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DE69712989T2 - Radiation sensitive imaging element and method of making lithographic printing plates using the same - Google Patents

Radiation sensitive imaging element and method of making lithographic printing plates using the same

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DE69712989T2
DE69712989T2 DE1997612989 DE69712989T DE69712989T2 DE 69712989 T2 DE69712989 T2 DE 69712989T2 DE 1997612989 DE1997612989 DE 1997612989 DE 69712989 T DE69712989 T DE 69712989T DE 69712989 T2 DE69712989 T2 DE 69712989T2
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radiation
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bronsted acid
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Marc Van Damme
Joan Vermeersch
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Agfa Gevaert NV
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Description

1. TECHNISCHES GEBIET DER ERFINDUNG1. TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION

Die vorliegende Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Material zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte. Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte mittels dieses strahlungsempfindlichen Materials.The present invention relates to a radiation-sensitive material for producing a lithographic printing plate. The present invention further relates to a method for producing a printing plate using this radiation-sensitive material.

2. ALLGEMEINER STAND DER TECHNIK2. GENERAL STATE OF THE ART

Lithografischer Druck ist das Verfahren, bei dem das Drucken von speziell hergestellten Oberflächen her erfolgt, von denen bestimmte Bereiche lithografische Farbe anziehen und andere Bereiche nach Benetzung mit Wasser die Farbe abstoßen werden. Die farbanziehenden Bereiche bilden die druckenden Bildbereiche, die farbabstoßenden Bereiche die Hintergrundbereiche.Lithographic printing is the process of printing from specially prepared surfaces, certain areas of which will attract lithographic ink and other areas will repel the ink when wetted with water. The ink-attracting areas form the printing image areas, and the ink-repelling areas form the background areas.

Im Bereich der Fotolithografie wird ein fotografisches Material in den fotobelichteten Bereichen (negativarbeitend) oder in den nicht-belichteten Bereichen (positivarbeitend) auf einem hydrophilen Hintergrund bildmäßig ölige oder fette Farben anziehend gemacht.In the field of photolithography, a photographic material is made to attract oily or greasy colors in the photo-exposed areas (negative working) or in the non-exposed areas (positive working) on a hydrophilic background.

Bei der Herstellung üblicher lithografischer Druckplatten, ebenfalls als Oberflächenlithoplatten oder Flachdruckplatten bezeichnet, wird ein Träger, der eine Affinität zu Wasser aufweist oder solche Affinität durch eine chemische Verarbeitung erhalten hat, mit einer dünnen Schicht mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung überzogen. Als Schichten mit einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung eignen sich lichtempfindliche polymere Schichten, die Diazoverbindungen, dichromatsensibilisierte hydrophile Kolloide und eine Vielzahl synthetischer Fotopolymere enthalten. Insbesondere diazosensibilisierte Schichtverbände werden weitverbreitet eingesetzt.In the production of conventional lithographic printing plates, also referred to as surface lithoplates or planographic printing plates, a support which has an affinity for water or has acquired such affinity through chemical processing is coated with a thin layer of a radiation-sensitive composition. Suitable layers with a radiation-sensitive composition are light-sensitive polymer layers which contain diazo compounds, dichromate-sensitized hydrophilic colloids and a variety of synthetic photopolymers. In particular, diazo-sensitized layer combinations are widely used.

Während der bildmäßigen Belichtung einer solchen lichtempfindlichen Schicht werden die belichteten Bildbereiche unlöslich und bleiben die nicht-belichteten Bereiche löslich. Die Druckplatte wird anschließend mit einer geeigneten Flüssigkeit entwickelt, um das in den nicht-belichteten Bereichen enthaltene Diazoniumsalz oder Diazoharz zu entfernen.During the image-wise exposure of such a light-sensitive layer, the exposed image areas become insoluble and the non-exposed areas remain soluble. The printing plate is then treated with a suitable liquid designed to remove the diazonium salt or diazo resin contained in the non-exposed areas.

Andererseits gibt es ebenfalls Verfahren, bei denen zur Herstellung von Druckplatten Bilderzeugungselemente verwendet werden, die vielmehr wärmeempfindlich als strahlungsempfindlich sind. Mit den wie oben beschrieben zur Herstellung einer Druckplatte benutzten strahlungsempfindlichen Bilderzeugungselementen ist der besondere Nachteil verbunden, daß sie vor Licht geschützt werden müssen. Fernerhin sind sie weniger geeignet für direkte Druckplattenbebilderung (Computer-to-Plate-Technik). Im Markt zeichnet sich deutlich eine Tendenz zu wärmeempfindlichen Druckplattenvorläufern ab.On the other hand, there are also processes in which image-generating elements that are more sensitive to heat than to radiation are used to produce printing plates. The radiation-sensitive image-generating elements used to produce a printing plate as described above have the particular disadvantage that they must be protected from light. Furthermore, they are less suitable for direct printing plate imaging (computer-to-plate technology). There is a clear trend in the market towards heat-sensitive printing plate precursors.

In EP-A 95202871.0, 95202872.8, 95202873.6 und 95202874.4 wird ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer lithografischen Druckplatte offenbart.EP-A 95202871.0, 95202872.8, 95202873.6 and 95202874.4 disclose a process for producing a lithographic printing plate characterized by the following steps.

(1) bildmäßige Belichtung mit Licht von einem wärmeempfindlichen Bilderzeugungselement, das (i) auf einer hydrophilen Oberfläche eines lithografischen Trägers eine bilderzeugende Schicht mit hydrophoben thermoplastischen, in einem hydrophilen Bindemittel dispergierten Polymerteilchen und (ii) eine Verbindung enthält, die Licht in Wärme umzuwandeln vermag und in der bilderzeugenden Schicht oder einer daran grenzenden Schicht enthalten ist,(1) imagewise exposure to light from a heat-sensitive imaging element containing (i) on a hydrophilic surface of a lithographic support an imaging layer comprising hydrophobic thermoplastic polymer particles dispersed in a hydrophilic binder and (ii) a compound capable of converting light into heat contained in the imaging layer or a layer adjacent thereto,

(2) und die Entwicklung eines so erhaltenen bildmäßig belichteten Bilderzeugungselements durch Spülung mit Leitungswasser.(2) and developing an image-wise exposed imaging element thus obtained by rinsing with tap water.

Die EP-A 625 728 offenbart eine Lithografische Druckplatte mit einer bilderzeugenden Schicht, die gegenüber UV- und IR-Strahlung empfindlich ist und sowohl positivarbeitend als auch negativarbeitend sein kann. Diese bilderzeugende Schicht enthält (1) ein Resolharz, (2) ein Novolakharz, (3) eine latente Brönsted-Säure und (4) eine Infrarotstrahlung absorbierende Substanz. Durch Belichtung mit UV- oder IR-Licht (830 nm) und anschließende herkömmliche PS-Plattenentwicklung wird eine positivarbeitende lithografische Druckplatte erhalten. Wird die Platte vor der Entwicklungsstufe eingebrannt (60 s bei 100ºC), so wird eine negativarbeitende Druckplatte erhalten.EP-A 625 728 discloses a lithographic printing plate with an image-forming layer which is sensitive to UV and IR radiation and can be both positive-working and negative-working. This image-forming layer contains (1) a resole resin, (2) a novolak resin, (3) a latent Brönsted acid and (4) a substance which absorbs infrared radiation. By exposure to UV or IR light (830 nm) and subsequent conventional PS plate development, a positive-working lithographic printing plate is obtained. If the plate is baked before the development stage (60 s at 100°C), a negative-working printing plate is obtained.

In EP-A 483 693 wird eine strahlungsempfindliche farbige Harzzusammensetzung für die Bildung von Farbbildern offenbart, die (a) ein säurehärtbares Material auf Harzbasis, (b) ein fotoreaktives säurefreisetzendes Mittel und (c) ein Pigment enthält.EP-A 483 693 discloses a radiation-sensitive colored resin composition for the formation of color images which (a) an acid-curable resin-based material, (b) a photoreactive acid-releasing agent, and (c) a pigment.

Die US-P 4 708 925 offenbart eine positivarbeitende Druckplatte mit einer lichtempfindlichen Zusammensetzung, die (1) ein alkalilösliches Novolakharz und (2) ein Oniumsalz und wahlweise einen spektralen IR-Sensibilisator enthält. Durch bildmäßige Bestrahlung dieser Druckplatte mit UV-Licht, sichtbarem Licht oder IR-Licht und eine anschließende Entwicklungsstufe mit einer alkalischen Lösung wird eine positivarbeitende Druckplatte erhalten.US-P 4,708,925 discloses a positive-working printing plate with a photosensitive composition containing (1) an alkali-soluble novolak resin and (2) an onium salt and optionally a spectral IR sensitizer. By imagewise irradiation of this printing plate with UV light, visible light or IR light and a subsequent development step with an alkaline solution, a positive-working printing plate is obtained.

