DE69008156T2 - Verfahren für das Messen der Dimensionen eines Abstandshalters. - Google Patents

Description

• Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Messen der charakteristischen Dimensionen eines Abstandshalters oder einer analogen Struktur, der bzw. die insbesondere bei der Herstellung bestimmter integrierter Schaltungen verwendet wird.
• Die vorliegende Erfindung wird insbesondere auf dem Gebiet von integrierten Schaltungen angewendet, wo sie bei bestimmten Verfahren der Qualitätskontrolle im Verlauf der Herstellung nützlich ist.
• Bei der Herstellung bestimmter integrierter Schaltungen wird man dazu veranlaßt, besondere Strukturen zu schaffen, die Abstandshalter genannt werden. Ein Abstandshalter wird aus dem Überrest eines bestimmten Materials gebildet, der sich ausschließlich am Ort der seitlichen vertikalen Kanten von im Moment des Schrittes der Verwirklichung des Abstandshalters vorliegenden Strukturen befindet.
• Um Abstandshalter zu verwirklichen, lagert man eine Schicht gleichmäßiger Dicke auf den Plättchen im Verlauf der Behandlung ab, dann führt man eine anisotrope Ätzung dieser Schicht aus. Das Ätzverfahren dieser Schicht wird angehalten, sobald die Gebiete dieser Schicht, die auf horizontalen oder geneigten Teilen von darunterliegenden Strukturen gelegen sind, völlig entfernt sind. Unter diesen Bedingungen sind die sehr lokal an den seitlichen vertikalen Kanten der darunterliegenden Strukturen gelegenen Teile dieser Schicht nur teilweise geätzt, und lassen daher lokal einen Wulst sehr geringer Größe bestehen, der den Abstandshalter bildet. Diese Technik weist im wesentlichen den Vorteil auf, daß man bestimmte Mikrostrukturen der selbstausgerichteten Art verwirklichen kann, ohne Masken- und Fotolithographieverfahren. Die Abstandshalter haben in der Mikroelektronik mehrere Anwendungen gefunden, insbesondere bei der Herstellung von schwach dotierten Drains, entsprechend der LDD (Lightly Doped Drain) genannten Technik, bei der Ablagerung von Silicid auf den Drains, den Sources und den Gates ohne Kurzschluß zwischen diesen verschiedenen Teilen, oder die Stufen zum Ermöglichen eines besseren Übergangs der darüber abgelagerten Schichten zu vermindern.
• In allen Fällen, wo man somit seine Zuflucht zur Bildung von Abstandshaltern nimmt, ist es notwendig während der Herstellung die geometrischen Formen von Abstandshaltern zu kontrollieren, und gewisse Dimensionsmessungen ausführen zu können. Diese Kontrollen sind um so notwendiger, als die zur Bildung von Abstandshaltern führenden technologischen Verfahren schwierig zu beherrschen sind, und Verschiebungen unterworfen sind, insbesondere aufgrund der Tatsache, daß das Ätzverfahren abrupt unterbrochen werden muß. Wenn man die Ätzung zu früh oder zu spät unterbricht, wenn die Ätzgeschwindigkeit größer oder kleiner ist als diese vorgesehen, weist der Abstandshalter, der sich daraus ergibt, nicht mehr die gleiche Form und nicht dieselben Dimensionen auf.
• Ein bekanntes Verfahren, um die Form und die Dimensionen von Abstandshaltern zu kontrollieren, besteht im Brechen eines Plättchens quer zu den Abstandshaltern und im Überprüfen des Querschnitts durch ein Elektronenmikroskop. Dieses Verfahren ist teuer, langwierig und kritisch. Noch mehr, es ist zerstörend. Man kennt bis jetzt kein verläßliches, nicht zerstörendes und unmittelbares Verfahren der Kontrolle von Abstandshaltern.
• Somit ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren bereitzustellen, das die Messung von charakteristischen Dimensionen von Abstandshaltern erlaubt.
