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DE68915930T2 - CCD-Bildsensor mit vertikaler Überlauf-Senke. - Google Patents

CCD-Bildsensor mit vertikaler Überlauf-Senke.

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Publication number
DE68915930T2
DE68915930T2 DE68915930T DE68915930T DE68915930T2 DE 68915930 T2 DE68915930 T2 DE 68915930T2 DE 68915930 T DE68915930 T DE 68915930T DE 68915930 T DE68915930 T DE 68915930T DE 68915930 T2 DE68915930 T2 DE 68915930T2
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DE
Germany
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vertical
image sensor
signal
bias
semiconductor substrate
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DE68915930T
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Akiyoshi Kohno
Atsushi Mikoshiba
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N25/00Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
    • H04N25/60Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
    • H04N25/62Detection or reduction of noise due to excess charges produced by the exposure, e.g. smear, blooming, ghost image, crosstalk or leakage between pixels
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    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
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Description

  • Diese Erfindung betrifft eine ladungsgekoppelte Anordnung und insbesondere eine Vertikal-Überlaufableitung bei einem CCD-Bildsensor, der sich in einen elektronischen Verschluß- Modus versetzen läßt.
  • Eine ladungsgekoppelte Anordnung mit Zwischenzeilen-Übertragung nach dem Stand der Technik (nachfolgend mit "CCD" abgekürzt) wird zur Herstellung eines Bildsensors verwendet, wobei der Bildsensor im wesentlichen aus einem Fotodioden-Array besteht, dem eine Vielzahl von Vertikal-Schieberegistern zugeordnet ist, die als ladungsgekoppelte Anordnung realisiert sind und denen wiederum ein Horizontal- Schieberegister zugeordnet ist, das ebenfalls aus einer ladungsgekoppelten Anordnung besteht. Der Bildsensor arbeitet in einem Akkumulations-Modus und einem Auslese-Modus, wobei im Akkumulations-Modus das optische Bild in elektrische Ladungen umgewandelt wird. Während noch die akkumulierten elektrischen Ladungen in einer einzigen Vertikal-Austastperiode von den Vertikal-Schieberegistern ausgelesen werden, wird bereits das nachfolgende optische Bild in neue elektrische Ladungen umgewandelt. Entsprechend dem NTSC (Nationales Fernseh-System-Kommitee)-Farbsystem wurde eine Akkumulationszeit von einer sechzigstel Sekunde festgelegt, und aus diesem Grunde gibt der Bildsensor kaum ein optisches Bild von einem sich mit hoher Geschwindigkeit bewegenden Objekt wieder, ohne daß das Bild auf dem Bildschirm undeutlich wird. Um diesen Nachteil zu überwinden, wurde zur Verkürzung der wirksamen Akkumulationszeit eine Betriebsart mit elektronischem Verschluß vorgeschlagen.
  • Einer der Bildsensoren mit elektronischem Verschluß-Modus wird in einer mit "Video alpha" betitelten Zeitschrift, herausgegeben von der Photo lndustry Publishing Company im August 1987, auf den Seiten 145 bis 148 offenbart. Zum besseren Verständnis der Erfindung des Anmelders wird der in der Zeitschrift veröffentlichte Bildsensor kurz unter Bezugnahme auf die Fign. 1 und 2 beschrieben.
  • Der Bildsensor in Fig. 1 besteht im wesentlichen aus einem in Zeilen und Spalten angeordneten Fotodioden-Array PD, einer Vielzahl von Vertikal-Schieberegistern VSR, die mit den entsprechenden Spalten von Fotodioden verbunden sind, einem Horizontal-Schieberegister HSR, das mit den Vertikal- Schieberegistern VSR verbunden ist, und einer Überlauf-Ableitung OFD, die mit den gegenüberliegenden Anschlüssen der Vertikal-Schieberegister VSR verbunden ist.
