FR2705832A1 - Procédé de réalisation d'un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat et une puce hybridée par billes sur le substrat. - Google Patents
Procédé de réalisation d'un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat et une puce hybridée par billes sur le substrat. Download PDFInfo
- Publication number
- FR2705832A1 FR2705832A1 FR9306417A FR9306417A FR2705832A1 FR 2705832 A1 FR2705832 A1 FR 2705832A1 FR 9306417 A FR9306417 A FR 9306417A FR 9306417 A FR9306417 A FR 9306417A FR 2705832 A1 FR2705832 A1 FR 2705832A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- substrate
- chip
- bead
- electronic component
- fusible
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/10—Containers; Seals characterised by the material or arrangement of seals between parts, e.g. between cap and base of the container or between leads and walls of the container
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
- H01L2224/13099—Material
- H01L2224/131—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/13101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/13109—Indium [In] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16108—Disposition the bump connector not being orthogonal to the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/2901—Shape
- H01L2224/29011—Shape comprising apertures or cavities
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/2901—Shape
- H01L2224/29012—Shape in top view
- H01L2224/29013—Shape in top view being rectangular or square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/731—Location prior to the connecting process
- H01L2224/73101—Location prior to the connecting process on the same surface
- H01L2224/73103—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/8112—Aligning
- H01L2224/81143—Passive alignment, i.e. self alignment, e.g. using surface energy, chemical reactions, thermal equilibrium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/8119—Arrangement of the bump connectors prior to mounting
- H01L2224/81191—Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed only on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/8119—Arrangement of the bump connectors prior to mounting
- H01L2224/81193—Arrangement of the bump connectors prior to mounting wherein the bump connectors are disposed on both the semiconductor or solid-state body and another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/81—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
- H01L2224/818—Bonding techniques
- H01L2224/81801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01049—Indium [In]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01057—Lanthanum [La]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01058—Cerium [Ce]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01061—Promethium [Pm]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
L'invention concerne un procédé de réalisation d'un cordon (13) d'encapsulation assurant l'étanchéité et la tenue mécanique d'une puce (1) hybridée par billes sur un substrat (5). Ce procédé consiste, parallèlement à la réalisation des billes (9) d'hybridation sur la face (1a) inférieure de la puce ou du substrat par un premier matériau fusible: (a) à déposer un cordon (13) d'un deuxième matériau fusible sur le substrat ou sur la face inférieure du composant électronique, (b) à placer la face inférieure de la puce sur le substrat de façon à réaliser les connexions entre ladite puce et ledit substrat au moyen du premier matériau fusible, et (c) à chauffer l'ensemble ainsi formé à une température au moins égale à la température de fusion la plus élevée desdits premier et second matériaux fusibles, afin de réaliser le cordon d'étanchéité au moyen de second matériau et les billes d'hybridation au moyen du premier matériau.
Description
PROCEDE DE REALISATION D'UN CORDON D'ETANCHEITE ET DE
TENUE MECANIQUE ENTRE UN SUBSTRAT ET UNE PUCE HYBRIDEE
PAR BILLES SUR LE SUBSTRAT
Domaine technique
La présente invention a pour objet un procédé de réalisation d'un cordon assurant la tenue mécanique et l'étanchéité entre un substrat et une puce (ou tout autre composant électronique) hybridée par billes sur le substrat qui peut lui-même intégrer des composants actifs ou passifs. Elle trouve ses applications dans les domaines de la micro-électronique, de l'informatique, ou encore, de l'électronique embarquée.
TENUE MECANIQUE ENTRE UN SUBSTRAT ET UNE PUCE HYBRIDEE
PAR BILLES SUR LE SUBSTRAT
Domaine technique
La présente invention a pour objet un procédé de réalisation d'un cordon assurant la tenue mécanique et l'étanchéité entre un substrat et une puce (ou tout autre composant électronique) hybridée par billes sur le substrat qui peut lui-même intégrer des composants actifs ou passifs. Elle trouve ses applications dans les domaines de la micro-électronique, de l'informatique, ou encore, de l'électronique embarquée.
Etat de la technique
Une technique de report de composants électroniques sur un substrat d'interconnexion faisant appel à des micro-bossages (appelés également "billes") est aujourd'hui connue de l'homme de l'art. Cette technique de report est appelée Flip-Chip. Selon cette technique Flip-Chip, les micro-bossages sont réalisés autour des connexions dlentrée/sortie du composant électronique, en un matériau fusible déposé, par exemple, par électrolyse ou par évaporation. Ce matériau fusible peut être, par exemple, de l'Indium ou un alliage Etain-Plomb. L'opération de report du composant électronique sur le substrat se fait à une température de chauffe qui correspond au moins à la température de fusion du matériau fusible choisi cette opération de report s' apparente à un brasage.
Une technique de report de composants électroniques sur un substrat d'interconnexion faisant appel à des micro-bossages (appelés également "billes") est aujourd'hui connue de l'homme de l'art. Cette technique de report est appelée Flip-Chip. Selon cette technique Flip-Chip, les micro-bossages sont réalisés autour des connexions dlentrée/sortie du composant électronique, en un matériau fusible déposé, par exemple, par électrolyse ou par évaporation. Ce matériau fusible peut être, par exemple, de l'Indium ou un alliage Etain-Plomb. L'opération de report du composant électronique sur le substrat se fait à une température de chauffe qui correspond au moins à la température de fusion du matériau fusible choisi cette opération de report s' apparente à un brasage.
Un tel procédé de report est nommé C4 (ce qui signifie, en termes anglo-saxons, control collapse chip connection). Ce procédé fait l'objet de nombreuses publications ; il est décrit notamment dans l'ouvrage intitulé "Microelectronics packaging handbook", édité par R. TUMMALA.
