FR2937798A1 - Substrat verrier avec electrode notamment destine a un dispositif a diode electroluminescente organique - Google Patents
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Abstract
Substrat verrier (1) comportant une première face (10) et une seconde face opposée (11), et pourvu sur sa seconde face d'une électrode (2) qui est formée d'au moins une couche électriquement conductrice, caractérisé en ce qu'il présente au niveau de la totalité de sa seconde face et selon une épaisseur e s'étendant vers l'intérieur du substrat en direction de la première face (10), une variation de l'indice de réfraction du verre obtenu par un traitement d'échange ionique, l'indice de réfraction en surface étant supérieur à celui du verre situé en dehors de l'épaisseur e.
Description
i SUBSTRAT VERRIER AVEC ELECTRODE NOTAMMENT DESTINE A UN DISPOSITIF A DIODE ELECTROLUMINESCENTE ORGANIQUE
L'invention concerne un substrat verrier pourvu sur l'une de ses faces d'une électrode.
L'invention sera plus particulièrement décrite pour une structure servant de support à un dispositif à diode électroluminescente organique, dit OLED pour Organic Light Emitting Diodes en anglais. i0 L'OLED comporte un matériau ou un empilement de matériaux électroluminescents organiques, et est encadré par deux électrodes, l'une des électrodes l'anode, étant constituée par celle associée au substrat verrier et l'autre électrode, la cathode, étant agencée sur les matériaux 15 organiques à l'opposé de l'anode.
L'OLED est un dispositif qui émet de la lumière par électroluminescence en utilisant l'énergie de recombinaison de trous injectés depuis l'anode et d'électrons injectés depuis la cathode. Dans le cas de son utilisation dans 20 un dispositif émissif dont l'émission ne se fait que d'un seul côté, la cathode n'est alors pas transparente, et les photons émis traversent par contre l'anode transparente et le substrat verrier support de LOLED pour fournir de la lumière en dehors du dispositif.
25 Une OLED trouve généralement son application dans un écran de visualisation ou plus récemment dans un dispositif d'éclairage.
Une OLED présente une faible efficacité d'extraction de lumière : le rapport entre la lumière qui sort effectivement du substrat verrier et celle émise par les matériaux électroluminescents est relativement faible, de l'ordre de 0,25.
Ce phénomène, s'explique d'une part, par le fait qu'une certaine quantité de photons reste emprisonnée dans des modes guidés entre la cathode et l'anode, et d'autre part, par la réflexion de la lumière au sein du substrat verrier du fait de la différence d'indice entre le verre du substrat (n=1,5) et l'air extérieur au dispositif (n=1).
io Il est donc recherché des solutions pour améliorer l'efficacité d'une OLED, à savoir augmenter le gain en extraction tout en fournissant une lumière qui soit blanche, c'est-à-dire émettant dans certaines voire toutes longueurs d'onde du spectre visible.
15 Les solutions habituellement proposées concernent le substrat verrier, soit au niveau de l'interface verre-air, on parlera de solutions d'optique géométrique car faisant le plus souvent appel à l'optique géométrique, soit au niveau de l'interface verre-anode, on parlera de solutions d'optique diffractive car ayant recours habituellement à l'optique diffractive. 20 Il est connu en tant que solution d'optique diffractive d'apporter à l'interface verre-anode une structure à saillies périodiques qui constitue un réseau de diffraction. Le document US 2004/0227462 montre une solution d'optique diffractive. A cet effet il divulgue une OLED dont le substrat 25 transparent, support de l'anode et de la couche organique, est texturé. La surface du substrat présente ainsi une alternance d'excroissances et de creux dont le profil est suivi par l'anode et la couche organique déposées dessus.
Cependant si une telle solution est efficace pour extraire la lumière monochromatique, c'est-à-dire dans une direction donnée de l'espace, elle n'est pas aussi performante pour la lumière polychromatique telle que la lumière blanche pour une application d'éclairage.
