ES2710021T3 - Formulación de imprimación dental - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 103
- 238000009472 formulation Methods 0.000 title description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 38
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical class F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical class [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims abstract description 3
- 229910052723 transition metal Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 72
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- -1 pyrophosphoric acid ester Chemical class 0.000 claims description 28
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 claims description 21
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 19
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 18
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 18
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N dilithium oxido-[oxido(oxo)silyl]oxy-oxosilane Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])=O WVMPCBWWBLZKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000005548 dental material Substances 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052907 leucite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 claims description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 3
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 claims description 3
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 claims description 3
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 claims description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 3
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 2
- 230000000845 anti-microbial effect Effects 0.000 claims description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002304 perfume Substances 0.000 claims description 2
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000006254 rheological additive Substances 0.000 claims description 2
- 239000013008 thixotropic agent Substances 0.000 claims description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 22
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 16
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 10
- 230000037452 priming Effects 0.000 description 10
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 9
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 8
- BDPGXDQELKHAFK-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CO[Si](OC)(OC)CCCN BDPGXDQELKHAFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 6
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 6
- MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 6-methoxy-8-nitroquinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC(OC)=CC([N+]([O-])=O)=C21 MIMUSZHMZBJBPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- SKQKNRSRVZLFRB-UHFFFAOYSA-N decyl 2-methylprop-2-enoate;phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O.CCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C SKQKNRSRVZLFRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 4
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 4
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- KQLYNMIIFDFERE-UHFFFAOYSA-N 10-phosphonooxydecyl but-2-enoate Chemical compound P(=O)(O)(O)OCCCCCCCCCCOC(C=CC)=O KQLYNMIIFDFERE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004293 19F NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 3
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- MRXQMNWIADOAJY-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;fluoride;dihydrofluoride Chemical compound F.F.[F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC MRXQMNWIADOAJY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 2
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003479 dental cement Substances 0.000 description 2
- 239000011350 dental composite resin Substances 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 2
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000806 fluorine-19 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 230000001225 therapeutic effect Effects 0.000 description 2
- XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J titanium tetrafluoride Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[Ti+4] XROWMBWRMNHXMF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(1-triethoxysilylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C(C)[Si](OCC)(OCC)OCC FOQJQXVUMYLJSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- XFZJGFIKQCCLGK-UHFFFAOYSA-M 1,1-dimethyl-4-phenylpiperazinium iodide Chemical compound [I-].C1C[N+](C)(C)CCN1C1=CC=CC=C1 XFZJGFIKQCCLGK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XXEYEDZRUQKMLI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phosphonoethoxymethyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)COCCP(O)(O)=O XXEYEDZRUQKMLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJWXEQUFROPJBO-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](OC)(CCCOC(=O)C(C)=C)OC VJWXEQUFROPJBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilyl-n-(3-trimethoxysilylpropyl)propan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCC[Si](OC)(OC)OC TZZGHGKTHXIOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000486661 Ceramica Species 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMNFDTCOWIDEAV-UHFFFAOYSA-N OP(O)=O.OP(O)=O Chemical compound OP(O)=O.OP(O)=O NMNFDTCOWIDEAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Chemical group 0.000 description 1
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 231100000313 clinical toxicology Toxicity 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003564 dental alloy Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M dihydrogenphosphate Chemical compound OP(O)([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 239000006136 disilicate glass ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical group 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000004474 heteroalkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 150000004761 hexafluorosilicates Chemical class 0.000 description 1
- LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C(C)=C LNCPIMCVTKXXOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 231100001231 less toxic Toxicity 0.000 description 1
- AGBQKNBQESQNJD-UHFFFAOYSA-M lipoate Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC1CCSS1 AGBQKNBQESQNJD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019136 lipoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000005445 natural material Substances 0.000 description 1
- 238000000655 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- CBIDRCWHNCKSTO-UHFFFAOYSA-N prenyl diphosphate Chemical compound CC(C)=CCO[P@](O)(=O)OP(O)(O)=O CBIDRCWHNCKSTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-N tetrabutylazanium;hydrofluoride Chemical compound F.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002663 thioctic acid Drugs 0.000 description 1
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003781 tooth socket Anatomy 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- RDWYHFFMCHYNSH-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-[2-(2-triethoxysilylethyl)phenyl]ethyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC1=CC=CC=C1CC[Si](OCC)(OCC)OCC RDWYHFFMCHYNSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 description 1
- 238000003631 wet chemical etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K6/00—Preparations for dentistry
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- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61K6/40—Primers
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract
Composición de imprimación dental que contiene (1) por lo menos un monómero de alcoxisilano de la fórmula general (I)**Fó rmula** R1 nSi(OR2)4-n (I), en la que R1 representa un resto orgánico, que presenta por lo menos un grupo polimerizable etilénicamente insaturado, R2 representa un resto alquilorgánico C1 a C8 y n es 1, 2 o 3, pudiendo ser los restos R1 y R2 en cada caso iguales o diferentes; (2) por lo menos una sal de poli(fluoruro de hidrógeno) de la fórmula general (II) (R9)+(Hx-1Fx)- z (II), en la que R9 representa un catión metálico de la serie de los metales alcalinos, alcalinotérreos o de transición o un ion amonio de la fórmula (R5)(R6)(R7)(R8)N+, en la que R5, R6, R7y R8 en cada caso independientemente uno de otro representan H o restos alquilo C1 a C26, alquenilo C3 a C26 o arilo C6- C26, en la que R5, R6, R7 y R8 pueden ser iguales o diferentes, y en la que dos de estos restos pueden estar unidos entre sí para formar conjuntamente con el átomo de nitrógeno un heterociclo, y en la que tres de los restos y el átomo de nitrógeno pueden formar conjuntamente un ion piridinio, x es un número entero de 2 a 5, preferentemente de 2 a 4, en particular 3, z corresponde a la valencia del resto catiónico R9, (3) un disolvente orgánico y (4) agua.
Description
DESCRIPCION
Formulacion de imprimacion dental.
La presente invencion se refiere a composiciones de imprimacion dentales, que son adecuadas, en particular, para el tratamiento de superficies ceramicas.
En la tecnolog^a dental se distingue entre materiales de restauracion ceramicos y metalicos, subdividiendose adicionalmente los materiales ceramicos en ceramicas silicaticas, tales como, por ejemplo, feldespato, cuarzo, ceramicas basadas en leucita y vitroceramicas, as ^como ceramicas basadas en disilicato de litio, ("silicatos"), y ceramicas no silicaticas, tales como, por ejemplo, oxido de circonio estabilizado con itrio, oxido de aluminio, oxido de aluminio infiltrado con vidrio (por ejemplo, In-CERAM Alumina, empresa Vita, Alemania), ("ceramicas de oxido"). En el caso de los metales se distingue entre metales no nobles, tales como, por ejemplo, cromo, mquel, molibdeno, titanio y sus aleaciones, ("NEM"), y metales nobles, tales como, por ejemplo, oro, platino, paladio, plata y sus aleaciones, ("EM").
En la fabricacion de restauraciones dentales es necesario frecuentemente unir estos materiales de forma duradera entre sf o con la sustancia natural del diente. Para ello se utilizan generalmente cementos y materiales compuestos polimerizables. La union se produce segun el estado de la tecnica en un procedimiento de dos etapas. En la primera etapa se crea rugosidad en la superficie de los materiales de restauracion mediante procedimientos qmmicos en humedo o mecanico-abrasivos. La rugosidad sirve para crear una estructura superficial microrretentiva, asf como para aumentar el area superficial. El experto sabe que ambos aspectos son importantes para proporcionar una union duradera y solida.
El procedimiento habitual en tecnologfa dental para la erosion qmmica en humedo ("grabado") de silicatos utiliza preferentemente soluciones de acido fluorhndrico acuoso. A pesar de los efectos positivos con respecto a su eficacia de union, el acido fluorfndrico (HF) es desventajoso como agente de grabado por distintos motivos. Por una parte, en aplicaciones odontologicas, la utilizacion de HF esta asociada a un riesgo potencial por motivos de toxicidad (G. Alex, Functional Esthetics & Restorative Dentistry, Serie 2, Numero 1, 38-49; Vohra et al., Clinical Toxicology (2008) 46, 79-84).
Aparte de su desventajosa toxicidad, las soluciones de HF pueden danar estructuralmente la ceramica si se dejan actuar demasiado tiempo ("sobregrabado"), lo que empeora tanto las propiedades mecanicas de la ceramica como tambien la union al cemento de fijacion (Barghi et al., Journal of Esthetic Restorative Dentistry (2006) 18, 47-52; Amaral et al., Brazilian Dental Journal (2011) 22, 245-248; Nagayassu et al., Brazilian Dental Journal (2006) 17, 290-295). Los autores de los artfculos mencionados llegan a la conclusion de que la concentracion de HF y su periodo de actuacion deben adaptarse cuidadosamente a la ceramica de silicato que se desea grabar para lograr una superficie retentiva sin, a este respecto, danar estructuralmente la ceramica o debilitar la union.
