ES2683020T3

ES2683020T3 - Sustrato provisto de un apilamiento con propiedades térmicas

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Publication number: ES2683020T3
Application number: ES07731699.0T
Authority: ES
Inventors: Pascal Reutler; Eric Petitjean; Eric Mattmann; Pierre-Alain Gillet
Original assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Current assignee: Saint Gobain Glass France SAS; Compagnie de Saint Gobain SA
Priority date: 2006-03-06
Filing date: 2007-03-06
Publication date: 2018-09-24
Anticipated expiration: 2027-03-06
Also published as: EP1993965B1; CN101395096A; BRPI0708389B1; JP5129759B2; KR20080101935A; JP2009528932A; US20180141314A1; US9919497B2; US20090197077A1; MX2008011390A; PL1993965T3; PT1993965T; CN101395096B; BRPI0708389A2; CA2644888C; KR101400417B1; DK1993965T3; TR201810727T4; FR2898123B1; EA017695B1

Abstract

Sustrato (10), concretamente sustrato de vidrio transparente, dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprende una capa (40) funcional con propiedades de reflexión en el infrarrojo y/o en la radiación solar, concretamente metálico a base de plata o de una aleación metálica que contiene plata, y dos revestimientos (20, 60), estando dichos revestimientos compuestos por una pluralidad de capas (24, 26; 64) dieléctricas, de manera que la capa (40) funcional está dispuesta entre los dos revestimientos (20, 60), estando la capa (40) funcional depositada, directamente en contacto, sobre una capa (30) de humectación a base de óxido de cinc depositada a su vez directamente sobre un revestimiento (20) subyacente, caracterizado porque el revestimiento (20) subyacente comprende al menos una capa (24) dieléctrica a base de nitruro de silicio y/o de nitruro de aluminio y al menos una capa (26) de alisado no cristalizada de un óxido mixto, estando dicha capa (26) de alisado en contacto con dicha capa (30) de humectación suprayacente y siendo la capa (26) de alisado una capa de óxido mixto a base de cinc y de estaño eventualmente dopada, presentando la capa (26) de alisado un grosor geométrico comprendido entre 0,2 y 10 nm.

Description

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DESCRIPCION

Sustrato provisto de un apilamiento con propiedades termicas

La invencion se refiere a los sustratos transparentes, concretamente de material ngido mineral tal como el vidrio, estando dichos sustratos revestidos por un apilamiento de capas delgadas que comprende una capa funcional de tipo metalico que puede actuar sobre la radiacion solar y/o la radiacion infrarroja de longitud de onda larga.

La invencion se refiere, mas particularmente, al uso de tales sustratos para fabricar acristalamientos de aislamiento termico y/o de proteccion solar. Estos acristalamientos pueden estar destinados a equipar tanto los edificios como los vefnculos, concretamente, con vistas a disminuir el esfuerzo de climatizacion y/o impedir un sobrecalentamiento excesivo (acristalamientos denominados “de control solar”) y/o disminuir la cantidad de energfa disipada hacia el exterior (acristalamientos denominados de “baja emisividad”) impulsados por la importancia siempre en aumento de las superficies acristaladas en los edificios y los habitaculos de vefnculos.

Por otro lado, estos acristalamientos pueden estar integrados en acristalamientos que presentan funcionalidades particulares, tales como, por ejemplo, acristalamientos de calentamiento o acristalamientos electrocromicos.

Un tipo de apilamiento de capas conocido para conferir a los sustratos tales propiedades esta constituido por una capa metalica funcional con propiedades de reflexion en el infrarrojo y/o en la radiacion solar, concretamente una capa funcional metalica a base de plata o de una aleacion metalica que contiene plata.

Esta capa funcional metalica se deposita en una forma cristalizada sobre una capa de humectacion tambien cristalizada que favorece la orientacion cristalina adecuada de la capa metalica depositada por encima.

