DE69508414T2

DE69508414T2 - Markierungssystem für kleidungsstücke mit einer rechnergestützten ausrichtung von symmetrischen stoffmustern

Info

Publication number: DE69508414T2
Application number: DE69508414T
Authority: DE
Inventors: Craig Chaiken; Thomas King
Original assignee: Gerber Technology Inc
Current assignee: Gerber Scientific Inc
Priority date: 1994-08-12
Filing date: 1995-08-09
Publication date: 1999-09-02
Anticipated expiration: 2015-08-10
Also published as: DE69508414D1; JP3068197B2; EP0783400B1; WO1996005568A1; EP0783400A4; ES2131849T3; EP0783400A1; US5508936A; JPH09511852A

Description

Die Erfindung betrifft allgemein Schnittmustersysteme, insbesondere solche, bei denen eine computerunterstützte Schnittmusterausrichtung symmetrischer Stoffmuster oder -entwürfe, wie z. B. Streifen, Karos oder ausgeklügelte Drucke, vorgesehen ist.
Computerunterstützte Kleidungsstück-Schnittmustererzeugung und Schneidesysteme sind im Stand der Technik bekannt. Ein Schnittmuster ist allgemein eine räumliche Anordnung von Kleidungsstücksegmenten, die in einer Schnittfolge angeordnet sind. Bekannte Systeme schließen solche mit ein, die von der Anmelderin der vorliegenden Erfindung angeboten werden, z. B. die Modelle S-91, S-93 und S-95 der Gerber Garment Technology (GGT). Im allgemeinen setzen diese bekannten Systeme ein mit einem Computer erzeugtes Schnittmuster ein, um die Stückmusterdichte zu optimieren und dadurch den Stoffabfall zu minimieren. Stoffe mit Karos oder Streifen bereiten jedoch dadurch Schwierigkeiten, daß der Kleidungsgestalter eine Ausrichtung des Musters in mehreren benachbarten Stücken festlegen kann. Die höchste Dichte an Kleidungsstück-Segment- oder Stückmustern in dem über dem Stoff plazierten Schnittmuster ist deshalb nicht notwendigerweise diejenige, die für eine richtige Musterausrichtung sorgt.
In der Vergangenheit erzeugten computergestützte Schnittmustersysteme einfach Schnittmuster mit vergleichsweise großen Toleranzen zwischen benachbarten Mustern. Mit dem Zuschneiden der Kleidung wurde ein geschickter Arbeiter betraut, der die verschiedenen Muster manuell an dem geometrischen Stoffmuster in der Kleidung ausrichtete und daraufhin die Kleidung zuschnitt. Infolgedessen verursachen deshalb Kleidungsstücke, die aus Stoffen mit geometrischen Mustern z. B. Streifen oder Karos gefertigt werden, wegen der größeren Abfallmenge und des Einsatzes zeitintensiver, fachmännischer Arbeit beim Schneidevorgang unvermeidlich höhere Zuschnittkosten.
Ein bekanntes Kleidungsstück-Zuschnittsystem, das für den Einsatz bei Stoffen mit Streifen- oder Karomustern geeignet ist, ist in der US-A-5 333 111 beschrieben und beansprucht. Dieses System ist durch eine computerunterstützte Musteranpassung charakterisiert, die die manuelle und die automatische Anpassung sowohl eines Kleidungsstück-Schnittmusters an eine Stoffauflage als auch zwischen aufeinanderfolgenden Kleidungsstück-Segmentmustern ermöglicht. Das System setzt zur Verringerung der Verarbeitungszeit Datenreduktionstechniken ein und enthält Vorrichtungen zum Optimieren der Bildstabilität, der Scharfeinstellung und der Ausleuchtung.
Ein weiteres, in der US-A-5 487 011 beschriebenes System, das das Schnittmuster vor dem Schritt des Zuschneidens einstellt und sich ebenfalls für den Einsatz bei Stoffen mit Streifen- oder Karomustern eignet, ist durch eine computerunterstützte Musteranpassung charakterisiert, welche die Stoffbahn automatisch an der Schneideeinrichtung ausrichtet und Stoffe anpaßt, deren Muster im Kontrast variieren. Weiterhin ist eine Koordinatenanpassung zwischen einem von der Systemkamera erzeugten Bild und dem tatsächlich vorhandenen Stoff vorgesehen.
Ein weiteres System ist aus der US-A-4 853 866 bekannt. Dieses Patent beschreibt integrierte Schnittmuster- und Zuschnittsysteme, in denen Paßpunkte eingerichtet sind, um Paßfelder an Mustern anzupassen, wobei das tatsächlich vorhandene Stoffmuster von einem Bildsensor erfaßt und eine Korrektur für die Lage des Feldes bestimmt wird.
In Kleidungsstück- oder Polster-Zuschnittanwendungen ist es manchmal erforderlich, einen an einem Kleidungsstücksegment vorgesehenen Punkt (Referenzpunkt) an einem ähnlichen Punkt (Paßpunkt) auszurichten, der an einem oder mehreren anderen Kleidungsstücksegmenten vorgesehen ist. Bei bestimmten "symmetrischen" Rapportstoffen ist eine bessere Stoffnutzung dadurch möglich, daß die Referenz- und die Paß-Kleidungsstücksegmente von der Orientierung abweichen können, die in dem Schnittmuster programmiert ist. Im allgemeinen ist der Stoffrapport bei einem Referenz- und bei einem Paßpunkt gleich orientiert. Die Ausrichtung kann deshalb dadurch bewerkstelligt werden, daß eines der Bilder nach oben, nach unten, nach rechts oder nach links verschoben wird.
Das durch die Erfindung zu lösende Problem besteht darin, eine schnelle und kostengünstige, computerunterstützte, geometrische Stoffmusterausrichtung zwischen Schnittmustern und mit symmetrischen Mustern versehenen Stoffen anzugeben, so daß computergesteuerte Messer eingesetzt werden können.
Die Erfindung löst dieses Problem durch die Merkmale des Anspruchs 1 oder des Anspruchs 5. Vorteilhafte Weiterbildungen sind in den jeweiligen abhängigen Ansprüchen angegeben.
Die Erfindung ermöglicht es, Kleidungsstücksegmente in einem Schnittmuster an Stoffmustern auszurichten, die eine von Streifen, Karos oder dergleichen gebildete Symmetrieachse haben.
Gemäß der Erfindung ist ein Verfahren vorgesehen zum Ausrichten eines abhängigen Kleidungsstück-Schnittmusters auf eine Paßposition in einem Muster in einer Stoffbahn auf einer Auflagefläche eines Tisches in einem System mit einem beweglichen Videosystem mit Kamera, die eine Anordnung von Pixelelementen zur Aufnahme von Licht aus einem Teil der Stoffbahn hat und entsprechende elektrische Signale bereitstellt, wobei folgende Schritte vorgesehen sind: Empfangen von Schnittmustersignalen einschließlich Signalen, die ein erstes Kleidungsstücksegment mit einer darin enthaltenen Referenzposition und ein zweites Kleidungsstücksegment mit einer darin enthaltenen Paßposition anzeigen, Empfangen dem Stoffbahnmuster entsprechender Signale aus dem Videokamera- Subsystem, Vergleichen der Stoffbahnmustersignale mit den Schnittmustersignalen und Erzeugen von Signalen, die die Ausgangsposition des Stoffbahnmusters relativ zur Referenzposition des ersten Kleidungsstücksegments angeben. Das Verfahren sieht weiterhin folgende Schritte vor: Erzeugen eines Referenzbildes aus Pixeln des Videokamera-Subsystems, die um die Referenzposition des ersten Kleidungsstücksegments herum angeordnet sind und Bestimmen einer Symmetrieachse, die im wesentlichen parallel zu dem Stoffbahnmuster angeordnet ist. Weiterhin wird das Referenzbild in eine Vielzahl von N Pixelanordnungen parallel zur Symmetrieachse unterteilt. Ein Passungsbild wird aus den Pixelanordnungen des Referenzbildes durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur Symmetrieachse an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition erzeugt. Das Verfahren enthält weiterhin folgende Schritte: Vergleichen von Pixeln des Videokamera-Subsystems, die einem Bild um den Paßpunkt des zweiten Kleidungsstücksegments herum entsprechen, mit den Passungsbildsignalen, Erzeugen von Signalen zum Bestimmen einer Paßposition des Passungsbildes relativ zum Bild des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments, welche den Unterschied der beiden Bilder hinsichtlich ihrer Pixelzustände beseitigt, und Erzeugen von Signalen zum Einstellen der Position des zweiten Kleidungsstücksegments in dem Schnittmuster, um den Unterschied der Position des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments in dem Schnittmuster und der vorstehend genannten Paßposition zu beseitigen.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung sieht das vorstehende Verfahren weiterhin folgende Schritte vor: Auswählen einer ersten Symmetrieachse, die parallel zur Länge der Stoffbahn verläuft, Auswählen einer zweiten Symmetrieebene, die sich senkrecht zur Länge der Stoffbahn erstreckt, Unterteilen des Referenzbildes in eine erste Vielzahl von N Pixelanordnungen parallel zur ersten Symmetrieachse und Erzeugen eines ersten Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des Referenzbildes durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur ersten Symmetrieachse an einer entsprechenden N - (m + 1)- ten Anordnungsposition. Das Verfahren sieht dann folgende Schritte vor: Unterteilen des ersten Passungsbildes in eine zweite Vielzahl von N Pixelanordnungen parallel zur zweiten Symmetrieachse, Erzeugen eines zweiten Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des ersten Passungsbildes durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur zweiten Symmetrieachse an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition. Weiterhin sieht das Verfahren folgende Schritte vor: Vergleichen von Pixeln des Videokamera-Subsystems, die einem Bild um den Paßpunkt des zweiten Kleidungsstücksegments herum entsprechen, mit den zweiten Passungsbildsignalen, Erzeugen von Signalen zum Bestimmen einer Paßposition des zweiten Passungsbildes relativ zum Bild des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments, welche den Unterschied der beiden Bilder hinsichtlich ihrer Pixelzustände beseitigt, und Erzeugen von Signalen zum Einstellen der Position des zweiten Kleidungsstücksegments in dem Schnittmuster, um den Unterschied der Position des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments in dem Schnittmuster und der vorstehend genannten Paßposition zu beseitigen.
Die Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. Darin zeigen:
Fig. 1 eine vereinfachte schematische Darstellung eines Systems nach der Erfindung,
Fig. 2 eine vereinfachte schematische Darstellung einer Stoffbahn, an der von dem System nach Fig. 1 eine symmetrische Anpassung mit einer einzigen Achse durchgeführt wird,
Fig. 3 eine vereinfachte schematische Darstellung einer Stoffbahn, an der von dem System nach Fig. 1 eine symmetrische Anpassung entlang einer zweiten Achse durchgeführt wird, die zu der in Fig. 2 verwendeten Achse orthogonal ist,
Fig. 4 eine vereinfachte schematische Darstellung einer Stoffbahn, an der von dem System nach Fig. 1 eine symmetrische Anpassung mit zwei Achsen durchgeführt wird,
Fig. 5 ein Diagramm eines Algorithmus, den das System nach Fig. 1 bei der manuellen Ausrichtung eines Schnittmusters ausführt, um eine symmetrische Musteranpassung vorzunehmen,
Fig. 6 ein Diagramm eines Algorithmus, den das System nach Fig. 1 bei der automatischen Ausrichtung eines Schnittmusters ausführt, um eine symmetrische Musteranpassung vorzunehmen,
Fig. 7 eine vereinfachte schematische Darstellung von Anordnungen von Kamerapixeln, welche die mit einem Computer vorgenommene Umschaltung eines Passungsbildes zum Zwecke der in Fig. 2 gezeigten symmetrischen Anpassung zeigt,
Fig. 8 eine vereinfachte schematische Darstellung von Anordnungen von Kamerapixeln, welche die mit einem Computer vorgenommene Umschaltung eines Passungsbildes zum Zwecke der in Fig. 3 gezeigten symmetrischen Anpassung zeigt,
Fig. 9 eine vereinfachte schematische Darstellung von Anordnungen von Kamerapixeln, welche die mit einem Computer vorgenommene Umschaltung eines Passungsbildes zum Zwecke der in Fig. 4 dargestellten symmetrischen Anpassung zeigt,
Fig. 10 ein detailliertes Diagramm eines Algorithmus, den das System nach Fig. 1 bei der Durchführung der in Fig. 2 gezeigten symmetrischen Anpassung ausführt,
Fig. 11 ein detailliertes Diagramm eines Algorithmus, den das System nach Fig. 1 bei Durchführung der in Fig. 3 gezeigten symmetrischen Anpassung ausführt,
Fig. 12 ein detailliertes Diagramm eines Algorithmus, den das System nach Fig. 1 bei Durchführung der in Fig. 4 gezeigten symmetrischen Anpassung ausführt.
In Fig. 1 ist ein allgemein mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnetes System zum Schneiden von Blattmaterial oder Stoff gezeigt, das einen auf Füßen 14 gehaltenen Tisch 12 hat. Der Tisch 12 besteht aus einem behälterähnlichen Rahmen, der mehrere Plastikblöcke 16 trägt. Diese haben Borsten, die ein durchdringbares Bett 18 mit einer ebenen Oberfläche 20 bilden. Die von den Oberflächen der Blöcke 16 gebildete, im wesentlichen kontinuierlich ebene Fläche 20 trägt eine Auflage oder Verteilung 22 einer einzelnen oder mehrerer Lagen aus Blattmaterial, beispielsweise Stoff, die vertikal gestapelt und in Schneidestellung auf der Fläche 20 angeordnet sind. Wie in den Fig. 6 und 7 gezeigt, hat die Stoffbahn ein eingewebtes, geometrisches Stoffmuster 21. Die Blattmaterialauflage 22 kann von einem dünnen Plastikfilm 24 bedeckt sein, z. B. Polyethylen, welches dazu dient, ein Vakuum zu binden, das auf die Auflage 22 appliziert wird.
Ein quer zum Tisch 12 verlaufender Hauptschlitten 26 ist an dem Tisch von zwei langgestreckten Schienen 28 gehalten, die an gegenüberliegenden Seiten des Tisches 12 angebracht sind und in Längsrichtung verlaufen, um den Schlitten 26 in Längs- oder X-Richtung zu bewegen. Der Hauptschlitten 26 enthält eine Antriebswelle (nicht gezeigt), die sich ebenfalls quer zum Tisch erstreckt und an entgegengesetzten Enden angebrachte Antriebsräder hat, die in die Schienen 28 eingreifen, um den Schlitten 26 infolge der Betätigung eines die Welle antreibenden Antriebsmotors 27 in Längsrichtung über den Tisch zu bewegen. An dem Hauptschlitten 26 ist ein Schneidschlitten 30 bewegbar gehalten, der zum Zwecke der Bewegung in Y-Richtung an einer Führungsstange oder einem Führungsrohr 34 und einer Leitspindel 36 montiert ist, die sich ebenfalls quer zum Tisch 12 erstreckt sowie den Schneidschlitten 30 hält und ihn infolge der Betätigung eines weiteren Antriebsmotors 37, der die Leitspindel 36 antreibt, quer über den Tisch oder in Y-Richtung bewegt.
An dem Schneidschlitten 30 ist ein Schneidkopf 40 angebracht, der relativ zu dem Schneidschlitten 30 vertikal bewegbar ist und so angehoben und abgesenkt werden kann, um ein hin- und herbewegbares Messer 44 und eine an diesem angebrachte Preßplatte aus einer normalen Schneideposition in eine Position anzu heben, in der die eben genannten Komponenten ohne jeden Kontakt mit der Stoffauflage 22 und oberhalb derselben angeordnet sind. Wird der Schneidkopf 40 angehoben, so befindet sich das untere Ende des Messers 42 oberhalb der Auflage 22, so daß der Kopf mitsamt dem Messer nach Wunsch in jede vorgewählte Position oberhalb der Auflage bewegt und dann zum Einstechen in die Auflage wieder abgesenkt werden kann, so daß an jeder gewünschten Position des Stoffes ein Schnitt begonnen werden kann. Das Messer 42 wird von einem in dem Schneidkopf 40 vorgesehenen Motor (nicht gezeigt) vertikal hin- und herbewegt sowie von einem weiteren, in dem Schneidkopf 40 vorgesehenen Motor (nicht gezeigt) um seine eigene vertikale Achse gedreht, die wie in Fig. 1 angedeutet als Theta-Achse bezeichnet wird. Der Fachmann wird erkennen, daß das Messer durch andere Schneideinrichtungen, wie z. B. Laser oder Wasser, ersetzt werden kann.
Der Schneidkopf 40 trägt weiterhin eine Lokalisierungsvorrichtung oder einen Zeiger 48. Der Zeiger ist schwenkbar an einem von dem Kopf abstehenden Stift montiert, so daß er in die dargestellte Betriebsstellung vor dem Messer geschwenkt werden kann, um den Schneidkopf 40 und das Messer gegenüber einer gewünschten Stelle oder Indexmarkierung an der Auflage 22 zu positionieren, und er wird dann nach erfolgter Positionierung des Schneidkopfs 40 nach oben und aus dem Weg in eine Ruhestellung geschwenkt. Es können auch andere Arten von Zeigern als der in Fig. 1 dargestellte, z. B. ein Laser, eingesetzt werden, um die gewünschte Funktion zu erfüllen, nämlich das Messer 42 genau über einem vorbestimmten Punkt der Auflage 22 zu positionieren.
Der Tisch 12 ist mit Leitungen 50 versehen, die mit einer Vakuumpumpe 52 verbunden sind. Der Kunststoffüberzug oder -film 54 auf der Auflage 22 dient der Bindung des Vakuums, das durch die Tischfläche oder das Bett 18 der porösen oder vertikal ventilierten Kunststoffblöcke appliziert wird und bewirkt, daß das Blattmaterial oder der Stoff in der Auflage 22 zu einem festen Stapel zusammengepreßt wird, der sich während des Schneidens nicht verschiebt. Aus Gründen der einfacheren Darstellung zeigt die Zeichnung nur ein Tischsegment und lediglich eine schematische Darstellung des Vakuumsystems. Jedes Tischsegment hat jedoch ein separates Vakuumventil, das von dem Schlitten 26 betätigt wird, wenn sich dieser über einem entsprechenden Segment befindet. Es wird deshalb Vakuum nur auf den Bereich unterhalb des Schlittens angewendet, um den zu schneidenden Stoff festzuhalten. Dadurch können die Schnittbündel leicht ent fernt werden, und es ergibt sich eine praktische Vakuumanwendung aus einer einzigen Quelle.
Sollen mehr als eine mit einem Muster versehene Stofflage geschnitten werden, so ist es wünschenswert, den Schneidetisch mit einem Stiftsystem zu versehen, welches das Ausbreiten des mit dem Muster versehenen Stoffes jeder Lage entsprechend der benachbarten Lage erleichtert. Alternativ kann der Stoff mit einander entsprechenden Mustern auf den verschiedenen Lagen ausgebreitet werden, bevor die Stoffauflage auf dem Tisch plaziert wird.
Wie der Fachmann erkennt, ist bei Anwendungen, in denen die Ausrichtung auf dem Schneidetisch erfolgt, weder die Kunststofflage geeignet plaziert, noch findet während des Ausrichtungsvorgangs eine Vakuumanwendung statt. Für solche sogenannten "off-cutter"-Anwendungen wird weder Kunststoff eingesetzt noch ist ein Vakuum oder ein Borstenbett vorgesehen. Das System enthält vielmehr einen Träger, einen Kamerakopf, eine Steuerung und eine Antriebsvorrichtung ähnlich der oben erläuterten Komponentenanordnung.
Das Schneidesystem 10 hat eine Steuerung 51, die auf Leitungen 54 Signale aussendet und empfängt sowie diese Signale gemäß später detailliert erläuterten Algorithmen verarbeitet. Die Steuerung enthält eine Videoanzeige 56 bekannter Art sowie eine herkömmliche Tastatur 58. Die Steuerung enthält einen Personalcomputer mit ausreichendem Computerspeicher und weiterer peripherer Hardware, die der Ausführung der nachfolgend erläuterten Funktionen dient. Die Steuerung kann weiterhin eine "Videobild-Greif"/Bildbearbeitungsschaltung enthalten, z. B. die von der Firma TrueVision vertriebene Targa Plus-Karte.
Bekanntlich besteht ein Schnittmuster aus mehreren benachbarten Kleidungsstücksegmenten oder -feldern, die mit möglichst geringem Abstand zueinander angeordnet sind, um so den Stoffabfall zu minimieren. Das vorliegenden System ist ausgebildet, eine computererzeugte Datendatei zu verwenden, die sich als Schnittmuster in der Steuerung befindet. Bei Karos oder anderen Stoffen mit sich wiederholendem Muster muß große Sorgfalt aufgewendet werden, um das Muster so zu positionieren, daß die Kleidungsstücksegmente beim Zusammennähen die gewünschte Ausrichtung haben. Das Schnittmuster enthält deshalb nicht nur Informationen über den Umfang der Bekleidungsstücksegmente, sondern auch Daten über das Stoffmuster und die gewünschte Beziehung bestimmter Klei dungsstücksegmente zueinander. Diese Korrelationsinformation liegt in Form von Paß- und Referenzpunkten vor, die sich typischerweise im Inneren der Muster befinden, wo ein bestimmter Punkt in dem Stoffmuster liegen soll.
Infolge der Parameter der Kleidungsstückfertigung wie z. B. ungenaue Abmessungsdifferenzen in der Musterwiederholung sowie Biege- und Schrägstellungseffekte, die durch eine schlechte Ansteuerung während der Operationen zur Stoffendbearbeitung verursacht werden, müssen bei dem Schnittmuster vergleichsweise große Puffer um die einer Anpassung bedürfenden Kleidungsstücksegmente freigelassen werden. Diese Puffer betragen oft die Hälfte einer Stoffmusterwiederholung. In diesem Zusammenhang bezeichnet "Anpassung" die Ausrichtung der in dem Stoff vorgesehenen Stoffmusterwiederholungen eines Segmentes eines Kleidungsstücks an ein entsprechendes Segment, d. h. ein Oberärmel eines Herrenmantels wird an dessen Vorderteil an einem vorbestimmten Punkt angepaßt. Die Puffergröße oder die zusätzlich vorzusehende Stofftoleranz, die für die Ausrichtung eines Kleidungsstücksegments an seinem Nachbarn erforderlich ist, stellt einen Faktor dar, der aus dem Rapport des Stoffmusters und dem Qualitätsniveau des verwendeten Stoffes abgeleitet wird.
Es muß ausreichend Puffer verbleiben, um es dem System oder dem Operateur zu ermöglichen, das Kleidungsstücksegment an eine andere Position zu bewegen, als es der Hersteller des Schnittmusters in dem CAD-System ursprünglich vorgesehen hat. Ein automatisiertes System muß den Offset-Wert berechnen, der für die geeignete Ausrichtung des Schnittmusters an dem tatsächlichen Stoffmuster erforderlich ist. Darüber hinaus ist es manchmal notwendig, das Schnittmuster oder einen oder mehrere Teile gegenüber der Stoffbahn auszurichten, da die Bahn unter einem kleinen Winkel auf den Schneidetisch befördert worden ist oder in dem Stoff Ungenauigkeiten vorhanden sind. Wie im folgenden beschrieben wird, erreicht das vorliegende System diese Ziele.
Fig. 2 zeigt eine vereinfachte, schematische Darstellung eines Teils einer Stoffbahn 60, die gekennzeichnet ist durch sich über die Stoffbahn wiederholende Streifen 62, 64. Diese Streifen können als Achsen der Stoffsymmetrie angesehen werden, wie sie beispielsweise die Achse 66 darstellt. In ähnlicher Weise enthält das Muster der in Fig. 3 gezeigten Stoffbahn 68 horizontale Symmetrieachsen 70, 72, die von sich über die Stoffbahn wiederholende Streifen 74, 76 gebildet werden. In Fig. 4 sind durch das Muster in der Stoffbahn 62 zwei Symmetrieach sen 78, 80 festgelegt, die in weiter unten erläuterter Weise verwendet werden können.
Für Stoffe mit symmetrischen Mustern der in den Fig. 2 bis 4 gezeigten Art hat man festgestellt, daß vor dem Schneidevorgang die Stoffbahn verglichen mit anderen Stofftypen, deren Muster nicht diese geometrische Grundsymmetrie haben, in vergleichsweise einfacher Art und Weise eingestellt werden kann. Die Erfindung erzeugt Signale, um Kleidungsstücksegmente mit einem Minimum an Rechenaufwand unter Verwendung von "Spiegel"-Bildern zu bewegen, die um einen Paßpunkt auf dem Stoff verschoben werden.
Ein Referenzpunkt 84 und ein Paßpunkt 86 sind an vertikalen Symmetrieachsen angeordnet, die durch ein Bezugssegment 88 bzw. ein weiteres Kleidungsstücksegment 90 verlaufen, dessen Anordnung von der Anordnung des Bezugssegments abhängt. Jedes Kleidungsstücksegment beinhaltet einen Referenz/Paßpunkt, der gegenüber der entsprechenden Musterwiederholung in dem Stoff auszurichten ist. In den Fig. 2 bis 4 sind die Referenz- und Paßpunkte sowohl für das Schnittmuster als auch für den Stoff schon ausgerichtet.
In Fig. 3 bildet ein Kleidungsstücksegment 92 das Bezugssegment mit einem Referenzpunkt 94, der bezüglich einer entsprechenden Wiederholungsposition auf dem Stoff angeordnet ist. Ein zur Anpassung des Stoffmusters an das Kleidungsstücksegment bestimmter Paßpunkt 96 befindet sich auf dem benachbarten Kleidungsstücksegment 98 in dem Schnittmuster und muß an einer entsprechenden Paßposition auf dem Stoff positioniert werden. Für jene Situationen, in denen wie bei dem in Fig. 4 gezeigten Stoffmuster zwei orthogonale Symmetrieachsen verwendet werden, ist eine resultierende oder virtuelle Symmetrieachse 99 vorhanden, die gegenüber in dem Schnittmuster vorgesehenen Kleidungsstücksegmenten 100, 101 in einem Winkel von 55º angeordnet ist.
Wie bei anderen computerbetriebenen Schnittmustersystemen kann eine Operation zur Stoffausrichtung nach Initialisieren des Systems durchgeführt werden, wobei die Bahn, in der das Bezugs- oder Primärsegment in dem Schnittmuster enthalten ist, gegenüber dem Stoff positioniert wird. Dieser Vorgang ist der gleiche wie der in den vorstehend genannten US-Patenten und Patentanmeldungen beschriebene. Die Lage des sekundären oder abhängigen Kleidungsstücksegments in Fig. 2 wird nach diesem Initialisierungsvorgang gegenüber dem Bezugs segment eingestellt. Daraufhin ist die Lage der anderen Kleidungsstücksegmente in dem Schnittmuster durch die Steuerung unter Berücksichtigung der Dehnung, der Fehlausrichtung etc. des auf dem Schneidetisch angeordneten, tatsächlichen Stoffes eingestellt.
Im folgenden wird wiederum auf Fig. 2 Bezug genommen; der symmetrische Anpassungsvorgang gemäß der Erfindung kann manuell oder automatisch durchgeführt werden. Unabhängig davon erhält man ein um den Referenzpunkt herum angeordnetes Referenzbild 102. Daraufhin wird, wie im folgenden detailliert beschrieben, rechentechnisch ein nachfolgendes Passungsbild 103 festgelegt und in der Nähe der Paßposition des abhängigen Kleidungsstücksegments positioniert. Das berechnete Bild wird um die anfängliche Paßposition bewegt. In der manuellen Operation bestimmt der Operateur diejenige Position des Passungsbildes, die jede Abweichung des berechneten Bildes von dem Hintergrundbild beseitigt. An der Passungsbildposition gehen das berechnete und das tatsächlich vorhandene Hintergrundbild nahtlos ineinander auf. Der Unterschied in der Lage dieser Passungsbildposition gegenüber der in dem Schnittmuster enthaltenen Lage ist gerade der Wert, um den das Schnittmuster ausgerichtet ist. Im automatischen Betriebsmodus wird dieser Unterschied rechentechnisch bestimmt.
Fig. 5 ist eine vereinfachte, schematische Darstellung 104 des manuellen Prozesses, der zum Erzeugen eines symmetrischen Anpassung gemäß der Erfindung eingesetzt wird. In Block 106 wird ein Videobild entsprechend dem vorstehend genannten Referenzbild aufgenommen. Die relative Orientierung zwischen dem Referenzpunkt und dem entsprechenden Passungspunkt in dem Schnittpunkt wird einer Schneidedatei (Block 108) entnommen. Wie der Fachmann erkennt, enthält diese Datei Informationen hinsichtlich der Schnittmuster- und Stoffbahnmusterparameter, die beispielsweise anzeigen, welche Symmetrieachse bei Durchführung der symmetrischen Anpassung verwendet wird. In Block 110 wird das Referenzbild auf Grundlage der aus der Schneidedatei stammenden Informationen rechentechnisch "umgeklappt". Wie im folgenden noch genauer erläutert wird, berechnet die Steuerung ein Spiegelbild des Referenzbildes, indem an einer vorgegebenen Stelle innerhalb eines Bildes angeordnete Pixel durch Pixel ersetzt werden, die sich an einer bezüglich der Symmetrieachse äquivalenten Stelle befinden, wodurch das Bild im Grunde um die Symmetrieachse geklappt wird.
Das umgeklappte Referenzbild wird in einem statischen Vordergrund-Zielbild über einem real existierenden Hintergrundbild (Block 112) angezeigt. Dann wird die Kamera durch den Operateur manuell so nachgeführt, daß die in dem Hintergrundbild enthaltene Stoffwiederholung an einem in dem Vordergrundbild enthaltenen Stoffbild ausgerichtet wird (Block 114). Wie vorstehend erläutert, wird so jede Abweichung zwischen diesen beiden Bildern beseitigt, so daß sie dazu neigen, miteinander zu verschmelzen. Die Position dieses Bildes wird von dem System aufgezeichnet, und die Position des nachfolgenden Kleidungsstückmusters wird so eingestellt, daß sie die korrigierte Position widerspiegelt (Block 116).
Fig. 6 ist eine vereinfachte, schematische Darstellung 118 eines Algorithmus, den das vorliegende System im Rahmen einer symmetrischen Anpassung ausführt. In Block 118 wird ein Videobild einer Referenzposition aufgenommen. Dann wird die relative Orientierung zwischen den Referenz- und Paßpunkten einer Schneidedatei entnommen (Block 120). Es wird ein Passungsbild aufgenommen (Block 124). Das umgeklappte Referenzbild wird daraufhin rechentechnisch so nach oben, nach unten, nach rechts und nach links über das Passungsbild verschoben, daß der Stoffrapport sowie das Referenz- und Passungsbild aneinander ausgerichtet sind (Block 126). Das rechentechnische Bewegen der Bilder erfolgt im wesentlichen in gleicher Weise, wie dies in den vorstehend genannten US-Patentanmeldungen beschrieben ist. Das Kriterium für die Anpassung gleicht und ist elektrisch äquivalent dem Kriterium, das vorstehend unter Bezugnahme auf das manuelle Verfahren nach Fig. 5 erläutert worden ist. Die Bilder werden also so bewegt, daß jede Abweichung zwischen den Pixeln in dem real vorhandenen Hintergrundbild und dem umgeklappten Bild beseitigt wird. Diese Position wird festgehalten, und die Schnittmusterposition des nachfolgenden Kleidungsstücksegmentes wird eingestellt (Block 128).
Die Fig. 7 und 8 zeigen schematisch den Vorgang, mit dem gemäß der Erfindung das rechentechnische "Umklappen" erfolgt, wodurch ein Spiegelbild erzeugt wird, das in dem nachfolgenden Kleidungsstücksegment über dem Passungspunkt verwendet wird. Der in Fig. 7 gezeigte Vorgang bezieht sich auf eine X-Symmetrieanpassung, während Fig. 8 ein Beispiel für eine Y-Symmetrieanpassung zeigt. Fig. 7 ist eine schematische Darstellung des Vorgangs, der bei der Art symmetrischer Anpassung durchgeführt wird, die gemäß Fig. 2 vollzogen wird. Die Pixel, die ein aufgenommenes Bild 130 bilden, werden um eine zentrale Symmetrieachse 132 in eine Reihe von Anordnungen unterteilt. Auf der linken Seite der Symmetrieachse befinden sich Anordnungen 134 bis 140, während auf der rechten Seite Anordnungen 142 bis 148 angeordnet sind. Der Pixel-Umklappvorgang ist im Grunde das Setzen der an einer Position innerhalb des Bildes angeordneten Anordnungen an eine andere Position, die symmetrisch zur Symmetrieachse angeordnet ist. Beispielsweise wird die Anordnung 134, die sich am weitesten links befindet, in die Position der am weitesten rechts angeordneten Anordnung 148 bewegt. Die der Symmetrieachse benachbarten Anordnungen werden folglich einfach vertauscht.
Ein ähnlicher Vorgang tritt bei der gemäß Fig. 3 rechentechnisch durchgeführten Anpassung auf. Das Bild 150 nach Fig. 8 enthält Pixel, die um eine horizontale Symmetrieachse 160 in eine obere Reihe von Anordnungen 152 bis 158 und in eine entsprechende untere Reihe von Anordnungen 162 bis 168 unterteilt sind. Die Anordnung 152 ersetzt die Anordnung 168, während die Anordnungen 158 und 162, die auf gegenüberliegenden Seiten der Symmetrieachse liegen, einfach vertauscht werden. Fig. 9 zeigt eine schematische Darstellung eines Bildes 170, in dem zwei Symmetrieachsen eingesetzt werden, um das umgeklappte Bild zu erzeugen. In diesem Fall werden die Pixel aus dem oberen linken Quadranten 172 zu einer entsprechenden Position in dem unteren rechten Quadranten bewegt, während die Pixel in dem unteren linken Quadranten zu einer äquivalenten Position in dem oberen rechten Quadranten bewegt werden.
Die Fig. 10 und 11 illustrieren die unter Bezugnahme auf die Fig. 7 und 8 erläuterte Ersetzung der Anordnungen. Fig. 10 zeigt eine schematische Darstellung eines Algorithmus 174, mit dem eine X-Symmetrieanpassung durchgeführt wird. Im Block 176 wird der Algorithmus initialisiert, wobei die Zeilen und Spalten auf 0 gesetzt werden (Blöcke 178 und 180). Daraufhin verwirklicht der Algorithmus für jedes Pixel einen Austausch der Zeilen- und der Spaltennummer. Für einen X- Symmetrieaustausch wird das Bild um die X-Achse geklappt. Für alle Spalten eines Bildes werden alle Pixel einer laufenden Spalte zur letzten Spaltennummer minus der laufenden Spaltennummer bewegt. Für ein Bild mit Spalten, die von 0 bis 511 durchnumeriert sind:
Spalte 0 wird auf Spalte 511-0 kopiert.
Spalte 1 wird auf Spalte 511-1 kopiert.
Spalte 510 wird auf Spalte 511-510 kopiert.
Spalte 511 wird auf Spalte 511-511 kopiert.
Übersteigt die Spaltennummer die maximale Anzahl an Spalten geteilt durch 2 (Block 184), dann wird die Zeile inkrementiert (Block 186). Übersteigt die Zeile die maximale Anzahl an Zeilen geteilt durch 2 (Block 188), dann wird der Vorgang angehalten (Block 190).
Unter Bezugnahme auf Fig. 11 wird in ähnlicher Weise ein Algorithmus 190 in Block 192 initialisiert, und die Zeilen- und Spaltennummern werden mit 0 initialisiert (Blöcke 194 und 196). Daraufhin werden die Pixeladressen eingestellt (Block 198). Für einen Y-Symmetrieaustausch wird das Bild um die Y-Achse geklappt. Für alle Zeilen eines Bildes werden alle Pixel der laufenden Zeile zur letzten Zeilennummer minus der laufenden Zeilennummer bewegt. Für ein Bild mit Zeilen, die von 0 bis 485 durchnumeriert sind:
Zeile 0 wird auf Zeile 485-0 kopiert.
Zeile 1 wird auf Zeile 485-1 kopiert.
Zeile 484 wird auf Zeile 485-484 kopiert.
Zeile 485 wird auf Zeile 485-485 kopiert.
Übersteigt die Spaltennummer die maximale Anzahl an Spalten geteilt durch 2 (Block 200), so werden die laufenden Zeilennummern durch die nächste Zeilennummer ersetzt (Block 202). Übersteigt die Zeilennummer die maximale Anzahl an Zeilen geteilt durch 2 (Block 204), so wird der Vorgang wiederum in Block 206 angehalten.
Für jedes Stoffmuster, bei denen zwei Symmetrieachsen zum Erzeugen einer Symmetrieanpassung verwendet werden, ist der Vorgang in Fig. 12 dargestellt. In Block 208 wird der Algorithmus initialisiert. Zunächst wird eine X-Bildumklappung durchgeführt (Block 210), wie vorstehend ausführlich erläutert worden ist. Daraufhin wird in Block 212 eine Y-Bildumklappung ausgeführt, bevor der Algorithmus angehalten wird (Block 214). Dieser Vorgang führt zu einem Spiegelbild, das um eine Achse erzeugt wird, die in einem Winkel von 45º gegenüber den zwei in dem Stoffmuster verwendeten Symmetrieachsen angeordnet ist. Für ein Bild mit Spalten, die von 0 bis 551 durchnumeriert sind:
Spalte 0 wird auf Spalte 511-0 kopiert.
Spalte 1 wird auf Spalte 511-1 kopiert.
Spalte 510 wird auf Spalte 511-510 kopiert.
Spalte 511 wird auf Spalte 511-511 kopiert.
Nachfolgend für ein Bild, dessen Zeilen von 0 bis 485 durchnumeriert sind:
Zeile 0 wird auf Zeile 485-0 kopiert.
Zeile 1 wird auf Zeile 482-1 kopiert.
Zeile 484 wir auf Zeile 485-484 kopiert.
Zeile 485 wird auf Zeile 485-485 kopiert.

Claims

1. Verfahren zum Ausrichten eines abhängigen Kleidungsstück-Schnittmusters auf eine Paßposition (86, 96) in einem Muster in einer Stoffbahn (60, 68, 82) auf einer Auflagefläche (20) eines Tisches (12) in einem System (10) mit einem beweglichen Videosubsystem mit Kamera, die eine Anordnung von Pixelelementen zur Aufnahme von Licht aus einem Teil der Stoffbahn (60, 68, 82) hat und entsprechende elektrische Signale bereitstellt, wobei folgende Schritte vorgesehen sind:

Empfangen von Schnittmustersignalen einschließlich Signalen, die ein erstes Kleidungsstücksegment (88, 92, 100) mit einer darin enthaltenen Referenzposition (84, 94) und ein zweites Kleidungsstücksegment (90, 98, 101) mit einer darin enthaltenen Paßposition (86, 96) anzeigen,

Empfangen dem Stoffbahnmuster (62, 64, 74, 76) entsprechender Signale aus dem Videokamera-Subsystem,

Vergleichen der Stoffbahnmustersignale (62, 64, 74, 76) mit den Schnittmustersignalen,

Erzeugen von Signalen, die die Ausgangsposition des Stoffbahnmusters (62, 64, 74, 76) relativ zur Referenzposition (84, 94) des ersten Kleidungsstücksegments (88, 92, 100) angeben,

Erzeugen eines Referenzbildes (102) aus Pixeln des Videokamera-Subsystems, die um die Referenzposition (84, 94) des ersten Kleidungsstücksegments herum angeordnet sind,

Bestimmen einer Symmetrieachse (66, 70), die im wesentlichen an der Referenzposition (84, 94) des ersten Kleidungsstücksegments sowie parallel zu dem Stoffbahnmuster (62, 64, 74, 76) angeordnet ist,

Unterteilen des Referenzbildes in eine Vielzahl von N Pixelanordnungen (134 bis 148), (152 bis 158), (162, 168) parallel zur Symmetrieachse (66, 70, 132, 160),

Erzeugen eines Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des Referenzbildes (102) durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur Symmetrieachse (66, 70, 132, 160) an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition (174, 191),

Vergleichen von Pixeln des Videokamera-Subsystems, die einem Bild (103) um den Paßpunkt (86, 96) des zweiten Kleidungsstücksegments (90, 98, 101) herum entsprechen, mit den Passungsbildsignalen,

Erzeugen von Signalen zum Bestimmen einer Paßposition des Passungsbildes relativ zum Bild (103) des Paßpunktes (86, 96) des zweiten Kleidungsstücksegments (90, 98, 101), welche den Unterschied der beiden Bilder hinsichtlich ihrer Pixelzustände beseitigt, und

Erzeugen von Signalen zum Einstellen der Position des zweiten Kleidungsstücksegments (90, 98, 101) in dem Schnittmuster, um den Unterschied der Position des Paßpunktes (86, 96) des zweiten Kleidungsstücksegments (90, 98, 101) in dem Schnittmuster und der vorstehend genannten Paßposition zu beseitigen.

2. Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch das Bestimmen einer Symmetrieachse (70, 160), die im wesentlichen an der Referenzposition (94) des ersten Kleidungsstücksegments (92) sowie parallel zu einem Stoffbahnmuster (82, 74, 76) angeordnet ist, das sich längs der Stoffbahn (70, 160) erstreckt.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch das Bestimmen einer Symmetrieachse (66, 132), die im wesentlichen an der Referenzposition (64) des ersten Kleidungsstücksegments (88) sowie parallel zu einem Stoffbahnmuster (60, 62, 64) angeordnet ist, das sich quer zur Stoffbahn (60) erstreckt.

4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, gekennzeichnet durch folgende Schritte:

Bestimmen einer ersten Symmetrieachse (160), die im wesentlichen an der Referenzposition des ersten Kleidungsstücksegments (100) sowie parallel zu einem Stoffbahnmuster (82) angeordnet ist, das sich längs der Stoffbahn (82) erstreckt,

Bestimmen einer zweiten Symmetrieachse (78, 132), die im wesentlichen an der Referenzposition des ersten Kleidungsstücksegments (100) sowie parallel zu einem Stoffbahnmuster (82) angeordnet ist, das sich quer zur Stoffbahn (82) erstreckt,

Unterteilen des Referenzbildes in eine erste Vielzahl von N Pixelanordnungen (152 bis 158), (162 bis 168) parallel zur ersten Symmetrieachse,

Erzeugen eines ersten Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des Referenzbildes durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur ersten Symmetrieachse (160) an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition (174, 191),

Unterteilen des ersten Passungsbildes in eine zweite Vielzahl von N Pixelanordnungen (134 bis 148) parallel zur zweiten Symmetrieachse (78, 132), Erzeugen eines zweiten Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des ersten Passungsbildes durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur zweiten Symmetrieachse (78, 132) an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition,

Vergleichen von Pixeln des Videokamera-Subsystems, die einem Bild um den Paßpunkt des zweiten Kleidungsstücksegments (101) herum entsprechen, mit den zweiten Passungsbildsignalen,

Erzeugen von Signalen zum Bestimmen einer Paßposition des zweiten Passungsbildes relativ zum Bild des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments (101), welche den Unterschied der beiden Bilder hinsichtlich ihrer Pixelzustände beseitigt, und

Erzeugen von Signalen zum Einstellen der Position des zweiten Kleidungsstücksegments (101) in dem Schnittmuster, um den Unterschied der Position des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments (101) in dem Schnittmuster und der vorstehend genannten Paßposition zu beseitigen.

5. System zum Ausrichten eines abhängigen Kleidungsstück-Schnittmusters auf eine Paßposition (86, 96) in einem Muster (62, 64, 74, 76) in einer Stoffbahn (60, 68, 82), mit

einem Tisch (12) mit einer Auflagefläche (20) zum Aufnehmen der Stoffbahn (60, 68, 82),

einem beweglichen Videosubsystem mit einer Kamera, die eine Anordnung von Pixelelementen zur Aufnahme von Licht aus einem Teil der Stoffbahn (60, 68, 82) hat und entsprechende elektrische Signale bereitstellt, einem Mittel zum Empfangen von Schnittmustersignalen einschließlich Signalen, die ein erstes Kleidungsstücksegment (88, 92, 100) mit einer darin enthaltenen Referenzposition (84, 94) und ein zweites Kleidungsstücksegment (90, 98, 101) mit einer darin enthaltenen Paßposition (86, 96) anzeigen,

einem Mittel zum Empfangen dem Stoffbahnmuster (62, 64, 74, 76; 60, 68, 82) entsprechender Signale aus dem Videokamera-Subsystem,

einem Mittel zum Vergleichen der Stoffbahnmustersignale mit den Schnittmustersignalen,

einem Mittel zum Erzeugen von Signalen, die die anfängliche Position des Stoffbahnmusters (60, 68, 82; 62, 64, 74, 76) relativ zur Referenzposition (84, 94) des ersten Kleidungsstücksegments (88, 92, 100) angeben,

einem Mittel zum Erzeugen eines Referenzbildes (102) aus Pixeln des Videokamera-Subsystems, die um die Referenzposition (84, 94) des ersten Kleidungsstücksegments (88, 92, 100) herum angeordnet sind,

einem Mittel zum Bestimmen einer Symmetrieachse (62, 70), die im wesentlichen an der Referenzposition (84, 94) des ersten Kleidungsstücksegments (88, 92, 100) sowie parallel zu dem Stoffbahnmuster (60, 68, 82; 62, 64, 74, 76) angeordnet ist,

einem Mittel zum Unterteilen des Referenzbildes (102) in eine Vielzahl von N Pixelanordnungen (134 bis 148), (152 bis 158), (162 bis 168) parallel zur Symmetrieachse (66, 70, 132, 160),

einem Mittel zum Erzeugen eines Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des Referenzbildes (102) durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur Symmetrieachse (132, 160) an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition,

einem Mittel zum Vergleichen von Pixeln des Videokamera-Subsystems, die einem Bild (103) um den Paßpunkt (86, 96) des zweiten Kleidungsstücksegments (90, 98, 101) herum entsprechen, mit den Passungsbildsignalen, einem Mittel zum Erzeugen von Signalen, mit denen die Position des zweiten Kleidungsstücksegments (90, 98, 101) in dem Schnittmuster so einstellbar ist, daß eine Paßposition des Passungsbildes relativ zu dem Bild (103) des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments bestimmt wird, die den Unterschied der beiden Bilder hinsichtlich ihrer Pixelzustände beseitigt, und

einem Mittel zum Erzeugen von Signalen zum Ausrichten des Schnittmusters derart, daß der Unterschied der Position des Paßpunktes (86, 96) des zweiten Kleidungsstücksegments (90, 98, 101) in dem Schnittmuster und der vorstehend genannten Paßposition beseitigt ist.

6. System nach Anspruch 5 mit

einem Mittel zum Bestimmen einer ersten Symmetrieachse (160), die im wesentlichen an der Referenzposition des ersten Kleidungsstücksegments (100) sowie parallel zu einem Stoffbahnmuster (82) angeordnet ist, das sich längs der Stoffbahn (82) erstreckt,

einem Mittel zum Bestimmen einer zweiten Symmetrieachse (78, 132), die im wesentlichen an der Referenzposition des ersten Kleidungsstücksegments (100) sowie parallel zu einem Stoffbahnmuster (82) angeordnet ist, das sich quer zur Stoffbahn (82) erstreckt,

einem Mittel zum Unterteilen des Referenzbildes in eine erste Vielzahl von N Pixelanordnungen (152 bis 158, 162 bis 168) parallel zur ersten Symmetrieachse (160),

einem Mittel zum Erzeugen eines ersten Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des Referenzbildes durch Positionieren jeder m-ten Pixelanordnung quer zur Symmetrieachse (160) an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition,

einem Mittel zum Unterteilen des ersten Passungsbildes in eine zweite Vielzahl von N Pixelanordnungen (134 bis 148) parallel zur zweiten Symmetrieachse (132),

einem Mittel zum Erzeugen eines zweiten Passungsbildes aus den Pixelanordnungen des ersten Passungsbildes durch Positionieren einer Kopie jeder m-ten Pixelanordnung quer zur zweiten Symmetrieachse (132) an einer entsprechenden N - (m + 1)-ten Anordnungsposition,

einem Mittel zum Vergleichen von Pixeln des Videokamera-Subsystems, die einem Bild um den Paßpunkt des zweiten Kleidungsstücksegments (101) entsprechen, mit den zweiten Passungsbildsignalen,

einem Mittel zum Erzeugen von Signalen, die eine Paßposition des zweiten Passungsbildes relativ zu dem Bild des Paßpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments (101) festlegen, welche den Unterschied der beiden Bilder hinsichtlich ihrer Pixelzustände beseitigt, und

einem Mittel zum Erzeugen von Signalen, die bestimmt sind, die Position des zweiten Kleidungsstücksegments (101) in dem Schnittmuster so einzustellen, daß der Unterschied der Position des Referenzpunktes des zweiten Kleidungsstücksegments (101) in dem Schnittmuster und der vorstehend genannten Paßposition beseitigt ist.

7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß beim Erzeugen der Signale zum Bestimmen einer Paßposition des Passungsbildes weiterhin folgende Schritte durchgeführt werden:

Durchführen einer niedrigauflösenden Anpassung durch:

Erzeugen einer ersten und einer zweiten Ausgangssubdatenbank mit Pixelsignalwerten, gebildet aus einer ersten und einer zweiten Stoffbahnbild-Datenbank, die näherungsweise auf den Referenz- bzw. den Paßpunkt zentriert sind,

Unterteilen der Ausgangsdatenbanken in Unteranordnungen, die jeweils gegenüber den anderen Unteranordnungen so angeordnet sind, daß sie entsprechende Positionen in den jeweiligen Bildern einnehmen,

Summieren der Pixelsignalwerte für die jeweiligen Unteranordnungen in den jeweiligen Bildern zum Erzeugen einer Matrix mit resultierenden Pixelwertsignalen für jedes Bild,

Erzeugen einer reduzierten Enddatenbank durch Ersetzen der Elemente der Unteranordnungen durch das jeweils entsprechende Element der entsprechenden Matrix,

Bestimmen eines ersten kumulierten Matrixpixelwertfehlers aus einer Summe von Pixelwertfehlern, die durch einen Vergleich der entsprechenden ersten und zweiten Matrixwerte ermittelt worden sind,

Erzeugen einer dritten Matrix der reduzierten Enddatenbank des zweiten Stoffbahnbildes unter Indizierung eines ausgewählten Betrags aus der Mitte der Anordnung des Stoffbahnbildes,

Bestimmen eines zweiten kumulierten Matrixpixelwertfehlers aus einer Summe von Pixelwertfehlern, die durch einen Vergleich einander entsprechender erster und dritter reduzierter Datenbankwerte ermittelt worden sind, Identifizieren derjenigen Unteranordnung als niedrigauflösende Anpassung, deren Vergleich von dem ersten und dem zweiten kumulierten Matrixpixelwertfehler den geringeren Fehler liefert,

Durchführen einer hochauflösenden Anpassung mit den Unteranordnungselementen der niedrigauflösenden Anpassung durch:

Erzeugen einer ersten Unteranordnung von Pixelsignalwerten aus der näherungsweise auf den Referenzpunkt zentrierten Anordnung des ersten Stoffbahnbildes,

Erzeugen einer zweiten Unteranordnung von Pixelsignalwerten aus der Anordnung des zweiten Stoffbahnbildes, die näherungsweise auf die zweite Unteranordnung der niedrigauflösenden Anpassung zentriert ist,

Bestimmen eines ersten kumulierten Pixelwertfehlers aus einer Summe von Pixelwertfehlern, die durch einen Vergleich einander entsprechender erster und zweiter Anordnungsfehler ermittelt worden sind,

Erzeugen einer dritten Unteranordnung der Pixelsignalwerte der Anordnung des zweiten Stoffbahnbildes unter Indizierung eines ausgewählten Betrags aus der Mitte der Anordnung des Stoffbahnbildes,

Bestimmen eines zweiten kumulierten Pixelwertfehlers aus einer Summe von Pixelwertfehlern, die durch einen Vergleich einander entsprechender erster und dritter Anordnungswerte ermittelt worden sind,

Identifizieren derjenigen Pixelwertunteranordnung als Anpassung, deren Vergleich mit der ersten Pixelwertanordnung von dem ersten und dem zweiten kumulierten Pixelwertfehler den geringeren Fehler liefert, und

Einstellen einer zweiten Musterposition in dem Schnittmuster zum Beseitigen des Unterschiedes der Position des zweiten Stoffbahnentwurfs und des zweiten Musterpaßpunktes in Abhängigkeit der niedrigauflösenden und der hochauflösenden Anpassung.