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FR2948810A1 - Static RAM type memory device i.e. portless static RAM memory device, has control unit delivering control signal to gate of transistor of additional cell to place memory-cells in read mode and additional cell in write mode, or conversely - Google Patents

Static RAM type memory device i.e. portless static RAM memory device, has control unit delivering control signal to gate of transistor of additional cell to place memory-cells in read mode and additional cell in write mode, or conversely Download PDF

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FR2948810A1
FR2948810A1 FR0955274A FR0955274A FR2948810A1 FR 2948810 A1 FR2948810 A1 FR 2948810A1 FR 0955274 A FR0955274 A FR 0955274A FR 0955274 A FR0955274 A FR 0955274A FR 2948810 A1 FR2948810 A1 FR 2948810A1
Authority
FR
France
Prior art keywords
additional
memory cell
cell
gate
transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
FR0955274A
Other languages
French (fr)
Inventor
Lahcen Hamouche
Jean-Christophe Lafont
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
STMicroelectronics SA
Original Assignee
STMicroelectronics SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by STMicroelectronics SA filed Critical STMicroelectronics SA
Priority to FR0955274A priority Critical patent/FR2948810A1/en
Priority to FR1050487A priority patent/FR2948811A1/en
Priority to EP10170405A priority patent/EP2284839A1/en
Priority to US12/842,618 priority patent/US8477540B2/en
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Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

The device has a memory plane (PM) comprising a column of static RAM memory cells (CEL). Supply voltage (Vdd) is supplied to bit lines (BLTP, BLFP). A control unit (MC1) sets controllable additional access units (PGT, PGN) in one of two states. Another control unit (MC2) delivers a control signal to a gate of a single access transistor of one of the memory cells of the column and another control signal to a gate of a single access transistor of an additional memory cell (CLS) in order to set the memory-cells in a read mode and the additional cell in a write mode, or conversely. The additional access unit is an N channel type metal-oxide-semiconductor transistor.

Description

13 Ls...j R - CAS ALONGA & JOSSE Paris - Munich - Alicante - GrenobleCONSEILS EN PROPRIÉTÉ INDUSTRIELLE EUROPEAN PATENT AND TRADEMARK ATTORNEYS 8, avenue Percier ù F 75008 PARIS Tél. : 33 (0)1 45 61 94 64 Fax : 33 (0)1 45 63 94 21 e-mail : paris@casalonga.com DEMANDE DE BREVET B09-2438FR FZ/EVH 09-GR1-219 13 Ls ... j R - CAS ALONGA & JOSSE Paris - Munich - Alicante - GrenobleTHE EUROPEAN PATENT AND TRADEMARK ATTORNEYS 8, avenue Percier 75008 PARIS Tel. : 33 (0) 1 45 61 94 64 Fax: 33 (0) 1 45 63 94 21 e-mail: paris@casalonga.com APPLICATION FOR PATENT B09-2438EN FZ / EVH 09-GR1-219

Société anonyme dite : STMicroelectronics SA So-called limited company: STMicroelectronics SA

Dispositif de mémoire statique à cinq transistors et procédé de fonctionnement Invention de : Lahcen HAMOUCHE Jean-Christophe LAFONT Static memory device with five transistors and method of operation Invention of: Lahcen HAMOUCHE Jean-Christophe LAFONT

Dispositif de mémoire statique à cinq transistors et procédé de fonctionnement L'invention concerne les circuits intégrés, et plus particulièrement les dispositifs de mémoires statiques, du type SRAM ( Static Random Access Memory ), à cinq transistors, dites sans port d'accès , encore communément appelées par l'homme du métier sous la dénomination anglo-saxonne de portless SRAM . Les cellules-mémoires du type SRAM à cinq transistors sans port d'accès sont bien connues de l'homme du métier. On peut citer notamment l'article de Michael Wieckowski et Martin Margala intitulé Portless SRAM û A High-Performance Alternative to the 6T Methodology , IEEE Journal of Solid-State Circuits, volume 42, n°ll, Novembre 2007, ou encore l'article de ces mêmes auteurs intitulé A Portless SRAM Cell Using Stunted Wordline Drivers , IEEE 2008, pages 584-587. Une cellule-mémoire du type SRAM sans port d'accès est, comme illustré schématiquement sur la figure 1, basée sur le principe de deux inverseurs INV1, INV2, couplés de façon croisée et alimentés par deux lignes de bits BLTP et BLFP sans port d'accès, tels que par exemple des transistors NMOS. En outre, la cellule SRAM comporte un cinquième transistor, dit transistor d'accès , AXS, connecté comme illustré sur la figure 1. The invention relates to integrated circuits, and more particularly to static memory devices, of the SRAM type (Static Random Access Memory), with five transistors, said without access port, still commonly known by those skilled in the art under the name of Anglo-Saxon portless SRAM. Memory cells of the SRAM type with five transistors without an access port are well known to those skilled in the art. We can cite in particular the article by Michael Wieckowski and Martin Margala entitled Portless SRAM - A High-Performance Alternative to the 6T Methodology, IEEE Journal of Solid-State Circuits, Volume 42, No. 11, November 2007, or the article of these same authors entitled A Portless SRAM Cell Using Stunted Wordline Drivers, IEEE 2008, pages 584-587. An SRAM-type memory cell without an access port is, as illustrated schematically in FIG. 1, based on the principle of two inverters INV1, INV2, cross-coupled and powered by two BLTP and BLFP bit lines without a port. access, such as for example NMOS transistors. In addition, the SRAM cell comprises a fifth transistor, called access transistor, AXS, connected as illustrated in FIG.

