DE858863C

DE858863C - Dosing device for shortwave or ultra shortwave therapy devices

Info

Publication number: DE858863C
Application number: DEK4784D
Authority: DE
Inventors: Wolfgang Dipl-Phys Dr Ferrant
Original assignee: Koch and Sterzel AG
Current assignee: Koch and Sterzel AG
Priority date: 1941-12-16
Filing date: 1941-12-16
Publication date: 1952-12-11

Description

Dosierungsgerät für Kurzwellen- # der oder Ultrakurzwellentherapie-Apparate Die Dosierung der Hochfrequenzleistung bei der Kurzwellen- oder Ultrakurzwellentherapie hat sich im Interesse der Patienten und zum Zweck der Verständigung über die Behandlungsmethoden als notwendig erwiesen. Die heute bekannten und üblichen Dosierungsgeräte bestimmen die im Gesamtvolumen des behandelten Körperteiles absorbierte Hochfrequenzleistung. Wenn man jedoch nur die einem Körperteil zugeführte Gesamtleistung bestimmt, so ist man nicht in der Lage, anzugeben, welcher Anteil der Gesamtleistung an einen kleinen Bereich dieses Körperteiles abgegeben wird. Ist z. B. ein kleinerer Bereich eines Körperteiles erkrankt bzw. mit Kurzwellen- oder Ultrakurzwellen zu behandeln, z. B. ein Furunkel an der Nase, so interessiert denArzt in erster Linie, welchenAnteil der aufgewendeten Leistung der betreffende Bereich aufnimmt. Es gibt auch Fälle, in denen der Arzt wissen möchte, welche Leistung ein Organ aufnimmt, das von den Kurzwellen möglichst nicht durchflutet werden soll, insbesondere wenn das betreffende Organ zwangsläufig mit dem zu behandelnden Bereich in die Nähe der Behandlungselektroden gelangt. In diesen Fällen ist es wünschenswert, die Leistungen getrennt für den zu behandelnden Bereich und für das zu schonende Organ messen zu können, um die Größe, die Abstände und die Lage der Elektroden möglichst günstig einzustellen. Es sei beispielsweise an die verscbiedenen, in der Nähe des Gehirns befindlichen Bereiche des Kopfes erinnert; denn das Gehirn soll im allgemeinen nicht mit Kurzwellen durchflutet werden.Dosing device for shortwave or ultrashortwave therapy devices The dosage of high-frequency power in shortwave or ultra-shortwave therapy has been in the interests of the patient and for the purpose of understanding the treatment methods proved necessary. Determine the dosing devices known and used today the high frequency power absorbed in the total volume of the treated body part. However, if one only determines the total power delivered to one part of the body, then so one is not in a position to state what proportion of the overall performance is given to one small area of this part of the body is released. Is z. B. a smaller area a part of the body becomes ill or treated with shortwave or ultra-shortwave, z. B. a boil on the nose, the doctor is primarily interested in what proportion The area concerned absorbs the power expended. There are also cases in which the doctor would like to know what kind of service an organ receives from the If possible, short waves should not be flooded, especially if that is the case Organ inevitably with the area to be treated in the vicinity of the treatment electrodes got. In these cases it is desirable to have the services separately for the area to be treated and for the organ to be spared can, in order to adjust the size, the spacing and the position of the electrodes as favorably as possible. Let us consider, for example, the different ones located in the vicinity of the brain Areas of the head reminiscent; because the brain should generally not use short waves are flooded.

Rufgabe der Erfindung ist es, ein Dosierungsgerät für Kurzwellen- oder Ultrakurzwellentherapie-Apparate zu schaften. welches es ermöglicht, das ganze Kondensatorfeld in unmittelbarer Nähe des zu behandelnden Körperteiles abzutasten und durchzumessen. Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst. daß die Entladungsstrecke einer durch das Hochfrequenzfeld in einem gasgefüllten Gefäß hervorgerufenen elektrodenlosen Entladung angezapft ist und daß an die Anzapfungen ein ron einer Hilfsspannungsquelle gespeister Hilfsstromkreis angeschlossen ist. in dem ein von der Stärke der elektrodenlosen Entladung und damit von der Intensität des Hochfrequenzfeldes abhängiger Strom fließt. der mittels eines Äießgerätes gemessen wird. The aim of the invention is to provide a metering device for shortwave or ultra-short wave therapy devices. which enables the whole To scan the capacitor field in the immediate vicinity of the body part to be treated and measure. This object is achieved according to the invention. that the discharge path one caused by the high-frequency field in a gas-filled vessel without electrodes Discharge is tapped and that an auxiliary voltage source is connected to the taps powered auxiliary circuit is connected. in which one of the strength of the electrodeless Discharge and thus the intensity of the high-frequency field dependent current flows. which is measured by means of an Äießgerätes.