Para evitar estas desventajas se han realizado en el pasado intentos de reemplazar el acido fluorhndrico por sustancias alternativas menos toxicas. Tylka et al., The Journal of Prosthetic Dentistry (1994) 72, 121-127, proponen la utilizacion de soluciones de fluorofosfato acidas para aplicacion intraoral. Della Bona et al., Int J Prosthodont (2002) 15, 159-167, comparan entre sf bifluoruro de amonio (ABF), acido fluorhndrico y soluciones de fluorofosfato acidas. El HF proporciono los patrones de grabado mas claros y se pudo demostrar que el HF da como resultado una adhesion significativamente mejor que los otros materiales (Della Bona, Int J Prosthodont (2002) 15, 248-253). Comlekoglu et al., Journal of Adhesive Dentistry (2009), 11, 447-453, descubrieron que el tratamiento de superficies de ceramica con solucion acuosa de tetrafluoruro de titanio (TiF4) produce la formacion de capas de TiO2 superficiales, que se indica que garantizan unos buenos valores de adhesion. Los autores indican, no obstante, que la adhesion de las capas de TiO2 a la ceramica puede alterarse debido al envejecimiento. Los procedimientos exentos de HF mencionados no han sido satisfactorios hasta la fecha.
En todos los procedimientos de grabado es comun que para la preparacion de una fijacion adhesiva se pongan en contacto las piezas de trabajo de ceramica de silicato con la solucion de grabado y la solucion se retire mediante enjuague con agua despues de un determinado periodo de actuacion. A continuacion, la superficie del silicato debe secarse con aire comprimido antes de poder llevarse a cabo otras etapas de operacion. Dado que en la reaccion entre silicato y solucion de grabado se transforman preferentemente los componentes amorfos de los silicatos en hexafluorosilicato soluble, y los componentes cristalinos permanecen, se produce una estructura superficial rugosa (microrretentiva) promotora de la adhesion.
El procedimiento mecanico-abrasivo mas comun es el tratamiento con chorro de arena, en el que las partfculas abrasivas aceleradas con aire comprimido se dirigen contra la superficie que se va a tratar. Por medio de la alta energfa cinetica de las partfculas se obtiene una estructura microrretentiva. En caso de que el tratamiento con chorro de arena pueda producir efectos perjudiciales en el paciente (por ejemplo, intraoralmente) o no se disponga de los instrumentos adecuados, puede crearse rugosidad, por ejemplo, tambien por medio de instrumentos giratorios. Por motivos opticos, el tratamiento con chorro de arena solo es adecuado en una medida
limitada para zonas visibles de las restauraciones dentales.
En la segunda etapa la superficie de la restauracion en la que se ha creado rugosidad se provee de funcionalidades polimerizables ("imprimacion") por medio de un adhesivo ("imprimador") . El imprimador contiene monomeros que, por una parte, pueden unirse mediante grupos reactivos a la superficie de la restauracion y, por otra parte, disponen de grupos polimerizables que posibilitan la copolimerizacion con otros monomeros. Por ejemplo, los silanos pueden reaccionar con superficies de silicato produciendo la formacion de enlaces Si-O-Si covalentes, mientras que los fosfatos forman con oxido de circonio (oxofosfatos) de circonio. Los grupos polimerizables pueden copolimerizarse posteriormente con el material compuesto o el cemento utilizado para la fijacion de la restauracion mediante procedimientos adecuados. De esta forma se logra una union duradera caracterizada por enlaces covalentes o ionicos entre la restauracion y el material compuesto.
Hasta la fecha, los imprimadores conocidos para la fijacion adhesiva de materiales de restauracion dental no son capaces de grabar silicatos, y son adecuados exclusivamente para la funcionalizacion de superficies. No obstante, una union adhesiva producida unicamente mediante silanizacion es claramente mas debil que la lograda mediante una combinacion de grabado con HF y silanizacion (Queiroz et al., Gen Dent. (2012), 60(2), 9 85). Para una union clmicamente relevante a silicatos, por lo tanto, segun el estado de la tecnica actual, es obligatorio llevar a cabo previamente una creacion de rugosidad en la superficie y la silinizacion posterior de la superficie en la que se ha creado rugosidad en etapas de operacion separadas. Los imprimadores tfpicos del tipo anterior se describen en los documentos siguientes.
El documento EP 0224319 A1 describe una composicion de imprimacion para mejorar la adhesion a diferentes materiales ceramicos que contiene un silano hidrolizable para dar silanol organofuncional.
Un objeto del documento JP 2601254 B2 es un imprimador dental para ceramicas y metal que contiene la combinacion de un silano organofuncional con monoesteres de acido fosforico con funcionalidad (met)acrilono especiales.
El documento JP 2593850 B2 describe una composicion dental adhesiva que, entre otros ingredientes, contiene un silano organofuncional y un compuesto de fosforo organico acido con un enlace doble polimerizable de forma radicalaria. Se indica que la composicion posibilita la union tanto en metales como tambien en ceramica.
En el documento DE 102005002750 A1 se divulga un imprimador para aleaciones de metales nobles dentales que contiene disulfuros especiales sustituidos con grupos polimerizables.
El documento EP 2 229 930 A1 divulga una composicion adhesiva dental que es adecuada para diferentes metales y ceramicas. Las composiciones contienen, ademas de un alcoxisilano, un monomero de ester de acido fosforico, un monomero que contiene azufre y disolventes.
Russell et al. (lnt J Prosthodont 1994; 7: 7-12) describen el tratamiento de superficies de ceramicas con una combinacion de gel de grabado Dicor Etching Gel y agente de acoplamiento Dicor Coupling Agent; el primero contiene hidrogenodifluoruro de amonio, el segundo un alcoxisilano polimerizable.
En el estado de la tecnica no se describen imprimadores que sean adecuados para grabar e imprimar simultaneamente superficies de restauracion silicaticas.
El grabado y la imprimacion por separado de una restauracion de ceramica silicatica antes de la cementacion adhesiva requieren numerosas etapas de operacion por parte del operario, a saber: aplicar y dejar actuar un gel de grabado sobre la ceramica de silicato, retirar el gel de grabado mediante enjuague, secar la superficie, aplicar y dejar actuar un imprimador y finalmente retirar por soplado el imprimador con un soplador de aire. Por lo tanto, se trata de un procedimiento que requiere mucho tiempo y mucho trabajo.
La invencion se basa en el objetivo de proporcionar un imprimador dental que no presente las desventajas mencionadas anteriormente. En particular el imprimador debe poder aplicarse sin un grabado previo o la creacion previa de rugosidad directamente sobre la superficie que se va a tratar y garantizar una union segura en condiciones orales. El imprimador debe presentar una toxicidad reducida y una elevada estabilidad.
Este objetivo se logra segun la invencion mediante una formulacion de imprimacion que contienen los componentes siguientes:
(1) por lo menos un monomero de alcoxisilano de la formula general (I)
R1nSi(OR2)4-n (I),
en la que
R1 representa un resto organico, que presenta por lo menos un grupo polimerizable,
R2 representa H o un resto alquilo C1 a C8, preferentemente alquilo C1 a C4 y
n es 1,2 o 3,
pudiendo ser los restos R 1 y 2 R en cada caso iguales o diferentes;
(2) por lo menos una sal de poli(fluoruro de hidrogeno) de la formula general (II)
(R9)+(Hx-1Fx)-z (II),
en la que
R9 representa un cation metalico de la serie de metales alcalinos, alcalinoterreos o de transition o un ion amonio de la formula (R5)(R6)(R7)(R8)N+, en la que R5, R6, R7 y R8 en cada caso independientemente uno de otro representan H o restos alquilo C1 a C26, alquenilo C3 a C26 o arilo C6-C26, preferentemente restos alquilo C1 a C12, alquenilo C3 a C12 o arilo C6-C12, pudiendo ser R5, R6, R7 y R8 iguales o diferentes, y en la que dos de estos restos pueden estar unidos entre si para formar conjuntamente con el atomo de nitrogeno un heterociclo, y en la que tres de los restos y el atomo de nitrogeno pueden formar conjuntamente un ion piridinio,
x es un numero entero de 2 a 5, preferentemente de 2 a 4, en particular 3,
z corresponde a la Valencia del resto cationico R9,
(3) un disolvente organico y
(4) agua.
Son alcoxisilanos de la formula (I) preferidos aquellos compuestos en los que las variables tienen los significados siguientes:
R = un resto con la formula siguiente:
en la que
R1a = H o fenilo, siendo preferentemente H;
R1b = H o metilo, siendo preferentemente metilo;
R1c = no esta presente o es alquilo C1-C16, siendo preferentemente alquilo C1-C3;
X= no esta presente o es -CO-O- o -CO-NH-, siendo preferentemente -CO-O- o -CO-NH-, en la que X no esta presente si R1c no esta presente;
R2 = H o alquilo C1 a C2 y
n =1 o 2,
pudiendo ser los restos R1 y R2 en cada caso iguales o diferentes y en la que preferentemente varios restos R1 o R2 son iguales.
Son poli(fluoruros de hidrogeno) de la formula (II) preferidos aquellos compuestos en los que las variables tienen los significados siguientes:
x = un numero entero de 2 a 4, preferentemente 3,
z = 1,
R9 = un ion amonio de la formula (R5)(R6)(R7)(R8)N+, en la que R5, R6, R7 y R8 significan, independientemente uno de otro, H, n- o i-alquilo C1-C4, en la que R5, R6, R7 y R8 son preferentemente iguales, prefiriendose R5 = R6 = R7 = R8 = butilo, en particular n-butilo.
Los significados preferidos mencionados anteriormente de las variables pueden elegirse independientemente uno de otro, siendo composiciones particularmente preferidas aquellas que contienen los compuestos preferidos de las formulas (I) y (II).