Cependant, l'utilisation de plus en plus fréquente de modules multi-puces (multi-chips en terminologie anglosaxonne) implique une optimisation de la surface du substrat utile. Ct est pourquoi, la technique du Flip-Chip est la technique généralement utilisée dans le cas de multi-chips modules. Elle est, notamment, utilisée dans des secteurs à grande diffusion dans lesquels les impératifs de coûts sont importants.
De plus, il est à noter une évolution technique des substrats qui amène des besoins d'interconnexion par Flip-Chip sur des supports autres que les supports classiques en Silicium ; ces supports peuvent être par exemple en Alumine ; ils peuvent être, également, des circuits imprimés.
Cependant, la technique connue de report de puce par Flip-Chip est fiable lorsque les coefficients d'expansion thermique de la puce (ou autre composant électronique) et du substrat sont très voisins. Or, l'Alumine, et plus encore les circuits imprimés, communément utilisés en substrat, ont un coefficient d'expansion très différent de celui de la puce réalisée habituellement sur silicium. Aussi, lorsque ces coefficients d'expansion de la puce et du substrat diffèrent, les changements (variations temporelles) en température conduisent à 11 établissement de contraintes importantes dans les billes, ce qui a pour effet de les fragiliser et de réduire de façon importante la fiabilité du système réalisé par la puce hybridée sur le substrat.
Sur les figures 1A, 1B et 1C, on a représenté, selon des vues de face, différents cas de bille d'hybridation assurant la connexion entre une puce et un substrat. Sur la figure lA, on a représenté le cas d'une bille dans un milieu porté à une température moyenne d'environ 20 C. Sur cette figure lA, on a représenté la puce 1 comportant une couche 2a de matériau électriquement conducteur qui est en contact avec le plot de connexion 3. Une couche 2b électriquement isolante recouvre la face inférieure de la couche 2a autour du plot de sortie 3. Cette figure 1A montre également le substrat qui comporte une couche 4a de matériau électriquement conducteur en contact avec le plot de connexion 7. Une couche 4b électriquement isolante recouvre la couche 4a autour du plot 7. La bille 9 d'hybridation assure une liaison électrique entre les plots de connexion 3 de la puce 1 et 7 du substrat 5. Pour une température ambiante drenviron 20 C, la bille a une position verticale, les plots 3 et 7 étant positionnés sensiblement l'un en face de autre.
Sur la figure lB, on a représenté cette même bille d'hybridation lorsque la température ambiante est de l'ordre de -50 C. Le différentiel des coefficients d'expension thermique entre la puce et le substrat provoque un déplacement relatif des plots 3 et 7 qui ne sont alors pas en face l'un de l'autre (la bille est alors oblique).
Et enfin, sur la figure 1C, on a représenté la bille d'hybridation dans le cas où la température est portée à +1200C, ce qui entraîne également un décalage de la position relative des plots 3 et 7, mais de sens opposé à celui de la figure 1B.
En observant ces figures 1A, 1B et lC, on comprendra aisément que, lorsque le coefficient d'expansion de la puce diffère du coefficient d'expansion du substrat, la bille d'hybridation se déforme (voir figures lB et 1C) afin d d'encaisser la dilatation ou la contraction durant le changement de température. Comme montré sur les figures 1B et lC,.un non-alignement du plot de connection 7 du substrat 5 avec le plot de connection 3 de la puce 1 entraîne une forme non verticale de la bille 9.
Aussi, afin de limiter ce problème de dilatation ou de contraction dû aux différences des coefficients d'expansion entre la puce 1 et le substrat 5, on a cherché à remplir l'espace situé entre la puce 1 et le substrat 5 de façon à ce que le matériau remplissant cet espace puisse "encaisser" une partie des contraintes. Quel qu'il soit, le matériau utilisé pour le remplissage de cet espace puce/substrat est appelé 't encapsulant" ou 'substance encapsulante". La réalisation de ce remplissage global par un encapsulant consiste après hybridation de la puce par des billes sur le substrat, à remplir l'espace puce/substrat au moyen d'un dispenseur. Cette réalisation nécessite un certain nombre d'étapes et des moyens relativement coûteux
Parallèlement, on utilise de plus en plus la technique de Flip-Chip pour les composants de type capteur hybride. En effet, pour de tels composants, on rapporte généralement par billes une cellule sensible sur un circuit électronique de commande réalisé notamment sur Silicium selon une technique classique.
Parallèlement, on utilise de plus en plus la technique de Flip-Chip pour les composants de type capteur hybride. En effet, pour de tels composants, on rapporte généralement par billes une cellule sensible sur un circuit électronique de commande réalisé notamment sur Silicium selon une technique classique.
Dans ce cas, les cellules sensibles sont déposées individuellement sur le circuit électronique, elles sont hybridées collectivement et chaque capteur est ensuite découpé. Pour une telle réalisation, il est important de préserver les structures sensibles, des agressions extérieures telles que la découpe, le montage ou encore les agressions dues aux conditions de 1 'atmosphère.
Afin de préserver les structures sensibles, telles que citées précédemment, il est possible d'isoler l'intérieur de l'assemblage (c'est-à-dire du capteur) par rapport au monde extérieur. Pour cela, on peut utiliser un encapsulant sous forme dlun cordon disposé sur la périphérie de la puce. A cette fin, la
Société IBM, a étudié l'aspect géométrique de llencapsulation périphérique destinée à permettre l'isolation telle que décrite précédemment. L'article intitulé "Encapsulating Flip-Chip device with epoxy resin", publié dans "International interconnexion intelligence Flip-Chip technology impact report décrit cet aspect géométrique de llencapsulation.
Société IBM, a étudié l'aspect géométrique de llencapsulation périphérique destinée à permettre l'isolation telle que décrite précédemment. L'article intitulé "Encapsulating Flip-Chip device with epoxy resin", publié dans "International interconnexion intelligence Flip-Chip technology impact report décrit cet aspect géométrique de llencapsulation.
