[go: up one dir, main page]

DE69509124T2 - Verfahren zur korrosionshemmung von kupfer- und kupferlegierungen - Google Patents

Verfahren zur korrosionshemmung von kupfer- und kupferlegierungen

Info

Publication number
DE69509124T2
DE69509124T2 DE69509124T DE69509124T DE69509124T2 DE 69509124 T2 DE69509124 T2 DE 69509124T2 DE 69509124 T DE69509124 T DE 69509124T DE 69509124 T DE69509124 T DE 69509124T DE 69509124 T2 DE69509124 T2 DE 69509124T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
acid
copper
salt
aqueous solution
process according
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69509124T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69509124D1 (de
Inventor
John Reynolds
Andrew Soutar
Keith White
Anthony Williams
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Vesuvius Holdings Ltd
Original Assignee
Cookson Group PLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from GBGB9426087.4A external-priority patent/GB9426087D0/en
Priority claimed from GBGB9507419.1A external-priority patent/GB9507419D0/en
Application filed by Cookson Group PLC filed Critical Cookson Group PLC
Publication of DE69509124D1 publication Critical patent/DE69509124D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69509124T2 publication Critical patent/DE69509124T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/282Applying non-metallic protective coatings for inhibiting the corrosion of the circuit, e.g. for preserving the solderability
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F11/00Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
    • C23F11/08Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
    • C23F11/10Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
    • C23F11/14Nitrogen-containing compounds
    • C23F11/149Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Korrosionsschutz von Kupfer oder Kupferlegierungen und insbesondere ein Verfahren zum Korrosionsschutz von Kupfer oder Kupferlegierungen, um Wärmeschutz und Feuchtigkeitsschutz zu schaffen.
  • Flussmittelbeschichtungen werden verwendet, um sowohl steife als auch flexible gedruckte Leiterplatten (printed circuit boards; PCBs) zu schützen. Im Stand der Technik sind verschiedene Flussmittelbeschichtungen beschrieben. Ursprünglich wurden Benzotriazole als Flussmittelbeschichtungen verwendet, aber in der heutigen Zeit basieren die handelsüblichen Verfahren zur Flussmittelvorbehandlung auf Imidazolen oder Benzimidazolen.
  • EP-A-0364132 offenbart ein Verfahren zur Flussmittelvorbehandlung von Kupfer unter Verwendung einer wässrigen Lösung, die eine Verbindung, die Kupfer- oder Zinkionen abgeben kann, sowie ein Imidazol mit einer C&sub5;&submin;&sub2;&sub1; Alkylgruppe in dessen 2-Position aufweist.
  • EP-A-0428383 offenbart die Verwendung einer Benzimidazol-Verbindung, die eine Alkylgruppe mit mindestens 3 Kohlenstoffatomen in deren 2-Position und eine organische Säure enthält, als Flussmittelbeschichtung.
  • JP-A-06002158 offenbart die Verwendung verschiedener 2-(Phenylalkyl)-Benzimidazole, wie z. B. des 2-(p-Chloro benzyl)-Benzimidazols, als Wirkstoff zur Flussmittelvorbehandlung.
  • Keine der Flussmittelbeschichtungen nach dem Stand der Technik kann als vollständig zufriedenstellend angesehen werden, weil diese System einen begrenzten Wärme- und/oder Feuchtigkeitsschutz bieten.
  • Es ist nun ein Verfahren zur Flussmittelvorbehandlung von Kupfer oder Kupferlegierungen entwickelt worden, insbesondere um steife und flexible gedruckte Leiterplatten aus Kupfer oder Kupferlegierungen zu schützen, wobei das Verfahren einen besseren Schutz bietet und die Nachteile der aus dem Stand der Technik bekannten Verfahren überwindet.
  • Demnach liefert die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Korrosionsschutz von Kupfer oder einer Kupferlegierung, wobei das Verfahren beinhaltet, dass die Oberfläche mit einer wässrigen Lösung wenigstens einer Verbindung der allgemeinen Formel