• Um diese Aufgabe zu erfüllen, stellt die vorliegende Erfindung ein Verfahren zum Messen der Dimensionen eines Abstandshalters mit folgenden Merkmalen bereit:
• - Ausbilden eines Netzes paralleler Streifen auf einem Substrat, wobei jeder Streifen einen rechteckigen Querschnitt aufweist;
• - Ausbilden von Abstandshaltern an den Seitenrändern der parallelen Streifen, wobei dieser Abstandshalter eine Breite 1 entsprechend der Entfernung zwischen dem Rand das Streifens und dem äußeren Rand des Abstandshalters auf dem Niveau der jeweiligen Berührungspunkte mit dem Substrat und einen Winkel θ zwischen der Ebene des Substrats und der Tangente an den äußeren Rand des Abstandshalters auf dem Niveau des Substrats aufweisen;
• - im Verlauf des Ausbildens der Abstandshalter oder anschließend heran Beleuchten des Netzes durch ein monochromatisches Lichtbündel, dessen gestreutes Licht eine Streufigur erzeugt, die aus einem leuchtenden Hauptpunkt entsprechend der direkten Spiegelreflexion und einer Vielzahl längs einer Linie ausgerichteter benachbarter Streupunkte zusammengesetzt ist, wobei die Einhüllende eine Hauptkurve, die den Hauptpunkt einschließt, und Nebenkurven bildet, von denen die erste Nebenkurve der Hauptkurve benachbart liegt;
• - Messen der Summe der Lichtintensitäten einer vor bestimmten Anzahl von Punkten, die der Hauptkurve zugehörig sind; und
• - Ableiten daraus der Breite 1 und des Winkels θ des Abstandshalters durch die folgenden Formeln:
• l = kl x IL1 + k2
• θ = k3 x IL1 + k4,
• in denen k1, k3, k3 und k4 Koeffizienten sind, die vorab mit Abstandshaltern bekannter Dimensionen bestimmt worden sind.
• Der Abstandshalter weist eine Höhe h auf, die, gemäß einem Querschnitt, dem Abstand entspricht, der die obere Kante des Abstandshalters in Kontakt mit der seitlichen Kante des parallelen Streifens und die Oberfläche des Substrats trennt, und der algebraische Wert d entspricht dem Unterschied zwischen der Höhe h und der Dicke e des parallelen Streifens, wobei man den algebraischen Wert d durch die folgende Formel ableitet:
• d = k5 x IL1 + k6 , in der k5 und k6 Koeffizienten sind, die vorher mit Abstandshaltern bekannter Dimensionen bestimmt worden sind.
• Diese Aufgaben, Merkmale und Vorteile, sowie andere der vorliegenden Erfindung werden detaillierter in der folgenden Beschreibung einer besonderen Ausführungsform aufgezeigt werden, die in Beziehung zu den beigefügten Figuren gesetzt worden ist, in denen:
• Figur 1A schematisch die schichten im Querschnitt darstellt, die vor der zur Ausbildung von Abstandshaltern bestimmten Ätzung existieren;
• Figur 1B dieselbe struktur, wie Figur 1A schematisch im Querschnitt darstellt, aber in einem Zwischenstadium der zur Ausbildung von Abstandshaltern bestimmten Ätzung;
• Figur 1C dieselbe Figur schematisch im Querschnitt darstellt, in einem fortgeschritteren Stadium der Ätzung;
• Figur 1D dieselbe struktur schematisch im Querschnitt darstellt, in einem noch fortgeschrittenerem Stadium der Ätzung, entsprechend der richtigen Ausbildung von Abstandshaltern;
• Figur 1E dieselbe struktur schematisch im Querschnitt darstellt, die sich aus einer Überätzung von Abstandshaltern ergibt;
• Figur 2 das Brechungsdiagramm darstellt, das während der Ausführung der Erfindung erhalten wird;
• Figur 3 die Kurve darstellt, die die lineare Beziehung zwischen der Größe des Abstandshalters und der erfindungsgemäßen Messung der Lichtintensität darlegt;