La figure 2 illustre une représentation plus détaillée, mais toujours schématique, de la cellule de la figure 1, dans laquelle les transistors des inverseurs ont été représentés. Plus précisément, la cellule CEL comporte effectivement cinq transistors, à savoir deux paires de transistors PMOS et NMOS formant les deux inverseurs, ainsi que le cinquième transistor AXS. On voit sur la figure 2 que la source du transistor PMOS Ml est reliée à la ligne de bits BLTP, tandis que la source du transistor PMOS M3 est reliée à la ligne BLFP. Les drains de ces deux transistors Ml et M3 sont respectivement reliés aux drains des deux transistors NMOS M2 et M4. Les sources de ces deux transistors M2 et M4 sont reliées à la masse. Par ailleurs, les grilles des quatre transistors Ml-M4 sont couplées de façon croisée. Enfin, le transistor d'accès AXS, qui est ici un transistor NMOS, est connecté entre les grilles des transistors PMOS Ml et M3. Cela étant ce transistor AXS pourrait être un transistor PMOS. Une donnée, formée de deux valeurs logiques complémentaires 1,0 ou 0,1 est stockée entre les deux noeuds de sortie T et F des deux inverseurs. Lorsque le transistor d'accès AXS est ouvert (bloqué), la cellule CEL est stable et la donnée est maintenue dans cette cellule tant que la cellule reste alimentée par la tension d'alimentation. Lorsque le transistor d'accès AXS est fermé (passant), un courant circule depuis le noeud T ou F présentant la valeur logique 1 vers le noeud F ou T présentant la valeur logique 0. Une cellule SRAM à cinq transistors sans port d'accès est donc une alternative aux cellules SRAM classiques à six transistors, c'est-à-dire à deux inverseurs connectés aux deux lignes de bits par deux ports d'accès tels que des transistors NMOS. Pour écrire une donnée dans la cellule CEL, on précharge tout d'abord les deux lignes de bits à la tension d'alimentation, on ferme le transistor AXS puis on fait chuter la tension de l'une des lignes de bits selon que l'on désire écrire un 1 ou un 0, de façon à provoquer une différence de tension entre les noeuds T et F de la cellule. Une fois que la donnée est écrite, on réouvre le transistor AXS et on réactive la précharge qui assure l'alimentation de la cellule nécessaire à la conservation de la donnée. Pour lire la donnée dans la cellule CEL on ferme le transistor AXS. I1 se crée alors une différence de courant entre les deux lignes de bits, dont le signe dépend de la valeur logique de la donnée stockée. Cette différence de courant est amplifiée de façon classique dans un amplificateur de courant situé en bas de la colonne du plan-mémoire contenant la cellule, et la donnée est ainsi lue. FIG. 2 illustrates a more detailed, but still schematic, representation of the cell of FIG. 1, in which the transistors of the inverters have been represented. More precisely, the CEL cell actually comprises five transistors, namely two pairs of PMOS and NMOS transistors forming the two inverters, as well as the fifth AXS transistor. It can be seen in FIG. 2 that the source of the PMOS transistor M1 is connected to the bit line BLTP, while the source of the PMOS transistor M3 is connected to the line BLFP. The drains of these two transistors Ml and M3 are respectively connected to the drains of the two NMOS transistors M2 and M4. The sources of these two transistors M2 and M4 are connected to ground. Moreover, the gates of the four transistors Ml-M4 are cross-coupled. Finally, the access transistor AXS, which is here an NMOS transistor, is connected between the gates of PMOS transistors Ml and M3. That being this AXS transistor could be a PMOS transistor. Data, formed of two complementary logic values 1.0 or 0.1, is stored between the two output nodes T and F of the two inverters. When the access transistor AXS is open (blocked), the cell CEL is stable and the data is held in this cell as long as the cell remains powered by the supply voltage. When the access transistor AXS is closed (passing), a current flows from the node T or F having the logic value 1 to the node F or T having the logic value 0. A five-transistor SRAM cell without an access port is therefore an alternative to conventional SRAM cells with six transistors, that is to say two inverters connected to the two bit lines by two access ports such as NMOS transistors. To write data in the CEL cell, the two bit lines are first precharged to the supply voltage, the AXS transistor is closed and the voltage of one of the bit lines is dropped depending on whether the it is desired to write a 1 or a 0, so as to cause a voltage difference between the nodes T and F of the cell. Once the data is written, the AXS transistor is reopened and the precharge which supplies the cell necessary for the conservation of the data is reactivated. To read the data in the CEL cell, the AXS transistor is closed. A current difference is then created between the two bit lines, the sign of which depends on the logical value of the stored data item. This current difference is amplified in a conventional manner in a current amplifier located at the bottom of the column of the memory plane containing the cell, and the data is thus read.

Une telle colonne classique de cellules-mémoires SRAM à cinq transistors sans port d'accès présente un certain nombre d'inconvénients. Plus précisément, durant une opération d'écriture, la différence de tension entre les deux lignes de bits doit être suffisamment importante pour permettre le changement d'état de la cellule à écrire, sans toutefois affecter la stabilité des autres cellules de la même colonne puisque toutes les cellules de la colonne sont alimentées par ces lignes de bits. Such a conventional column of SRAM memory cells with five transistors without an access port has a number of disadvantages. More specifically, during a write operation, the voltage difference between the two bit lines must be large enough to allow the change of state of the cell to be written, without affecting the stability of the other cells of the same column since all the cells of the column are fed by these lines of bits.

Par ailleurs, durant une opération de lecture, la cellule lue doit induire une différence de courant entre les deux lignes de bits suffisamment importante de façon à se situer en dehors de 1' offset de l'amplificateur de courant situé en bas de la colonne. Or, toutes ces contraintes s'avèrent en général incompatibles avec des technologies avancées dans lesquelles la tension d'alimentation est relativement basse, par exemple des technologies 45 nanomètres dans lesquelles la tension d'alimentation est de 1,1 volt. Selon un mode de réalisation, il est proposé un dispositif de mémoire du type SRAM à cinq transistors sans port d'accès permettant de s'affranchir de l'utilisation d'un amplificateur de courant en bas de la colonne. I1 est également proposé, en particulier, un dispositif de mémoire de courant dynamique, donc une consommation moindre. I1 est également proposé, en particulier, d'effectuer les opérations d'écriture et de lecture dans les cellules au moyen d'un courant, ce qui ne nécessite pas les charges et décharges des lignes de bits dans les opérations d'écriture. Selon un aspect, il est proposé un dispositif de mémoire du type SRAM, comprenant un plan-mémoire possédant au moins une colonne de cellules-mémoires du type SRAM comportant deux inverseurs couplés de façon croisée et un seul transistor d'accès, chaque cellule-mémoire étant connectée entre deux lignes de bits sans transistor d'accès. Furthermore, during a read operation, the cell read must induce a current difference between the two bit lines sufficiently large so as to be outside the offset of the current amplifier at the bottom of the column. However, all these constraints are generally incompatible with advanced technologies in which the supply voltage is relatively low, for example 45-nanometer technologies in which the supply voltage is 1.1 volts. According to one embodiment, there is provided a memory device of the type SRAM five transistors without access port to overcome the use of a current amplifier at the bottom of the column. It is also proposed, in particular, a dynamic current memory device, so a lower consumption. It is also proposed, in particular, to perform the write and read operations in the cells by means of a current, which does not require the charges and discharges of the bit lines in the write operations. According to one aspect, there is provided a memory device of the SRAM type, comprising a memory plane having at least one SRAM-type memory cell column comprising two cross-coupled inverters and a single access transistor, each memory being connected between two bit lines without an access transistor.