Tout comme llencapsulation globale, décrite ci-dessus, destinée à assurer la tenue mécanique de l'assemblage puce/substrat, la réalisation de cette encapsulation périphérique destinée à l'étanchéité de l'assemblage nécessite de nombreuses étapes et un matérial coûteux. En outre, une étape de recuit est généralement nécessaire pour la polymérisation du cordon réalisé habituellement par une colle époxy, cette étape pouvant être critique pour les billes ou pour la puce.
Exposé de l'invention
La présente invention a justement pour but de remédier aux inconvénients cités ci-dessus. A cette fin, elle propose un procédé pour réaliser un cordon permettant d'assurer l'étanchéité de la puce hybridée par billes sur le substrat, ainsi que d'améliorer la tenue mécanique aux variations de température de l'ensemble constitué de la puce, du substrat et des billes d'hybridation, notamment lorsque le substrat est réalisé dans un matériau autre que le Silicium.
La présente invention a justement pour but de remédier aux inconvénients cités ci-dessus. A cette fin, elle propose un procédé pour réaliser un cordon permettant d'assurer l'étanchéité de la puce hybridée par billes sur le substrat, ainsi que d'améliorer la tenue mécanique aux variations de température de l'ensemble constitué de la puce, du substrat et des billes d'hybridation, notamment lorsque le substrat est réalisé dans un matériau autre que le Silicium.
Ce cordon d'étanchéité et de tenue mécanique sera nommé, plus généralement, cordon de second matériau ou encore tout simplement cordon.
De façon plus précise, l'invention concerne un procédé de réalisation d'un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat d'interconnexion et un composant électronique hybridé par billes sur ledit un substrat d'interconnexion.
Ce procédé est caractérisé par le fait qu'il consiste, parallèlement à la réalisation des billes d'hybridation sur une face inférieure du composant électronique ou du substrat par un premier matériau fusible: (a) à déposer un cordon d'un deuxième matériau fusible
sur le substrat d'interconnexion ou sur la face
inférieure du composant électronique, (b) à placer la face inférieure du composant
électronique sur le substrat d'interconnexion de
façon à réaliser les connexions entre ledit
composant électronique et ledit substrat
d'interconnexion au moyen du premier matériau
fusible, et (c) à chauffer l'ensemble ainsi formé à une température
au moins égale à la température de fusion la plus
élevée desdits premier et second matériaux fusibles,
afin de réaliser le cordon d'étanchéité et de tenue
mécanique au moyen du cordon de second matériau et
les billes d'hybridation au moyen du premier
matériau.
sur le substrat d'interconnexion ou sur la face
inférieure du composant électronique, (b) à placer la face inférieure du composant
électronique sur le substrat d'interconnexion de
façon à réaliser les connexions entre ledit
composant électronique et ledit substrat
d'interconnexion au moyen du premier matériau
fusible, et (c) à chauffer l'ensemble ainsi formé à une température
au moins égale à la température de fusion la plus
élevée desdits premier et second matériaux fusibles,
afin de réaliser le cordon d'étanchéité et de tenue
mécanique au moyen du cordon de second matériau et
les billes d'hybridation au moyen du premier
matériau.
Avantageusement, le second matériau a un coefficient d'expansion voisin du coefficient d'expansion du premier matériau utilisé pour réaliser les billes d'hybridation.
Préalablement à l'étape b), le cordon est mis en forme par chauffage à une température au moins égale à la température de fusion du second matériau.
Selon un mode de réalisation de l'invention, le second matériau est un matériau fusible identique au premier matériau utilisé pour la réalisation des billes d'hybridation.
De façon avantageuse, le second matériau drencapsulation est disposé sur la périphérie de l'espace réalisé entre le composant électronique et le substrat d' interconnexion.
Selon un mode de réalisation préféré de 1 invention, l'étape a) consiste à déposer le cordon de second matériau de façon préformée sur le substrat d'interconnexion ou sur la face inférieure du composant électronique.
L'accrochage sur le substrat et le composant électronique du second matériau fusible est obtenu par l'intermédiaire d'un matériau d'accrochage déposé sur le substrat et sur le composant électronique.
Brève description des dessins
- Les figures lA, 1B et 1C, déjà décrites, représentent chacune, selon une vue de face, une bille d'un composant électronique monté sur un substrat réalisé dans un matériau dont le coefficient d'expansion diffère de celui du composant électronique et dont la température ambiante est, respectivement, de + 20"C, - 50"C et + 1200C.
- Les figures lA, 1B et 1C, déjà décrites, représentent chacune, selon une vue de face, une bille d'un composant électronique monté sur un substrat réalisé dans un matériau dont le coefficient d'expansion diffère de celui du composant électronique et dont la température ambiante est, respectivement, de + 20"C, - 50"C et + 1200C.
- La figure 2 représente, selon une vue en coupe, une puce hybridée par billes sur un substrat d'interconnection et un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique (ou cordon de second matériau) monté entre la puce et le substrat.
- La figure 3A représente une étape de réalisation du cordon dans le cas ou celui-ci est déposé sur la face inférieure de la puce
- La figure 3B représente la même étape du procédé que la figure 3A, mais dans le cas où le cordon est déposé sur le substrat
- La figure 3C représente également cette même étape de réalisation du procédé de l'invention, mais dans le cas où le cordon a été préformé avant dlêtre déposé sur le substrat d'interconnexion ; et
- La figure 4 représente l'étape suivante des étapes représentées sur les figures 3A à 3C du procédé de réalisation selon l'invention, étape dans laquelle la puce est posée sur le substrat, le cordon jouant alors le rôle d'un joint d'étanchéité et de tenue mécanique entre la puce et le substrat.