En outre, dans ce document US 2004/0227462, le profil du substrat est obtenu en appliquant un masque en résine photosensible sur la surface du substrat dont le motif correspond à celui recherché des excroissances, puis en gravant la surface au travers du masque. Un tel procédé n'est pas io facile de mise en oeuvre de façon industrielle sur de grandes surfaces de substrat, et est surtout trop onéreux, tout particulièrement pour des applications d'éclairage.
Le document WO 05/081334 propose une autre solution d'optique 15 diffractive qui consiste à recouvrir un substrat verrier plan d'une couche polymère texturée obtenue par embossage, l'électrode et la couche organique étant ensuite déposées en suivant le profil de la couche polymère. Les ondulations de la couche, qui peuvent être périodiques ou non, présentent des grandeurs telles que la distance séparant un sommet 20 d'un fond d'ondulation est comprise entre 0,5 pm et 200pm.
Cependant, avec une telle solution, on a toutefois observé de nombreuses défaillances électriques des OLEDS.
25 L'invention a donc pour but de fournir un substrat en verre minéral pourvu sur l'une de ses faces d'une électrode transparente, le substrat étant destiné à constituer le support d'un dispositif émissif de lumière, en particulier une OLED, qui soit de conception simple, fiable et permette d'améliorer par rapport aux solutions existantes, l'extraction de lumière 30 émise par ledit dispositif et de fournir une lumière blanche.
Selon l'invention, le substrat en verre comporte une première face et une seconde face opposée, la seconde face étant pourvue d'une électrode qui est formée d'au moins une couche électriquement conductrice. Il présente au niveau de la totalité de sa seconde face, et selon une épaisseur e s'étendant vers l'intérieur du substrat en direction de la première face, une variation de l'indice de réfraction du verre obtenu par un traitement d'échange ionique, l'indice de réfraction en surface étant supérieur à celui du verre situé en dehors de l'épaisseur e (soit une épaisseur plus io importante que l'épaisseur e en partant de la surface libre du substrat, du côté de la face échangée).
Cette variation d'indice est obtenue par échange ionique. L'échange ionique dans le verre est la capacité que présentent certains ions du verre, 15 en particulier les ions alcalins, de pouvoir s'échanger avec d'autres ions aux propriétés différentes, telles que la polarisabilité. Ces autres ions sont rapportés en surface du verre et forment ainsi dans le verre proche de sa surface un motif ionique dont l'indice de réfraction est distinct de celui du verre. 20 La surface du verre reste suffisamment plane pour éviter d'engendrer un contact électrique entre l'anode et la cathode, qui détériorerait alors l'OLED.
25 Avantageusement, l'indice de réfraction varie selon l'épaisseur e jusqu'en surface de la seconde face pour tendre ou être égal à l'indice de réfraction de l'électrode. On préfère ainsi une variation d'indice, entre la surface du verre et l'électrode directement en contact avec le verre, qui soit égale à 0,4, voire à 0,3. 30 5 La variation de l'indice de réfraction selon l'épaisseur e peut correspondre à un profil passant de la valeur de l'indice du verre établi en dessous de l'épaisseur e à une autre valeur d'indice, d'une manière directe sans valeur intermédiaire. Selon une variante préférée, la variation de l'indice de réfraction du substrat correspond à un gradient d'indice, c'est-à-dire une variation correspondant à un profil passant par plusieurs valeurs d'indice. Le profil est de préférence linéaire. io La variation d'indice est supérieure ou égale à 0,05, de préférence au moins égale à 0,08, voire au moins égale à 0,1.
Le substrat présente avantageusement un indice de réfraction qui varie 15 depuis l'épaisseur du verre jusqu'en surface pour tendre ou être égal à l'indice de réfraction de l'électrode.