Las composiciones de imprimacion segun la invencion se caracterizan por su capacidad para grabar y simultaneamente funcionalizar con grupos polimerizables las superficies de ceramicas de silicato. Poseen propiedades autograbantes y reunen, por lo tanto, las funciones de agente de grabado convencional e imprimador en una composicion. Esto significa una considerable simplificacion del trabajo para el usuario, dado que se eliminan el grabado y la funcionalizacion de la superficie por separado y se reemplazan por una etapa de operacion conjunta. Ademas, las composiciones de imprimacion segun la invencion se caracterizan por una toxicidad reducida y son adecuadas, por lo tanto, tambien para su utilizacion intraoral. Ademas, las composiciones de imprimacion segun la invencion presentan una estabilidad elevada. No se produce ningun tipo de enturbiamiento debido a la policondensacion de los silanos.
Las superficies tratadas con las composiciones de imprimacion segun la invencion se incorporan a una union adhesiva estable, comparable a la producida mediante procedimientos convenciones de grabado e imprimacion por separado, con materiales dentales polimerizables endurecibles de forma radicalaria, en particular con materiales compuestos dentales y cementos polimerizables de forma radicalaria. La eficacia de la union no se reduce significativamente por cargas termicas alternas, lo que es un criterio esencial para una fuerza de adhesion que se pueda utilizar en odontologfa. Los materiales compuestos dentales son mezclas de materiales de carga inorganicos con monomeros organicos polimerizables. Los cementos polimerizables se diferencian de los materiales compuestos en que contienen menos materiales de carga o no contienen ninguno.
Los imprimadores estan presentes preferentemente en forma de soluciones homogeneas. Son adecuados, en particular, para aplicaciones odontologicas que requieren una union duradera de mezclas polimerizables con restauraciones prefabricadas a base de ceramica de silicato. Las composiciones segun la invencion posibilitan, a diferencia de las del estado de la tecnica, el grabado qmmico en humedo y la funcionalizacion de superficies silicaticas en una etapa de operacion. Para ello deben tener lugar paralelamente dos reacciones, que habitualmente se llevan a cabo una tras otra. No podfa esperarse que esto se produjera de forma automatica. Mas bien puede suponerse que mediante el grabado de la superficie, es decir, la eliminacion qmmica de regiones superficiales, grupos funcionales ya introducidos se desprenden de nuevo, o si no que grupos funcionales unidos a la superficie impiden el acceso del agente de grabado a la superficie y, por lo tanto, el proceso de grabado. El monomero de alcoxisilano de la formula (I), presenta ademas del grupo alcoxi hidrolizable -OR2 por lo menos un resto R1, que contiene por lo menos un grupo polimerizable, preferentemente exactamente uno. Normalmente se trata de un grupo polimerizable de forma radicalaria. Preferentemente el alcoxisilano posee uno o dos restos R1. Preferentemente R1 contiene un enlace doble etilenicamente insaturado. Por ejemplo, R1 puede contener un grupo (met)acriloflo, (met)acriloiloxi (H2C=C(R15)-CO-O- con R15 = CH3 o H), un grupo (met)acriloilamino (H2C=C(R16)-CO-NH- con R16 = CH3 o H), un grupo vinilo, arilo o estirilo, pudiendo estar los grupos mencionados no sustituidos o sustituidos con sustituyentes adecuados. Se prefieren los grupos no sustituidos. Los restos R1 preferidos comprenden (met)acriloiloxialquilo, preferentemente (met)acriloiloxi-alquilo C2-C16, de forma particularmente preferida (met)acriloiloxipropilo; (met)acriloilaminoalquilo, preferentemente (met)acriloilaminoalquilo C2-C16, de forma particularmente preferida (met)acriloilaminopropilo; vinilo; alilo y estirilo.
Los sustituyentes adecuados son grupos arilo, alquilarilo, heteroalquilo, heteroarilo, heteroalquilarilo, uretano, halogeno, isocianato, ureido y/o imidazolinilo, al igual que restos arilo, alquilarilo, heteroalquilo, heteroarilo y/o heteroalquilarilo que estan sustituidos con grupos uretano, halogeno, isocianato, ureido, imidazolinilo, grupos acriloiloxi y/o metacriloiloxi, en particular con grupos uretano, halogeno, isocianato, ureido y/o imidazolinilo. El resto alquilo R2 del grupo alcoxi en la formula (I) presenta de 1 a 8 atomos de C y esta ramificado o preferentemente es de cadena lineal. Preferentemente, R2 es un resto metilo, etilo n- o i-C3-Cs, de forma particularmente preferida metilo o etilo.
Algunos monomeros de alcoxisilano (I) particularmente adecuados para la presente invencion son 3-metacriloiloxipropiltrimetoxisilano (MPTMs ), 3-metacriloiloxipropiltrietoxisilano (MPTES), di(3-metacriloiloxipropil)dimetoxisilano (DPDMS) y 3-metacriloilamidopropiltrimetoxisilano (MAPTMS). Los silanos mas preferidos son 3-metacriloiloxipropiltrimetoxisilano y 3-metacriloilamidopropiltrimetoxisilano.
El monomero de alcoxisilano (I) esta presente normalmente en las composiciones de imprimacion segun la invencion en una cantidad del 0,05 al 25,0% en peso, preferentemente del 0,2 al 10,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso, en cada caso con respecto al peso total de la composicion. Ademas del alcoxisilano de la formula (I) el imprimador segun la invencion puede contener adicionalmente otro alcoxisilano de la formula general (Ia),
(R13O)3SiR12Si(OR13)3 (Ia),
en la que
R12 representa alquileno C1-C12, heteroalquileno C1-C12, por ejemplo oligoetilenglicol, o arileno C6-C12, por ejemplo fenileno
R13 representa independientemente en cada caso H o alquilo C1-C8,
pudiendo ser los restos R13 en cada caso iguales o diferentes.
Son alcoxisilanos de la formula (la) preferidos aquellos compuestos en los que las variables tienen los significados siguientes:
R12 = alquileno C1 a C6, preferentemente alquileno C2-C6, que puede contener uno o varios atomos de O, preferentemente uno, uno o varios atomos de azufre, preferentemente uno, o preferentemente uno o varios grupos NH, preferentemente uno, o fenileno,
R13 = H, alquilo C1-C8, preferentemente n- o i-alquilo C1-C8, de forma particularmente preferida metilo o etilo, pudiendo ser los restos R13 diferentes o preferentemente iguales.
Se prefieren restos sin heteroatomos.
El bis(alcoxisilano) de la formula (la), presenta ademas del grupo que actua de puente -R12- en cada atomo de Si tres grupos hidrolizables -OR13. Los bis(alcoxisilanos) (la) se utilizan siempre como mezclas con los monomeros de alcoxisilano (I). El resto alquilo R13 del grupo alcoxi de la formula (la) presenta 1 a 8 atomos de C y es preferentemente un resto n- o i-C1-C8, de forma particularmente preferida metilo o etilo.
Algunos bis(alcoxisilanos) (la) particularmente adecuados para la presente invencion son bis(trietoxisilil)etano, bis(trietoxisililetil)benceno y N,N-bis[3-(trimetoxisilil)-propil]amina. El bis(alcoxisilano) mas preferido es el bis(trietoxisilil)etano.
El bis(alcoxisilano) (la) esta presente preferentemente, dado el caso, en la formulacion de imprimacion segun la invencion en una cantidad del 0,005 al 2,50% en peso, preferentemente del 0,02 al 1,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,05 al 0,5% en peso, en cada caso con respecto al peso total de la composicion. La sal que contiene poli(fluoruro de hidrogeno) de la formula general (ll) se caracteriza por una buena solubilidad en la mezcla de disolventes utilizada. Se prefieren aquellos compuestos que son solubles en las concentraciones mencionadas mas adelante en el disolvente utilizado. R5, R6, R7 y R8 son parte de un ion amonio y preferentemente son iguales o independientemente uno de otro H, n- o i-alcano o -alquenilo con una longitud de cadena de C1 a C26, preferentemente C3-12. R5, R6, R7 y R8 pueden tambien estar unidos entre si como parte de un compuesto de amonio dclico. Los restos R5, R6, R7 y R8 preferidos son H, n- o i-alcano C1 a C4, siendo R5, R6, R7 y R8 iguales. De forma particularmente preferida R5 = R6 = R7 = R8 = butilo, en particular n-butilo. El anion de poli(fluoruro de hidrogeno) contenido en la formula (ll) se caracteriza por x = 2 - 5, preferentemente 2 - 4, prefiriendose particularmente x = 3.
Los grupos R5 a R8 pueden estar sustituidos o preferentemente no sustituidos. Los sustituyentes preferidos son halogeno, en particular cloro y bromo, asf como grupos aromaticos y heteroaromaticos, preferentemente fenilo y piridinilo. Los grupos R5 a R8 son, dado el caso, preferentemente sustituidos con 1 a 12, de forma particularmente preferida 1 a 6 y en particular 1 a 4 atomos de halogeno o 1 a 4 unidades aromaticas o heteroaromaticas.
En otra forma de realizacion (R9) es un cation metalico. A este respecto se trata de cationes metalicos biologicamente compatibles, preferentemente de sodio o potasio.