• Figur 4 die Kurve darstellt, die die lineare Beziehung zwischen dem Winkel θ und der erfindungsgemäßen Messung der Lichtintensität darlegt; und
• Figur 5 die Kurve darstellt, die die Beziehung zwischen der Seitenverschiebung d und der erfindungsgemäßen Messung der Lichtintensität darlegt.
• Figur 1 stellt in schematischer Weise die Struktur dar, die man vor dem zur Ausbildung von Abstandshaltern bestimmten Ätzverfahren ausbilden muß. Auf einem Substrat 1, im allgemeinen aus einem Plättchen aus Halbleitermaterial gebildet, lagert man über eine Dicke e eine schicht aus einem ersten Material ab. Man führt dank ein an sich bekanntes Verfahren der Fotolithographie und des anisotropen Ätzens aus, das zur Ausbildung, ausgehend von der anfänglich abgelagerten Schicht, von Mustern 2 führt, die einen rechteckigen Querschnitt aufweisen. Man lagert dann über das ganze Plättchen eine Schicht 3 eines zweiten Materials über eine Dicke f ab. Die Schicht 3 karin durch Pulverisierung oder durch ein Verfahren der chemischen Ablagerung, in der Dampfphase, abgelagert werden. Die obere Oberfläche 4 der Schicht 3 ist in den über den selbst horizontalen darunterliegenden Gebieten horizontal und ist in den Übergangsgebieten, die einem Stufenübergang entsprechen klar geneigt.
• Man führt dann ein anisotropes Ätzverfahren durch irgendein im Stand der Technik bekanntes Verfahren aus. In einer ersten Phase dieser Ätzung, wie diese Figur 1B dargestellt ist, bewahren die obere Oberfläche 4 und die Schicht 3 im wesentlichen dasselbe Profil. Man sagt, daß das Profil in dieser Phase der Ätzung übertragen wird. Man befindet sich dann mit einer sehr klaren Verminderung der Dicke der Schicht 3 in den horizontalen Gebieten wieder und einer verhältnismäßig bedeutenden Anwesenheit von Material der Schicht 3 auf dem Niveau 5 des Stufenübergangs, d.h. in den Gebieten, wo die obere Oberfläche 4 der Schicht 3 stark geneigt ist. Im weiteren Fortsetzen der Ätzung erhält man eine völlige Entfernung der Schicht 3 in allen horizontalen Gebieten, und es bleiben dann nur enge unabhängige Streifen, gebildet aus dem Material der Schicht 3, die sich entlang der seitlichen vertikalen Grenzen 6 des Musters 2 erstrecken. Diese engen Streifen werden dann Abstandshalter genannt. Figur 1C stellt dieses Stadium der Ätzung dar, im Verlauf dessen man die Abstandshalter 7 ausgebildet hat.
• Man kann die Inhomogenitäten von Ablagerung und Ätzung ausgleichen, indem man das Ätzverfahren bis zu dem in Figur 1D dargestellten Stadium fortsetzt. Wenn man das Ätzen weiter fortsetzt, erhält man eine Verkleinerung des Abstandshalters 7, seine Höhe h wird klar verringert und seine Breite l wird gleichermaßen verringert, wie das in Figur 1E dargestellt ist. Beim noch weiteren Fortsetzen der Ätzung, kann man die völlige Auslöschung des Abstandshalters 7 erhalten (nicht dargestellt). Man muß bemerken, daß diese Fortsetzung der Ätzung von einem Verbrauch des Substrats 1 begleitet wird.
• Während der Herstellung von integrierten Schaltungen liegt die Schwierigkeit der Ausbildung von Abstandshaltern in der Tatsache, daß man das Ätzverfahren in einem genauen Zeltpunkt anhalten muß, um einen Abstandshalter von gewünschter Form (so einer wie in Figur 1D dargestellt) zu erhalten. Darüber hinaus sind zahlreiche andere Faktoren geeignet, Ungleichheiten in der Zusammensetzung von Abstandshaltern 7 herbeizuführen. In der Tat wird, wenn die anfängliche Dicke f der Schicht 3 leicht zu groß oder zu klein ist, der Abstandshalter 7, der sich nach dem