3. KURZE DARSTELLUNG DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG3. BRIEF DESCRIPTION OF THE PRESENT INVENTION

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Bilderzeugungselement bereitzustellen, das infrarot- und wärmeempfindlich ist, um die digitale Bebilderung durch Belichtung mit Infrarotstrahlung oder mittels eines Thermokopfes zu vereinfachen.The object of the present invention is to provide an imaging element which is infrared and heat sensitive in order to simplify digital imaging by exposure to infrared radiation or by means of a thermal head.

Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Bilderzeugungselement bereitzustellen, das gegenüber UV-Licht empfindlich ist, um die optische Bebilderung durch Belichtung mit Ultraviolettstrahlung durch eine Bilderzeugungsvorlage zu vereinfachen.Another object of the present invention is to provide an imaging element that is sensitive to UV light to facilitate optical imaging by exposure to ultraviolet radiation through an imaging original.

Noch eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung äst es, ein Bilderzeugungselement bereitzustellen, das wesentlich unempfindlich gegenüber sichtbarer Strahlung ist, um die Zimmerlichthandhabung zu vereinfachen.Yet another object of the present invention is to provide an imaging element that is substantially insensitive to visible radiation to simplify room light handling.

Noch eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, um unter Verwendung des obigen Bilderzeugungselements in praktischer Weise eine hochqualitative negativarbeitende lithografische Druckplatte zu erzeugen.Yet another object of the present invention is to provide a method for conveniently producing a high quality negative working lithographic printing plate using the above imaging element.

Weitere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ersichtlich.Further objects of the present invention will become apparent from the following description.

Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben durch ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einer hydrophilen Oberfläche eines lithografischen Trägers eine bilderzeugende Schicht mit (1) einem alkalilöslichen oder alkaliquellbaren Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, (2) einer latenten Brönsted-Säure und (3) einer Infrarotstrahlung absorbierenden Substanz enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die Bilderzeugungsschicht ein Aminovernetzungsmittel enthält, und mit der Maßgabe, daß die Infrarotstrahlung absorbierende Substanz kein Gasrußpigment ist.The objects of the invention are achieved by a radiation-sensitive imaging element which contains, on a hydrophilic surface of a lithographic support, an image-forming layer comprising (1) an alkali-soluble or alkali-swellable resin having a phenolic hydroxyl group, (2) a latent Brönsted acid and (3) a substance which absorbs infrared radiation, characterized in that the imaging layer contains an amino crosslinking agent, and with the proviso that the infrared radiation absorbing substance is not a carbon black pigment.

Gelöst werden die erfindungsgemäßen Aufgaben ebenfalls durch ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer negativarbeitenden lithografischen Druckplatte:The objects of the invention are also achieved by a method for producing a negative-working lithographic printing plate characterized by the following steps:

(a) bildmäßige oder informationsmäßige Belichtung eines obenbeschriebenen Bilderzeugungselements mit Ultraviolettlicht, Infrarotlicht oder Wärme,(a) imagewise or informationally exposing an imaging element as described above to ultraviolet light, infrared light or heat,

(b) Erhitzung des belichteten Bilderzeugungselements, um die Löslichkeit in den belichteten Bereichen zu verringern, und(b) heating the exposed imaging element to reduce the solubility in the exposed areas, and

(c) Entwicklung des belichteten und erhitzten Bilderzeugungselements mit einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung, um die nicht- belichteten Bereiche zu entfernen und dabei eine lithografische Druckplatte zu erhalten.(c) developing the exposed and heated imaging element with an aqueous alkaline developer solution to remove the non-exposed areas and thereby obtain a lithographic printing plate.

4. DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER VORLIEGEN DEN ERFINDUNG4. DETAILED DESCRIPTION OF THE PRESENT INVENTION

Wir haben gefunden, daß Bilderzeugungselemente, die mit Ultraviolettstrahlung und Infrarotstrahlung und Wärme bebilderbar sind und hochqualitative lithografische Druckplatten ergeben, unter Verwendung eines obenbeschriebenen Bilderzeugungselements nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhalten werden können.We have found that imaging elements which are imageable with ultraviolet and infrared radiation and heat and which give high quality lithographic printing plates can be obtained using an imaging element as described above according to the process of the invention.

Um als negativarbeitende Druckplatte verwendet werden zu können, muß die Druckplatte mit aktivierender Strahlung bildmäßig belichtet und erhitzt werden, um die Löslichkeit in den belichteten Bereichen zu verringern, und anschließend mit einer wäßrig- alkalischen Entwicklerlösung in Kontakt gebracht werden, um die nicht-belichteten Bereiche zu entfernen. Im Unterschied zu den aus EP-A 625 728 bekannten Druckplatten entfällt das Erfordernis der Verwendung von sowohl einem Resolharz als einem Novolakharz und stellt der Einsatz eines alkalilöslichen oder alkaliquellbaren Harzes mit einer phenolischen Hydroxylgruppe und eines Aminovernetzungsmittels ein oberstes Gebot dar.In order to be used as a negative-working printing plate, the printing plate must be exposed imagewise to activating radiation and heated to reduce the solubility in the exposed areas and then brought into contact with an aqueous alkaline developer solution to remove the non-exposed areas. In contrast to the printing plates known from EP-A 625 728, the requirement to use both a resole resin and a novolak resin is eliminated and the use of an alkali-soluble or alkali-swellable resin with a phenolic hydroxyl group and an amino cross-linking agent is a top priority.

Zwar ist es nicht der Wunsch der Anmelder, die Wirkung ihrer Erfindung durch irgendwelche Theorie zu beschränken, jedoch gilt als Ausgangspunkt, daß die vorliegende Erfindung auf einem chemischen Verstärkungsmechanismus mit Säurekatalysation basiert, der bei Erhitzung der belichteten Platte eintritt. Dieser Mechanismus bewirkt eine Reduktion der Löslichkeit der belichteten Bereiche durch Härtung des Harzgemisches.While it is not the applicants' wish to limit the effect of their invention by any theory, the starting point is that the present invention is based on a chemical amplification mechanism with acid catalysis, which Heating of the exposed plate occurs. This mechanism causes a reduction in the solubility of the exposed areas by hardening the resin mixture.

Die Wirkung der Druckplatte als negativarbeitende Druckplatte ist in kritischem Maße abhängig vom Einsatz eines Gemisches eines Aminovernetzungsmittels und eines alkalilöslichen oder alkaliquellbaren Harzes mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, denn durch vereinzelten Einsatz einer dieser Verbindungen wird kein nutzbares entwickeltes Bild erhalten.The effect of the printing plate as a negative-working printing plate depends to a critical extent on the use of a mixture of an amino cross-linking agent and an alkali-soluble or alkali-quenchable resin with a phenolic hydroxyl group, because by using one of these compounds alone no usable developed image is obtained.

Als Ausgangspunkt gilt, daß die Belichtung der Druckplatte mit Infrarotstrahlung eine Zersetzung von sowohl der Infrarotstrahlung absorbierenden Substanz als der latenten Brönsted-Säure in den belichteten Bereichen bewirkt. Man glaubt, daß die Zersetzungsprodukte eine Reaktion zwischen dem Aminovernetzungsmittel und dem alkalilöslichen oder alkaliquellbaren Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe katalysieren, um eine Matrix zu bilden, die nach Erhitzung unlöslich in einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung ist.As a starting point, exposure of the printing plate to infrared radiation causes decomposition of both the infrared radiation absorbing substance and the latent Bronsted acid in the exposed areas. It is believed that the decomposition products catalyze a reaction between the amino crosslinking agent and the alkali-soluble or alkali-swellable resin having a phenolic hydroxyl group to form a matrix which, upon heating, is insoluble in an aqueous alkaline developer solution.

Auch die Belichtung mit Ultraviolettstrahlung bewirkt eine Zersetzung der latenten Brönsted-Säure, wodurch eine Brönsted-Säure erhalten wird, die die matrixbildende Reaktion zwischen dem Aminovernetzungsmittel und dem alkalilöslichen oder alkaliquellbaren Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe katalysiert. Die Druckplatte wartet mit einer hohen spektralen Empfindlichkeit gegenüber sowohl Ultraviolettstrahlung als Infrarotstrahlung auf. Mit anderen Worten, sie kann bei zwei unterschiedlichen Wellenlängen belichtet werden.Exposure to ultraviolet radiation also causes a decomposition of the latent Bronsted acid, yielding a Bronsted acid that catalyzes the matrix-forming reaction between the amino crosslinking agent and the alkali-soluble or alkali-swellable resin containing a phenolic hydroxyl group. The printing plate has a high spectral sensitivity to both ultraviolet radiation and infrared radiation. In other words, it can be exposed at two different wavelengths.

Ein erfindungsgemäßes Aminovernetzungsmittel ist vorzugsweise eine Verbindung, die durch Kondensation einer eine Aminogruppe enthaltenden Substanz mit Formaldehyd erhalten wird. Das Aminovernetzungsmittel hat paarweise an den Aminostickstoffen gebundene Funktionsgruppen. Die drei üblichsten gepaarte Gruppen entsprechen folgenden Formeln:An amino crosslinking agent according to the invention is preferably a compound obtained by condensing a substance containing an amino group with formaldehyde. The amino crosslinking agent has functional groups bonded in pairs to the amino nitrogens. The three most common paired groups correspond to the following formulas:

-N(CH&sub2;OR)&sub2;, -N(CH&sub2;OH)CH&sub2;OR, -N(H)CH&sub2;OR-N(CH2 OR)2 , -N(CH2 OH)CH2 OR, -N(H)CH2 OR

wobei R in der Regel eine niedermolekulare Alkylgruppe wie eine Methylgruppe, eine Ethylgruppe, eine Butylgruppe oder eine Isobutylgruppe ist.where R is usually a low molecular weight alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group or an isobutyl group.