Selon une caractéristique générale de cet aspect, chaque colonne du plan-mémoire comporte en outre une cellule supplémentaire, de structure identique aux cellules-mémoires de ladite colonne, cette cellule supplémentaire étant connectée également aux deux lignes de bits ; les deux lignes de bits sont destinées à être alimentées par une tension d'alimentation et le dispositif de mémoire comprend en outre des moyens d'accès supplémentaires, par exemple des transistors NMOS, commandables, connectés à ladite cellule supplémentaire et possédant un premier état pour interdire un accès à ladite cellule supplémentaire et un deuxième état pour permettre un accès à ladite cellule supplémentaire de façon à y stocker ou à en extraire une donnée. Le dispositif comprend également des premiers moyens de commande configurés pour placer les moyens d'accès supplémentaires dans leur premier ou dans leur deuxième état ; Le dispositif de mémoire comprend également des deuxièmes moyens de commande configurés pour, lorsque les moyens d'accès supplémentaires sont dans leur premier état, délivrer un premier signal de commande sur la grille du transistor d'accès de l'une des cellules- mémoires de la colonne et un deuxième signal de commande sur la grille du transistor d'accès de la cellule supplémentaire de façon à placer ladite cellule-mémoire dans un mode de lecture et la cellule-mémoire supplémentaire dans un mode d'écriture, ou inversement. Ainsi, une cellule supplémentaire, située par exemple en bas de la colonne, identique aux cellules de la colonne, permet d'effectuer à la fois les opérations de lecture et les opérations d'écriture dans une cellule-mémoire sélectionnée de la colonne. Son rôle est simplement inversé entre une opération de lecture et une opération d'écriture. Plus précisément, lorsqu'une cellule devant être lue, est placée dans son mode de lecture, la cellule supplémentaire est placée dans son mode d'écriture, ce qui va permettre de recopier l'opposé (le complémentaire logique) de la donnée contenue dans la cellule à lire. Par contre, lorsqu'on doit écrire une donnée dans une cellule de la colonne, la cellule supplémentaire est alors placée dans la configuration de lecture, ce qui va permettre de recopier l'opposé de la donnée qu'elle contient dans la cellule de la colonne devant être écrite. Ceci permet donc de s'affranchir d'un amplificateur de courant et donc des problèmes d' offset qui y sont liés. On a une consommation dynamique faible puisque les courants de lecture de la cellule de la colonne devant être lue sont utilisés pour l'écriture dans la cellule supplémentaire. Enfin, il n'est nul besoin d'effectuer des charges et des décharges des lignes de bits à chaque opération d'écriture dans une cellule de la colonne. Selon un mode de réalisation, les deuxièmes moyens de commande sont configurés pour délivrer sur la grille du transistor d'accès de la cellule-mémoire, une première tension en tant que premier signal de commande de façon à rendre passant ce transistor d'accès ; les deuxièmes moyens de commande sont également configurés pour délivrer sur la grille du transistor d'accès de la cellule-mémoire supplémentaire, une deuxième tension en tant que deuxième signal de commande de façon à rendre passant ce transistor d'accès ; la première tension est inférieure à la deuxième tension de façon à placer la cellule-mémoire dans le mode de lecture et la cellule-mémoire supplémentaire dans le mode d'écriture ; a contrario, la première tension est supérieure à la deuxième tension, de façon à placer la cellule-mémoire dans le mode écriture et la cellule-mémoire supplémentaire dans le mode lecture. According to a general characteristic of this aspect, each column of the memory plane further comprises an additional cell, of identical structure to the memory cells of said column, this additional cell being also connected to the two bit lines; the two bit lines are intended to be powered by a supply voltage and the memory device further comprises additional access means, for example NMOS transistors, controllable, connected to said additional cell and having a first state for prohibit access to said additional cell and a second state to allow access to said additional cell so as to store or retrieve data. The device also comprises first control means configured to place the additional access means in their first or in their second state; The memory device also comprises second control means configured for, when the additional access means are in their first state, delivering a first control signal to the gate of the access transistor of one of the memory cells of the column and a second control signal on the gate of the access transistor of the additional cell so as to place said memory cell in a read mode and the additional memory cell in a write mode, or vice versa. Thus, an additional cell located for example at the bottom of the column, identical to the cells of the column, makes it possible to perform both the read operations and the write operations in a selected memory cell of the column. Its role is simply reversed between a read operation and a write operation. More precisely, when a cell to be read, is placed in its reading mode, the additional cell is placed in its writing mode, which will make it possible to copy the opposite (the logical complement) of the data contained in the cell to read. On the other hand, when one has to write data in a cell of the column, the additional cell is then placed in the reading configuration, which will make it possible to copy the opposite of the data it contains in the cell of the column. column to be written. This makes it possible to overcome a current amplifier and thus offset problems related thereto. There is a low dynamic consumption since the read currents of the cell of the column to be read are used for writing in the additional cell. Finally, there is no need to perform bit line loading and unloading at each write operation in a cell of the column. According to one embodiment, the second control means are configured to deliver on the gate of the access transistor of the memory cell, a first voltage as the first control signal so as to turn this access transistor; the second control means are also configured to output a second voltage as a second control signal to the gate of the access transistor of the additional memory cell so as to turn on this access transistor; the first voltage is lower than the second voltage so as to place the memory cell in the read mode and the additional memory cell in the write mode; conversely, the first voltage is greater than the second voltage, so as to place the memory cell in the write mode and the additional memory cell in the read mode.

Cette différence entre les deux tensions appliquées sur les transistors d'accès de la cellule-mémoire de la colonne sélectionnée et de la cellule-mémoire supplémentaire, permet efficacement de placer l'une des cellules en mode de lecture et l'autre en mode d'écriture ou inversement, et d'éviter ainsi une incertitude dans le comportement de chacune des deux cellules. De façon à corriger les dispersions liées à la technologie, notamment vis-à-vis de transistors PMOS plus rapides ou moins rapides que des transistors NMOS, et également de façon à pouvoir délivrer de façon simple les première et deuxième tensions de commande des transistors d'accès, il est avantageusement prévu que les deuxièmes moyens de commande comprennent des modules de commande respectivement associés aux cellules-mémoires de la colonne et à la cellule-mémoire supplémentaire ; chaque module de commande comporte par exemple une porte connectée entre la tension d'alimentation et la masse, la sortie de cette porte étant connectée à la grille du transistor d'accès de la cellule-mémoire correspondante, et les grilles des deux transistors de la porte étant respectivement commandées par un signal logique de lecture et un signal d'écriture ; le module de commande comporte également une pompe de charge connectée entre la tension d'alimentation et la grille du transistor d'accès par l'intermédiaire d'un transistor auxiliaire commandé sur sa grille par le signal logique d'écriture. Un tel mode de réalisation permet ainsi de façon très simple, de délivrer sur la grille du transistor d'accès d'une cellule-mémoire, une tension inférieure à la tension d'alimentation lorsque cette cellule doit être en mode de lecture, et de délivrer sur la grille de ce transistor d'accès une tension supérieure à la tension d'alimentation lorsque cette cellule doit être en mode d'écriture. This difference between the two voltages applied to the access transistors of the memory cell of the selected column and of the additional memory cell makes it possible effectively to place one of the cells in read mode and the other in the first mode. write or vice versa, and thus avoid uncertainty in the behavior of each of the two cells. In order to correct the dispersions related to the technology, in particular vis-à-vis PMOS transistors faster or slower than NMOS transistors, and also to be able to deliver in a simple way the first and second control voltages of the transistors access, it is advantageously provided that the second control means comprise control modules respectively associated with the memory cells of the column and the additional memory cell; each control module comprises for example a gate connected between the supply voltage and the ground, the output of this gate being connected to the gate of the access transistor of the corresponding memory cell, and the gates of the two transistors of the gate being respectively controlled by a read logic signal and a write signal; the control module also comprises a charge pump connected between the supply voltage and the gate of the access transistor via an auxiliary transistor controlled on its gate by the logic write signal. Such an embodiment thus makes it possible, in a very simple way, to deliver to the gate of the access transistor of a memory cell, a voltage lower than the supply voltage when this cell must be in reading mode, and of supplying on the gate of this access transistor a voltage greater than the supply voltage when this cell must be in write mode.

