 %, au moins 70 %, au moins 80 %, au moins 90 %, au moins 95 %, au moins 96 %, au moins 97 %, au moins 98 %, au moins 99 % ou 100 % en masse de nickel par rapport à la masse de la couche métallique à base de nickel.
Les couches métalliques à base de nickel peuvent être choisies parmi :
- les couches métalliques de nickel,
- les couches métalliques de nickel dopées,
- les couches métalliques à base d’alliage de nickel.
- les couches métalliques de nickel,
- les couches métalliques de nickel dopées,
- les couches métalliques à base d’alliage de nickel.
Les couches métalliques à base d’alliage de nickel peuvent être à base d’alliage de nickel et de chrome.
Les couches de blocage peuvent également être choisies parmi les couches métalliques de titane ou les couche d’oxyde de titane. Le choix de ce type de couche de blocage convient tout particulièrement lorsque le matériau ou le revêtement fonctionnel est utilisé tel quel, c’est à dire sans traitement thermique.
Chaque couche de blocage présente une épaisseur comprise entre 0,1 et 5,0 nm. L’épaisseur de ces couches de blocage peut être :
- d’au moins 0,1 nm, d’au moins 0,2 nm ou d’au moins 0,4 nm et/ou
- d’au plus 5,0 nm, d’au plus 2,0 nm, d’au plus 1,0 nm ou d’au plus 0,5 nm.
- d’au moins 0,1 nm, d’au moins 0,2 nm ou d’au moins 0,4 nm et/ou
- d’au plus 5,0 nm, d’au plus 2,0 nm, d’au plus 1,0 nm ou d’au plus 0,5 nm.
Le revêtement fonctionnel peut éventuellement comprendre une couche de protection. La couche de protection est de préférence la dernière couche de l’empilement, c’est-à-dire la couche la plus éloignée du substrat revêtu de l’empilement (avant traitement thermique). Ces couches ont en général une épaisseur comprise entre 0,5 et 10 nm, entre 1 et 5 nm, entre 1 et 3 nm ou entre 1 et 2,5 nm. Cette couche de protection peut être choisie parmi une couche de titane, de zirconium, d’hafnium, de silicium, de zinc et/ou d’étain, ce ou ces métaux étant sous forme métallique, oxydée ou nitrurée.
Selon un mode de réalisation, la couche de protection est à base d’oxyde de zirconium et/ou de titane, de préférence à base d’oxyde de zirconium, d’oxyde de titane ou d’oxyde de titane et de zirconium. Lorsque l’on détermine l’épaisseur d’un revêtement diélectrique, on prend en compte l’épaisseur de la couche de protection.
Les substrats transparents selon l’invention sont de préférence en un matériau rigide minéral, comme en verre, ou organiques à base de polymères (ou en polymère).
Les substrats transparents organiques selon l’invention peuvent également être en polymère, rigides ou flexibles. Des exemples de polymères convenant selon l’invention comprennent, notamment :
- le polyéthylène,
- les polyesters tels que le polyéthylène téréphtalate (PET), le polybutylène téréphtalate (PBT), le polyéthylène naphtalate (PEN) ;
- les polyacrylates tels que le polyméthacrylate de méthyle (PMMA) ;
- les polycarbonates ;
- les polyuréthanes ;
- les polyamides ;
- les polyimides ;
- les polymères fluorés comme les fluoroesters tels que l’éthylène tétrafluoroéthylène (ETFE), le polyfluorure de vinylidène (PVDF), le polychlorotrifluorethylène (PCTFE), l’éthylène de chlorotrifluorethylène (ECTFE), les copolymères éthylène-propylène fluores (FEP) ;
- les résines photoréticulables et/ou photopolymérisables, telles que les résines thiolène, polyuréthane, uréthane-acrylate, polyester-acrylate et
- les polythiouréthanes.