Das Entladungsgefäß kann so kleine Abmessungen erhalten daß die Angaben des Dosierungsgerätes praktisch für den gemessenen Punkt des lÇondensatorteldes gelten. Auch läßt sich das Gerät leicht beweglich ausbilden, so daß ohne Schwierigkeiten alle interessierenden Stellen des Kondensatorfeldes abgetastet werden können.The discharge vessel can have such small dimensions that the information of the dosing device practically for the measured point of the condenser field are valid. The device can also be designed to be easily movable, so that without difficulties all points of interest of the capacitor field can be scanned.

Die elektrodenlose Entladung ist an sich bekannt. Electrodeless discharge is known per se.

Sie besteht darin. das in hochfrequenten Feldern die Verschiebungsströme durch die Luft und das Glas des Entladungsgefäßes so bedeutend sind, daß sie eine Gasentladung audl durch Isolatoren hindurch unterhalten können.It consists in it. that in high-frequency fields the displacement currents are so significant through the air and the glass of the discharge vessel that they are a Gas discharge can also be maintained through insulators.

In den Zuleitungen des Hilfsstromkreises zu den Anzapfungen liegen zweckmäßig Drosselspulen oder/und Ohmsche Widerstände. Diese sollen eine Störung des Ilochfrequenzfeldes durch die Zuleitungen zu den Anzapfungen der Entladungsströme verhindern oder wenigstens auf ein geringfügiges Maß herabsetzen. Aus diesem Grund sollen die Zuleitungen auch hohe Widerstände aufweisen, weil sich anderenfalls die Drosselspulen unter dem Einfluß des Hochfrequenzfeldes über dieAnzapfungen an der Entladung beteiligen könnten, so daß eine praktisch punktformigeAusmessung des Feldes nicht mehr möglich lväre. da die Zuführungen eine nicht unbeträchtliche Ausdehnung haben. Es empfiehlt sich, die an den Hilfsstromkreis angelegte Hilfsspannung so zu wählen, daß sie unterhalb der Löschspannung liegt, damit sie nicht an sich schon zur Zündung oder Unterhaltung einer Gasentladung ausreicht, wenngleich auch bei einer höheren Hilfsspannung die Messung durchführbar ist. Die Größe der Lösdspannung ist von der Elektrodenbeschaffenheit, den vorgeschalteten # Widerständen und dem Zeitabstand zwischen Löschung und Wiederzündung abhängig. Sie ist etwas größer als die lonisierungsspannung desjenigen Gases, in dem die Gasentladung stattfindet. Die Größe der Hilfsspannung kann also im Spannungsbercich zwischen o und Ionisierungsspannung liegen. Bei Verwendung eines Edelgases, z. B. Neon oder Helium, in dem Gasentladungsgefäß. wird man die Hilfsspannung beispielsweise ungefähr in der Größenordnung von 100 Volt wählen können. Are in the supply lines of the auxiliary circuit to the taps expediently choke coils and / or ohmic resistances. These are supposed to be a disorder of the Iloch frequency field through the leads to the taps of the discharge currents prevent or at least reduce it to a minor extent. For this reason the leads should also have high resistances, because otherwise the Choke coils under the influence of the high-frequency field via the taps on the Discharge could participate, so that a practically punctiform measurement of the field no longer possible lväre. since the feedings have a not inconsiderable extent to have. It is recommended to use the auxiliary voltage applied to the auxiliary circuit in this way to choose that it is below the erase voltage so that it is not already sufficient to ignite or maintain a gas discharge, albeit with the measurement can be carried out with a higher auxiliary voltage. The size of the release stress depends on the properties of the electrodes, the upstream resistors and the Time interval between extinguishing and re-ignition depends on. She is a little bigger than the ionization voltage of the gas in which the gas discharge takes place. The size of the auxiliary voltage can therefore be in the voltage range between 0 and ionization voltage lie. When using a noble gas, e.g. B. neon or helium, in the gas discharge vessel. If the auxiliary voltage is, for example, in the order of 100 Volts can choose.