Par ailleurs, de façon à encore améliorer le fonctionnement du dispositif de mémoire, et d'avoir un différentiel suffisamment grand pour permettre le changement d'état d'une cellule durant une opération d'écriture, il est avantageusement prévu que chaque inverseur d'une cellule-mémoire, et que chaque inverseur de la cellule-mémoire supplémentaire, soit connectés entre l'une des deux lignes de bits et une autre ligne de bits destinée à être connectée à la masse. Selon un autre aspect, il est proposé un procédé de lecture d'une donnée contenue dans une cellule-mémoire d'un dispositif de mémoire tel que défini ci-avant, le procédé comprenant une connexion des deux lignes de bits à ladite tension d'alimentation, le placement des moyens d'accès supplémentaires de la cellule-mémoire supplémentaire dans leur premier état, le placement de la cellule-mémoire dans son mode lecture, le placement de la cellule-mémoire supplémentaire dans son mode écriture, l'opposée de la donnée contenue dans ladite cellule-mémoire étant écrite dans la cellule-mémoire supplémentaire, le placement des moyens d'accès supplémentaires dans leur deuxième état, et l'extraction de ladite donnée opposée de ladite cellule-mémoire supplémentaire. Moreover, in order to further improve the operation of the memory device, and to have a differential large enough to allow the change of state of a cell during a write operation, it is advantageously provided that each inverter of a memory cell, and that each inverter of the additional memory cell, is connected between one of the two bit lines and another bit line intended to be connected to ground. According to another aspect, there is provided a method of reading a data contained in a memory cell of a memory device as defined above, the method comprising a connection of the two bit lines to said voltage of power supply, the placement of additional access means of the additional memory cell in their first state, the placement of the memory cell in its read mode, the placement of the additional memory cell in its write mode, the opposite of the data contained in said memory cell being written in the additional memory cell, placing the additional access means in their second state, and extracting said opposite data from said additional memory cell.

Selon un autre aspect, il est proposé un procédé d'écriture d'une donnée dans une cellule-mémoire d'un dispositif tel que défini ci-avant, comprenant une connexion des deux lignes de bits à ladite tension d'alimentation, le placement des moyens d'accès supplémentaires de la cellule-mémoire supplémentaire dans leur deuxième état, le stockage de ladite donnée dans la cellule-mémoire supplémentaire, le placement des moyens d'accès supplémentaires dans leur premier état, le placement de la cellule-mémoire dans son mode écriture, le placement de la cellule-mémoire supplémentaire dans son mode lecture, l'opposée de la donnée contenue dans ladite cellule- mémoire supplémentaire étant écrite dans la cellule-mémoire. D'autres avantages et caractéristiques de l'invention apparaîtront à l'examen de la description détaillée de modes de réalisation et de mise en oeuvre nullement limitatifs, et des dessins annexés, sur lesquels : - les figures 1 et 2, déjà décrites, illustrent schématiquement une cellule-mémoire SRAM à cinq transistors sans port d'accès selon l'art antérieur ; - la figure 3 illustre schématiquement un mode de réalisation d'un dispositif de mémoire selon l'invention ; - les figures 4 et 5 illustrent respectivement les principales étapes de mode de mise en oeuvre d'une lecture et d'une écriture d'une donnée dans une cellule-mémoire d'une colonne du plan-mémoire d'un dispositif de mémoire selon l'invention ; et - la figure 6 illustre schématiquement mais plus en détails, une partie de moyens de commande d'un dispositif de mémoire selon l'invention. 30 Sur la figure 3, un dispositif de mémoire DM comporte un plan-mémoire PM comportant une matrice de cellules-mémoires CEL du type SRAM à cinq transistors sans port d'accès telle que celle illustrée par exemple sur la figure 2. Le plan-mémoire PM comporte par conséquent des lignes de cellules-mémoires et des colonnes COL de cellules-mémoires CEL. Seule la colonne COLT est illustrée en détails, la structure des autres colonnes COLj, COLk étant identique à celle de la colonne COLi. According to another aspect, there is provided a method of writing data in a memory cell of a device as defined above, comprising a connection of the two bit lines to said supply voltage, the placement additional access means of the additional memory cell in their second state, the storage of said data in the additional memory cell, the placement of the additional access means in their first state, the placement of the memory cell in its writing mode, the placement of the additional memory cell in its read mode, the opposite of the data contained in said additional memory cell being written in the memory cell. Other advantages and characteristics of the invention will become apparent on examining the detailed description of embodiments and implementation in no way limiting, and the accompanying drawings, in which: FIGS. 1 and 2, already described, illustrate schematically a memory cell SRAM five transistors without access port according to the prior art; FIG. 3 schematically illustrates an embodiment of a memory device according to the invention; FIGS. 4 and 5 respectively illustrate the main steps of implementation of a reading and writing of a data item in a memory cell of a memory plane column of a memory device according to the invention; and FIG. 6 schematically illustrates, but in more detail, a part of control means of a memory device according to the invention. In FIG. 3, a memory device DM comprises a memory plane PM comprising a matrix of memory cells CEL of the SRAM type with five transistors without an access port such as that illustrated for example in FIG. PM memory therefore comprises memory cell lines and COL columns of memory cells CEL. Only the column COLT is illustrated in detail, the structure of the other columns COLj, COLk being identical to that of column COLi.

Comme illustré sur la figure 3, chaque cellule-mémoire CEL de la colonne COLT est connectée aux deux lignes de bits BLTP et BLFP. Ces deux lignes de bits sont destinées à être connectées à la tension d'alimentation Vdd par l'intermédiaire de moyens MPCH comportant, dans cet exemple, deux transistors PMOS dont les grilles sont commandées par un signal logique VB. Par ailleurs, les sources des transistors M2 et M4 de chacune des cellules CEL sont connectées respectivement à deux autres lignes de bits BLTN et BLFN destinées à être connectées à la masse par l'intermédiaire également des moyens MPCH, comportant en outre, à cet égard, deux transistors NMOS commandés par le signal logique VB. Outre le groupe GCEL de cellules-mémoires CEL de la colonne, cette colonne comporte également une cellule-mémoire supplémentaire CLS de structure identique à une cellule-mémoire CEL du groupe GCEL. Cette cellule-mémoire supplémentaire CLS est donc également une cellule-mémoire statique à cinq transistors sans port d'accès entre les lignes de bits . En d'autres termes, comme pour les autres cellules-mémoires, les sources des transistors PMOS M10 et M30 de la cellule supplémentaire CLS sont directement connectées aux deux lignes de bits BLTP et BLFP sans port d'accès. Par ailleurs, les sources des transistors NMOS M20 et M40 de la cellule supplémentaire CLS sont également connectées dans cet exemple aux deux autres lignes de bits BLTN BLFN. As illustrated in FIG. 3, each CEL memory cell of column COLT is connected to the two bit lines BLTP and BLFP. These two bit lines are intended to be connected to the supply voltage Vdd via MPCH means comprising, in this example, two PMOS transistors whose gates are controlled by a logic signal VB. Furthermore, the sources of the transistors M2 and M4 of each of the CEL cells are respectively connected to two other lines of bits BLTN and BLFN intended to be connected to the mass also via the MPCH means, furthermore including, in this regard two NMOS transistors controlled by the logic signal VB. In addition to the GCEL group of CEL memory cells of the column, this column also includes an additional CLS memory cell of identical structure to a CEL memory cell of the GCEL group. This additional memory cell CLS is thus also a static memory cell with five transistors without an access port between the bit lines. In other words, as for the other memory cells, the sources of the PMOS transistors M10 and M30 of the additional cell CLS are directly connected to the two lines of BLTP bits and BLFP without port of access. Moreover, the sources of the NMOS transistors M20 and M40 of the additional cell CLS are also connected in this example to the other two BLTN BLFN bit lines.