Ainsi lorsque le substrat verrier pourvu de son électrode sert de support à une OLED, les photons émis depuis l'OLED et traversant l'électrode puis 20 rencontrant le substrat verrier sont bien moins déviés de leur trajectoire en raison d'une rupture d'indice beaucoup moins prononcée entre l'électrode et le verre. Un gradient d'indice est défini comme un changement progressif de l'indice du milieu. Ce milieu permet d'éviter une trop importante réflexion de la lumière qui le traverse. 25 Selon une caractéristique, une variation d'indice dans l'épaisseur du verre, avantageusement entre 1 et 100 pm, de préférence entre 1 pm et 10 pm, et en particulier entre 1 pm et 5 pm, suffit à diriger la lumière dans le substrat selon un angle d'incidence adapté à assurer de manière optimale 30 la sortie des photons du substrat.
L'échange ionique est l'échange de certains ions du verre par des ions choisis parmi, en combinaison ou non, le baryum, le césium, et de préférence l'argent ou le thallium. Ces ions sont choisis pour leur forte polarisabilité en comparaison des ions qu'ils remplacent, ce qui engendre une forte variation de l'indice de réfraction de la zone échangée du verre.
L'utilisation d'ions argent ou thallium comme ion dopant permet de créer des zones ayant un indice de réfraction suffisamment élevé par rapport à io celui du verre pour répondre selon l'invention à l'application particulière des dispositifs électroluminescents.
L'échange ionique est obtenu par des techniques connues. On place la surface du substrat verrier à traiter dans un bain de sels fondus des ions 15 d'échange, par exemple du nitrate d'argent (AgNO3), à une température élevée entre 200 et 550°C, et pendant une durée suffisante correspondant à la profondeur d'échange souhaitée.
On peut avantageusement soumettre concomitamment le substrat en 20 contact du bain à un champ électrique qui est fonction principalement de la conductivité du substrat en verre et de son épaisseur, et varie de préférence entre 10 et 100 V. Dans ce cas, le substrat peut ensuite subir un autre traitement thermique, avantageusement à une température comprise entre la température d'échange et la température de transition 25 vitreuse du verre, afin de diffuser les ions échangés dans une direction normale à la face du substrat pourvue de l'électrode, de manière à obtenir un gradient d'indice à profil linéaire.
La transmission lumineuse du substrat de l'invention peut être supérieure 30 ou égale à 80%.
Le substrat en verre peut présenter avantageusement la composition suivante : SiO2 67,0 - 73,0 %, de préférence 70,0 - 72,0 0/0 AI2O3 0 - 3,0 %, de préférence 0,4 - 2,0 % CaO 7,0 - 13,0 %, de préférence 8,0 - 11,0 0/0 MgO 0 - 6,0 %, de préférence 3,0 - 5,0 0/0 % Na2O 12,0 - 16,0 %, de préférence 13,0 - 15,0 K2O 0-4,0% l0 TiO2 0-0,1 % Fer total (exprimé en Fe2O3) 0 - 0,03 %, de préférence 0,005 - 0,01 0/0 Redox (FeO/fer total) 0,02 - 0,4 %, de préférence 0,02 - 0,2 0/0 Sb2O3 0 - 0,3 0/0 CeO2 0-1,5% 15 SO3 0 - 0,8 %, de préférence 0,2 - 0,6 0/0
Le substrat verrier selon l'invention est préférentiellement utilisé en tant que support dans un dispositif émissif de lumière, notamment un dispositif à diode électroluminescente (OLED) comportant une couche organique 20 disposée entre deux électrodes, l'une des électrodes étant constituée par l'électrode du substrat verrier de l'invention.
Un tel dispositif à diode électroluminescente est par exemple conçu pour des écrans de visualisation ou des dispositifs d'éclairage. 25 L'invention sera à présent décrite à l'aide d'exemples uniquement illustratifs et nullement limitatifs de la portée de l'invention, et à partir des illustrations ci-jointes, dans lesquelles : - La figure 1 illustre une vue en coupe d'un substrat verrier selon 30 l'invention; La figure 2 illustre de manière schématique, selon un premier mode de réalisation, le dispositif de mise en oeuvre du procédé d'échange ionique pour l'obtention d'un substrat dont l'indice de réfraction est variable dans son épaisseur; La figure 3 illustre de manière schématique, selon un second mode de réalisation, le dispositif de mise en oeuvre du procédé d'échange ionique pour l'obtention d'un substrat dont l'indice de réfraction est variable dans son épaisseur; La figure 4 est une vue en coupe d'une OLED pourvu du substrat io de la figure 1.