Als Aminovernetzungsmittel wird eine Verbindung aus der Gruppe bestehend aus Melamin-Formaldehydharzen, (Thio)harnstoff- Formaldehydharzen, Guanamin-Formaldehydharzen, Benzoguanamin- Formaldehydharzen und Glycoluril-Formaldehydharzen bevorzugt. Bestimmte dieser Verbindungen werden unter den eingetragenen Warenzeichen CYMEL oder DYNOMIN von Dyno Cyanamid vertrieben.A preferred amino crosslinking agent is a compound from the group consisting of melamine-formaldehyde resins, (thio)urea-formaldehyde resins, guanamine-formaldehyde resins, benzoguanamine-formaldehyde resins and glycoluril-formaldehyde resins. Certain of these compounds are sold under the registered trademarks CYMEL or DYNOMIN by Dyno Cyanamid.

Als geeignete Harze mit phenolischen Hydroxylgruppen zur Verwendung in einer erfindungsgemäßen bilderzeugenden Schicht sind beispielhaft synthetische Novolakharze wie ALNOVOL, ein eingetragenes Warenzeichen von Reichold Hoechst, und DUREZ, ein eingetragenes Warenzeichen von OxyChem, und synthetische Polyvinylphenole wie MARUKA LYNCUR M, ein eingetragenes Warenzeichen von Dyno Cyanamid, zu nennen.Suitable resins containing phenolic hydroxyl groups for use in an image-forming layer according to the invention include, for example, synthetic novolak resins such as ALNOVOL, a registered trademark of Reichold Hoechst, and DUREZ, a registered trademark of OxyChem, and synthetic polyvinylphenols such as MARUKA LYNCUR M, a registered trademark of Dyno Cyanamid.

Das dritte wesentliche Ingrediens der erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Zusammensetzung ist eine latente Brönsted- Säure. Die Bezeichnung "latente Brönsted-Säure" deutet auf einen Vorläufer, der bei Zersetzung eine Brönsted-Säure bildet. Es wird angenommen, daß die Brönsted-Säure die matrixbildende Reaktion zwischen dem Aminovernetzungsmittel und dem Harz mit phenolischen Hydroxylgruppen katalysiert. Typische Beispiele für zu diesem Zweck geeignete Brönsted-Säuren sind Sulfonsäuren, z. B. Trifluormethansulfonsäure und Hexafluorphosphorsäure.The third essential ingredient of the radiation-sensitive composition of the invention is a latent Bronsted acid. The term "latent Bronsted acid" indicates a precursor which forms a Bronsted acid upon decomposition. It is believed that the Bronsted acid catalyzes the matrix-forming reaction between the amino crosslinking agent and the resin with phenolic hydroxyl groups. Typical examples of Bronsted acids suitable for this purpose are sulfonic acids, e.g. trifluoromethanesulfonic acid and hexafluorophosphoric acid.

Ionische latente Brönsted-Säuren sind erfindungsgemäß nutzbar. Als Beispiele für solche Säuren sind Oniumsalze zu nennen, insbesondere Iodonium-, Sulfonium-, Phosphonium-, Selenonium-, Diazonium- und Arsoniumsalze.Ionic latent Brönsted acids can be used according to the invention. Examples of such acids include onium salts, in particular iodonium, sulfonium, phosphonium, selenonium, diazonium and arsonium salts.

Als nutzbare ionische latente Brönsted-Säuren sind die folgender Formel entsprechenden zu nennen:The ionic latent Brönsted acids that can be used are those corresponding to the following formula:

X&spplus;R&sub1;R&sub2;R&sub3;R&sub4; W&supmin;X+R1 R2 R3 R4 W&supmin;

Ist X Iod, so bedeuten R&sub3; und R&sub4; einsame Elektronenpaare und R&sub1; und R&sub2; unabhängig voneinander jeweils eine Arylgruppe oder substituierte Arylgruppe. Ist X S oder Se, dann bedeutet R&sub4; ein einsames Elektronenpaar und können R&sub1;, R&sub2; und R&sub3; unabhängig voneinander jeweils eine Arylgruppe, eine substituierte. Arylgruppe, eine alifatische Gruppe oder eine substituierte alifatische Gruppe bedeuten. Ist X P oder As, so können R&sub1;, R&sub2;, R&sub3; und R&sub4; unabhängig voneinander jeweils eine Arylgruppe, eine substituierte Arylgruppe, eine alifatische Gruppe oder eine substituierte alifatische Gruppe bedeuten. W kann BF&sub4;, CF&sub3;SO&sub3;, SbF&sub6;, CCl&sub3;CO&sub2;, ClO&sub4;, AsF&sub6;, PF&sub6; oder eine beliebige entsprechende Säure mit einem pH von weniger als 3 bedeuten.When X is iodine, R₃ and R₄ are lone pairs of electrons and R₁ and R₂ are each independently an aryl group or a substituted aryl group. When X is XS or Se, R₄ is a lone pair of electrons and R₁, R₂ and R₃ are independently each represent an aryl group, a substituted aryl group, an aliphatic group or a substituted aliphatic group. When XP or As, R₁, R₂, R₃ and R₄ may each independently represent an aryl group, a substituted aryl group, an aliphatic group or a substituted aliphatic group. W may represent BF₄, CF₃SO₃, SbF₆, CCl₃CO₂, ClO₄, AsF₆, PF₆ or any corresponding acid having a pH of less than 3.

Jedes der in US-P 4 708 925 beschriebenen Oniumsalze kann in der vorliegenden Erfindung als latente Brönsted-Säure verwendet werden. Dazu zählen u. a. Iodonium-, Sulfonium-, Phosphonium-, Bromonium-, Chloronium-, Oxysulfoxonium-, Oxysulfonium-, Sulfoxonium-, Selenonium-, Telluronium- und Arsoniumsalze.Any of the onium salts described in US-P 4,708,925 can be used as a latent Bronsted acid in the present invention. These include, but are not limited to, iodonium, sulfonium, phosphonium, bromonium, chloronium, oxysulfoxonium, oxysulfonium, sulfoxonium, selenonium, telluronium and arsonium salts.

Der Einsatz von Diazoniumsalzen als latenten Brönsted-Säuren wird erfindungsgemäß besonders bevorzugt, weil sie im Vergleich zu anderen latenten Brönsted-Säuren eine gleiche Empfindlichkeit im Infrarotbereich und eine höhere Empfindlichkeit im Ultraviolettbereich vermitteln.The use of diazonium salts as latent Brönsted acids is particularly preferred according to the invention because, compared to other latent Brönsted acids, they provide the same sensitivity in the infrared range and a higher sensitivity in the ultraviolet range.

Typische Beispiele für besonders nutzbare Oniumsalze sind u. a. Diphenyliodoniumhexafluorphosphat, Triphenylsulfoniumhexafluorantimonat, Phenylmethyl-ortho-cyanbenzylsulfoniumtrifluormethansulfonat und 2-Methoxy-4-aminophenyldiazoniumhexafluorophosphat.Typical examples of particularly useful onium salts include: diphenyliodonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, phenylmethyl orthocyanobenzylsulfonium trifluoromethanesulfonate and 2-methoxy-4-aminophenyldiazonium hexafluorophosphate.

Nicht-ionische latente Brönsted-Säuren sind erfindungsgemäß ebenfalls nutzbar. Beispiele für diese Säuren sind u. a. Verbindungen der Formel.Non-ionic latent Brönsted acids can also be used according to the invention. Examples of these acids include compounds of the formula:

RCH&sub2;X, RCHX&sub2;, RCX&sub3;, R(CH&sub2;X)&sub2; und R(CH&sub2;X)&sub3;RCH2X, RCHX2, RCX3, R(CH2X)2 and R(CH&sub2;X)&sub3;

in der X Cl, Br, F oder CF&sub3;SO&sub3; und R eine aromatische Gruppe oder eine alifatische Gruppe bedeutet.in which X is Cl, Br, F or CF₃SO₃ and R is an aromatic group or an aliphatic group.