- La figure 3B représente la même étape du procédé que la figure 3A, mais dans le cas où le cordon est déposé sur le substrat
- La figure 3C représente également cette même étape de réalisation du procédé de l'invention, mais dans le cas où le cordon a été préformé avant dlêtre déposé sur le substrat d'interconnexion ; et
- La figure 4 représente l'étape suivante des étapes représentées sur les figures 3A à 3C du procédé de réalisation selon l'invention, étape dans laquelle la puce est posée sur le substrat, le cordon jouant alors le rôle d'un joint d'étanchéité et de tenue mécanique entre la puce et le substrat.
Exposé détaillé de modes de réalisation
Sur la figure 2, on a représenté, selon une vue en coupe, le substrat 5 sur lequel est déposé la puce 1. Le substrat 5 est représenté en traits continus, tandis que la puce 1 est représentée, sur cette figure 2, en traits mixtes. On voit donc, sur cette figure 2, les plots de connexion 3 de la puce.
Sur la figure 2, on a représenté, selon une vue en coupe, le substrat 5 sur lequel est déposé la puce 1. Le substrat 5 est représenté en traits continus, tandis que la puce 1 est représentée, sur cette figure 2, en traits mixtes. On voit donc, sur cette figure 2, les plots de connexion 3 de la puce.
Sur le substrat 5, des plots de connexion 6 propres au substrat 5 d'interconnexion, sont électriquement reliés aux plots de connexion 7 (non visibles sur la figure) du substrat 5 au moyen des liaisons 12. En outre, les plots de connexion 7 du substrat d'interconnexion sont connectés aux plots 3 de la puce 1 au moyen des billes d'hybridation. En effet, ces billes d'hybridation référencées 9 sur le figure 2, sont réalisées en un matériau fusible et conducteur. Une liaison électrique peut donc se faire entre les plots 6 du substrat 5 et les plots 3 de la puce 1, via les plots de connexion 7, les billes d'hybridation 9 et les fils de connexion 12.
Sur cette figure 2, on a également représenté le cordon 13. Ce cordon, appelé également cordon d'étanchéité et de tenue mécanique, est réalisé dans un matériau fusible.
Le procédé selon l'invention consiste à utiliser, de préférence, les étapes technologiques de réalisation des billes d'hybridation sur la puce 1 ou le substrat, pour générer, durant ces étapes, le cordon 13 sur le substrat 5 ou sur la face inférieure la de la puce 1, (on entend par face inférieure la de la puce 1, la face qui est en vis-à-vis avec le substrat 5).
Selon le mode de réalisation préféré de 1 invention, le cordon 13 est réalisé dans un matériau fusible identique à celui utilisé pour réaliser les billes d'hybridation 9. Ce matériau peut être, par exemple, de l'Indium ou encore un alliage Etain-Plomb de façon plus générale, ce matériau peut être n'importe quel type de matériau fusible utilisé généralement pour la fabrication des billes d'hybridation.
Ce procédé a donc pour avantage de permettre de réaliser le cordon 13 au cours de la réalisation des billes d'hybridation 9. Il en résulte, de ce fait, un gain de temps non négligeable ainsi qu'un gain d'équipement puisqu'il n'est plus nécessaire d'utiliser un dispenseur de colle pour réaliser le cordon 13 après l'étape d'hybridation des billes 9.
Dans la suite de la description, le procédé selon l'invention sera décrit dans son mode de réalisation le plus complexe où les billes 9 et le cordon 13 sont réalisés dans des matériaux fusibles différents et dans le cas particulier où les billes sont réalisées sur la puce (étant bien entendu que les billes peuvent être réalisées sur le substrat).
Les matériaux fusibles permettant de réaliser, respectivement, le cordon 13 et les billes 9 d'hybridation sont déposés sur la face inférieure la de la puce 1 et/ou sur le substrat 5, l'ensemble de ces matériaux est porté à une température de chauffe. Dans le cas où le matériau fusible utilisé pour la réalisation du cordon 13 est différent du matériau fusible utilisé pour la réalisation des billes 9 d'hybridation, la température de chauffe à laquelle sont portés les deux matériaux fusibles est au moins égale à la température de fusion du matériau fusible nécessitant la plus forte température de fusion.
Lorsque, selon le mode de réalisation préféré de l'invention, le matériau fusible utilisé pour réaliser le cordon 13 est le même que le matériau fusible utilisé pour les billes 9 d'hybridation, la température de chauffe est choisie au moins égale à la température de fusion de ce matériau fusible.
Ce procédé a donc l'avantage de ne permettre qu'un seul cycle de chauffe pour braser à la fois les billes d'hybridation 9 et le cordon 13.
En outre, l'ensemble ainsi réalisé par le substrat 5 et la puce I est parfaitement encapsulé et donc parfaitement étanche.
Sur les figures 3A, 3B et 3C, on a représenté, en vue de face, trois modes de réalisation différents du cordon 13.
Sur la figure 3A, on a représenté le mode de réalisation dans lequel un matériau fusible est déposé sur la face inférieure la de la puce 1. Sur cette face la de la puce 1, une couche 13a de matériau conducteur adapté au matériau fusible a été déposée lors de la réalisation du plot de connexion 3 de la puce 1. De même, une couche 13b de matériau conducteur a été déposée sur le substrat 5 lors de la réalisation du plot de connexion 7. Les matériaux 13a et 13b sont constitués dlun matériau conducteur de mouillabilité suffisante pour assurer l'accrochage du matériau fusible 13. Ce matériau conducteur peut être de l'or dans le cas d'un cordon en indium. Lors du dépôt du matériau fusible apte à réaliser la bille 9 d'hybridation, un dépôt de matériau fusible apte à réaliser le cordon 13 est également effectué sur cette même face la de la puce 1. La puce 1 comportant ainsi le matériau fusible apte à réaliser le cordon 13 et le matériau fusible apte à réaliser les billes 9 est alors avantageusement portée à une température de mise en forme choisie. Cette température de mise en forme est au moins égale à la température de fusion la plus forte des deux matériaux fusibles. Elle peut être inférieure à la température de brasage de ces matériaux utilisée lors de l'assemblage. Ce traitement thermique permet de recentrer les matériaux fusible 13, 9 sur leurs matériaux d'accrochage respectivement 13a et 3. La puce 1 est ensuite déposée sur le substrat 5, la face la de la puce 1 étant en vis-à-vis avec la surface du substrat 5 portant les plots 13b et 7. Lorsque la puce 1 est déposée ainsi sur le substrat 5, l'ensemble est à nouveau porté à une température de chauffe de façon à assurer le brasage et l'assemblage des matériaux fusibles avec les plots correspondants du substrat. La mise à niveau des billes et du cordon lors de l'assemblage se fait en jouant, préalablement à leur réalisation, sur les surfaces d'accrochage, respectivement des billes 3 et 7 et du cordon 13a et 13b. Cette dernière étape de brasage des matériaux fusibles est représentée sur la figure 4 et sera décrite plus en détail par la suite.