Ätzverfahren daraus ergeben wird, nicht angemessen sein. Wenn andererseits das die Schicht 3 bildende Material Merkmale aufweist, die zu den als normal Betrachteten leicht unterschiedlich sind, kann dies eine höhere oder niedrigere Ätzgeschwindigkeit nach sich ziehen, was gleichermaßen zur Ausbildung von nicht angemessenen Abstandshaltern 7 führt. Das Ätzverfahren selbst kann gleichermaßen nicht erwünschten Veränderungen unterworfen sein, die sich aus gewissen Fehlregelungen von Maschinen oder Geräten ergeben. Man erkennt demzufolge das Interesse an einer genauen und verläßlichen Dimensionskontrolle von Abstandshaltern. Man versteht auch, daß es wünschenswert ist, daß diese Dimensionskontrolle von Abstandshaltern 7 sehr schnell ausgeführt wird, um zu vermeiden, eine zu große Anzahl von schlechten Stücken während der Zeit zwischen der Herstellung und den Ergebnissen der Kontrolle herzustellen. Man erkennt gleichermaßen, daß es vorteilhaft wäre, die Dimensionen des Abstandshalters 7 während des Ätzverfahrens selbst kontrollieren zu können, d.h. eine in situ Kontrolle ausführen zu können. Die Erfindung, wie man sie in der detaillierten Beschreibung, die folgen wird, erkennen wird, erlaubt es, diesen Wünschen zu entsprechen.
• Vor dem detaillierten Beschreiben des erfindungsgemäßen Verfahrens, werden die verschiedenen physikalischen Größen beschrieben werden, die für die Form des Querschnitts des Abstandshalters repräsentativ sind, indem Bezug auf Figur 1D genommen wird. Der Querschnitt des Abstandshaltels 7 weist eine allgemeine Form auf, die sich einem Dreieck nähert, dessen dem rechten Winkel gegenüberliegende Seite leicht gewölbt ist. Dieses Merkmal ist nicht wesentlich, um die Aufgabe der vorliegenden Erfindung zu verstehen. Nebenbei können in bestimmten Verfahren der Ausbildung von Abstandshaltern diese leicht verschiedene Formen aufweisen. Jedoch findet man, in all den Abstandshaltern, die man tatsächlich ausbildet, diese allgemeine, dem Dreieck angenäherte Form wieder, und man kann immer die drei charakteristischen Größen h, l und θ in folgender Weise definieren:
• die Höhe h des Abstandshalters 7 entspricht dem Abstand, der die obere Kante 8 des Abstandshalters, die in Kontakt mit der seitlichen vertikalen Kante 8 des Musters 2 steht, und die obere ebene Oberfläche 9 des Substrats 1 trennt;
• die Breite l ist gleich dem Abstand, der die seitliche Kante 6 des Musters 2, auf dem Niveau ihres Kontakts mit dem Substrat 1, und die äußere Kante 10 des Abstandshalters 7, auf dem Niveau ihres Kontakts mit dem Substrat 1, trennt; und
• der Winkel θ ist der Winkel, der die Tangente 11 an der äußeren Kante 10 des Abstandshalters, auf dem Niveau ihres Kontakts mit dem Substrat, bildet.
• Man definiert daraus weiter die Höhendifferenz d gemäß der folgenden algebraischen Gleichung: d = h - e.
• Es wird jetzt im wesentlichen Bezug auf die Figuren 2, 3 und 4 genommen, um das Meßverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung detaillierter zu beschreiben.
• Während man den Vorgang der Ausbildung von Abstandshaltern auf in der Folge integrierte Schaltungen zu bilden bestimmten Plättchen ausführt, ordnet man immer, auf bestimmten Gebieten dieser Plättchen, von integrierten Schaltungen freie Räume an, die im wesentlichen verschiedenen Versuchs- und Kontrollverfahren dienen.