I1 est par ailleurs prévu des moyens d'accès supplémentaires PGT, PGN connectés aux deux noeuds de sortie T et F des deux inverseurs de la cellule supplémentaire CLS. Ces moyens d'accès supplémentaires PGT et PGN comportent ici deux transistors NMOS respectivement commandés sur leur grille par un signal de commande SC1. Ce signal de commande SC1, selon sa valeur, va permettre de rendre passants ou bloqués les transistors PGT et PGN de façon à pouvoir accéder à la cellule supplémentaire CLS pour soit y stocker une donnée, soit en extraire une donnée. Le signal de commande SC1 est délivré par des premiers moyens de commande MC1 pouvant être réalisés de façon classique et connue en soi, par exemple par des circuits logiques. Le transistor d'accès AXS de chaque cellule CEL du groupe de cellules-mémoires GCEL est commandé sur la grille par un deuxième signal de commande RWEC qui est en fait une tension délivrée sur la grille de ce transistor d'accès AXS. De même, la grille du transistor AXS de la cellule supplémentaire CLS reçoit en tant que deuxième signal de commande une tension RWES. On se réfère maintenant plus particulièrement à la figure 4, pour décrire un mode de mise en oeuvre d'un procédé de lecture d'une donnée contenue dans une cellule-mémoire CEL de la colonne COLi. On suppose dans l'exemple décrit ici et illustré sur la figure 3, qu'un 1 logique est stocké dans la cellule CEL, caractérisé par exemple par la présence d'un 1 sur le noeud T et d'un 0 sur le noeud F. La cellule CLS est isolée de l'extérieur par les transistors PGT et PGN, qui sont bloqués (étape 40, figure 4). Les lignes de bits BLTP et NLFP sont connectées à la tension Vdd par l'intermédiaire des moyens MPCH (signal logique VB=l) tandis que les autres lignes de bits BLTN et BLFN sont connectées à la masse par l'intermédiaire des moyens MPCH (signal logique VB=1). La tension RWEC, qui est ici une fraction de la tension d'alimentation Vdd (par exemple une fraction comprise entre 70 et 85% de cette tension d'alimentation), est appliquée sur la grille du transistor AXS de la cellule CEL (étape 41). Parallèlement, une tension RWES égale ou de préférence supérieure à la tension Vdd est appliquée sur la grille du transistor AXS de la cellule CLS (étape 42). I1 en résulte donc que la cellule CLS est moins stable que la cellule CEL. En d'autres termes, la cellule CLS est dans un mode d'écriture tandis que la cellule CEL est dans un mode de lecture. De ce fait, comme illustré sur la figure 3, le sens du courant circulant dans le transistor AXS (qui est passant) de la cellule CEL est opposé au sens du courant traversant le transistor AXS de la cellule CLS. Comme dans l'exemple illustré le noeud T de la cellule CEL est le noeud haut par rapport au noeud F qui est le noeud bas, un courant de lecture Il circule dans la cellule CEL comme illustré sur la figure 3. Additional means PGT, PGN are provided connected to the two output nodes T and F of the two inverters of the additional cell CLS. These additional access means PGT and PGN here comprise two NMOS transistors respectively controlled on their gate by a control signal SC1. This control signal SC1, according to its value, will make it possible to pass or block the transistors PGT and PGN so as to be able to access the additional cell CLS to either store a datum or extract a datum. The control signal SC1 is delivered by first control means MC1 that can be produced in a conventional manner and known per se, for example by logic circuits. The access transistor AXS of each cell CEL of the memory cell group GCEL is controlled on the gate by a second control signal RWEC which is in fact a voltage delivered on the gate of this access transistor AXS. Similarly, the gate of the transistor AXS of the additional cell CLS receives as a second control signal a voltage RWES. Referring now more particularly to Figure 4, to describe an embodiment of a method of reading a data contained in a CEL memory cell COLi column. In the example described here and illustrated in FIG. 3, it is assumed that a logical 1 is stored in the CEL cell, characterized for example by the presence of a 1 on the node T and a 0 on the node F The CLS cell is isolated from the outside by the PGT and PGN transistors, which are blocked (step 40, FIG. The bit lines BLTP and NLFP are connected to the voltage Vdd via the MPCH means (logic signal VB = 1) while the other bit lines BLTN and BLFN are connected to the ground via the MPCH means ( logic signal VB = 1). The voltage RWEC, which is here a fraction of the supply voltage Vdd (for example a fraction between 70 and 85% of this supply voltage), is applied to the gate of the AXS transistor of the CEL cell (step 41 ). In parallel, a voltage RWES equal to or preferably greater than the voltage Vdd is applied to the gate of the transistor AXS of the CLS cell (step 42). As a result, the CLS cell is less stable than the CEL cell. In other words, the CLS cell is in a write mode while the CEL cell is in a read mode. As a result, as illustrated in FIG. 3, the direction of the current flowing in the transistor AXS (which is conducting) of the cell CEL is opposite to the direction of the current flowing through the transistor AXS of the cell CLS. As in the example illustrated, the node T of the cell CEL is the node high with respect to the node F which is the low node, a reading current Il flows in the cell CEL as illustrated in FIG.

De par cette opération de lecture, il se crée donc un différentiel de courant dans les lignes de bits BLTP et BLFP. La cellule CLS, moins stable que la cellule CEL, va par conséquent induire un courant de sens opposé qui va circuler dans les lignes de bits BLTN et BLFN de façon à compenser cette différence de courant. Et, le courant I2 circulant dans la cellule CLS va permettre de recopier dans la cellule CLS, l'opposée de la donnée qui était stockée dans la cellule CEL (étape 43). En d'autres termes, le noeud haut de la cellule CLS est cette fois-ci le noeud F tandis que le noeud bas est le noeud T. On délivre ensuite sur la grille des transistors PGT et PGN le signal SC1 de façon à rendre ces transistors passants (étape 44) et on extrait de la cellule CLS la donnée opposée qui est stockée. Cette donnée opposée est par exemple stockée dans des moyens classiques et connus en soi, par exemple une mémoire-verrou ( latch , en langue anglaise). Pour procéder à l'écriture d'une donnée dans la cellule CEL de la colonne COLi, le rôle des cellules CEL et CLS est inversé. Ceci est illustré en particulier sur la figure 5. As a result of this read operation, a current differential is created in the bit lines BLTP and BLFP. The CLS cell, less stable than the CEL cell, will therefore induce a current of opposite direction that will flow in the bit lines BLTN and BLFN so as to compensate for this current difference. And, the current I2 flowing in the CLS cell will allow to copy in the CLS cell, the opposite of the data that was stored in the CEL cell (step 43). In other words, the top node of the CLS cell is this time the node F while the bottom node is the node T. Then the PGT and PGN transistors are supplied on the gate with the signal SC1 so as to make these passing transistors (step 44) and extracting from the CLS cell the opposite data which is stored. This opposite datum is for example stored in conventional means and known per se, for example a latch-memory (latch, in English). To write a data in the CEL cell of the COLi column, the role of the CEL and CLS cells is reversed. This is illustrated in particular in FIG.