Weitere geeignete nicht-ionische latente Brönsted-Säuren sind haloalkylsubstituierte s-Triazine, wie in EP-A 672 954 beschrieben, o-Chinondiazide, Fotosäuren erzeugende Substanzen mit einer Schutzgruppe des o-Nitrobenzyl-Typs, wie beschrieben von S. Hayase et al. in Polymer Sci., 25, 573 (1987), die Verbindungen, die zur Erzeugung einer Sulfonsäure einer Fotozersetzung unterzogen werden, wie Iminosulfonate, wie beschrieben von M. Tunooka et al. in Polymer Preprints, Japan, 35 (8), Disulfonverbindungen, wie beschrieben in JP-Pi 61-166544, α-Sulfonyloxyketone, α-Hydroxy-methylbenzoinsulfonate, Nitrobenzylsulfonate, α-Sulfonylacetophenone und Sulfonylimide, wobei die Herstellung dieser letzten Verbindungen zahlreichen allgemein bekannten Verweisungen aus der Literatur entnommen werden kann, die Verbindungen, die zur Erzeugung einer Phosphonsäure, einer teilweise veresterten Phosphorsäure oder einer Phosphorsäure einer Fotozersetzung unterzogen werden, wie Nitrobenzylphosphate oder Nitrobenzylphosphonate, wie beschrieben von M. Rubinstein et al. in Tetrahedron Letters, 17, 1445 (1975), Benzoinphosphate oder Benzoinphosphonate, wie beschrieben von M. Pirrung und S. Shuey in J. Org. Chem., 59, 3890 (1994), Pyrenmethylphosphate oder Pyrenmethylphosphonate, Iminophosphate oder Iminophosphonate und Imidophosphate oder Imidophosphonate, wobei die Herstellung dieser letzten Verbindungen zahlreichen allgemein bekannten Verweisungen aus der Literatur entnommen werden kann.Other suitable non-ionic latent Brönsted acids are haloalkyl-substituted s-triazines as described in EP-A 672 954, o-quinonediazides, photoacid-generating substances having a protecting group of the o-nitrobenzyl type as described by S. Hayase et al. in Polymer Sci., 25, 573 (1987), the compounds which undergo photodecomposition to produce a sulfonic acid such as iminosulfonates as described by M. Tunooka et al. in Polymer Preprints, Japan, 35 (8), disulfone compounds as described in JP-Pi 61-166544, α-sulfonyloxyketones, α-hydroxymethylbenzoinsulfonates, nitrobenzylsulfonates, α-sulfonylacetophenones and sulfonylimides, the preparation of these last compounds being known from numerous well-known references in the literature, the compounds which undergo photodecomposition to produce a phosphonic acid, a partially esterified phosphoric acid or a phosphoric acid, such as nitrobenzyl phosphates or nitrobenzylphosphonates, as described by M. Rubinstein et al. in Tetrahedron Letters, 17, 1445 (1975), benzoin phosphates or benzoin phosphonates as described by M. Pirrung and S. Shuey in J. Org. Chem., 59, 3890 (1994), pyrene methyl phosphates or pyrene methyl phosphonates, imino phosphates or imino phosphonates and imido phosphates or imido phosphonates, the preparation of these last compounds being based on numerous well-known references in the literature.

Ebenfalls geeignet sind Verbindungen, bei denen die obengenannten lichtempfindlichen Säurevorläufer in eine Hauptkette oder eine Seitenkette eines Polymers eingebettet werden. Als Beispiele für solche Verbindungen sind z. B. die von M. E. Woodhouse et al. in J. Am. Chem. Soc., 104, 5586 (1982), genannten Verbindungen, die von S. P. Pappas et al. in J. Imaging Sci., 30 (5), 218 (1986), genannten Verbindungen, usw. zu nennen.Also suitable are compounds in which the above-mentioned photosensitive acid precursors are embedded in a main chain or a side chain of a polymer. Examples of such compounds include the compounds mentioned by M. E. Woodhouse et al. in J. Am. Chem. Soc., 104, 5586 (1982), the compounds mentioned by S. P. Pappas et al. in J. Imaging Sci., 30 (5), 218 (1986), etc.

Das vierte wesentliche Ingrediens der erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Zusammensetzung ist ein Infrarot-Absorber, der die Zusammensetzung gegenüber Infrarotstrahlung sensibilisiert und die Platte zu einer direkt mit Laserstrahlung adressierbaren Druckplatte macht, die durch Belichtung mit einem im Infrarotbereich emittierenden Laser bebildert werden kann.The fourth essential ingredient of the radiation-sensitive composition according to the invention is an infrared absorber, which sensitizes the composition to infrared radiation and turns the plate into a directly laser-addressable printing plate which can be imaged by exposure to a laser emitting in the infrared range.

Beim Infrarot-Absorber kann es sich um einen Farbstoff oder ein Pigment handeln, mit der Maßgabe, daß der Infrarot-Absorber kein Gasrußpigment ist. Es ist den Fachleuten eine sehr breite Palette solcher Verbindungen allgemein bekannt. Dazu gehören Farbstoffe oder Pigmente der Squarylium-, Croconat-, Cyanin-, Merocyanin-, Indolizin-, Pyrylium- und Metalldithiolen-Klassen. Vorzugsweise wird der Infrarot-Absorber bei Belichtung mit aktivierender Strahlung fragmentiert und zwar weil die Zersetzungsprodukte den Kontrast zwischen Bild- und Nicht-Bildbereichen steigern und somit den Entwicklungsvorgang verbessern.The infrared absorber can be a dye or a pigment, provided that the infrared absorber is not a carbon black pigment. A very wide range of such compounds is generally known to those skilled in the art. These include dyes or pigments of the squarylium, croconate, cyanine, merocyanine, indolizine, pyrylium and metal dithiolene classes. The infrared absorber is preferably fragmented upon exposure to activating radiation because the decomposition products reduce the contrast between image and non-image areas and thus improve the development process.

Als zusätzliche erfindungsgemäß nutzbare Infrarot-Absorber sind die in der am 24. November, 1992, erteilten US-P 5 166 024 erwähnten zu nennen. Wie beschrieben in dieser '024-Patentschrift sind besonders nutzbare Infrarot-Absorber Phthalocyaninpigmente.Additional infrared absorbers useful in accordance with the invention include those mentioned in US-P 5,166,024, issued November 24, 1992. As described in this '024 patent, particularly useful infrared absorbers are phthalocyanine pigments.

Wie eingangs erläutert, sind die vier wesentlichen Ingredienzien der erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Zusammensetzung ein Aminovernetzungsmittel, ein Harz mit phenolischen Hydroxylgruppen, eine latente Brönsted-Säure und ein Infrarot-Absorber. Andere Ingredienzien, die wahlweise in die Zusammensetzung eingearbeitet werden können, sind Farbmittel, Stabilisatoren, zusätzliche Sensibilisatoren, Belichtungsanzeiger und Tenside.As explained at the outset, the four essential ingredients of the radiation-sensitive composition of the invention are an amino crosslinking agent, a resin with phenolic hydroxyl groups, a latent Bronsted acid and an infrared absorber. Other ingredients that can optionally be incorporated into the composition are colorants, stabilizers, additional sensitizers, exposure indicators and surfactants.

Die Stärke der bilderzeugenden Schicht in den erfindungsgemäßen Druckplatten kann innerhalb weiter Grenzen schwanken. Eine angemessene Trockenstärke liegt in der Regel zwischen 0,5 und 10 um, besonders bevorzugt zwischen 1 und 5 um.The thickness of the image-forming layer in the printing plates according to the invention can vary within wide limits. An appropriate dry thickness is generally between 0.5 and 10 µm, particularly preferably between 1 and 5 µm.

Das strahlungsempfindliche Bilderzeugungselement fertigt man an, indem das Aminovernetzungsmittel, das Harz mit phenolischen Hydroxylgruppen, die latente Brönsted-Säure und der Infrarot- Absorber in angemessenen Verhältnissen in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst oder dispergiert und nach allgemein bekannten Gießtechniken wie Wirbelbeschichtung oder Kaskadenbeschichtung auf den Träger aufgebracht werden. Als Lösungsmittel bevorzugt man u. a. Aceton, Methylethylketon und 1-Methoxy-2-propanol.The radiation-sensitive imaging element is prepared by dissolving or dispersing the amino crosslinking agent, the resin containing phenolic hydroxyl groups, the latent Bronsted acid and the infrared absorber in appropriate proportions in a suitable solvent and applying them to the support by well-known coating techniques such as spin coating or cascade coating. Preferred solvents include acetone, methyl ethyl ketone and 1-methoxy-2-propanol.

Das Aminovernetzungsmittel liegt vorzugsweise in einer Menge zwischen 0,5 und 10 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 1 und 6 Gew.-% und ganz besonders bevorzugt zwischen 2,0 und 4,0 Gew.-% in der Gießzusammensetzung vor.The amino crosslinking agent is preferably present in an amount between 0.5 and 10 wt.%, more preferably between 1 and 6 wt.%, and most preferably between 2.0 and 4.0 wt.% in the casting composition.

Das Harz mit phenolischen Hydroxylgruppen liegt vorzugsweise in einer Menge zwischen 1,0 und 20 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 3,5 und 9 Gew.-% und ganz besonders bevorzugt zwischen 5,0 und 7,5 Gew.-% in der Gießzusammensetzung vor.The resin having phenolic hydroxyl groups is preferably present in the casting composition in an amount between 1.0 and 20 wt.%, more preferably between 3.5 and 9 wt.%, and most preferably between 5.0 and 7.5 wt.%.