Les figures ne sont pas à l'échelle pour en faciliter la lecture.
La figure 1 représente un substrat verrier 1 d'épaisseur comprise 15 notamment entre 0,7 et 10 mm, comportant selon ses plus grandes extensions une première face 10 et une seconde face opposée 11.
Le substrat est pourvu sur sa seconde face 11 d'une électrode 2 qui est constituée d'au moins une couche mince de matériau(x) électriquement 20 conducteurs, cette couche étant de préférence transparente en vue de l'utilisation du substrat en tant que moyen de transmission de lumière.
Selon l'invention, le substrat 1 présente depuis sa seconde face 11 jusqu'à une profondeur e et sur la totalité de sa surface une épaisseur de 25 verre dont l'indice de réfraction est modifié par rapport à celui du reste du corps du substrat.
L'épaisseur e est avantageusement comprise entre 1 et 100 pm, de préférence entre 1 pm et 10 pm, et en particulier entre 1 pm et 5pm. 30 L'indice de réfraction du verre qui est habituellement de 1,5 est modifié 15 selon une variation qui est supérieure ou égale à 0,05, et de préférence d'au moins 0,08, voire d'au moins 0,1.
Le substrat garde une transmission lumineuse significative, d'au 5 moins 80%. La transmission lumineuse est mesurée de manière connue conformément à la norme ISO 23539:2005.
La variation d'indice est avantageusement graduelle. Elle constitue de préférence un gradient d'indice à profil linéaire.
Cette variation d'indice de réfraction est obtenue selon l'invention par traitement d'échange ionique. Certains ions du verre, en particulier les ions alcalins, sont échangés par des ions tels qu'argent, thallium, baryum, césium. Deux techniques dans le processus d'échange ionique sont proposées.
La première technique illustrée sur la figure 2 est réalisée en plongeant la face 11 du substrat dans un bain 3 contenant le matériau dont les ions 20 sont à échanger. Par exemple, pour un échange d'ions argent, le bain contient du nitrate d'argent (AgNO3).
L'immersion du substrat peut être totale avec une couche de protection, du type Al, Ti, AI2O3, revêtant la face opposée à traiter et qui est retirée 25 après le bain, par exemple par polissage.
L'immersion du substrat peut être plutôt partielle et de préférence selon toute l'épaisseur du substrat en affleurant la face opposée à traiter. 15 2937798 lo La profondeur de diffusion des ions argent Ag+ dans le verre en remplacement d'ions sodium Na+ est fonction du temps durant lequel le substrat est laissé dans le bain.
Après le retrait du substrat hors du bain, celui-ci est refroidi à température ambiante et abondamment rincé à l'eau afin d'éviter toute trace résiduelle de nitrate d'argent.
Cette technique réalise avantageusement un profil quasi-linéaire du 10 gradient d'indice.
La seconde technique consiste en un échange réalisé sous un champ électrique avec une étape complémentaire éventuelle de traitement thermique. La figure 3 illustre le dispositif de mise en oeuvre du procédé d'échange ionique assisté par un champ électrique.
Le dispositif comporte deux compartiments 5 et 6 appliqués en regard l'un 20 de l'autre, formant des réservoirs respectifs. Les compartiments sont fixés au substrat 1 par l'intermédiaire d'un adhésif 7 qui joue également le rôle de joint d'étanchéité au regard du contenu des réservoirs. L'un des compartiments contient un bain 50 d'AgNO3 tandis que l'autre compartiment est rempli d'un mélange de KNO3 (ou LiNO3) et de NaNO3. 25 Une électrode en platine 8, et respectivement, une électrode en platine 9 sont plongées dans respectivement chaque bain 50 et 60, ces électrodes étant reliées à un générateur de tension 80.