• In einem dieser freien Gebiete ist es immer möglich, gewisse besondere Strukturen zu schaffen, die gleichzeitig mit entsprechenden Verfahren ausgebildet werden, die zur Herstellung von integrierten schaltungen bestimmt sind. In mindestens einem dieser freien Gebiete wird ein Netz paralleler streifen während derselben technologischen Schritte wie denjenigen gebildet, die dazu bestimmt sind, in den Schaltungen die Mikrostrukturen zu bilden, deren Kanten 6 Abstandshalter zuzuordnen man ins Auge faßt. Man bildet also ein Netz paralleler streifen 2 in einem ersten Material aus, das dem dieser Mikrostrukturen entspricht Jeder parallele streifen weist einen nahezu rechteckigen Querschnitt auf. Man kann die Betrachtung anstellen, daß die Figuren 1A-1E entweder Mikrostrukturen von integrierten Schaltungen darstellen, denen man Abstandshalter 7 zuzuordnen wünscht, oder parallele streifen, die ein Netz bilden, dem man gleichermaßen zu Dimensionskontrolle bestimmter Abstandshalter 7 zuzuordnen ins Auge faßt. Gemäß der vorliegenden Erfindung bildet man dann Abstandshalter über den seitlichen Kanten 6 der parallelen Streifen 2 aus. Dafür geht man in den in Beziehung mit Figur 1 beschriebenen Schritten vor. Im Verlauf des anisotropen Ätzverfahrens, oder nachdem dieses Ätzverfahren beendet ist, beleuchtet man das Netz 2 durch ein monochromatisches Lichtbündel. Wie dies in Figur 2 dargestellt ist, erzeugt das durch das Netz gebrochene Licht eine Brechungsfigur, die aus einem leuchtenden Hauptpunkt entsprechend der spiegelreflexion und einer Vielzahl längs einer Linie ausgerichteter benachbarter Brechungspunkte zusammengesetzt ist, wobei die Einhüllende eine Hauptkurve LO, die den Hauptpunkt 15 einschließt, und Nebenkurven bildet, von denen die erste Nebenkurve L1 der Hauptkurve benachbart liegt. Gemäß der vorliegenden Erfindung führt man die Messung der Lichtintensität von Punkten aus, die die erste Kurve L1 bilden. Man kann entweder die Lichtintensität des hellsten Punkts 16 der ersten Kurve L1 messen, oder die Summe der Messungen der Lichtintensitäten einer vorbestimmten Anzahl von zur ersten Kurven L1 gehörenden Punkten ziehen, wobei die so in Betracht gezogenen Punkte nicht notwendig den hellsten Punkten dieser ersten Kurve entsprechen. Man kann gleichermaßen alle in der ersten Kurve L1 eingeschlossenen Punkte in Betracht ziehen, d.h. die globale Lichtintensität der ersten Kurve L1 messen. In der Tat wird man vorzugsweise eine Gruppe von Punkten der Kurve L1 auswählen, deren Lichtintensität sich besonders mit dem Ätzungsgrad des Abstandshalters ändert.
• Die vorliegende Erfindung basiert auf der von der Anmelderin gemachten Beobachtung, gemäß der man diese Messung der Lichtintensität IL1 eines oder mehrerer Punkte der ersten Kurve L1, die Breite l, den Winkel θ sowie die Höhendifferenz d durch Vergleich mit Eichkurven ableiten kann.
• In der Tat ist festgestellt worden, daß sich die Lichtintensität IL1 der ersten Kurve L1 in linearer Beziehung sowohl mit der Breite l des Abstandshalters 7 als auch mit dem Winkel θ des Abstandshalters 7, als auch mit der Höhendifferenz d befindet, wenn diese negativ ist, d.h. wenn die Höhe h des Abstandshalters 7 geringer als die Dicke e der parallelen Streifen 2 ist.
• Figur 3 stellt die lineare Beziehung zwischen der Messung der Lichtintensität IL1 und der Breite l des Abstandshalters dar. Man erkennt, daß die Lichtintensität der Kurve L1 anwächst, wenn die Breite l des Abstandshalters abnimmt. Man kann daher leicht, durch eine Gesamtheit von experimentellen vorherigen Messungen oder durch eine Simulation, die lineare Funktion bestimmen, die l und IL1 durch eine Funktion des Typs: l = k1 x IL1 + k2 verbindet, in der k1 und k2 zwei Konstanten sind.