- le polyéthylène,
- les polyesters tels que le polyéthylène téréphtalate (PET), le polybutylène téréphtalate (PBT), le polyéthylène naphtalate (PEN) ;
- les polyacrylates tels que le polyméthacrylate de méthyle (PMMA) ;
- les polycarbonates ;
- les polyuréthanes ;
- les polyamides ;
- les polyimides ;
- les polymères fluorés comme les fluoroesters tels que l’éthylène tétrafluoroéthylène (ETFE), le polyfluorure de vinylidène (PVDF), le polychlorotrifluorethylène (PCTFE), l’éthylène de chlorotrifluorethylène (ECTFE), les copolymères éthylène-propylène fluores (FEP) ;
- les résines photoréticulables et/ou photopolymérisables, telles que les résines thiolène, polyuréthane, uréthane-acrylate, polyester-acrylate et
- les polythiouréthanes.
Le substrat est de préférence une feuille de verre ou de vitrocéramique. Le substrat est de préférence transparent, incolore (il s’agit alors d’un verre clair ou extra-clair) ou coloré, par exemple en bleu, gris ou bronze. Le verre est de préférence de type silico-sodo-calcique, mais il peut également être en verre de type borosilicate ou alumino-borosilicate. Selon un mode de réalisation préféré, le substrat est en verre, notamment silico-sodo-calcique ou en matière organique polymérique.
Le substrat possède avantageusement au moins une dimension supérieure ou égale à 1 m, voire 2 m et même 3 m. L’épaisseur du substrat varie généralement entre 0,5 mm et 19 mm, de préférence entre 0,7 et 9 mm, notamment entre 2 et 8 mm, voire entre 4 et 6 mm. Le substrat peut être plan ou bombé, voire flexible.
La présente invention concerne le matériau non traité thermiquement. Le revêtement peut ne pas avoir subi un traitement thermique à une température supérieure à 500 °C, de préférence 300 °C.
La présente invention concerne également le matériau traité thermiquement. Les traitements thermiques sont choisis parmi :
- un recuit, par exemple un recuit rapide,
- une trempe et/ou un bombage.
- un recuit, par exemple un recuit rapide,
- une trempe et/ou un bombage.
Le matériau, c’est-à-dire le substrat transparent revêtu de l’empilement, peut avoir subi un traitement thermique à température élevée. L'empilement et le substrat peuvent avoir été soumis à un traitement thermique à une température élevée tel qu’une trempe, un recuit ou un bombage.
Il est également possible de traiter thermiquement uniquement l’empilement. Dans ce cas, l’empilement seulement peut avoir subi un traitement thermique.
Dans ces deux cas, l’empilement peut avoir subi un traitement thermique à une température supérieure à 300 °C, de préférence 500 °C. La température de traitement thermique (au niveau de l’empilement) est supérieure à 300 °C, de préférence supérieure à 400 °C, et mieux supérieure à 500 °C.
Selon l’invention, il est possible de réaliser un recuit thermique rapide (« Rapid Thermal Process ») tel qu’un recuit laser ou lampe flash. Le recuit thermique rapide est par exemple décrit dans les demandes WO2008/096089 et WO2015/185848. Dans ces cas, seul l’empilement est soumis à un traitement thermique. Lors de ce type de traitement, on porte chaque point de l‘empilement à une température d'au moins 300°C en maintenant une température inférieure ou égale à 150°C en tout point de la face du substrat opposée à celle sur laquelle se situe l’empilement. Ce procédé présente l'avantage de ne chauffer que l’empilement, sans échauffement significatif de la totalité du substrat.
Dans le cas d’un traitement laser, les matériaux revêtus peuvent être traités à l'aide d'une ligne laser formée à partir de sources laser de type diodes laser InGaAs ou laser à disque Yb :YAG. Ces sources continues émettent à une longueur d'onde comprise entre 900 et 1100 nm. La ligne laser a une longueur de l’ordre de 3,3 m, égale à la largeur 1 du substrat, et une largeur à mi-hauteur FWHM moyenne entre 45 et 100 µm.