Il Lorsqu'un champ électrique est appliqué entre les électrodes 8 et 9, les ions alcalins du verre sont déplacés vers le bain 60 et sont remplacés progressivement par les ions Ag+ contenus dans le bain 50 (sens de migration indiqué par les flèches).
En variante du bain d'AgNO3, il peut être déposé une couche d'argent métallique. Celle-ci est déposée par magnétron, CVD, jet d'encre ou sérigraphie. Une couche formant électrode est par ailleurs déposée sur la face opposée. Le champ électrique est ensuite appliqué entre la couche io d'argent et la couche métallique. Après l'échange, on enlève par polissage ou attache chimique la couche formant électrode.
Le champ électrique appliqué entre la couche métallique ou le bain, et l'électrode, engendre donc l'échange ionique. L'échange ionique est 15 effectué à une température comprise entre 250 et 350°C. La profondeur d'échange est fonction de l'intensité du champ, du temps durant lequel le substrat est soumis à ce champ et de la température à laquelle est réalisé l'échange. Le champ est compris entre 10 et 100 V.
20 Cette technique conduit à une variation d'indice dont le profil s'apparente à une marche, en passant de manière nette de la valeur de l'indice du verre à une seconde valeur sans variation étalée entre ces deux valeurs.
En complétant par un traitement thermique du substrat, le profil de la 25 variation d'indice devient avantageusement progressif. Il s'agit de réchauffer le substrat dans un four à une température comprise entre la température d'échange ionique et la température de transition vitreuse du verre. La température et la durée du traitement sont fonction du gradient d'indice requis. 30 Certaines compositions verrières seront préférées afin que l'échange ionique n'induise pas une coloration par jaunissement du verre et par conséquent une diminution malencontreuse de la transmission lumineuse.
A titre d'exemple, une composition verrière est la suivante :
SiO2 67,0 - 73,0 %, de préférence 70,0 - 72,0 0/0 AI2O3 0 - 3,0 %, de préférence 0,4 - 2,0 0/0 CaO 7,0 - 13,0 %, de préférence 8,0 - 11,0 0/0 MgO 0 - 6,0 %, de préférence 3,0 - 5,0 0/0 Na2O 12,0 - 16,0 %, de préférence 13,0 - 15,0 % K2O 0-4,0% TiO2 0-0,1 % Fer total (exprimé en Fe2O3) 0 - 0,03 %, de préférence 0,005 - 0,01 0/0 15 Redox (FeO/fer total) 0,02 - 0,4 %, de préférence 0,02 - 0,2 0/0 Sb2O3 0 - 0,3 0/0 CeO2 0-1,5% SO3 0 - 0,8 %, de préférence 0,2 - 0,6 0/0
20 Le procédé par échange ionique permet ainsi de traiter aisément de grandes surfaces, d'être reproductible industriellement. Il permet d'agir directement et de manière simple sur le verre sans avoir besoin de procéder à des étapes intermédiaires et/ou complémentaires telles que de dépôt de couches, de gravure. 25 En outre, l'état de surface non modifié du substrat verrier assure un dépôt de l'électrode de recouvrement 2 dans des conditions faciles, usuelles, et dans des épaisseurs conventionnelles.
L'électrode 2 est formée d'un empilement de couches en matériaux électriquement conducteur. Il est par exemple constitué d'une couche d'ITO (Indium Tin Oxyde) d'indice de réfraction 1,9 environ, ou d'un empilement diélectrique(s) / Ag /diélectrique(s), généralement avec un premier diélectrique en contact direct avec le verre présentant un indice de 2.
Selon l'invention, la variation du gradient d'indice de réfraction est tel qu'en profondeur dans le verre, il correspond à celui du verre (n=1,5) tandis qu'en surface, il est plus important et se rapproche de l'indice de réfraction de la première couche de l'empilement de l'électrode, proche de 2.