Ce mode de réalisation a pour principal avantage de permettre la réalisation du cordon 13 et de la bille 9 sur le même support. Ce mode de réalisation peut être utilisé, essentiellement, pour des billes dont la hauteur est, par exemple, inférieure à 55 un, après assemblage car, dans ce cas, la surface de la puce utilisée pour réaliser le cordon reste faible.
Sur la figure 3B, on a représenté un second mode de réalisation de l'invention, dans lequel le matériau fusible utilisé pour réaliser le cordon 13 est déposée sur le substrat 5. Tout comme sur la figure 3A, la puce 1 et le substrat 5 comportent, respectivement, des zones conductrices d'accrochage 13a et 13b. Selon ce mode de réalisation de l'invention, l'un des matériaux fusibles est déposé sur la face inférieure la de la puce 1 pour réaliser les billes d'hybridation 9.
Le second matériau fusible est déposé sur la zone 13b du substrat 5 pour réaliser le cordon 13. Lorsque les matériaux fusibles ont été déposés, respectivement, sur la face la de la puce 1 et sur le substrat 5, le substrat d'une part et la puce d'autre part sont portés avantageusement à une température de mise en forme pour assurer comme dans la figure 3A le recentrage des billes et du cordon sur leurs matériaux d'accrochage respectifs 3 et 13b. Les températures de mise en forme respectivement des billes et du cordon sont au moins égales aux températures de fusion de ceux-ci. La puce 1 est alors déposée sur le substrat 5, sa face inférieure la en vis-à-vis avec la surface du substrat 5. Cet ensemble est alors chauffé comme précédemment pour obtenir le brasage des billes et du cordon. La mise à niveau des billes et du cordon se fait également comme décrit précédemment.
Ce mode de réalisation du procédé de l'invention permet de réaliser un cordon pour des puces dont les billes d'hybridation ont une hauteur, par exemple, de l'ordure de 50 un jusqu'à 120 pm, la surface nécessaire à la réalisation du cordon étant prise sur le substrat.
Sur la figure 3C, on a représenté le mode de réalisation du procédé de l'invention dans lequel le matériau fusible du cordon a été rapporté sur le substrat sous fome d'une préforme. De façon plus précise, on peut voir sur cette figure 3C la puce 1 comportant les zones conductrices 3 et 13a, ainsi que le matériau fusible réalisant la bille d'hybridation 9.
Sur cette figure 3C, on peut également voir le substrat 5 comportant les zones conductrices 7 et 13b. On y a représenté aussi le matériau fusible apte à réaliser le cordon 13, sous sa forme préformée. En effet, selon ce mode de réalisation, ce matériau fusible a subi une préformation, telle qu'un découpage ou un emboutissage dans une feuille de matériau fusible. Ce matériau fusible 13 préformé est alors déposé sur le substrat 5.
Indépendamment, le matériau fusible apte à réalier la bille d'hybridation 9 est déposé sur la face la de la puce 1. Cette puce 1 est alors portée à la température de mise en forme choisie qui correspond au moins à la température de fusion du matériau fusible apte à réaliser la bille. Lors de l'étape d'assemblage, la puce 1 est déposée sur le substrat 5, avec sa face la en vis-à-vis par rapport à la surface du substrat 5 muni du cordon 13. Et enfin, l'ensemble constitué de la puce 1, du substrat 5 et des matériaux fusibles est porté à une température choisie pour assurer le brasage de ces matériaux avec les plots correspondants.
Ce dernier mode de réalisation du procédé de l'invention nécessite, bien évidemment, une étape supplémentaire de préformation calibrée du matériau fusible apte à réaliser le cordon 13. Cependant, il permet de réaliser un cordon pour des puces hybridées par des billes ayant, par exemple, une taille comprise entre 100 um et 300 um
Sur la figure 4, on a représenté la puce 1 avec son plot de connexion 3 et la partie conductrice 13a sur laquelle repose le cordon 13. On voit également sur cette figure 4 le substrat 5 avec le plot de connexion 7 et la partie conductrice 13b en contact avec le cordon 13. Cette figure représente l'étape dans laquelle, la puce 1 ayant été déposée sur le substrat 5, l'ensemble puce/matériaux fusibles/substrat est chauffé pour assurer la fusion des matériaux fusibles sur les matériaux d'accrochage, afin que les parties 13a, 13b, 3 et 7 réalisées en matériau conducteur sur la puce 1 et le substrat 5 soient liées par la bille 9 et le cordon 13.
Sur la figure 4, on a représenté la puce 1 avec son plot de connexion 3 et la partie conductrice 13a sur laquelle repose le cordon 13. On voit également sur cette figure 4 le substrat 5 avec le plot de connexion 7 et la partie conductrice 13b en contact avec le cordon 13. Cette figure représente l'étape dans laquelle, la puce 1 ayant été déposée sur le substrat 5, l'ensemble puce/matériaux fusibles/substrat est chauffé pour assurer la fusion des matériaux fusibles sur les matériaux d'accrochage, afin que les parties 13a, 13b, 3 et 7 réalisées en matériau conducteur sur la puce 1 et le substrat 5 soient liées par la bille 9 et le cordon 13.
