DK160167B - Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur. - Google Patents
Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur. Download PDFInfo
- Publication number
- DK160167B DK160167B DK304085A DK304085A DK160167B DK 160167 B DK160167 B DK 160167B DK 304085 A DK304085 A DK 304085A DK 304085 A DK304085 A DK 304085A DK 160167 B DK160167 B DK 160167B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- embossing
- thermoplastic layer
- matrix
- pattern
- pressure
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
- G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K1/00—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion
- G06K1/12—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching
- G06K1/126—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching by photographic or thermographic registration
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
- G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
- G06K19/08—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means
- G06K19/10—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means at least one kind of marking being used for authentication, e.g. of credit or identity cards
- G06K19/16—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means at least one kind of marking being used for authentication, e.g. of credit or identity cards the marking being a hologram or diffraction grating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0838—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using laser
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2101/00—Use of unspecified macromolecular compounds as moulding material
- B29K2101/12—Thermoplastic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0236—Form or shape of the hologram when not registered to the substrate, e.g. trimming the hologram to alphanumerical shape
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/024—Hologram nature or properties
- G03H1/0244—Surface relief holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0493—Special holograms not otherwise provided for, e.g. conoscopic, referenceless holography
- G03H2001/0497—Dot matrix holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2224/00—Writing means other than actinic light wave
- G03H2224/06—Thermal or photo-thermal means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/50—Reactivity or recording processes
- G03H2260/61—Producing material deformation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Paper (AREA)
- Sanitary Device For Flush Toilet (AREA)
Description
1 DK 160167 B
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til fremstilling af et makroskopisk flademønster med en mikroskopisk struktur af den i krav Γ$ indledning angivne art. Opfindelsen angår desuden et apparat til gennemførelse af fremgangsmåden.
5 Sådanne flademønstre tjener f.eks. som et diffraktionsoptisk sikkerhedselement på et dokument (EP-A-0 105 099). De kan være udformede som geometriske figurer, tal, bogstaver, ornamenter, guillocheringer osv. og kan være sammensat ved sammenkædning af et stort antal diffraktionsoptiske elementer. Denne syntese kan real i-10 seres ved, at diffraktionsoptiske strukturer fremstilles ved inter-ferometrisk overlejring af kohærente lysstråler med forskellige indfaldsvinkler, der fotolitografisk omsættes til et overflademi-kroprofil (EP-A-0 105 099), hvorunder der til geometrisk begrænsning af de felter, der skal belyses, kan anvendes forfabrikerede optiske 15 masker. Dersom flademønsteret, der skal fremstilles, og dets mikroskopiske struktur overskrider en bestemt grad af grafisk og strukturel kompleksitet, viser masketeknikken sig at være prohibitiv kostbar. Endvidere kan diffraktionsoptiske strukturelementer med asymmetrisk profil, f.eks. specielle savtandprofiler, ikke frem-20 stilles ved den nævnte interferometriske metode.
Det er kendt at fremstille diffraktionsoptisk virksomme strukturer, såsom fasediffraktionsgitre, fasehologrammer og lignende ved prægning i et termoplastisk substrat ved hjælp af en prægematrice under anvendelse af tryk og varme (CH-PS 594 495). Op-25 bygningen af et flademønster med diffraktionsoptisk virksom struktur ville derfor også kunne ske ved, at man ved gentagne prægninger i et termoplastisk substrat samler talrige fasediffraktionselementer med hinanden. Denne metode fører imidlertid til utilfredsstillende resultater, dels fordi der ved prægekanterne mellem den opvarmede 30 trykzone og den uopvarmede trykløse flade uden for prægeområdet opstår forstyrrende vulster, og dels fordi de forskellige prægezoner ikke kan lægges sømløst mod hinanden, idet kantzonen af en tilstødende gammel prægning nødvendigvis udslettes ved kanten af en ny prægning på grund af metal prægematricers store termiske masse.
35 Fra CH-PS 594 495 er det også kendt at forme valgbare områder af en prægematrice med en mikrostruktur, ved at prægematricen kun opvarmes lokalt eller kun lokalt trykkes mod det termoplasti ske substrat. Derved fås imidlertid ingen skarpt definerede grænser mellem prægede og ikke-prægede partier.
2 DK Ί60167Β
Formålet med opfindelsen er at angive en fremgangsmåde af den i krav l's indledning angivne art samt et apparat, hvormed det er muligt ved afformning af udvalgte fladeområder af en prægematrice, der har en mikrostruktur på økonomisk måde at tilvejebringe et 5 flademønster med en mikroskopisk struktur, ved hvilket prægekanterne er skarpt begrænsede, og som ikke har forstyrrende vulster.
Fremgangsmåden ifølge opfindelsen er kendetegnet i krav 1, og apparatet ifølge opfindelsen til gennemførelse af fremgangsmåden er kendetegnet i krav 8. Fordelagtige videreudformninger er angivet 10 i under kravene.