La figure 5 montre une OLED 7 comprenant le substrat de l'invention présentant la variation d'indice de réfraction et pourvu de l'électrode 2.
L'OLED comporte ainsi successivement, le substrat 1 à variation d'indice servant de support pour LOLED, un premier revêtement électro- conducteur transparent qui est constitué de l'électrode 2, une couche 70 de matériau(x) organique(s) connue en soi, et un second revêtement électro-conducteur 71 qui forme une seconde électrode et présente de préférence et de manière connue, en regard de la couche organique 70, une surface réfléchissante destinée à renvoyer la lumière émise par la couche organique vers la direction opposée, celle du substrat transparent.
Des exemples comparatifs d'OLED ont été réalisés afin de montrer l'intérêt de l'invention.
Les exemples présentent tous les mêmes éléments constitutifs de LOLED (électrode transparente, couche de matériaux organiques, seconde 5 électrode, substrat verrier de support). Le substrat verrier de support ou de base est un substrat de verre standard, du type ALBARINO commercialisé par la société SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE, de côtés 5 cm par 5cm et par 2,1 mm d'épaisseur. Lorsque ce substrat de base n'est pas traité, il correspond à un substrat de référence (exemple de référence) pour les tests comparatifs qui présente un indice de réfraction de 1,52.
10 L'exemple 1 porte sur un substrat de base qui a subi un échange ionique à l'argent selon la première technique, en ayant été immergé dans un bain de nitrate d'argent (AgNO3), durant vingt et une heures et à une température de 345°C.
15 L'exemple 2 porte sur un substrat de base qui a subi un échange ionique au thallium selon la première technique, en ayant été immergé dans un bain de nitrate de thallium (TINO3) durant trois heures et à une température de 400°C.
20 Le tableau ci-dessous résume les valeurs obtenues pour chacun des exemples, quant à l'indice de réfaction du substrat, le gradient d'indice obtenu par rapport à un substrat de référence non traité, l'épaisseur d'échange ionique dans le substrat, et le gain en extraction obtenu lorsque le substrat de chaque exemple est intégré dans une OLED présentant les 25 mêmes caractéristiques pour les éléments autres que le substrat. 30 Exemple de Exemple 1 Exemple 2 référence Indice de réfraction 1,52 1,63 1,71 Gradient d'indice 0 0,11 0,19 Epaisseur d'échange 0 40 pm 31 pm Efficacité d'extraction 23% 27,5% 29,5% Pour calculer l'efficacité d'extraction, on calcule d'abord le rendement quantique externe qui correspond au rapport entre la puissance optique lumineuse qui sort de l'OLED et la puissance électrique injectée dans le dispositif OLED. Ensuite, en considérant un rendement quantique interne de 25% pour l'OLED, on divise le rendement quantique externe par ce rendement quantique interne, ici de 0,25, pour obtenir l'efficacité d'extraction.
lo Les substrats des exemples 1 et 2 de l'invention montrent ainsi un gain relatif en efficacité d'extraction de lumière de plus de 19% par rapport à un substrat non traité. Le gain relatif en efficacité d'extraction est le rapport entre, la différence d'efficacité de l'exemple de l'invention et de l'exemple de référence, et l'efficacité de l'exemple de référence. Il a été démontré 15 par ailleurs que ce gain procuré est obtenu sans dégradation des autres propriétés de l'OLED, notamment la variation colorimétrique en fonction de l'angle d'observation de la lumière.
Claims (8)
- REVENDICATIONS1. Substrat en verre (1) comportant une première face (10) et une seconde face opposée (11), et pourvu sur sa seconde face d'une électrode (2) qui est formée d'au moins une couche électriquement conductrice, caractérisé en ce qu'il présente au niveau de la totalité de sa seconde face et selon une épaisseur e s'étendant vers l'intérieur du substrat en direction de la première face (10), une variation de l'indice de réfraction du verre obtenu par un traitement d'échange ionique, l'indice de réfraction en surface étant supérieur à celui du verre situé en dehors de l'épaisseur e .