Die latente Brönsted-Säure liegt vorzugsweise in einer Menge zwischen 0,1 und 2 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 0,25 und 0,9 Gew.-% und ganz besonders bevorzugt zwischen 0,35 und 0,70 Gew.-% in der Gießzusammensetzung vor.The latent Bronsted acid is preferably present in the casting composition in an amount between 0.1 and 2 wt.%, more preferably between 0.25 and 0.9 wt.%, and most preferably between 0.35 and 0.70 wt.%.

Der Infrarot-Absorber liegt vorzugsweise in einer Menge zwischen 0,1 und 1,5 Gew.-%, besonders bevorzugt zwischen 0,15 und 1,0 Gew.-% und ganz besonders bevorzugt zwischen 0,20 und 0,40 Gew.- % in der Gießzusammensetzung vor.The infrared absorber is preferably present in the casting composition in an amount between 0.1 and 1.5 wt.%, more preferably between 0.15 and 1.0 wt.%, and most preferably between 0.20 and 0.40 wt.%.

Alle obigen Gewichtsprozentsätze des Aminovernetzungsmittels, des Harzes mit phenolischen Hydroxylgruppen, der latenten Brönsted- Säure und des Infrarot-Absorbers sind Gewichtsprozentsätze der Trockenmaterialien in der Gießdispersion vor deren Auftrag auf das Substrat.All of the above weight percentages of amino crosslinker, phenolic hydroxyl resin, latent Bronsted acid and infrared absorber are weight percentages of the dry materials in the casting dispersion prior to its application to the substrate.

Geeignete Trocknungsbedingungen zur Trocknung der Schicht umfassen eine 30sekündige bis 10minütige Erwärmung bei einer Temperatur zwischen 20ºC und 150ºC.Suitable drying conditions for drying the layer include heating for 30 seconds to 10 minutes at a temperature between 20ºC and 150ºC.

Nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform kann der lithografische Träger ein eloxierter Aluminiumträger sein. Ein besonders bevorzugter lithografischer Träger ist ein elektrochemisch gekörnter und eloxierter Aluminiumträger. Ein eloxierter Aluminiumträger kann in der vorliegenden Erfindung einer Verarbeitung zum Verbessern der hydrophilen Eigenschaften der Trägeroberfläche unterzogen werden. So kann der Aluminiumträger zum Beispiel durch Verarbeitung der Trägeroberfläche mit einer Natriumsilikatlösung bei erhöhter Temperatur, z. B. 95ºC, siliziert werden. Als Alternative kann eine Phosphatverarbeitung vorgenommen werden, wobei die Aluminiumoxidoberfläche mit einer wahlweise fernerhin ein anorganisches Fluorid enthaltenden Phosphatlösung verarbeitet wird. Ferner kann die Aluminiumoxidoberfläche mit einer Zitronensäure- oder Citratlösung gespült werden. Diese Behandlung kann bei Zimmertemperatur oder bei leicht erhöhter Temperatur zwischen etwa 30ºC und 50ºC erfolgen. Eine interessante Methode besteht in einer Verarbeitung der Aluminiumoxidoberfläche mit Polyvinylphosphonsäure, wie beschrieben in DE-OS 2 607 207. Eine andere interessante Methode besteht in einer Spülung der Aluminiumoxidoberfläche mit einer Bicarbonatlösung. Ferner liegt es nahe, daß eine oder mehrere dieser Nachbehandlungen gesondert oder kombiniert vorgenommen werden können.According to one embodiment of the invention, the lithographic support may be an anodized aluminum support. A particularly preferred lithographic support is an electrochemically grained and anodized aluminum support. An anodized aluminum support in the present invention may be subjected to processing to improve the hydrophilic properties of the support surface. For example, the aluminum support may be siliconized by processing the support surface with a sodium silicate solution at an elevated temperature, e.g. 95°C. Alternatively, phosphate processing may be carried out, wherein the alumina surface is processed with a phosphate solution optionally further containing an inorganic fluoride. Furthermore, the alumina surface may be rinsed with a citric acid or citrate solution. This treatment may be carried out at room temperature or at a slightly elevated temperature between about 30°C and 50°C. An interesting method consists in treating the aluminum oxide surface with polyvinylphosphonic acid, as described in DE-OS 2 607 207. Another interesting method consists in rinsing the aluminum oxide surface with a bicarbonate solution. It is also obvious that one or more of these post-treatments can be carried out separately or in combination.

Nach einer weiteren erfindungsgemäßen Ausführungsform enthält der lithografische Träger einen biegsamen Träger, wie, z. B. einen Papierträger oder eine Kunststoffolie, der (die) mit einer vernetzten hydrophilen Schicht überzogen ist. Eine besonders geeignete vernetzte hydrophile Schicht kann aus einem hydrophilen, mit einem Vernetzungsmittel wie Formaldehyd, Glyoxal, Polyisocyanat oder einem hydrolysierten Tetraalkylorthosilikat vernetzten Bindemittel erhalten werden. Letzteres Bindemittel wird besonders bevorzugt.According to a further embodiment of the invention, the lithographic support comprises a flexible support, such as a paper support or a plastic film, which is coated with a cross-linked hydrophilic layer. A particularly A suitable crosslinked hydrophilic layer can be obtained from a hydrophilic binder crosslinked with a crosslinking agent such as formaldehyde, glyoxal, polyisocyanate or a hydrolyzed tetraalkyl orthosilicate. The latter binder is particularly preferred.

Als hydrophiles Bindemittel kommen hydrophile (Co)polymere wie zum Beispiel Homopolymere und Copolymere von Vinylalkohol, Acrylamid, Methylolacrylamid, Methylolmethacrylamid, Acrylsäure, Methacrylsäure, Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat oder Maleinsäureanhydrid-Vinylmethylether-Copolymere in Frage. Die Hydrophilie des benützten (Co)polymers oder (Co)polymergemisches ist vorzugsweise höher oder gleich der Hydrophilie von zu wenigstens 60 Gew.-%, vorzugsweise zu wenigstens 80 Gew.-% hydrolysiertem Polyvinylacetat.Hydrophilic (co)polymers such as homopolymers and copolymers of vinyl alcohol, acrylamide, methylolacrylamide, methylolmethacrylamide, acrylic acid, methacrylic acid, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate or maleic anhydride-vinyl methyl ether copolymers are suitable as hydrophilic binders. The hydrophilicity of the (co)polymer or (co)polymer mixture used is preferably higher than or equal to the hydrophilicity of at least 60% by weight, preferably at least 80% by weight, hydrolyzed polyvinyl acetate.

Die Menge Vernetzungsmittel, insbesondere Tetraalkylorthosilikat, beträgt vorzugsweise wenigstens 0,2 Gewichtsteile je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel, liegt vorzugsweise zwischen 0,5 und 5 Gewichtsteilen, besonders bevorzugt zwischen 1,0 Gewichtsteil und 3 Gewichtsteilen je Gewichtsteil hydrophiles Bindemittel.The amount of crosslinking agent, in particular tetraalkyl orthosilicate, is preferably at least 0.2 parts by weight per part by weight of hydrophilic binder, is preferably between 0.5 and 5 parts by weight, particularly preferably between 1.0 part by weight and 3 parts by weight per part by weight of hydrophilic binder.

Eine vernetzte hydrophile Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger enthält vorzugsweise ebenfalls Substanzen, die die mechanische Festigkeit und Porosität der Schicht verbessern. Zu diesem Zweck kann kolloidale Kieselsäure benutzt werden. Die kolloidale Kieselsäure kann in Form einer beliebigen handelsüblichen Wasserdispersion von kolloidaler Kieselsäure mit zum Beispiel einer mittleren Teilchengröße bis zu 40 nm, z. B. 20 nm, benutzt werden. Daneben können inerte Teilchen mit einer größeren Korngröße als die kolloidale Kieselsäure zugesetzt werden, z. B. Kieselsäure, die wie in J. Colloid and Interface Sci., Band 26, 1968, Seiten 62 bis 69, von Stöber beschrieben angefertigt ist, oder Tonerdeteilchen oder Teilchen mit einem mittleren Durchmesser von wenigstens 100 nm, wobei es sich um Teilchen von Titandioxid oder anderen Schwermetalloxiden handelt. Durch Einbettung dieser Teilchen wird der Oberfläche der vernetzten hydrophilen Schicht eine gleichmäßige rauhe Beschaffenheit mit mikroskopischen Spitzen und Tälern vermittelt, die als Lagerstellen für Wasser in Hintergrundbereichen dienen.A crosslinked hydrophilic layer in a lithographic support used according to this embodiment preferably also contains substances which improve the mechanical strength and porosity of the layer. For this purpose, colloidal silica can be used. The colloidal silica can be used in the form of any commercially available water dispersion of colloidal silica with, for example, an average particle size of up to 40 nm, e.g. 20 nm. In addition, inert particles with a larger grain size than the colloidal silica can be added, e.g. silica prepared as described in J. Colloid and Interface Sci., Volume 26, 1968, pages 62 to 69, by Stöber, or alumina particles or particles with an average diameter of at least 100 nm, which are particles of titanium dioxide or other heavy metal oxides. By embedding these particles, the surface of the cross-linked hydrophilic layer is given a uniform rough texture with microscopic peaks and valleys which serve as storage points for water in background areas.