  • Das Verhalten des in Fig. 1 gezeigten Bildsensors wird unter Bezugnahme auf Fig. 2 beschrieben, in der das Zeitdiagramm desselben mit dem Zeitdiagramm eines konventionellen Bildsensors ohne elektronischen Verschluß-Modus verglichen wird. Der konventionelle Bildsensor ohne elektronischen Verschluß-Modus reagiert auf einen einzigen Auslese-Impuls RD und überträgt zwischen zwei Vertikal-Austastperioden alle elektronischen Ladungen synchron mit einer Folge von Vertikal-Übertragungsimpulsen VPL. Dann werden die akkumulierten elektrischen Ladungen einmal ausgelesen, und die Übertragung der elektrischen Ladungen erfolgt nur in Vorwärtsrichtung.
  • Der Bildsensor mit elektronischem Verschluß-Modus realisiert den elektronischen Verschluß-Modus in der Vertikal- Austastperiode. In der Vertikal-Austastperiode liegen nämlich in einem bestimmten Zeitabstand voneinander zwei Ausleseimpulse RD1 und RD2 an, und in diesem Zeitintervall wird eine Folge von Rückwärts-Übertragungsimpulsen 21 hoher Geschwindigkeit eingespeist. Mit dem ersten Ausleseimpuls RD1 übergeben die Fotodioden die jeweiligen unwirksamen elektrischen Ladungen an die Vertikal-Schieberegister VSR, und die unwirksamen elektrischen Ladungen werden synchron mit der Folge von Rückwärts-Übertragungsimpulsen 21 hoher Geschwindigkeit zur Überlaufableitung OFD geschoben. Während der Ableitung der unwirksamen elektrischen Ladungen akkumulieren die Fotodioden PD bei Vorhandensein eines optischen Bildes neue beziehungsweise wirksame elektrische Ladungen. Nach Abschluß des Ableitungs-Vorganges erscheint der zweite Ausleseimpuls RD2, wodurch die Fotodioden PD ihre elektrischen Ladungen in die Vertikal-Schieberegister VSR übergeben können, und die Vertikal-Schieberegister übertragen die wirksamen elektrischen Ladungen synchron mit den Vertikal-Übertragungsimpulsen VPL an ihre Ausgänge. Das optische Bild wird also in der Zeit T1 zwischen dem ersten und dem zweiten Ausleseimpuls RD1 und RD2 effektiv in elektrische Ladungen umgewandelt, und durch die Zeit T1 ist eine feste Verschlußgeschwindigkeit definiert. Ein solcher Bildsensor eignet sich gut für optische Bilder von einem bewegten Objekt, die Verschlußgeschwindigkeit ist jedoch auf ein tausendstel Sekunde festgelegt.
  • Wenn die Verschlußgeschwindigkeit auf einen bestimmten Wert festgelegt ist, kann der Bildsensor nicht auf Veränderungen der Beleuchtung reagieren, es wird jedoch in derselben Zeitschrift über einen Bildsensor mit veränderlichem elektronischen Verschluß-Modus berichtet. Der Bildsensor mit veränderlichem elektronischen Verschluß-Modus wird in Fig. 3 der Zeichnungen gezeigt, und er enthält ein Fotodioden- Array PD, eine Vielzahl von Vertikal-Schieberegistern VSR, die als ladungsgekoppelte Anordnung realisiert sind, ein Horizontal-Schieberegister HSR, das ebenfalls als ladungsgekoppelte Anordnung realisiert ist, eine Überlaufableitung OFD und eine Vielzahl von Akkumulationsspeichern AM, die in Verbindung mit den Vertikal-Schieberegistern VSR angeordnet sind. Die Zeitdauer T1 ist dank des Akummulationsspeichers AM von einer zweihundertfünfzigstel bis zu einer tausendstel Sekunde veränderlich. Bei dem in Fig. 3 gezeigten Bildsensor besteht jedoch das Problem, daß für eine große Änderung der Verschlußgeschwindigkeit eine große Anzahl von Speicherstufen erforderlich ist. Dies führt dazu, daß durch die Akkumulationsspeicher eine große Menge von Belegungsfläche verbraucht wird und demzufolge der Chip vergrößert werden muß. Je mehr Speicherstufen vorhanden sind, um so geringer sind infolge des extrem hochfrequenten Übertragungsimpulses die elektrischen Ladungen, und auf dem zugehörigen Display wird dann kaum ein deutliches Bild wiedergegeben.