I det følgende forklares udførelseseksempler på opfindelsen nærmere under henvisning til tegningen. På tegningen viser.
Fig. 1 en principskitse af et apparat ifølge opfindelsen til fremstilling af et flademønster, 15 fig- 2-4 forskellige flademønstre, fig. 5 et stempel, og fig. 6 en principskitse af et apparat til afføling af et mønsterforbi11ede.
I tegningens ikke målestokstro fig. 1 betyder 1 en plan stiv 20 og optisk transparent trykplade. På denne er der på ikke nærmere vist måde fastgjort et optisk transparent substrat 2. Den bort fra trykpladen 1 vendende overflade af substratet 2 er belagt med et tyndt lag 3 af et termoplastisk strålingsabsorberende materiale, i hvilket der skal præges et makroskopisk flademønster med en mikro-25 skopisk struktur, fortrinsvis en diffraktionsoptisk virksom struktur. Laget 3 kan f.eks. bestå af en sort eller farvet formstoffol ie.
Det kan også dannes ved farvning af overfladen af substratet 2, f.eks. ved hjælp af kolloidt kulstof i en kunststofopløsning. Dets typiske tykkelse er 0,1-10 jum.
30 Ud for det termoplasti ske lag 3 er der anbragt en uopvarmet prægematrice 4 med en mikrostruktur, der skal afformes zonevis og f.eks. består af en nikkellegering og fordelagtigt er så fleksibel, at der ved hjælp af et stempel 5 kan fremstilles et flademæssigt snævert begrænset prægetryk mellem prægematricen 4 og det termo-35 plastiske lag 3. Den typiske tykkelse af prægematricen er 100 μια. Stemplet 5 har fordelagtigt en konveks overflade med en typisk krumningsradius på ca. 7 mm. Ved hjælp af et trykapparat 6 trykkes stemplet 5 mod prægematricen 4 og trykker denne i en lille kontaktzone 7, hvis typiske diameter er 3 mm, mod det termoplasti ske lag 3.
DK 160167 B
3
En i fig. 1 skematisk antydet matriceholder 8 fastholder prægematricen 4 på en sådan måde, at denne kun ligger an mod det termo-pl asti ske lag 3 i selve kontaktzonen 7 men ellers har en lille afstand fra det termoplasti ske lag. Matriceholderen 8 er fordelag-5 tigt udført på en sådan måde, at prægematricen 4 med få enkle håndgreb eller endog maskinelt kan drejes eller udskiftes med en anden prægematrice med anden mikrostruktur, når trykapparatet 6 befinder sig i hvilestilling.
På den bort fra prægematricen 4 vendende side af trykpladen 10 1 er der fordelagtigt anbragt en af en laser 9, en optisk modulator 10 og et linsesystem 11 bestående strålekilde 12, der fokuserer en samlet varme- eller lysstråle 13 i en brændplet 14 i det termopla-stiske lag 3 og tilnærmelsesvis i centrum af kontaktzonen 7. Ved absorption af den direkte indfaldende stråle 13 og den mod prægema-15 tri een 4 reflekterede stråle opvarmes laget 3 i brændpletten 14's område. Den typiske diameter af brændpletten 14 er mindre end 100 pi. Ved hjælp af modul atoren 10 kan varme-eller lysstrålen 13's energi styres, eller lysstrålen 13 tændes og slukkes.
Trykapparatet 6 tillader en forskydning af stemplet 5 i 20 z-aksen, der ligger vinkelret på overfladen af delene 1-4. Appara-tets beskrevne konstruktionsdele er monterede på en ikke-vist grundplade på en sådan måde, at trykpladen 1, substratet 2 med det termoplasti ske lag 3 og prægematricen 4 kontinuerligt eller trinvis kan forskydes i forhold til brændpletten 14 og stemplet 5 både i 25 x-aksen og i y-aksen, d.v.s. i et med det termopl asti ske lag 3 parallelt plan. Hertil kan delene 1-4 være forskydelige, og delene 5 og 12 være stationære eller omvendt. Det er også muligt at anbringe delene 1-4 og 12 stationært og ved hjælp af et spejlsystem at lade strålen 12 følge bevægelsen af stemplet 5 i x-y-planet.
30 Prægetrykket indstilles ved hjælp af trykapparatet 6 på en sådan måde, at det termoplastiske lag 3 i dettes kolde tilstand kun elastisk deformerende tilpasser sig efter prægematricen 4's mikrostruktur i kontaktzonen 7 og ved prægetrykkets ophør atter afspænder sig til dets oprindelige, d.v.s. glatte tilstand. Dersom strålen 13 35 imidlertid tændes, samtidig med at prægetrykket udøves, opvarmes det strålingsabsorberende termoplasti ske lag 3 så meget over blødgø-ringstemperaturen i et tilnærmelsesvis punktformet fladeelement, der ligger i strålekilden 12's brændplet 14, at dette fladeelements overflade deformeres plastisk svarende til prægematricen 4's
„ DK 160167 B
4 mikrostruktur og den prægede struktur og bibeholder den prægede struktur efter afkøling, når prægetrykket ophører. Det ønskede flademønster sammensættes nu af flere sådanne fladeelementer.