Die Stärke einer vernetzten hydrophilen Schicht in einem nach dieser Ausführungsform benutzten lithografischen Träger kann zwischen 0,2 um und 25 um variieren und liegt vorzugsweise zwischen 1 um und 10 um.The thickness of a cross-linked hydrophilic layer in a lithographic support used according to this embodiment can vary between 0.2 µm and 25 µm and is preferably between 1 µm and 10 µm.

Besondere Beispiele für erfindungsgemäß nutzbare geeignete vernetzte hydrophile Schichten sind in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 und EP-A 514 490 beschrieben.Particular examples of suitable crosslinked hydrophilic layers usable according to the invention are described in EP-A 601 240, GB-P 1 419 512, FR-P 2 300 354, US-P 3 971 660, US-P 4 284 705 and EP-A 514 490.

Als biegsamer Träger eines lithografischen Trägers nach dieser Ausführungsform bevorzugt man insbesondere eine Kunststoffolie, z. B. eine substrierte Polyethylenterephthalatfolie, Celluloseacetatfolie, Polystyrolfolie, Polycarbonatfolie usw. Der Kunststoffolienträger kann lichtundurchlässig oder lichtdurchlässig sein.As a flexible support of a lithographic support according to this embodiment, a plastic film is particularly preferred, e.g. a subbed polyethylene terephthalate film, cellulose acetate film, polystyrene film, polycarbonate film, etc. The plastic film support can be opaque or translucent.

Besonders bevorzugt ist ein mit einer haftungsverbessernden Schicht beschichteter Polyesterfilmträger. Zur erfindungsgemäßen Verwendung besonders geeignete haftungsverbessernde Schichten enthalten ein hydrophiles Bindemittel und kolloidale Kieselsäure, wie in den EP-A 619 524, EP-A 620 502 und EP-A 619 525 beschrieben. Die Menge Kieselsäure in der haftungsverbessernden Schicht liegt vorzugsweise zwischen 200 mg/m² und 750 mg/m². Weiterhin liegt das Verhältnis von Kieselsäure zu hydrophilem Bindemittel vorzugsweise über 1 und beträgt die spezifische Oberfläche der kolloidalen Kieselsäure vorzugsweise wenigstens 300 m²/g, besonders bevorzugt 500 m²/g.A polyester film carrier coated with an adhesion-improving layer is particularly preferred. Adhesion-improving layers particularly suitable for use according to the invention contain a hydrophilic binder and colloidal silica, as described in EP-A 619 524, EP-A 620 502 and EP-A 619 525. The amount of silica in the adhesion-improving layer is preferably between 200 mg/m² and 750 mg/m². Furthermore, the ratio of silica to hydrophilic binder is preferably above 1 and the specific surface area of the colloidal silica is preferably at least 300 m²/g, particularly preferably 500 m²/g.

Die erfindungsgemäßen lithografischen Druckplatten können mit einer Strahlung im spektralen nahen Infrarotbereich emittierenden Laserdiode belichtet werden. Solche Laserdioden vereinen die Vorteile niedriger Kosten und eines niedrigen Energieaufwands. Die lithografischen Druckplatten können ebenfalls mit herkömmlichen Ultraviolettstrahlungsquellen belichtet werden. Dazu zählen Reinkohlebogenlampen, Quecksilberdampflampen, Fluoreszenzlampen, Wolframglühlampen und Blitzlampen.The lithographic printing plates according to the invention can be exposed with a laser diode emitting radiation in the near infrared spectral range. Such laser diodes combine the advantages of low cost and low energy consumption. The lithographic printing plates can also be exposed with conventional ultraviolet radiation sources. These include pure carbon arc lamps, mercury vapor lamps, fluorescent lamps, tungsten filament lamps and flash lamps.

Eine besonders geeignete Belichtungseinrichtung ist eine Laserdiode mit einer maximalen Ausgabe von etwa 830 nm. Eine solche Einrichtung ist in der Regel in der Lage, sowohl die latente Brönsted-Säure als den Infrarot-Absorber in den belichteten Bereichen zu zersetzen. Die bei der thermischen Zersetzung erhaltenen Produkte sind vorwiegend starke Säuren, die eine wirksame Vernetzung der Harze bewirken und dabei die Löslichkeit in wäßrig- alkalischen Entwicklerlösungen ändern.A particularly suitable exposure device is a laser diode with a maximum output of about 830 nm. Such a device is usually able to irradiate both the latent Brönsted acid and the infrared absorber in the exposed The products obtained during thermal decomposition are predominantly strong acids, which cause effective cross-linking of the resins and thereby change their solubility in aqueous alkaline developer solutions.

Wie eingangs beschrieben wird die bildmäßig belichtete Druckplatte während einer als Nachbelichtungs-Einbrennstufe oder NBE-Stufe bezeichneten Stufe erhitzt. Die Erhitzungsstufe wird zwischen 15 und 300 s bei einer Temperatur zwischen 70ºC und 150ºC geführt. Besonders bevorzugt wird eine Erhitzung zwischen 30 und 90 s bei einer Temperatur zwischen 80ºC und 135ºC. Nach vollendeter NBE wird die Platte entweder von Hand oder maschinell in einer wäßrig- alkalischen Entwicklerlösung verarbeitet, bis die Nicht-Bildbereiche entfernt sind. Dazu sind in der Regel 30 bis 120 s erfordert. Eine bevorzugte wäßrig-alkalische Entwicklerlösung ist eine Silikatlösung wie eine 6 gew.-%ige wäßrige Lösung von Natriummetasilikat. Eine für diesen Zweck nutzbare handelsübliche Silikatlösung ist der KODAK AQUA-IMAGE POSITIVE DEVELOPER MX-1406-1, der von Eastman Kodak Company vertrieben wird, oder der Fuji PS-Plattenentwickler DP-5, der, von Fuji Company vertrieben wird. Anschließend an den Kontakt mit der wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung wird die Platte in der Regel mit einem Appreturmittel wie Gummiarabicum verarbeitet.As described above, the image-wise exposed printing plate is heated during a step called the post-exposure baking step or NBE step. The heating step is carried out for between 15 and 300 seconds at a temperature between 70ºC and 150ºC. Particularly preferred is heating for between 30 and 90 seconds at a temperature between 80ºC and 135ºC. After NBE is complete, the plate is processed either manually or mechanically in an aqueous alkaline developer solution until the non-image areas are removed. This typically takes 30 to 120 seconds. A preferred aqueous alkaline developer solution is a silicate solution such as a 6% by weight aqueous solution of sodium metasilicate. A commercially available silicate solution that can be used for this purpose is KODAK AQUA-IMAGE POSITIVE DEVELOPER MX-1406-1, sold by Eastman Kodak Company, or Fuji PS Plate Developer DP-5, sold by Fuji Company. Following contact with the aqueous alkaline developer solution, the plate is usually processed with a finishing agent such as gum arabic.

Die Anzahl der erhältlichen Abzüge ist vorwiegend abhängig von der Anwendung einer Nachentwicklungseinbrennstufe. Wird keine Einbrennstufe vorgenommen, so werden mit der Platte in der Regel 60.000 bis 70.000 Abzüge erhalten, während eine einer 5minütigen Nachentwicklungseinbrennung bei 250ºC unterzogene Platte in der Regel 300.000 bis 350.000 Abzüge liefert. Die Anzahl der erhältlichen Abzüge vor Eintreten von Verschleiß kann ebenfalls durch Steigerung der Schichtgewichts verbessert werden.The number of prints available depends mainly on the use of a post-processing bake. If no bake is used, the plate will typically give 60,000 to 70,000 prints, while a plate subjected to a 5-minute post-processing bake at 250ºC will typically give 300,000 to 350,000 prints. The number of prints available before wear can also be improved by increasing the coating weight.

Da die erfindungsgemäße Druckplatte empfindlich gegenüber Infrarotlicht ist, kann in praktischer Weise digitale Bebilderungsinformation benutzt werden, um mittels einer geeigneten Infrarotstrahlungsquelle wie einer im Infrarotbereich emittierenden Laserdiode Halbton- oder Rasterbilder zu erzeugen. Da die erfindungsgemäße Druckplatte ebenfalls empfindlich gegenüber Ultraviolettlicht ist, kann es ebenfalls in praktischer Weise bebildert werden, um mittels Ultraviolettbelichtung durch eine geeignete Bilderzeugungsvorlage wie einen Silberhalogenidfilm Halbton- oder Rasterbilder zu erzeugen. Aufgrund dieser Eigenschaften kann die gleiche Druckplatte in einer Einrichtung für Eingabe von elektronischen Daten durch Beschreiben mit einem Laser oder in einem üblicherweise für die Ultraviolettbelichtung von lithografischen Druckplatten eingesetzten Einrichtungstyp genutzt werden. Digitale oder elektronische Bebilderungstechniken können also problemlos mit herkömmlichen optischen Bebilderungstechniken kombiniert werden, d. h. beide Typen von Bebilderung sind auf derselben Druckplatte aufwendbar. Dadurch wird es möglich, erforderlichenfalls Information, die nicht in einem elektronischen Format zur Verfügung steht, durch optische Bebilderungstechniken hinzuzufügen, um die Bebilderung der lithografischen Druckplatte zu vollenden.Since the printing plate of the invention is sensitive to infrared light, it can conveniently be used to produce halftone or halftone images using a suitable infrared radiation source such as a laser diode emitting in the infrared range. Since the printing plate of the invention is also sensitive to ultraviolet light, it can also conveniently be imaged to produce halftone or halftone images using ultraviolet exposure through a suitable imaging original such as a silver halide film. to produce halftone or halftone images. Due to these properties, the same printing plate can be used in a device for entering electronic data by writing with a laser or in a type of device commonly used for ultraviolet exposure of lithographic printing plates. Digital or electronic imaging techniques can thus be easily combined with conventional optical imaging techniques, ie both types of imaging can be used on the same printing plate. This makes it possible, if necessary, to add information not available in an electronic format by optical imaging techniques in order to complete the imaging of the lithographic printing plate.