• Figur 4 stellt die lineare Beziehung zwischen dem Parameter IL1 und θ dar. Man kann auf dieselbe Weise die folgende Formel aufstellen: θ = k3 x IL1 + k4, in der k3 und k4 zwei Konstanten sind.
• Figur 5 stellt die Entwicklung des algebraischen Werts d im Verlauf des Ätzverfahrens als Funktion der Lichtintensität einer festgesetzten Gruppe von zur ersten Kurve L1 gehörenden Punkten dar. Der eigentliche Beginn des Ätzvorgangs, entsprechend dem Zeichen A, entspricht der Figur 1A. Das Zeichen B der Figur 5 entspricht der Ätzstufe von Figur 1B, usw. für die Zeichen C, D und E. Ebenso entsprechen, in den Figuren 3 und 4, die Zeichen C, D und E jeweils der in den Figuren 1C, 1D und 1E dargestellten Ätzstufe.
• Aufs Neue bezugnehmend auf Figur 5 bemerkt man, daß die Lichtintensität IL1, für die in diesem besonderen Beispiel gewählte punktgruppe, am Anfang der Ätzung, entsprechend Zeichen A, B und C, bis dahin angewachsen ist, daß die Ätzung den in Figur 1C dargestellten Zustand erreicht, d.h. im Augenblick, wo die horizontalen Gebiete der Schicht 3 völlig entfernt sind. Wenn man die Ätzung fortgesetzt hat, indem man sukzessive in die in den Figuren 1D und 1E dargestellten Zustände kommt, erkennt man, daß sich die Lichtintensität IL1 linear als Funktion des algebraischen Wertes d entwickelt hat. Demzufolge hat man, im Bereich C, D und E, auf dieselbe Weise eine lineare Funktion zwischen der Lichtintensität IL1 und der physikalischen Größe d bestimmen gekonnt, entsprechend der folgenden Formel: d = k5 x IL1 + k6, in der k5 und k6 Konstanten sind.
• Um die Konstanten k1 bis k6 zu bestimmen, führt man eine Vorwegeichung auf Abstandshaltern mit bekannter Form und bekannten Dimensionen aus, z.B. durch Elektronenmikroskopie bestimmt.
• Man wird andererseits bemerken, daß die Lichtintensität IL1, im Augenblick wo die horizontalen Gebiete der Schicht 3 völlig abgeätzt sind, d.h. wenn man sich in der Konfiguration von Figur 1C befindet, durch ein Maximum geht, durch klassische Meßmittel leicht nachweisbar. Man kann also leicht diesen genauen Zeitpunkt, der dem Punkt C entspricht, feststellen, und somit ein System der Erfassung des Endes des Ätzangriffs ausführen.
• Man wird bemerken, daß es, um eine befriedigende Erfassung des Endes des Ätzangriffs zu erhalten, notwendig ist, die Punktgruppe der ersten Kurve L1 so zu wählen, daß die Intensität IL1 für die den Punkt C entsprechende Ätzstufe durch einen optimalen Wert geht.
• Die Erfindung kann leicht mit der Hilfe eines geeigneten Geräts (nicht dargestellt) ausgeführt werden.
• Dieses Gerät weist im wesentlichen eine monochromatische Lichtquelle auf, im allgemeinen eine Laserquelle, die das Netz der parallelen streifen in einem vorbestimmten Einfallwinkel trifft. Das Gerat weist gleichermaßen einen Detektor auf, der auf dem Niveau der Brechungspunkte angeordnet ist, und der z.B. aus einer Reihe von CCD-Sensoren bestehen kann. Das Gerät weist dann, in an sich bekannter Weise, eine Gesamtheit von elektronischen Vorrichtungen auf, die erlauben, die verschiedenen Leuchtpunkte aufzufinden, den der Spiegelreflexion entsprechenden Punkt 15 aufzufinden, die verschiedenen Punkte zu zählen, und die erste Kurve L1 aufzufinden, und, in dieser Kurve L1, den hellsten Punkt 16. Das Gerät kann die Messungen der Intensität IL1 ausführen, entsprechend dem vorher beschriebenen Verfahren, und die sehr einfachen Berechnungen zum direkten Ausgeben der Werte der Parameter l, θ und d ausführen.