Ce procédé selon l'invention, comme cela a été compris précédemment, permet donc de réaliser un cordon permettant d'une part l'étanchéité de l'ensemble puce/substrat 5, et d'autre part d'améliorer la tenue mécanique de cet ensemble puce/substrat, notamment lors de variations de température, et ce, pour des billes d'hybridation dont la taille varie, par exemple, de quelques um jusqu'à 300 um
Claims (7)
- matériau.les billes d'hybridation au moyen du premiermécanique au moyen du cordon de second matériau etafin de réaliser le cordon d'étanchéité et de tenueélevée desdits premier et second matériaux fusibles,au moins égale à la température de fusion la plusfusible, et (c) à chauffer l'ensemble ainsi formé à une températured'interconnexion au moyen du premier matériaucomposant électronique et ledit substratfaçon à réaliser les connexions entre leditélectronique sur le substrat d'interconnexion deface inférieure du composant électronique, (b) à placer la face inférieure du composantfusible sur le substrat d'interconnexion ou sur laREVENDICATIONS 1. Procédé de réalisation dlun cordon (13) d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat (5) d'interconnexion et un composant électronique (1) hybridé par billes (9) sur ledit substrat d' interconnexion, caractérisé en ce qu'il consiste, parallèlement à la réalisation des billes d'hybridation sur une face (la) inférieure du composant électronique ou du substrat par un premier matériau fusible (a) à déposer un cordon (13) d'un deuxième matériau
- 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le second matériau a un coefficient d'expansion proche du coefficient d'expansion du premier matériau.
- 3. Procédé selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que préalablement à l'étape b), le cordon est mis en forme par chauffage à une température au moins égale à la température de fusion du second matériau.
- 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisé en ce que le second matériau est un matériau fusible identique au premier matériau fusible assurant la réalisation des billes d'hybridation.
- 5. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que le cordon de second matériau est disposé sur la périphérie d'un espace réalisé entre le composant électronique et le substrat d' interconnexion.
- 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications i à 5, caractérisé en ce que l'étape a) consiste à déposer le cordon de second matériau de façon préformée sur le substrat d'interconnexion ou sur la face inférieure du composant électronique.
- 7. Procédé selon l'une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que l'accrochage sur le substrat et le composant électronique du second matériau fusible est obtenu par l'intermédiaire d'un matériau d'accrochage déposé sur le substrat et sur le composant électronique.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9306417A FR2705832B1 (fr) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | Procédé de réalisation d'un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat et une puce hybridée par billes sur le substrat. |
PCT/FR1994/000620 WO1994028581A1 (fr) | 1993-05-28 | 1994-05-26 | Procede de realisation d'un cordon d'etancheite et de tenue mecanique entre un substrat et une puce hybridee par billes sur le substrat |
JP7500316A JPH08510599A (ja) | 1993-05-28 | 1994-05-26 | 基板と該基板上の隆起によりハイブリッド化されたチツプとの間の密封および機械的強度コードの製造方法 |
EP94917059A EP0700581A1 (fr) | 1993-05-28 | 1994-05-26 | Procede de realisation d'un cordon d'etancheite et de tenue mecanique entre un substrat et une puce hybridee par billes sur le substrat |
US09/298,696 US6238951B1 (en) | 1993-05-28 | 1999-04-23 | Process for producing a sealing and mechanical strength ring between a substrate and a chip hybridized by bumps on the substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9306417A FR2705832B1 (fr) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | Procédé de réalisation d'un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat et une puce hybridée par billes sur le substrat. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2705832A1 true FR2705832A1 (fr) | 1994-12-02 |
FR2705832B1 FR2705832B1 (fr) | 1995-06-30 |
Family
ID=9447546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR9306417A Expired - Lifetime FR2705832B1 (fr) | 1993-05-28 | 1993-05-28 | Procédé de réalisation d'un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat et une puce hybridée par billes sur le substrat. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6238951B1 (fr) |
EP (1) | EP0700581A1 (fr) |
JP (1) | JPH08510599A (fr) |
FR (1) | FR2705832B1 (fr) |
WO (1) | WO1994028581A1 (fr) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0899787A3 (fr) * | 1997-07-25 | 2001-05-16 | Mcnc | Réservoirs de soudure formés-contrôlés pour augmenter le volume de bosses de soudure et dtructures ainsi formées |
US6329608B1 (en) | 1995-04-05 | 2001-12-11 | Unitive International Limited | Key-shaped solder bumps and under bump metallurgy |
EP1168429A1 (fr) * | 2000-06-28 | 2002-01-02 | Telefonaktiebolaget L M Ericsson (Publ) | Puce de circuit intégré et procédé pour monter celle-ci sur une carte de circuit |
US6388203B1 (en) | 1995-04-04 | 2002-05-14 | Unitive International Limited | Controlled-shaped solder reservoirs for increasing the volume of solder bumps, and structures formed thereby |
US7358174B2 (en) | 2004-04-13 | 2008-04-15 | Amkor Technology, Inc. | Methods of forming solder bumps on exposed metal pads |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2748849B1 (fr) * | 1996-05-20 | 1998-06-19 | Commissariat Energie Atomique | Systeme de composants a hybrider et procede d'hybridation autorisant des dilatations thermiques |