Die vorliegende Erfindung wird jetzt anhand der folgenden Beispiele veranschaulicht, ohne sie jedoch darauf zu beschränken. Alle Teile, Prozentsätze und Verhältnisse bedeuten Gewichtsteile, wenn nichts anders vermerkt ist.The present invention will now be illustrated by the following examples, but is not limited thereto. All parts, percentages and ratios are by weight, unless otherwise indicated.

BEISPIEL 1EXAMPLE 1 Anfertigung des lithografischen TrägersPreparation of the lithographic support

Eine 0,20 mm starke Aluminiumfolie wird durch Eintauchen der Folie in einer wäßrigen, 5 g/l Natriumhydroxid enthaltenden Lösung bei 50ºC entfettet und mit entmineralisiertem Wasser gespült. Die Folie wird dann bei einer Temperatur von 35ºC und einer Stromdichte von 1.200 A/m² in einer wäßrigen Lösung, die 4 g/l Chlorwasserstoffsäure, 4 g/l Borwasserstoffsäure und 5 g/l Aluminiumionen enthält, mit Wechselstrom elektrochemisch gekörnt, um eine Oberflächentopografie mit einem arithmetischen Mittenrauhwert Ra von 0,5 um zu erhalten.A 0.20 mm thick aluminium foil is degreased by immersing the foil in an aqueous solution containing 5 g/l sodium hydroxide at 50ºC and rinsed with demineralised water. The foil is then electrochemically grained with alternating current at a temperature of 35ºC and a current density of 1,200 A/m² in an aqueous solution containing 4 g/l hydrochloric acid, 4 g/l hydroboric acid and 5 g/l aluminium ions to obtain a surface topography with an arithmetic mean roughness Ra of 0.5 µm.

Nach Spülung mit entmineralisiertem Wasser wird die Aluminiumfolie mit einer wäßrigen, 300 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung 180 s bei 60ºC geätzt und anschließend 30 s bei 25ºC mit entmineralisiertem Wasser gespült.After rinsing with demineralized water, the aluminium foil is etched with an aqueous solution containing 300 g/l sulfuric acid for 180 s at 60ºC and then rinsed with demineralized water for 30 s at 25ºC.

Anschließend wird die Folie bei einer Temperatur von 45ºC, einer Spannung von etwa 10 V und einer Stromdichte von 150 A/m² etwa 300 s in einer wäßrigen, 200 g/l Schwefelsäure enthaltenden Lösung eloxiert, um eine anodische, 3,00 g/m² Al&sub2;O&sub3; enthaltende Oxidationsfolie zu erhalten, mit entmineralisiertem Wasser gewaschen, anschließend mit einer 20 g/l Natriumbicarbonat enthaltenden Lösung 30 s bei 40ºC nachverarbeitet, danach mit entmineralisiertem Wasser 120 s bei 20ºC gespült und getrocknet.The film is then placed in an aqueous solution containing 200 g/l sulphuric acid at a temperature of 45ºC, a voltage of about 10 V and a current density of 150 A/m² for about 300 s. anodized to obtain an anodic oxidation film containing 3.00 g/m² Al₂O₃, washed with demineralized water, then post-treated with a solution containing 20 g/l sodium bicarbonate for 30 s at 40ºC, then rinsed with demineralized water for 120 s at 20ºC and dried.

Herstellung des BilderzeugungselementsManufacturing of the imaging element

Der lithografische Aluminiumträger wird aus einer 10 gew.-%igen Lösung von 90 Gew.-% Methylethylketon und 10 Gew.-% Methanol in einer Naßschichtstärke von 30 um mit der IR-empfindlichen Schicht überzogen. Die IR-empfindliche Schicht weist nach Trocknung die folgende Zusammensetzung auf.The lithographic aluminum support is coated with the IR-sensitive layer from a 10 wt. % solution of 90 wt. % methyl ethyl ketone and 10 wt. % methanol in a wet layer thickness of 30 µm. The IR-sensitive layer has the following composition after drying.

63 Gew.-% MARUKA LYNCUR M H-2 (Homopolymer von Polyvinylphenol von Maruzen Co), 29 Gew.-% CYMEL 303 (Hexamethoxymethylmelamin von Dyno Cyanamid), 5 Gew.-% TRIAZINE S (2,4,6-(Trichlormethyl)-s-triazin von P. C. A. S.) und 3 Gew.-% IR-Absorber I. IR-Absorber I 63 wt% MARUKA LYNCUR M H-2 (homopolymer of polyvinylphenol from Maruzen Co), 29 wt% CYMEL 303 (hexamethoxymethylmelamine from Dyno Cyanamid), 5 wt% TRIAZINE S (2,4,6-(trichloromethyl)-s-triazine from PCAS) and 3 wt% IR Absorber I. IR Absorber I

Herstellung der DruckplatteProduction of the printing plate

Das infrarotlichtempfindliche Bilderzeugungselement wird mittels einer bei 830 nm emittierenden Laserdiode abgetastet (Abtastgeschwindigkeit 2 m/s, Strahlbreite 9,6 um und Laserleistung auf der Plattenoberfläche zwischen 60 und 120 mW).The infrared light-sensitive imaging element is scanned by a laser diode emitting at 830 nm (scanning speed 2 m/s, beam width 9.6 µm and laser power on the plate surface between 60 and 120 mW).

Nach ihrer Bebilderung wird die Druckplatte 150 s bei 115ºC in einem Öfen erhitzt, wonach man sie auf Zimmertemperatur abkühlen läßt. Das Bilderzeugungselement wird dann mit Fuji PS- Plattenentwickler DP-5 verarbeitet, um die nicht-belichteten Bereiche zu entfernen, wodurch eine negativarbeitende lithografische Druckplatte erhalten wird.After imaging, the plate is heated in an oven at 115ºC for 150 seconds and then allowed to cool to room temperature. The imaging element is then processed with Fuji PS Plate Developer DP-5 to remove the unexposed areas, thereby obtaining a negative-working lithographic plate.

Das auf dem lithografischen Träger erhaltene Bild kann unter Verwendung einer üblichen Druckfarbe und eines üblichen Feuchtwassers zum Drucken auf einer herkömmlichen Offsetpresse benutzt werden. Es werden hervorragende Abzüge erhalten.The image obtained on the lithographic support can be used for printing on a conventional offset press using a conventional printing ink and a conventional fountain solution. Excellent prints are obtained.

BEISPIEL 2EXAMPLE 2

Es wird eine lithografische Druckplatte hergestellt, wie für die lithografische Druckplatte von Beispiel 1 beschrieben, jedoch mit dem Unterschied, daß anstelle von IR-Absorber I IR-Absorber II benutzt und die bebilderte Platte vor der Entwicklung auf 135ºC statt auf 115ºC erhitzt wird. Die erhaltenen Ergebnisse sind den Ergebnissen von Beispiel 1 ähnlich. IR-Absorber II A lithographic printing plate is prepared as described for the lithographic printing plate of Example 1, but with the difference that IR absorber II is used instead of IR absorber I and the imaged plate is heated to 135ºC instead of 115ºC before development. The results obtained are similar to the results of Example 1. IR absorber II

BEISPIEL 3EXAMPLE 3

Es wird eine lithografische Druckplatte hergestellt, wie für die lithografische Druckplatte von Beispiel 1 beschrieben, jedoch mit dem Unterschied, daß anstelle von TRIAZINE S 9-Fluorenilideniminotosylat benutzt wird. Die erhaltenen Ergebnisse sind den Ergebnissen von Beispiel 1 ähnlich.A lithographic printing plate is prepared as described for the lithographic printing plate of Example 1, but with the difference that 9-fluorenilidene iminotosylate is used instead of TRIAZINE S. The results obtained are similar to the results of Example 1.