  • Noch ein weiterer Bildsensor nach dem Stand der Technik wurde von Hamazaki u.a. in "Interline Type CCD with High Sensitivity Responsive to the Minimum Illuminance of 51x", Nikkei Microdevices, Oktober 1987 auf den Seiten 60 bis 67 veröffentlicht. Der Bildsensor, über den Hamazaki berichtet, ist für einen veränderlichen elektronischen Verschluß- Modus eingerichtet und dadurch gekennzeichnet, daß eine Vertikal-Überlaufableitung die unwirksamen elektrischen Ladungen in das Halbleitersubstrat ableitet, auf welchem der Bildsensor hergestellt ist. Der Bildsensor, der mit einer Vertikal-Überlaufableitung ausgerüstet ist, wird in Fig. 4A gezeigt, und Fig. 4B zeigt zu Vergleichszwecken den Aufbau eines konventionellen Bildsensors. Der Bildsensor in Fig. 4A baut auf einem n-Halbleitersubstrat 41 auf, und in dem Halbleitersubstrat 41 wird eine erste p-Senke 42 hergestellt. In der ersten p-Senke 42 wird eine n-Störstellenregion 43 zur Realisierung einer Fotodiode erzeugt, welcher eine p-Störstellenregion 44 zugeordnet ist, die als akkumulierende Schicht für Defektelektronen dient. In der ersten p-Senke 42 stellt die n-Störstellenregion 45 zusammen mit einer Silizium-Übertragungs-Elektrode 46 einen Teil des Vertikal-Schieberegisters VSR dar. Unterhalb der n-Störstellenregion 45 ist bei dem in Fig. 4A gezeigten Bildsensor eine zweite p-Senke 47 zur Einschränkung des Verschmierens eingebracht. Außer der Fotodiode ist die Struktur mit einer Lichtabschirmungsschicht 48 aus Aluminium bedeckt, und zur Isolation sind Kanalbegrenzungen 49 vorgesehen. Der in Fig. 4B gezeigte konventionelle Bildsensor stimmt mit Ausnahme des Foto-Akkumulators 44 und der zweiten p-Senke 47 im Aufbau mit dem in Fig. 4A gezeigten Bildsensor überein, darum wurden die Regionen und Schichten ohne ausführliche Beschreibung mit den gleichen Bezugszahlen wie in Fig. 4A bezeichnet.
  • Der in Fig. 4A gezeigte Bildsensor bewirkt die Vertikal- Überlaufableitung zum Ableiten der unwirksamen elektrischen Ladungen in das Halbleitersubstrat 41 mit Hilfe der Defektelektronen-Sammel-Region 44. Im einzelnen veranschaulicht Fig. 5A das Profil der Unterkante Ec des Leitungsbandes, das sich in vertikaler Richtung um die Fotodiode herum einstellt. Im Akkumulations-Modus behält die Unterkante Ec des Leitungsbandes, wie die durchgehende Linie zeigt, infolge eines an das Halbleitersubstrat 41 angelegten ersten Vorspannungs-Pegels Vsub&sub1; ihre Lage, und aus diesem Grunde werden in der Fotodiode elektrische Ladungen EL akkumuliert. Wenn der Bildsensor im elektronischen Verschluß-Modus arbeitet, wird an das Halbleitersubstrat 41 eine zweite Vorspannung Vsub&sub2; angelegt, die sich von der ersten Vorspannung um einen bestimmten Wert unterscheidet. Durch die zweite Vorspannung Vsub&sub2; wird die Potential-Barriere BR zwischen der Fotodiode und dem Halbleitersubstrat 41 beseitigt, und folglich verändert sich die Unterkante Ec, wie die gestrichelte Linie zeigt, und die akkumulierten elektrischen Ladungen können in das Halbleitersubstrat 41 abfließen. Das heißt, dies wird durch den Umstand bewirkt, daß die Defektelektronen-Sammel-Region 44 die Fotodiode zwingt, in ihrer ursprünglichen Position zu verbleiben, ungeachtet der Änderung des an das Halbleitersubstrat angelegten Vorspannungs-Pegels. Wenn jedoch in dem Bildsensor keine Defektelektronen-Sammel-Region, wie etwa bei dem in Fig. 4B gezeigten Bildsensor, vorhanden ist, dann bewegt sich das Fotodioden-Potential im Ganzen abwärts, ohne die Potential-Barriere bei Änderung des an das Halbleitersubstrat 41 angelegten Vorspannungs-Pegels abzubauen, und aus diesem Grunde bleiben die akkumulierten elektrischen Ladungen in der Fotodiode eingeschlossen. Der in Fig. 4A gezeigte Bildsensor ist günstig für die Erhöhung des Verhältnisses der lichtempfindlichen Fläche, jedoch ist der Aufbau kompliziert, und die Störstellen-Profile sind demzufolge schlecht steuerbar.