Les matériaux sont disposés sur un convoyeur à rouleaux de manière à défiler selon une direction X, parallèlement à sa longueur. La ligne laser est fixe et positionnée au-dessus de la surface revêtue du substrat avec sa direction longitudinale Y s'étendant perpendiculairement à la direction X de défilement du substrat, c'est-à-dire selon la largeur du substrat, en s'étendant sur toute cette largeur.
La position du plan focal de la ligne laser est ajustée pour se situer dans l'épaisseur du revêtement fonctionnel lorsque le substrat est positionné sur le convoyeur. La puissance surfacique de la ligne laser au niveau du plan focal est inférieur à 100kW/cm2. On a fait défiler le substrat sous la ligne laser à une vitesse d’environ 8 m/min.
Le revêtement peut donc avoir été soumis à un recuit thermique rapide dans lequel on porte chaque point de l‘empilement à une température d'au moins 300°C en maintenant une température inférieure ou égale à 150°C en tout point de la face du substrat opposée à celle sur laquelle se situe l’empilement.
Il est également possible de combiner les traitements thermiques. Par exemple, il est possible de réaliser un recuit thermique rapide suivi d’une trempe.
Le revêtement et le substrat peuvent avoir été soumis à un traitement thermique à une température élevée supérieure à 500 °C tel qu’une trempe, un recuit ou un bombage. Le substrat revêtu de l'empilement peut être est un verre bombé ou trempé.
L’invention concerne également un vitrage comprenant au moins un matériau selon l’invention. L’invention concerne un vitrage pouvant être sous forme de vitrage monolithique, feuilleté et/ou multiple, en particulier double vitrage ou triple vitrage.
Un double vitrage comporte 4 faces, la face 1 est à l'extérieur du bâtiment et constitue donc la paroi extérieure du vitrage, la face 4 est à l'intérieur du bâtiment et constitue donc la paroi intérieure du vitrage, les faces 2 et 3 étant à l'intérieur du double vitrage. L’empilement selon l’invention se trouve en face 2 ou en face 3.
Un triple vitrage comporte 6 faces, la face 1 est à l'extérieur du bâtiment et constitue donc la paroi extérieure du vitrage, la face 6 est à l'intérieur du bâtiment et constitue donc la paroi intérieure du vitrage, les faces 2 et 3 et 4 et 5 étant à l'intérieur du double vitrage. L’empilement selon l’invention peut se trouver en face 2, en face 3 et/ou en face 5.
Un vitrage feuilleté comporte au moins une structure de type premier substrat / feuille(s) / deuxième substrat. La feuille polymérique peut notamment être à base de polyvinylbutyral PVB, éthylène vinylacétate EVA, polyéthylène téréphtalate PET, polychlorure de vinyle PVC. L’empilement de couches minces est positionné sur l’une au moins des faces d’un des substrats.
L’invention concerne donc :
- un vitrage multiple de type double vitrage avec l’empilement en face 2,
- un vitrage multiple de type double vitrage avec l’empilement en face 3,
- un vitrage multiple de type triple vitrage avec l’empilement en face 2 et en face 5,
- un vitrage feuilleté avec l’empilement en face 2 ou 3.
Ces vitrages peuvent être montés sur un bâtiment ou un véhicule.
- un vitrage multiple de type double vitrage avec l’empilement en face 2,
- un vitrage multiple de type double vitrage avec l’empilement en face 3,
- un vitrage multiple de type triple vitrage avec l’empilement en face 2 et en face 5,
- un vitrage feuilleté avec l’empilement en face 2 ou 3.
Ces vitrages peuvent être montés sur un bâtiment ou un véhicule.
Les exemples suivants illustrent l’invention.
1.
Préparation des substrats : matériaux et conditions de dépôt
Des empilements de couches minces définis ci-après sont déposés sur des substrats en verre sodo-calcique clair d’une épaisseur de 6 mm. Dans les exemples de l'invention :
- les couches fonctionnelles sont des couches d’argent (Ag),
- les couches diélectriques sont à base de nitrure de silicium dopé à l’aluminium (Si3N4: Al), à base de nitrure de silicium et de zirconium dopé à l’aluminium (SiZrN : Al), à base d’oxyde de zinc et d’étain, à base d’oxyde de zinc (ZnO).