- 2. Substrat selon la revendication 1, caractérisé en ce que l'indice de réfraction varie selon l'épaisseur e jusqu'en surface de la seconde face, pour tendre ou être égal à l'indice de réfraction de l'électrode (2).
- 3. Substrat selon l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que la variation de l'indice de réfraction selon l'épaisseur e correspond à un profil passant de la valeur de l'indice du verre établi en dessous de l'épaisseur e à une autre valeur d'indice, d'une manière directe sans valeur intermédiaire ou bien par plusieurs valeurs d'indice, le profil étant de préférence linéaire.
- 4. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la variation d'indice est supérieure ou égale à 0,05, de préférence au moins égale à 0,08, voire au moins égale à 0,1.
- 5 10 . Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que l'épaisseur e de variation d'indice est comprise avantageusement entre 1 et 100 pm, de préférence entre 1 pm et 10 pm, et en particulier entre 1 pm et 5 pm.
- 6. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que la variation d'indice est obtenue par un traitement d'échange d'ions du verre par des ions argent et/ou thallium, et/ou césium et/ou baryum.
- 7. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que sa transmission lumineuse est supérieure ou 15 égale à 80%.
- 8. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce le substrat en verre présente la composition suivante : 67,0 - 73,0 %, de préférence 70,0 - 72,0 0/0 SiO2 20 AI2O3 0 - 3,0 %, de préférence 0,4 - 2,0 0/0 CaO 7,0 - 13,0 %, de préférence 8,0 - 11,0 0/0 MgO 0 - 6,0 %, de préférence 3,0 - 5,0 0/0 % Na2O 12,0 - 16,0 %, de préférence 13,0 - 15,0 K2O 0-4,0% TiO2 0-0,1 % 25 Fer total (exprimé en Fe2O3) 0 - 0,03 %, de préférence 0,005 - 0,01 0/0 Redox (FeO/fer total) 0,02 - 0,4 %, de préférence 0,02 - 0,2 0/0 Sb2O3 0 - 0,3 0/0 CeO2 0-1,5% SO3 0 - 0,8 %, de préférence 0,2 - 0,6 %. 309. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est utilisé comme support dans un dispositif émissif de lumière, notamment un dispositif à diode électroluminescente, l'électrode (2) du substrat constituant une des électrodes du dispositif. 10. Substrat selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il est utilisé dans un écran de visualisation ou dans un dispositif d'éclairage.
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012055860A3 (fr) * | 2010-10-26 | 2012-07-19 | Schott Ag | Structures composites en couches transparentes |
US10308545B2 (en) | 2010-10-26 | 2019-06-04 | Schott Ag | Highly refractive thin glasses |
US10343946B2 (en) | 2010-10-26 | 2019-07-09 | Schott Ag | Highly refractive thin glasses |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103842307A (zh) * | 2011-09-28 | 2014-06-04 | 旭硝子株式会社 | 带透明导电膜的玻璃板及透明导电膜形成用玻璃板 |
CN102617034B (zh) * | 2012-03-31 | 2014-12-24 | 上海吉驰玻璃科技有限公司 | 一种光伏玻璃配方及其用途 |
DE102012109209B4 (de) | 2012-09-28 | 2017-05-11 | Osram Oled Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements und optoelektronisches Bauelement |
JPWO2014088066A1 (ja) * | 2012-12-07 | 2017-01-05 | 旭硝子株式会社 | 高透過性ガラス |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020118271A1 (en) * | 1998-06-05 | 2002-08-29 | Seji Mashimo | Exposure unit for image forming apparatus using electrophotographic system, electrophotographic image forming apparatus |
US20040227462A1 (en) * | 2003-05-16 | 2004-11-18 | Tetsuya Utsumi | Light-emitting apparatus and method for forming the same |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3857689A (en) * | 1971-12-28 | 1974-12-31 | Nippon Selfoc Co Ltd | Ion exchange process for manufacturing integrated optical circuits |