Ved stationær skrivemåde tændes strålen 13 kun kortfristet.
5 Derefter afkøles det opvarmede volumen af det termoplasti ske lag 3 hurtigt ved varmeafgivelse til prægematricen 4 og stemplet 5 samt til laget 3 henholdsvis substratet 2. Trykapparatet 6 bringer stemplet 5 i hvilestilling og adskiller derved prægematricen 4 fra det termoplastiske lag. I brændpletten 14's område bibeholdes den 10 prægede struktur. Derefter gentages denne prægeproces successivt, idet substratet 2 med dets termoplasti ske lag 3 mellem de enkelte prægninger og ved slukket strålekilde 12 og ophævet prægetryk forskydes et bestemt stykke i en bestemt retning i x-y-planet i forhold til brændpletten 14 og stemplet 5. Mellem de enkelte præg-15 ninger kan prægematricen 4 udskiftes eller drejes et bestemt stykke om x-aksen. Derved kan sammenhængende eller fra hinanden adskilte områder af laget 3 forsynes med ønskede mikroskopiske strukturer.
Ved dynamisk skrivemåde forskydes prægematricen 4 og substratet 2 med laget 3 ved tændt strålekilde 12 og arbejdende tryk-20 apparat 6 kontinuerligt med bestemt hastighed i forhold til brændpletten 14 og stemplet 5, således at sammenhængende båndformede fladeområder af prægematricen 4's mikrostruktur afformes. Også ved dynamisk skrivemåde kan der ved successiv afformning tilvejebringes ønskede flademønstre med mikroskopisk struktur.
25 De ved den beskrevne fremgangsmåde fremstillede makro skopiske flademønstre kan være geometriske figurer, tal, bogstaver, ornamenter, guillocheringer osv.,, hvis mikroskopiske struktur danner et eneste eller flere forskellige fasediffraktionsgitre, faseholo-grammér, kinoforms og lignende. Således er det f.eks. muligt på 30 økonomisk måde at fremstille et komplekst fletværk af sammenslyngede makroskopiske linier med diffraktionsoptisk virksom mikroskopisk struktur i det termoplasti ske lag, hvor de mikroskopiske strukturer ændres fra linie til linie eller endog langs en linie, f.eks. varierer kvasikontinuerligt, således at der for det menneskelige øje 35 opstår en virkning som farvet bevægede guillocheringsmønstre. Den beskrevne fremgangsmåde kan dog f.eks. også anvendes til fremstilling af finkonturerede mikrostrukturer, således som de f.eks. anvendes inden for den såkaldte integrerede optik.
Af det på det termoplasti ske lag 3 fremstillede flademønster
DK 160167 B
5 kan der ved kendte kemiske og galvaniske fremgangsmåder fremstilles et duplikat i form af en metal prægematrice, der anvendes til massereproduktion af flademønsteret i et konventionelt prægeapparat.
Fig. 2 viser som et enkelt eksempel på et ved den beskrevne 5 fremgangsmåde fremstillet flademønster et smalt bånd, der er fremstillet ved en eneste skrivebevægelse i y-aksen. Bredden af båndet er tilnærmelsesvis lig med eller lidt større end diameteren af brændpletten 14 og er f.eks. 50 μια. Båndets struktur danner f.eks. et lineært fasediffraktionsgitter med 10-2000 linier pr. mm.
10 Ved samling af flere sådanne bånd, som vist i fig. 3, kan der fremstilles flademønstre af ønsket størrelse, hvor de mikroskopiske strukturer af ved siden af hinanden beliggende bånd går sømløst over i hinanden. Dersom flere sådanne bånd anbringes ved siden af hinanden, uden at prægematricen 4 herunder bevæges i 15 forhold til laget 3, opstår der, som det ses i fig. 3, en mikroskopisk struktur, hvis strukturlinier sømløst forløber over flere bånd.
Som det ses i fig. 4 kan en fremstillet struktur overskrives påny. Derved slettes den gamle struktur, dersom strålens energi- tæthed er tilstrækkelig stor. Dette forenkler fremstillingen af 20 komplekse strukturer, idet de fladeområder, der ved en påfølgende anden skrivning skal udfyldes med en anden struktur, ikke skal lades være fri ved den første skrivning.
Ved nøjagtig dosering af strålen 13's energitæthed og skrivehastigheden er det imidlertid også muligt oven på den gamle 25 struktur at præge en ny struktur, uden at den gamle struktur slettes helt.