On procède tout d'abord à un stockage de la donnée destinée à être écrite dans la cellule CEL, dans la cellule CLS. A cet égard, on rend passants les transistors PGT et PGN par l'intermédiaire des signaux de commande SC1, et l'on stocke la donnée dans la cellule CLS. On suppose par exemple que l'on va stocker, comme illustré sur la figure 3, un 1 au noeud F et un 0 au noeud T. Puis, on isole la cellule CLS de l'extérieur en ouvrant (bloquant) les transistors PGT et PGN. Ensuite, les lignes de bits BLTP et BLFP étant alimentées par la tension Vdd et les lignes de bits BLTN et BLFN portées à la masse, on applique sur la grille du transistor AXS de la cellule CLS une tension RWES de façon à placer cette cellule CLS dans son mode lecture, et on applique une tension RWEC sur la grille du transistor AXS de la cellule CEL de façon à la placer dans son mode d'écriture. Firstly, the data intended to be written in the CEL cell is stored in the CLS cell. In this regard, the transistors PGT and PGN are passed through the control signals SC1, and the data is stored in the CLS cell. For example, it is assumed that one will store, as illustrated in FIG. 3, a 1 at the node F and a 0 at the node T. Then, the CLS cell is isolated from the outside by opening (blocking) the PGT transistors and PGN. Then, since the bit lines BLTP and BLFP are powered by the voltage Vdd and the grounded bit lines BLTN and BLFN, a voltage RWES is applied to the gate of the AXS transistor of the CLS cell in order to place this CLS cell. in its read mode, and a RWEC voltage is applied to the gate of the AXS transistor of the CEL cell so as to place it in its write mode.

Dans cette configuration, la tension RWES est cette fois-ci inférieure à la tension RWEC. La tension RWES est ainsi une fraction de la tension Vdd tandis que la tension RWEC est cette fois-ci égale ou de préférence supérieure à la tension Vdd. C'est donc cette fois-ci la cellule CEL qui est la moins stable. In this configuration, the voltage RWES is this time lower than the voltage RWEC. The voltage RWES is thus a fraction of the voltage Vdd while the voltage RWEC is this time equal to or preferably greater than the voltage Vdd. This time, therefore, the CEL cell is the least stable.

Le mécanisme décrit ci-avant pour l'écriture dans la cellule CLS est cette fois-ci celui utilisé pour l'écriture dans la cellule CEL. A la fin de l'opération, la donnée opposée à celle contenue dans la cellule CLS est recopiée (écrite) dans la cellule CEL (étape 54). The mechanism described above for writing in the CLS cell is this time the one used for writing in the CEL cell. At the end of the operation, the data opposite to that contained in the CLS cell is copied (written) into the CEL cell (step 54).

Le fait que, de façon interne, il y ait un changement de valeur logique entre la donnée recopiée d'une cellule CEL dans la cellule supplémentaire CLS et inversement est sans importance. En effet, au final, on retrouvera la bonne donnée. En effet, si l'on veut écrire un 1 dans la cellule CEL, on va stocker un 1 dans la cellule CLS. The fact that, internally, there is a logical change in value between the copied data of a CEL cell in the additional cell CLS and vice versa is irrelevant. In fact, in the end, we will find the right data. Indeed, if we want to write a 1 in the CEL cell, we will store a 1 in the CLS cell.

Puis, un 0 sera recopié dans la cellule CEL. Mais, lorsqu'on lira la cellule CEL, on recopiera en fait un 1 dans la cellule CLS qui sera ensuite extrait de cette cellule CLS par les moyens d'accès supplémentaires PGT et PGN. Et on retrouve bien au final la valeur 1 que l'on avait souhaité stocker. Then, a 0 will be copied into the CEL cell. However, when the cell CEL is read, a cell 1 will in fact be copied to the cell CLS which will then be extracted from this cell CLS by the additional access means PGT and PGN. And we find in the end the value 1 that we wanted to store.

On voit donc que les opérations de lecture et d'écriture sont effectuées avec le même circuit, à savoir la cellule supplémentaire CLS, sans qu'il soit nécessaire d'utiliser un amplificateur de courant, ce qui résout le problème des offsets. It can thus be seen that the read and write operations are performed with the same circuit, ie the additional cell CLS, without the need to use a current amplifier, which solves the problem of offsets.

Par ailleurs, le courant de lecture d'une cellule est utilisé pour écrire dans la cellule supplémentaire et inversement, ce qui conduit à une consommation dynamique plus faible. Enfin, il n'y a aucune charge ni décharge des lignes de bits à chaque opération d'écriture. Dans l'exemple qui vient d'être décrit, on a utilisé préférentiellement deux autres lignes de bits BLTN et BLFN qui sont tirées à la masse. Cela étant, il serait possible de ne pas utiliser ces lignes de bits supplémentaires et de connecter simplement les transistors M2 et M4 de chacune des cellules CEL ainsi que les transistors M20 et M40 de la cellule supplémentaire à la masse. On the other hand, the read current of a cell is used to write to the additional cell and vice versa, which leads to a lower dynamic consumption. Finally, there is no charge or discharge of bit lines at each write operation. In the example which has just been described, two other bit lines BLTN and BLFN which are grounded have been used preferentially. However, it would be possible not to use these additional bit lines and simply connect the transistors M2 and M4 of each of the CEL cells and the transistors M20 and M40 of the additional cell to ground.

Néanmoins, l'utilisation des lignes de bits supplémentaires BLTN et BLFN permet de favoriser davantage le changement d'état de la cellule CLS ou de la cellule CEL dans le mode d'écriture. On a vu ci-avant qu'il était préférable d'appliquer une tension inférieure à la tension d'alimentation Vdd, par exemple une fraction de cette tension d'alimentation, sur la grille du transistor AXS d'une cellule lorsque l'on souhaitait que cette cellule soit en mode de lecture, tandis qu'il était préférable d'appliquer sur la grille du transistor AXS de cette cellule une tension plus élevée, par exemple une tension égale ou supérieure à la tension d'alimentation Vdd, lorsque l'on souhaite que cette cellule soit en mode d'écriture. Dans ces conditions, on peut avantageusement utiliser pour chacune des cellules CEL ou CLS, un module de commande MDCi tel que celui illustré sur la figure 6. L'ensemble des modules MDCi forme les deuxièmes moyens de commande MC2. Nevertheless, the use of additional bit lines BLTN and BLFN makes it possible to further promote the change of state of the CLS cell or of the CEL cell in the write mode. It has been seen above that it was preferable to apply a voltage lower than the supply voltage Vdd, for example a fraction of this supply voltage, to the gate of the transistor AXS of a cell when one wanted this cell to be in reading mode, while it was preferable to apply on the gate of the transistor AXS of this cell a higher voltage, for example a voltage equal to or greater than the supply voltage Vdd, when the it is desired that this cell be in write mode. Under these conditions, it is advantageous to use for each of the CEL or CLS cells, a control module MDCi such as that illustrated in FIG. 6. The set of modules MDCi forms the second control means MC2.