FR2780200B1 (fr) | 1998-06-22 | 2003-09-05 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif et procede de formation d'un dispositif presentant une cavite a atmosphere controlee |
DE19938868B4 (de) * | 1999-08-17 | 2005-11-24 | Siemens Ag | Sensoreinrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Sensoreinrichtung |
US6538898B1 (en) * | 2000-05-01 | 2003-03-25 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus of die attachment for BOC and F/C surface mount |
AU2002228926A1 (en) | 2000-11-10 | 2002-05-21 | Unitive Electronics, Inc. | Methods of positioning components using liquid prime movers and related structures |
US6863209B2 (en) | 2000-12-15 | 2005-03-08 | Unitivie International Limited | Low temperature methods of bonding components |
JP4659257B2 (ja) * | 2001-04-18 | 2011-03-30 | パナソニック株式会社 | 電子部品組立体の製造方法 |
JP2003124595A (ja) * | 2001-10-11 | 2003-04-25 | Alps Electric Co Ltd | 電子回路ユニット |
US6661085B2 (en) * | 2002-02-06 | 2003-12-09 | Intel Corporation | Barrier structure against corrosion and contamination in three-dimensional (3-D) wafer-to-wafer vertical stack |
US6975016B2 (en) * | 2002-02-06 | 2005-12-13 | Intel Corporation | Wafer bonding using a flexible bladder press and thinned wafers for three-dimensional (3D) wafer-to-wafer vertical stack integration, and application thereof |
US6887769B2 (en) * | 2002-02-06 | 2005-05-03 | Intel Corporation | Dielectric recess for wafer-to-wafer and die-to-die metal bonding and method of fabricating the same |
US6762076B2 (en) * | 2002-02-20 | 2004-07-13 | Intel Corporation | Process of vertically stacking multiple wafers supporting different active integrated circuit (IC) devices |
US7238550B2 (en) * | 2002-02-26 | 2007-07-03 | Tandon Group Ltd. | Methods and apparatus for fabricating Chip-on-Board modules |
AU2003256360A1 (en) | 2002-06-25 | 2004-01-06 | Unitive International Limited | Methods of forming electronic structures including conductive shunt layers and related structures |
US7531898B2 (en) | 2002-06-25 | 2009-05-12 | Unitive International Limited | Non-Circular via holes for bumping pads and related structures |
US7547623B2 (en) | 2002-06-25 | 2009-06-16 | Unitive International Limited | Methods of forming lead free solder bumps |
AU2003249212C1 (en) | 2002-07-15 | 2011-10-27 | Symphony Evolution, Inc. | Receptor-type kinase modulators and methods of use |
KR100447851B1 (ko) * | 2002-11-14 | 2004-09-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체장치의 플립칩 방식 측면 접합 본딩 방법 및 이를이용한 mems 소자 패키지 및 패키지 방법 |
TWI225899B (en) | 2003-02-18 | 2005-01-01 | Unitive Semiconductor Taiwan C | Etching solution and method for manufacturing conductive bump using the etching solution to selectively remove barrier layer |
US7049216B2 (en) | 2003-10-14 | 2006-05-23 | Unitive International Limited | Methods of providing solder structures for out plane connections |
FR2865467B1 (fr) * | 2004-01-22 | 2007-01-05 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif et procede pour assurer l'hermeticite d'une cavite en presence d'un via |
US7607560B2 (en) * | 2004-05-14 | 2009-10-27 | Intevac, Inc. | Semiconductor die attachment for high vacuum tubes |
US7012328B2 (en) * | 2004-05-14 | 2006-03-14 | Intevac, Inc. | Semiconductor die attachment for high vacuum tubes |
US7087538B2 (en) * | 2004-08-16 | 2006-08-08 | Intel Corporation | Method to fill the gap between coupled wafers |
US20060205170A1 (en) * | 2005-03-09 | 2006-09-14 | Rinne Glenn A | Methods of forming self-healing metal-insulator-metal (MIM) structures and related devices |
FR2890066B1 (fr) * | 2005-08-30 | 2007-09-21 | Commissariat Energie Atomique | Procede pour la realisation de moyens de connexion et/ou de soudure d'un composant |
FR2890067B1 (fr) * | 2005-08-30 | 2007-09-21 | Commissariat Energie Atomique | Procede de scellement ou de soudure de deux elements entre eux |
FR2890065B1 (fr) * | 2005-08-30 | 2007-09-21 | Commissariat Energie Atomique | Procede d'encapsulation d'un composant, notamment electrique ou electronique au moyen d'un cordon de soudure ameliore |
US7547576B2 (en) * | 2006-02-01 | 2009-06-16 | International Business Machines Corporation | Solder wall structure in flip-chip technologies |
US7932615B2 (en) | 2006-02-08 | 2011-04-26 | Amkor Technology, Inc. | Electronic devices including solder bumps on compliant dielectric layers |
US7674701B2 (en) | 2006-02-08 | 2010-03-09 | Amkor Technology, Inc. | Methods of forming metal layers using multi-layer lift-off patterns |
US8613996B2 (en) * | 2009-10-21 | 2013-12-24 | International Business Machines Corporation | Polymeric edge seal for bonded substrates |
US8287980B2 (en) * | 2009-10-29 | 2012-10-16 | International Business Machines Corporation | Edge protection seal for bonded substrates |
JP6287445B2 (ja) * | 2014-03-26 | 2018-03-07 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
FR3042308B1 (fr) | 2015-10-13 | 2018-02-16 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Boitier pour composants microelectroniques |
FR3042642B1 (fr) | 2015-10-15 | 2022-11-25 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'un dispositif comprenant une micro-batterie |
IT201700103511A1 (it) | 2017-09-15 | 2019-03-15 | St Microelectronics Srl | Dispositivo microelettronico dotato di connessioni protette e relativo processo di fabbricazione |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3591839A (en) * | 1969-08-27 | 1971-07-06 | Siliconix Inc | Micro-electronic circuit with novel hermetic sealing structure and method of manufacture |