Les couches d’oxyde de titane TiOx appelé ci-après TiOx (1) située au-dessus et au contact des couche fonctionnelles sont déposées à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique, dans une atmosphère contrôlée comprenant de l’oxygène. On dépose au contact de la couche d’argent une première fine épaisseur de couche à base d’oxyde de titane, à partir d’une cible céramique, dans une atmosphère non oxydante ou très faiblement oxydante. Puis, on dépose une épaisseur plus épaisse de couche à base d’oxyde de titane à partir d’une cible céramique dans une atmosphère oxydante. La couche à base d’oxyde de titane est constituée de ces deux parties. Lors du dépôt, la partie de la couche à base d’oxyde de titane en contact avec la couche fonctionnelle est moins oxydée que la partie la plus éloignée de la couche fonctionnelle.
- les couches fonctionnelles sont des couches d’argent (Ag),
- les couches diélectriques sont à base de nitrure de silicium dopé à l’aluminium (Si3N4: Al), à base de nitrure de silicium et de zirconium dopé à l’aluminium (SiZrN : Al), à base d’oxyde de zinc et d’étain, à base d’oxyde de zinc (ZnO).
Les couches d’oxyde de titane TiOx appelé ci-après TiOx (1) située au-dessus et au contact des couche fonctionnelles sont déposées à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique, dans une atmosphère contrôlée comprenant de l’oxygène. On dépose au contact de la couche d’argent une première fine épaisseur de couche à base d’oxyde de titane, à partir d’une cible céramique, dans une atmosphère non oxydante ou très faiblement oxydante. Puis, on dépose une épaisseur plus épaisse de couche à base d’oxyde de titane à partir d’une cible céramique dans une atmosphère oxydante. La couche à base d’oxyde de titane est constituée de ces deux parties. Lors du dépôt, la partie de la couche à base d’oxyde de titane en contact avec la couche fonctionnelle est moins oxydée que la partie la plus éloignée de la couche fonctionnelle.
Les couches d’oxyde de titane TiOx appelé ci-après TiOx (2) sont déposées à partir d’une cible céramique, notamment sous stœchiométrique sans faire varier les proportions d’oxygène pendant leur dépôt.Les conditions de dépôt des couches, qui ont été déposées par pulvérisation (pulvérisation dite « cathodique magnétron »), sont résumées dans le tableau 1.
Matériaux | Composition | cible | Pression | Puissance | Gaz sccm | ||
Ar | O2 | N2 | |||||
ZnO (1) | ZnO:Al2O3 2%wt | céramique | 2 µbar | 500 W | 40 | 2 | - |
ZnO (2) | Zn : Al | métallique | 2 ubar | 750 | 15 | 16 | - |
TiOx (1) | TiOx | céramique | 2 µbar |
500 W | 20 | - | - |
TiOx (2) | TiOx | céramique | 2 µbar | 2000 W | 20 | 2 | - |
SnZnO | Sn:Zn 60/40%wt | métallique | 2 µbar | 1500 W | 15 | 32 | |
Ag | Ag | métallique | 8 µbar | 210 W | 80 | - | - |
NiCr | Ni:Cr 80:20 %wt | métallique | 2 ubar | 125 W | 18 | - | - |
Si3N4 | Si:Al 8%wt | métallique | 2 µbar | 2000 W | 18 | - | 24 |
SiZrN | Si:Zr 27% at | métallique | 2 µbar | 1000 W | 12 | - | 18 |
%wt : % en poids ; at% : atomique.
Dans les exemples, différents matériaux selon l’invention et comparatifs ont été testés. Dans tous les tableaux exposant les caractéristiques optiques et performances, les caractéristiques ont été mesurées sur un double vitrage présentant une structure 6/16/4 : verre de 6 mm / espace intercalaire de 16 mm rempli de 90 % d’argon et 10 % d’air/ verre de 4 mm, l’empilement étant positionné en face 2 (la face 1 du vitrage étant la face la plus à l’extérieur du vitrage, comme habituellement).