La sal que contiene poli(fluoruro de hidrogeno) (ll) esta presente normalmente en las composiciones de imprimacion segun la invencion en una cantidad del 1 al 25,0% en peso, preferentemente del 2,0 al 15,0% en peso y de forma particularmente preferida del 5,0 al 10,0% en peso, en cada caso con respecto al peso total de la composicion.
El componente (3) de la composicion de imprimacion segun la invencion es un disolvente organico o una mezcla de disolventes constituida por disolventes fisiologicamente aceptables. Algunos disolventes adecuados son, por ejemplo, alcoholes, cetonas y esteres, prefiriendose metanol, etanol, n-propanol, i-propanol, t-butanol, acetato de etilo, acetona, metiletilcetona y sus mezclas. Se prefiere particularmente el etanol.
Normalmente las composiciones de imprimacion contienen del 25 al 98,5% en peso, preferentemente del 35 al 75% en peso y de forma particularmente preferida del 45 al 55% de disolvente organico; en cada caso con respecto al peso total de la composicion.
El componente (4) es el agua necesaria para mejorar la accion de grabado de la sal de poli(fluoruro de hidrogeno). Normalmente la formulacion de imprimacion contiene del 25 al 98,5% en peso, preferentemente del 35 al 75% en peso y de forma particularmente preferida del 40 al 75% de agua; en cada caso con respecto al peso total de la composicion.
Las composiciones de imprimacion segun la invention son adecuadas en particular para el tratamiento de la superficie de restauraciones dentales con superficies de ceramica de silicato. La imprimacion y el grabado simultaneos de ceramicas de silicato con las composiciones de imprimacion autograbantes segun la invencion precisan solo cuatro etapas de operation: (1) aplicar el imprimador sobre la superficie, (2) dejar actuar al imprimador, (3) retirar el imprimador autograbante mediante enjuague con agua o un disolvente adecuado y (4) secar la superficie. La utilization de un imprimador autograbante reduce claramente, en consecuencia, el numero de etapas de operacion necesarias para la preparation de ceramicas silicaticas y posibilita, de esta forma, un proceso mas rapido y menos proclive a errores. Las composiciones de imprimacion segun la invencion no contienen preferentemente HF libre, es decir, el procedimiento se realiza sin la adicion ni la formation in situ de acido fluorhfdrico libre. Esto aumenta, en caso de contacto accidental, la seguridad operativa con respecto a la aparicion de efectos toxicos o destructores de tejidos.
Ademas del silano de la formula (I) y de la sal de poli(fluoruro de hidrogeno) (II) las composiciones de imprimacion segun la invencion pueden contener como componente (5) adicionalmente un monomero de ester de acido pirofosforico o de acido fosforico de la formula (III):
O=P(OR3)m(OR4)3-m (III),
en la que
R3 representa un resto organico, que presenta por lo menos un grupo polimerizable etilenicamente insaturado,
R representa H, SiR3, P(=O)(OR )2 o alquilo Ci a Ci6, preferentemente H, en el que R representa H, SiR'3 o alquilo C4 a Ci6, preferentemente H, y en el que R y R' son en cada caso independientemente uno de otro alquilo Ci a C4 y en particular metilo, y
m es 1 o 2,
pudiendo ser los restos R3 y R4 en cada caso iguales o diferentes;
Son compuestos de la formula (III) preferidos aquellos compuestos en los que las variables tienen los significados siguientes:
R3 = un resto con la formula siguiente:
en la que
R3a = H o fenilo, siendo preferentemente H;
R3b = H o metilo, siendo preferentemente metilo;
R3c = no esta presente o es alquilo C1-C16, siendo preferentemente alquilo C2-C3;
X = no esta presente o es -CO-O- o -CO-NH-, siendo preferentemente -CO-O- o -CO-NH-, en la que X no esta presente si R3c no esta presente;
r = 1 o 2;
R4 = metilo, etilo, preferentemente H;
m = 1 ,
siendo los restos R4 diferentes o preferentemente iguales.
Mediante la adicion del compuesto (III) se mejora la adherencia del imprimador a ceramicas de oxido y metales
no nobles. De esta forma se amplfa el espectro de aplicacion de la composicion de imprimacion segun la invencion a dichos materiales. Esto posibilita la utilizacion de la composicion para mejorar la eficacia de la union entre un material dental endurecible de forma radicalaria y una pluralidad de otros materiales de restauraciones dentales. Con ello puede reducirse en la aplicacion clmica, en comparacion con imprimadores espedficos del sustrato, el riesgo de confusion y el riesgo de fracaso clmico. Una ventaja particular de dichos imprimadores de uso universal es que pueden utilizarse en restauraciones que contienen diferentes materiales. Este es por ejemplo generalmente el caso en la reparacion de revestimientos ceramicos fracturados, en los que estan presentes diversos sustratos directamente adyacentes en un espacio reducido.
El monomero de ester de acido fosforico de la formula general (III) presenta por lo menos un resto R3, que contiene por lo menos un grupo polimerizable, preferentemente uno o dos. Normalmente se trata de uno o varios grupos polimerizables de forma radicalaria. Preferentemente el ester de acido fosforico posee exactamente un resto R3. Los pirofosfatos (R4=P(=O)(OR14)2) se hidrolizan en presencia de agua con el transcurso del tiempo dando fosfatos de la formula (III).
Preferentemente, R3 de la formula (III) contiene por lo menos un enlace doble etilenicamente insaturado. Por ejemplo, R3 puede contener por lo menos un grupo (met)acriloiloxi, un grupo (met)acriloilamino, un grupo vinilo, alilo o estirilo o una combinacion de los mismos. Los restos R3 preferidos comprenden (met)acriloiloxialquilo, preferentemente (met)acriloiloxi-alquilo C2-C16, de forma particularmente preferida (met)acriloiloxi-alquilo C4-C14, de forma muy particularmente preferida (met)acriloiloxi-alquilo C6-C10; di(met)acriloiloxialquilo, preferentemente di(met)acriloiloxi-alquilo C2-C16, de forma particularmente preferida di(met)acriloiloxi-alquilo C2-C10, de forma muy particularmente preferida di(met)acriloiloxiisopropilo; (met)acriloilaminoalquilo, preferentemente (met)acriloilamino-alquilo C2-C16, de forma particularmente preferida (met)acriloilamino-alquilo C4-C14, de forma muy particularmente preferida (met)acriloilamino-alquilo C6-C10.
El resto R4 se selecciona preferentemente de entre H, sililo, preferentemente SiMe3, y alquilo C1 a C16, pudiendo estar el resto alquilo ramificado o ser preferentemente de cadena lineal, preferentemente R4 es H, metilo, etilo o un resto n- o i-C3-C16. En una forma de realizacion particularmente preferida R4 es igual a H, representando el dihidrogenofosfato (monoester de acido fosforico) el monomero de ester de acido fosforico mas preferido.
Algunos monomeros de ester de acido fosforico (III) particularmente adecuados para la presente invencion son 10-fosfato de 1-metacriloiloxidecano (MDP), 6-fosfato de 1-metacriloiloxihexano (m Hp ), 10-fosfato de 1-metacriloilamidodecano (MADP), 6-fosfato de 1-acriloilamidohexano (AAHP), 2-fosfato de 1,3-dimetacriloiloxipropano (DMPP) y 2-fosfato de 1,3-dimetacriloilamidopropano (DMAPP). El monomero de ester de acido fosforico mas preferido es el 10-fosfato de 1-metacriloiloxidecano.
El monomero de ester de acido fosforico (III) se utiliza dado el caso preferentemente en una cantidad del 0,05 al 25,0% en peso, de forma particularmente preferida del 0,2 al 10,0% en peso y de forma muy particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso, en cada caso con respecto al peso total de la composicion.
En lugar del monomero de ester de acido pirofosforico o de acido fosforico de la formula (III), o preferentemente adicionalmente al mismo, la composicion de imprimacion segun la invencion puede contener uno o varios monomeros de acido fosfonico o de acido polifosfonico de la formula general (IIIa):
R11[P(=O)(OR10)2]n (IIIa)
en la que
R11 representa un resto organico, que presenta por lo menos un grupo polimerizable etilenicamente insaturado,
R10 representa un resto seleccionado de entre H, SiR'3 o alquilo C1 a C16, siendo R" alquilo C1 a C4, preferentemente metilo,
n es 1, 2, 3 o 4, preferentemente 1 o 2 y en particular 1,
pudiendo ser los restos R10 en cada caso iguales o diferentes.
Son compuestos de la formula (IIIa) preferidos aquellos compuestos en los que las variables tienen los significados siguientes:
R11 = un resto de la formula general
en la que
R11a = H o fenilo, siendo preferentemente H;
R11b = H o metilo, siendo preferentemente metilo;
R11c = no esta presente o es alquilo C1-C16, siendo preferentemente alquilo C2-C3;
X = no esta presente o es -CO-O- o -CO-NH-, siendo preferentemente -CO-O- o -CO-NH-, en la que X no esta presente si R11c no esta presente;
s = 1 o 2;
R10 = metilo, etilo, preferentemente H;
m' = 1 o 2, preferentemente 1,
p = 1,
siendo los restos R10 diferentes o preferentemente iguales.
El monomero de acido fosfonico de la formula general (Ilia) presenta por lo menos un resto R11, que contiene por lo menos un grupo polimerizable, preferentemente uno o dos. Normalmente se trata de uno o varios grupos polimerizables de forma radicalaria. Preferentemente el acido fosfonico (Ilia) posee exactamente un resto R11.