  • Deshalb ist es eine wichtige Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen Bildsensor zu schaffen, welcher ohne jeden Akkumulationsspeicher eine veränderbare Verschlußgeschwindigkeit aufweist.
  • Es ist ebenfalls eine wichtige Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Bildsensor zu schaffen, welcher sich auf einem kleinen Halbleiterchip herstellen läßt.
  • Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Bildsensor zu schaffen, welcher im Aufbau der Störstellen-Profile einfach ist.
  • Um diese Aufgaben zu erfüllen, wird mit der vorliegenden Erfindung vorgeschlagen, die unwirksamen elektrischen Ladungen mit Hilfe des Durchgreif-Effektes (punch through) von der Fotodiode in das Halbleitersubstrat abzuleiten.
  • In Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung wird ein Bildsensor bereitgestellt, wie er im Anspruch definiert ist.
  • Die Merkmale und Vorteile des Bildsensors entsprechend der vorliegenden Erfindung sollen durch die folgende Beschreibung deutlicher werden, die in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen erfolgt, in welchen:
  • Fig. 1 eine Draufsicht darstellt, die das Layout eines Bildsensors mit elektronischem Verschluß-Modus nach dem Stand der Technik zeigt;
  • Fig. 2 ein Diagramm darstellt, das in kombinierter Weise die Kurvenformen der wesentlichen Signale zeigt, die an den Bildsensor nach dem Stand der Technik angelegt werden,
  • Fig. 3 eine Draufsicht darstellt, die das Layout eines an deren Bildsensors mit variablem elektronischem Verschluß-Modus nach dem Stand der Technik zeigt;
  • Fig. 4A und 4B Querschnittsansichten der Strukturen der je weiligen Bildsensoren nach dem Stand der Technik zeigen;
  • Fig. 5A und 5B Diagramme darstellen, welche die Unterkanten der Leitungsbänder zeigen, die in den Bildsensoren entstehen, welche in Fig. 4A beziehungsweise 4B gezeigt werden;
  • Fig. 6 eine Ansicht darstellt, welche in Modellform die An ordnung des Bildsensors gemäß vorliegender Erfindung zeigt;
  • Fig. 7 eine Grafik darstellt, die den Ausgangs-Spannungs- Pegel des Bildsensors in Abhängigkeit vom Vorspannungs-Pegel an der Lichtabschirmungs-Schicht zeigt;
  • Fig. 8 eine Grafik darstellt, die den Ausgangsspannungs- Pegel des Bildsensors in Abhängigkeit vom Vorspannungs-Pegel am Halbleitersubstrat zeigt;
  • Fig. 9 eine Schnittansicht des Bildsensors darstellt, die zeigt, wie die Fotodiode von den elektrischen Kraftlinien der Lichtabschirmungs-Schicht beeinflußt wird;
  • Fig. 10 eine Draufsicht darstellt, welche die Funktionsgruppen-Anordnung eines Bildsensors gemäß vorliegender Erfindung zeigt;
  • Fig. 11 eine Querschnittsansicht der Struktur eines Teiles des Siliziumsubstrates zeigt, auf dem sich der in Fig. 10 gezeigte Bildsensor befindet;
  • Fig. 12 ein Diagramm darstellt, das sowohl die ersten und zweiten Vorspannungs-Signale als auch die Übertragungs-Impuls-Signale zeigt, die in dem in Fig. 10 gezeigten Bildsensor erzeugt werden;
  • Fig. 13 ein Diagramm darstellt, das die Kurvenformen der wesentlichen Signale zeigt, die in dem in Fig. 10 gezeigten Bildsensor erzeugt werden;
  • Fig. 14 eine Schnittansicht darstellt, welche die Struktur eines Teiles eines anderen Bildsensors zeigt, der die vorliegende Erfindung verkörpert;
  • Fig. 15 ein Diagramm darstellt, welche das erste und zweite Vorspannungs-Signal, bei dem in Fig. 14 dargestellten Bildsensor zeigt; und
  • Fig. 16 eine Grafik darstellt, die den wirksamen Spannungs- Pegel des zweiten Vorspannungs-Signals in Abhängigkeit von der Impulsbreite des ersten Vorspannungs- Signals zeigt.