Des niveaux de transmission lumineuse variant entre 40 % et 80 % ont été testées. Pour cela, une boite de couleur (« colorbox ») a été définie en réflexion intérieur et en réflexion extérieur pour tous les vitrages.
La boîte de couleur ne varie que par le niveau de a* en transmission pour les différents niveau de transmission lumineuse. Le niveau de couleur (a*) en transmission, et plus particulièrement la recherche de la neutralité en transmission (a*T proche de 0), règle la sélectivité des revêtements multi-Ag. Pour les cas TL de 40 et 50 %, a*T est supérieur à -9. Pour les cas de 60%, a*T est supérieur à -7. Pour TL ≥70 %, a*T est supérieur à -4.
Tab.2 | a*, min | a*, max | b*, min | b*, max | |
TL | variable | 0 | -3.0 | 2.5 | |
RL1 | <18 | -3.0 | -1.0 | -10.0 | 0 |
RL2 | <16 | -6.0 | 0 | -5.0 | 1 |
Le tableau ci-dessous liste les matériaux et les épaisseurs physiques en nanomètres (sauf autres indications) de chaque couche ou revêtement qui constitue les empilements en fonction de leurs positions vis-à-vis du substrat porteur de l’empilement.
Dans cette série d’exemple, les exemples selon l’invention comprennent un revêtement fonctionnel qui comporte une couche de TiOx dans le troisième revêtement diélectrique, en contact avec la deuxième couche d’argent, et une couche à haut indice dans le premier revêtement diélectrique.
Des transmissions lumineuses de 78,5%, 75%, 70%, 60%, 50% et 40% sont respectivement recherchées dans les exemples 1a, 1b, 1c, 1d, 1 e et 1f.
Chaque revêtement fonctionnel selon l’invention est comparé à un revêtement atteignant la même transmission lumineuse TL mais ne comportant ni couche TiOXen contact avec une couche d’argent, ni couche à haut indice dans le premier revêtement diélectrique (M1).
Le tableau 3 ci-dessous reprend les différents revêtements fonctionnels testés.
Tableau 3 | Couches | REF_1a | INV 1a | REF_1b | INV 1b | REF_1c | INV 1c | REF_1d | INV 1d | REF1e | INV 1e | REF 1f | INV 1f |
M3 : Rev. | TiOx (2) | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 | 1 |
diélectrique | Si3N4 | 34 | 25 | 32 | 11 | 33 | 13 | 32 | 6 | 33 | 5 | 32 | 6 |
SnZnO | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | ||
ZnO (2) | 5 | - | 5 | - | 5 | - | 5 | - | 5 | - | 5 | ||
TiOx (1) | - | 11 | - | 19 | - | 19 | - | 23 | - | 23 | - | 25 | |
Couche bariière | NiCr | - | - | - | - | 0,7 | - | 0,7 | - | 0,7 | - | 1,2 | - |
Couche fonctionnelle | Ag | 15,1 | 16,7 | 15.1 | 20,1 | 15,.1 | 17,8 | 14,1 | 17,7 | 13,8 | 17,5 | 12,7 | 15,1 |
Couche barrière | NiCr | - | - | - | - | - | - | 1,0 | 0,6 | 0,5 | 0,7 | 0,8 | 2,0 |
M2 : Rev. | ZnO (2) | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 |
diélectrique | SnZnO | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 | 10 |
Si3N4 | 68 | 71 | 65 | 73 | 65 | 70 | 66 | 71 | 68 | 65 | 64 | 67 | |
ZnO (1) | 5 | 5 | - | - | - | - | - | - | - | - | - | - | |
ZnO (2) | - | - | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | |
Couche barrière | NiCr | - | - | 0,7 | 0,7 | 0,7 | 0,7 | 0,7 | 0,7 | 1,6 | 1,3 | 3,0 | 2,9 |
Couche fonctionnelle | Ag | 10,0 | 11,5 | 12,0 | 11,9 | 12,0 | 14,1 | 11,7 | 14,5 | 10,7 | 9,4 | 8,0 | 10,2 |
Couche barrière | NiCr | - | - | - | - | 1,0 | 1,1 | 2,0 | 2,5 | 2,4 | 3,0 | 3,0 | 3,0 |
M1 : Rev. | ZnO (2) | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 | 5 |
diélectrique | SiZrN | - | 18 | - | 19 | - | 17 | - | 18 | - | 3 | - | 35 |
Si3N4 | 29 | 5 | 19 | 5 | 23 | 5 | 24 | 6 | 20 | 5 | 12 | 36 | |
Substrat (mm) | verre | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 | 6 |
Comme dans la série d’exemple précédent, les revêtements fonctionnels selon l’invention comportent une couche de TiOx dans le troisième revêtement diélectrique, en contact avec la deuxième couche d’argent, et une couche à haut indice dans le premier revêtement diélectrique.