US3657610A (en) * | 1969-07-10 | 1972-04-18 | Nippon Electric Co | Self-sealing face-down bonded semiconductor device |
US5043139A (en) * | 1990-10-09 | 1991-08-27 | Eastman Kodak Company | Amalgam preform, method of forming the preform and method of bonding therewith |
EP0522461A1 (fr) * | 1991-07-10 | 1993-01-13 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Dispositif semi-conducteur scellé du type "Flip chip" |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5492863A (en) * | 1994-10-19 | 1996-02-20 | Motorola, Inc. | Method for forming conductive bumps on a semiconductor device |
JPH1174413A (ja) * | 1997-07-01 | 1999-03-16 | Sony Corp | リードフレームとリードフレームの製造方法と半導体装置と半導体装置の組立方法と電子機器 |
-
1993
- 1993-05-28 FR FR9306417A patent/FR2705832B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-05-26 EP EP94917059A patent/EP0700581A1/fr not_active Ceased
- 1994-05-26 WO PCT/FR1994/000620 patent/WO1994028581A1/fr not_active Application Discontinuation
- 1994-05-26 JP JP7500316A patent/JPH08510599A/ja active Pending
-
1999
- 1999-04-23 US US09/298,696 patent/US6238951B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3657610A (en) * | 1969-07-10 | 1972-04-18 | Nippon Electric Co | Self-sealing face-down bonded semiconductor device |
US3591839A (en) * | 1969-08-27 | 1971-07-06 | Siliconix Inc | Micro-electronic circuit with novel hermetic sealing structure and method of manufacture |
US5043139A (en) * | 1990-10-09 | 1991-08-27 | Eastman Kodak Company | Amalgam preform, method of forming the preform and method of bonding therewith |
EP0522461A1 (fr) * | 1991-07-10 | 1993-01-13 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Dispositif semi-conducteur scellé du type "Flip chip" |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6388203B1 (en) | 1995-04-04 | 2002-05-14 | Unitive International Limited | Controlled-shaped solder reservoirs for increasing the volume of solder bumps, and structures formed thereby |
US6392163B1 (en) | 1995-04-04 | 2002-05-21 | Unitive International Limited | Controlled-shaped solder reservoirs for increasing the volume of solder bumps |
US6329608B1 (en) | 1995-04-05 | 2001-12-11 | Unitive International Limited | Key-shaped solder bumps and under bump metallurgy |
US6389691B1 (en) | 1995-04-05 | 2002-05-21 | Unitive International Limited | Methods for forming integrated redistribution routing conductors and solder bumps |
EP0899787A3 (fr) * | 1997-07-25 | 2001-05-16 | Mcnc | Réservoirs de soudure formés-contrôlés pour augmenter le volume de bosses de soudure et dtructures ainsi formées |
EP1168429A1 (fr) * | 2000-06-28 | 2002-01-02 | Telefonaktiebolaget L M Ericsson (Publ) | Puce de circuit intégré et procédé pour monter celle-ci sur une carte de circuit |
US7358174B2 (en) | 2004-04-13 | 2008-04-15 | Amkor Technology, Inc. | Methods of forming solder bumps on exposed metal pads |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0700581A1 (fr) | 1996-03-13 |
WO1994028581A1 (fr) | 1994-12-08 |
FR2705832B1 (fr) | 1995-06-30 |
US6238951B1 (en) | 2001-05-29 |
JPH08510599A (ja) | 1996-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FR2705832A1 (fr) | Procédé de réalisation d'un cordon d'étanchéité et de tenue mécanique entre un substrat et une puce hybridée par billes sur le substrat. | |
EP3613074B1 (fr) | Procédé d'assemblage d'une puce microélectronique sur un élement filaire | |
EP0321340B1 (fr) | Support de composant électronique, notamment pour carte mémoire, et produit ainsi obtenu | |
EP3089211B1 (fr) | Procede d'encapsulation d'un circuit electronique | |
EP0662721B1 (fr) | Détecteur de rayonnement électromagnétique et procédé de fabrication | |
FR2791811A1 (fr) | Composant electrique ou electronique encapsule de maniere etanche | |
FR2779867A1 (fr) | Structure de montage et procede de montage d'un dispositif a semi-conducteur | |
EP0694965A1 (fr) | Boîtier BGA de circuit intégré et procédé de réalisation d'un tel boîtier | |
FR3018953A1 (fr) | Puce de circuit integre montee sur un interposeur | |
FR2996055A1 (fr) | Circuit electrique et son procede de realisation | |
EP0818813B1 (fr) | Système de composants à hybrider et procédé d'hybridation autorisant des dilatations thermiques | |
WO2007026093A1 (fr) | Procède de scellement ou de soudure de deux éléments entre eux. | |
EP3764756A1 (fr) | Composant electronique resistant a l'humidite et procede de realisation d'un tel composant | |
EP2040291B1 (fr) | Procédé de collage de puces sur un substrat de contrainte et procédé de mise sous contrainte d'un circuit de lecture semi-conducteur | |
WO2009016304A2 (fr) | Procédé d'enrobage de deux éléments hybrides entre eux au moyen d'un matériau de brasure | |
EP1192592A1 (fr) | Dispositif et procede de fabrication de dispositifs electroniques comportant au moins une puce fixee sur un support | |
EP3031775B1 (fr) | Procede de realisation d'une connexion electrique dans un via borgne | |
EP0753990B1 (fr) | Dispositif de connexion et procédé de connexion | |
FR2667443A1 (fr) | Procede de realisation d'un module hybride. | |
EP3477698B1 (fr) | Circuit intégré en boîtier qfn | |
WO2018020189A2 (fr) | Module électronique de puissance d'un aéronef et procédé de fabrication associé | |
FR2809533A1 (fr) | Microsysteme monolithique a mosaique de composants | |
EP0506526A1 (fr) | Module hybride et procédé de réalisation | |
FR3136588A1 (fr) | Boîtier, par exemple boîtier optique, de circuit integre | |
EP2009697B1 (fr) | Procédé pour la réalisation d'une matrice de détection de rayonnements électromagnétiques et procédé pour remplacer un module élémentaire d'une telle matrice de détection |