Esta capa funcional se encuentra dispuesta entre dos revestimientos de material dielectrico del tipo oxido o nitruro metalico. Generalmente, el apilamiento se obtiene mediante una sucesion de deposiciones efectuadas mediante una tecnica que utiliza el vacfo tal como la pulverizacion catodica eventualmente asistida por campo magnetico. Tambien pueden estar previstos uno, incluso dos, revestimientos muy delgados denominados “revestimiento de bloqueo”, dispuestos directamente bajo, sobre o a cada lado de cada capa metalica funcional a base de plata, actuando el revestimiento subyacente como revestimiento de union, de nucleacion y/o de proteccion durante un eventual tratamiento termico de manera posterior a la deposicion, y actuando el revestimiento suprayacente como revestimiento de proteccion o de “sacrificio”, con el fin de evitar la alteracion de la plata si se deposita una capa superpuesta mediante pulverizacion catodica en presencia de oxfgeno o de nitrogeno y/o si el apilamiento se somete a un tratamiento termico tras la deposicion.

A partir de la solicitud de patente n.° EP 718 250 se conoce un apilamiento de capas delgadas que comprende una capa funcional metalica de plata que se deposita sobre una capa de humectacion de oxido de cinc que se deposita a su vez sobre una capa a base de nitruro de silicio que esta situada sobre una cara de un sustrato

A partir de la solicitud de patente n.° FR 2 856 627 tambien se conoce une capa de cobertura que es una capa de proteccion y que puede ser a base de oxido mixto de cinc y de estano.

A partir de la solicitud de patente europea n.° EP 803 481, se conoce el uso, bajo una capa de humectacion a base de oxido de cinc, de una capa amorfa a base de oxido mixto de cinc y de estano directamente en contacto con el sustrato.

Esta demostrado que una capa amorfa de este tipo, cuando no esta depositada directamente sobre el sustrato sino que esta intercalada entre al menos una capa dielectrica subyacente y una capa de humectacion, permite modificar la superficie de contacto entre la capa dielectrica y la capa de humectacion situada por encima y por tanto mejorar sustancialmente la cristalizacion de la capa de humectacion asf como la cristalizacion de la capa metalica funcional. El documento EP 0 877 005 describe un apilamiento de este tipo.

Se ha descubierto que, de una manera sorprendente, la integracion de una capa amorfa de este tipo en el revestimiento subyacente a la capa funcional y dotado de al menos una capa dielectrica a base de nitruro bajo esta capa amorfa permite conseguir una mejora deseada de la cristalizacion de las capas funcionales y por tanto una mejora deseada de la resistividad del apilamiento completo.

El objetivo de la invencion es conseguir remediar los inconvenientes de la tecnica anterior, poniendo a punto un nuevo tipo de apilamiento de capas del tipo de aquellos descritos anteriormente, apilamiento que presenta una resistividad mejorada, menor que en un apilamiento similar de grosor de capa funcional y revestimientos equivalentes, tanto si se somete el apilamiento a uno (o varios) tratamientos termicos a alta temperatura del tipo curvado, temple o recocido como si no, y en el caso de que se someta a uno (o varios) tratamientos de este tipo, conservando al mismo tiempo su calidad optica y su resistencia mecanica.

Por tanto, la invencion tiene como objeto, en su acepcion mas amplia, un sustrato, concretamente sustrato de vidrio transparente, dotado de un apilamiento de capas delgadas segun la reivindicacion 1. Este apilamiento comprende una capa funcional con propiedades de reflexion en el infrarrojo y/o en la radiacion solar, concretamente una capa

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funcional metalica a base de plata o de una aleacion metalica que contiene plata, y dos revestimientos, estando dichos revestimientos compuestos por una pluralidad de capas dielectricas, de manera que la capa funcional esta dispuesta entre dos revestimientos, depositandose la capa funcional sobre une capa de humectacion depositada a su vez directamente sobre un revestimiento subyacente; el revestimiento subyacente comprende al menos una capa dielectrica a base de nitruro de silicio y/o de nitruro de aluminio y al menos una capa de alisado no cristalizada de un oxido mixto, estando dicha capa de alisado en contacto con dicha capa de humectacion suprayacente.

Por tanto, la invencion consiste en prever una capa de alisado no cristalizada bajo la capa de humectacion que se cristaliza para permitir un crecimiento adecuado de la capa funcional situada por encima de esta capa de humectacion, directamente en contacto con la capa de humectacion.

Resulta evidente que en el caso en el que el revestimiento subyacente comprende al menos una capa dielectrica a base de nitruro de silicio y/o de nitruro de aluminio, elegir una capa de alisado tal como se indica en la reivindicacion 1, no cristalizada, de un oxido mixto, permite obtener una buena resistividad del apilamiento y propiedades opticas adaptadas a la expectativa tanto si el sustrato se somete a un tratamiento termico tras la deposicion como si no.