Dans cet exemple, les revêtements fonctionnels selon l’invention comportent, en plus, une couche haut indice dans le deuxième revêtement diélectrique.
Des transmissions lumineuses de 78,5 et 70% sont respectivement recherchées dans les exemples 2a et 2b.
Chaque revêtements fonctionnels selon l’invention est comparé à un revêtement fonctionnel atteignant la même TL mais ne comportant ni couche de TiOXen contact avec une couche d’argent, ni couche à haut indice.
Le tableau 4 ci-dessous reprend les différents revêtements fonctionnels testés.
Tableau 4 | Couches | REF_2a | INV_2a | Ref 2b | INV 2b |
Rev. | TiOx (2) | 1 | 1 | 1 | 1 |
diélectrique | Si3N4 | 34 | 7 | 33 | 5 |
SnZnO | - | - | - | 5 | |
ZnO (1) | 5 | - | 5 | - | |
TiOx (1) | - | 22 | - | 24,4 | |
Couche barrière | NiCr | - | - | 0,7 | - |
Couche fonctionnelle | Ag | 15,1 | 16,4 | 15,1 | 17,4 |
Rev. | ZnO (2) | 5 | 5 | 5 | 5 |
diélectrique | SnZnO | 10 | 10 | 10 | 10 |
TiOx (2) | - | - | - | 52 | |
SiZrN | - | 41 | - | - | |
Si3N4 | 68 | - | 65 | - | |
ZnO (1) | 5 | 5 | 5 | 5 | |
Couche barrière | TiOx (2) NiCr | - - | - - | - 0,7 | 0,6 - |
Couche fonctionnelle | Ag | 10,0 | 9,6 | 12,0 | 14,8 |
Couche barrière | NiCr | - | - | 1,0 | - |
Rev. | ZnO (2) | 5 | 5 | 5 | 5 |
diélectrique | SiZrN | - | 8 | - | - |
TiOx (2) | - | - | - | 17 | |
Si3N4 | 29 | 5 | 23 | 2 | |
Substrat (mm) | verre | 6 | 6 | 6 | 6 |
Les revêtements suivants ont été développés pour être utilisés après avoir été soumis à un traitement thermique de type trempe. Les traitements thermiques sont réalisés au four NABER à une température de 650°C pendant 10 minutes.