  • in Berührung gebracht wird,
  • wobei X für N, Y für Cr und Z für N,
  • oder X für N, Y für N und Z für N oder Cr
  • oder X für Cr, Y für N und Z für N steht,
  • wobei R ein Wasserstoffatom oder R¹, und R¹ eine Alkyl-, Aryl-, Aralkyl-, Halogen-, Trihalomethyl-, Amino-, heterocyclische, NHR²-, NR³R&sup4;-, CN-, CO&sub2;H-, CO&sub2;R&sup5;-, OH- oder OR&sup6;-Gruppe ist, wobei jedes der R² bis R&sup6; unabhängig voneinander eine Alkyl-, Aryl- oder Aralkyl-Gruppe repräsentiert.
  • In den oben angegebenen Definitionen der Substituentgruppen haben Alkylgruppen vorzugsweise zwischen 1 und 20 Kohlenstoffatome, vorzugsweise 1 bis 6 Kohlenstoffatome; Arylgruppen sind vorzugsweise Phenyl- oder Naphthyl- Gruppen; Aralkylgruppen sind vorzugsweise Phenyl- oder Naphthyl-Gruppen substituiert mit einer oder mehreren Alkylgruppen, die 1 bis 20 Kohlenstoffatome enthalten; und heterocyclische Gruppen sind vorzugsweise Furfuryl, Bezotriazolyl, Imidazolyl und Benzimidazolyl.
  • Die Behandlung mit der wässrigen Lösung gemäß der vorliegenden Erfindung bildet an der Oberfläche des Kupfers oder der Kupferlegierung eine Ligandenbeschichtung, die die Oberfläche des Kupfers oder der Kupferlegierung während Lagerung schützt. Die Ligandenbeschichtung eignet sich insbesondere für die Oberflächenmontage von Bauelementen, weil sie lötbar ist, d. h. mit einem geeigneten Flussmittel entfernt und mit einem Lötmittel benetzt werden kann, und ausgezeichnete Wärmebeständigkeit sowie Langzeit-Lagerfähigkeit aufweist.
  • Die in der vorliegenden Erfindung besonders bevorzugt verwendeten Verbindungen der Formel I sind die Triazol- Pyridine der Formeln:
  • oder
  • sowie Purin, 6-Aminopurin, 6-Chloropurin, 2,6-Dichloropurin, 6-Methoxypurin, 6-Histaminopurin, und 6-Furfurylaminopurin.
  • Die in der vorliegenden Erfindung zu verwendenden Verbindungen der Formel I sind Verbindungen, die alle vier oder fünf heterocyclische Stickstoffatome enthalten. Folglich haben die Triazol-Pyridine ein Stickstoffatom mehr als die Benzotriazole, und die Purine haben zwei Stickstoffatome mehr als die zugehörigen Benzimidazole. Die Triazol-Pyridine und die Purine haben allgemein höhere Schmelzpunkte als die zugehörigen Benzotriazole und Bezimidazole, und man glaubt, dass dies mit der Wärmebeständigkeit des auf der Oberfläche des Kupfers oder der Kupferlegierung gebildeten Komplexes in Beziehung steht. Es wird auch angenommen, dass die zusätzlichen Stickstoffatome in den Verbindungen im Vergleich zu den Verbindungen nach dem Stand der Technik eine höhere Anzahl von Stellen zur Verbindung mit der Metalloberfläche und den Metallionen hervorrufen.
  • Die Verbindungen der Formel (I) können selbst als Zusatz oder als Zusatz zusammen mit den Verbindungen verwendet werden, die vorher zur Verwendung für die Flussmittelvorbehandlung von Kupfer oder Kupferlegierungen vorgeschlagen wurden.
  • Einige der Verbindungen der Formel (I) sind in Wasser nicht gut lösbar, und entsprechend können die Verbindungen unter Verwendung einer organischen oder anorganischen Säure zu einer wässrigen Lösung umgebildet werden. Beispiele von organischen Säuren, die zu diesem Zweck verwendet werden können, sind Essigsäure, Acrylsäure, Adipinsäure, Bezoesäure, Zitronensäure, 2-Dimethylol-Propansäure, Ameisensäure, Fumarsäure, Maleinsäure, Oxalsäure, Propansäure, Salicylsäure, Succinsäure oder Weinsäure, und Beispiele von anorganischen Säuren sind Salzsäure, Salpetersäure, Phosphorsäure oder Schwefelsäure.
  • Selbst wenn die Verbindung der Formel (I) wasserlöslich ist, wird die wässrige Beschichtungslösung vorzugsweise durch Zugabe von Ammoniak, Tetraalkylammoniumhydroxid, Aminen, Alkalimetallhydroxiden, Phosphaten oder Boraten zusätzlich zu den oben angegebenen Säuren gepuffert. Wässrige Lösungen aus den Verbindungen der Formel (I) können in dem pH-Bereich von 2 bis 14 zubereitet werden.