Fordelene ved opfindelsen ses let. Som allerede nævnt kan både meget små linie- eller punktformede flader og større sammenhængende fladedele forsynes med diffraktionsoptisk virksomme mikro-30 strukturer uden synlige sømlinier ved skrivninger tæt op mod hinanden eller delvis overskrivning. Strukturerne af sådanne flademønstres enkelte fladeelementer kan være identiske eller variere fra element til element. Der kan også afformes mi kroprofil er, der ikke kan fremstilles ved interferometriske metoder. Prægekanterne er 35 skarpt afgrænsede og har ingen forstyrrende vulster. Generelt er det ved den beskrevne fremgangsmåde for første gang muligt at fremstille fint konturerede mikrostrukturer uden at være bunde til stive maskesystemer og at automatisere forløbet af fremgangsmåden ved nummerisk programmering og styring.
DK 160167 B
e
Dersom prægetrykket ved hjælp af stemplet 5 udelukkende udøves i brændpletten 14's område, vil uønskede partielle koldde-f ormeri nger af laget 3 som følge af prægematricen 4's tryk under hele prægetiden være reduceret til det ubetinget nødvendige med 5 hensyn til varigheden og hyppigheden ved steder, hvor prægematricen 4's mikrostruktur ikke skal afformes. Endvidere lettes udskiftningen af matricen, og i sammenligning med trykudøvelsen over den fulde flade kan der anvendes væsentligt mindre prægekræfter, hvilket letter den mekaniske udførelse af apparatet.
10 I fig. 5 ses et stempel 5', der består af en kugleholder 15 og en kugle 16. Kuglen 16 ligger med lille spillerum i et cylindrisk rum 17 i kugleholderen 15. Det cylindriske rum 17's længdeakse falder sammen med x-aksen (fig. 1). En del af kuglen 16 rager ud af kugleholderen 15 og danner den konvekse overflade af stemplet 5'.
15 Rummet 17 er over en trykluftledning 18 og en magnetventil 19 forbundet med en som trykapparat 6' virkende trykluftkilde 20.
Luftovertrykket i rummet 17, der trykker kuglen 16 mod prægematricen 4 (fig. 1), kan afbrydes og atter oprettes ved hjælp af magnetventilen 19 og kan varieres fint inden for vide grænser, 20 hvilket muliggør en nøjagtig justering af prægetrykket. Den automatiserede afbrydelse af prægetrykket ved hjælp af magnetventilen 19 muliggør på enkel måde udskiftning, drejning eller forskydning af prægematricen 4. Luftlejringen af kuglen 16 ved dens sider sikrer en lille rullemodstand. Lækluften, der undviger mellem kuglen 16 og 25 kugleføringens cylindriske væg, giver en luftkøling af kuglen 16.
I fig. 6 betegner 21 et grafisk forbillede, hvis makrosko piske flademønster 22 aftastes ved hjælp af en optoelektronisk aftaster 23, og som et makroskopisk flademønster med mikroskopisk struktur gengives målestokstro på laget 3 (fig. 1). En forskyd-30 ningsenhed 24 fører den af en lyskilde, et linsesystem og en lysdetektor (ikke vist) bestående aftaster 23, f.eks. linie for linie hen over mønsterforbiIlede 21. Synkront hermed forskydes brændpletten 14 og stemplet 5 i forhold til laget 3 og prægematricen 4. På tegningen er dette vist i form af en pantograf 25's stangsystem, der bevæges 35 ved hjælp af forskydningsenheden 24 og herunder drejes om et fast drejepunkt 26. Aftasteren 23's elektriske udgang er over en forstærker 27 og en tærskel kontakt 28 forbundet med en styreindgang 29 til strålekilden 12's modulator 10.
Dersom mønsterforbillede 21's lokale reflektivitet
7 DK 160167 B
overskrider en forud fastsat værdi, åbnes modulatoren 10, således at prægematricen 4's mikrostruktur afformes på de korresponderende steder af laget 3. Ved en reflektion, som ligger under den forud fastsatte værdi, sker der derimod hverken en blivende overformning 5 af mikrostrukturen eller en slettelse af en eventuel tidligere præget struktur.
Modulatoren 10 kan også styres på en sådan måde, at der ikke sker en prægning ved større men derimod ved mindre reflektion af mønsterforbilledet. Endvidere kan modulatoren 10 betjenes gradueret 10 i stedet for binært, hvorved afhængigheden af strålen 13's energi af mønsterforbi11edet 21's reflektion kan være lineær eller ikke-line-ær. Den graduerede betjening af modulatoren 10 giver en modulering af bredden af de prægede fladeelementer.
15 20 25 30 35
Claims (10)
1. Fremgangsmåde til fremstilling af et makroskopisk flade- 5 mønster med en mikroskopisk struktur, især en diffraktionsoptisk virksom struktur ved afformning af udvalgte fladeområder af en prægematrice (14) med mikrostruktur i et termoplastisk lag (3), kendetegnet ved, at man ved hjælp af en strålekilde (12) opvarmer et i dennes brændplet (14) liggende tilnærmelsesvis punkt-10 formet fladeelement af det termoplasti ske lag (3), således at prægematricens (4) mikrostruktur kun i dette fladeelement afformes plastisk, og at flademønsteret sammensættes af flere sådanne fladeelementer.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, 15 at der kun i brændplettens (14) område udøves et prægetryk.