Ce module de commande MDCi comporte une porte connectée entre la tension d'alimentation Vdd et la masse, et comportant un transistor PMOS T7 et un transistor NMOS T8. La sortie de cette porte est reliée à la grille du transistor AXS de la cellule correspondante. This control module MDCi comprises a gate connected between the supply voltage Vdd and the ground, and comprising a PMOS transistor T7 and an NMOS transistor T8. The output of this gate is connected to the gate of the AXS transistor of the corresponding cell.

La grille du transistor PMOS T7 est commandée par un signal logique de lecture R tandis que la grille du transistor NMOS T8 est commandée par un signal logique d'écriture W . Le module MDCi comporte par ailleurs, dans cet exemple, un circuit de pompe de charge CP, de structure classique et connue en soi, connecté entre la tension d'alimentation Vdd et la grille du transistor d'accès AXS de la cellule correspondante par l'intermédiaire d'un transistor PMOS T9 commandé sur sa grille par le signal logique W . Ainsi, lorsque l'on veut lire la cellule, on affecte la valeur logique 1 au signal R et la valeur logique 0 au signal W. Les transistors T7 et T8 sont par conséquent passants, le transistor T9 est bloqué, et il en résulte donc que la tension RWEC ou RWES est inférieure à la tension Vdd. Lorsqu'on souhaite écrire dans la cellule, on affecte la valeur logique 1 au signal W et la valeur logique 0 au signal R, ce qui rend passant le transistor T9, bloqués les transistors T7 et T8, et fournit une tension RWEC ou RWES supérieure à la tension Vdd. Par ailleurs, la porte T7, T8 permet de compenser les dispersions technologiques liées à la fabrication des transistors AXS. The gate of the PMOS transistor T7 is controlled by a read logic signal R while the gate of the NMOS transistor T8 is controlled by a write logic signal W. The module MDCi further comprises, in this example, a charge pump circuit CP, of conventional structure and known per se, connected between the supply voltage Vdd and the gate of the access transistor AXS of the corresponding cell by the intermediate of a PMOS transistor T9 controlled on its gate by the logic signal W. Thus, when we want to read the cell, we assign the logic value 1 to the signal R and the logic value 0 to the signal W. The transistors T7 and T8 are therefore on, the transistor T9 is blocked, and therefore results that the RWEC or RWES voltage is lower than the voltage Vdd. When it is desired to write to the cell, the logical value 1 is assigned to the signal W and the logic value 0 to the signal R, which turns on the transistor T9, blocks the transistors T7 and T8, and provides a higher RWEC or RWES voltage. at the voltage Vdd. Furthermore, the gate T7, T8 makes it possible to compensate for the technological dispersions related to the manufacture of the AXS transistors.

En effet, il est bien connu que certains transistors peuvent être plus rapides que d'autres. Et la porte permet ainsi de compenser le caractère rapide ou lent de ces transistors en mode lecture. Plus précisément si l'on est dans une configuration technologique dans laquelle les transistors NMOS sont rapides et les transistors PMOS lents, la tension RWEC ou RWES délivrée en sortie de la porte va chuter plus fortement que si les transistors NMOS et PMOS présentaient la même rapidité car le transistor T8 est plus rapide que le transistor T7. Mais comme le transistor AXS est un transistor NMOS, donc rapide, cette rapidité est compensée par la chute de tension précitée. A contrario, si l'on est dans une configuration technologique dans laquelle les transistors NMOS sont lents et les transistors PMOS rapides, la tension RWEC ou RWES délivrée en sortie de la porte va chuter moins fortement que si les transistors NMOS et PMOS présentaient la même rapidité car le transistor T7 est plus rapide que le transistor T8. Mais comme le transistor AXS est un transistor NMOS, donc lent, cette lenteur est compensée par la chute de tension précitée. Indeed, it is well known that some transistors can be faster than others. And the gate thus makes it possible to compensate for the fast or slow character of these transistors in reading mode. More precisely if one is in a technological configuration in which the NMOS transistors are fast and the PMOS transistors are slow, the RWEC or RWES voltage delivered at the output of the gate will fall more sharply than if the NMOS and PMOS transistors had the same speed. because transistor T8 is faster than transistor T7. But as the AXS transistor is a NMOS transistor, so fast, this speed is offset by the aforementioned voltage drop. On the other hand, if one is in a technological configuration in which the NMOS transistors are slow and the PMOS fast transistors, the RWEC or RWES voltage delivered at the output of the gate will fall less sharply than if the NMOS and PMOS transistors presented the same speed because transistor T7 is faster than transistor T8. But as the AXS transistor is a NMOS transistor, so slow, this slowness is compensated by the aforementioned voltage drop.

Claims (7)