  • Die wässrige Lösung aus der Verbindung der Formel (I) kann durch Tauchen, Aufsprühen oder durch andere Beschichtungstechniken auf die Oberfläche des Kupfers oder der Kupferlegierung aufgebracht werden.
  • Es ist auch möglich, ein oder mehrere Titan-, Vanadium-, Chrom-, Mangan-, Eisen-, Cobalt-, Nickel-, Kupfer- oder Zinkverbindungen in einer Menge zwischen 0,01 und 10 Gewichtsprozent, basierend auf dem Gewicht der Verbindung der Formel (I), in die wässrige Lösung einzuschließen. Diese Salze vergrößern die Beschichtungsgeschwindigkeit und/oder verbessern die Wärme- und Feuchtigkeitsbeständigkeit der Beschichtung. Außerdem bilden Nickel und Zink ihre jeweiligen Metal-Ligandenbeschichtungen auf der Kupferoberfläche.
  • Zu den Kupferverbindungen, die verwendet werden können, gehören Kupferacetat, Kupferbromide, Kupferchloride, Kupferwasserstoff, Kupfernitrat, Kupferphosphat oder Kup fersulfat. Zu den Nickelverbindungen, die verwendet werden können, gehören Nickelacetat, Nickelbromid, Nickelchlorid, Nickelhydroxid, Nickelnitrat, Nickelphosphat oder Nickelsulfat, während Zinkverbindungen, die verwendet werden können, Zinkacetat, Zinkbenzoat, Zinkbromid, Zinkchlorid, Zinkcitrat, Zinkformiat, Zinknitrat, Zinkoxid, Zinkoxalat, Zinkphosphat, Zinksalicylat oder Zinktartrat enthalten.
  • Bevorzugte Bedingungen zur Behandlung des Kupfers oder der Kupferlegierung erhält man, wenn die wässrige Lösung aus der Verbindung der Formel (I) bei einer Temperatur zwischen 20 und 60ºC gehalten wird und die Lösung die zu behandelnde Oberfläche für eine Dauer von 1 Sekunde bis 5 Minuten, vorzugsweise 30 Sekunden bis 2 Minuten, kontaktiert.
  • Das Verfahren nach der vorliegenden Erfindung kann dazu verwendet werden, die Oberfläche eines jeden Artikels aus Kupfer oder Kupferlegierung zu schützen. Es ist jedoch besonders zweckmäßig für die Behandlung sowohl von steifen als auch von flexiblen gedruckten Leiterplatten.
  • Die vorliegende Erfindung schließt deshalb in ihren Geltungsbereich eine steife oder flexible gedruckte Leiterplatte mit ein, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren beschichtet wurde.
  • Die vorliegende Erfindung wird anhand von Beispielen weiter beschrieben, die die Erfindung nicht beschränken.
  • Die in den Beispielen durchweg verwendeten allgemeinen Verfahren werden nachstehend einzeln beschrieben.
  • 1. Zubereitung der Kupferprobe
  • Kupferproben (mit 20 Mikrometer Kupfer belegtes Kupferlaminat) wurden mit Isopropylalkohol entfettet und mit der folgenden Lösung bei Zimmertemperatur für 2 Minuten geätzt:
  • Kaliumperoxomonosulfat 6,0 Gew.-%
  • Kupfersulfat 0,5 Gew.-%
  • Schwefelsäure 0,5 Gew.-%
  • Entionisiertes Wasser Rest
  • Die geätzten Proben wurden dann mit Leitungswasser, darauf mit Schwefelsäure und dann wieder mit Leitungswasser abgespült. Die Proben wurden dann mit Isopropylalkohol gespült und in warmer Luft getrocknet.
  • 2. Beschichtungslösung
  • Es wurden Beschichtungslösungen durch Auflösung oder Bildung einer Suspension aus dem Liganden (0,5%) in Wasser (99,5%) hergestellt. Der pH-Wert der Lösung wurde dann mit Eisessig auf 2,5 eingestellt. Der pH-Wert wurde dann mit Natriumhydroxid (20 Gew.-%) auf verschiedene pH-Werte, bis zu einem pH-Wert von 11, eingestellt.
  • Geätzte Kupferproben wurden 2 Minuten lang bei 40ºC mit der Beschichtungslösung beschichtet. Nach Entfernen der Proben von der Beschichtungslösung wurden sie mit entionisiertem Wasser ausgespült und warmluftgetrocknet.
  • Das Vorhandensein der Beschichtung wurde entweder aus Nichtbenetzungseffekten abgeleitet, die auftraten, als die Probe von der Beschichtungslösung entfernt und ausgespült wurde, oder indem ein Silbertüpfeltest (silver spot test) durchgeführt wurde. Die Proben wurden für ca. 18 h abgelagert, bevor Wärmebehandlungstests und Feuchtigkeitsalterungs-/Wärmebehandlungs-Tests durchgeführt wurden.
  • 3. Wärmebehandlungstests