In der Abb. 1 ist ein schematisches Ausführungsbeispiel für ein Dosierungsgerät gemäß der Erfindung dargestellt. Älit 11 ist ein Glas- oderQuarzgefäß hezeichnet, daß mit einem Gas, z. B. Edelgas, unter vermindertem Druck gefüllt ist. In den Gasentladungsraum des Gefäßes ragen zwei eingeschmolzene Drähte 12 und I3 hinein. An diese Drähte 12 und I3 ist ein Hilfsstromkreis angeschlossen, der zwei Drosselspulen 14 und I5, eine Hilfsspannungsquelle I6 und ein Strommeßgerät I, enthält. DieDrosselspulent4 und 14 weisen eine hohe Selbstinduktion, gegebenenfalls auch einen hohen Ohmschen Widerstand auf und liegen unmittelbar an den aus dem Entladungsgefäß II heraustretenden Enden der Drähte 12 und I3, Bringt man das Entladungsgefäß 11 in ein Hochfrequenzfeld, also z. B. zwischen die beiden Behandlungselektroden eines Kurzwellentherapie-Apparates, so wird durch das Hochfrequenzfeld in dem gasgefüllten Gefäß II eine elektrodenlose Entladung hervorgerufen. Die Drähte 12 und I3 bilden Anzapfungen der Entladungsstrecke. In dem an diese Anzapfungen angeschlossenen Hilfsstromkreis fließt dann ein von der Stärke der elektrodenlosen Entladung und damit von der Intensität des Hochfrequenzfeldes abhängiger Strom. Dieser kann an dem A-Ießgerät 17 abgelesen werden und ist ein daß für die Intensität des Hochfreqenzfeldes an der Stelle, an der sich das Entladungsgefäß II im Hoehfreqenzfeld befindet. In Fig. 1 is a schematic embodiment of a dosing device shown according to the invention. Älit 11 is a glass or quartz vessel called that with a gas, e.g. B. noble gas, is filled under reduced pressure. Into the gas discharge space Two fused wires 12 and I3 protrude into the vessel. To these wires 12 and I3 an auxiliary circuit is connected, the two inductors 14 and I5, an auxiliary voltage source I6 and an ammeter I contains. The choke coil 4 and 14 have a high self-induction, possibly also a high ohmic Resistance and lie directly on the emerging from the discharge vessel II Ends of wires 12 and I3, if the discharge vessel 11 is placed in a high-frequency field, so z. B. between the two treatment electrodes of a shortwave therapy device, so the high-frequency field in the gas-filled vessel II becomes electrodeless Discharge caused. The wires 12 and I3 form taps of the discharge path. A von then flows into the auxiliary circuit connected to these taps the strength of the electrodeless discharge and thus the intensity of the high-frequency field dependent current. This can be read on the measuring device 17 and is a that for the intensity of the high frequency field at the point where the discharge vessel is II is in the high frequency field.

Bei dem in Abb. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel sind die Drosselspulen 14 und Ij aus sehr dünnem Platindraht oder aus Wollastone-Draht auf Glasstäbe gewiclielt und mit diesen zusammen in das Entladungsgefäß II eingeschmolzen. Die in den Entladungsraum ragenden Enden der Drosselspulendrähte bilden dann die Anzapfungen der Entladungsstrecke. Die Hilfsspannungsquelle ist hier wieder mit 16, das Strommeßgerät mit 17 bezeichnet. In the embodiment shown in Fig. 2, the inductors are 14 and Ij made of very thin platinum wire or wollastone wire on glass rods and melted together with these in the discharge vessel II. The one in the discharge space The protruding ends of the inductor wires then form the taps of the discharge path. The auxiliary voltage source is again denoted by 16 and the ammeter is denoted by 17.