3. Fremgangsmåde ifølge krav 2, kendetegnet ved, at prægetrykket udøves i brændplettens (14) område ved hjælp af et stempel (5,5') med konveks overflade.
4. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 1-3, 20 kendetegnet ved, at sammenhængende båndformede fladeområder af prægematricens (4) mikrostruktur afformes ved kontinuerlig forskydning af prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) i forhold til brændpletten (14).
5. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 1-3, 25 kendetegnet ved, at det termopl asti ske lag (3) ved afbrudt strålekilde (12) og ophævet prægetryk forskydes trinvis i forhold til brændpletten (14).
6. Fremgangsmåde ifølge krav 5, kendetegnet ved, at prægematricen (4) drejes eller udskiftes ved forskydningen.
7. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 1-6, kendetegnet ved, at et mønsterforbillede (21) aftastes ved hjælp af en optoelektronisk aftaster (23), at prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) synkront hermed forskydes i forhold til brændpletten (14), og at strålekilden (12) styres på en sådan måde i 35 afhængighed af aftasterens (23) udgangssignal, at prægematricens (4) mikrostruktur kun afformes ved korresponderende steder af laget (3), dersom mønsterforbilledets (21) lokale refleksibilitet overskrider en forud bestemt værdi.
8. Apparat til gennemførelse af fremgangsmåden ifølge et DK 160167 B hvilket som helst af kravene 1-7 med en plan stiv trykplade (1), et substrat (2) med et termoplastisk lag (3), en prægematrice (4) og et stempel (5,5'), kendetegnet ved, at trykpladen er transparent, at der ved den modsat stemplet (5) beliggende side af 5 trykpladen (1) er anbragt en strålekilde (12), hvis brændplet (14) opvarmer et tilnærmelsesvis punktformet fladeelement af det termo-plasti ske lag (3), at stemplet (5,5') har en konveks overflade og udelukkende i brændplettens (14) område fremstiller et prægetryk, og at prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) er forskydelige i 10 forhold til brændpletten (14) og stemplet (5,5') i et med det termoplasti ske lag (3) parallelt plan.
9. Apparat ifølge krav 8, kendetegnet ved, at stemplet (5') består af en kugleholder (15) og en kugle (16), at kuglen (16) er anbragt i et cylindrisk rum (17) i kugleholderen 15 (15), og at det cylindriske rum (17) over en trykluftledning (18) er sluttet til en trykluftkilde (20).
10. Apparat ifølge krav 8 eller 9, kendetegnet ved, at det har en forskydningsenhed (24), der fører en optoelek-trisk aftaster (23) hen over et mønsterforbiIlede (21) og synkront 20 hermed forskyder prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) i forhold til brændpletten (14) og stemplet (5,5'), og at aftasterens (23) elektriske udgang er forbundet med en styreindgang (29) til en modulator (10) for energien af den fra strålekilden (12) udgående stråle (13). 25 30 35
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH3277/84A CH664030A5 (de) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | Verfahren zur erzeugung eines makroskopischen flaechenmusters mit einer mikroskopischen struktur, insbesondere einer beugungsoptisch wirksamen struktur. |
CH327784 | 1984-07-06 |
Publications (4)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DK304085D0 DK304085D0 (da) | 1985-07-03 |
DK304085A DK304085A (da) | 1986-01-07 |
DK160167B true DK160167B (da) | 1991-02-04 |
DK160167C DK160167C (da) | 1991-07-08 |
Family
ID=4252505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK304085A DK160167C (da) | 1984-07-06 | 1985-07-03 | Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur. |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4761253A (da) |
EP (1) | EP0169326B1 (da) |
JP (1) | JPS6120723A (da) |
AT (1) | ATE41250T1 (da) |
AU (1) | AU572314B2 (da) |
CA (1) | CA1266194A (da) |
CH (1) | CH664030A5 (da) |
DE (1) | DE3568651D1 (da) |
DK (1) | DK160167C (da) |
ES (1) | ES8702836A1 (da) |
NO (1) | NO164401C (da) |
Families Citing this family (91)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3866230D1 (de) * | 1988-03-03 | 1991-12-19 | Landis & Gyr Betriebs Ag | Dokument. |
JP2789597B2 (ja) * | 1988-03-18 | 1998-08-20 | 凸版印刷株式会社 | ホログラム複製用多面付け原版の製造方法 |
DE58909370D1 (de) * | 1988-09-30 | 1995-09-07 | Landis & Gry Tech Innovat Ag | Strichkodefeld und Strichkodeleser. |
JP2564638B2 (ja) * | 1988-12-30 | 1996-12-18 | 太陽誘電株式会社 | コンパクトディスクの製造方法 |
EP0537439B2 (de) * | 1991-10-14 | 2003-07-09 | OVD Kinegram AG | Sicherheitselement |
US5538753A (en) * | 1991-10-14 | 1996-07-23 | Landis & Gyr Betriebs Ag | Security element |
US6219015B1 (en) * | 1992-04-28 | 2001-04-17 | The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University | Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images |