  • Beschichtete Kupferproben wurden in einem Ofen bei 220ºC erhitzt. Die Proben wurden 10 Sekunden nachdem ihre Temperatur 200ºC erreicht hat herausgenommen. Die Proben wurden fünf solchen Zyklen unterzogen. Die Hitzeanlaufbeständigkeit wurde im Verhältnis zum blanken Kupfer bewertet. Die Beschichtungen wurden folgendermaßen beurteilt:
  • SCHLECHT - beschichtete Proben liefen schneller an als blankes Kupfer
  • ZUFRIEDENSTELLEND - Anlauf vergleichbar mit blankem Kupfer
  • GUT - gegenüber blankem Kupfer verbesserte Anlaufbeständigkeit.
  • 4. Feuchtigkeitsalterungs/Wärmebehandlungs-Tests
  • Beschichtete Kupferproben aus plattiertem Kupferlaminat wurden in einer Klimakammer bei 40ºC/95% Luftfeuchtigkeit für 72 Stunden gelagert. Die Feuchtigkeitsanlaufbeständigkeit wurde im Verhältnis zum blanken Kupfer bewertet. Die Proben wurden, wie oben erörtert, als
  • SCHLECHT, ZUFRIEDENSTELLEND oder GUT beurteilt.
  • Die durch Feuchtigkeit gealterten, beschichteten Proben aus plattiertem Kupferlaminat wurden in einem Ofen bei 220ºC erhitzt. Die Proben wurden 10 Sekunden nachdem ihre Temperatur 200ºC erreicht hat herausgenommen. Die Proben wurden fünf solchen Zyklen unterzogen. Wärmeanlaufbeständigkeit wurde relativ zu blankem Kupfer bewertet. Die Beschichtungen wurden in der oben erörterten Weise als
  • SCHLECHT, ZUFRIEDENSTELLEND oder GUT beurteilt.
  • 5. Lötbarkeit
  • Die Lötbarkeit der Proben wurde mit einem Tauchlöttest unter Verwendung des Lötflussmittels Alpha NR300F getestet.
  • BEISPIEL 1
  • Die Verbindung der Formel
  • nämlich 1H-1,2,3-Triazol[4,5-c]Pyridin, wurde in der oben ausführlich beschriebenen Weise getestet, und die folgenden Ergebnisse würden erhalten, die in der nachstehenden Tabelle 1 einzeln angegebenen sind: TABELLE 1
  • BEISPIEL 2
  • Die Verbindung der Formel
  • nämlich 1H-1,2,3-Triazol[4,5-b]Pyridin, wurde in der oben ausführlich beschriebenen Weise getestet, und die folgenden Ergebnisse wurden erhalten, die in der Tabelle 5 unten angegebenen sind: TABELLE 2
  • BEISPIEL 3
  • Purin wurde auf die oben ausführlich beschriebene Weise getestet, und die folgenden, in Tabelle 3 unten angegebenen Ergebnisse wurden erhalten: TABELLE 3
  • BEISPIEL 4
  • 6-Aminopurin wurde auf die oben beschriebene Weise getestet, und die folgenden, in Tabelle 4 unten angegebenen Ergebnisse wurden erhalten: TABELLE 4
  • BEISPIEL 5
  • 6-Chloropurin wurde auf die oben beschriebene Weise getestet, und die folgenden, in Tabelle 4 unten angegebenen Ergebnisse wurden erhalten: TABELLE 5
  • BEISPIEL 6
  • 2,6-Dichloropurin wurde auf die oben beschriebene Weise getestet, und die folgenden, in Tabelle 6 unten angegebenen Ergebnisse wurden erhalten: TABELLE 6
  • BEISPIEL 7
  • Es wurde eine Beschichtungslösung durch Auflösung oder Bildung einer Suspension aus Purin (0,5%) in Wasser (99,5%) hergestellt. Der pH-Wert der Lösung wurde dann mit Ameisensäure auf 2,5 eingestellt und mit Ammoniaklösung auf den benötigten pH-Wert wiederangepasst.
  • Die Lösung wurde gemäß dem allgemeinen Verfahren, wie oben beschrieben, getestet, und die folgenden Ergebnisse wurden erhalten:
  • BEISPIEL 8
  • Eine Beschichtungslösung wurde durch Auflösung oder Bildung einer Suspension aus 6-Methoxypurin (0,5%) in Wasser (99,5%) hergestellt. Der pH-Wert der Lösung wurde dann mit Ameisensäure auf 2,5 eingestellt und mit Ammoniaklösung auf den benötigten pH-Wert wiederangepasst.
  • Die Lösung wurde gemäß dem allgemeinen Verfahren, wie oben beschrieben, getestet, und die folgenden Ergebnisse wurden erhalten:
  • BEISPIEL 9
  • Es wurde eine Beschichtungslösung durch Auflösung von 6-Histaminopurin (0,5%) in Wasser (99,5%) gebildet. Der pH-Wert der Lösung wurde dann mit Ameisensäure auf 2,5 eingestellt und mit Ammoniaklösung auf den benötigten pH- Wert wiederangepasst.
  • Die Lösung wurde nach dem allgemeinen Verfahren, wie oben beschrieben, getestet, und die folgenden Ergebnisse wurden erhalten:

Claims (11)

1. Verfahren zum Korrosionsschutz von Kupfer oder Kupferlegierungen, wobei das Verfahren beinhaltet, dass die Oberfläche mit einer wässrigen Lösung wenigstens einer Verbindung der allgemeinen Formel
in Berührung gebracht wird,
wobei X für N, Y für Cr und Z für N,
oder X für N, Y für N und Z für N oder Cr
oder X für Cr, Y für N und Z für N steht
wobei R ein Wasserstoffatom oder R¹, und R¹ eine Alkyl, Aryl-, Aralkyl-, Halogen-, Trihalomethyl-, Amino-, heterocyclische, NHR²-, NR³R&sup4;-, CN-, CO&sub2;H-, CO&sub2;R&sup5;-, OH- oder OR&sup6;-Gruppe ist, wobei R² bis R&sup6; unabhängig voneinander eine Alkyl-, Aryl- oder Aralkyl-Gruppe repräsentiert.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Verbindung der allgemeinen Formel (I)
oder
ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die Verbindung mit der allgemeinen Formel (I) ein Purin, 6-Aminopurin, 6-Chloropurin, 2,6-Dichloropurin, 6-Methoxypurin, 6- Histaminopurin und 6-Furfurylaminopurin ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die wässrige Lösung eine organische oder anorganische Säure enthält.
5. Verfahren nach Anspruch 4, bei dem die organische Säure Essigsäure, Acrylsäure, Adipinsäure, Bezoesäure, Zitronensäure, 2-Dimethylolpropansäure, Ameisensäure, Fumarsäure, Maleinsäure, Oxalsäure, Propansäure, Salicylsäure, Succinsäure oder Weinsäure ist.
6. Verfahren nach Anspruch 4, bei dem die anorganische Säure Salzsäure, Salpetersäure, Phosphorsäure oder Schwefelsäure ist.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei dem die wässrige Lösung durch Zugabe von Ammoniak, einem Amin, einem Tetraalkylamoniomhydroxid, einem Alkalimetallhydroxid, einem Phosphat oder einem Borat gepuffert ist.
8. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, bei dem die wässrige Lösung durch Untertauchen oder Sprühen auf die Oberfläche des Kupfers oder der Kupferlegierung aufgebracht wird.
9. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, bei dem die wässrige Lösung zusätzlich ein Titansalz, Vanadiumsalz, Chromsalz, Mangansalz, Eisensalz, Cobalt salz, Nickelsalz oder Zinksalz in einer Menge zwischen 0,01 bis 10 Gewichtsprozent enthält.
10. Verfahren nach einem der vorausgehenden Ansprüche, bei dem die zu behandelnde Oberfläche die Oberfläche einer steifen oder flexiblen gedruckten Leiterplatte ist.
11. Steife oder flexible gedruckte (Leiterkarte) Leiterplatte, die einer Flussmittelvorbehandlung nach einem Verfahren gemäß einem der vorausgehenden Ansprüche unterworfen worden ist.
DE69509124T 1994-12-23 1995-12-13 Verfahren zur korrosionshemmung von kupfer- und kupferlegierungen Expired - Fee Related DE69509124T2 (de)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9426087.4A GB9426087D0 (en) 1994-12-23 1994-12-23 Process for the surface treatment of copper or copper alloys
GBGB9507419.1A GB9507419D0 (en) 1995-04-10 1995-04-10 Process for the surface treatment of copper or copper alloys
PCT/GB1995/002912 WO1996020295A1 (en) 1994-12-23 1995-12-13 Process for the corrosion protection of copper or copper alloys