In der Abb. 3 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel für ein Dosierungsgerät gemäß der Erfindungdargestellt. Hier ist jede derbeidenDrosselspulen 14 und 15 noch von einem aufgeschmolzenen Glasröhrchen I8 bzw. 19 umgeben. Diese Glasröhrchen haben die Aufgabe, ein Verbrennen der feinen, auf Glasstäbe aufgewickelten Drosseldrähte beim Einschmelzen in das Entladungsgefäß II zu verhindern. Ein die Drosselspule umhüllendes Isolierrohr 20 dient gleichzeitig als Halter für das Entladungsgefäß 11. In seinem Innern kann, wie in der Abb. 3 angedeutet ist, ein Isolierstab 2I angeordnet sein, auf dem nebeneinander zwei Drähte 22 und 23 schraubenförmig aufgewickelt sind, die zwei Drosselspulen darstellen, die an die Drosselspulen 14 und 15 angeschlossen sind, und diese gewissermaßen fortsetzen. Das gleichzeitig als Halter dienende Schutzrohr 20 und der dieDrosselspulen 22 und 23 tragende Stab 21 werden zweckmäßig aus einem Isolierwerkstöff mit geringen dielektrischen Verlusten hergestellt. Die beiden Zuleitungen zu den Drosselspulen 22 und 23 bzw. In Fig. 3 is another embodiment of a dosing device illustrated in accordance with the invention. Here each of the two choke coils 14 and 15 is still surrounded by a melted glass tube I8 or 19. These glass tubes have the task of burning the fine choke wires wound on glass rods to prevent when melting into the discharge vessel II. On the reactor Enveloping insulating tube 20 also serves as a holder for the discharge vessel 11. In its interior, as indicated in Fig. 3, an insulating rod 2I be arranged on the side by side two wires 22 and 23 wound helically representing two reactors connected to the reactors 14 and 15 and to a certain extent continue them. The protective tube that also serves as a holder 20 and the rod 21 supporting the choke coils 22 and 23 are expediently made of one Isolierwerkstöff manufactured with low dielectric losses. The two Supply lines to the choke coils 22 and 23 or

I4 und I5 treten in Form eines biegsamen Kabels 24 am unteren Ende des Schutzrohres 20 heraus und werden so zu der an geeigneter Stelle angeordneten Hilfsspannungsquelle nebst Meßgerät geführt.I4 and I5 come in the form of a flexible cable 24 at the lower end of the protective tube 20 and are thus arranged at the appropriate point Auxiliary voltage source and measuring device led.

Claims

PATENT CLAIMS: I. Dosing device for shortwave or ultra-shortwave therapy devices, characterized in that the discharge path is one through the high frequency field tapped electrodeless discharge caused in a gas-filled vessel and that an auxiliary circuit fed by an auxiliary voltage source is connected to the taps is connected, in which one of the strength of the electrodeless discharge and thus Depending on the intensity of the high-frequency field, the current flows by means of a Measuring device is measured.

2. Dosing device according to claim I, characterized in that in the Supply lines of the auxiliary circuit to the taps, choke coils and / or ohmic Resistances lie.

3. Dosing device according to claim 2, characterized in that the choke coils or ohmic resistances protrude into the gas discharge space.

4. Dosing device according to claim 3, characterized in that the throttle coils and / or ohmic resistors wound on glass or quartz rods and are melted together with these into the discharge vessel.

5. Dosing device according to claim 3 or 4, characterized in that each of the choke coils and / or ohmic resistances from a glass or oarz tube is wrapped.

6. Dosing device according to claim 2 or the following claims, characterized characterized in that the inductors and / or ohmic resistors are made of thin platinum wire or woolen wire are wound.

7. Dosing device according to claim 2 or the following claims, characterized characterized in that the inductors and / or ohmic resistors are made of a wire are wound, which has a high electrical resistance and light in glass is meltable, z. B. Chrome-nickel wire.

8. Dosing device according to claim 2 or the following claims, characterized characterized in that the inductors and / or ohmic resistances in one at the same time are housed as a holder for the discharge vessel serving envelope.

9. Dosing device according to claim I, characterized in that the to The voltage applied to the auxiliary circuit is below the extinguishing voltage.