DE826177C

DE826177C - Asymmetrical electrostatic deflector for corpuscular beams

Info

Publication number: DE826177C
Application number: DEP46765A
Authority: DE
Inventors: Dr Phil Habil Hermann Hinderer
Original assignee: Siemens and Halske AG; Siemens Corp
Current assignee: Siemens and Halske AG; Siemens Corp
Priority date: 1949-06-23
Filing date: 1949-06-23
Publication date: 1951-12-27

Description

Unsymmetrische elektrostatische Ablenkvorrichtung für Korpuskularstrahlen Die Erfindun- betrifft eine unsymmetrische elektrostatische _Ulenkvorrichturig für Korpuskularstrahlen und hat insbesondere Bedeutung für Elektronenstrahlröhren, Fernsehröhren u. dgl. Es besteht dabei die Aufgabe, in einer Strahlanordnung zwei Ablenkungen in zueinander senkrechten Richtungen vorzunehmen und dabei die beiden Ablenkfelder so zusammenzusetzen, daß den Spannungen proportionale Ablenkungen entsprechen.Asymmetrical electrostatic deflector for corpuscular beams The invention relates to an asymmetrical electrostatic deflection device for Corpuscular rays and is particularly important for cathode ray tubes and television tubes The object here is to create two deflections in a beam arrangement make in mutually perpendicular directions and thereby the two deflection fields to be composed so that the voltages correspond to proportional deflections.

Es ist bei Ablenksvstemen für die genannten Zwecke günstig, wenn die beiden Ablenkelemente für die aufeinander senkrecht stehenden Ablenkrichtungen sich an ein und derselben Stelle befinden, z. B. sich räumlich durchdringen. Auf diese Weise gelingt es, dieAblenkempfindlichlkeitengenau gleich und die Ablenkungen in beiden Richtungen auch hinsichtlich der :luslenl:schärfen voneinander unabhängig zu machen. :Ulan hat dann bei räumlicher Durchdringung beider Ablenkelemente nur noch den Ausgangspunkt des Elektronenstrahlbündels und den Ort der scheinbaren Abknickung des Bündels zu berücksichtigen, wenn man die Abbildung verfolgt. Bei den üblichen Anordnungen mit hintereinan.derliegenden Ablenkeinrichtungen für die beiden zueinander senkrechten Ablenkungen müssen drei verschiedene Punkte beobachtet werden. Es ist daher schon versucht worden, von der üblichen Bauart der hintereinanderliegenden Ablenksvsteme abzugehen und die Ablenkungen in den beiden Richtungen an derselben Stelle vorzunehmen, zumal dadurch noch der Vorteil entsteht, daß die Baulänge der Elektronenstrahlröhre kürzer gehalten werden 'kann. Es ergaben sich aber bei einer solchen Anordnung Schwierigkeiten. Die dabei auftretenden Bildverzerrungen waren so groß, daß nur ganz geringe Auslenkungen des Elektronenstrahles ausnutzbar waren. Diese Nachteile werden durch die Erfindung beseitigt.In the case of deflection systems for the purposes mentioned, it is advantageous if the two deflection elements for the mutually perpendicular deflection directions are in the same place, e.g. B. penetrate spatially. To this In this way, the deflection sensitivities are exactly the same and the deflections in both directions also with regard to: luslenl: sharpen independently of each other close. : Ulan then only has when both deflecting elements are spatially penetrated nor the starting point of the electron beam and the location of the apparent kink of the bundle to take into account when following the figure. With the usual Arrangements with one behind the other deflection devices for the two to one another three different points must be observed for perpendicular deflections. It is therefore attempts have already been made to use the usual design of the one behind the other Distraction systems to go off and the distractions in the two directions at the same Make place, especially since this still has the advantage that the length of the Cathode ray tube can be kept shorter '. But it turned out for one such arrangement difficulties. The occurring Image distortion were so large that only very small deflections of the electron beam could be used was. These disadvantages are eliminated by the invention.

Die Erfindung besteht darin, daß ein zusammengesetztes Ablenkfeld mit einer für die beiden Ablenkspannungen gemeinsamen, vorzugsweise auf Nullpotential liegenden Ablenkelektrode vorgesehen ist, die aus zwei, einen Winkel von etwa 9o° bildenden Flächen besteht, welche zum Ablenkraum und dem durch die beiden Ablenkspannungen gebildeten Feld hin einen Winkel von etwa 27o° bilden.The invention consists in that a composite deflection field with a common for the two deflection voltages, preferably at zero potential lying deflection electrode is provided, which consists of two, an angle of about 9o ° Forming surfaces consists, which to the deflection space and that by the two deflection voltages formed field form an angle of about 27o °.

Als Abschlußebene kann eine Widerstandsfläche vorgesehen sein, an deren Außenkanten die beiden Ablenkspannungen angelegt sind. Von den Endkanten der Widerstandsfläche aus können vorzugsweise ebene Ablenkelektroden parallel zu den für die beiden Ablenkspannungen gemeinsamen Ablenkelektroden angeordnet sein. An Stelle eines Abschlusses durch eine Widerstandsfläche 'kann der Ablenkraum auch so gestaltet sein, daß zwei Ablenkplatten vorgesehen sind, deren Potential von den beiden Ablenkspannungen bestimmt wird, wobei außerhalb des Ablenkraumes diese Platten parallel oder auch gegeneinander bzw. auseinander gekrümmt ausgebildet sein können.A resistance surface can be provided as a terminating plane the outer edges of which the two deflection voltages are applied. From the end edges of the Resistance surface can preferably be flat deflection electrodes parallel to the common deflection electrodes can be arranged for the two deflection voltages. At The deflection space can also be used as a termination by a resistance surface be designed so that two baffles are provided whose potential from the two deflection voltages is determined, with these plates outside the deflection space can be formed parallel to one another or curved apart from one another.