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69509124D1 DE69509124D1 (de) 1999-05-20
DE69509124T2 true DE69509124T2 (de) 1999-11-25

Family

ID=26306247

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69509124T Expired - Fee Related DE69509124T2 (de) 1994-12-23 1995-12-13 Verfahren zur korrosionshemmung von kupfer- und kupferlegierungen

Country Status (12)

Country Link
US (1) US6158491A (de)
EP (1) EP0799327B1 (de)
JP (1) JPH10511431A (de)
KR (1) KR100402899B1 (de)
CN (1) CN1057350C (de)
AT (1) ATE178953T1 (de)
AU (1) AU4183896A (de)
DE (1) DE69509124T2 (de)
FI (1) FI972692L (de)
HK (1) HK1002870A1 (de)
TW (1) TW304208B (de)
WO (1) WO1996020295A1 (de)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1091173C (zh) * 1999-09-01 2002-09-18 中国科学院金属研究所 一种清除铜及铜合金表面锈蚀的综合防护处理剂
DE10026010A1 (de) * 2000-05-25 2001-11-29 Basf Ag Hydraulische Flüssigkeiten mit verbessertem Korrosionsschutz für Buntmetalle
WO2002000965A1 (fr) * 2000-06-28 2002-01-03 Koito, Tatsuya Agent anticorrosion
ATE316786T1 (de) * 2000-11-22 2006-02-15 Rxkinetix Inc Behandlung von mukositis
DE10117647A1 (de) * 2001-04-09 2002-10-17 Basf Ag Hydraulische Flüssigkeiten mit verbessertem Korrosionsschutz
US8349393B2 (en) * 2004-07-29 2013-01-08 Enthone Inc. Silver plating in electronics manufacture
KR100668129B1 (ko) * 2005-07-07 2007-01-11 백양케미칼(주) 프리플럭스 조성물
CN1955341B (zh) * 2005-10-25 2011-09-07 李碧洁 适用于多次高温无铅焊接的铜面防氧化剂
DE102006041292A1 (de) * 2006-09-01 2008-03-06 Henkel Kgaa Wasserstoffperoxid-Aktivierung mit N-Heterocyclen
CN101575704B (zh) * 2009-06-12 2011-01-26 林原标 铜及铜合金表面处理剂
CN101824621A (zh) * 2010-04-12 2010-09-08 海宁市科泰克金属表面技术有限公司 一种高性能铜、镍保护剂
US8961678B2 (en) * 2012-12-20 2015-02-24 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Organic solderability preservative and method
KR20180129983A (ko) * 2013-03-16 2018-12-05 피알시-데소토 인터내쇼날, 인코포레이티드 부식 억제제로서의 금속 착화제
MX2017015288A (es) 2015-05-28 2018-02-19 Ecolab Usa Inc Nuevos inhibidores de corrosion.
BR112017024847B8 (pt) * 2015-05-28 2022-04-12 Ecolab Usa Inc Método para inibição da corrosão de uma superfície de metal em contato com um sistema aquoso
JP6829212B2 (ja) 2015-05-28 2021-02-10 エコラボ ユーエスエー インコーポレイティド 腐食抑制剤としての水溶性ピラゾール誘導体
EP3303654B1 (de) 2015-05-28 2023-06-07 Ecolab Usa Inc. 2-substituiertes benzimidazol korrosionsinhibitoren
KR102334425B1 (ko) * 2019-11-21 2021-12-01 엘티씨 (주) 디스플레이 제조용 포토레지스트 박리액 조성물