Preferentemente, R11 de la formula (Ilia) contiene por lo menos un enlace doble etilenicamente insaturado. Por ejemplo, R3 puede contener por lo menos un grupo (met)acriloiloxi, un grupo (met)acriloilamino, un grupo vinilo, alilo o estirilo o una combination de los mismos. Los restos R3 preferidos comprenden (met)acriloiloxialquilo, preferentemente (met)acriloiloxi-alquilo C2-C16, de forma particularmente preferida (met)acriloiloxi-alquilo C4-C14, de forma muy particularmente preferida (met)acriloiloxi-alquilo C6-C10; di(met)acriloiloxialquilo, preferentemente di(met)acriloiloxi-alquilo C2-C16, de forma particularmente preferida di(met)acriloiloxi-alquilo C2-C10, de forma particularmente preferida di(met)acriloiloxiisopropilo; (met)acriloilaminoalquilo, preferentemente (met)acriloilamino-alquilo C2-C16, de forma particularmente preferida (met)acriloilamino-alquilo C4-C14, de forma muy particularmente preferida (met)acriloilamino-alquilo C6-C10.
El resto R10 se selecciona preferentemente de entre H, sililo, preferentemente SiMe3, y alquilo C1 a C16, pudiendo estar el resto alquilo ramificado o ser preferentemente de cadena lineal, preferentemente R10 es H, metilo, etilo o un resto n- o i-C3-C16. En una forma de realization particularmente preferida R10 es igual a H, siendo el dihidrogenofosfonato (diacido fosfonico) el monomero de acido fosfonico mas preferido.
Algunos monomeros de acido fosfonico (Ilia) particularmente adecuados para la presente invention son 10-fosfonato de 1-metacriloiloxidecano, acido 9-metacriloiloxinonilfosfonico, fosfonato del ester etflico del acido 2-[4-(dihidroxifosforil)-2-oxabutil]-acrilico. El monomero de acido fosfonico mas preferido es el acido 9-metacriloiloxinonilfosfonico.
El monomero de acido fosfonico (Ilia) se utiliza, dado el caso, preferentemente en una cantidad del 0,05 al 25,0% en peso, de forma particularmente preferida del 0,2 al 10,0% en peso y de forma muy particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso, en cada caso con respecto al peso total de la composition.
Las formulas mostradas anteriormente comprenden solo los compuestos que son compatibles con el principio de equivalencia qmmica. Segun la invencion, a este respecto, son compuestos preferidos aquellos en los que todas las variables tienen uno de los significados preferidos y, en particular, uno de los significados particularmente preferidos. Tambien son preferidas aquellas composiciones que contienen una combinacion de componentes preferidos o particularmente preferidos, pudiendo contener la composicion de imprimacion segun la invencion en cada caso uno de los componentes mencionados o una mezcla de varias sustancias del tipo correspondiente.
Ademas, las composicion de imprimacion segun la invencion puede contener coadyuvantes adicionales (6), por ejemplo humectantes, detergentes, tales como, por ejemplo, tensioactivos no ionicos, anionicos y/o cationicos, preferentemente tensioactivos no ionicos y cationicos, desespumantes, estabilizantes y otros coadyuvantes, tales como, por ejemplo, aditivos antimicrobianos, perfumes, colorantes y conservantes. Las composiciones de imprimacion segun la invencion pueden contener espesantes polimericos, por ejemplo compuestos de polivinilo
solubles de forma adecuada, polimetacrilatos, poliacrilatos, polieteres, poliaminas, polisilicatos y polisacaridos, as ^como agentes tixotropicos y modificadores de la reolog^a.
Se prefieren particularmente las composiciones que como coadyuvantes contienen espesantes, uno o varios colorantes, uno o varios estabilizantes radicalarios y/o un tensioactivo.
Algunos coadyuvantes preferidos son espesantes no ionicos y colorantes en proporciones de, en cada caso, el 0,001 - 5% en peso, encontrandose la proporcion total de coadyuvante (6) en la formulacion en el intervalo del 0,001 al 10% en peso.
Segun una forma de realizacion preferida la composicion de imprimacion de la presente invencion contiene:
(1) del 0,05 al 25,0% en peso, preferentemente del 0,2 al 10,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso de monomero de alcoxisilano (I) y dado el caso del 0,005 al 2,5% en peso, preferentemente del 0,02 al 1,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,05 al 0,5% en peso del alcoxisilano (la);
(2) del 1,0 al 25,0% en peso, preferentemente del 2,0 al 15,0% en peso y de forma particularmente preferida del 5,0 al 10,0% en peso de sal de poli(fluoruro de hidrogeno) (II);
(3) del 25 al 98,5% en peso, de forma preferida del 35 al 75% en peso y de forma particularmente preferida del 45 al 55% en peso de disolvente organico;
(4) del 25 al 98,5% en peso, preferentemente del 35 al 75% en peso, de modo particularmente preferente del 40 al 75% en peso de agua;
(5) dado el caso del 0,05 al 25,0% en peso, preferentemente del 0,2 al 10,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso de monomero de ester de acido fosforico (Ill) y dado el caso del 0,05 al 25,0% en peso, preferentemente del 0,2 al 1,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en monomero de acido fosfonico (IIIa);
(6 dado el caso del 0,001 al 10%, preferentemente del 0,1 al 7,5%, de forma particularmente preferida del 1,0 al 5% de coadyuvante;
en cada caso con respecto al peso total de la composicion.
Son muy particularmente preferidas segun la invencion las composiciones de imprimacion A, B y C, que contienen los componentes siguientes:
(A) una combinacion de (I) 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano, (II) dihidrogenotrifluoruro de tetrabutilamonio y (III) 10-fosfato de 1-metacriloiloxidecano;
(B) una combinacion de (I) (3-trimetoxisililpropil)amida de acido metacnlico; (II) hidrogenofluoruro de tetrabutilamonio y (III) 10-fosfato de 1-metacriloilamidodecano;
(C) una combinacion de (I) 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano, (II) hidrogenodifluoruro de amonio y (III) 10-fosfato de 1-metacriloiloxidecano.
Preferentemente estos componentes se utilizan en las cantidades mencionadas anteriormente y, si se desea, con los aditivos opcionales mencionados.
La invencion se refiere tambien a la utilizacion de la composicion adhesiva en odontologfa y tecnologfa dental, en particular a su utilizacion para unir de forma adhesiva materiales dentales metalicos o ceramicos, en particular materiales dentales de ceramica de silicato con materiales dentales endurecibles de forma radicalaria, preferentemente cementos, materiales compuestos y materiales de fijacion basados en materiales compuestos (cementos compuestos), pero tambien derivados de acido metacnlico y mezclas de derivados de acido metacnlico exentos de materiales de carga.
Las composiciones segun la invencion son adecuadas en particular para su utilizacion como imprimador autograbante para ceramicas silicaticas, tales como, por ejemplo, feldespato, cuarzo, ceramicas basadas en leucita o en disilicato de litio u otras ceramicas que contienen vidrio. Las composiciones que contienen un monomero de ester de acido fosforico (III) y/o de acido fosfonico (IIIa) son adecuadas tambien para la imprimacion de ceramicas no silicaticas, tales como, por ejemplo, oxido de circonio estabilizado con itrio, oxido de aluminio y metales no nobles, tales como, por ejemplo titanio, aleaciones que contienen titanio, aleaciones dentales que contienen cromo, que contienen mquel o que contienen cobalto. Las restauraciones dentales constituidas por los materiales mencionados pueden fijarse con seguridad al diente natural despues del
tratamiento de superficie con la formulacion de imprimacion segun la invencion utilizando materiales de fijacion endurecibles de forma radicalaria. Se logra una buena union, tambien despues de una carga termica alterna, lo que indica una elevada durabilidad de la union en condiciones orales.
La invencion se refiere tambien a la utilizacion de la composicion de imprimacion segun la invencion en odontologfa y tecnologfa dental, en particular la utilizacion como adhesivo para la union adhesiva de materiales dentales ceramicos con materiales dentales endurecibles de forma radicalaria, preferentemente cementos, materiales compuestos y materiales de fijacion basados en materiales compuestos. Las composiciones segun la invencion son adecuadas para su utilizacion intraoral por el odontologo (utilizacion terapeutica) y la utilizacion extraoral (utilizacion no terapeutica).
Para el tratamiento con las composiciones de imprimacion segun la invencion se limpian ceramicas silicaticas despues de su fabricacion. Por ejemplo, pueden eliminarse residuos de produccion (por ejemplo, residuos del molde de fundicion o de agente abrasivo) mediante los procedimientos habituales en la tecnologfa dental (chorros de vapor, bano de ultrasonidos o chorro de agua). A continuacion las ceramicas se secan, por ejemplo se liberan con un soplador de aire del agua adherida superficialmente. A continuacion la formulacion de imprimacion se aplica con un dispositivo de aplicacion adecuado (por ejemplo, un pincel, una canula de cepillo) sobre la totalidad de la superficie de adhesion y sin agitacion adicional se deja durante preferentemente 15 a 300 s sobre la ceramica. A continuacion se retira el exceso de imprimador mediante enjuague con un chorro de agua y se seca la ceramica, por ejemplo se sopla hasta sequedad con un soplador de aire. Ademas, el procedimiento de cementacion (aplicacion de cemento, adaptacion de la ceramica a la cavidad/al munon dental, endurecimiento previo del cemento, eliminacion del exceso, endurecimiento final del cemento) se realiza segun el procedimiento habitual en odontologfa adecuado para la restauracion.