Weitere Einzelheiten der Erfindung sollen an Hand der Zeichnung näher erläutert werden. Die Zeichnung zeigt Ausführungsbeispiele für die Erfindung in schematischer Darstellung der für die Erfindung wesentlichen Teile. Fig. i zeigt eine perspektivische Ansicht, bei der das für beide Ablenkspannungen gemeinsame Potential geerdet ist und mit den Ablenkblechen i und 2 in Verbindung steht. Die Bleche i und 2 sind als ebene Flächen ausgebildet, die im rechten Winkel zueinander stehen. Der Ablenkraum ist durch die Widerstandsfläche 3 abgeschlossen, an deren Außenkanten 4 und 5 die beiden Ablenkspannungen über die Anschlüsse 6 und 7 angelegt werden. An den Kanten 4 und 5 sind die aus gut leitendem Material bestehenden ebenen Flächen 8 und 9 angelegt, die parallel zu den Platten i und 2 verlaufen.Further details of the invention are to be found in more detail with reference to the drawing explained. The drawing shows exemplary embodiments for the invention in schematic representation of the essential parts for the invention. Fig. I shows a perspective view in which the common for both deflection voltages Potential is grounded and is connected to the deflectors i and 2. the Sheets i and 2 are designed as flat surfaces that are at right angles to each other stand. The deflection space is closed by the resistance surface 3, at which Outer edges 4 and 5 apply the two deflection voltages across terminals 6 and 7 will. The edges 4 and 5 are made of highly conductive material and are flat Areas 8 and 9 applied, which run parallel to the plates i and 2.

Der Kathodenstrahl, der durch die Pfeile io angedeutet ist, gelangt vor dem Durchpassieren durch die eigentliche Ablenkvorrichtung durch eine Blende i i, die zweckmäßig auf einem mittleren Potential der Strahleintrittsstelle in die Ablenkvorrichtung liegt. Dieses Potential !kann durch Abgriff an dem Spannungsteiler 12 erzeugt werden. Es ist aber auch möglich, die Widerstandsfläche 3 unmittelbar als Spannungsteiler zu verwenden.The cathode ray, which is indicated by the arrows io, arrives before passing through the actual deflection device through a screen i i, which is expediently at a medium potential of the beam entry point into the Deflector lies. This potential can be tapped on the voltage divider 12 can be generated. But it is also possible to use the resistance surface 3 directly to be used as a voltage divider.

Im Gegensatz zu dem Ausführungsbeispiel nach Fig. i, bei dem als Abschlußebene eine Widerstandsfläche vorgesehen ist, sind in den folgenden Ausführungsbeispielen die Meßspannungen nur kapazitiv verbunden. In den Fig. 2 bis 5 sind wiederum die Ablenkplatten i und 2 im rechten Winkel zueinander angeordnet und bilden mit ihren Flächen zum Feld hin einen Winkel von 27o°. Die Flächen 8 und 9 sind in Fig.2 bis auf einen gewiss;n Abstand zueinander geführt, während bei Fig. 3 zwei parallele ebene Flächen 13 und 14 angewinkelt sind. Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig.4.kominen hier zwei auseinandergebogene Flächen 1 5 und 16 und bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 5 zwei zusammengebogene Flächen 17 und 18 zur Verwendung.In contrast to the exemplary embodiment according to FIG. I, in which a resistor surface is provided as the terminating plane, the measuring voltages are only capacitively connected in the following exemplary embodiments. In FIGS. 2 to 5, the deflector plates i and 2 are again arranged at right angles to one another and their surfaces form an angle of 27o ° towards the field. The surfaces 8 and 9 in FIG. 2 are guided to a certain distance from one another, while in FIG. 3 two parallel flat surfaces 13 and 14 are angled. In the exemplary embodiment according to FIG. 4, two surfaces 15 and 16 that are bent apart are used here, and in the exemplary embodiment according to FIG. 5, two surfaces 17 and 18 that are bent together are used.

Claims

PATENTA \ LANGUAGE: i. Unbalanced electrostatic deflector for corpuscular stralils, in particular for electron straliles. with greed beam deflection occurring at the same point in two directions perpendicular to one another, characterized in that a composite deflection field with one for the two Deflection voltages common, preferably lying at zero potential deflection electrode is provided, which is made up of two surfaces forming an angle of about 90 °, those towards the deflection space and the field formed by the two deflection voltages make an angle of about 27o °.

2. deflection device according to claim i, characterized characterized in that a resistance surface is provided as the final plane of the deflection space at the outer edges of which the two deflection voltages are applied.

3. Deflector according to claim i or 2, characterized in that in front of the deflection device a Aperture is arranged on which a voltage division from the two allleri'k voltages formed potential lies.

4. deflection device according to claim 2 or 3, characterized characterized in that the potential for the diaphragm is tapped on the resistance surface is.

5. deflection device according to claim i to 4, characterized in that on the end edges of the resistance surface are preferably flat. #, blericle electrodes parallel arranged to the deflection electrodes common to the two sensing voltages are.

6. deflection device according to claim i, characterized in that the deflection space is formed by two deflection plates, the potential of which depends on the two deflection voltages is determined.

7. deflection device according to claim 6, characterized in that the deflection plates parallel to the deflection electrodes common to the two deflection voltages are arranged. B.

Deflection device according to Claim @, characterized in that the two baffles run parallel outside the baffle space.

9. Deflector according to claim 7, characterized in that the two baffles are outside of the discharge space are concave or convex.