  • Gemäß Fig. 6 der Zeichnungen wurde ein Bildsensor auf einem n-Halbleiter-Substrat 50 hergestellt, und in dem Halbleiter-Substrat 50 wurde eine p-Senke 51 erzeugt, in der zwei n-Störstellen-Regionen 52 und 53 hergestellt sind, die durch eine hoch dotierte p-Störstellen-Region 54 voneinander getrennt sind. Die n-Störstellen-Region 52 bildet zusammen mit der p-Senke 51 eine Fotodiode, und die n-Störstellen-Region 53 dient als einzelne Übertragungs-Stufe des Vertikal-Schieberegisters. Die n-Störstellen-Region 52, die p-Senke 51 und das n-Halbleiter-Substrat 50 bilden zusammen eine n-p-n-Struktur, welche als Vertikal-Überlaufableitung OFD dient. Die hoch dotierten p-Störstellen-Regionen 55 beziehungsweise 56 ergeben Kanalbegrenzungen. Die obere Oberfläche des Halbleiter-Substrates 50 ist von einer Isolationsschicht 57 aus Siliziumoxid bedeckt, und in der Isolationsschicht befindet sich eine Übertragungs-Elektrode 58. Der Übertragungs-Elektrode 58 wird ein Signal für das Auslesen zugeführt, und auf der Isolationsschicht 57 ist eine Lichtabschirmungs-Schicht 59 aufgebracht. Die Lichtabschirmungs-Schicht 59 läßt das optische Bild zur Fotodiode passieren, die andere Fläche ist jedoch durch die Lichtabschirmungs-Schicht 59 abgedeckt. Bei dem Vorgang wird die Fotodiode vollständig entleert, und eine potentialfreie Lichtabschirmungs-Schicht wurde unstabil. Dies ist einer der Gründe, warum die Fotoabschirmung 59 vorgespannt werden muß.
  • Es sei nun angenommen, daß die Lichtabschirmungs-Schicht 59 und das Halbleiter-Substrat 50 jeweils mit veränderlichen Widerständen VR1 und VR2 gekoppelt sind, dann ist der Ausgangs-Spannungs-Pegel Vccd des Bildsensors bei kostanter Vorspannung Vsub am Halbleiter-Substrat 50 direkt proportional dem Vorspannungs-Pegel Vps an der Lichtabschirmungs- Schicht 59, bei konstantem Vorspannungs-Pegel Vps an der Lichtabschirmungs-Schicht 59 sinkt er dagegen mit dem Ansteigen des Vorspannungs-Pegels Vsub am Halbleiter-Substrat 50 an. Fig. 7 zeigt den Ausgangs-Spannungs-Pegel Vccd des Bildsensors in Abhängigkeit vom Vorspannungs-Pegel Vps an der Lichtabschirmungs-Schicht 59 bei einer Vorspannung Vsub von etwa 10 Volt. Zum anderen ist die Beziehung zwischen dem Ausgangs-Spannungs-Pegel Vccd und dem Vorspannungs-Pegel Vsub in Fig. 8 dargestellt. Die Beziehungen zwischen Vorspannung Vsub und Ausgangs-Spannung Vccd wird ferner durch den Vorspannungs-Pegel Vps an der Lichtabschirmungs- Schicht 59 beeinflußt.