EP0683404B1 (en) * | 1994-04-08 | 1999-11-03 | Enea Ente Per Le Nuove Tecnologie, L'energia E L'ambiente | Method and apparatus for producing diffraction gratings by machine forming in a fast operation cycle |
ATE170014T1 (de) * | 1995-05-05 | 1998-09-15 | Landis & Gyr Tech Innovat | Verfahren zum aufbringen eines sicherheitselementes auf ein substrat |
US5798743A (en) * | 1995-06-07 | 1998-08-25 | Silicon Light Machines | Clear-behind matrix addressing for display systems |
US5661592A (en) * | 1995-06-07 | 1997-08-26 | Silicon Light Machines | Method of making and an apparatus for a flat diffraction grating light valve |
US5841579A (en) * | 1995-06-07 | 1998-11-24 | Silicon Light Machines | Flat diffraction grating light valve |
US5629801A (en) * | 1995-06-07 | 1997-05-13 | Silicon Light Machines | Diffraction grating light doubling collection system |
US6064404A (en) * | 1996-11-05 | 2000-05-16 | Silicon Light Machines | Bandwidth and frame buffer size reduction in a digital pulse-width-modulated display system |
US5882770A (en) * | 1996-12-31 | 1999-03-16 | Makansi; Munzer | Rainbow and hologram images on fabrics |
US5982553A (en) | 1997-03-20 | 1999-11-09 | Silicon Light Machines | Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array |
US6088102A (en) * | 1997-10-31 | 2000-07-11 | Silicon Light Machines | Display apparatus including grating light-valve array and interferometric optical system |
US6271808B1 (en) | 1998-06-05 | 2001-08-07 | Silicon Light Machines | Stereo head mounted display using a single display device |
US6130770A (en) | 1998-06-23 | 2000-10-10 | Silicon Light Machines | Electron gun activated grating light valve |
US6101036A (en) | 1998-06-23 | 2000-08-08 | Silicon Light Machines | Embossed diffraction grating alone and in combination with changeable image display |
US6215579B1 (en) | 1998-06-24 | 2001-04-10 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image |
US6872984B1 (en) | 1998-07-29 | 2005-03-29 | Silicon Light Machines Corporation | Method of sealing a hermetic lid to a semiconductor die at an angle |
US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
JP4099887B2 (ja) * | 1999-01-22 | 2008-06-11 | ソニー株式会社 | 光学素子の製造方法、並びに光学素子製造用金型 |
GB2365815B (en) * | 1999-01-22 | 2002-10-30 | Sony Corp | Manufacture of optical elements |
JP2000214884A (ja) | 1999-01-22 | 2000-08-04 | Olympus Optical Co Ltd | 音声記録装置 |
DE19925175C1 (de) * | 1999-05-27 | 2000-05-25 | Jenoptik Jena Gmbh | Einrichtung und Verfahren zur Übertragung von Mikrostrukturen |
US6956878B1 (en) | 2000-02-07 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging |
US6589628B1 (en) | 2000-06-27 | 2003-07-08 | Omnova Solutions Inc. | Article having optical effects |
US7211214B2 (en) * | 2000-07-18 | 2007-05-01 | Princeton University | Laser assisted direct imprint lithography |
US20050037143A1 (en) * | 2000-07-18 | 2005-02-17 | Chou Stephen Y. | Imprint lithography with improved monitoring and control and apparatus therefor |
TW571291B (en) * | 2001-01-31 | 2004-01-11 | Ibm | Mechanical data processing |
US7177081B2 (en) | 2001-03-08 | 2007-02-13 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast grating light valve type device |
US6707591B2 (en) | 2001-04-10 | 2004-03-16 | Silicon Light Machines | Angled illumination for a single order light modulator based projection system |
US6865346B1 (en) | 2001-06-05 | 2005-03-08 | Silicon Light Machines Corporation | Fiber optic transceiver |
US6747781B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
US6829092B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Blazed grating light valve |
US6930364B2 (en) | 2001-09-13 | 2005-08-16 | Silicon Light Machines Corporation | Microelectronic mechanical system and methods |
US6956995B1 (en) | 2001-11-09 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Optical communication arrangement |
US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
ATE261350T1 (de) * | 2002-01-25 | 2004-03-15 | Leister Process Tech | Verfahren zum abformen von mikro- und nanostrukturen |
US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
US7054515B1 (en) | 2002-05-30 | 2006-05-30 | Silicon Light Machines Corporation | Diffractive light modulator-based dynamic equalizer with integrated spectral monitor |
US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
AU2003237738A1 (en) * | 2002-06-20 | 2004-01-06 | Obducat Ab | Method and device for transferring a pattern |
US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
US6908201B2 (en) | 2002-06-28 | 2005-06-21 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-support structures |
US6714337B1 (en) | 2002-06-28 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response |