Para el recubrimiento de ceramicas de ceramica de oxido y restauraciones de metales no nobles con las composiciones de imprimacion segun la invencion se limpian las restauraciones de ceramica de oxido y de metales no nobles despues de su produccion. Por ejemplo, pueden eliminarse residuos de produccion (por ejemplo, residuos del molde de fundicion o de agente abrasivo) mediante los procedimientos habituales en la tecnologfa dental (chorros de vapor, bano de ultrasonidos o chorro de agua). A continuacion las ceramicas se secan, por ejemplo se liberan con un soplador de aire del agua adherida superficialmente. A continuacion se crea rugosidad en la superficie de la restauracion segun el procedimiento de tratamiento con chorro de arena especificado por el fabricante del material de restauracion. Son habituales, a este respecto, indicaciones sobre el tamano de grano del agente de tratamiento con chorro y sobre la presion del chorro. El proceso de tratamiento con chorro viene seguido habitualmente de otra etapa de limpieza para eliminar los residuos del agente de tratamiento con chorro, por ejemplo en un bano de ultrasonidos. A continuacion la restauracion se seca, por ejemplo se libera del agua adherida a la superficie mediante una corriente de aire. A continuacion la composicion de imprimacion se aplica con un dispositivo de aplicacion adecuado (por ejemplo, un pincel, una canula de cepillo) sobre la totalidad de la superficie de adhesion y sin agitacion adicional se deja durante preferentemente 30 a 300 s sobre la ceramica o la superficie metalica. A continuacion se retira el exceso de imprimador mediante enjuague con un chorro de agua y se seca la restauracion, por ejemplo se sopla hasta sequedad con un soplador de aire. Ademas, el procedimiento de cementacion (aplicacion de cemento, adaptacion de la ceramica a la cavidad/sobre el munon dental, endurecimiento previo del cemento, eliminacion del exceso, endurecimiento final del cemento) se realiza segun el procedimiento habitual en medicina dental adecuado para la restauracion. Las ceramicas de silicato, ceramicas de oxido y restauraciones metalicas tratadas con la composicion de imprimacion segun la invencion son tambien objeto de la invencion.
La invencion se explicara a continuacion en detalle por medio de ejemplos.
Ejemplos de realizacion
Ejemplo 1
Produccion de agentes adhesivos (imprimadores)
Los imprimadores A a G indicados en la tabla 1 siguiente se produjeron combinando los componentes y agitando los mismos hasta homogeneidad.
Tabla 1: Composicion del imprimador
Ejemplo 2
Determinacion de valores de adhesion sobre diferentes materiales de restauraciones dentales
Para la determinacion de los valores de adhesion se utilizo una disposicion de prueba tal como se describe en la literatura (M. Kern, V.P. Thompson, J. Prost. Dent. 199573(3): 240-249; M. Kern, V.P. Thompson, "Eine einfache Versuchsanordnung zur universellen Prufung des Klebeverbundes im axialen Zugtest", Dtsch Zahnarztl Z 1993, 48: 769-772).
Materiales
Las composiciones de imprimacion A - F segun la invencion se compararon con los imprimadores de ceramica o de metal comercialmente disponibles siguientes:
MBP: Monobond Plus (Ivoclar Vivadent AG, Schaan, Liechtenstein) a base de 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano, dihidrogenofosfato de 10-metilacriloiloxidecilo y ester 2-etoxicarbonilalflico del acido lipoico
MBS: Monobond-S Primer de Ivoclar Vivadent AG, Schaan, Liechtenstein (a base de 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano)
CP: Clearfil Ceramic Primer (empresa Kuraray Europe GmbH, Alemania) a base de 3-metacriloxipropiltrimetoxisilano y dihidrogenofosfato de 10-metilacriloiloxidecilo
ZP: Z-Prime (empresa BISCO, Estados Unidos) a base de dihidrogenofosfato de 10-metilacriloiloxidecilo Las composiciones de imprimacion segun la invencion para su utilizacion como agente adhesivo se analizaron sobre los materiales de restauracion siguientes:
E.max: Ceramica de disilicato de litio E.max CAD (empresa Ivoclar Vivadent AG, LI),
EMpress: Ceramica de leucita Empress (empresa Ivoclar Vivadent AG, Liechtenstein),
ZirCAD: Ceramica de circonio ZirCAD (empresa Ivoclar Vivadent AG, Liechtenstein),
Al-Cube: Ceramica de oxido de aluminio Al-Cube (empresa Vita, Alemania)
Titan: Titanio puro (Tritan, empresa Dentaurum, Alemania).
Preparacion de la superficie del cuerpo de ensayo
Los cuerpos de ensayo con forma de cubo se lijaron bajo refrigeracion con agua con papel de lija SiC de tamanos de grano P120 y P400 y a continuacion se pulieron con P1000.
Grabado de ceramica de silicato con HF para mediciones comparativas
Para las mediciones de referencia con tratamiento previo con HF se puso en contacto una vitroceramica de disilicato de litio (E.max CAD, empresa Ivoclar Vivadent, Liechtenstein) pulida y limpiada por ultrasonidos sin agitacion durante 20 s con gel de acido fluorhudrico (Ceramic Etch, empresa Ivoclar Vivadent AG, Liechtenstein), se enjuago con agua destilada y la superficie se soplo hasta sequedad con aire comprimido exento de aceite. Paralelamente se puso en contacto una ceramica de silicato reforzada con leucita (Empress, empresa Ivoclar Vivadent, Liechtenstein) sin agitacion durante 60 s con gel de acido fluorhudrico (Ceramic Etch, empresa Ivoclar Vivadent AG, Liechtenstein), se enjuago con agua destilada y la superficie se soplo hasta sequedad con aire comprimido exento de aceite. Las muestras se almacenaron hasta su utilizacion de forma protegida del polvo. Tratamiento con chorro de arena de las muestras de ceramica de oxido y metalicas
Se creo rugosidad en las superficies de ceramica de oxido de oxido de titanio (ZirCAD, empresa Ivoclar Vivadent, Liechtenstein) y oxido de aluminio (Al-Cube, empresa Vita, Alemania), asf como de titanio puro (Tritan, empresa Dentaurum, Alemania) con un agente de tratamiento con chorro de oxido de aluminio de 50 pm (Korox 50) a 2,5 x 105 Pa (2,5 bar) de presion a una distancia de aproximadamente 1-2 cm durante 15 s. A continuacion las muestras dispuestas sobre el borde (es decir, la superficie de adhesion dispuesta verticalmente sin contacto con la pared o el suelo) se limpiaron durante 10 min en i-propanol en un bano de ultrasonidos. Despues de eliminar el i-propanol las muestras se secaron con aire comprimido hasta sequedad y se almacenaron hasta su utilizacion de forma protegida del polvo.
Aplicacion de formulaciones de imprimacion no segun la invencion sobre superficies grabadas o tratadas con un chorro de arena
Para mediciones de referencia con adhesivos comercialmente disponibles los cuerpos de ensayo grabados o tratados con un chorro de arena se trataron con el producto segun las instrucciones de uso correspondientes. Aplicacion de las composiciones de imprimacion segun la invencion sobre superficies pulidas o tratadas con un chorro de arena
Para el ensayo de las composiciones de imprimacion segun la invencion se pusieron en contacto con una de las composiciones de imprimacion A - G segun la invencion ceramicas de silicato lijadas planas y pulidas mediante el proceso de preparacion descrito anteriormente, o ceramicas de oxido y metales tratados con un chorro de arena. Para ello las muestras se recubrieron totalmente una vez con un micropincel de cepillo impregnado con la composicion de imprimacion y se dejo actuar el lfquido durante 60 s. A continuacion se enjuago el lfquido remanente con agua del grifo y a continuacion se soplo hasta sequedad la superficie con aire comprimido exento de aceite.
Medicion de la resistencia a la traccion de la union adhesiva
Sobre la superficie imprimada, tal como se describe en Dtsch Zahnarztl Z (1993) 48, 769-772, se aplico una funda de plexiglas rellena con material compuesto fotopolimerizado (Multicore Flow, Ivoclar Vivadent AG, Schaan, Liechtenstein). Para ello se dispuso en el extremo que se va adherir de la funda una gota de cemento dental (Multilink Automix, Ivoclar Vivadent AG, Schaan, Liechtenstein) y se prenso por medio de un aparato de presion sobre el cuerpo de ensayo de ceramica. A continuacion el cemento se endurecio mediante 2 x 20 s de irradiacion con una lampara de polimerizacion (tipo BluePhase G2, empresa Ivoclar Vivadent, Liechtenstein) y las muestras se almacenaron durante 24 h a 37 °C en agua. A continuacion se determino la resistencia a la traccion de la union adhesiva con el portamuestras descrito en la literatura mencionada en una maquina de ensayo universal (tipo Z010, Zwick-Roell, Ulm, Alemania).
Para la simulacion de una carga constante se sometieron los cuerpos de ensayo tambien a una carga termica alterna. Para ello los cuerpos de ensayo, antes de la medicion de la resistencia a la traccion de la union adhesiva, se trasfirieron 10.000 veces de agua fna a 5 °C a agua caliente a 55 °C y viceversa y en cada caso se dejaron en el agua durante 60 s.
Resultados
Los resultados se resumen en la Tabla 2. Como muestran los valores de adhesion de la tabla 2, las composiciones de imprimacion A, B, C, D, E, F y G segun la invencion se caracterizan por una union muy buena a las superficies de los sustratos analizados en cada caso y disponen (cuando se analizo) de una resistencia a
cargas termicas buena, comparable a la de los productos disponibles comercialmente. Sobre ceramica de silicato se lograron valores de adhesion sin grabado previo con HF que son comparables con los de formulaciones comerciales despues del grabado con HF o incluso mejores. Ademas de esta ventaja, con las formulaciones que contienen fosfato C, E y F se logro una union a ceramica de oxido comparable a la de los imprimadores comerciales MBP y CP. Con la formulacion C se logro ademas un buen efecto adhesivo sobre metales.
Tabla 2
Ejemplo 3
Analisis de la liberacion de HF mediante espectroscopia de RMN de 19 F
La estabilidad de las sales de poli(fluoruro de hidrogeno) frente a la descomposicion hidrolftica y la liberacion de HF se analizo por espectroscopia de RMN de 19F en soluciones homogeneas en H2O/etanol (50/50%) d6-etanol. Los analisis espectroscopicos se llevaron a cabo en soluciones de las sales NBu4HF2 y N B u ^ F 3. Ademas se analizaron las composiciones de imprimacion A (que contema NBu4HF2, monomero de alcoxisilano MPTMS) y C (que contema NBu4H2F3, monomero de alcoxisilano MPTMS y monomero de ester de acido fosforico MDP). Las muestras se almacenaron (como se indica en la tabla 3) parcialmente antes de la medicion para poder excluir con seguridad la liberacion gradual de HF debida a una hidrolisis lenta. Sobre el imprimador C se realizo el analisis espectroscopico antes, durante y despues de un almacenamiento en condiciones de estres de 8 semanas a 50 °C para lograr un envejecimiento acelerado.
La ausencia de acido fluorhndrico HF libre en las composiciones de imprimacion se demostro por espectroscopia de RMN de 19F mediante la ausencia de la senal del singlete correspondiente a -162,9 a -165,8 ppm. Esta senal tampoco es detectable despues de un almacenamiento en condiciones de estres de 8 semanas a 50 °C, de forma que la ausencia de HF puede considerarse una propiedad estable de las composiciones de imprimacion
segun la invencion. Los espectros de RMN confirman, por lo tanto, la estabilidad de las composiciones de imprimacion segun la invencion que contienen sales de poli(fluoruro de hidrogeno) frente a la descomposicion hidrolftica y a la liberacion de HF.
La figura 1 muestra espectros de RMN de 19F de diferentes compuestos de fluoruro (fluoruro de hidrogeno, HF; fluoruro de tetrabutilamonio, TBAF, bifluoruro de amonio, a BF; hidrogenodifluoruro de tetrabutilamonio TBABF, dihidrogenotrifluoruro de tetrabutilamonio, TBADT). Medicion como soluciones homogeneas en H2O/etanol (50/50%) da-etanol.
La figura 2 muestra los espectros de RMN de 19F de la composicion de imprimacion C durante almacenamiento a 50 °C a lo largo de 8 semanas. Medicion como soluciones homogeneas en H2O/etanol (50/50%) da-etanol.
Tabla 3
Ejemplo 4
Microscopia electronica de barrido (MEB) de ceramicas de silicato erosionadas quimicamente en humedo La capacidad de las sales de poli(fluoruro de hidrogeno) para erosionar qmmicamente en humedo ceramicas de silicato se demostro por analisis MEB (veanse las figuras 3-5). Las fotograffas confirmaron la formacion deseada de sitios de retencion micromecanicos sobre la ceramica en los periodos de actuacion habituales en medicina dental de 1 minuto sin agitacion. Sorprendentemente la formacion de sitios de retencion micromecanicos con soluciones de sal de poli(fluoruro de hidrogeno) fue incluso mas pronunciada que con una solucion de HF equimolar en el mismo disolvente (H2O/etanol, 0,325 M), lo que es una ventaja adicional de las formulaciones de imprimacion segun la invencion.
La figura 3 muestra la erosion qrnmica en humedo lograda sobre ceramica de disilicato de litio (E.max, Ivoclar Vivadent AG) mediante acido fluorhfdrico, HF (0,325 M; H2O/etanol 50/50% en volumen) despues de 1 minuto de contacto sin agitacion y enjuague con agua.
La figura 4 muestra la erosion qrnmica en humedo lograda sobre ceramica de disilicato de litio (E.max, Ivoclar Vivadent AG) mediante bifluoruro de amonio, NH5F2, ABF (0,325 M; H2O/etanol 50/50% en volumen) despues de 1 minuto de contacto sin agitacion y enjuague con agua.
La figura 5 muestra la erosion qrnmica en humedo lograda sobre ceramica de disilicato de litio (E.max, Ivoclar
Vivadent AG) mediante dihidrogenotrifluoruro de tetrabutilamonio, NBU4H2F3, TBADT (0,325 M; H2O/etanol 50/50% en volumen) despues de 1 minuto de contacto sin agitacion y enjuague con agua.
Con la composicion de imprimacion C se analizo el efecto de un periodo de accion duplicado sobre ceramicas de disilicato de litio por analisis MEB (figuras 6 y 7). El patron de grabado despues de 1 minuto de periodo de contacto no se diferencia del de despues de un periodo de contacto de 2 minutos. No se pudieron observar deposiciones de cristalitos blancuzcos de disilicato de litio liberados caractensticas de ceramicas de disilicato de litio sobregrabadas en la superficie de la ceramica ni se pudieron observar cristalitos incorporados a la fase amorfa en las fotograffas MEB. Dichos cristalitos unidos de forma suelta forman en la union adhesiva entre ceramica y material de fijacion puntos de rotura controlada y pueden debilitar considerablemente la adhesion con su presencia. Por lo tanto, es ventajoso para el usuario poder evitar con seguridad el sobregrabado de una ceramica. La reducida tendencia de las composiciones de imprimacion a sobregrabar la ceramica en caso de contacto prolongado de forma no intencionada representa tambien una ventaja considerable de la composicion de imprimacion segun la invencion frente al grabado clasico con HF.
La figura 6 muestra la erosion qrnmica en humedo lograda sobre ceramica de disilicato de litio (E.max, Ivoclar Vivadent AG) mediante la formulacion de imprimacion C (que contiene dihidrogenotrifluoruro de tetrabutilamonio, NBu4H2F3, TBADT; 0,325 M; H2O/etanol 50/50% en volumen) despues de 1 minuto de contacto sin agitacion y enjuague con agua.
La figura 7 muestra la erosion qrnmica en humedo lograda sobre ceramica de disilicato de litio (E.max, Ivoclar Vivadent AG) mediante la formulacion de imprimacion C (que contiene dihidrogenotrifluoruro de tetrabutilamonio, NBu4H2F3, TBADT; 0,325 M; H2O/etanol 50/50% en volumen) despues de 2 minuto de contacto sin agitacion y enjuague con agua.
Claims (15)
1. Composicion de imprimacion dental que contiene
(1) por lo menos un monomero de alcoxisilano de la formula general (I)
R1nSi(OR2)4-n (I),
en la que
R1 representa un resto organico, que presenta por lo menos un grupo polimerizable etilenicamente insaturado,
R2 representa un resto alquilorganico Ci a C8 y
n es 1, 2 o 3,
pudiendo ser los restos R1 y R2 en cada caso iguales o diferentes;
(2) por lo menos una sal de poli(fluoruro de hidrogeno) de la formula general (II)
(R9)+(Hx-1Fx)-z (II),
en la que
R9 representa un cation metalico de la serie de los metales alcalinos, alcalinoterreos o de transicion o un ion amonio de la formula (R5)(R6)(R7)(R8)N+, en la que R5, R6, R7y R8 en cada caso independientemente uno de otro representan H o restos alquilo C1 a C26, alquenilo C3 a C26 o arilo C6-C26, en la que R5, R6, R7 y R8 pueden ser iguales o diferentes, y en la que dos de estos restos pueden estar unidos entre sf para formar conjuntamente con el atomo de nitrogeno un heterociclo, y en la que tres de los restos y el atomo de nitrogeno pueden formar conjuntamente un ion piridinio,
x es un numero entero de 2 a 5, preferentemente de 2 a 4, en particular 3,
z corresponde a la Valencia del resto cationico R9,
(3) un disolvente organico y
(4) agua.
2. Composicion segun la reivindicacion 1, en la que por lo menos una o todas las variables tienen uno de los significados siguientes:
Formula (I):
R1 = un resto con la formula siguiente:
en la que
R1a = H o fenilo, siendo preferentemente H;
R1b = H o metilo, siendo preferentemente metilo;
R1c = no esta presente o es alquilo C1-C16, siendo preferentemente alquilo C1-C3;
X = no esta presente o es -CO-O- o -CO-NH-, siendo preferentemente -CO-O- o -CO-NH-, en la que X no esta presente si R1c no esta presente;
R2 = H o alquilo C1 a C2 y
n = 1 o 2,
en la que los restos R1 y R2 pueden ser en cada caso iguales o diferentes y preferentemente son iguales; Formula (II)
x = un numero entero de 2 a 4, preferentemente 3,
z = 1 ,
R9 = un ion amonio de la formula (R5)(R6)(R7)(R8)N+, en la que R5, R6, R7 y R8 independientemente uno de otro significan H, n- o i-alquilo C1-C4, en la que R5, R6, R7 y R8 son preferentemente iguales, prefiriendose R5 = R6 = R7 = R8 = butilo.
3. Composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 2, que contiene como disolvente un alcohol, una cetona, un ester, metanol, etanol, n-propanol, i-propanol, t-butanol, acetato de etilo, acetona, metiletilcetona o una mezcla de los mismos.
4. Composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 3, que no contiene acido fluorfudrico (HF) libre.
5. Composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 4, que adicionalmente contiene por lo menos un monomero de ester de acido pirofosforico o de acido fosforico de la formula (III):
O=P(OR3)m(OR4)3-m (III),
en la que
R3 representa un resto organico, que presenta por lo menos un grupo polimerizable etilenicamente insaturado,
R 4 representa H, SiR3, P(=O)(OR 14 )2 o alquilo C1 a C16, en el que R 14 representa H, SiR'3 o alquilo C1 a C16 y en los que R y R' son en cada caso independientemente uno de otro alquilo C1 a C4 y
m es 1 o 2,
en la que los restos R3 y R4 pueden ser en cada caso iguales o diferentes, y/o
contiene por lo menos un monomero de acido fosfonico o de acido polifosfonico de la formula general (IIIa):
R11[P(=O)(OR10)2]n (IIIa)
en la que
R11 representa un resto organico, que presenta por lo menos un grupo polimerizable etilenicamente insaturado,
R10 representa un resto seleccionado de entre H, SiR'3 o alquilo C1 a C16, en la que R" es alquilo C1 a C4, n es 1, 2, 3 o 4.
6. Composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 5, que contiene adicionalmente por lo menos un coadyuvante que esta seleccionado de entre humectantes, detergentes, tensioactivos no ionicos, anionicos y/o cationicos, desespumantes, estabilizantes, aditivos antimicrobianos, perfumes, colorantes, conservantes, espesantes polimericos, agentes tixotropicos y modificadores de la reologfa.
7. Composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 6, que adicionalmente contiene un alcoxisilano de la formula general (Ia),
(OR13)3SiR12Si(OR13)3 (Ia),
en la que
R12 representa alquileno C1-C12, heteroalquileno C1-C12 o arileno C6-C12,
R13 representa independientemente en cada caso H o alquilo C1 a C8,
pudiendo ser los restos R13 en cada caso iguales o diferentes.
8. Composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 7, que contiene
(1) del 0,05 al 25,0% en peso, preferentemente del 0,2 al 10,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso de monomero de alcoxisilano (I);
(2) del 1,0 al 25,0% en peso, preferentemente del 2,0 al 15,0% en peso y de forma particularmente preferida del 5,0 al 10,0% en peso de sal de poli(fluoruro de hidrogeno) (II);
(3) del 25 al 98,5% en peso, de forma preferida del 35 al 75% en peso y de forma particularmente preferida del 45 al 55% en peso de disolvente organico;
(4) del 25 al 98,5% en peso, preferentemente del 35 al 75% en peso y de forma particularmente preferida del 40 al 75% en peso de agua;
en cada caso con respecto al peso total de la composicion.
9. Composicion segun la reivindicacion 8, que adicionalmente contiene
- del 0,005 al 2,5% en peso, preferentemente del 0,02 al 1,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,05 al 0,5% en peso del alcoxisilano (la) y/o
- del 0,05 al 25,0% en peso, preferentemente del 0,2 al 10,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso de monomero de ester de acido fosforico (Ill) y/o
- del 0,05 al 25,0% en peso, preferentemente del 0,2 al 10,0% en peso y de forma particularmente preferida del 0,5 al 5,0% en peso de monomero de acido fosfonico (IIIa) y/o
- del 0,001 al 10%, preferentemente del 0,1 al 7,5%, de forma particularmente preferida del 1,0 al 5% de coadyuvante,
en cada caso con respecto al peso total de la composicion.
10. Composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 9 para su utilizacion en odontologfa.
11. Utilizacion de una composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 9 para el tratamiento de superficie de restauraciones dentales metalicas o ceramicas o materiales dentales metalicos o ceramicos.
12. Utilizacion segun la reivindicacion 11 para el tratamiento de superficie de una restauracion dental o un material dental a base de ceramica de silicato.
13. Utilizacion de una composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 9 como agente adhesivo.
14. Restauracion dental, caracterizada por que por lo menos una parte de su superficie esta tratada con una composicion segun una de las reivindicaciones 1 a 9.
15. Restauracion dental segun la reivindicacion 14, que posee una superficie de ceramica silicatica, feldespato, cuarzo, ceramica basada en leucita o disilicato de litio.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13159634.8A EP2777687B1 (de) | 2013-03-15 | 2013-03-15 | Dentale Primerformulierung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2710021T3 true ES2710021T3 (es) | 2019-04-22 |
Family
ID=47900892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES13159634T Active ES2710021T3 (es) | 2013-03-15 | 2013-03-15 | Formulación de imprimación dental |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9974716B2 (es) |
EP (1) | EP2777687B1 (es) |
JP (2) | JP6412026B2 (es) |
KR (1) | KR102305373B1 (es) |
CN (1) | CN105188639B (es) |
CA (1) | CA2901348C (es) |
ES (1) | ES2710021T3 (es) |
WO (1) | WO2014139629A1 (es) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3624753B1 (en) | 2017-05-15 | 2022-03-30 | 3M Innovative Properties Company | Dental adhesive composition, preparation and use thereof |
AU2018356814B2 (en) * | 2017-10-23 | 2024-05-09 | Kuraray Noritake Dental Inc. | Dental composition |
JP6923237B2 (ja) * | 2018-03-05 | 2021-08-18 | 株式会社トクヤマデンタル | 歯科用組成物包装体、その製造方法及び歯科用組成物 |
CN109363951A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-02-22 | 吉林省登泰克牙科材料有限公司 | 一种用于牙科金属、氧化锆和瓷的通用处理剂组合物及其制备方法 |
CN109498466A (zh) * | 2018-11-27 | 2019-03-22 | 吉林省登泰克牙科材料有限公司 | 一种用于牙科瓷贴面与崩瓷修复的光固化通用粘结剂组合物、其制备方法和应用 |
US20230022464A1 (en) * | 2019-12-05 | 2023-01-26 | Tokuyama Dental Corporation | Dental adhesive composition, dental adhesive material, and dental adhesive material package |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4673354A (en) | 1985-10-01 | 1987-06-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Stable silanol priming solution for use in dentistry |
US4710217A (en) * | 1986-03-10 | 1987-12-01 | Corning Glass Works | Bonding glass-ceramic dental products |
JP2593850B2 (ja) | 1986-08-19 | 1997-03-26 | 株式会社クラレ | 歯科用セラミックス用接着性組成物 |
JP2681890B2 (ja) * | 1990-07-06 | 1997-11-26 | 鐘紡株式会社 | 陶歯用接着性プライマーの製造方法 |
JP2601254B2 (ja) | 1995-03-23 | 1997-04-16 | 株式会社クラレ | 歯科用接着性組成物 |
DE102005002750A1 (de) | 2005-01-20 | 2006-07-27 | Ernst Mühlbauer Gmbh & Co. Kg | Primer für dentale Edelmetalllegierungen |
WO2007135742A1 (ja) * | 2006-05-24 | 2007-11-29 | Kabushiki Kaisha Shofu | 歯科用接着性プライマー組成物 |
EP2229930B1 (de) * | 2009-03-17 | 2012-12-12 | Ivoclar Vivadent AG | Dentale universelle Haftvermittlerzusammensetzung |
-
2013
- 2013-03-15 ES ES13159634T patent/ES2710021T3/es active Active
- 2013-03-15 EP EP13159634.8A patent/EP2777687B1/de active Active
-
2014
- 2014-02-19 KR KR1020157028810A patent/KR102305373B1/ko active Active
- 2014-02-19 US US14/775,986 patent/US9974716B2/en active Active
- 2014-02-19 WO PCT/EP2014/000444 patent/WO2014139629A1/de active Application Filing
- 2014-02-19 JP JP2015561969A patent/JP6412026B2/ja active Active
- 2014-02-19 CA CA2901348A patent/CA2901348C/en active Active
- 2014-02-19 CN CN201480014369.6A patent/CN105188639B/zh active Active
-
2018
- 2018-03-15 JP JP2018048086A patent/JP2018090637A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102305373B1 (ko) | 2021-09-27 |
WO2014139629A1 (de) | 2014-09-18 |
JP2018090637A (ja) | 2018-06-14 |
KR20150128975A (ko) | 2015-11-18 |
JP2016513627A (ja) | 2016-05-16 |
CN105188639A (zh) | 2015-12-23 |
US20160022549A1 (en) | 2016-01-28 |
CA2901348C (en) | 2021-09-21 |
CN105188639B (zh) | 2018-07-13 |
EP2777687B1 (de) | 2018-11-07 |
US9974716B2 (en) | 2018-05-22 |
CA2901348A1 (en) | 2014-09-18 |
JP6412026B2 (ja) | 2018-10-24 |
EP2777687A1 (de) | 2014-09-17 |
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