Tableau 5 |
g | s | TL | a* | b* | RL1 | a* | b* | RL2 | a* | b* | a*R2 60° |
b*R2 60° |
Ex 1 | |||||||||||||
REF_1a | 45,4 | 1,727 | 78,5 | -2,6 | 1,5 | 12,5 | -0,7 | -7,3 | 12,8 | -0,8 | -5,4 | 3,0 | -10,0 |
Ex 1a | 43,8 | 1,792 | 78,5 | -3,1 | 1,6 | 12,4 | -1,0 | -4,0 | 12,8 | -0,5 | -3,1 | 3,5 | -10,0 |
REF 1b | 41,2 | 1,796 | 74,0 | -2,7 | 1,6 | 15,1 | -1,0 | -6,9 | 14,9 | -3,4 | -4,1 | 3,0 | -10,1 |
Ex 1b | 38,7 | 1,912 | 74,0 | -3,7 | 2,2 | 15,1 | -3,2 | -4,0 | 15,3 | 0,2 | -3,3 | 3,0 | -10,2 |
REF 1c | 38,1 | 1,811 | 69,0 | -3,2 | 0,1 | 15,1 | -1,0 | -5,9 | 14,3 | -2,1 | -3,2 | 3,0 | -10,1 |
Ex 1c | 35,7 | 1,935 | 69,0 | -3,8 | 0,7 | 15,0 | -1,0 | -4,0 | 14,7 | -1,6 | -3,4 | 3,0 | -10,0 |
REF 1d | 32,8 | 1,798 | 59,0 | -4,4 | -2,4 | 15,3 | -0,7 | -6,5 | 14,4 | -6,6 | -5,6 | 3,0 | -10,0 |
Ex 1d | 30,0 | 1,968 | 59,0 | -4,8 | -1,3 | 16,1 | -1,2 | -3,4 | 16,1 | -5,3 | -5,0 | 3,0 | -9,0 |
REF 1e | 28,1 | 1,781 | 50,0 | -5,2 | -3,4 | 18,7 | -0,4 | -7,7 | 14,3 | -6,2 | -6,0 | 1,2 | -10,0 |
Ex 1 e | 26,4 | 1,891 | 50,0 | -5,5 | -3,1 | 18,8 | -1,8 | -10,0 | 12,8 | 0,1 | -5,0 | 1,0 | -10,0 |
REF 1f | 23,5 | 1,698 | 40,0 | -5,7 | -6,4 | 20,2 | -0,4 | -7,6 | 12,5 | -6,4 | -6,1 | 3,0 | -10,0 |
Ex 1f | 22,3 | 1,794 | 40,0 | -4,9 | -5,7 | 20,0 | -0,5 | -8,7 | 17,4 | -5,9 | -4,8 | 3,0 | -10,0 |
Ex 2 | |||||||||||||
Ref 2a | 45,4 | 1,727 | 78,5 | -2,6 | 1,5 | 12,5 | -0,7 | -7,3 | 12,8 | -0,8 | -5,4 | 3,0 | -10,0 |
INV 2a | 42,3 | 1,854 | 78,5 | -4,2 | 3,7 | 12,6 | -1,8 | -4,0 | 12,9 | -0,3 | -4,0 | 3,2 | -1,4 |
Ref 2b | 38,1 | 1,811 | 69,0 | -3,2 | 0,1 | 15,1 | -1,0 | -5,9 | 14,3 | -2,1 | -3,2 | 3,0 | -10,1 |
INV 2b | 36,3 | 1,899 | 69,0 | -4,5 | -2,1 | 15,0 | -1,0 | -4,7 | 14,2 | -4,6 | -1,9 | 3,0 | -9,9 |
Par rapport à un empilement de référence comportant la même TL, la présence d’une couche haut indice dans le premier revêtement diélectrique et d’une couche TiOx dans le troisième revêtement diélectrique, en contact avec la deuxième couche d’argent, permet d’améliorer significativement la sélectivité tout en restant dans la boite à couleur choisie, en transmission.
Claims (15)
- Matériau comprenant un substrat revêtu d’un revêtement fonctionnel comprenant une alternance de uniquement deux couches fonctionnelles métalliques à base d’argent dénommées en partant du substrat première et deuxième couches fonctionnelles et de trois revêtements diélectriques dénommés en partant du substrat Di1, Di2 et Di3, chaque revêtement diélectrique comportant au moins une couche diélectrique, de manière à ce que chaque couche métallique fonctionnelle soit disposée entre deux revêtements diélectriques, caractérisé en ce que :
- le troisième revêtement diélectrique Di3 situé au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de titane située au-dessus et au contact de la deuxième couche métallique fonctionnelle à base d’argent, cette couche d’oxyde de titane ayant une épaisseur supérieure ou à égale à 3 nm,
- le premier revêtement diélectrique Di1 situé en dessous de la première couche fonctionnelle comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 3,0 nm, de préférence supérieure à 5 nm. - Matériau selon la revendication précédente caractérisé en ce que la couche à base d’oxyde de titane située au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle à base d’argent a une épaisseur d’au moins 5 nm.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le deuxième revêtement diélectrique Di2 situé au-dessus de la première couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de titane située au-dessus et au contact de la première couche métallique fonctionnelle à base d’argent ayant une épaisseur supérieure ou à égale à 3 nm.
- Matériau selon la revendication précédente caractérisé en ce que le deuxième revêtement diélectrique Di2 comprend en outre une couche à base d’étain, de préférence une couche à base d’oxyde de zinc et d’étain comprenant au moins 10 % en masse d’étain par rapport à la masse totale de zinc et d’étain, située au-dessus et au contact de la couche à base d’oxyde de titane.
- Matériau selon la revendication précédente caractérisé en ce que la couche à base d’oxyde d’étain présente une épaisseur :
- supérieure à 5 nm,
- inférieure à 40 nm. - Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le troisième revêtement diélectrique Di3 situé au-dessus de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 5 nm, cette couche est distincte de la couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche d’argent.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le deuxième revêtement diélectrique Di2 comprend une couche à haut indice de réfraction présentant un indice de réfraction mesuré à 550 nm supérieur à 2,20 et une épaisseur supérieure à 5 nm, cette couche est distincte de l’éventuelle couche à base d’oxyde de titane au contact de la couche d’argent.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que les couches à haut indice de réfraction sont choisies parmi les couches à base d’oxyde de titane, les couche d’oxyde de niobium et les couches à base de nitrure de silicium et de zirconium.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que les couches d’indice de réfraction supérieur à 2,20 autres que les couches à base d’oxyde de titane au contact des couches fonctionnelles ont une épaisseur supérieure à 10 nm.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le revêtement fonctionnel comporte une ou plusieurs couches de blocage métalliques situées de préférence au contact et en dessous de la première et/ou de la deuxième couche fonctionnelle métallique.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le revêtement diélectrique situé en-dessous de la première couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la première couche fonctionnelle ou séparée de la première couche fonctionnelle par une couche de blocage.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce que le revêtement diélectrique situé en-dessous de la deuxième couche fonctionnelle comprend une couche à base d’oxyde de zinc située au contact de la deuxième couche fonctionnelle ou séparée de la deuxième couche fonctionnelle par une couche de blocage.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications précédentes caractérisé en ce qu’il présente une transmission lumineuse supérieure à 70%.
- Matériau selon l’une quelconque des revendications 1 à 12, caractérisé en ce qu’il présente une transmission lumineuse inférieure à 70%, de préférence comprise entre 30 et 50%.
- Vitrage comprenant matériau selon l’une quelconque des revendications 1 à 14 sous forme de vitrage multiple ou de vitrage feuilleté.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR2308532A FR3152020A1 (fr) | 2023-08-07 | 2023-08-07 | Vitrage contrôle solaire et/ou bas émissif |
PCT/EP2024/071920 WO2025031950A1 (fr) | 2023-08-07 | 2024-08-01 | Vitrage contrôle solaire et/ou bas émissif |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR2308532 | 2023-08-07 | ||
FR2308532A FR3152020A1 (fr) | 2023-08-07 | 2023-08-07 | Vitrage contrôle solaire et/ou bas émissif |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR3152020A1 true FR3152020A1 (fr) | 2025-02-14 |
Family
ID=88965748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR2308532A Pending FR3152020A1 (fr) | 2023-08-07 | 2023-08-07 | Vitrage contrôle solaire et/ou bas émissif |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
FR (1) | FR3152020A1 (fr) |
WO (1) | WO2025031950A1 (fr) |
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2023
- 2023-08-07 FR FR2308532A patent/FR3152020A1/fr active Pending
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- 2024-08-01 WO PCT/EP2024/071920 patent/WO2025031950A1/fr unknown
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WO2025031950A1 (fr) | 2025-02-13 |
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