JPS6212633A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-21 | Hoya Corp | 屈折率分布型透明体の製造に適したガラス組成物 |
JPS62128952A (ja) * | 1985-11-26 | 1987-06-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 屈折率分布型ガラス体の製造方法 |
JPH01194292A (ja) * | 1987-08-29 | 1989-08-04 | Hoya Corp | エレクトロルミネセンス素子及びその製造方法 |
JP2553696B2 (ja) * | 1989-03-24 | 1996-11-13 | 松下電器産業株式会社 | 多色発光薄膜エレクトロルミネセンス装置 |
JPH02279537A (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | ガラス体のイオン交換処理方法 |
IT1245420B (it) * | 1991-02-27 | 1994-09-20 | Cselt Centro Studi Lab Telecom | Procedimento per la fabbricazione di guide ottiche integrate in vetro |
JPH07211458A (ja) * | 1994-01-17 | 1995-08-11 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜発光素子 |
US6366017B1 (en) * | 1999-07-14 | 2002-04-02 | Agilent Technologies, Inc/ | Organic light emitting diodes with distributed bragg reflector |
JP2001221926A (ja) * | 1999-11-30 | 2001-08-17 | Fdk Corp | 光導波路素子の製造方法 |
JP2002352956A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-12-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | 薄膜型発光体及びその製造方法 |
KR100415625B1 (ko) * | 2001-08-06 | 2004-01-24 | 한국전자통신연구원 | 이온 교환법을 이용한 평면형 광도파로 제조 방법 |
US7202504B2 (en) * | 2004-05-20 | 2007-04-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element and display device |
JP4383996B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2009-12-16 | 株式会社東芝 | 屈折率変化装置および屈折率変化方法 |
JP4511440B2 (ja) * | 2004-10-05 | 2010-07-28 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 有機発光素子及び有機発光素子の製造方法 |
JP2008521051A (ja) * | 2004-11-17 | 2008-06-19 | カラー チップ(イスラエル)リミテッド | 導波路のテーパ化及び最適化した導波路構造の形成を行う方法並びにプロセス |
KR100700013B1 (ko) * | 2004-11-26 | 2007-03-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기전계발광소자 및 그의 제조 방법 |
EP1701395B1 (fr) * | 2005-03-11 | 2012-09-12 | Novaled AG | Elément transparent émetteur de lumière |
EP1895608A3 (fr) * | 2006-09-04 | 2011-01-05 | Novaled AG | Composant organique émettant de la lumière et procédé de fabrication |
US7601558B2 (en) * | 2006-10-24 | 2009-10-13 | Applied Materials, Inc. | Transparent zinc oxide electrode having a graded oxygen content |
CN101681069B (zh) * | 2007-05-22 | 2011-08-31 | 日本电气硝子株式会社 | 透明电极 |
KR101434361B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2014-08-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 백색 유기 전계 발광소자 및 이를 이용한 컬러 디스플레이장치 |
US20100245218A1 (en) * | 2007-11-01 | 2010-09-30 | Shogo Nasu | Light-emitting device and display device |
JP5143142B2 (ja) * | 2007-12-05 | 2013-02-13 | パナソニック株式会社 | 発光素子 |
-
2008
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20020118271A1 (en) * | 1998-06-05 | 2002-08-29 | Seji Mashimo | Exposure unit for image forming apparatus using electrophotographic system, electrophotographic image forming apparatus |
US20040227462A1 (en) * | 2003-05-16 | 2004-11-18 | Tetsuya Utsumi | Light-emitting apparatus and method for forming the same |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012055860A3 (fr) * | 2010-10-26 | 2012-07-19 | Schott Ag | Structures composites en couches transparentes |
US10308545B2 (en) | 2010-10-26 | 2019-06-04 | Schott Ag | Highly refractive thin glasses |
US10343946B2 (en) | 2010-10-26 | 2019-07-09 | Schott Ag | Highly refractive thin glasses |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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