Claims (2)

1. Verfahren zum Messen der Dimensionen eines Abstandshalters mit folgenden Merkmalen:

- Ausbilden eines Netzes paralleler Streifen (2) aufs einem Substrat (1), wobei jeder Streifen (2) einen rechteckigen Querschnitt aufweist;

- Ausbilden von Abstandshaltern (7) an den Seitenrändern (6) der parallelen Streifen (2), wobei diese Abstandshalter eine Breite l entsprechend der Entfernung zwischen dem Rand (6) des Streifens (2) und dem außeren Rand (10) des Abstandshalters (7) auf dem Niveau der jeweiligen Berührungspunkte mit dem Substrat und einen Winkel θ zwischen der Ebene des Substrats und der Tangente (11) an den außeren Rand des Abstandshalters auf dem Niveau des Substrats aufweisen;

- im Verlauf des Ausbildens der Abstandshalter oder anschließend hieran Beleuchten des Netzes durch ein monochromatisches Lichtbündel, dessen gestreutes Licht eine Streufigur erzeugt, die aus einem leuchtenden Hauptpunkt (15) entsprechend der direkten Spiegelreflexion und einer Vielzahl langs einer Linie ausgerichteter benachbarter Streupunkte zusammengesetzt ist, wobei die Einhüllende eine Hauptkurve (LO), die den Hauptpunkt (15) einschließt, und Nebenkurven bildet, von denen die erste Nebenkurve (L1) der Hauptkurve (LO) benachbart liegt;

- Messen der Summe der Lichtintensitaten (IL1) einer vorbestimmten Anzahl von Punkten, die der Hauptkurve (L1) zugehörig sind; und

- Ableiten daraus der Breite l und des Winkels θ des Abstandshalters (7) durch die folgenden Formeln:

l = k1 x IL1 + k2

θ = k3 x IL1 + k4

in denen k1, k2, k3 und k4 Koeffizienten sind, die vorab mit Abstandshaltern bekannter Dimensionen bestimmt worden sind.

2. Verfahren zum Messen der Dimensionen eines Abstandshalters nach Anspruch 1, wobei der Abstandshalter zudem eine Höhe h aufweist, die, in einem Querschnitt, der Entfernung zwischen dem oberen Rand (8) des Abstandshalters am Berührungspunkt mit dem Seitenrard (6) des parallelen Streifens (2) und der Oberflache (9) des Substrats (1) entspricht, und wobei ein algebraischer Wert d der Differenz zwischen der Höhe h und der Dicke e des parallelen Streifens (2) entspricht, dadurch gekennzeichnet, daß der algebraische Wert d durch die folgende Formel abgeleitet wird:

d = k5 x IL1 + k6

in der k5 und k6 Koeffizienten sind, die vorab mit Abstandshaltern bekannter Dimensionen bestimmt worden sind.