BEISPIEL 4EXAMPLE 4

Es wird eine lithografische Druckplatte hergestellt, wie für die lithografische Druckplatte von Beispiel 1 beschrieben, jedoch mit dem Unterschied, daß anstelle von MARUKA LYNCUR M H-2 NOVOLAK N3 (Phenol-Formaldehydharz von Soc. Belge de l'Azote) benutzt und die bebilderte Platte vor der Entwicklung auf 90ºC statt auf 115ºC erhitzt wird. Die erhaltenen Ergebnisse sind den Ergebnissen von Beispiel 1 ähnlich.A lithographic printing plate is prepared as described for the lithographic printing plate of Example 1, but with the difference that NOVOLAK N3 (phenol-formaldehyde resin from Soc. Belge de l'Azote) is used instead of MARUKA LYNCUR M H-2 and the imaged plate is heated to 90°C instead of 115°C before development. The results obtained are similar to those of Example 1.

BEISPIEL 5EXAMPLE 5

Es wird eine lithografische Druckplatte hergestellt, wie für die lithografische Druckplatte von Beispiel 1 beschrieben, jedoch mit dem Unterschied, daß anstelle von MARUKA LYNCUR M H-2 ALNOVOL PN430 (Phenol-Formaldehydharz von Reichold Hoechst) benutzt und die bebilderte Platte vor der Entwicklung auf 110ºC statt auf 115ºC erhitzt wird. Die erhaltenen Ergebnisse sind den Ergebnissen von Beispiel 1 ähnlich.A lithographic printing plate is prepared as described for the lithographic printing plate of Example 1, but with the difference that ALNOVOL PN430 (phenol-formaldehyde resin from Reichold Hoechst) is used instead of MARUKA LYNCUR M H-2 and the imaged plate is heated to 110ºC instead of 115ºC before development. The results obtained are similar to the results of Example 1.

BEISPIEL 6EXAMPLE 6

Es wird eine lithografische Druckplatte hergestellt, wie für die lithografische Druckplatte von Beispiel 1 beschrieben, jedoch mit dem Unterschied, daß anstelle von MARUKA LYNCUR M H-2 ALNOVOL PN844 (Phenol-Formaldehydharz von Reichold Hoechst) benutzt und die bebilderte Platte vor der Entwicklung auf 110ºC statt auf 115ºC erhitzt wird. Die erhaltenen Ergebnisse sind den Ergebnissen von Beispiel 1 ähnlich.A lithographic printing plate is prepared as described for the lithographic printing plate of Example 1, but with the difference that ALNOVOL PN844 (phenol-formaldehyde resin from Reichold Hoechst) is used instead of MARUKA LYNCUR M H-2 and the imaged plate is heated to 110ºC instead of 115ºC before development. The results obtained are similar to those of Example 1.

BEISPIEL 7EXAMPLE 7

Auf das Bilderzeugungselement von Beispiel 1 wird in schichtseitigem Kontakt ein Testobjekt mit einem 60er Raster (60 Linien/cm) und feinen positiven und negativen Linien angeordnet, wonach das Bilderzeugungselement durch das Objekt hindurch mit Ultraviolettstrahlung belichtet wird.A test object with a 60 grid (60 lines/cm) and fine positive and negative lines is placed in layer-side contact on the imaging element of Example 1, after which the imaging element is exposed to ultraviolet radiation through the object.

Anschließend wird die belichtete Druckplatte 150 s bei 115ºC in einem Ofen erhitzt, wonach man die erhitzte Platte auf Zimmertemperatur abkühlen läßt. Das Bilderzeugungselement wird dann mit Fuji PS-Plattenentwickler DP-5 verarbeitet, um die nicht- belichteten Bereiche zu entfernen, wodurch eine negativarbeitende lithografische Druckplatte erhalten wird.The exposed plate is then heated in an oven at 115ºC for 150 seconds, after which the heated plate is allowed to cool to room temperature. The imaging element is then processed with Fuji PS Plate Developer DP-5 to remove the unexposed areas, thereby obtaining a negative-working lithographic printing plate.

Das auf dem lithografischen Träger erhaltene Bild kann unter Verwendung einer üblichen Druckfarbe und eines üblichen Feuchtwassers zum Drucken auf einer herkömmlichen Offsetpresse benutzt werden. Es werden hervorragende Abzüge erhalten.The image obtained on the lithographic support can be used for printing on a conventional offset press using a conventional printing ink and a conventional fountain solution. Excellent prints are obtained.

Claims (10)

1. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement, das auf einer hydrophilen Oberfläche eines lithografischen Trägers eine bilderzeugende Schicht mit (1) einem alkalilöslichen oder alkaliquellbaren Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, (2) einer latenten Brönsted-Säure und (3) einer Infrarotstrahlung absorbierenden Substanz enthält, dadurch gekennzeichnet, daß die Bilderzeugungsschicht ein Aminovernetzungsmittel enthält, und mit der Maßgabe, daß die Infrarotstrahlung absorbierende Substanz kein Gasrußpigment ist.1. A radiation-sensitive imaging element comprising on a hydrophilic surface of a lithographic support an imaging layer comprising (1) an alkali-soluble or alkali-quenchable resin having a phenolic hydroxyl group, (2) a latent Bronsted acid and (3) an infrared radiation absorbing substance, characterized in that the imaging layer contains an amino crosslinking agent, and with the proviso that the infrared radiation absorbing substance is not a carbon black pigment. 2. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Aminovernetzungsmittel eine Verbindung aus der Gruppe bestehend aus Melamin- Formaldehydharzen, (Thio)harnstoff-Formaldehydharzen, Guanamin- Formaldehydharzen, Benzoguanamin-Formaldehydharzen und Glycoluril-Formaldehydharzen gewählt wird.2. A radiation-sensitive imaging element according to claim 1, characterized in that the amino crosslinking agent is a compound selected from the group consisting of melamine-formaldehyde resins, (thio)urea-formaldehyde resins, guanamine-formaldehyde resins, benzoguanamine-formaldehyde resins and glycoluril-formaldehyde resins. 3. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als alkalilösliches oder alkaliquellbares Harz mit phenolischen Hydroxylgruppen ein Novolakharz oder ein Polyvinylphenolharz benutzt wird.3. A radiation-sensitive imaging element according to claim 1 or 2, characterized in that a novolac resin or a polyvinylphenol resin is used as the alkali-soluble or alkali-quenchable resin having phenolic hydroxyl groups. 4. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die latente Brönsted-Säure eine ionische latente Brönsted-Säure ist.4. A radiation-sensitive imaging element according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the latent Bronsted acid is an ionic latent Bronsted acid. 5. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die ionische latente Brönsted- Säure ein Iodonium-, Sulfonium-, Selenonium-, Diazonium- oder Arsoniumsalz ist.5. A radiation-sensitive imaging element according to claim 4, characterized in that the ionic latent Bronsted acid is an iodonium, sulfonium, selenonium, diazonium or arsonium salt. 6. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die latente Brönsted-Säure eine nicht-ionische latente Brönsted-Säure ist.6. A radiation-sensitive imaging element according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the latent Bronsted acid is a non-ionic latent Bronsted acid. 7. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht-ionische latente Brönsted-Säure ein haloalkylsubstituiertes s-Triazin ist.7. A radiation-sensitive imaging element according to claim 6, characterized in that the non-ionic latent Bronsted acid is a haloalkyl-substituted s-triazine. 8. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Infrarot- Absorber ein Farbstoff oder Pigment aus der Gruppe bestehend aus Squarylium-, Croconat-, Cyanin-, Merocyanin-, Indolizin-, Pyrylium- und Metalldithiolen-Verbindungen ist.8. A radiation-sensitive imaging element according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the infrared absorber is a dye or pigment from the group consisting of squarylium, croconate, cyanine, merocyanine, indolizine, pyrylium and metal dithiolene compounds. 9. Ein strahlungsempfindliches Bilderzeugungselement nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der lithografische Träger ein eloxierter Aluminiumträger ist oder einen biegsamen Träger mit einer darüber vergossenen vernetzten hydrophilen Schicht enthält.9. A radiation-sensitive imaging element according to any one of claims 1 to 8, characterized in that the lithographic support is an anodized aluminum support or comprises a flexible support with a crosslinked hydrophilic layer coated thereon. 10. Ein durch die nachstehenden Schritte gekennzeichnetes Verfahren zur Herstellung einer negativarbeitenden lithografischen Druckplatte:10. A process for producing a negative-working lithographic printing plate, characterized by the following steps: (a) bildmäßige oder informationsmäßige Belichtung eines Bilderzeugungselements nach einem der Ansprüche 1 bis 9 mit Ultraviolettlicht, Infrarotlicht oder Wärme,(a) imagewise or informationally exposing an imaging element according to any one of claims 1 to 9 to ultraviolet light, infrared light or heat, (b) Erhitzung des belichteten Bilderzeugungselements, um die Löslichkeit in den belichteten Bereichen zu verringern, und(b) heating the exposed imaging element to reduce the solubility in the exposed areas, and (c) Entwicklung des belichteten und erhitzten Bilderzeugungselements mit einer wäßrig-alkalischen Entwicklerlösung, um die nicht-belichteten Bereiche zu entfernen und dabei eine lithografische Druckplatte zu erhalten.(c) developing the exposed and heated imaging element with an aqueous alkaline developer solution to remove the non-exposed areas and thereby obtain a lithographic printing plate.
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