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5233583B2 (de) * 1972-06-15 1977-08-29
JPS537902B2 (de) * 1972-12-21 1978-03-23
JPS533975B2 (de) * 1973-10-17 1978-02-13 Tokai Electro Chemical Co
US4740320A (en) * 1985-07-22 1988-04-26 The Dow Chemical Company Process for preventing corrosion of a metal in contact with a well fluid

Also Published As

Publication number Publication date
FI972692L (fi) 1997-08-22
CN1057350C (zh) 2000-10-11
DE69509124D1 (de) 1999-05-20
KR100402899B1 (ko) 2004-06-12
WO1996020295A1 (en) 1996-07-04
TW304208B (de) 1997-05-01
EP0799327A1 (de) 1997-10-08
HK1002870A1 (en) 1998-09-25
CN1175286A (zh) 1998-03-04
US6158491A (en) 2000-12-12
EP0799327B1 (de) 1999-04-14
FI972692A0 (fi) 1997-06-23
ATE178953T1 (de) 1999-04-15
AU4183896A (en) 1996-07-19
JPH10511431A (ja) 1998-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69509124T2 (de) Verfahren zur korrosionshemmung von kupfer- und kupferlegierungen
DE69511434T2 (de) Herstellung von gedruckten schaltungen
DE69401453T2 (de) Zusammensetzung für die Behandlung von Kupfer oder Kupferlegierungen
DE69700266T2 (de) Oberflächenbehandlungsmittel für Kupfer und Kupferlegierungen
DE3686600T2 (de) Verfahren zum herstellen einer harzumhuellten halbleiteranordnung.
DE69404384T2 (de) Mittel zur Oberflächenbehandlung von Kupfer und Kupferlegierungen
DE69423660T2 (de) Zusammensetzung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Kupfer und Kupferlegierungen
DE60038563T2 (de) Selektive Ablagerung vom organischen Schutzmittel auf Kupfer
DE69302021T2 (de) Benzimidazolderivate und dieses enthaltende Zusammensetzung für die Behandlung von Kupfer und Kupfer-Legierungen
JP3311858B2 (ja) 銅及び銅合金の表面処理剤
CN108396325B (zh) 一种水溶性可焊镍保护剂
DE69033413T2 (de) Mittel zur Behandlung von Metalloberflächen
DE112006001794T5 (de) Preflux-Zusammensetzung
JP4647073B2 (ja) 銅及び銅合金のはんだ付け方法
CN110965064A (zh) 烷基酰胺苯并咪唑类化合物的应用和有机可焊保护剂及其制备、使用方法和应用
EP2161354A1 (de) Mittel zur bearbeitung von kupferoberflächen und verfahren zur oberflächenbearbeitung
DE4039271A1 (de) Verfahren zum schutz von kupfer- und kupferlegierungsoberlfaechen vor korrosion
EP1082471A1 (de) Verfahren zum überziehen von oberflächen auf kupfer oder einer kupferlegierung mit einer zinn- oder zinnlegierungsschicht
JPH09293954A (ja) 銅または銅合金表面の処理剤
DE10226328B3 (de) Saure Lösung zur Silberabscheidung und Verfahren zum Abscheiden von Silberschichten auf Metalloberflächen
DE102008033348A1 (de) Oberflächenbehandlungsmittel
JPH06268356A (ja) プリフラックスの使用方法およびプリント配線板の製造方法
EP0750549B1 (de) Schutzbeschichtung für kupfer aus bismuth
JP3205927B2 (ja) 銅金共存基板の表面保護剤および表面保護膜の形成方法。
JP2972295B2 (ja) 銅及び銅合金の表面処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee