DE69418826T2 - Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren Anwendung - Google Patents
Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren AnwendungInfo
- Publication number
- DE69418826T2 DE69418826T2 DE69418826T DE69418826T DE69418826T2 DE 69418826 T2 DE69418826 T2 DE 69418826T2 DE 69418826 T DE69418826 T DE 69418826T DE 69418826 T DE69418826 T DE 69418826T DE 69418826 T2 DE69418826 T2 DE 69418826T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pigment
- alkyl
- hydrogen
- halogen
- precursor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 115
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- -1 morpholinyl radical Chemical class 0.000 claims description 148
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 102
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 73
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 72
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 56
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 50
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 47
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 47
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 44
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 40
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 35
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 32
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 28
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 24
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 21
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 20
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 18
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 18
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 16
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 16
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 16
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 16
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 15
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 claims description 12
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 9
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 9
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 9
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 7
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000006702 (C1-C18) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 6
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 claims description 5
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 claims description 4
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N Nitrogen dioxide Chemical compound O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 4
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 claims description 4
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 4
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 3
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000719 pyrrolidinyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 101100054666 Streptomyces halstedii sch3 gene Proteins 0.000 claims description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 claims description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 2
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UCFFGYASXIPWPD-UHFFFAOYSA-N methyl hypochlorite Chemical compound COCl UCFFGYASXIPWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 claims description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 2
- 125000005537 sulfoxonium group Chemical group 0.000 claims description 2
- ZBZJXHCVGLJWFG-UHFFFAOYSA-N trichloromethyl(.) Chemical compound Cl[C](Cl)Cl ZBZJXHCVGLJWFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 47
- 239000010408 film Substances 0.000 description 36
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 30
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 29
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 22
- 239000000386 donor Substances 0.000 description 20
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 18
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 14
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 13
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002585 base Substances 0.000 description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical class O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 10
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 9
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 9
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 9
- VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 4-Dimethylaminopyridine Chemical compound CN(C)C1=CC=NC=C1 VHYFNPMBLIVWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 8
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 7
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- PWTCMKHYMFCBIK-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl 3,6-dioxo-1,4-diphenylpyrrolo[3,4-c]pyrrole-2,5-dicarboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1C(=O)C2=C(C=3C=CC=CC=3)N(C(=O)OC(C)(C)C)C(=O)C2=C1C1=CC=CC=C1 PWTCMKHYMFCBIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IGPFDBHTWKTPFD-UHFFFAOYSA-N 1,4-diphenylpyrrolo[3,4-c]pyrrole-3,6-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1=NC(=O)C2=C1C(=O)N=C2C1=CC=CC=C1 IGPFDBHTWKTPFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 5
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 5
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- AAFXQFIGKBLKMC-KQQUZDAGSA-N (e)-3-[4-[(e)-2-carboxyethenyl]phenyl]prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CC=C(\C=C\C(O)=O)C=C1 AAFXQFIGKBLKMC-KQQUZDAGSA-N 0.000 description 4
- LHCUYYJTVIYFEQ-UHFFFAOYSA-N 1-azido-3-(3-azidophenyl)sulfonylbenzene Chemical compound [N-]=[N+]=NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(C=CC=2)N=[N+]=[N-])=C1 LHCUYYJTVIYFEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 4
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 4
- ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N dicarbonic acid Chemical class OC(=O)OC(O)=O ZFTFAPZRGNKQPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 4
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-methyl-PhOH Natural products CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 4
- DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N tert-butoxycarbonyl anhydride Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)OC(=O)OC(C)(C)C DYHSDKLCOJIUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M triphenylsulfonium triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.C1=CC=CC=C1[S+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 FAYMLNNRGCYLSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006704 (C5-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 PBKONEOXTCPAFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003270 Cymel® Polymers 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 3
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 3
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 description 3
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N benzyl-alpha-carboxylic acid Natural products OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940106691 bisphenol a Drugs 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 3
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 3
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 3
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 3
- BKZFVHIMLVBUGP-UHFFFAOYSA-N (2-prop-2-enoyloxyphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(=O)C=C BKZFVHIMLVBUGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOIIHESTBYNJRH-PMPSAXMXSA-N (3r,6r,8as)-6-(benzylsulfonylamino)-n-[3-(diaminomethylideneamino)propyl]-5-oxo-2,3,6,7,8,8a-hexahydro-[1,3]thiazolo[3,2-a]pyridine-3-carboxamide Chemical compound N([C@@H]1CC[C@@H]2SC[C@H](N2C1=O)C(=O)NCCCN=C(N)N)S(=O)(=O)CC1=CC=CC=C1 SOIIHESTBYNJRH-PMPSAXMXSA-N 0.000 description 2
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005913 (C3-C6) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 1-azido-4-[(e)-2-(4-azidophenyl)ethenyl]benzene Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1\C=C\C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 HWEONUWVYWIJPF-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- MBDUIEKYVPVZJH-UHFFFAOYSA-N 1-ethylsulfonylethane Chemical compound CCS(=O)(=O)CC MBDUIEKYVPVZJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLIWQXBKMZNZNF-UHFFFAOYSA-N 2,6-bis[(4-azidophenyl)methylidene]-4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound O=C1C(=CC=2C=CC(=CC=2)N=[N+]=[N-])CC(C)CC1=CC1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 MLIWQXBKMZNZNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C=O CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEMWDXVZXZBXDG-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloocten-1-yl)-1,4,5,6,7,8-hexahydrodiazocine Chemical compound C1CCCCCC(C=2CCCCCNN=2)=C1 GEMWDXVZXZBXDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKKOLPWDKQDVJE-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-fluoro-4-methoxyphenyl)methylamino]-6-(trifluoromethyl)quinoxaline-2-carboxylic acid Chemical compound C1=C(F)C(OC)=CC=C1CNC1=NC2=CC(C(F)(F)F)=CC=C2N=C1C(O)=O JKKOLPWDKQDVJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGCSQMNZKHRBJW-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-ethoxyphenyl)methylamino]-6-(trifluoromethyl)quinoxaline-2-carboxylic acid Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1CNC1=NC2=CC(C(F)(F)F)=CC=C2N=C1C(O)=O GGCSQMNZKHRBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 4-Hydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NPFYZDNDJHZQKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N Chalcone Natural products C=1C=CC=CC=1C(=O)C=CC1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100311330 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) uap56 gene Proteins 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N anhydrous trimethylamine Natural products CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001222 biopolymer Polymers 0.000 description 2
- CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N bis(4-azidophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N=[N+]=[N-])=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 CHFBCXOSLARLKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 2
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 235000005513 chalcones Nutrition 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001962 electrophoresis Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N gamma-valerolactone Chemical compound CC1CCC(=O)O1 GAEKPEKOJKCEMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical class O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-methyl phenol Natural products CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 2
- 229920002454 poly(glycidyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YKPJEYXZEBLYCI-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,4-c]pyrrole Chemical class C1=NC=C2C=NC=C21 YKPJEYXZEBLYCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 101150018444 sub2 gene Proteins 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N trans-chalcone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 DQFBYFPFKXHELB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- IZGZHGAANAVEBU-UHFFFAOYSA-N (1,3-dioxobenzo[de]isoquinolin-2-yl) benzenesulfonate Chemical compound O=C1C(C=23)=CC=CC3=CC=CC=2C(=O)N1OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 IZGZHGAANAVEBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHPLHTWUZJURAM-UHFFFAOYSA-N (1-phenylcyclopropyl)benzene Chemical compound C1CC1(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YHPLHTWUZJURAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXCSCTVYEKPPDO-UHFFFAOYSA-N (2-ethenylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FXCSCTVYEKPPDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OODJZNASSHCMJT-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone;methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O.OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 OODJZNASSHCMJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHQCQFFYRZLCQQ-UHFFFAOYSA-N (3alpha,5alpha,7alpha,12alpha)-3,7,12-trihydroxy-cholan-24-oic acid Natural products OC1CC2CC(O)CCC2(C)C2C1C1CCC(C(CCC(O)=O)C)C1(C)C(O)C2 BHQCQFFYRZLCQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)methanol Chemical compound OCC1=CC=C(C=C)C=C1 CLECMSNCZUMKLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYJXODFXGXZFIF-UHFFFAOYSA-N (4Z)-4-diazopiperidine-2,3-dione Chemical compound [N-]=[N+]=C1CCNC(=O)C1=O OYJXODFXGXZFIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006545 (C1-C9) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006272 (C3-C7) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- BHFWGAOJAKLSNK-AATRIKPKSA-N (e)-4-butoxy-3-chloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)C(\Cl)=C/C(O)=O BHFWGAOJAKLSNK-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDYSDGOCAJBPIM-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)sulfonyl-3-(2,4,6-tribromophenyl)urea Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)NC(=O)NC1=C(Br)C=C(Br)C=C1Br IDYSDGOCAJBPIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOIGNAYVFPBUQS-UHFFFAOYSA-M 1-(4-nitrophenyl)-2-(thiolan-1-ium-1-yl)ethanone;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C(=O)C[S+]1CCCC1 XOIGNAYVFPBUQS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 1-anthroic acid Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C(=O)O)=CC=CC3=CC2=C1 CCFAKBRKTKVJPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTKKIGMVORMMCH-UHFFFAOYSA-N 1-nitrocyclohexa-2,4-diene-1-carbaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1(C=O)CC=CC=C1 RTKKIGMVORMMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- KKQCQCXUVZBOCL-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrrole-2-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CN1 KKQCQCXUVZBOCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZXDRXVIRVJQBT-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1C ZZXDRXVIRVJQBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIZUCYSQUWMQLX-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1C RIZUCYSQUWMQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHGKEORTCHVBQH-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tri(propan-2-yl)benzenesulfonic acid Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S(O)(=O)=O)C(C(C)C)=C1 YHGKEORTCHVBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC(C)=C(S(O)(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- WHFZQNNDIJKLIO-UHFFFAOYSA-N 2,6-dinitrobenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1C=O WHFZQNNDIJKLIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIAWAXVRXKIUQB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)pyridine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=N1 BIAWAXVRXKIUQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical class CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JECYUBVRTQDVAT-UHFFFAOYSA-N 2-acetylphenol Chemical class CC(=O)C1=CC=CC=C1O JECYUBVRTQDVAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZFFBIQMNKOJDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 2-cyanobenzohydrazide Chemical compound NNC(=O)C1=CC=CC=C1C#N TWJNQYPJQDRXPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWQPDVZUOZVCBH-UHFFFAOYSA-N 2-diazonio-4-oxo-3h-naphthalen-1-olate Chemical class C1=CC=C2C(=O)C(=[N+]=[N-])CC(=O)C2=C1 UWQPDVZUOZVCBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNIMRYJAUUVQJ-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylethanone;4-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1.C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WHNIMRYJAUUVQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyrrole-2,5-dione Chemical compound CC1=C(C)C(=O)NC1=O ZTWMBHJPUJJJME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCLMZMISZCYBBG-UHFFFAOYSA-N 3-ethylheptanoic acid Chemical compound CCCCC(CC)CC(O)=O MCLMZMISZCYBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJMFQOLASRFRMN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxyiminobutan-2-one;2-methylprop-2-enoic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=O)C(C)=NO ZJMFQOLASRFRMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFBUTYWHEOGICM-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-4-(oxan-1-ium-1-ylsulfanyl)phenol;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC(O)=CC=C1S[O+]1CCCCC1 PFBUTYWHEOGICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGLNWHWBCINBS-UHFFFAOYSA-N 3-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 QWGLNWHWBCINBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUPJJZVGSOUSFH-UHFFFAOYSA-N 4-(2-cyanoethyl)-4-nitroheptanedinitrile Chemical compound N#CCCC([N+](=O)[O-])(CCC#N)CCC#N MUPJJZVGSOUSFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLNLVVPBWVRFCT-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)ethyl]-2,6-dibromophenol Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C=1C=C(Br)C(O)=C(Br)C=1)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 DLNLVVPBWVRFCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQWAOUOHRMHSHL-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-n,n-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 GQWAOUOHRMHSHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 4-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCBWAFJCKVKYHO-UHFFFAOYSA-N 6-(4-cyclopropyl-6-methoxypyrimidin-5-yl)-1-[[4-[1-propan-2-yl-4-(trifluoromethyl)imidazol-2-yl]phenyl]methyl]pyrazolo[3,4-d]pyrimidine Chemical compound C1(CC1)C1=NC=NC(=C1C1=NC=C2C(=N1)N(N=C2)CC1=CC=C(C=C1)C=1N(C=C(N=1)C(F)(F)F)C(C)C)OC KCBWAFJCKVKYHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N AIBN Substances N#CC(C)(C)\N=N\C(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000291564 Allium cepa Species 0.000 description 1
- 235000002732 Allium cepa var. cepa Nutrition 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N Butylate Chemical compound CCSC(=O)N(CC(C)C)CC(C)C BMTAFVWTTFSTOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOUTYVWHWSUKPL-NOZJJQNGSA-N C[C@H](CS)C(=O)N[C@H](Cc1c[nH]c2ccccc12)C(O)=O Chemical compound C[C@H](CS)C(=O)N[C@H](Cc1c[nH]c2ccccc12)C(O)=O ZOUTYVWHWSUKPL-NOZJJQNGSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004380 Cholic acid Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021360 Myristic acid Nutrition 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N Myristic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCC(O)=O TUNFSRHWOTWDNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 208000037062 Polyps Diseases 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920002494 Zein Polymers 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APOOHNQQCBRJGA-UHFFFAOYSA-N [N-]=[N+]=C1NNC(=O)C1=O Chemical compound [N-]=[N+]=C1NNC(=O)C1=O APOOHNQQCBRJGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCXUSBICWPJFTN-UHFFFAOYSA-N [[cyano-(4-methoxyphenyl)methylidene]amino] 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(C#N)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PCXUSBICWPJFTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002998 adhesive polymer Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWNRYSUAHUNANE-UHFFFAOYSA-N butane;hexane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCC.CCCCCCS(O)(=O)=O YWNRYSUAHUNANE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 1
- BHQCQFFYRZLCQQ-OELDTZBJSA-N cholic acid Chemical compound C([C@H]1C[C@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 BHQCQFFYRZLCQQ-OELDTZBJSA-N 0.000 description 1
- 235000019416 cholic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002471 cholic acid Drugs 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N cobalt(3+) Chemical compound [Co+3] JAWGVVJVYSANRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004979 cyclopentylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004980 cyclopropylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- KXGVEGMKQFWNSR-UHFFFAOYSA-N deoxycholic acid Natural products C1CC2CC(O)CCC2(C)C2C1C1CCC(C(CCC(O)=O)C)C1(C)C(O)C2 KXGVEGMKQFWNSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical group C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIESXMMOWKUJKQ-UHFFFAOYSA-N diazonio-[4-[2-[3-[2-(4-diazonioazanidylphenyl)ethenyl]-2-oxocyclohexyl]ethenyl]phenyl]azanide Chemical compound O=C1C(C=CC=2C=CC([N-][N+]#N)=CC=2)CCCC1C=CC1=CC=C([N-][N+]#N)C=C1 VIESXMMOWKUJKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000005125 dioxazines Chemical class 0.000 description 1
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N ethyl 1-[[2-chloroethyl(nitroso)carbamoyl]amino]cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound ClCCN(N=O)C(=O)NC1(C(=O)OCC)CCCCC1 FPIQZBQZKBKLEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YPGCWEMNNLXISK-UHFFFAOYSA-N hydratropic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C1=CC=CC=C1 YPGCWEMNNLXISK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000852 hydrogen donor Substances 0.000 description 1
- 125000000687 hydroquinonyl group Chemical class C1(O)=C(C=C(O)C=C1)* 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910000103 lithium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002757 morpholinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSVLYFIVEBPINC-UHFFFAOYSA-N perylene-1-carboxylic acid Chemical compound C1=CC(C=2C(C(=O)O)=CC=C3C=2C2=CC=C3)=C3C2=CC=CC3=C1 FSVLYFIVEBPINC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDSBRLMOWFYBGK-UHFFFAOYSA-N phenacyl 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)OCC(=O)C1=CC=CC=C1 QDSBRLMOWFYBGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N phthalaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1C=O ZWLUXSQADUDCSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N pivalic acid Chemical compound CC(C)(C)C(O)=O IUGYQRQAERSCNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000314 poly p-methyl styrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001597 poly(4-chlorostyrene) Polymers 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003205 poly(diphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920003214 poly(methacrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920001608 poly(methyl styrenes) Polymers 0.000 description 1
- 229920005735 poly(methyl vinyl ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N potassium methoxide Chemical compound [K+].[O-]C BDAWXSQJJCIFIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- LFULEKSKNZEWOE-UHFFFAOYSA-N propanil Chemical compound CCC(=O)NC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1 LFULEKSKNZEWOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical class CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- WRHZVMBBRYBTKZ-UHFFFAOYSA-N pyrrole-2-carboxylic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CN1 WRHZVMBBRYBTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- LMHHRCOWPQNFTF-UHFFFAOYSA-N s-propan-2-yl azepane-1-carbothioate Chemical compound CC(C)SC(=O)N1CCCCCC1 LMHHRCOWPQNFTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- CEDBAUKSBZIMJQ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl naphthalene-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C(=O)OC(C)(C)C)=CC=C21 CEDBAUKSBZIMJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005958 tetrahydrothienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007651 thermal printing Methods 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- QSOKYXQHVHZSER-UHFFFAOYSA-N trimethyl(3-phenylprop-2-enyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CC=CC1=CC=CC=C1 QSOKYXQHVHZSER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005019 zein Substances 0.000 description 1
- 229940093612 zein Drugs 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
- B41M3/003—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns on optical devices, e.g. lens elements; for the production of optical devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/265—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used for the production of optical filters or electrical components
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
- B41M5/5254—Macromolecular coatings characterised by the use of polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
- B41M5/52—Macromolecular coatings
- B41M5/5263—Macromolecular coatings characterised by the use of polymers obtained otherwise than by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41M5/5272—Polyesters; Polycarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
- C09B67/0071—Process features in the making of dyestuff preparations; Dehydrating agents; Dispersing agents; Dustfree compositions
- C09B67/0077—Preparations with possibly reduced vat, sulfur or indigo dyes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B68/00—Organic pigments surface-modified by grafting, e.g. by establishing covalent or complex bonds, in order to improve the pigment properties, e.g. dispersibility or rheology
- C09B68/40—Organic pigments surface-modified by grafting, e.g. by establishing covalent or complex bonds, in order to improve the pigment properties, e.g. dispersibility or rheology characterised by the chemical nature of the attached groups
- C09B68/44—Non-ionic groups, e.g. halogen, OH or SH
- C09B68/443—Carboxylic acid derivatives, e.g. carboxylic acid amides, carboxylic acid esters or CN groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B68/00—Organic pigments surface-modified by grafting, e.g. by establishing covalent or complex bonds, in order to improve the pigment properties, e.g. dispersibility or rheology
- C09B68/40—Organic pigments surface-modified by grafting, e.g. by establishing covalent or complex bonds, in order to improve the pigment properties, e.g. dispersibility or rheology characterised by the chemical nature of the attached groups
- C09B68/46—Aromatic cyclic groups
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/30—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using chemical colour formers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/156—Precursor compound
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/163—Radiation-chromic compound
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/165—Thermal imaging composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft neue Zusammensetzungen für die Herstellung strukturierter Farbbilder sowie deren Verwendung.
- Als Methoden zur Ausbildung eines Polymermusters oder von Bildschichten sind verschiedene Techniken, wie die Photolithographie, der Stoßdruck, wie Siebdruck, Tiefdruck, Flexodruck und Offsetdruck, der stoßfreie Druck, wie Tintenstrahldruck, der thermische Farbdiffusionstransfer, Lasermarking, Elektroabscheidung, etc., bekannt. Bei all diesen Bilderzeugungs- und Aufzeichnungsmethoden umfaßt das eigentliche färbende Material Pigmente und Farbstoffe in Kombination mit geeigneten Harzen, Bindemitteln, Polymeren und Additiven.
- Derartige Farben werden somit beispielsweise als Aufzeichnungselemente optischer Gedächtnisse, wie in JP Kokai 05050757 A offenbart, als Aufzeichnungselemente für thermische Aufzeichnungsgedächtnisse, wie in EP-A-535788 offenbart, und als farbgebende Materialien für Farbfilter von LCDs (liquid crystal displays), wie in H. Aruga, J. Photopolym. Sci. Technol., 3(1)9-16(1990), EP-A-380223, K. Mizuno et al., Jpn. J. appl. Phys., Teil 1, 30 3313-17(1991), und K. Kobayashi, Solid State Technology, 11(1992)15-18, beschrieben, eingesetzt. Polymere Musterschichten können nach Vernetzen, z. B. durch thermischen Farbdiffusionstransfer mit gut bekannten Farbstoffen, wie in EP-008828 erwähnt, gefärbt werden.
- Entsprechend der vorstehenden Literatur werden Pigmente und Farbstoffe in Form von Pigmente oder Farbstoffe, Polymere oder Prepolymere und gegebenenfalls weitere Additive enthaltenden Zusammensetzungen eingesetzt, die einer Bildbildung unterliegen, um zu einer Aufzeichnung zu gelangen oder Farbmuster zu bilden. Das Verfahren umfaßt gewöhnlich die Polymerisation eines Prepolymeren oder die Depolymerisation eines strukturierbaren Polymeren durch Anwendung von Wärme oder elektromagnetischer Strahlung oder einer Kombination hiervon und die anschließende Entwicklung unter Verwendung geeigneter Entwickler; alternativ können Pigmente oder Farbstoffe direkt in einem selektiven Muster, beispielsweise über einen stoßfreien Druck, angewandt werden.
- Während Farbstoffe im allgemeinen hinsichtlich Licht-, Wärme-, Lösungsmittel- und chemischer Beständigkeit Mängel aufweisen, zeigen Pigmente bei derartigen Anwendungen Probleme hinsichtlich Dispersion und Dispersionsstabilität, Transparenz, Profilschärfe von Absorptions- oder Transmissionsspektren und/oder Mangel an Löslichkeit oder Diffusionsvermögen. Zahlreiche Eigenschaften, die für die gute Einarbeitung von Farbstoffen oder Pigmenten in kritische Systeme, wie Farb- LCDs wünschenswert sind, sind mit denjenigen, die für hoch qualitative Anwendungen erforderlich sind, unvereinbar. Nichtzufriedenstellende Kompromisse mußten somit erzielt werden, wie in JP Kokai 60180889, wo Stabilität zum Preis einer geringen optischen Reflexionsdichte und mäßigen Farbskala erzielt wird und zahlreiche Pigmentklassen überhaupt nicht eingesetzt werden können. Die vorliegende Erfindung überwiitet dieses Problem.
- Jüngste Entwicklungen in der Bilderzeugung und Aufzeichnungstechnologie erfordern jedoch Zusammensetzungen für die Herstellung von Mustern oder Bildern mit
- - hoher Transparenz (d. h. hoher Lichtdurchlässigkeit), insbesondere für Farbfilter von LCDs,
- - hohem Kontrastverhältnis,
- - höher Farbreinheit und -stärke,
- - hoher Musterauflösung und Bildpräzision,
- - Abwesenheit von (Farbstoff)Farbvermischung,
- - Abwesenheit eines Verstopfens der Siebe während der Reinigung von Farbstoff/Polymermischungen,
- - Glätte der Bildoberfläche,
- - lochfraßfreier und unverschmutzter Bildschicht,
- - höherer Registrationsgenauigkeit,
- - höherer Schärfe der Bildkanten,
- - höherer thermischer, chemischer und Lichtbeständigkeit und
- - ultrafeinen Filmcharakteristiken.
- Überraschenderweise wurde nun gefunden, daß spezielle lösliche Pigmentvorläufer durch chemische, thermische, photolytische Maßnahmen, durch Laser und andere Maßnahmen der Bestrahlung dazu gebracht werden können, daß sie einer in situ-Erzeugung von unlöslichen Pigmentteilchen mit Nanogröße unterliegen und daß die die vorstehenden speziellen Pigmentvorläufer enthaltenden Zusammensetzungen für strukturierte Farbbilder und Bilderzeugung den vorstehenden Erfordernissen genügen.
- Die vorliegende Erfindung betrifft demgemäß neue Zusammensetzungen für die Ausbildung strukturierter Farbbilder, die lösliche Pigmentvorläufer enthalten, worin die Vorläufer unlösliche Pigmentteilchen in Nano-Größe durch die Wirkung chemischer, thermischer, photolytischer Maßnahmen oder durch Laser und andere Maßnahmen regenerieren, sowie deren Anwendung bei der Aufzeichnungs- und Bilderzeugungstechnologie, insbesondere bei der Herstellung von Farbfiltern für LCDs.
- Ein Aspekt der vorliegenden Erfindung besteht daher in der Bereitstellung neuer Zusammensetzungen für die Erzeugung strukturierter Farbbilder, umfassend
- (a) einen löslichen Pigmentvorläufer, der in ein unlösliches Pigment übergeführt werden kann mit Hilfe einer chemisch-, thermisch-, photolytisch- oder strahlungsinduzierten Methode oder einer Kombination hiervon; und
- (b) ein Harz, Polymeres oder Prepolymeres vom positiven oder siegativen Resist-Typ, das durch Polaritätsänderungen, Vernetzung, Polymerisation oder Depolymerisation unter Anwendung von Wärme oder elektromagnetischer Strahlung, wie UV-, sichtbarer-, Elektronen-, Neutronen-, Laser- oder Röntgenbestrahlung oder einer Kombination hiervon strukturiert werden kann.
- Der lösliche Pigmentvorläufer (a) wird in dem Harz (b) im Verlauf seines Einbringens gelöst. Als Hilfe für die Auflösung kann ein Lösungsmittel verwendet werden.
- Der lösliche Pigmentvorläufer (a) gemäß der vorliegenden Erfindung wird dargestellt durch die Formel I
- A(B)x (I)
- worin
- x für eine Zahl von 1 bis 4 steht,
- A der Rest eines Farbgebers der Chinacridon-, Anthrachinon-, Perylen-, Indigo-, Chinophthalon-, Isoindolinon-, Isoindolin-, Dioxazin-, Diketopyrrolopyrrol- oder Azo-Reihe ist, der an x Gruppen B über N-Atome gebunden ist, wobei diese Stickstoffe Teil von A sind und bevorzugt benachbart sind zu oder konjugiert mit einer Carbonylgruppe;
- B eine an A gebundene Gruppe ist, dargestellt durch die Formeln
- oder
- wobei in den Formeln II, III und IV
- m, n und p unabhängig voneinander 0 oder 1 bedeuten,
- X für C&sub1;&submin;&sub1;&sub4;-Alkylen oder C&sub2;&submin;&sub8;-Alkenylen steht,
- Y eine Gruppe -V-(CH&sub2;)q- darstellt,
- Z eine Gruppe -V-(CH&sub2;)r- wiedergibt,
- V für C&sub3;&submin;&sub6;-Cycloalkylen steht,
- q eine Zahl zwischen 1 und 6 ist,
- r eine Zahl zwischen 0 und 6 ist,
- R&sub1; und R&sub2; unabhängig voneinander Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, Halogen, CN, NO&sub2;, Phenyl oder Fhenoxy, welche unsubstituiert oder substituiert sind durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy oder Halogen, bedeuten,
- Q Wasserstoff, CN, Si(R&sub1;)&sub3;, eine Gruppe C(R&sub5;)(R&sub6;)(R&sub7;),worin R&sub5;, R&sub6; und R&sub7; jeweils unabhängig Wasserstoff oder Halogen bedeuten und zumindest einer der Reste R&sub5;, R&sub6; und R&sub7; Halogen ist,
- eine Gruppe
- worin R&sub1; und R&sub2; die vorstehend angegebene Bedeutung haben, eine Gruppe SO&sub2;R&sub8; oder SR&sub8;, worin R&sub8; für C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl steht, eine Gruppe CH(R&sub9;)&sub2;, worin R&sub9; Phenyl bedeutet, welches unsubstituiert oder substituiert ist durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;- Alkoxy oder Halogen, oder
- eine Gruppe der Formel
- bedeutet und R&sub3; und R&sub4; jeweils voneinander unabhängig Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl oder eine Gruppe
- bedeuten, bedeuten, worin X, Y, R&sub1;, R&sub2;, m und n
- die vorstehend angegebene Bedeutung besitzen, oder R&sub3; und R&sub4; gemeinsam mit dem Stickstoff, an den sie gebunden sind, einen Pyrrolidinyl-, Piperidinyl- oder Morpholinylrest bilden,
- und worin A(B)x zusätzliche Gruppen
- =N-, -NH- oder -NH&sub2; enthalten können
- Es ist nicht nötig und in zahlreichen Fällen nicht angezeigt, daß sämtliche der N-Atome an Gruppen B gebunden sind; andererseits kann mehr als eine Gruppe B an ein einziges N-Atom gebunden sein.
- A bedeutet einen Rest von gut bekannten, stickstoffhaltigen Chromophoren, z. B.
- sowie sämtlicher bekannten Derivate von derartigen Chromophoren.
- Ist X C&sub1;&submin;&sub1;&sub4;-Alkylen, dann handelt es sich um ein geradkettiges oder verzweigtes Alkylen, wie Methylen, Dimethylen, Trimethylen, 1-Methylmethylen, 1,1-Dimethylmethylen, 1,1- Dimethyldimethylen, 1,1-Dimethyltrimethylen, 1-Ethyl-di methylen, 1-Ethyl-1-methyldimethylen, Tetramethylen, 1,1-Dimethyltetramethylen, 2,2-Dimethyltrimethylen, Hexamethylen, Decamethylen, 1,1-Dimethyldecamethylen, 1,1-Diethyldecamethylen oder Tetradecamethylen.
- X in Form von C&sub2;&submin;&sub8;-Alkenylen bedeutet geradkettiges oder verzweigtes Alkenylen, wie Vinylen, Allylen, Methallylen, 1-Methyl-2-butenylen, 1,1-Dimethyl-3-butenylen, 2-Butenylen, 2-Hexenylen, 3-Hexenylen oder 2-Octenylen.
- C&sub3;&submin;&sub6;-Cycloalkylen bedeutet beispielsweise Cyclopropylen, Cyclopentylen und insbesondere Cyclohexylen.
- Sind die Substituenten Halogen, sind diese z. B. Jod, Fluor, insbesondere Brom oder bevorzugt Chlor.
- Sind die Substituenten C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl, sind diese z. B. Methyl, Ethyh n-Propyl, Isopropyl, n-Butyl, sek.-Butyl, tert.- Butyl, n-Amyl, tert.-Amyl oder Hexyl, und sind die Substituenten C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl, dann sind sie zusätzlich beispielsweise Heptyl, Octyl, 2-Ethylhexyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl, Tetradecyl, Hexadecyl oder Octadecyl.
- C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy bedeutet z. B. Methoxy, Ethoxy, n-Propoxy, Isopropoxy oder Butoxy.
- Von speziellem Interesse sind Verbindungen der Formel I, worin x für 1 oder 2 steht und B eine Gruppe der Formel
- ist und wenn x für 2 steht, einer der Reste B auch Wasserstoff sein kann, wobei in den Formeln IV, V und VI m für 0 oder 1 steht,
- X für C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylen oder C&sub2;&submin;&sub5;-Alkenylen steht, R&sub1; und R&sub2; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub4;- Alkyl, Methoxy, Chlor oder NO&sub2; bedeuten, und R&sub1;
- Q Wasserstoff, CN, CCl&sub3;, eine Gruppe SO&sub2;
- SO&sub2;CH&sub3; oder SCH&sub3; ist, und
- R&sub3; und R&sub4; in Formel IV unabhängig voneinander Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder eine Gruppe
- bedeuten
- oder R&sub3; und R&sub4; gemeinsam mit dem Stickstoffatom, an das sie gebunden sind, einen Piperidinylrest bilden, und insbesondere diejenigen, worin x für 2 steht und B eine Gruppe der Formel
- darstellt.
- Bevorzugte Verbindungen der Formel I sind
- a1) Perylencarbonsäureimide der Formel
- worin D Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl, Phenyl, Benzyl oder Phenetyl, unsubstituiert oder substituiert durch Halogen oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, bedeutet oder die gleiche Bedeutung wie B besitzt,
- a2) Chinacridone der Formel
- worin R&sub1;&sub0; und R&sub1;&sub1; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy oder Phenyl bedeuten und worin ein E für B steht und das andere E für B oder Wasserstoff steht,
- a3) Dioxazine der Formel
- worin R&sub1;&sub2; Wasserstoff, Halogen oder C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl bedeutet,
- a4) Isoindoline der Formel
- worin R&sub1;&sub3; für eine Gruppe steht,
- R&sub1;&sub4; Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl, Benzyl oder eine Gruppe
- wiedergibt,
- R&sub1;&sub5; die gleiche Bedeutung wie R&sub1;&sub3; besitzt,
- R&sub1;&sub6;, R&sub1;&sub7;, R&sub1;&sub8; und R&sub1;&sub9; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, Halogen oder Trifluormethyl bedeuten,
- a5) Indigoderivate der Formel
- worin R&sub2;&sub0; Wasserstoff, CN, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy oder Halogen bedeutet,
- a6) Benzimidazolon-Azoverbindungen der Formel
- worin R&sub2;&sub1; und R&sub2;&sub2; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy darstellen,
- a7) Anthrachinoidverbindungen der Formel
- a8) Phthalocyaninverbindungen der Formel
- worin X&sub1; für Ni, Fe, V, bevorzugt H&sub2;, Zn oder Cu steht, X&sub2; für -CH(R&sub2;'), bevorzugt -CH&sub2;- oder -SO&sub2;-,steht, R&sub1;' C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, -N(E)R&sub2;', -NHCOR&sub3;', -COR&sub3;' oder
- bevorzugt Wasserstoff, -NHCOCH&sub3; oder Benzoyl bedeutet,
- Wasserstoff oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl wiedergibt, R&sub3;' C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl ist, R&sub4;' für Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy steht und
- z für Null oder 1, bevorzugt 1, steht und y eine ganze Zahl von 1 bis 4 ist, und
- a9) Pyrrolo[3,4-c]pyrrole der Formel
- worin G&sub1; und G&sub2; jeweils unabhängig voneinander eine Gruppe der Formel
- wiedergeben,
- worin R&sub2;&sub3; und R&sub2;&sub4; unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkoxy, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkylmercapto, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;- Alkylamino, -CN, -NO&sub2;, Phenyl, Trifluormethyl, C&sub5;&submin;&sub6;-Cycloalkyl, -C=N-(C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-alkyl),
- Imidazolyl, Pyrazolyl, Triazolyl, Piperazinyl, Pyrrolyl, Oxazolyl, Benzoxazolyl, Benzthiazolyl, Benzimidazolyl, Morpholinyl, Piperidinyl oder Pyrrolidinyl bedeuten,
- L für -CH&sub2;-, -CH(CH&sub3;)-, -C(CH&sub3;)&sub2;-, -CH=N-, -N = N-, -O-, -S-, -SO-, -SO&sub2;- oder -NR&sub2;&sub9; steht,
- R&sub2;&sub5; und R&sub2;&sub6; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkoxy oder -CN bedeuten, und. R&sub2;&sub8; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen oder C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl wiedergeben und für Wasserstoff oder C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl steht,
- wobei E in den vorstehenden Formeln (VIII) bis (XVII) für Wasserstoff oder B steht, mit der Maßgabe, daß zumindest ein E für B steht und B die vorstehende Bedeutung besitzt, die auch für die vorstehend erwähnten, bevorzugten Verbindungen Gültigkeit besitzt.
- C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkylmercapto ist beispielsweise Methylmercapto, Ethylmercapto, Propylmercapto, Butylmercapto, Octylmercapto, Decylmercapto, Hexamethylmercapto oder Octadecylmercapto, und C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkylamino bedeutet beispielsweise Methylamino, Ethylamino, Propylamino, Hexylamino, Decylamino, Hexadecylamino oder Octadecylamino.
- C&sub5;&submin;&sub6;-Gycloalkyl ist beispielsweise Cyclopentyl oder Cyclohexyl.
- Als Komponente (a) der vorliegenden Zusammensetzungen kann eine einzelne Verbindung oder eine Kombination von zwei oder mehreren Verbindungen in der Praxis der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden.
- Bevorzugte Verbindungen sind
- oder Mischungen hiervon,
- worin E für -C(=O)-O-C(CH&sub3;)&sub3; steht, und vorzugsweise worin R&sub1;&sub0; und R&sub1;&sub1; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub5;-Alkyl oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy bedeuten, und worin R&sub2;&sub3; und R&sub2;&sub4; Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub5;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, Phenyl oder Cyano sind, insbesondere worin R&sub1;&sub0;, R&sub1;&sub1;, R&sub2;&sub3; und R&sub2;&sub4; Wasserstoff oder Chlor bedeuten.
- Für die Herstellung der N-substituierten Pyrrolopyrrole wird beispielsweise in US-Patent 4 585 878 erwähnt, daß sie erhalten werden können durch Umsetzung von N-unsubstituiertem Pyrrolo[3,4-c]pyrrol mit einer den entsprechenden N-Substituenten als freisetzende Gruppea enthaltenden Verbindung in einem organischen Lösungsmittel. In lediglich einem Beispiel, das eine eine N-Carbonylgruppe enthaltende Verbindung (Beispiel 9: N-Benzoyl) beschreibt, wird 1,4-Diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol mit Benzoylchlorid umgesetzt. In Versuchen zur Herstellung der gewünschten Carbamate auf analoge Weise durch Umsetzung mit einem entsprechenden Säurechloridderivat beispielsweise einem Chlorkohlensäureester, fand man bedauerlicherweise, daß die Carbamate in einer lediglich sehr niedrigen Ausbeute erhalten werden konnten.
- Es wurde jedoch gefunden, daß das gewünschte Carbamat mit überraschend guter Ausbeute erhalten wird, indem man die entsprechenden Trihaloessigsäureester oder insbesondere die entsprechenden Dicarbonate einsetzt. Eine verbesserte Ausbeute, selbst wenn die Verbesserung gering sein mag, wird auch erhalten, wenn die Umsetzung mit einem aliphatischen Säurechloridderivat, z. B. Chlormaleinsäure-butylester, in Gegenwart einer Base als Katalysator durchgeführt wird.
- Ein geeignetes Verfahren für die Herstellung von Verbindungen der Formel I ist dadurch gekennzeichnet, daß eine Verbindung der Formel
- A(H)x,
- worin A und x die vorstehend angegebene Bedeutung haben und H an N gebunden ist, in einem gewünschten Molverhältnis mit einem Dicarbonat der Formel
- B - O - B
- oder mit einem Trihaloessigsäureester der Formel
- (Ra)&sub3;C-B
- oder mit einem Azid der Formel
- BN&sub3;
- oder mit einem Carbonat der Formel
- B - ORb
- oder mit einem Alkylideniminooxy-ameisensäureester der Formel
- worin B die zuvor angegebene Bedeutung besitzt,
- Ra für Chlor, Fluor oder Brom steht,
- Rb C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder unsubstituiertes oder durch Halogen,
- C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy oder -CN substituiertes Phenyl bedeutet,
- Rc für -CN oder -COORb steht und
- Rd unsubstituiertes oder durch Halogen, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4; Alkoxy oder -CN substituiertes Phenyl ist, in einem aprotischen organischen Lösungsmittel in Gegenwart eines basischen Katalysators bei einer Temperatur zwischen 0 und 400ºC, insbesondere zwischen 20 und 200ºC, bevorzugt zwischen 10 und 100ºC, meist bevorzugt zwischen 14 und 40ºC, unter Atmosphärendruck 2 bis 80 Stunden umgesetzt wird.
- Vorzugsweise wird die Verbindung der Formel A(H)X mit einem Dicarbonat der Formel B - O - B umgesetzt.
- Die Verbindungen der Formel A(H)X, Dicarbonate der Formel B - O - B, Trihaloessigsäureester der Formel (Ra)&sub3;C - B, Azide der Formel BN&sub3;, Carbonate der Formel B - ORb und Alkylideniminooxy-ameisensäureester der Formel
- sind bekannte Verbindungen. Sollten einige von ihnen neu sein, können sie in Analogie zu allgemein bekannten Methoden hergestellt werden.
- Das jeweilige Molverhältnis der vorstehenden Verbindungen A und reaktiven Derivate von B hängt von der Anzahl der einzuführenden Gruppen B ab. Ein 2- bis 10facher Überschuß an reaktiven Derivaten von B ist im allgemeinen geeignet.
- Als geeignete Lösungsmittel können zur Veranschaulichung z. B. genannt werden: Ether, wie Tetrahydrofuran oder Dioxan, oder Glykolether, wie Ethylenglykolmethylether, Ethylenglykol-ethylether, Diethylenglykolmonomethylether oder Diethylenglykol-monoethylether, ferner dipolare, aprotische Lösungsmittel, wie Acetonitril, Benzonitril, N,N-Dimethylformamid, N,N-Dimethylacetamid, Nitrobenzol, N-Methylpyrrolidon, halogenierte aliphatische oder aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Trichlorethan, Benzol oder Benzol, substituiert durch Alkyl, Alkoxy oder Halogen, z. B. Toluol, Xylol, Anisol oder Chlorbenzol, oder aromatische N-Heterocyclen, wie Pyridin, Picolin oder Chinolin. Bevorzugte Lösungsmittel sind z. B. Tetrahydrofuran, N,N-Dimethylformamid, und N-Methylpyrrolidon. Die vorstehenden Lösungsmittel können auch in Form von Mischungen eingesetzt werden. 5 bis 20 Gew.Teile Lösungsmittel werden geeigneterweise auf 1 Gew. Teil der Reaktanten verwendet.
- Die als Katalysatoren geeigneten Basen sind beispielsweise die Alkalimetalle selbst, wie Lithium, Natrium oder Kalium, sowie deren Hydroxide und Carbonate oder Alkaliamide, wie Lithium-, Natrium- oder Kaliumamid, oder Alkalihydride, wie Lithium-, Natrium- oder Kaliumhydrid, oder Erdalkali- oder Alkalialkoholate, die sich ableiten insbesondere von primären, sekundären oder tertiären aliphatischen Alkoholen mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, z. B. Lithium-, Natrium- oder Kaliummethylat, -ethylat, -n-propylat, -isopropylat, -n-butylat, -sek.-butylat, -tert.-butylat, -2-methyl-2- butylat, -2-methyl-2-pentylat, -3-methyl-3-pentylat, -3- ethyl-3-pentylat, und weitere organische aliphatische, aromatische oder heterocyclische N-Basen, insbesondere beispielsweise Diazabicycloocten, Diazabicycloundecen und 4- Dimethylaminopyridin, und Trialkylamine, wie Trimethyl- oder Triethylamin. Die vorstehenden Basen können auch als Mischungen eingesetzt werden.
- Die organischen N-Basen, wie Diazabicycloocten, Diazabicycloundecen und insbesondere 4-Dimethylaminopyridin, sind bevorzugt.
- Komponente (b) der vorliegenden Zusammensetzungen, das Harz, Polymeres oder Prepolymeres vom positiven oder negativen Resist-Typ, die für die Verwendung bei der vorliegenden Erfindung geeignet sind, sind beispielsweise:
- b1) positive Resiste, wie Diazochinonresiste auf Basis von Phenolharzen, wie Novolak und Diazonaphthochinonen, wie
- worin R z. B. Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub8;-Alkyl oder unsubstituiertes oder durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, -Alkoxy, Halogen oder -CN substituiertes Phenyl bedeutet und DQ Diazonaphthochinon ist, oder Polymere der Formel
- b2) Negative Resiste, wie bichromatierte Polymere, wie bichromatierte Gelatine, -Stärke, -Poly-(vinylalkohol), -Poly- (vinylpyrrolidon), -Poly-(vinylbutyral) und -Poly-(amidsäure (PAA)
- Polymere mit vernetzenden Gruppen in den Seitenketten, wie Poly-(vinylcinnamat), Poly-(vinylcinnamylidenacetat), Poly- (vinylalkohol), woran Chalkon oder Phenylendiacrylat geknüpft ist, Polyester der p-Phenylendiacrylsäure (PPDA) mit Glykolen, wie
- und Polyester, basierend auf Styrylpyridin, wie
- worin
- R für
- -(CH&sub2;)&sub4;- oder -(CH&sub2;)&sub8;- steht;
- wasserverarbeitbare Resiste, wie Styrol-Maleinsäureanhydrid- Copolymere, phenolische quaternäre Pyridiniumsalze, wie
- worin z. B. R Wasserstoff oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl bedeutet und Ar für Phenyl oder Naphthyl, unsubstituiert oder substituiert durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, -Alkoxy, Halogen, -CN oder -NO&sub2; steht,
- und
- polymere Styrylchinoliniumsalze, wie
- acrylische Copolymere mit Dimethylmaleimid als Seitenkette der allgemeinen Formel
- worin beispielsweise R für CH&sub3; steht und R' für H steht, R für CH&sub3; steht und R' für CH&sub3; steht oder R für H steht und R' für C&sub2;H&sub5; steht;
- substituierter Poly-(vinylalkohol), enthaltend Diphenylcyclopropan als Seitenkette, der Formel
- Polymere mit Azidogruppen, wie
- Bis-azidresiste auf Basis von Poly-(cis-isopren) und Bisaziden, wie
- 2,6-Bis-(4-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon (ABC), 4,4'- Diazidostilben, 4,4'-Diazidobenzophenon oder 4,4'-Diazidobenzalaceton;
- wasserverarbeitbare Azidoresiste auf Basis von Poly-(acrylamid) oder Poly-(vinylpyrrolidon) und wasserlösliche Bisazid, wie
- Azidresiste auf Basis von Poly-(vinylphenol) und Monoaziden, wie
- Poly-(vinylalkohol) und Poly-(vinylpyridin), woran ein bifunktionelles Acylsilan, wie
- addiert ist;
- photovernetzende Copolymere von Vinylbenzophenon und 4-Dimethylaminostyrol;
- photoreaktive Polyimide, die z. B. eine sich wiederholende Einheit von
- aufweisen, worin R und R' jeweils unabhängig voneinander Methyl oder Ethyl bedeuten; und Diazoharze, z. B. der Formel
- b3) Monomere enthaltende Photopolymere, wie Acrylate, Methacrylate, Acrylamid und Styrol; Vernetzer, wie 1,6-Hexandioldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat, N,N'-Methylen-bis- (acrylamid), Trimethylolpropantriacrylat, Pentaerythrittriacrylat und Pentaerythrittetraacrylat; Bindekomponenten, wie Polymere des verwendeten Monomeren, Polyester, Polyurethane, Nylons, Polycarbonate und Cellulosederivate; Füllstoffe, wie organophile Siliciumdioxide und Tone; Initiatoren, wie Benzoinderivate, Anthrachinone plus Wasserstoffdonoren und Benzophenone und Amine; sowie Stabilisatoren, wie p - Methoxyphenol, Hydrochinone und Naphthole;
- insbesondere diejenigen, die reaktive Binder enthalten, wie ungesättigte Polymere, erhalten durch Kondensation von Malein- und Fumarsäure mit Glykolen, mehrwertigen Acrylaten aut Basis von Bisphenol A, wie
- und andere polyfunktionelle Prepolymere, wie
- b4) positive Tief-UV-Resiste, wie ein modifizierter Diazochinonresist auf Basis von Novolak und Diazopyrazolidindion, Diazotetraminsäure, Diazopiperidindion und Diazo- Meldrumsäure der Formel
- Resiste auf Basis von o-Nitrobenzylestern, wie
- oder Mischungen von Cholsäure der Formel
- worin beispielsweise R&sub1;, R&sub2; und R&sub3; jeweils OH bedeuten; R&sub1; und R&sub2; für OH stehen und R&sub3; H bedeutet; und R&sub3; für H stehen und R&sub2; OH ist; R&sub1;, R&sub2; und. R&sub3; jeweils H bedeuten; R&sub1;, R&sub2; und R&sub3; jeweils OCOCF&sub3; darstellen; R&sub1;, und R&sub3; jeweils OCOC(CH&sub3;)&sub3; bedeuten; oder R&sub1;, R&sub2; und R&sub3; jeweils für OCOCH&sub3; stehen, mit Novolak oder Copolymeren von Methylmethacrylat und Methacrylsäure;
- o-Nibrobenzyl-subst.-polyether, wie
- m-Poly-(nitroanilid) der Formel
- Poly-(p-acetoxystyrol); Poly-(methylmethacrylat) (PMMA)-Derivate, wie 3-Oximino-2- butanon-methacrylat(OMMA)-MMA-Copolymere, OMMA-Methacrylo- nitril-MMA-Terpolymere, MMA-Indenon-Copolymere der Formel
- Poly-(methylisopropylketon) (PMTPK) der Formel
- in ihrem Gerüst Triphenylcarboniumion enthaltende Polymere, wie
- Poly-(tert.-butoxycarbonyloxystyrol), bevorzugt mit einem Oniumsalzsäuregenerator;
- Novolak mit Carbonaten und Oniunisalzen oder mit Naphthalin- 2-carbonsäure-tert.-butylester; Polycarbonate, wie
- und Copolymere von Phthalaldehyd mit o-Nitrobenzaldehyd,
- b5) negative Tief-UV-Resiste, wie eine Bis-azid-cyclisierte Kautschukzusammensetzung, enthaltend 4,4'-Diazidodiphenylsulfid, ei3Bis-azid-poly-(vinylphenol)-Zusammensetzung, enthaltend 3,3'-Diazidodiphenylsulfon, und eine Bis-azidopoly-(methylmethacrylat)-Zusammensetzung, enthaltend 3,3'- Diazidodiphenylsulfon, Epokide mit Oniumsalzen oder mit n-Hexyloxydiazonium-hexafluorphosphat;
- b6) positive Elektronenresiste, wie PMMA-Derivate, wie Poly-(perfluorbutylmethacrylat), Poly-(hexafluormethacrylat) und insbesondere Poly-(2,2,2-trifluorethyl-α-chloracrylat); Copolymere von MMA mit Methacrylsäure, Acrylnitril oder Methacrylsäureanhydrid;
- Terpolymere von MMA, Methacrylsäure und Methacrylsäureanhydrid;
- Poly-(olefinsulfone), wie Poly-(butensulfon);
- Novolake mit Poly-(olefinsulfon), wie Poly-(2-methylpenten- 1-sulfon) (PMPS);
- Poly-(p-tert.-butoxycarbonyloxystyrol);
- Poly-(ortho-subst.-2-phenylethylmethacrylate);
- und Polystyrol-tetrathiofulvalen der Formel
- worin R beispielsweise für C&sub1;&submin;&sub1;&sub0;-Alkylen, -Alkenylen, C&sub5;&submin;&sub1;&sub0;- Cycloalkylen oder Phenylen, das unsubstituiert oder substituiert ist durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, -Alkoxy, Halogen oder -CN, steht;
- b7) negative Elektronenresiste, wie epoxidiertes Polybutadien, Poly-(glycidylmethacrylat) (PGMA), Copolymere von Glycidylmethacrylat mit Ethylacrylat (COP);
- Copolymere von Allylmethacrylat mit Hydroxyethylmethacrylat; und
- Copolymere von Propargylmethacrylat mit Hydroxyethylmethacrylat;
- Resiste auf Polystyrol-Basis, wie jodiertes Polystyrol und Poly-(chlormethylstyrol);
- Poly-(vinylnaphthaline); Poly-(chlormethylstyrol-co-2-vinylnaphthalin);
- Poly-(vinylpyridin), quaternisiert mit Methyljodid;
- Diazochinon-Novolak-Photoresiste;
- Langmuir-Blodgett-Filme von ω-Tricosensäure, -Tricocynsäure und o-Octadecyl-acrylsäure;
- b8) positive Röntgenstrahlenresiste, wie Olin-Hunt-Resist HPR-204 (Handelsprodukt);
- b9) negative Röntgenstrahlenresiste, wie Poly-(2, 3-dichlor- 1-propylacrylat) (DCPA), Poly-(chlormethylstyrol) (PCMS), chloriertes Poly-(methylstyrol) (CPMS), Copolymere von Allylmethacrylat mit 2-Hydroxyethylmethacrylat oder Glycidylmethacrylat;
- b10) chemisch oder thermisch erzielbare Polymere, wie Polyp-hydroxystyrol oder Novolak mit Melamin-Vernetzer, wobei dieses System durch Anwendung von Wärme in Gegenwart von sauren Katalysatoren eine Vernetzung erfährt;
- Copolymere von p-Hydroxystyrol und verestertem p-Hydroxymethylstyrol, die in Anwesenheit von Säure vernetzen; COP-Harze, die in Gegenwart von Aminen vernetzen; latente Polyamine, wie
- die bei Bestrahlung mit Licht in Gegenwart von Bisepoxid eine Vernetzung erfahren;
- Epoxyharze, wie glycidyliertes Cresolnovolak, Bisphenol Adiglycidylether, Hydantoin-N,N'-bisglycid, Propylen-1,3- bishydantoin-2-hydroxytriglycid, p-Aminophenoltriglycid, Diaminodiphenylmethantetraglycid, Vinylcyclohexendioxid, 3,4-Epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexancarboxylat und Mischungen hiervon, die in Gegenwart geeigneter Härtungsmittel, wie Polyamine, Novolake, Polyaminoamide und Polycarbonsäureanhydride, vernetzen;
- Ester von Poly-(vinylbenzoesäure), wie Polymere mit wiederkehrenden Gruppen
- die in Poly-(vinylbenzoesäure) unter Erhitzen in Gegenwart einer katalytischen Säuremenge übergehen;
- blockierte Poly-p-hydroxystyrole, wie diejenigen mit wiederkehrenden Gruppen
- die unter Erhitzen in Gegenwart einer katalytischen Säuremenge in Poly-p-hydroxystyrol übergehen;
- Ester der Polyacrylate und Polymethacrylate, wie diejenigen mit wiederkehrenden Gruppen
- die unter Erhitzen in Gegenwart einer katalytischen Säuremenge in Polyacryl- oder Polymethacrylsäure übergehen;
- Polycarbonate, wie diejenigen mit wiederkehrenden Gruppen
- die unter Erhitzen depolymerisieren; und
- Mischungen von Methacrylsäure-Methylmethacrylat-Copolymerem und Methacryloylchlorid-Methylmethacrylat-Copolymerem, die unter Erhitzen vernetzen;
- b11) positive Ionenstrahlenresiste, wie Poly-(methylmethacrylat), Poly-(methylvinylketon), Poly-(tert.-butylmethacrylat) und Poly-(butensulfon);
- b12) negative Ionenstrahlresiste, wie Poly-(vinylacetat), Poly-(vinylcinnamat), Poly-(methylsiloxan), Poly- (glycidylmethacrylat-co-ethylacrylat), Polystyrol, Poly-(4- chlorstyrol), Poly-(4-bromstyrol) und Novolak;
- b13) siliciumhaltige positive Resiste, wie Poly-(dimethylsiloxan), Poly-(phenylmethylsiloxan) und Siloxan-subst. - propylmethacrylate, wie
- ; und b14) siliciumhaltige negative Resiste, wie Copolymere von Trimethylsilylmethylstyrol mit Chlorstyrol, chlormethyliertes Poly-(diphenylsiloxan), bromiertes Poly-(1-trimethyl silylpropylen), Poly-(triallylphenylsilan) zusammen mit 2,6-Bis-(4'-azidobenzal) -methylcyclohexanon und Poly-(trimethylsilylmethylstyrol) in Kombination mit 1,2,4-Trichlorbenzol und 3,3'-Diazidodiphenylsulfon.
- Bevorzugte Komponenten (b) der vorliegenden Zusammensetzungen sind positive Resiste von b1), negative Resiste von b2), Photopolymere von b3), positive Tief-UV-Resiste von b4), negative Tief-UV-Resiste von b5) und chemisob und thermisch erzielbare Polymere von b10).
- Besonders bevorzugt sind Diazochinonresiste; bichromatierte Polymere, wie bichromatierte Gelatine, -Stärke, -Poly- (vinylalkohol), -Poly-(vinylpyrrolidon), -Poly-(vinylbutyral) und -Poly-(amidsäure);
- Polymere mit vernetzenden Gruppen in den Seitenketten, wie Poly-(vinylcinnamat), Poly-(vinylcinnamylidenacetat), Poly- (vinylalkohol), an die Chalkon oder Phenylendiacrylat geknüpft sind, und Polyester von p-Phenylendiacrylsäure (PPDA) mit Glykolen;
- Bis-azidresiste auf Basis von Poly-(cis-isopren) und. Bisazide, wie 2,6-Bis-(4-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon (ABC), 4,4'-Diazidostilben, 4,4'-Diazidobenzophenon und 4,4'-Diazidobenzolacton;
- wasserverarbeitbare Azidoresiste;
- reaktive Binder enthaltende Photopolymere, wobei die Binder beispielsweise ungesättigte Polymere, erhalten durch Kondensation von Malein- und Fumarsäure mit Glykolen, polyfunktionelle Acrylate und polyfunktionelle Prepolymere Sind;
- Poly-(tert.-butoxycarbonyloxystyrol) mit einem Oniumsalzsäuregenerator;
- Bis-azid-cyclisierte Kautschukzusammensetzungen, enthaltend 4,4'-Diazidodiphenylsulfid, und Bis-azid-poly-(vinylphenol)-Zusammensetzungen, enthaltend 3,3'-Diazidodiphenylsulfon;
- Poly-(p-hydroxystyrol) oder Novolake mit Melamin-Vernetzer gemeinsam mit Säurekatalysatoren, Estern von Poly-(vinylbenzoesäure), Poly-(acrylsäure) und Poly-(methacrylsäure) mit freisetzenden Gruppen, wobei diese Gruppen durch Erhitzen in Gegenwart von katalytischer Säure freigesetzt werden, und blockierte Poly-p-hydroxystyrole:
- Die vorstehend genannten Beispiele für geeignete Komponenten (b) der vorliegenden Zusammensetzungen sind aus dem Stand der Technik bekannt und werden z. B. in A. Reiser, Photoreaetive Polymers, John Wiley & Sons, 1989, beschrieben.
- Enthält die vorstehende Zusammensetzung weiterhin einen Katalysator, wird die Polymerstrukturierung und die Pigmentbildung erleichtert.
- Es ist daher bevorzugt, daß die vorstehende Zusammensetzung weiterhin (c) einen Katalysator für die positive oder negative Polymerstrukturierung und/oder Pigmentbildung aus dem vorstehenden (b) und (a) enthält.
- Der Katalysator (c) ist bevorzugt eine Säure, eine Base oder eine Verbindung, die selektiv eine spezifische Wellenlänge der elektromagnetischen Strahlung, z. B. im IR/NIR, absorbiert und insbesondere eine latente Säure oder Base.
- Beispiele für derartige latente Säuren sind z. B. diejenigen, die imstande sind, Säuren unter aktinischer Bestrahlung zu bilden, wie Oniumsälze, z. B. Diazonium-, Sulfonium-, Sulfoxonium- und Jodoniumsalze.
- Bevorzugt sind Sulfoniumsalze der Formel XVIII
- (Ar&sub1;)s(R&sub3;&sub0;)t(R&sub3;&sub1;)uS&spplus;X&supmin; (XVIII)
- worin beispielsweise
- Ar&sub1; Phenyl, Naphthyl oder Phenyl-COCH&sub2;-, welches unsubstituiert oder substituiert ist durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, -OH und/oder Nitro, bedeutet,
- R&sub3;&sub0; fur C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl oder C&sub3;&submin;&sub7;-Cycloalkyl steht,
- R&sub3;&sub1; Tetrahydrothienyl, Tetrahydrofuryl oder Hexahydropyryl darstellt,
- s für 0, 1, 2 oder 3 steht,
- t für 0, 1 oder 2 steht,
- u für 0 oder 1 steht, worin die Summe s + t + u 3 ausmacht, und
- X&supmin; ein Chlorid-, Bromid- oder Jodidanion, BF&sub4;&supmin;, PF&sub6;&supmin;,
- AsF&sub6;&supmin;, SbF&sub6;&supmin;, FSO&sub3;&supmin; oder das Anion einer organischen Sulfonsäure oder Carbonsäure ist.
- Bevorzugt sind Phenyl-, Naphthyl- und Phenacylgruppen Ar&sub1; einfach substituiert, insbesondere durch Cl, Br, Methyl, Methoxy, -OH oder Nitro. Bevorzugter sind diese Gruppen unsubstituiert. R&sub3;&sub0; ist vorzugsweise C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, insbesondere Methyl oder Ethyl. Vorzugsweise steht s für 2 oder 3, t für 1 oder 0 und u für 0, und bevorzugter steht s für 3 und t und u stehen für 0. Meist bevorzugt ist Ar&sub1; unsubstituiertes Phenyl und s steht für 3.
- Bedeutet X&supmin; das Anion einer organischen Sulfonsäure oder Carbonsäure, können Anionen von aliphatischen, cycloaliphatischen, carbocyclisch-aromatischen, heterocyclisch-aromatischen oder araliphatischen Sulfon- oder Carbowäuren verwendet werden. Diese Anionen können substituiert oder unsubstituiert sein. Sulfon- oder Carbonsäuren mit geringerer Nukleophilie, wie partiell oder perfluorierte Derivate oder Derivate, substituiert in der Nachbarposition der Säuregruppen, sind bevorzugt. Beispiele für Substituenten sind Halogen, wie Chlor oder bevorzugter Fluor, Alkyl, wie Methyl, Ethyl oder n-Propyl, oder Alkoxy, wie Methoxy, Ethoxy oder n-Propoxy.
- Beispiele aliphatischer Sulfonsäuren sind Methan-, Ethan-, n-Propan-, n-Butan- und n-Hexansulfonsäure oder die entsprechenden partiell- oder perfluorierten Derivate.
- Beispiele für aliphatische Carbonsäuren sind Ameisensäure, Essigsäure, Propionsäure, Buttersäure, Pivalinsäure, Capronsäure, 2-Ethylhexylcarbonsäure und Fettsäuren, wie Laurinsäure, Myristinsäure oder Stearinsäure, sowie partiell- oder perfluorierte Derivate dieser Säuren.
- Beispiele für cycloaliphatische Sulfonsäuren oder Carbonsäuren sind Cyclohexancarbonsäure, Campher-10-sulfonsäure oder deren partiell- oder perfluorierten Derivate.
- Beispiele für carbocyclisch-aromatische Sulfonsäuren sind Benzol-, Toluol-, Ethylbenzol-, Isopropylbenzol-, Dodecylbenzol- oder Dimethylbenzol-sulfonsäure, 2,4,6-Tritsopropylbenzolsulfonsäure, 2,4,6-Trimethylbenzolsulionsäure, Naphthalinsulfonsäure, -disulfonsäure oder -trisulfonsäure und die entsprechenden alkylierten oder partiell- oder perfluorierten Derivate dieser Sulfonsäuren.
- Beispiele für heterocyclisch-aromatische Sulfonsäuren sind Pyridin-, Thiophen- oder Pyrrolsulfonsäure und die entsprechenden partiell- oder perfluorierten Derivate dieser Verbindungen.
- Beispiele für carbocyclisch-aromatische Carbonsäuren sind Benzoesäure, Toluol-, Ethylbenzol-, Isopropylbenzol- oder Dimethylbenzol-carbonsäure, Naphthalincarbonsäure oder Anthracencarbonsäure und die entsprechenden partiell- oder perfluorierten Derivate dieser Verbindungen.
- Beispiele für heterocyclisch-aromatische Carbonsäuren sind Pyridin-, Thiophen- oder Pyrrolcarbonsäuren sowie die ent sprechenden partiell- oder perfluorierten Derivate dieser Verbindungen.
- Beispiele araliphatischer Carbonsäuren sind Benzylcarbonsäure, α-Methylbenzylcarbonsäure und Zimtsäure sowie die entsprechenden partiell- oder perfluorierten Derivate dieser Verbindungen.
- X&supmin; in vorstehender Formel XVIII ist bevorzugt das einwertige Anion einer organischen Sulfonsäure, insbesondere einer partiell- oder perfluorierten Sulfonsäure. Diese Anionen sind gekennzeichnet durch eine besonders niedrige Nukleophilie.
- Beispiele für besonders geeignete Sulfoniumsalze der Formel XVIII sind Triphenylsulfoniunbromid, Triphenylsulfoniumchlorid, Triphenylsulfoniumjodid, Triphenylsulfonium-hexafluorphosphat, Triphenylsulfonium-hexafluorantimonat, Triphenylsulfonium-hexafluorarsenat, Triphenylsulfonium-trifluormethansulfonat, Diphenylethylsulfoniumchlorid, Phenacyldimethylsulfoniumchlorid, Phenacyltetrahydrothiopheniumchlorid, 4-Nitrophenacyltetrahydrothiopheniumchlorid und 4-Hydroxy-2-methylphenylhexahydrothiopyryliumchlorid.
- Als Oniumverbindungen können Jodoniumsalze der Formel XIX
- (Ar&sub2;-J&spplus;-Ar&sub3;)X&sub1;&supmin; (XIX)
- verwendet werden, worin beispielsweise
- Ar&sub2; und Ar&sub3; jeweils unabhängig voneinander Phenyl oder Naphthyl, welches unsubstituiert oder substituiert ist durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, Halogen und/oder Nitro, bedeuten, oder Ar&sub2; und Ar&sub3; gemeinsam eine Gruppe der Formel
- bilden, worin R&sub3;&sub2; für C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, Halogen oder Nitro steht und Y eine direkte Bindung, -O-, -CH&sub2;- oder -CO- ist und
- X&sub1;&supmin; ein Chlorid-, Bromid- oder Jodidanion wiedergibt. Die Jodoniumsalze der Formel XIX sind beispielsweise in GB-A 1 539 192 beschrieben.
- Als für die Verwendung bei der vorliegenden Erfindung geeignete latente Säuren sind auch Verbindungen der Formeln XXI-XXYIII, die unter aktinischer Strahlung Sulfonsäure erzeugen:
- worin
- v für 1 oder 2, bevorzugt 1, steht,
- R&sub3;&sub3; Phenyl oder Naphthyl ist, das unsubstituiert oder substituiert ist durch 1-3-Cl, -Br, -CN, -NO&sub2;, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylthio, Phenoxy, Phenylthio, C&sub1;&submin;&sub4;- Alkylamino, C&sub2;&submin;&sub4;-Dialkylamino oder Benzoyl, insbesondere unsubstituiertes oder durch -Cl, Methyl oder Methoxp einfach substituiertes Phenyl,
- R&sub3;&sub4; für Wasserstoff oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl steht und
- R&sub3;&sub5; Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder Phenyl bedeutet oder
- R&sub3;&sub4; und R&sub3;&sub5; gemeinsam mit dem bindenden C-Atom einen Cyclopentan- oder Cycloheganring bilden,
- R&sub3;&sub6;, wenn-v für 1 steht, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl, Phenyl oder Naphthyl, das unsubstituiert oder substituiert ist durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, oder Cyclopentyl, Cyclohexyl oder Campheryl bedeutet und, wenn v für 2 steht, C&sub2;&submin;&sub8;-Alkylen oder Phenylen ist, R&sub3;&sub7; Phenyl oder Naphthyl, das unsubstituiert oder substituiert ist durch 1-3-Cl, -Br, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylthio, Phenyl, Phenoxy, Phenylthio, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl- CONH-, Benzoylamino oder Dimethylamino und insbesondere Phenyl, das unsubstituiert oder durch -Cl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, Methylthio oder Phenyl einfach substituiert ist, bedeutet, R&sub3;&sub8; für -OH oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl steht,
- R&sub3;&sub9; für C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder Phenyl steht,
- R&sub4;&sub0; Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, Furyl oder -CCl&sub3; ist, oder
- R&sub3;&sub9; und R&sub4;&sub0; gemeinsam mit dem bindenden C-Atom einen Cyclopentan- oder Cyclohexanring bilden,
- R&sub4;&sub1; und R&sub4;&sub2; unabhängig voneinander Phenyl, das unsubstituiert oder durch Halogen, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy substituiert ist, bedeuten,
- R&sub4;&sub3; für Wasserstoff oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl steht,
- R&sub4;&sub4;, wenn v für 1 steht, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl, Phenyl, Naphthyl oder Benzyl bedeutet und, wenn v für 2 steht, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkylen, Phenylen oder Xylylen ist,
- R&sub4;&sub5; Phenylen oder Naphthylen oder -CH=CH-, welches unsubstituiert oder substituiert ist durch Halogen, Nitro, C&sub1;&submin;&sub8;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylthio, bedeutet, R&sub4;&sub6;, wenn v für 1 steht, C&sub1;&submin;&sub1;&sub2;-Alkyl oder Phenyl, das unsubstituiert oder durch Halogen, Nitro, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder C&sub1;&submin;&sub4;- Alkoxy substituiert ist, bedeutet und, wenn v für 2 steht, C&sub2;&submin;&sub8;-Alkylen oder Phenylen ist,
- R&sub4;&sub7; Phenyl oder Naphthyl, das unsubstituiert oder durch Halogen, Nitro, -CN, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, Methoxy, Ethoxy, Dimethylamino oder Benzoyl substituiert ist, bedeutet und R&sub4;&sub8; jeweils unabhängig voneinander für C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl steht.
- Alkyl-, Alkoxy-, Alkylthio-, Alkylamino-, Dialkylamino-, Alkylcarbamoyl- und Alkylengruppen, wie vorstehend definiert, können geradkettig oder verzweigt, jedoch bevorzugt geradkettig sein. Halogen bedeutet insbesondere -Cl- oder -Br.
- Verbindungen der Formeln XXI-XXVI werden z. B. in EP-A 0 166 682 und EP-A 0 085 024 sowie den vorliegend zitierten Literaturstellen beschrieben. Besonders bevorzugte Verbindungen der Formeln XXI-XXVI sind Phenacyl-p-methylbenzolsulfonat, Benzoin-p-toluolsulfonat, 3-(p-Toluolsulfonyloxyj-2-hydroxy-2-phenyl-1-phenyl-1-propanon-[α-(p-toluolsulfonyloxy)-methylbenzoin], N-(p-Dodecylbenzolsulfonyloxy)-1,8-naphthalimid und N-(Phenylsulfonyloxy)-1,8-naphthalimid.
- Weitere geeignete Verbindungen für die Verwendung als latente Säure sind o-Nitrobenzaldehyde, die in o-Nitrobenzoesäure überführt werden können, wie 1-Nitrobenzaldehyd und 2,6-Dinitrobenzaldehyd; α-Halogenacetophenon, wie α,α,α- Trichloracetophenon und p-tert.-Butyl-α,α,α-trichloracetophenon, sowie Sulfonsäureester von o-Hydroxyacetophenonen, wie 2-Hydroxybenzophenon-methansulfonat und 2,4-Hydroxybenzophenon-bis-(methansulfonat).
- Schließlich sind solche Verbindungen, die aromatisch gebundenes Chlor oder Brom enthalten, wie in EP-A 0 318 649 beschrieben, z. B. Verbindungen der Formel XXIX mit zumindest einem aromatisch gebundenen Chlor- oder Bromatom, als latente Säuren geeignet:
- worin beispielsweise
- p für z. B. 0 oder 1 steht,
- R&sub4;&sub9; für -COOH, -OR&sub5;&sub2; oder -SR&sub5;&sub2; steht,
- R&sub5;&sub0; und R&sub5;&sub1; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff,
- -Cl, -Br, Alkyl, das substituiert sein kann durch Aryl, Alkoxy, Aryloxy, -OH oder -F, oder Aryl, das substituiert sein kann durch Alkoxy, Aryloxy, -OH oder Halogen, bedeuten,
- R&sub5;&sub2; Wasserstoff, Alkyl, Aryl oder Acyl, das analog zu R&sub5;&sub0; substituiert sein kann, bedeutet,
- A', wenn p für 0 steht, Wasserstoff, -Cl, -Br oder Alkyl, das analog zu R&sub5;&sub0; substituiert sein kann, darstellt, und, wenn p für 1 steht, dann -SO&sub2;-, Propylen oder Perfluoralkylen ist; und
- B' eine Gruppe
- Alkylcarbonyl, Alkoxycarbonyl oder substituiertes Sulfonylimidcarbonyl bedeutet.
- Beispiele für Verbindungen dieser Art sind Hexafluortetrabrom-bisphenol A, 1,1,1-Tris-(3,5-dibrom-4-hydroxyphenyl)- ethan und N-(2,4,6-Tribromphenyl)-N'-(p-toluolsulfonyl)- harnstoff.
- Als Verbindungen der latenten Säure sind diejeni gen der Formel XVIII, worin Ar&sub1; Phenyl ist, s für 3 steht und X&supmin; SbF&sub6;&supmin;, PF&sub6;&supmin; und insbesondere das Anion einer aliphatischen, partiellfluoraromatischen oder perfluoraromatischen Sulfonsäure wiedergibt, besonders bevorzugt. Besonders bevorzugte Anionen X&supmin; sind CF&sub3;SO&sub3;&supmin;, C&sub2;F&sub5;SO&sub3;&supmin;, n-C&sub3;F&sub7;SO&sub3;&supmin;, n-C&sub4;F&sub9;SO&sub3;&supmin;, n-C&sub6;F&sub1;&sub3;SO&sub3;&supmin;, n-C&sub8;F&sub1;&sub7;SO&sub3;&supmin;, Triphenylsulfonium-trifluormethansulfonat wird als latente Säure meist bevorzugt eingesetzt.
- Sind die bei der vorliegenden Erfindung zu verwendenden Katalysatoren latente Basen, dann sind diejenigen, die imstande sind, unter aktinischer Bestrahlung Basen zu bilden, bevorzugt.
- Als Beispiele für derartige bevorzugte latente Basen sind die Verbindungen der Formel XXX
- [CO(NR&sub5;&sub3;R&sub5;&sub4;R&sub5;&sub5;)&sub5;Z]²&spplus; (XXX)
- zu nennen, worin
- Co für das Kobalt(III)-ion steht,
- R&sub5;&sub3;, R&sub5;&sub4; und R&sub5;&sub5; jeweils unabhängig Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl oder C&sub3;&submin;&sub7;-Cycloalkyl bedeuten und
- Z für Halogen steht.
- Vorzugsweise sind R&sub5;&sub3;, R&sub5;&sub4; und R&sub5;&sub5; unabhängig geradkettiges C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl und Z steht für Cl oder Br.
- Weitere Beispiele für bevorzugte latente Basen sind diejenigen der Formel XXXI
- Ar&sub4;R&sub5;&sub6;OCONR&sub5;&sub7;R&sub5;&sub8; (XXXI)
- worin
- Ar&sub4; Phenyl oder Naphthyl, welches unsubstituiert oder substituiert ist durch 1-3-Cl, -Br, -CN, -NO&sub2;, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylthio, Phenoxy, Phenylthio, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylamino, C&sub2;&submin;&sub4;-Dialkylamino oder Benzoyl, bedeutet, R&sub5;&sub6; C&sub1;&submin;&sub6;-Alkylen, das unsubstituiert oder substituiert ist durch Halogen, -NO&sub2;, -CN, -OH, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, ist, R&sub5;&sub7; und R&sub5;&sub8; jeweils unabhängig Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl oder C&sub3;&submin;&sub7;-Cycloalkyl bedeuten.
- Vorzugsweise ist Ar&sub4; Phenyl, substituiert durch -Cl, Methyl, Ethyl, Propyl, Methoxy, Ethoxy, Propyloxy oder Nitro, R&sub5;&sub6; steht für Methylen, substituiert durch Methyl, Ethyl oder Propyl, und R&sub5;&sub7; und R&sub5;&sub8; sind unabhängig Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub4;- Alkyl oder C&sub5;&submin;&sub6;-Cycloalkyl.
- Bevorzugte Katalysatoren (c) der vorlesenden Zusammensetzungen sind Sulfoniumsalze.
- Besonders bevorzugt sind Triphenylsulfonium-trifluormethansulfonat und die Verbindungen
- und
- Die Zusammensetzung zur Ausbildung strukturierter Farbbilder gemäß der vorliegenden Erfindung werden im allgemeinen hergestellt durch einfaches Mischen der Komponenten (a), (b) und gegebenenfalls (c).
- Komponente (a) wird entsprechend der Farbe der regenerierten Pigmentpartikel ausgewählt.
- Das Harz, Polymere oder Prepolymere vom positiven oder negativen Resist-Typ der Komponente (b) sollte entsprechend der Art der gewünschten Farbbilder, d. h. der positiven Bilder oder negativen Bilder, und der auf die Zusammensetzung anzuwendenden Behandlung, d. h. Hitze, elektromagnetische Strahlung, wie UV-, sichtbare -, Elektronen-, Neutronen-, Laser- oder Röntgenbestrahlung oder einer Kombination hiervon, ausgewählt werden.
- Beispielsweise wird, wenn man positive Bilder durch Bestrahlung mit sichtbarem Licht erhalten möchte, eines der positiven Resiste, wie unter b1) angegeben, ausgewählt. Möchte man negative Bilder durch Röntgenbestrahlung erhalten, wird eines der negativen Röntgenstrahlenresiste, wie unter b9) angeben, ausgewählt. Möchte man negative Bilder durch Laserbestrahlung erhalten, wird eines der wärmehärtbaren Polymeren, wie eine Mischung von Methacrylsäure-methylmethacrylat- Copolymerem und Methacryloylchlorid-methylmethacrylat-Copolymerem, enthalten in chemisch oder thermisch erzielbaren Polymeren, wie in b10) angegeben, ausgewählt. Im letztge nannten Fall ist es bevorzugt, in das Polymere eine Verbindung mit einer Absorption bei der Wellenlänge des einfallenden Laserstrahls zuzugeben, um die optische Energie effektiv in thermische Energie zu überführen. Möchte man negative Bilder durch Anwendung einer Kombination von Wärme und elektromagnetischer Strahlung erzielen, wird ein System, wie ein solches, das Poly-p-hydroxystyrol mit einem Melamin-Vernetzer, wie unter b10) angegeben, ausgewählt. Die Wahl der anderen Harze, Polymeren oder Prepolymeren sollte analog erfolgen.
- Wird Komponente (c) nicht zugesetzt, werden die Komponenten (a) und (b) in einem Verhältnis von 0,01 : 99,99, bezogen auf Gewicht, bis zu 80 : 20, bezogen auf Gewicht, bevorzugt von 1 : 99, bezogen auf Gewicht, bis zu 70 : 30, bezogen auf Gewicht, insbesondere von 5 : 95, bezogen auf Gewicht, bis zu 60 : 40, bezogen auf Gewicht, und meist bevorzugt von 10 : 90, bezogen auf Gewicht, bis zu 50 : 50, bezogen auf Gewicht, kompoundiert.
- Wird Komponente (c) zugesetzt, wird das Kompoundierungsverhältnis zwischen den Komponenten (a) : (b) : (c) derart ausgewählt, daß es von 0,01 : 99,98 : 0,01, auf Gewicht bezogen, bis zu 75 : 5 : 20, auf Gewicht bezogen, bevorzugt von 1,00 : 98,90 : 0,10, auf Gewicht bezogen, bis zu 70 : 15 : 15, auf Gewicht bezogen, und insbesondere von 5 : 94 : 1, bezogen auf Gewicht, bis zu 60 : 30 : 10, bezogen auf Gewicht, und meist bevorzugt von 10 : 88 : 2, auf Gewicht bezogen, bis zu 50 : 42 : 8, auf Gewicht bezogen, beträgt.
- Vorzugsweise ist die Komponente (c) in der Zusammensetzung enthalten.
- Die vorstehend hergestellten Zusammensetzungen werden vorzugsweise mit einem Lösungsmittel verdünnt, um eine einfache Beschichtung auf einem geeigneten Substrat zu ermöglichen.
- Beispiele für geeignete Lösungsmittel sind Ether, wie Tetrahydrofuran und Dioxan; Glykolether, wie Ethylenglykolmethylether, Ethylenglykol-ethylether, Diethylenglykolmonomethylether und Diethylenglykol-monoethylether; aprotische Lösungsmittel, wie Acetonitril, Benzonitril, N,N- Dimethylformamid, N,N-DimethylaGetoamid, Nitrobenzol, N- Methylpyrrolidon, halogenierte aliphatische oder aromatische gohlenwasserstoffe, wie Trichlormethan, Benzol, unsubstituiert oder substituiert mit Alkyl, Alkoxy oder Halogen, wie Toluol, Xylol, Anisol und Chlorbenzol, und aromatische N-Heterocyclen, wie Pyridin, Picolin und Chinolin; Alkohole, wie Methanol, Ethanol und Diacetonalkohol; Carboxylate und Lactone, wie Propylencarbonat, Ethylacetat, Methylpropionat, Ethylbenzoat, γ-Butyrolacton und γ-Valerolacton; Sulfoxide, wie Dimethylsulfoxid; Sulfone, wie Dfliethylsulfon und Diethylsulfon; sowie Ketone, wie Dimethylketon, Methylethylketon und Cyclohexanon und andere; Wasser kann für die wasserlöslichen Komponenten, wie Poly-(vinylalkohol), eingesetzt werden.
- Die erfindungsgemäße Zusammensetzung wird bevorzugt mit einem der vorstehenden Lösungsmittel oder einer Mischung hiervon derart verdünnt, daß ihr Feststoffgehalt zwischen 1 und 90 Gew.-%, bevorzugt zwischen 5 und 80 Gew.-%, insbesondere zwischen 10 und 70 Gew.-% und meist bevorzugt zwischen 20 und 60 Gew.-%, bezogen auf die Lösung, liegt.
- Die vorstehend hergestellte Lösung, welche die erfindungsgemäße Zusammensetzung enthält, wird im allgemeinen über einem geeigneten Substrat angewandt, welches einer elektromagnetischen Bestrahlung, wie sichtbare -, UV-, Laser- oder Röntgenbestrahlung, oder einer Elektronen- oder Neutronenbestrahlung und/oder Erhitzen und gegebenenfalls einer Entwicklung unter Verwendung geeigneter Entwickler unterzogen wird, um Farbbilder für die optische und ther mische Aufzeichnung zu bilden oder Farbfilter für LCDs zu erzeugen.
- Ein weiterer Aspekt der vorliegenden Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Farbmustern oder -bildern, worin die Muster oder Bildschicht mit unlöslichem Pigment, welches lokal aus seinem löslichen Vorläufer regeneriert wird, gefärbt wird, beinhaltend die folgenden Stufen
- (1) Ausbildung einer Polymerschicht, die den gelösten Pigmentvorläufer enthält, unter Verwendung einer Zusammensetzung, welche die Komponenten (a), (b) und gegebenenfalls (c) enthält, und
- (2) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische, photolytische oder thermische Maßnahmen, durch Laser oder andere Strahlenquellen.
- Die Bezeichnung "Ausbildung einer Polymerschicht", wie in Stufe (1) des vorstehenden Verfahrens angegeben, soll eine Schicht umfassen, die die gesamte Oberfläche des Substrats bedeckt, sowie eine Schicht, die lediglich bestimmte Bereiche des Substrats bedeckt, wobei die Schicht bildweise bzw. musterweise aufgebracht wird.
- Ein vorteilhafter Weg, das Pigment in Stufe (2) zu regenerieren, ist der durch Lasermarking.
- Die Herstellung der vorstehenden Zusammensetzung in Stufe (1) wird wie in dem vorangegangenen Text beschrieben durchgeführt.
- Als Methoden für die Ausbildung von Polymermuster- oder -bildschichten sind verschiedene Techniken bekannt, wie die Photolithograghie, Stoßdruck, wie Siebdruck, Tiefdruck, Flexodruck und Offsetdruck, stoßfreier Druck, wie Tintenstrahldruck, thermischer Farbdiffusionstransfer, Lasermarking, Elektroabscheidung, etc.
- Bei der Photolithographie wird die vorstehende Zusammensetzung über einem geeigneten Substrat mit Hilfe einer bekannten Methode, wie Rotationsbeschichtung, Sprühen, Tauchbeschichten oder ähnliches, aufgebracht, gefolgt von einer Anwendung einer elektromagnetischen Bestrahlung, wie UV-, sichtbare -, Elektronen-, Neutronen- oder Röntgenbestrahlung, und, wenn erforderlich, Wärme.
- Die Art der anzuwendenden elektromagnetischen Bestrahlung wird entsprechend dem Harz, dem Polymeren oder Prepolymeren der in der Zusammensetzung enthaltenen Komponente (b) ausgewählt.
- Ist das Harz, Polymere oder Prepolymere der Komponente (b) ein positiver oder negativer Resist, dann wird UV- oder sichtbares Licht verwendet. Ist das Harz, Polymere oder Prepolymere der Komponente (b) ein negativer oder positiver UY-Resist, wird UV-Licht verwendet. Ist das Harz, Polymere oder Prepolymere der Komponente (b) ein positiver oder negativer Röntgenresist, wird Röntgenstrahlung verwendet. Ist das Harz, Polymere oder Prepolymere der Komponente (b) ein positiver- oder negativer Elektronenresist, wird Elektronen- oder Neutronenstrahlung verwendet. Ist das Harz, Polymere oder Prepolymere der Komponente (b) ein photopolymerisierbares System, wird UV- oder sichtbares Licht verwendet.
- Die obige Bestrahlung wird mit üblicherweise angewandter Energie und Dosis durchgeführt, und erforderlichenfalls anschließend Hitze angewandt.
- Die Bestrahlung mit elektromagnetischem Licht, wie UV- oder sichtbares Licht, oder Röntgenstrahlung oder mit Teilchenstrahlen, wie Elektronen- oder Neutronenstrahlen, erfolgt über eine geeignete Maske oder über ein geeignetes Muster, um die gewünschten strukturierten Farbbilder zu erzielen.
- Einzelheiten derartiger Masken oder Muster werden z. B. in A. Reiser, Photoreactive Polymers, John Wiley & Sons, New York, 1989, beschrieben.
- Wird Laser als UV- oder sichtbare Lichtquelle verwendet, ist keine Maske erforderlich, da eine Musterung durch Scannen des Laserlichts (Direct Overwrite Technique) erreicht wird.
- Beim Schlagdruck und Tintenstrahldruck wird die vorstehende Zusammensetzung auf ein Substrat mit Hilfe eines Siebtransfers, Flexotransfers, Offsettransfers, Gravuretransfers oder durch Tintenstrahl, gefolgt durch Anwendung elektromagnetischer Strahlung, wie UV-, sichtbare -, Elektronen-, Neutronen- oder Röntgenbestrahlung, transferiert. Die Kriterien für die Wahl der elektromagnetischen Bestrahlung sind die gleichen wie vorstehend. Bei diesen Methoden ist keine Maske oder Muster notwendig, da die Zusammensetzung auf das Substrat entsprechend den vorgegebenen Mustern übertragen wird. Erforderlichenfalls wird nach Belichtung mit elektromagnetischer Bestrahlung Wärme angewandt.
- Beim Flexodruck, Tiefdruck und Offsetdruck ist es auch möglich, die Zusammensetzung nach der Härtung zu transferieren. Bei diesem Verfahren wird die Zusammensetzung auf eine Decke oder ähnliches vor dem Transfer einer elektromagnetischen Bestrahlung, wie vorstehend, ausgesetzt und hiernach auf das Substrat übertragen. Da die Zusammensetzung bei diesem Verfahren gehärtet wird, erhält man eine Polymermuster- oder -bildschicht mit scharfen Bildkanten. Es ist bevorzugt, daß das Substrat mit einem haftenden Polymeren beschichtet wird, so daß die gehärtete Zusammensetzung einfach transferiert werden kann.
- Bei der Elektrobeschichtung wird die vorstehende Zusammensetzung durch Elektrophoresen oder durch mizellare Abscheidung auf der Oberfläche einer gemusterten ITO(Indium-Zinn- Oxid)-Elektrode, die auf der Oberfläche eines Substrats ausgebildet ist, übertragen, gefolgt von der Anwendung elektromagnetischer Bestrahlung, wie vorstehend. Die Wahl der elektromagnetischen Bestrahlung erfolgt auf gleiche Weise wie vorstehend. Erforderlichenfalls wird nach Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung Wärme angewandt.
- Stufe (2) erfolgt durch Anwendung chemischer Maßnahmen, von Wärme oder elektromagnetischer Bestrahlung, wie UV-, sichtbare -, Elektronen-, Neutronen-, Laser oder Röntgenstrahlung oder einer Kombination hiervon, auf die vorstehend hergestellte Polymermuster-oder -bildschicht. Vorzugsweise wird Laserstrahlung in Stufe (2) angewandt, was die meist bevorzugte Alternative für computergeleitetes Lasermarking ist.
- Zu diesem Zweck wird in Stufe (1) ein Substrat mit der vorstehenden Zusammensetzung unter Anwendung von Drehbeschichtung, Tauchbeschichtung oder Sprühbeschichtung oder ähnlichem beschichtet, worauf die Anwendung von elektromagnetischer Strahlung, wie UV-, sichtbare -, Elektronen-, Neutronen- oder Röntgenstrahlung, jedoch ohne Verwendung einer Maske oder eines Musters erfolgt, um das in der Zusammensetzung enthaltene Harz, Polymere oder Prepolymere homogen zu härten, woraufhin Stufe (2) unter Anwendung des vorstehenden Lasers folgt. Die Wahl der geeigneten elektromagnetischen Strahlung wird in gleicher Weise wie vorstehend beschrieben vorgenommen. Erforderlichenfalls wird nach Belichten mit elektromagnetischer Strahlung Hitze angewandt.
- Ist das in der Zusammensetzung enthaltene Harz, Polymere oder Prepolymere der Komponente (b) thermisch härtbar, ist eine gleichzeitige Ausbildung von Mustern auf dem Substrat und eine lokale Regenerierung des Pigments aus dessen Vorläufer beispielsweise unter Verwendung eines NIR-Lasers möglich. Es ist bevorzugt, daß ein Absorber für nahes Infrarot in der vorstehenden Zusammensetzung enthalten ist, so daß die Laserquantenenergie wirksam in thermische Energie umgewandelt wird. Obgleich keine Entwicklungsstufe erwähnt wird, kann sie entsprechend der Anwendung zugefügt werden, wie bei der Anwendung zur Erzeugung von Farbfiltern für LCDs. In einem derartigen Fall werden üblicherweise eingesetzte Entwickler und Verfahren angewandt.
- Nach Bestrahlen mit elektromagnetischem Licht oder Teilchenstrahlen oder Anwendung von Wärme oder chemischer Maßnahmen in Stufe (2) werden Pigmentteilchen von Nanogröße in situ gebildet, begleitet von einer drastischen Farbänderung, so daß eine Bildung von Strukturfarbbildern auf Pigmentbasis mit einer Auflösung von 0,5/um möglich ist.
- Die vorstehend beschriebene Methode verfügt über einen weiten Anwendungsbereich und kann daher verschiedenartig auf optischen und thermischen Druck und optische und thermische Aufzeichnung sowie auf die Herstellung von Farbfiltern für LCDs oder ähnliches unter hoher Transparenz, hohem Kontrastverhältnis, höher Farbreinheit und -stärke, hoher Musterauflösung und Bildpräzision ohne(Farbstoff)Farbvermischung, ohne Verstopfen der Siebe während der Reinigung von Farb/- Polymermischungen, unter Erzielung einer glatten Bildoberfläche, höherer Registrationsgenauigkeit, höherer Schärfe der Bildkanten, höherer thermischer, chemischer und Lichtstabilität und unter einfacher Herstellung von ultradünnen Filmen angewandt werden.
- Darüber hinaus kann, da die erfindungsgemäßen Pigmentvorläufer im allgemeinen fluoreszierend sind, ein Ablesen der aufgezeichneten Information nicht nur auf Basis des regenerierten Pigments, sondern auch auf Basis von Fluoreszenzveränderungen der Pigmentvorläufer und des in der bildbildenden Schicht verbleibenden regenerierten Pigments erzielt werden, was einen breiteren Anwendungsbereich der vorliegenden Erfindung eröffnet.
- Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren vorgesehen zur Herstellung eines Farbfilters für LCDs, das die Stufe der Musterfärbung eines transparenten, leitenden oder nichtleitenden Substrats mit unlöslichen Pigmentteilchen umfaßt, die lokal aus löslichen Vorläufern gebildet werden, welche bereits in die Musterschicht eingebracht worden sind.
- Die vorstehende Methode umfaßt im allgemeinen die folgenden Stufen:
- (1) die Ausbildung einer Polymerschicht, enthaltend den gelösten Pigmentvorläufer, auf einem transparenten Substrat unter Verwendung einer Zusammensetzung, die die Komponenten (a), (b) und gegebenenfalls (c) umfaßt, und
- (2) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische, photolytische oder thermische Maßnahmen oder durch Laser oder andere Strahlungsquellen oder eine Kombination hiervon; und
- (3) die dreimalige Wiederholung der vorstehenden Stufen (1)-(2) mit verändertem Pigmentvorläufer, so daß gefärbte Muster von Blau, Grün und Rot erhalten werden.
- Da die Herstellung von Farbfiltern für LCDs ein Verfahren zur Erzeugung von strukturierten Farbbildern umfaßt, kann das vorstehend beschriebene Verfahren für die Erzeugung von gefärbten Mustern oder Bildern direkt angewandt werden, wobei man jedoch dreimal mit veränderten Pigmentvorläufern wiederholt, um Farbmuster von Blau, Grün und Rot auC dem gleichen Substrat zu erzielen.
- Die Stufen (1) und (2) sind die gleichen wie diejeni gen des Verfahrens zur Erzeugung von gefärbten Mustern oder Bildern.
- Demzufolge können die Photolithographie, der Stoßdruck, wie Siebdruck, Flexodruck, Tiefdruck und Offsetdruck, der stoßfreie Druck, wie die Elektroabscheidung, der Tintenstrahldruck, Lasermarking und andere Techniken, für die Ausführung der Methode angewandt werden. Eine bevorzugte Ausführungsform ist die Herstellung von Farbfiltern für LCDs via Lasermarking.
- Die Photolithographie umfaßt ein einschichtiges Verfahren und ein doppelschichtiges Verfahren.
- Bei einem einschichtigen Verfahren wird beschichtetes ITO (Indium-Zinn-Oxid) als vorstehendes transparentes Substrat mit der Zusammensetzung, wie vorstehend, welche den Vorläufer für blaues, grünes oder rotes Pigment und einen Resist enthält, beschichtet, woran sich eine elektromagnetische Bestrahlung durch eine geeignete Maske oder durch ein geeignetes Muster anschließt, um die Strukturmusterung in Stufe (1) zu erzielen. In Stufe (2) wird die Pigmentregenerierung aus dem Pigmentvorläufer durchgeführt, und sofern nötig, wird der Teil der Zusammensetzung, in dem das Pigment nicht regeneriert worden ist, unter Anwendung eines geeigneten Entwicklers entfernt. Bei den Stufen (1) und (2) wird ein mosaik- oder streifenartiges gefärbtes Muster erhalten. Dieses Verfahren wird dreimal mit wechselndem Pigmentvorläufer wiederholt, um ein Farbfilter von blauer, grüner und roter Farbe zu erzeugen.
- Bei dem doppelschichtigen Verfahren wird beschichtetes ITO als transparentes Substrat mit der vorstehenden Zusammensetzung, welche den Vorläufer für blaues, grünes oder rotes Pigment und ein wärmehärtendes Prepolymeres enthält, überzogen, wobei dieses weiter mit einem farblosen Resist überzogen wird, woran sich eine elektromagnetische Bestrahlung durch eine geeignete Maske oder ein geeignetes Muster anschließt, um die Strukturmusterung in Stufe (1) zu erzielen. In Stufe (2) werden die Pigmentregenerierung aus dem Pigmentvorläufer und die Vernetzung des pigmentierten Prepolymeren durchgeführt, und die Deckresistschicht wird unter Anwendung eines geeigneten Entwicklers entfernt. Bei den Stufen (1) und (2) erhält man ein mosaik- oder streifenartig gefärbtes Muster. Dieses Verfahren wird dreimal mit wechselndem Pigmentvorläufer wiederholt, so daß man ein Farbfilter für blaue, grüne und rote Farbe erzeugt.
- Bei der Stoßdruckmethode wird die Zusammensetzung wie vorstehend in dem gewünschten Muster auf das transparente Substrat transferiert, welches einer elektromagnetischen Bestrahlung oder Wärme ausgesetzt wird, um die Strukturhärtung in Stufe (1) zu erzielen. Hier erfordert, wenn die Zusammensetzung vor dem Transfer in den Tiefdruck, Flexodruck oder Offsetdruck überführt wird, die Zusammensetzung keine Belichtung mit elektromagnetischer Strahlung. Die Pigmentregenerierung wird in Stufe (2) durchgeführt, bei der keine Entwicklung erforderlich ist, da das ITO mit der Zusammensetzung lediglich an den gewünschten Stellen beschichtet ist. Dieses Verfahren wird dreimal mit wechselndem Pigmentvorläufer wiederholt, um ein Farbfilter für blaue, grüne oder rote Farbe zu erzeugen.
- Bei dem Lasermarkingdruck wird das transparente Substrat mit der Zusammensetzung wie vorstehend beschichtet, und erforderlichenfalls schließt sich hieran eine Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung oder eine Anwendung von Wärme in Stufe (1) an. Die Pigmentregenerierung in Stufe (2) wird erzielt unter Verwendung einer computergesteuerten Laservorrichtung. Wenn das Harz, Polymere oder Prepolymere, das in der Zusammensetzung enthalten ist, ein thermisch härtbares Harz ist, ist eine gleichzeitige Mu sterbildung und Regenerierung des Pigments in Stufe (1) und (2) möglich. Das Verfahren wird dreimal mit wechselndem Pigmentvorläufer wiederholt, so daß man ein Farbfilter für Blau, Grün und Rot herstellt.
- Bei der Elektrobeschichtungsmethode wird die Zusammensetzung wie vorstehend auf die Oberfläche von gemustertem ITO als vorstehendes transparentes Substrat durch Elektrophorese, mizellare Abscheidung oder ähnliches überführt, woran sich eine Behandlung mit elektromagnetischer Strahlung oder Wärme in Stufe (1) anschließt. Die Pigmentregenerierung erfolgt in Stufe (2), bei der eine Entwicklung nicht nötig ist. Dieses Verfahren wird dreimal mit wechselndem Pigmentvorläufer wiederholt, um ein Farbfilter für Blau, Grün und Rot herzustellen.
- Um die gewünschte Bildbildung zu erreichen, kann es bei bestimmten Anwendungen unnötig sein, die vorstehende Komponente (b) der vorliegenden Zusammensetzung zu verwenden. In derartigen Fällen kann jedes bekannte organische Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht als Komponente (b') eingesetzt werden, wobei das Bindermaterial die Funktion einer geeigneten Fixierung der augenblicklichen Komponente (a) des löslichen Pigmentvorläufers auf dem Substrat erfüllt, auf dem ein gefärbtes Muster oder Bild erzeugt werden sollte.
- Demzufolge ist ein weiterer Gegenstand der Erfindung ein Verfahren zur Ausbildung von gefärbten Mustern oder Bildern, das die folgenden Stufen umfaßt:
- (1) die Ausbildung einer Polymerschicht, die eine gelöste Pigmentvorläuferkomponente (a), ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls einen Katalysator (c), wie vorstehend definiert, enthält, und
- (2) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische, photolytische oder thermische Maßnahmen oder durch Laser- oder andere Strahlenquellen.
- Beispiele für geeignete organische Bindermaterialien mit hohem Molekulargewicht sind Polymere auf Basis von Vinylverbindungen, wie Polystyrol, Poly-α-methylstyrol, Polyp-Methylstyrol, Poly-p-hydroxystyrol, Poly-p-hydroxyphenylstyrol, Polyacrylate, wie Poly-(methylacrylat), Poly- (acrylamid) und die entsprechenden Methacrylverbindungen, Poly-(methylmaleat), Poly-(acrylnitril), Poly-(methacrylnitril), Poly-(vinylchlorid), Poly-(vinylfluorid), Poly- (Vinylidenchlorid), Poly-(vinylidenfluorid), Poly-(vinylacetat), Poly-(vinylalkohol), Poly-(methylvinylether) und Poly-(butylvinylether);
- Polyester, wie insbesondere Polyethylenterephthalat, Polycarbonate, Polyolefine, wie Polyethylen und Polypropylen, und Polyalkadiene, wie Polybutadien;
- oder, Copolymere von zwei oder mehreren dieser Verbindungen, wie ABS oder Poly-(vinylchlorid/vinylacetat/vinylalkohol);
- Novolake, abgeleitet von einem C&sub1;&submin;&sub6;-Aldehyd, z. B. Formaldehyd und Acetaldehyd, und einem zweikernigen, bevorzugt einkernigen, Phenol, das gegebenenfalls durch ein oder zwei C&sub1;&submin;&sub9;-Alkylgruppen, durch ein oder zwei Halogenatome oder durch einen Phenylkern substituiert sein kann, wie o-,m- oder p-Cresol, Xylenol, p-tert.-Butylphenol, o-, m- oder p-Nonylphenol, p-Chlorphenol oder p-Phenylphenol, oder diejenigen mit mehr als einer phenolischen Gruppe, wie Resorcin, Bis-(4-hydroxyphenyl)-methan oder 2,2-Bis-(4-hydroxyphenyl)-propan;
- Polymere, gebildet aus Maleümiden und/oder Maleinsäureanhydriden, z. B. Copolymere aus Maleinsäureanhydrid und Styrol;
- Poly-(vinylpyrrolidon);
- Biopolymere und ihre Derivate, wie Cellulose, Stärke, Chitin, Chitosan, Gelatine, Zein, Cellulosederivate, z. B. Ethylcellulose, Nitrocellulose, Celluloseacetat und Cellulosebutylat;
- und natürliche und synthetische Harze, wie Kautschuk, Wachse, Casein, Silicon, Siliconharze, Harnstoff- und Melamin-Formaldehydharze, Alkydharze, Phenolharze, Polyamide, Polyaramide, Polyimide, Polyamid/Imide, Polysulfone, Polyether, wie Polyphenylenoxide, Polybutyral, Polyethersulfone, Polyurethane, Polyharnstoffe, Polyarylene, Polyarylensulfide, Epoxyharze, wie Polyepoxide.
- Bevorzugte Bindermaterialien (b') sind Polymere auf Basis von Yinylverbindungen, Novolaken, Biopolymeren, Polyimiden, Polyestern, Polycarbonaten, Polybutyral und Mischungen hiervon.
- Es gibt zwei verschiedene Wege, um die Stufe (1) der Ausbildung einer Polymerschicht, enthaltend die gelöste Pigmentvorläuferkomponente (a), ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls (c), durchzuführen. Ein Weg ist z. B. die Verwendung einer Zusammensetzung, die sämtliche der gewünschten Komponenten enthält. Ein weiterer besteht darin, eine Receiverschicht herzustellen, die keinen Pigmentvorläufer (a) enthält, auf die der Pigmentvorläufer (a) hiernach aufgebracht wird, z. B. durch Tintenstrahl einer den Pigmentvorläufer (a) enthaltenden Farbe oder vorzugsweise durch thermischen Farbstoffdiffusionstransfer aus einem Donormaterial, das den Pigmentvorläufer (a) enthält.
- Der thermische Farbstoffdiffusionstransfer stellt eine Technologie dar, die nicht zu verwechseln ist mit den Technologien, die basieren auf Beizen oder chemischer Reaktivi tät, wo Silberverbindungen (wie bei der gegenwärtigen Photographie, bei der eine thermische Entwicklung eingeschlossen sein kann) oder Farbbildner (z. B. Lactone, die einen reaktiven Partner - gewöhnlich eine Säure oder ein Phenol - in dem Receiver benötigen) eine Rolle spielen, obgleich Wissenschaftler noch hinsichtlich der Terminologie unterschiedlicher Meinung sind oder diese inkorrekt gebrauchen. Eine Beschreibung ist z. B. auffindbar in Spec. Publ. -R. Soc. Chem. 133/Seiten 73-85 (1993), Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng. 1912/Seiten 252-260 (1993), Nippon Shashin Gakkaishi 55(6)/Seiten 456-464 (1992), Journal of Imaging Technology 16.(6)/Seiten 238ff (1990) und vielen anderen Publikationen.
- Das Prinzip des thermischen Farbdiffusionstransfers ist das folgende: Eine dünne Donorschicht (gewöhnlich 1 bis 10 um), enthaltend den Farbstoff, wird mit einem Receivermaterial in Kontakt gebracht, wonach Wärme auf eine derartige Weise erzeugt wird, daß die gewünschte Farbstoffmenge zu den ausgewählten Zielbereichen transferiert wird. Dies kann erreicht werden durch einfaches Erhitzen eines breiten Bereichs, jedoch werden gewöhnlich elektronisch kontrollierte thermische Bereichsfronten verwendet, die sich quer über die rückwärtige Oberfläche des Donors bewegen. Alternativ kann ein Lichtblitz hoher Intensität (EP-391303, EP-529362) durch ein Sieb oder eine Laserquelle [Proc. SPIE - Int. Soc. Opt. Eng. 1912/5. 261ff (1993)] verwendet werden; bevorzugt wird ein auf den Donor fokussierter Laserstrahl als Energiequelle eingesetzt; in diesem Fall, enthält die Donorschicht bevorzugt IR-Farbstoffe, die das Licht in Wärme umwandeln, ist der Laser ein IR-Laser (wie in EP-529561), und es können extrem hohe Auflösungen erhalten werden.
- Somit ist ein thermischer Farbstoffdiffusionstransfer ist ein gänzlich trockenes Verfahren vollständig unter elektronischer Kontrolle, was, wie gewünscht, zu kontinuierlichen oder Volltonbildern in mosaikartigen Bildmustern führt, so wie es für elektronische Photographie-Printouts, Farbausdrucke und insbesondere für Farbfilter für LCDs gefordert wird.
- Die vorliegenden löslichen Pigmentvorläufer (a) sind dafür bekannt, daß sie sich thermisch bei Temperaturen unterhalb 200ºC zersetzen, z. B. beginnt N,N'-Bis-tert.-butoxycarbonyl-1,4-diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol sich bei 150ºC (Peak bei 175ºC) zu zersetzen und ist vollständig in 1,4-Diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3, 4-c]pyrrol in weniger als 10 min bei 180ºC umgewandelt. Bei dem thermischen Farbdiffusionstransfer steigt die Temperatur deutlich über den Glasübergangspunkt des Receivers; in der Praxis arbeiten Printer bei Temperaturen oberhalb 230ºC, und typischerweise erreicht die Oberfläche des Wärmekopfes 350ºC. Somit hätte man erwarten müssen, daß sich beim Drucken die Pigmentvorläufer (a) innerhalb des Donors zersetzen würden, was ihren Transfer zu dem Receiver inhibieren würde; in höchstem Maße überraschend wurde jedoch nun gefunden, daß sie thermisch transferiert werden können ohne irgendeine sichtbare Zersetzung.
- Demzufolge betreffen weitere Gegenstände der Erfindung Verfahren zur Herstellung von Farbmustern oder -bildern, die die folgenden Stufen beinhalten:
- (1) die Ausbildung einer Polymerschicht, die eine gelöste Pigmentvorläuferkomponente (a), ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls (c) enthält, und
- (2) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische, photolyti sche oder thermische Maßnahmen oder durch Laser oder andere Strahlungsquellen,
- wobei Stufe (1) erzielt wird durch:
- - Ausbilden einer Polymerschicht, die den gelösten Pigmentvorläufer enthält, unter Verwendung einer Zusammensetzung, die Komponente (a) und (b') ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht und gegebenenfalls (c) enthält, - (1a) die Ausbildung einer Polymerschicht, die ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls (c) enthält, anschließend (1b) Tintenstrahlen einer Farbe, die einen Pigmentvorläufer (a) enthält, auf die Polymerschicht in ausgewählten Zielbereichen, oder - (1a) die Ausbildung einer Polymerschicht, die ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls (c) enthält, dann (1b) Überlagern einer Donorschicht, die einen Pigmentvorläufer (a) und ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') enthält, auf die Polymerschicht, (1c) das lokale Erhitzen der Donorschicht, um den Pigmentvorläufer in ausgewählte Zielbereiche zu transferieren, und (1d) die Entfernung der Donorschicht aus der Receiverschicht.
- Sämtliche der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen für die Verwendung der vorliegenden Komponenten (a) bei einem Verfahren zur Erzeugung von Farbmustern oder -bildern erstrecken sich auch auf die entsprechende Methode, bei der Komponenten (b') anstelle der Komponenten (b) verwendet werden.
- Sämtliche vorstehend beschriebenen Ausführungsformen für die Verwendung der vorliegenden Komponenten (b) bei einem Verfahren zur Erzeugung von Farbmustern oder -bildern erstrecken sich im allgemeinen auch auf die entsprechende Methode, bei der Komponenten (b') anstelle der Komponenten (b) verwendet werden, solange als die Zusammensetzungen von Stufe (1) hergestellt werden durch Ausbilden einer Po lymerschicht, die einen gelösten Pigmentvorläufer enthält, unter Verwendung einer Zusammensetzung, umfassend Komponente (a) und (b') ein organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht und gegebenenfalls (c).
- Werden die Zusammensetzungen der Stufe (1) durch Tintenstrahl einer Farbe, welche einen Pigmentvorläufer (a) enthält, auf einer Polymerschicht in ausgewählten Zielbereichen hergestellt, ist vorzugsweise die Polymerschicht Poly-(vinylalkohol) und die Farbe umfaßt 0,5 bis 10% des Pigmentvorläufers(a) in hydrophilem Lösungsmittel; meist bevorzugt besteht die Farbe im wesentlichen aus 1 bis 5% Pigmentvorläufer (a) in einer polaren Lösungsmittelmischung, umfassend Ethylenglykol oder Diethylenglykol.
- Werden die Zusammensetzungen von Stufe (1) durch thermischen Farbdiffusionstransfer aus einer Donorschicht, die einen Pigmentvorläufer (a) enthält, auf eine Polymerschicht in ausgewählte Zielbereiche hergestellt, ist das Receiverpolymer bevorzugt Polyester, Poly-(vinylchlorid/- vinylacetat), Polycarbonat oder eine Mischung hiervon, enthält die Donorschicht 1 bis 10% des Pigmentvorläufers (a) in einem unterschiedlichen Binder und sind die für die Donor- und Receiverschichten verwendeten Binder verschieden; meist bevorzugt, wird die Receiverpolymerschicht als eine 10- bis 20 gew.%ige Lösung aufgetragen und enthält 0,1 bis 5 Gew.-% oberflächenaktive Mittel, und besteht der Binder des Donors im wesentlichen aus Polybutyral oder Cellulosederivaten. Weitere Einzelheiten, betreffend die bevorzugten chemischen Zusammensetzungen von Donor und Receiver, sind Spezialisten gut bekannt und sind Gegenstand zahlreicher Patente und anderer Veröffentlichungen (wie in EP-507734 und EF-508954). Der Donor kann des öfteren wiederverwendet werden, und die relative Bewegung des Donors und Receivers kann variiert werden, z. B. um die Farbintensität zu erhöhen. Gewöhnlich wird der Donor un mittelbar nach der Transferstufe abgeschält, jedoch kann es in einigen Fällen zweckmäßig sein, ihn partiell oder vollständig durch chemische Auflösung zu entfernen.
- Die gelöste Pigmentvorläuferkomponenten (a), organische Bindermaterialien mit hohem Molekulargewicht (b) und gegebenenfalls (c) enthaltenden polymeren Schichten besitzen ähnliche Eigenschaften wie Harze, Polymere oder Prepolymere vom positiven oder negativen Resist-Typ (b) nach Strukturierung und können austauschweise eingesetzt werden.
- Demzufolge betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung eines Farbfilters für LCDs einschließlich der Stufe der Musterfärbung eines transparenten, leitenden oder nichtleitenden Substrats mit unlöslichen Pigmentpartikeln, die lokal erzeugt werden aus löslichen Vorläufern, die bereits in die Musterschicht eingebracht worden sind.
- Die vorstehende Methode umfaßt im allgemeinen die folgenden Stufen:
- (1) die Ausbildung einer Polymerschicht, die eine gelöste Pigmentvorläuferkomponente (a), in organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls (c) enthält,
- (2) die dreimalige Wiederholung der vorstehenden Stufe (1) mit wechselndem Pigmentvorläufer, so daß gefärbte Muster von Blau, Grün und Rot in Stufe (3) erhalten werden, und
- (3) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische, photolytische oder thermische Maßnahmen oder durch Laser oder andere Strahlung oder eine Kombination hiervon.
- 27,94 g Di-tert.-butyldicarbonat werden in drei Portionen im Abstand von 1 Stunde zu einer Mischung von 3,23 g 4-Dimethylaminopyridin und 14,75 g 1,4-Diketo-3,6-diphenylpyrrolo[3,4-c]pyrrol in 500 ml über Molekularsieben getrocknetes Tetrahydrofuran gegeben. Die entstandene rote Suspension wird 2 Stunden bei Raumtemperatur in trockener Atmosphäre bis zur Erzielung einer grünen Lösung gerührt. Das Lösungsmittel wird unter vermindertem Druck verdampft und der gelbe Rückstand mit 5% wäßriger Natriumbicarbonatlösung und mit Wasser gewaschen und hiernach unter Vakuum getrocknet. Man erhält 24,5 g N,N'-Bis-tert.-butoxycarbonyl-1,4-diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol (DPP-BOC).
- ¹H-NMR (δ,CDCl&sub3;): 1,40 (s,18H); 7.48-7.50 (m,6H); 7.75 (d,4H)
- Eine Formulierung, enthaltend 2,00 g Poly-p-hydroxystyrol (PHM-C, Maruzen), 0,80 g N,N'-Bis-tert.-butoxycarbonyl-1,4- diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo [3,4-c]pyrrol (BOC-DPP) von Beispiel 1A, 466 mg eines Melaminvernetzers (Cymel 303), 106 mg i-line-Photosäurebildner 4-Methoxy-α-((((4-methylphenyl)-sulfonyl)-oxy)-imino)-benzolacetonitril, wie nachstehend gezeigt, und 8,00 g Cyclopentanon, wird hergestellt (Formulierung 1). i-line-.Photosäurebildner
- Eine weitere Formulierung, enthaltend 2,00 g Poly-p-hydroxystyrol (PHM-C, Maruzen), 472 mg frischvennahlenes, dispergiertes 1,4-Diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol, 466 mg Melaminvernetzer (Cymel 303), 106 mg i-line-Photosäurebildraer, wie vorstehend, und 8,00 g Cyclopentanon, wird als Vergleichsbeispiel (Formulierung 2) hergestellt.
- Eine jede der vorstehenden Formulierungen wird auf ein 76 mm (3 inch) Siliconblättchen oder ein 25 mm (1 inch) Quarzblättchen bei einer Umdrehung von 4000 U/min drehbeschichtet, woran sich ein Trocknen auf einer heißen Platte bei 100ºC während 60 Sekunden anschließt. Die aus Formulierung 1 erhaltenen Filme sind klar und hellgelb gefärbt und zeigen eine glatte Oberfläche, während die aus Formulierung 2 erhaltenen Filme trübe sind und eine rauhe Oberfläche zeigen. Die aus beiden Formulierungen 1 und 2 erhaltenen Filme werden bestahlt, wobei man eine Quecksilberdampflampe durch ein 365 nm Interferenzfilter und eine Chrom-Quarzmaske bei einer Leistung von 50 mJ/cm² verwendet. Die Filme werden dann auf der heißen Platte 60 Sekunden bei 120ºC erhitzt und 20 Sekunden in OPD 262 (2,38% wäßrige Lösung von Tetramethyl-ammoniumhydroxid) entwickelt. Die Filme aus Formulierung 1 werden anschließend 15 bis 120 Sekunden bei 150 bis 200ºC erhitzt (Probe A: 30 s bei 170ºC, Probe B: 30 s bei 195ºC und Probe C: 120 s bei 150ºC).
- Die Strukturierung ist für beide Formulierungen 1 und 2 möglich. Während jedoch die Filme aus Formulierung 1 eine Strukturierung ohne jeglichen Rückstand ermöglichen und eine so hohe Auflösung wie von 0,5 um erlauben, läßt Formulierung 2 keine rückstandsfreie Auflösung von höher als 50 um zu.
- Die Farbintensität der Filme aus Formulierung 1 und 2 ist ähnlich. Während jedoch die Filme aus Formulierung 1 bei visueller Betrachtung klar sind, sind diejenigen aus Formulierung 2 trüb. Weiterhin wird durch das Rasterelektronenmikroskop in den Filmen der Formulierung 1 kein Pigmentcluster festgestellt.
- Zusätzlich ist es möglich, eine Vielzahl überlappender Filmschichten zu bilden, bei denen keine Wechselwirkung der oberen neuen Schicht mit der bereits existierenden unteren Schicht festgestellt wird.
- Die vorstehende Formulierung 1 wird auf eine Siliconscheibe drehbeschichtet und getrocknet, wodurch ein Film mit einer Dicke von 1,4 Mikron erhalten wird. Dieser Film wird dann linienförmig unter Verwendung eines Argonlasers bei 364 nm (Abstand: 85 mm, Energie: 0,30 nW und bestrahlte Fläche je Sekunde: 0,6 mm²) bestrahlt, 1 Minute bei 120ºC erhitzt, in einer 2,38% wäßrigen Tetramethyl-ammoniumhydroxid-Lösung entwickelt und schließlich 1 Minute bei 170ºC erhitzt.
- Ein roter Film bleibt in den Positionen, die mit dem Laser überschrieben werden, und die anderen Zonen werden durch den Entwickler entfernt. Die Auflösung liegt in der Größenordnung von 20 um.
- Eine Lösung, bestehend aus 2,00 g Polystyrol (Aldrich, MW = 280 000), 500 mg N,N'-Bis-tert.-butoxycarbonyl-1,4-diketo- 3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol Avon Beispiel 1A und 125 mg Triphenylsulfoniumtriflat, gelöst in 10 g Cyclopentanon, wird auf ein 25 mm (1 inch) Quarzblättchen drehbeschichtet. Nach Trocknen während 60 Sekunden bei 100ºC erhält man einen homogenen Film mit einer Dicke von 1,2 um. Dieser Film wird bildweise durch eine Chrom-Quarzmaske (30 mJ/cm², 254 nm) bestrahlt und hiernach 60 Sekunden bei 130ºC erhitzt, wodurch eine intensiv rote Färbung an den zuvor bestrahlten Zonen erscheint, womit sich das Fluoreszenzverhalten verändert. Das so erhaltene Fluoreszenzmuster: besitzt eine Auflösung von so hoch wie 0,5 um. Im Gegensatz hierzu wird in den nichtbestrahlten Zonen keine Veränderung beobachtet, d. h. der Film bleibt hellgelb.
- Eine Lösung analog zu der Formulierung 1 von Beispiel 1B wird hergestellt, worin Butoxycarbonyl-modifizierter Indigo, wie nachstehend gezeigt, anstelle von N,N'-Bis-tert.-butoxycarbonyl-1,4-diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol verwendet wird.
- Nach Drehbeschichten eines Quarzblättchens mit einer Dicke von 1,2 um wird ein orangefarbener Film erhalten. Die Verarbeitung erfolgt analog zu dem vorstehend für Diketopyrrolopyrrol beschriebenen Verfahren. Die bestrahlte Resistzone ist blaugefärbt und bleibt auf dem Substrat nach der Entwicklung.
- Eine thermische Aufzeichnungsfolie wird hergestellt durch Gießen eines 200 um dicken Films, bestehend aus einer Lösung von 2,0 g Polystyrol, 200 mg BOC-DPP und 100 mg Dibenzylphenylsulfoniumhexafluoroantimonat, gelöst in 5 g Chlorbenzol, auf eine 3M PP 2500-Projektionsfolie. Nach 6stündigem Trocknen an der Luft ist der das latente Pigment enthaltende Polystyrolfilm etwa 70 um dick und klebefrei. Die thermische Aufzeichnungsfolie wird hiernach mit einem Argonlaser (15 mm außerhalb des Fokus, 488 nm einzeln, 100 mW) mit einer Schreibgeschwindigkeit von 100, 50 und 25 mm/s bestrahlt. Bei sämtlichen Geschwindigkeiten wird ein klar sichtbares, orangefarbenes Bildunmittelbar nach der Laserbeschriftung erzeugt. Die Intensität der orangen Farbe hängt von der Schreibgeschwindigkeit des Lasers ab und ist bei der geringsten Geschwindigkeit am intensivsten.
- Eine thermische Aufzeichnungsfolie wird analog zu Beispiel 5 hergestellt, jedoch mit einem Film, der das Sulfoniumsalz nicht enthält. Diese Folie wird mit einem Argonlaser (im Fokus, 488 nm einzeln, 100 mW, 50 mm/s) bestrahlt. Die mit dem Laser bestrahlten Zonen werden unmittelbar nach der Laserbeschriftung orange
- Eine Formulierung, bestehend aus 1,8 g Novolak (28% p- Cresol, 78% m-Cresol, Mn = 1700, Mw = 8895), 0,24 g Melamin-Vernetzer (Cymel 303), 0,50 g Bisphenol-A, 65 mg Photosäurebildner aus Beispiel 1 und 0,70 g latentes Pigment LPR 177, gelöst in 8,4 g Cyclopentanon, wird hergestellt.
- Die Formulierung wird drehbeschichtet auf einem 7,5 · 7,5 cm Glassubstrat vom Corning 7059-Typ (2000 U/min) und 60 Sekunden auf einer Heizplatte bei 100ºC getrocknet. Der entstandene Film wird mit einer Dosis von 30 mJ/cm² wie in Beispiel 1B bestrahlt. Der Film wird dann 60 Sekunden auf der Heizplatte bei 120ºC erhitzt und anschließend 60 Sekunden in 1 N wäßrigem NaOH-Entwickler entwickelt, wobei er Strukturen hinterläßt, die ein negatives Tonbild der Maske erzeugen. Das die Mikromuster enthaltende Glassubstrat wird schließlich 2 Stunden bei 150ºC gebrannt, wobei man zu hochtransparenten Mikromustern von roter Farbe gelangt.
- Eine Formulierung wird hergestellt durch Auflösen von 1,0 g eines Copolymeren von Methacrylsäure und Benzylmethacrylat (erhalten durch Polymerisation, induziert durch freie Radikale (AIBN, Toluol, 20 Stunden bei 70ºC, Mn = 8500, Mw = 35 000) der entsprechenden Monomeren), 0,7 g flipentaerythrit-monohydroxy-pentaacrylat (SR 399 der Sartomer Inc.), 0,2 g LPR 177 und 0,1 g Irgacure 369 (Ciba-Geigy Inc.), gelöst in 7 ml 1-Methoxy-2-propylacetat. Die Formulierung wird auf 25 mm (1 inch) Quarzblättchen drehbeschichtet und 60 Sekunden bei 100ºC auf einer Heizplatte getrocknet. Die entstandenen Filme werden wie in Beispiel 1 mit einer Dosis von 70 mJ/cm² belichtet und dann 60 Sekunden in OPD 262- Entwickler entwickelt, wobei man zu Mikromustern gelangt, die ein negatives Bild der Maske bilden. Die Quarzblättchen werden dann 2 Stunden bei 150ºC erhitzt, was zu gefärbten Mikrostrukturen führt.
- Eine Formulierung wird analog Beispiel 7 hergestellt, jedoch wird latentes Pigment LPV 353 anstelle von LPR 177 verwendet, und die Materialien werden in 12 ml Cyclopentanon gelöst. Diese Formulierung wird auf die gleiche Weise wie in Beispiel 7 für die Bilderzeugung eingesetzt, was zu Mikromustern mit violetter Farbe führt.
- 0,07 g 4-Dimethylaminopyridin werden zu einer Mischung von 0,37 g C. I. Pigment Yellow 139 und. 1,64 g Di-tert.-butyldicarbonat in 20 ml N,N-Dimethylformamid, welches über Molekularsieben getrocknet worden ist, gegeben. Die entstandene orangefarbene Suspension wird 7 Tage bei Raumtemperatur gerührt, dann in 60 ml Wasser unter Kühlung gegossen und 30 Minuten gut gerührt. Der rohe Filtrationsrückstand wird mit 10 ml Methanol behandelt und zur Entfernung unlöslicher Bestandteile filtriert. 50 ml Wasser werden hiernach dem Filtrat zugesetzt. Der Niederschlag wird gesammelt und bei Raumtemperatur unter Vakuum getrocknet. Man erhält 0,50 g Produkt, das aus einer Mischung der Komponenten der idealisierten Formel (LPY 139) besteht.
- Aufgrund der thermogravimetrischen Analyse (plötzlicher Gewichtsverlust bei 180ºC) beträgt die Anzahl an tert.-Butoxycarbonylgruppen 4,3, was die gewünschte partielle Reaktion veranschaulicht.
- Analog Beispiel 7 stellt man eine Formulierung her und verarbeitet sie, wobei jedoch das Rohprodukt aus Beispiel 10A anstelle von LPR 177 verwendet wird, was nach der letztendlichen Brennstufe bei 150ºC während 2 Stunden zu Mikrostrukturen von gelber Farbe führt.
- Eine Formulierung wird analog Beispiel 7 hergestellt und verarbeitet, wobei man jedoch 1,1 g LPY 139 und 1,1 g LPV 353 anstelle von 2,2 g LPR 177 verwendet, was nach der letztendlichen Brennstufe bei 150ºC während 2 Stunden zu Mikromustern von violetter Farbe führt.
- Eine Formulierung, bestehend aus 1,6 g Polystyrol (Aldrich, 18,242-7, Mw = 280 000), 0,4 g BOC-DPP, 0,1 g Triphenylsulfoniumtriflat und 8,0 g Cyclopentanon, wird hergestellt. Diese Formulierung wird auf ein 25 mm (1 inch) Quarzblättchen drehbeschichtet (2500 U/min) und 1 Minute auf einer Heizplatte bei 100ºC getrocknet, was zu einem homogenen gelben Film führt. Dieses Blättchen wird hiernach durch eine Maske analog Beispiel 1 bestrahlt und schließlich 2 Minuten bei 135ºC erhitzt. Die Zonen des Films, die bestrahlt worden sind, verändern sich zu Rot, wohingegen die nichtbestrahlten Zonen gelb bleiben, was zu Farbmustern mit hoher Auflösung (Submikrometerauflösung) der Maske in dem Film führt.
- Filme auf Quarzscheiben wurden analog Beispiel 12 hergestellt. Diese Filme wurden mit einem Laser analog Beispiel 5 bestrahlt (Lasergeschwindigkeit 250 mm/s) und dann 1 Minute bei 135ºC getempert. Analog zu Beispiel 12 veränderten sich die bestrahlten Zonen in Rot, wohingegen die nichtbestrahlten Zonen gelb blieben.
- Die folgenden Substanzen werden in eine 5 ml Pillenflasche eingebracht:
- 500 mg (R)Vylon 600 linearer Polyester mit hohem Molekulargewicht (Toyobo)
- 25 mg (R)KF-393 Amino-modifiziertes Silicon (Shinetsu)
- 25 mg (R)X-22-343 Epoxy-modifiziertes Silicon(Shinetsu)
- 55 mg p-Toluolsulfonsäure saurer Katalysator
- 1531 mg Methylethylketon p. a. (Merck)
- 1531 mg Toluol p. a. (Merck)
- Die Flasche wird mit einem Polyethylenstöpsel verschlossen und dann 14 Stunden mechanisch bei Raumtemperatur (20 bis 25ºC) gerührt. Die erhaltene Lösung wird dann mit einem 24 um Zugstab auf einen Film aus weißem Polyethylenterephthalat (R)U-6 (Teijin) mit einer Geschwindigkeit von 12 cm/s gegossen.
- Die frischen Güsse werden 24 Stunden bei 20 bis 25ºC getrocknet, hiernach 30 Minuten in einem Ofen bei 150ºC erhitzt; schließlich werden Rechtecke von 110 · 132 mm aus den zentralen Bereichen herausgeschnitten, um unmittelbar bedruckbare Receiverfolien zu erhalten.
- 116 mg N,N'-Bis-tert.-butoxycarbonyl-1,4-diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol und 105 mg Poly-(vinylbutyral) werden in 1,35 g Toluol, 1,35 g Methylethylketon und 100 mg Ethanol in einer 5 ml Pillenflasche, die mit einem Polyethylenstöpsel verschlossen ist, 14 Stunden durch mechanisches Rühren bei Raumtemperatur (20 bis 25ºC) gelöst. Die erhaltene Lösung wird dann mit einem 12 um Ziehstab auf einen 6 um dicken Film aus wärmebeständigem, transparentem Polyethylenterephthalat mit einer linearen Geschwindigkeit von 12 cm/s gegossen. Die frischen Güsse werden danach 3 Minuten bei 50ºC und. 5 Minuten bei 80ºC getrocknet, dann werden Rechtecke von 103 · 190 mm aus den zentralen Bereichen herausgeschnitten und mit einem Klebeband in (R)SV-100 (Kodak) Farbdruckkassetten anstelle der ursprünglichen gelben Filmteile montiert, um ein druckbereites Donorband zu ergeben.
- Drucke mit gleichmäßig gefärbten gelben Bereichen entsprechend den relativen Druckintensitäten 0 (minimale Dichte), 26, 51, 77, 102, 128, 153, 179, 204, 230 und 255 (maximale Dichte) werden dann auf einen (R)SV-6550 Farb-Video-Drucker (Kodak) unter Verwendung des Receivers und Donors, wie vorstehend beschrieben, hergestellt. Zu diesem Zweck werden digital gespeicherte Bilder verwendet.
- Die optische Dichte "DO" der hellgelben Stufen-Keilmuster, welche erhalten werden, wird auf einem (R)TR924 Macbeth- Densitometer durch Reflexionsmessungen mit Status A-Filtern (blaue, grüne und rote Kanäle) bestimmt. Die CIELABkolorimetrischen Koordinaten werden auf einem (R) Elrepho 2000 D65/10º Datacolor)-Instrument gemessen.
- Der Flecken maximaler Intensität hat eine blaue Reflexionsdichte von 1,08, eine grüne Reflexionsdichte von 0,02 und kolorimetrische Koordinaten von L· = 101,40, a· = 28,2 und b· = 87,3.
- Der gelbe Druck von Beispiel 14A wird allmählich auf letztendlich 150ºC während 15 Minuten erhitzt. Man beobachtet eine Farbänderung in Orange-Rot. Der Flecken maximaler Intensität hat eine blaue Reflexionsdichte von 0,56, eine grüne Reflexionsdichte von 0,82 und kolorimetrische Koordinaten von L· = 65,95, a· = 47,6 und b· = 9,3.
- Die Proben werden hinsichtlich ihrer Ausbleichbeständigkeit durch Bestrahlung unter einem Glasfenster in einem Atlas Ci35 mit einer Lichtintensität von 80 kLux getestet, bis das gewünschte Bestrahlungsenergieniveau von xx kJ/cm² erreicht ist. Hiernach wird die optische Dichte D für den blauen, grünen und/oder roten Kanal bestimmt, und das Verhältnis [(D&sub0;-Dxx)/(D&sub0; · 0,01)] wird verwendet, um den Grad des Ausbleichens -DD (D&sub0;) in % bei gegebener Anfangsdichte D&sub0; vor dem Belichten zu bestimmen.
- Der nichterhitzte gelbe Druck von Beispiel 14A und der orange-rote Druck von Beispiel 14B, für weitere 15 Minuten auf 150ºC erhitzt, werden bestrahlt, bis das Belichtungsenergieniveau von 60 kJ/cm² erreicht ist. Der gelbe Druck von Beispiel 14A bleicht fast sofort und vollständig aus (-DD (0,5) = 96%), während der orange-rote Druck von Beispiel 143 sich fast augenblicklich in Rot verändert, wie Rückstände von N,N'-Bis-tert.-butoxycarbonyl-1,4-diketo- 3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol verblassen, hiernach sich nicht mehr signifikant verändert (-DD (0,5) aufgrund der ausgezeichneten Lichtbeständigkeit der transparenten 1,4-Diketo-3,6-diphenyl-pyrrolo[3,4-c]pyrrol-Pigmentform.
- Man nimmt Stabbeschichtungen wie in Beispiel 14A, jedoch mit (R)UCAR VAGH (Union Carbide) Vinylharz anstelle von (R)Vylon-600 Polyesterharz, vor. Die trockenen Güsse werden 15 Minuten bei 120ºC in einem Ofen erhitzt und wie vorstehend geschnitten, um druckbereite Receiverfolien zu erhalten. Hiernach stellt man Drucke her unter Verwendung von identischem Donor und Druckbedingungen wie in Beispiel 14A. Man erhält hellgelbe Stufen-Keilmuster.
- Der gelbe Druck von Beispiel 15A wird 25 Minuten bei 120ºC erhitzt. Eine Farbänderung in Orange-Rot wird wie in Beispiel 14A beobachtet.
- Man geht analog zu Beispiel 14 vor, mit dem Unterschied, daß die Proben direkt 25 Minuten bei 150ºC mit den nachstehend angegebenen Formulierungen und den nachstehend gezeigten Ergebnissen erhitzt werden.
- Man geht analog Beispiel 15 mit den nachstehend gezeigten Formulierungen und unter Erzielung der nachstehend aufgeführten Ergebnisse vor.
Claims (1)
1. Zusammensetzung für die Herstellung strukturierter
Farbbilder, umfassend
(a) einen löslichen Pigmentvorläufer und
(b) ein Harz, Polymeres oder Prepolymeres vom positiven
oder negativen Resist-Typ, das durch Vernetzung,
Polymerisation oder Depolymerisation unter Anwendung von Wärme oder
elektromagnetischer Strahlung strukturiert werden kann,
worin der lösliche Pigmentvorläufer (a)
- im Verlauf von seiner Einbringung in das Harz gelöst wird,
- mit Hilfe einer chemisch-, thermisch-, photolytisch- oder
strahlungsinduzierten Methode in ein Pigment übergeführt
werden kann, das in dem strukturierten Farbbild unlöslich ist,
und
- wiedergegeben wird durch Formel I
A(B)x (I),
worin
x für eine Zahl von 1 bis 4 steht,
A der Rest eines Farbgebers der Chinacridon-, Anthrachinon-,
Perylen-, Indigo-, Chinophthalon-, Isoindolinon-,
Isoindolin-, Dioxazin-, Diketopyrrolopyrrol- oder Azo-Reihe ist,
der an x Gruppen B über N-Atome gebunden ist, wobei diese
Stickstoffe Teil von A sind,
B eine an A gebundene Gruppe ist, dargestellt durch die
Formeln
oder
wobei in den Formeln II, III und IV
m, n und p unabhängig voneinander 0 oder 1 bedeuten,
X für C&sub1;&submin;&sub1;&sub4;-Alkylen oder C&sub2;&submin;&sub8;-Alkenylen steht,
Y eine Gruppe -V-(CH&sub2;)q- darstellt,
Z eine Gruppe -V-(CH&sub2;)r- wiedergibt,
V für C&sub3;&submin;&sub6;-Cycloalkylen steht,
q eine Zahl zwischen 1 und 6 ist,
r eine Zahl zwischen 0 und 6 ist,
R&sub1; und R&sub2; unabhängig voneinander Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl,
C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy, Halogen, CN, NO&sub2;, Phenyl oder Phenoxy, welche
unsubstituiert oder substituiert sind durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl,
C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy oder Halogen, bedeuten,
Q Wasserstoff, CN, Si(R&sub1;)&sub3;, eine Gruppe C(R&sub5;)(R&sub6;)(R&sub7;),worin
R&sub5;, R&sub6; und R&sub7; jeweils unabhängig Wasserstoff oder Halogen
bedeuten und zumindest einer der Reste R&sub5;, R&sub6; und R&sub7;
Halogen ist,
eine Gruppe
worin R&sub1; und R&sub2; die vorstehend angegebene Bedeutung haben,
eine Gruppe SO&sub2;R&sub8; oder SR&sub8;, worin R&sub8; für C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl steht,
eine Gruppe CH(R&sub9;)&sub2;, worin R&sub9; Phenyl bedeutet, welches
unsubstituiert oder substituiert ist durch C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-
Alkoxy oder Halogen, oder
eine Gruppe der Formel
bedeutet und R&sub3; und R&sub4; jeweils voneinander unabhängig
Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl oder eine Gruppe
bedeuten, worin X, Y, R&sub1;, R&sub2;, m und n
die vorstehend angegebene Bedeutung besitzen, oder R&sub3; und
R&sub4; gemeinsam mit dem Stickstoff, an den sie gebunden sind,
einen Pyrrolidinyl-, Piperidinyl- oder Morpholinylrest
bilden,
und worin A(B)x zusätzliche Gruppen
=N-, -NH- oder
-NH&sub2; enthalten können.
2. Zusammensetzung für die Herstellung strukturierter
Farbbilder, umfassend
(a) einen löslichen Pigmentvorläufer und
(b') ein organisches Bindematerial mit hohem
Molekulargewicht (bt),
worin der lösliche Pigmentvorläufer (a)
- im Verlauf von seiner Einbringung in besagtes Harz
gelöst wird,
- mit Hilfe einer chemisch-, thermisch-, photolytisch-
oder strahlungsinduzierten Methode in ein in diesem
strukturierten Farbbild unlösliches Pigment übergeführt werden
kann und
- durch Formel I gemäß Anspruch 1 wiedergegeben wird,
mit der Maßgabe, daß infolge eines Einwirkens von
aktinischer Strahlung dieses Bindermaterial nicht unlöslich
gemacht, gehärtet, weniger klebfähig oder in einem
Lösungsmittel, das den nichtexponierten Binder nicht löst,
löslich gemacht wird.
3. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1 oder 2, worin x
für 1 oder 2 steht und B eine Gruppe der Formel
ist und wenn x für 2 steht, einer der Reste B auch
Wasserstoff sein kann, wobei in den Formeln IV, V und VI m für
0 oder 1 steht,
X für C&sub1;&submin;&sub4;-Alkylen oder C&sub2;&submin;&sub5;-Alkenylen steht,
R&sub1; und R&sub2; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub4;-
Alkyl, Methoxy, Chlor oder NO&sub2; bedeuten, und
Q Wasserstoff, CN, CCl&sub3;, eine Gruppe SO&sub2;
SO&sub2;CH&sub3; oder SCH&sub3; ist, und
R&sub3; und R&sub4; in Formel IV unabhängig voneinander Wasserstoff,
C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl oder eine Gruppe
bedeuten
oder R&sub3; und R&sub4; gemeinsam mit dem Stickstoffatom, an das
sie gebunden sind, einen Piperidinylrest bilden.
4. Zusammensetzung gemäß den Ansprüchen 1 oder 2,
worin x für 2 steht und B eine Gruppe der Formel
darstellt.
5. Zusammensetzung gemäß den Ansprüchen 1 oder 2, worin
die Verbindung der Formel I
ist, worin D Wasserstoff, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl, Phenyl, Benzyl oder
Phenetyl, die unsubstituiert oder substituiertsind durch
Halogen oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkyl, bedeutet oder die gleiche
Bedeutung wie B besitzt und B eine Gruppe wie in Anspruch 3
definiert ist; oder
worin die Verbindung der Formel I ein Chinacridon der
Formel
ist, worin R&sub1;&sub0; und R&sub1;&sub1; jeweils unabhängig voneinander
Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy oder Phenyl
bedeuten und E für Wasserstoff oder für B steht, mit der
Maßgabe, daß zumindest R&sub2;&sub5; und R&sub2;&sub6; jeweils unabhängig
voneinander Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub1;&sub8;-Alkoxy oder
-CN bedeuten,
R&sub2;&sub7; und R&sub2;&sub8; jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff,
Halogen oder C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl bedeuten,
R&sub2;&sub9; Wasserstoff oder C&sub1;&submin;&sub6;-Alkyl ist und
E für Wasserstoff oder für B steht, mit der Maßgabe, daß
zumindest ein E für B steht.
6. Zusammensetzung gemäß Anspruch 5, worin die
Verbindung der Formel I unter denjenigen der Formeln
oder Mischungen hiervon
ausgewählt ist, worin E für -C(=O)-O-C(CH&sub3;)&sub3; steht und
worin R&sub1;&sub0; und R&sub1;&sub1; jeweils unabhängig voneinander
Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub5;-Alkyl oder C&sub1;&submin;&sub4;-Alkoxy bedeuten und
worin R&sub2;&sub3; und R&sub2;&sub4; Wasserstoff, Halogen, C&sub1;&submin;&sub5;-Alkyl, C&sub1;&submin;&sub4;-
Alkoxy, Phenyl oder Cyano bedeuten.
Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, worin die
Komponente(b), das Harz, Polymere oder Prepolymere vom positiven
oder negativen Resist-Typ eines ist, ausgewählt unter
positiven Resisten, negativen Resisten, Photopolymeren,
positiven Tief-UV-Resisten, negativen Tief-UV-Resisten,
positiven Elektronenresisten, negativen Elektronenresisten,
positiven Röntgenstrahlenresisten, negativen
Röntgenstrahlenresisten, chemisch oder thermisch erstellbaren
Polymeren, positiven Ionenstrahlresisten, negativen
Ionenstrahlresisten, siliciumhaltigen positiven Resisten und
siliciumhaltigen negativen Resisten.
8. Zusammensetzung gemäß Anspruch 1, die zusätzlich zu
den Komponenten (a) und (b) auch (c) einen Katalysator für
die positive oder negative Polymerstrukturierung und/oder
einen Katalysator für die Pigmentbildung, bevorzugt einen
sauren oder basischen Katalysator, insbesondere einen
latenten sauren oder basischen Katalysator, umfaßt, meist
bevorzugt, worin dieser Katalysator ein Oniumsalz, ein
Diazonium-, Sulfonium-, Sulfoxonium- oder Jodoniumsalz ist.
9. Verfahren zur Herstellung gefärbter Muster oder
Bilder, das die folgenden Stufen umfaßt:
(1) die Bildung einer Polymerschicht, die den gelösten
Pigmentvorläufer enthält, unter Verwendung einer
Zusammensetzung von Anspruch 1 und
(2) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem
vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische,
photolytische oder thermische Maßnahmen, durch Laser oder andere
Strahlungsquellen.
10. Verfahren gemäß Anspruch 9, worin die Stufe (1)
durchgeführt wird mit Hilfe einer Maßnahme, ausgewählt
unter Photolithographie, Siebdruck, Tiefdruck, Flexodruck,
Offsetdruck, Farbspritzdruck und Elektroabscheidung, und/-
oder worin in Stufe (2) das Pigment lokal aus dem
löslichen Vorläufer durch Lasermarking regeneriert wird.
11. Verfahren zur Herstellung von farbigen Mustern oder
Bildern, umfassend die folgenden Stufen:
(1) Ausbildung einer Polymerschicht, die eine gelöste
Pigmentvorläuferkomponente (a), ein organisches
Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls
einen Katalysator (c), wie in Anspruch 8 definiert,
enthält, und
(2) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem
vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische,
photolyti
sche oder thermische Maßnahmen oder durch Laser oder
andere Strahlungsquellen,
mit der Maßgabe, daß infolge einer Belichtung mit
aktinischer Strahlung das Bindermaterial nicht unlöslich gemacht,
erhärtet, weniger klebrig gemacht oder in einem
Lösungsmittel löslich gemacht wird, welches den nichtexponierten
Binder nicht löst.
12. Verfahren gemäß Anspruch 11, worin Komponente (b')
Polystyrol, Poly-(vinylalkohol) ist oder worin Komponente
(b') Polyester,
Poly-(vinylchlorid/vinylacetat)-polycarbonat oder eine Mischung hiervon ist.
13. Verfahren gemäß Anspruch 11, worin Stufe (1)
durchgeführt wird durch
(1a) Ausbilden einer Polymerschicht, die ein
organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und
gegebenenfalls (c) enthält, hiernach
(1b) Farbaufspritzen einer einen Pigmentvorläufer (a)
enthaltenden Farbe auf die Polymerschicht in ausgewählten
Zielbereichen.
14. Verfahren gemäß Anspruch 11, worin Stufe (1)
durchgeführt wird durch
(1a) Ausbilden einer Polymerschicht, die ein
organisches Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und
gegebenenfalls (c) enthält, hiernach
(1b) Überlagern mit einer Donorschicht, die einen
Pigmentvorläufer (a) und ein organisches Bindermaterial mit hohem
Molekulargewicht (b') enthält, auf die Polymerschicht,
(1c) lokales Erhitzen der Donorschicht, um den
Pigmentvorläufer in ausgewählte Zielbereiche zu transferieren, und
(1d) die Entfernung der Donorschicht aus der
Receiverschicht.
15. Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters für
LCDs, umfassend die folgenden Stufen
(1) die Ausbildung einer Polymerschicht, die den
gelösten Pigmentvorläufer enthält, auf einem Substrat unter
Verwendung einer Zusammensetzung gemäß Anspruch 1,
(2) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem
vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische,
photolytische oder thermische Maßnahmen oder durch Laser oder
andere Strahlungsquellen oder eine Kombination hiervon,
bevorzugt durch Lasermarking, und
(3) die dreimalige Wiederholung der vorstehenden Stufen
(1)-(2) unter Austausch des Vorläufers, so daß
Farbmuster von Blau, Grün und Rot erhalten werden.
16. Verfahren zur Herstellung eines Farbfilters für
LCDs, das die folgenden Stufen umfaßt
(1) die Ausbildung einer Polymerschicht, die eine gelöste
Pigmentvorläuferkomponente (a), ein organisches
Bindermaterial mit hohem Molekulargewicht (b') und gegebenenfalls
einen Katalysator (c), wie in Anspruch 8 definiert, enthält,
(2) die dreimalige Wiederholung der vorstehenden Stufe
(1) mit wechselndem Pigmentvorläufer, so daß Farbmuster von
Blau, Grün und Rot in Stufe (3) erhalten werden, und
(3) die lokale Regenerierung des Pigments aus dem
vorstehenden löslichen Vorläufer durch chemische,
photolytische oder thermische Maßnahmen oder durch Laser oder
andere Strahlungsquellen oder eine Kombination hiervon,
bevorzugt durch Lasermarking,
mit der Maßgabe, daß infolge einer Belichtung mit
aktinischer Strahlung das Bindermaterial nicht unlöslich gemacht,
gehärtet, weniger klebrig gemacht oder in einem
Lösungsmittel, das den nichtexponierten Binder nicht löst,
löslich gemacht wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP93810807 | 1993-11-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69418826D1 DE69418826D1 (de) | 1999-07-08 |
DE69418826T2 true DE69418826T2 (de) | 1999-10-21 |
Family
ID=8215070
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69418826T Expired - Lifetime DE69418826T2 (de) | 1993-11-22 | 1994-11-14 | Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren Anwendung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US5879855A (de) |
JP (1) | JP3510927B2 (de) |
CA (1) | CA2135657A1 (de) |
DE (1) | DE69418826T2 (de) |
Families Citing this family (72)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0648817B1 (de) * | 1993-10-13 | 1999-11-10 | Ciba SC Holding AG | Neue Fluoreszenzfarbstoffe |
EP0789383B1 (de) * | 1996-02-08 | 2008-07-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren zur Herstellung einer elektronenemittierende Vorrichtung, einer Elektronenquelle und eines Bilderzeugungsgerätes und Verfahren zur Überprüfung der Herstellung |
AU7211498A (en) * | 1997-04-09 | 1998-10-30 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Black-pigmented structured high molecular weight material |
JP3861400B2 (ja) * | 1997-09-01 | 2006-12-20 | セイコーエプソン株式会社 | 電界発光素子およびその製造方法 |
WO2000027930A1 (en) | 1998-11-09 | 2000-05-18 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Process for pigmenting porous metal oxides and materials pigmented therewith |
GB9824818D0 (en) * | 1998-11-12 | 1999-01-06 | Zeneca Ltd | Composition,process and use |
US6495250B1 (en) | 1998-12-16 | 2002-12-17 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Pigmented porous material |
US6656985B1 (en) * | 1999-08-26 | 2003-12-02 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Coloring material and color filter |
DE60009561T2 (de) * | 1999-11-03 | 2004-08-19 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Pigmentiertes glasartiges material dessen vorläufer damit beschichtete glaskörper und verfahren zu dessen herstellung |
US20040222183A1 (en) * | 2000-01-03 | 2004-11-11 | Pietila Urho A. | Method of forming an electrically conductive pattern on support |
FI107323B (fi) * | 2000-01-03 | 2001-07-13 | Moiree Ltd Oy | Menetelmä kuvan muodostamiseksi kantajalle |
US6524757B2 (en) * | 2000-07-13 | 2003-02-25 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Color filter and method for producing the same |
JP3963077B2 (ja) * | 2000-12-25 | 2007-08-22 | 松下電工株式会社 | 成形体の加飾方法 |
US6468595B1 (en) * | 2001-02-13 | 2002-10-22 | Sigma Technologies International, Inc. | Vaccum deposition of cationic polymer systems |
GB0114265D0 (en) | 2001-06-12 | 2001-08-01 | Ciba Sc Holding Ag | Polymeric material containing a latent acid |
GB0114266D0 (en) * | 2001-06-12 | 2001-08-01 | Ciba Sc Holding Ag | Laser marking method |
US6913794B2 (en) * | 2002-01-14 | 2005-07-05 | Coherent, Inc. | Diode-laser curing of liquid epoxide encapsulants |
US6815679B2 (en) * | 2002-02-13 | 2004-11-09 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Reversible thermal recording material and method of recording image on reversible thermal recording material |
WO2003082583A1 (en) | 2002-03-22 | 2003-10-09 | Ap Technoglass | Laser marking system |
JP2005534046A (ja) * | 2002-05-17 | 2005-11-10 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | カラーフィルタのサーマルプリンティングのドナー要素用の低分子量アクリルコポリマーラテックス |
MXPA04012033A (es) * | 2002-06-03 | 2005-03-07 | Ciba Sc Holding Ag | Tintes azo de antraquinona. |
CA2497211A1 (en) * | 2002-10-09 | 2004-04-22 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Method of colouring carrier materials |
JP4119230B2 (ja) * | 2002-11-26 | 2008-07-16 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 表示装置 |
EP1452338A1 (de) * | 2003-02-28 | 2004-09-01 | Eidgenössische Technische Hochschule (ETH) | Gemustertes dichroisches Sicherheitskennzeichen |
JP4623701B2 (ja) | 2003-08-29 | 2011-02-02 | 株式会社 日立ディスプレイズ | カラーフィルター用着色組成物及びこの着色組成物で形成したカラーフィルターを用いた表示装置 |
US7134395B2 (en) * | 2004-01-20 | 2006-11-14 | Southern Lithoplate, Inc. | Acid inkjet imaging of lithographic printing plates |
US9039401B2 (en) | 2006-02-27 | 2015-05-26 | Microcontinuum, Inc. | Formation of pattern replicating tools |
US9307648B2 (en) | 2004-01-21 | 2016-04-05 | Microcontinuum, Inc. | Roll-to-roll patterning of transparent and metallic layers |
US7833389B1 (en) * | 2005-01-21 | 2010-11-16 | Microcontinuum, Inc. | Replication tools and related fabrication methods and apparatus |
US20050274274A1 (en) * | 2004-06-14 | 2005-12-15 | Gore Makarand P | Methods and compositions for dying a substrate |
KR101018345B1 (ko) | 2004-08-02 | 2011-03-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전자 방출원 형성용 조성물, 이를 이용한 전자 방출원제조 방법 및 전자 방출원 |
CA2595713A1 (en) | 2005-01-21 | 2006-07-27 | Microcontinuum, Inc. | Replication tools and related fabrication methods and apparatus |
JP4934353B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2012-05-16 | ドンジン セミケム カンパニー リミテッド | ネガティブ感光性樹脂組成物 |
JP2007169551A (ja) * | 2005-12-26 | 2007-07-05 | Hitachi Housetec Co Ltd | 着色被覆膜形成用塗布液、及び、この着色被覆膜形成用塗布液を塗布した成形体 |
EP1840172A3 (de) * | 2006-03-22 | 2009-06-24 | FUJIFILM Corporation | Verfahren zur Herstellung von organischen Pigment-Feinpartikeln und daraus gewonnene organische Feinpartikel und ihre Flüssigdispersion |
CN101573239B (zh) * | 2006-11-07 | 2011-07-06 | 西巴控股有限公司 | 颜料化基材的激光标记 |
US20080131590A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-06-05 | Illinois Tool Works Inc. | Method for printing electrically conductive circuits |
US7892619B2 (en) | 2006-12-16 | 2011-02-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Coating for optical recording |
WO2008076101A1 (en) * | 2006-12-18 | 2008-06-26 | 3M Innovative Properties Company | (meth)acrylic resin composition and films of same |
KR20080057562A (ko) * | 2006-12-20 | 2008-06-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 미세 패턴 형성 방법 |
US20110123929A1 (en) | 2007-01-23 | 2011-05-26 | Fujifilm Corporation | Oxime compound, photosensitive composition, color filter, production method for the color filter, and liquid crystal display element |
JP4988383B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2012-08-01 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | (メタ)アクリル系着色フィルム、マーキングフィルム、レセプターシート、及びその製造方法 |
US8865620B2 (en) | 2007-03-15 | 2014-10-21 | Datalase, Ltd. | Heat-sensitive coating compositions based on resorcinyl triazine derivatives |
JP5535063B2 (ja) | 2007-05-11 | 2014-07-02 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | オキシムエステル光重合開始剤 |
US8524425B2 (en) | 2007-05-11 | 2013-09-03 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
EP2181163B1 (de) * | 2007-08-22 | 2011-12-21 | DataLase Ltd | Laserempfindliche beschichtungszusammensetzung |
US8313571B2 (en) * | 2007-09-21 | 2012-11-20 | Microchem Corp. | Compositions and processes for manufacturing printed electronics |
JP5307378B2 (ja) * | 2007-10-26 | 2013-10-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | (メタ)アクリル系フィルムおよびこれを用いたマーキングフィルム |
CN101896669A (zh) * | 2007-11-07 | 2010-11-24 | 巴斯夫欧洲公司 | 新纤维产品 |
JP2010083982A (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | 有機顔料微粒子の製造方法、それにより得られる有機顔料微粒子、その分散液、及びその組成物 |
JP5645832B2 (ja) | 2008-10-27 | 2014-12-24 | データレース リミテッドDatalase Ltd. | 基材にマーキングするためのレーザー感受性水性組成物 |
JP5642150B2 (ja) | 2009-03-23 | 2014-12-17 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | フォトレジスト組成物 |
EP2598342A4 (de) | 2010-07-28 | 2015-12-16 | Jagdip Thaker | Reaktionsbasierte lasermarkierungszusammensetzungen sowie system und verfahren dafür |
CN103153952B (zh) | 2010-10-05 | 2016-07-13 | 巴斯夫欧洲公司 | 苯并咔唑化合物的肟酯衍生物及其在可光聚合组合物中作为光敏引发剂的用途 |
US9051397B2 (en) | 2010-10-05 | 2015-06-09 | Basf Se | Oxime ester |
KR101309011B1 (ko) * | 2010-11-10 | 2013-10-04 | 케이에스씨비 주식회사 | 광확산 잉크 조성물 및 이를 이용한 도광패널 |
EP2668156B1 (de) | 2011-01-28 | 2018-10-31 | Basf Se | Polymerisierbare zusammensetzung mit einem oximsulfonat als thermisches härtungsmittel |
CN103998427A (zh) | 2011-12-07 | 2014-08-20 | 巴斯夫欧洲公司 | 肟酯光敏引发剂 |
KR101968462B1 (ko) | 2012-05-09 | 2019-04-11 | 바스프 에스이 | 옥심 에스테르 광개시제 |
US9589797B2 (en) | 2013-05-17 | 2017-03-07 | Microcontinuum, Inc. | Tools and methods for producing nanoantenna electronic devices |
EP3019473B1 (de) | 2013-07-08 | 2020-02-19 | Basf Se | Oximester-photoinitiatoren |
US9957258B2 (en) | 2013-09-10 | 2018-05-01 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
US9069248B1 (en) | 2014-05-14 | 2015-06-30 | Eastman Kodak Company | Forming conductive metal patterns using water-soluble copolymers |
JP6664383B2 (ja) | 2014-08-29 | 2020-03-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | オキシムスルホネート誘導体 |
US9360759B2 (en) | 2014-09-12 | 2016-06-07 | Eastman Kodak Company | Forming conductive metal patterns using water-soluble polymers |
WO2016066435A1 (de) | 2014-10-29 | 2016-05-06 | Tesa Se | Klebemassen mit aktivierbaren gettermaterialien |
CN104656373B (zh) * | 2015-01-08 | 2018-10-12 | 苏州瑞红电子化学品有限公司 | 一种用于玻璃钝化整流芯片工艺中不含光敏剂的光刻胶组合物及其应用 |
KR102537349B1 (ko) | 2015-02-02 | 2023-05-26 | 바스프 에스이 | 잠재성 산 및 그의 용도 |
PL3257900T3 (pl) * | 2016-06-17 | 2019-05-31 | Sanko Tekstil Isletmeleri San Ve Tic A S | Zastosowanie pochodnych indygo jako nieodwracalnych zmieniających kolor barwników do materiałów włókienniczych, nowe związki i sposób barwienia materiałów włókienniczych |
US20220121113A1 (en) | 2019-01-23 | 2022-04-21 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators having a special aroyl chromophore |
TW202138351A (zh) | 2020-03-04 | 2021-10-16 | 德商巴地斯顏料化工廠 | 肟酯光起始劑 |
CN113497237B (zh) * | 2021-07-06 | 2022-04-26 | 福州大学 | 一种铜多酚-三嗪超分子网络结构纳米复合材料的合成方法及其应用 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1386586A (en) * | 1970-12-30 | 1975-03-12 | Kodak Ltd | Preparation of resist images |
US4585878A (en) * | 1983-06-29 | 1986-04-29 | Ciba-Geigy Corporation | N-substituted 1,4-diketopyrrolo-[3,4-c]-pyrroles |
US4826976A (en) * | 1984-09-04 | 1989-05-02 | Polaroid Corporation | Color-shifted dyes with thermally unstable carbamate moiety comprising T-alkoxycarbonyl group |
US4822643A (en) * | 1987-06-30 | 1989-04-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal transfer imaging system |
JPH089268B2 (ja) * | 1988-10-17 | 1996-01-31 | 三菱製紙株式会社 | 感熱記録材料の製造方法 |
EP0380223A1 (de) * | 1989-01-17 | 1990-08-01 | Konica Corporation | Farbfilter und sein Erzeugungsverfahren |
US5486857A (en) * | 1989-08-15 | 1996-01-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal imaging system |
US5243052A (en) * | 1990-06-29 | 1993-09-07 | Polaroid Corporation | Mixed carbonate ester derivatives of quinophthalone dyes and their preparation |
JPH04123175A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 2次元cad装置における組立図中の部品形状更新方法 |
EP0483693B1 (de) * | 1990-10-29 | 1998-12-30 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Lichtempfindliches gefärbtes Harz, farbiges Bild, Verfahren zur Herstellung von Farbfiltern und Verfahren zur Herstellung einer Schwarzmatrix |
EP0483412B1 (de) * | 1990-10-30 | 1997-06-04 | Agfa-Gevaert N.V. | Verfahren zur Herstellung von Farbstoffbildern durch thermische Übertragung |
US5194088A (en) * | 1991-07-08 | 1993-03-16 | Ciba-Geigy Corporation | Process for conditioning organic pigments |
JPH0585059A (ja) * | 1991-09-30 | 1993-04-06 | Oji Paper Co Ltd | 感熱記録体 |
US5268245A (en) * | 1992-07-09 | 1993-12-07 | Polaroid Corporation | Process for forming a filter on a solid state imager |
US5347014A (en) * | 1992-12-23 | 1994-09-13 | Ciba-Geigy Corporation | Process for preparing 1,4-diketo-3,6-diphenylpyrrolo-[3,4-C]-pyrrole |
DE59409351D1 (de) * | 1993-10-13 | 2000-06-21 | Ciba Sc Holding Ag | Pyrrolo[3,4-c]pyrrole |
EP0648817B1 (de) * | 1993-10-13 | 1999-11-10 | Ciba SC Holding AG | Neue Fluoreszenzfarbstoffe |
DE59506761D1 (de) * | 1994-06-29 | 1999-10-14 | Ciba Sc Holding Ag | Neue Kristallmodifikation eines Diketopyrrolopyrrolpigments |
TW370546B (en) * | 1995-09-18 | 1999-09-21 | Ciba Sc Holding Ag | Solid solutions of 1,4-diketopyrrolopyrroles |
AU7211498A (en) * | 1997-04-09 | 1998-10-30 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Black-pigmented structured high molecular weight material |
-
1994
- 1994-11-14 DE DE69418826T patent/DE69418826T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-18 CA CA002135657A patent/CA2135657A1/en not_active Abandoned
- 1994-11-18 US US08/341,721 patent/US5879855A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-22 JP JP28768994A patent/JP3510927B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-12-03 US US09/204,190 patent/US6040108A/en not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-12-10 US US09/458,771 patent/US6180315B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5879855A (en) | 1999-03-09 |
US6180315B1 (en) | 2001-01-30 |
CA2135657A1 (en) | 1995-05-23 |
JPH086242A (ja) | 1996-01-12 |
JP3510927B2 (ja) | 2004-03-29 |
DE69418826D1 (de) | 1999-07-08 |
US6040108A (en) | 2000-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69418826T2 (de) | Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren Anwendung | |
EP0654711B1 (de) | Zusammensetzungen zur Herstellung strukturierter Farbbilder und deren Anwendung | |
DE69632168T2 (de) | Verfahren zum Färben von hochmolekularen organischen Kunststoffen in der Masse mit löslichen phthalocyaninen Precursoren | |
EP0742255B1 (de) | Verfahren zum Färben von hochmolekularen organischen Kunststoffen in der Masse mit löslichen phthalocyaninen Precursoren | |
DE69412684T2 (de) | Reaktive, polymere Farbstoffe | |
DE69030083T2 (de) | Im nahen uv-bereich arbeitenden laser absorbierende beschichtung sowie gebrauch derselben in der herstellung von farbbildern und prüffolien | |
TW472072B (en) | Process for colouration of high molecular weight organic materials in the mass with soluble phthalocyanine precursors | |
EP1961789B1 (de) | Modifizierte Pigmente, deren Dispersionen und Zusammensetzungen, die diese enthalten | |
DE69708120T2 (de) | Laser-absorbierende, lichtbleichbare zusammensetzungen | |
DE69409583T2 (de) | Wärmeempfindliches Aufzeichnungsblatt | |
KR101735224B1 (ko) | 색소 화합물, 잉크, 컬러 필터용 레지스트 조성물 및 감열 전사 기록용 시트 | |
US6656985B1 (en) | Coloring material and color filter | |
DE10042294A1 (de) | Zusammensetzung für die thermische Bildaufzeichnung, Element, das einen sulfonierten IR-Farbstoff enthält sowie Verfahren zur Bildaufzeichnung und zum Drucken von Bildern | |
JP5073479B2 (ja) | コーティング組成物を着色する方法 | |
DE69825909T2 (de) | Laseradressierbare schwarze thermische übertragungsdonorelemente | |
DE69213578T2 (de) | Transparentes Aufzeichnungsmaterial | |
US8293450B2 (en) | Laser imaging coating and methods for imaging | |
JP2005010604A (ja) | 感光性黒色組成物、それを用いたブラックマトリックス基板およびカラーフィルタ | |
DE69428029T2 (de) | Chinizarin-Verbindungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Anwendung | |
DE60010842T2 (de) | Donorelement für laserinduzierten Thermotransfer | |
JPH09197120A (ja) | カラーフィルタ及びその製造方法 | |
DE69703498T2 (de) | Verfahren zur herstellung von farbprüfbildern und druckplatten | |
JP4794945B2 (ja) | 熱硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに画像記録材料 | |
DE4224205A1 (de) | Bilderzeugungsverfahren | |
JP4422231B2 (ja) | フタロシアニン化合物及びこれを用いた近赤外線吸収剤 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: PFENNING MEINIG & PARTNER GBR, 80339 MUENCHEN |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: CIBA HOLDING INC., BASEL, CH |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: MAIWALD PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH, 80335 MUENC |