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FR2955520B1 - Moule pour la lithographie par nano-impression et procedes de realisation - Google Patents

Moule pour la lithographie par nano-impression et procedes de realisation

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FR2955520B1
FR2955520B1 FR1050569A FR1050569A FR2955520B1 FR 2955520 B1 FR2955520 B1 FR 2955520B1 FR 1050569 A FR1050569 A FR 1050569A FR 1050569 A FR1050569 A FR 1050569A FR 2955520 B1 FR2955520 B1 FR 2955520B1
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
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Abstract

L'invention concerne un moule pour la lithographie par nano-impression, ainsi que ces procédés de réalisation. Ce moule comporte une face qui comprend n zone (s) structurée ( s ) avec des motifs de taille micrométrique ou nanométrique, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1. Cette face structurée appartient à une première couche qui est supportée par une seconde couche, la première couche étant en un matériau rigide et la seconde couche étant en un matériau souple. Ce moule peut en outre comprendre n couches intercalaires disposées entre la première couche et la seconde couche, n étant un nombre entier supérieur ou égal à 1, et dans lequel le module d'Young de la seconde couche est inférieur au module d'Young de la nième couche intercalaire adjacente à la seconde couche, et si n est supérieur à 1, le module d'Young de la (i) ième couche intercalaire est supérieur au module d'Young de la (i + 1) ième couche intercalaire, avec i = 1 à (n-1 ).
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