La invencion se aplica por tanto a los sustratos denominados “templables o no”, en la medida en que es posible sobre una misma fachada de edificio, por ejemplo, disponer acristalamientos unos en proximidad de otros que integran sustratos templados y sustratos no templados, sin que sea posible distinguir unos de otros mediante una simple observacion visual del color en reflexion y de la reflexion luminosa.

En el sentido de la presente invencion cuando se precisa que una deposicion de capa o de revestimiento (que comprende una o varias capas) se efectua directamente bajo o directamente sobre otra deposicion, significa que no puede existir interposicion de ninguna capa entre estas dos deposiciones.

La capa de alisado se denomina “no cristalizada”, en el sentido de que puede ser completamente amorfa o parcialmente amorfa y por tanto parcialmente cristalizada, pero no puede estar completamente cristalizada, sobre todo su grosor. No puede ser de naturaleza metalica ya que es a base de oxido mixto (un oxido mixto es un oxido de al menos dos elementos).

El aspecto cristalografico de la capa de alisado es diferente, necesariamente, del de la capa de humectacion dado que la capa de alisado no esta cristalizada mientras que la capa de humectacion esta, por lo general, cristalizada; por tanto, no pueden confundirse desde este punto de vista.

El interes de una capa de alisado de este tipo es que permite obtener una superficie de contacto con la capa de humectacion directamente suprayacente que es poco rugosa. Esta pequena rugosidad, puede observarse, por otro lado, mediante el microscopio electronico de transmision.

Por otro lado, la capa de humectacion se texturiza mejor y presenta, ademas, una orientacion cristalografica preferible mas marcada.

Por tanto, cada capa de alisado esta realizada de un material diferente, tanto desde el punto de vista cristalografico como estequiometrico, del de la capa de humectacion bajo la que se dispone directamente.

La capa a base de nitruro del revestimiento subyacente, que comprende, por otro lado, la capa de alisado, esta en contacto con el sustrato, directa o indirectamente por medio de una capa de contacto por ejemplo a base de oxido de titanio (TO2).

El mdice de esta capa a base de nitruro es, preferiblemente, inferior a 2,2.

La capa de alisado es una capa de oxido mixto a base de cinc y de estano.

El mdice de la capa de alisado es, preferiblemente, inferior a 2,2.

De manera adicionalmente preferible, la capa de alisado es una capa de oxido mixto no estequiometrico en oxfgeno y aun mas particularmente una capa de oxido mixto a base de cinc y de estano subestequiometrico dopada con antimonio (SnZnOx:Sb, siendo x un numero).

Por otro lado, la capa de alisado presenta un grosor geometrico comprendido entre 0, 2 y 10 nm.

En una variante preferida, al menos un revestimiento de bloqueo es a base de Ni o de Ti o es a base de una aleacion a base de Ni, concretamente es a base de una aleacion de NiCr.

Ademas, la capa de humectacion subyacente a la capa funcional es a base de oxido de cinc; esta capa de humectacion puede ser, en particular, a base de oxido de cinc dopado con aluminio.

El grosor geometrico de la capa de humectacion esta comprendido, preferiblemente, entre 2 y 30 nm y aun mas preferiblemente comprendido entre 3 y 20 nm.

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El acristalamiento segun la invencion incorpora al menos el sustrato de soporte del apilamiento segun la invencion, eventualmente asociado a al menos otro sustrato. Cada sustrato puede ser claro o coloreado. Concretamente, al menos uno de los sustratos puede ser de vidrio coloreado en masa. La eleccion del tipo de coloracion dependera del nivel de transmision luminosa y/o del aspecto colorimetrico buscados para el vidrio una vez lograda su fabricacion.

Asf, para acristalamientos destinados a equipar vehftculos, determinadas normas imponen que el parabrisas presente una transmision luminosa Tl de aproximadamente el 75% y otras normas imponen una transmision luminosa Tl de aproximadamente el 65%; no exigiendose un nivel de transmision de este tipo para los acristalamientos laterales o el techo del automovil, por ejemplo. Los vidrios tintados que pueden conservarse son, por ejemplo, aquellos que, para un grosor de 4 mm, presentan una Tl del 65% al 95%, una transmision energetica Te del 40% al 80%, una longitud de onda dominante en transmision de 470 nm a 525 nm asociada a una pureza de transmision del 0,4% al 6% segun el iluminante D65, lo que puede “traducirse” en el sistema de colorimetna (L, a*, b*) en valores de a* y b* en transmision comprendidos, respectivamente, entre -9 y 0 y entre -8 y +2.

Para acristalamientos destinados a equipar edificios, el acristalamiento presenta, preferiblemente, una transmision luminosa Tl de al menos el 75% incluso mas para aplicaciones de “emisividad baja”, y una transmision luminosa Tl de al menos el 40% incluso mas para aplicaciones de “control solar”.

El acristalamiento segun la invencion puede presentar una estructura laminada, que asocia, concretamente, al menos dos sustratos ngidos del tipo vidrio mediante al menos una lamina de poftmero termoplastico, con el fin de presentar una estructura de tipo vidrio/apilamiento de capas delgadas/lamina(s)/vidrio. Concretamente, el poftmero puede ser a base de polivinilbutiral PVB, etileno-acetato de vinilo EVA, poli(tereftalato de etileno) PET, poli(cloruro de vinilo) PVC.

El acristalamiento tambien puede presentar une estructura de acristalamiento laminada denominada asimetrica, que asocia un sustrato ngido de tipo vidrio a al menos una lamina de poftmero de tipo poliuretano con propiedades de absorbedor de energfa, eventualmente asociada a otra capa de poftmeros con propiedades “autocicatrizantes”. Para mas detalles sobre este tipo de acristalamiento, es posible remitirse, concretamente, a las patentes EP-0 132 198, EP-0 131 523, EP-0 389 354.

El acristalamiento puede presentar entonces una estructura de tipo vidrio/apilamiento de capas delgadas/lamina(s) de poftmero.

Los acristalamientos segun la invencion son adecuados para someterse a un tratamiento termico sin danar el apilamiento de capas delgadas. Portanto, eventualmente se curvan y/otemplan.

El acristalamiento puede curvarse y/o templarse al estar constituido por un solo sustrato, el dotado del apilamiento. Se trata entones de un acristalamiento denominado “monolftico”. En caso de curvarse, concretamente, con vistas a constituir acristalamientos para vehftculos, el apilamiento de capas delgadas se encuentra, preferiblemente, sobre una cara al menos parcialmente no plana.

El acristalamiento tambien puede ser un acristalamiento multiple, concretamente, un doble acristalamiento, pudiendo curvarse y/o templarse al menos el sustrato de soporte del apilamiento. En una configuracion de acristalamiento multiple es preferible que el apilamiento se disponga de manera que se oriente al lado de la capa de gas intercalar. En una estructura laminada, el sustrato de soporte del apilamiento esta preferiblemente en contacto con la lamina de poftmero.

Cuando el acristalamiento es monolftico o multiple del tipo doble acristalamiento o acristalamiento laminado, al menos el sustrato de soporte del apilamiento puede ser de vidrio curvado o templado, pudiendo este sustrato curvarse o templarse antes o despues de la deposicion del apilamiento.

La invencion tambien se refiere al procedimiento de fabricacion de sustratos segun la invencion, que consiste en depositar el apilamiento de capas delgadas sobre su sustrato mediante una tecnica a vacfo del tipo pulverizacion catodica eventualmente asistida por campo magnetico, despues en efectuar sobre el sustrato revestido un tratamiento termico de curvado/temple o recocido sin degradar su calidad optica y/o mecanica.

No obstante, no se excluye que la primera o las primeras capas del apilamiento puedan depositarse mediante otra tecnica, por ejemplo, mediante una tecnica de descomposicion termica de tipo pirolisis.

Los detalles y las caractensticas ventajosas de la invencion se desprenden de los siguientes ejemplos no limitativos, ilustrados con la ayuda de las figuras adjuntas:

- la figura 1 ilustra la evolucion, antes del tratamiento termico, de la resistencia por cuadrado de un apilamiento monocapa funcional dotado de un revestimiento monocapa de bloqueo superior, sin y con una capa de alisado, en funcion del grosor de la capa dielectrica colocada debajo;

- la figura 2 ilustra la evolucion, tras el tratamiento termico, de la resistencia por cuadrado del mismo apilamiento monocapa funcional que en la figura 1, sin y con una capa de alisado, en funcion del grosor de la capa dielectrica

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colocada debajo;

- la figura 3 ilustra la evolucion, antes del tratamiento termico, de la resistencia por cuadrado de un apilamiento monocapa funcional dotado de un revestimiento monocapa de bloqueo superior en funcion del grosor de la capa de alisado;

- la figura 4 ilustra la evolucion, tras el tratamiento termico, de la resistencia por cuadrado del mismo apilamiento monocapa funcional que en la figura 3 en funcion del grosor de la capa de alisado;

- la figura 5 ilustra un apilamiento monocapa funcional segun la invencion, estando la capa funcional dotada de un revestimiento de bloqueo superior pero no de un revestimiento de bloqueo inferior;

- la figura 6 ilustra un apilamiento monocapa funcional segun la invencion, estando la capa funcional dotada de un revestimiento de bloqueo inferior pero no de un revestimiento de bloqueo superior; y

- la figura 7 ilustra un apilamiento monocapa funcional segun la invencion, estando la capa funcional dotada de un revestimiento de bloqueo inferior y de un revestimiento de bloqueo superior.

En las figuras que ilustran apilamientos de capas, las proporciones entre los grosores de los diferentes materiales no se respetan de manera rigurosa con el fin de facilitar su lectura.

Por otro lado, en todos los ejemplos a continuacion, el apilamiento de capas delgadas se deposita sobre un sustrato 10 de vidrio sodico-calcico con un grosor de 2 mm.

En todos los casos en los que se ha aplicado un tratamiento termico al sustrato, se trata de un recocido durante aproximadamente 5 minutos a una temperatura de aproximadamente 660°C seguido de un enfriamiento al aire ambiental (aproximadamente 20°C).

Las figuras 1 a 4 tienen como objetivo ilustrar la importancia de la presencia de una capa de alisado en un apilamiento del tipo ilustrado sobre la figura 5, que ilustra un apilamiento segun la invencion.

Un ejemplo, numerado 1, de apilamiento monocapa funcional segun la invencion es del tipo:

Sustrato/ Si3N4 / SnZnOx:Sb / ZnO / Ag /Ti / ZnO / Si3N4

Variable / Variable / 8 nm / 10 nm / 2 nm / 8 nm / 20 nm

En las figuras 1 y 2, las curvas C1 y C11 que ilustran la variacion de la resistencia por cuadrado (en ohmios) del apilamiento en funcion del grosor de la capa de material dielectrico a base de nitruro de silicio (e Si3N4) en contacto con el sustrato, respectivamente antes (BHT) y tras (AHT) el tratamiento termico, cuando el apilamiento no esta dotado de una capa de alisado.

Las curvas C2 y C12 ilustran la variacion de la resistencia por cuadrado (en ohmios) del apilamiento en funcion del

grosor de la capa de material dielectrico a base de nitruro de silicio (e Si3N4) en contacto con el sustrato,

respectivamente antes y tras el tratamiento termico, cuando el apilamiento esta dotado de una capa de alisado de SnZnOx:Sb con un grosor de 6 nm (x designa un numero no nulo).

Las curvas C3 y C13 ilustran la variacion de la resistencia por cuadrado (en ohmios) del apilamiento en funcion del grosor de la capa de material dielectrico a base de nitruro de silicio (e Si3N4) en contacto con el sustrato,

respectivamente antes y tras el tratamiento termico, cuando el apilamiento esta dotado de una capa de alisado a

base de SnZnOx:Sb con un grosor de 20 nm.

Tal como puede observarse en estas figuras 1 y 2, para un mismo grosor de material dielectrico en contacto con el sustrato (por ejemplo 20 nm), la resistencia por cuadrado del apilamiento siempre es mas pequena, por tanto mejor, para las curvas C2, C3, C12 y C13 cuando el apilamiento comprende una capa de alisado a base de SnZnOx:Sb entre la capa de material dielectrico a base de nitruro de silicio en contacto con el sustrato y la capa de humectacion a base de oxido de cinc ZnO subyacente a la capa funcional a base de plata Ag y la resistencia por cuadrado del apilamiento siempre es mas pequena para un grosor de capa de alisado de 20 nm (curvas C3 y C13).

Se ha corroborado que la capa de alisado de oxido mixto es amorfa sobre todo su grosor, mientras que la capa de humectacion y la capa funcional metalica estan las dos cristalizadas, sobre todo su grosor.

Por consiguiente, la presencia de la capa de alisado mejora de una manera importante la resistencia por cuadrado del apilamiento con grosor de material dielectrico subyacente comparable y esta mejora es tanto mayor cuanto mas importante es el grosor de la capa de alisado.

En las figuras 3 y 4, las curvas ilustran la variacion de la resistencia por cuadrado (en ohmios) del apilamiento en funcion del grosor de la capa de alisado a base de oxido de cinc y de estano dopado con antimonio (e SnZnOx:Sb), respectivamente antes (BHT) y tras (AHT) el tratamiento termico, cuando el apilamiento esta dotado de una capa a

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base de nitruro de silicio Si3N de 20 nm entre el sustrato y la capa a base de SnZnOx:Sb.

Tambien se ha comprobado que la capa de alisado de oxido mixto es amorfa sobre todo su grosor, mientras que la capa de humectacion y la capa funcional metalica estan las dos cristalizadas, sobre todo su grosor.

Tal como tambien puede observarse en estas figuras 3 y 4, la presencia de la capa de alisado mejora de una manera importante la resistencia por cuadrado del apilamiento para una capa de alisado comprendida entre > 0 y 4 nm de grosor y esta mejora es tanto mayor cuanto mas importante es el grosor de la capa de alisado.

Pueden realizarse constataciones similares con un apilamiento monocapa funcional dotado de un revestimiento de bloqueo inferior y sin revestimiento de bloqueo superior o dotado de un revestimiento de bloqueo inferior y de un revestimiento de bloqueo superior.

Se realizo otra serie de ensayos.

Se realizaron tres ejemplos, numerados 2, 3 y 4, basandose en la estructura de apilamiento monocapa funcional ilustrada en la figura 5 en la que la capa 40 funcional esta dotada de un revestimiento 45 de bloqueo superior.

La tabla 1 a continuacion ilustra los grosores en nanometros de cada una de las capas:

Capa: Material Ej. 2 Ej. 3 Ej. 4

64: Si3N4 40 40 40

62: ZnO 10 10 10

45: Ti 2 2 2

40: Ag 10 10 10

30: ZnO 10 10 10

26: SnZnOx:Sb - - 10

24: Si3N4 30 30 30

Tabla 1

Las caractensticas de resistividad, opticas y energeticas de estos ejemplos se exponen en la tabla 2 a continuacion:

Ej.: Rn (ohmios) Rl (%) Tl (%) a* (D65) b* (D65) E (%)

2 BHT: 5,7 4,4 86,5 2,3 -5,2 6

2 AHT: - - - - - -

3 BHT: 6,9 4,4 85,6 2,9 -7,8 8

3 AHT: 5,2 4,5 87,1 6,5 -6 6

4 BHT: 5,8 5,7 87 1,3 -3,5 6

4 AHT: 4,3 4,3 88,7 3,3 -5,7 5

Tabla 2

Por tanto, la resistividad del apilamiento tanto antes como tras el tratamiento termico del ejemplo 4 segun la invencion siempre es inferior respectivamente a los contraejemplos 3 y 2.

Ademas, la reflexion luminosa Rl, la transmision luminosa Tl medidas segun el iluminante D65 y los colores en reflexion a* y b* en el sistema LAB medidos segun el iluminante D65 en el lado de las capas no vanan de manera realmente significativa entre los ejemplos segun la invencion y los contraejemplos 3 y 2.

Al comparar las caractensticas opticas y energeticas antes del tratamiento termico con estas mismas caractensticas tras el tratamiento termico, no se ha constatado ninguna degradacion importante.

Se han realizado otros ensayos basandose en la estructura de apilamiento monocapa funcional ilustrada en la figura

6 en la que la capa 40 funcional esta dotada de un revestimiento 35 de bloqueo inferior pero no de un revestimiento 45 de bloqueo superior.

7 en la que la capa 40 funcional esta dotada de un revestimiento 35 de bloqueo inferior y de un revestimiento 45 de 5 bloqueo superior.

Todos estos ensayos han permitido llegar a constataciones similares.

Ademas, se han llevado a cabo ensayos para permitir medir la rugosidad de las capas.

Le tabla 3 a continuacion ilustra las rugosidades medidas mediante reflectometna X y expresadas en nm (siendo la rugosidad del sustrato de aproximadamente 0,4):

Capa(s): Grosor (nm) de las capas Rugosidad a (nm)

Si3N4: 28,5 1,1

Vidrio: Sustrato

SnInOx: 29,5 0,8

Vidrio: Sustrato

SnZnOx:Sb: 32,0 0,7

Vidrio: Sustrato

SnZnOx:Sb: 11,2 0,8

Si3N4: 19,7 0,5

Vidrio: Sustrato

SnInOx: 10,4 0,8

Si3N4: 19,3 0,5

Vidrio: Sustrato

10 Tabla 3

Tal como puede observarse en esta tabla, la rugosidad de la capa a base de nitruro de silicio Si3N4 depositada sola sobre el vidrio es alta, pero la rugosidad final de un apilamiento que comprende una capa a base de oxido de estano y de indio SnlnOx (ITO) o una capa a base de oxido mixto de cinc y de estano SnZnOx:Sb depositada sobre la capa 15 a base de nitruro de silicio es menos alta. La capa de humectacion a base de oxido mixto permite por tanto mejorar la rugosidad de la superficie de contacto en contacto con la capa de humectacion, disminuyendo esta rugosidad.

La presente invencion se describio anteriormente a modo de ejemplo. Se entiende que el experto en la tecnica es susceptible de realizar diferentes variantes de la invencion sin por ello salirse del contexto de la patente tal como se define por las reivindicaciones.

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Claims

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REIVINDICACIONES

1. Sustrato (10), concretamente sustrato de vidrio transparente, dotado de un apilamiento de capas delgadas que comprende una capa (40) funcional con propiedades de reflexion en el infrarrojo y/o en la radiacion solar, concretamente metalico a base de plata o de una aleacion metalica que contiene plata, y dos revestimientos (20, 60), estando dichos revestimientos compuestos por una pluralidad de capas (24, 26; 64) dielectricas, de manera que la capa (40) funcional esta dispuesta entre los dos revestimientos (20, 60), estando la capa (40) funcional depositada, directamente en contacto, sobre una capa (30) de humectacion a base de oxido de cinc depositada a su vez directamente sobre un revestimiento (20) subyacente, caracterizado porque el revestimiento (20) subyacente comprende al menos una capa (24) dielectrica a base de nitruro de silicio y/o de nitruro de aluminio y al menos una capa (26) de alisado no cristalizada de un oxido mixto, estando dicha capa (26) de alisado en contacto con dicha capa (30) de humectacion suprayacente y siendo la capa (26) de alisado una capa de oxido mixto a base de cinc y de estano eventualmente dopada, presentando la capa (26) de alisado un grosor geometrico comprendido entre 0,2 y 10 nm.
2. Sustrato (10) segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la capa (26) de alisado es una capa de oxido no estequiometrico en oxfgeno.
3. Sustrato (10) segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque la capa (40) funcional esta dispuesta directamente bajo al menos un revestimiento (45) de bloqueo suprayacente.
4. Sustrato (10) segun la reivindicacion anterior, caracterizado porque al menos un revestimiento (45) de bloqueo es a base de Ni o de Ti o es a base de una aleacion a base de Ni, concretamente es a base de una aleacion de NiCr.
5. Sustrato (10) segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, caracterizado porque dicha capa (30) de humectacion presenta un grosor geometrico comprendido entre 2 y 30 nm, y preferiblemente comprendido entre 3 y 20 nm.
6. Acristalamiento que incorpora al menos un sustrato (10) segun una cualquiera de las reivindicaciones anteriores, eventualmente asociado a al menos otro sustrato.
7. Acristalamiento segun la reivindicacion anterior montado de manera monolttica o en acristalamiento multiple del tipo doble acristalamiento o acristalamiento laminado, caracterizado porque al menos el sustrato de soporte del apilamiento se curva o templa.
8. Procedimiento de fabricacion del sustrato (10) segun una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque se deposita el apilamiento de capas delgadas sobre el sustrato mediante una tecnica a vacfo del tipo pulverizacion catodica eventualmente asistida por campo magnetico, despues porque se efectua un tratamiento termico del tipo curvado, temple o recocido sobre dicho sustrato, sin degradar su calidad optica y/o mecanica.