REVENDICATIONS1. Dispositif de mémoire du type SRAM, comprenant un plan mémoire (PM) possédant au moins une colonne (COL) de cellules-mémoire (CEL) du type SRAM comportant deux inverseurs couplés de façon croisée et un seul transistor d'accès, chaque cellule-mémoire (CEL) étant connectée entre deux lignes de bits (BLTP, BLFP) sans transistors d'accès, caractérisé en ce que chaque colonne du plan-mémoire comporte en outre une cellule supplémentaire (CLS), de structure identique aux cellules-mémoires (CEL) de ladite colonne, connectée aux deux lignes de bits, en ce que les deux lignes de bits (BLTP, BLFP) sont destinées à être alimentées par une tension d'alimentation (Vdd), et en ce que le dispositif comprend en outre des moyens d'accès supplémentaires (PGT, PGN) commandables connectés à ladite cellule supplémentaire (CLS) et possédant un premier état pour interdire un accès à ladite cellule supplémentaire et un deuxième état pour permettre un accès à ladite cellule supplémentaire de façon à y stocker ou à en extraire une donnée, des premiers moyens de commande (MC1) configurés pour placer lesdits moyens d'accès supplémentaires dans leur premier ou dans leur deuxième état, et des deuxièmes moyens de commande (MC2) configurés pour, lorsque les moyens d'accès supplémentaires sont dans leur premier état, délivrer un premier signal de commande sur la grille du transistor d'accès de l'une des cellules-mémoire de la colonne et un deuxième signal de commande sur la grille du transistor d'accès de la cellule supplémentaire de façon à placer ladite cellule-mémoire dans un mode de lecture et la cellule-mémoire supplémentaire dans un mode d'écriture, ou inversement. REVENDICATIONS1. An SRAM type memory device comprising a memory array (PM) having at least one SRAM-type memory cell (COL) column (CEL) having two cross-coupled inverters and a single access transistor, each memory (CEL) being connected between two bit lines (BLTP, BLFP) without access transistors, characterized in that each column of the memory array further comprises an additional cell (CLS), of identical structure to the memory cells ( CEL) of said column, connected to the two bit lines, in that the two bit lines (BLTP, BLFP) are intended to be powered by a supply voltage (Vdd), and in that the device further comprises additional controllable access means (PGT, PGN) connected to said supplementary cell (CLS) and having a first state to prohibit access to said additional cell and a second state to allow access to said cell further for storing or retrieving data therefrom, first control means (MC1) configured to place said additional access means in their first or second state, and second control means (MC2) configured to when the additional access means are in their first state, supplying a first control signal on the gate of the access transistor of one of the memory cells of the column and a second control signal on the gate of the transistor accessing the additional cell to place said memory cell in a read mode and the additional memory cell in a write mode, or vice versa. 2. Dispositif selon la revendication 1, dans lequel les deuxièmes moyens de commande (MC2) sont configurés pour délivrer sur la grille du transistor d'accès (AXS) de ladite cellule-mémoire (CEL), une première tension (RWEC) en tant que premier signal de commande de façon à rendre passant ce transistor d'accès, et pour délivrer sur la grille du transistor d'accès (AXS) de ladite cellule-mémoire supplémentaire (CLS), une deuxième tension (RWES) en tant que deuxième signal de commande de façon à rendre passant ce transistor d'accès, la première tension étant inférieure à la deuxième tension de façon à placer la cellule-mémoire dans le mode lecture et la cellule-mémoire supplémentaire dans le mode écriture, et la première tension étant supérieure à la deuxième tension de façon à placer la cellule-mémoire dans le mode écriture et la cellule-mémoire supplémentaire dans le mode lecture. 2. Device according to claim 1, wherein the second control means (MC2) are configured to deliver on the gate of the access transistor (AXS) of said memory cell (CEL), a first voltage (RWEC) as a that first control signal so as to turn this access transistor, and to deliver on the gate of the access transistor (AXS) of said additional memory cell (CLS), a second voltage (RWES) as second control signal so as to turn on this access transistor, the first voltage being lower than the second voltage so as to place the memory cell in the read mode and the additional memory cell in the write mode, and the first voltage being greater than the second voltage so as to place the memory cell in the write mode and the additional memory cell in the read mode. 3. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, dans lequel les deuxièmes moyens de commande (MC2) comprennent des modules de commande (MDCi) respectivement associés aux cellules-mémoire de la colonne et à la cellule-mémoire supplémentaire, chaque module de commande comportant une porte (T7, T8) connectée entre la tension d'alimentation et la masse et comportant un transistor PMOS et un transistor NMOS connectés en série, la sortie de la porte étant connectée à la grille du transistor d'accès (AXS) de la cellule-mémoire correspondante, et les grilles des deux transistors de la porte étant respectivement commandées par un signal logique de lecture (R) et un signal logique d'écriture (W), et une pompe de charge (CP) connectée entre la tension d'alimentation et la grille dudit transistor d'accès par l'intermédiaire d'un transistor auxiliaire (T9) commandé sur sa grille par le signal logique d'écriture (ùW). 3. Device according to claim 1 or 2, wherein the second control means (MC2) comprise control modules (MDCi) respectively associated with the memory cells of the column and the additional memory cell, each control module comprising a gate (T7, T8) connected between the supply voltage and ground and comprising a PMOS transistor and a NMOS transistor connected in series, the output of the gate being connected to the gate of the access transistor (AXS) of the corresponding memory cell, and the gates of the two transistors of the gate are respectively controlled by a read logic signal (R) and a write logic signal (W), and a charge pump (CP) connected between the voltage of d and supplying the gate of said access transistor via an auxiliary transistor (T9) controlled on its gate by the write logic signal (ùW). 4. Dispositif selon l'une des revendications précédentes, dans lequel chaque inverseur d'une cellule-mémoire et de la cellule- mémoire supplémentaire est connecté entre l'une des deux lignes de bit et une autre ligne de bit (BLTN, BLFN) destinée à être connectée à la masse. 4. Device according to one of the preceding claims, wherein each inverter of a memory cell and the additional memory cell is connected between one of the two bit lines and another bit line (BLTN, BLFN). intended to be connected to the ground. 5. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 4, dans lequel le plan mémoire (PM) comporte plusieurs colonnes. 5. Device according to one of claims 1 to 4, wherein the memory plane (PM) comprises several columns. 6. Procédé de lecture d'une donnée contenue dans une cellule-mémoire d'un dispositif selon l'une des revendications 1 à 5, comprenant une connexion des deux lignes de bits à ladite tension d'alimentation, le placement (40) des moyens d'accès supplémentaires de la cellule-mémoire supplémentaire dans leur premier état, le placement (41) de la cellule-mémoire dans son mode lecture, leplacement (42) de la cellule-mémoire supplémentaire dans son mode écriture, l'opposée de la donnée contenue dans ladite cellule-mémoire étant écrite (43) dans la cellule-mémoire supplémentaire, le placement (44) des moyens d'accès supplémentaires dans leur deuxième état, et l'extraction (45) de ladite donnée opposée de ladite cellule-mémoire supplémentaire. 6. A method of reading a data contained in a memory cell of a device according to one of claims 1 to 5, comprising a connection of the two bit lines to said supply voltage, the placement (40) of additional access means of the additional memory cell in their first state, the placement (41) of the memory cell in its read mode, the location (42) of the additional memory cell in its write mode, the opposite of the data contained in said memory cell being written (43) in the additional memory cell, the placement (44) of the additional access means in their second state, and the extraction (45) of said opposite datum of said cell additional memory. 7. Procédé d'écriture d'une donnée dans une cellule-mémoire d'un dispositif selon l'une des revendications 1 à 5, comprenant une connexion des deux lignes de bits à ladite tension d'alimentation, le placement des moyens d'accès supplémentaires de la cellule-mémoire supplémentaire dans leur deuxième état, le stockage (50) de ladite donnée dans la cellule-mémoire supplémentaire, le placement (51) des moyens d'accès supplémentaires dans leur premier état, le placement (CLS) de la cellule-mémoire dans son mode écriture, le placement (53) de la cellule-mémoire supplémentaire dans son mode lecture, l'opposée de la donnée contenue dans ladite cellule-mémoire supplémentaire étant écrite dans la cellule-mémoire. 7. A method of writing data in a memory cell of a device according to one of claims 1 to 5, comprising a connection of the two bit lines to said supply voltage, the placement of the means of additional accesses of the additional memory cell in their second state, the storage (50) of said data in the additional memory cell, the placement (51) of the additional access means in their first state, the placement (CLS) of the memory cell in its write mode, the placement (53) of the additional memory cell in its read mode, the opposite of the data contained in said additional memory cell being written in the memory cell.
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