US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
JP2005535483A (ja) * | 2002-08-09 | 2005-11-24 | レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー | レーザー支援複製プロセス |
DE10236597A1 (de) * | 2002-08-09 | 2004-02-19 | Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg | Laserunterstütztes Replizierverfahren |
US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
US7057795B2 (en) | 2002-08-20 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | Micro-structures with individually addressable ribbon pairs |
US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
US7305105B2 (en) | 2005-06-10 | 2007-12-04 | Ecole polytechnique fédérale de Lausanne (EPFL) | Authentication of secure items by shape level lines |
US7194105B2 (en) * | 2002-10-16 | 2007-03-20 | Hersch Roger D | Authentication of documents and articles by moiré patterns |
US7295717B2 (en) * | 2002-10-16 | 2007-11-13 | Ecole polytechnique fédérale de Lausanne (EPFL) | Synthesis of superposition images for watches, valuable articles and publicity |
US7751608B2 (en) * | 2004-06-30 | 2010-07-06 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Model-based synthesis of band moire images for authenticating security documents and valuable products |
JP2005005245A (ja) * | 2002-11-08 | 2005-01-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 転写素材の転写方法、形状転写方法及び転写装置 |
US6928207B1 (en) | 2002-12-12 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Apparatus for selectively blocking WDM channels |
US7057819B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-06-06 | Silicon Light Machines Corporation | High contrast tilting ribbon blazed grating |
US6987600B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-01-17 | Silicon Light Machines Corporation | Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer |
US6934070B1 (en) | 2002-12-18 | 2005-08-23 | Silicon Light Machines Corporation | Chirped optical MEM device |
US6927891B1 (en) | 2002-12-23 | 2005-08-09 | Silicon Light Machines Corporation | Tilt-able grating plane for improved crosstalk in 1×N blaze switches |
US7068372B1 (en) | 2003-01-28 | 2006-06-27 | Silicon Light Machines Corporation | MEMS interferometer-based reconfigurable optical add-and-drop multiplexor |
US7286764B1 (en) | 2003-02-03 | 2007-10-23 | Silicon Light Machines Corporation | Reconfigurable modulator-based optical add-and-drop multiplexer |
US6947613B1 (en) | 2003-02-11 | 2005-09-20 | Silicon Light Machines Corporation | Wavelength selective switch and equalizer |
US6922272B1 (en) | 2003-02-14 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for leveling thermal stress variations in multi-layer MEMS devices |
US7027202B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-04-11 | Silicon Light Machines Corp | Silicon substrate as a light modulator sacrificial layer |
US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
US6922273B1 (en) | 2003-02-28 | 2005-07-26 | Silicon Light Machines Corporation | PDL mitigation structure for diffractive MEMS and gratings |
US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
US7391973B1 (en) | 2003-02-28 | 2008-06-24 | Silicon Light Machines Corporation | Two-stage gain equalizer |
US7042611B1 (en) | 2003-03-03 | 2006-05-09 | Silicon Light Machines Corporation | Pre-deflected bias ribbons |
US7245406B2 (en) * | 2003-09-17 | 2007-07-17 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for forming fine concavo-convex patterns, method for producing optical diffraction structure, and method for copying optical diffraction structure |
US7037458B2 (en) * | 2003-10-23 | 2006-05-02 | Intel Corporation | Progressive stamping apparatus and method |
JP2005352334A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 光回折構造転写シート及びその製造方法 |
JP4569185B2 (ja) * | 2004-06-15 | 2010-10-27 | ソニー株式会社 | フィルム構造体の形成方法及びフィルム構造体 |
GB0426724D0 (en) * | 2004-12-06 | 2005-01-12 | Rue De Int Ltd | Improved hologram |
US20070194239A1 (en) * | 2006-01-31 | 2007-08-23 | Mcallister Abraham | Apparatus and method providing a hand-held spectrometer |
US7721843B1 (en) * | 2006-02-08 | 2010-05-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Visual acoustic device |
CN101617354A (zh) | 2006-12-12 | 2009-12-30 | 埃文斯和萨瑟兰计算机公司 | 用于校准单个调制器投影仪中的rgb光的系统和方法 |
DE102007039591A1 (de) | 2007-08-22 | 2009-02-26 | Giesecke & Devrient Gmbh | Gitterbild |
US8358317B2 (en) | 2008-05-23 | 2013-01-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying a planar image on a curved surface |
US8702248B1 (en) | 2008-06-11 | 2014-04-22 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface |
US8077378B1 (en) | 2008-11-12 | 2011-12-13 | Evans & Sutherland Computer Corporation | Calibration system and method for light modulation device |
US8351087B2 (en) * | 2009-06-15 | 2013-01-08 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Authentication with built-in encryption by using moire parallax effects between fixed correlated s-random layers |
US9641826B1 (en) | 2011-10-06 | 2017-05-02 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface |
TWI672212B (zh) * | 2016-08-25 | 2019-09-21 | 國立成功大學 | 奈米壓印組合體及其壓印方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3170008A (en) * | 1961-03-14 | 1965-02-16 | Litton Systems Inc | Embossing process |
US3262122A (en) * | 1963-05-01 | 1966-07-19 | Ibm | Thermoplastic memory |
FR1603960A (da) * | 1967-09-11 | 1971-06-21 | ||
US4064205A (en) * | 1974-07-02 | 1977-12-20 | Logetronics, Inc. | Method for making a printing plate from a porous substrate |
CH594495A5 (da) * | 1976-05-04 | 1978-01-13 | Landis & Gyr Ag | |
FR2401484A1 (fr) * | 1977-08-25 | 1979-03-23 | Landis & Gyr Ag | Dispositif d'empreinte d'hologrammes dans un support thermoplastique |
JPS59111820A (ja) * | 1982-12-16 | 1984-06-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光情報担体デイスクの製造方法 |
AU4922485A (en) * | 1984-11-09 | 1986-05-15 | Canadian Patents And Development Limited | Optical interference authenticating device |
-
1984
- 1984-07-06 CH CH3277/84A patent/CH664030A5/de not_active IP Right Cessation
-
1985
- 1985-05-17 EP EP85106087A patent/EP0169326B1/de not_active Expired
- 1985-05-17 DE DE8585106087T patent/DE3568651D1/de not_active Expired
- 1985-05-17 AT AT85106087T patent/ATE41250T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-05-29 JP JP60114450A patent/JPS6120723A/ja active Granted
- 1985-06-27 CA CA000485573A patent/CA1266194A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-07-03 DK DK304085A patent/DK160167C/da not_active IP Right Cessation
- 1985-07-05 ES ES544893A patent/ES8702836A1/es not_active Expired
- 1985-07-05 NO NO852716A patent/NO164401C/no unknown
- 1985-07-08 AU AU44674/85A patent/AU572314B2/en not_active Expired
-
1987
- 1987-01-29 US US07/014,096 patent/US4761253A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DK304085D0 (da) | 1985-07-03 |
EP0169326A1 (de) | 1986-01-29 |
EP0169326B1 (de) | 1989-03-08 |
ATE41250T1 (de) | 1989-03-15 |
NO164401B (no) | 1990-06-25 |
NO852716L (no) | 1986-01-07 |
CA1266194A (en) | 1990-02-27 |
CH664030A5 (de) | 1988-01-29 |
DK160167C (da) | 1991-07-08 |
DK304085A (da) | 1986-01-07 |
ES8702836A1 (es) | 1987-01-16 |
JPS6120723A (ja) | 1986-01-29 |
NO164401C (no) | 1990-10-03 |
DE3568651D1 (en) | 1989-04-13 |
AU4467485A (en) | 1986-01-09 |
JPH0423897B2 (da) | 1992-04-23 |
US4761253A (en) | 1988-08-02 |
ES544893A0 (es) | 1987-01-16 |
AU572314B2 (en) | 1988-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DK160167B (da) | Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur. | |
US5461495A (en) | Apparatus for providing autostereoscopic and dynamic images and method of manufacturing same | |
JP3645262B2 (ja) | 多重ビームレーザ焼結 | |
US20070037065A1 (en) | Seamless holographic embossing substrate produced by laser ablation | |
US7401550B2 (en) | Laser-assisted replication method | |
EP1150843B2 (en) | Method and device for rotational moulding of surface relief structures | |
PL180287B1 (pl) | Sposób zamykania porów na wybranych obszarach powierzchni porowatychtworzyw termoplastycznych PL PL PL | |
US20050269303A1 (en) | Laser-supported reproduction method | |
Lim et al. | Direct single-layered fabrication of 3D concavo–convex patterns in nano-stereolithography | |
JP2003311831A (ja) | 凹凸パターンの形成方法 | |
US20010036602A1 (en) | Analog relief microstructure fabrication | |
KR20070029320A (ko) | 대면적 도광판 제조장치 및 제조방법 | |
JPH07151910A (ja) | 回折格子露光方法 | |
US20200201252A1 (en) | Method and device for producing a computer-generated hologram, a hologram and a lighting device for a vehicle | |
Kasztelanic et al. | Development of diffraction binary grating using hot embossing processing with electroformed nickel mold for broadband IR optics | |
CN85105065A (zh) | 具有微观结构的宏观表面图样的生成方法 | |
WO2024160503A1 (de) | Umformverfahren zur herstellung von nanostrukturen sowie eine zur durchführung bestimmte vorrichtung | |
DE10155741A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von interferentiell-optischen Linearmaßstäben zur Verwendung in einem optischen Längenmesssystem sowie optisches Längenmesssystem mit einem derartig hergestellten Maßstab | |
JP2001183960A (ja) | 光情報記録体およびその記録方法 | |
JPH05138746A (ja) | 光学的立体造形装置 | |
JPH04294384A (ja) | ホログラム複製方法 | |
KR20050065956A (ko) | 박막광학소자의 제조방법 | |
JPH04284227A (ja) | 光学的立体造形方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
AHB | Application shelved due to non-payment | ||
PBP | Patent lapsed |