  • Der Grund für die direkte Proportionalität zwischen der Ausgangs-Spannung Vccd und dem Vorspannungs-Pegel Vps liegt darin, daß die Menge der in der Fotodiode 91 akkumulierten elektrischen Ladungen durch die elektrischen Kraftlinien EL beeinflußt wird, die sich von der Lichtabschirmungs-Schicht 92 ausbreiten, wie in Fig. 9 gezeigt wird. Dieses Phänomen ergibt sich aus dem Umstand, daß das Verhältnis der offenen Fläche zur Gesamtfläche der Lichtabschirmungs-Schicht 92 so klein ist und die Lichtabschirmungs-Schicht 59 so dick ist, daß die elektrischen Kraftlinien EL die Oberfläche der Fotodiode 91 vollständig bedecken können, so daß man annehmen kann, daß die Fotodiode 91 trotz der Öffnung 93 von der Lichtabschirmungs-Schicht 92 bedeckt wird.
  • Wie im vorhergehenden beschrieben, wird die Vertikal-Überlaufableitung OFD in der n-p-n-Struktur erzeugt, und bei Einstellen der Vorspannungs-Pegel Vps und Vsub tritt ein Durchgreif-Effekt auf, weil sich das Potential der Sperrschicht zwischen der n-Störstellen-Region 52 und der p- Senke auf Grund des Zusammenwirkens der Kapazitäten durch die Vorspannungen Vps und Vsub fixieren läßt. Wenn der Durchgreif-Effekt auftritt, werden die in der Fotodiode akkumulierten elektrischen Ladungen in das Halbleiter-Substrat abgeleitet. Auf diese Weise wird die Vertikal-Überlaufableitung OFD durch eine einfache n-p-n-Struktur realisiert, ohne eine Defektelektronen-Sammel-Schicht 44, und aus diesem Grund ist der Bildsensor gemäß vorliegender Erfindung leicht herzustellen.
  • Erstes Ausführungsbeispiel
  • Gemäß Fig. 10 der Zeichnungen ist ein Bildsensor, der die vorliegende Erfindung verkörpert, auf einem n-Silizium-Substrat 100 hergestellt, und er enthält eine Vielzahl von Fotosensorelementen, die als Fotodioden PD11, PD1n, ..., PDm1 und PDmn realisiert sind, eine Vielzahl von Vertikal-Schieberegistern VR1 bis VRn, die den Spalten der Fotodioden PD11, PD1n, ..., PDm1 beziehungsweise PDmn zugeordnet sind, ein Horizontal-Schieberegister HR, das mit den Vertikal- Schieberegistern VR1 bis VRn verbunden ist, eine Vertikal- Überlaufableitung OFD, die weiter unten in Verbindung mit der Struktur des Bildsensors beschrieben wird, eine Impulserzeugungs-Einheit 101 und eine Vorspannungs-Steuereinheit 102. Bei diesem Beispiel bestehen sowohl alle Vertikal-Schieberegister VR1 bis VRn als auch das Horizontal- Schieberegister HR aus ladungsgekoppelten Anordnungen. Die Impulserzeugungs-Einheit 101 versorgt die Vertikal- und Horizontal-Schieberegister mit einem mehrphasigen Vertikal- Übertragungs-Impuls-Signal VPL beziehungsweise einem mehrphasigen Horizontal-Übertragungs-Impuls-Signal HPL, und das Fotodioden-Array PD11 bis PDmn und das Silizium-Substrat 100 sind mit der Vorspannungs-Steuereinheit 102 verbunden, die sie mit einem ersten Vorspannungs-Signal Vps beziehungsweise einem zweiten Vorspannungs-Signal Vsub versorgt. Diese wesentlichen Teilschaltungen und -einheiten werden ferner durch verschiedene periphere Schaltungen unterstützt, auf deren Beschreibung jedoch verzichtet wird, da sie für das Verständnis der vorliegenden Erfindung nicht erforderlich ist.
  • Wenden wir uns Fig. 11 der Zeichnungen zu, in der die Struktur eines Teils des Silizium-Substrates 100 dargestellt ist, wobei in dem Silizium-Substrat 100 eine p-Senke 110 ausgebildet ist. In der p-Senke 110 sind zwei n-Störstellen-Regionen 111 und 112 eingebracht, welche durch eine hoch dotierte p-Störstellen-Region 113 voneinander getrennt sind. Die n-Störstellen-Region 111 bildet einen Teil einer der Fotodioden PD11 bis PDmn, und die n-Störstellen-Region 112 bildet eine einzelne Übertragungsstufe eines der Vertikal-Schieberegister VR1 bis VRn. Obwohl in Fig. 11 nicht gezeigt, existiert eine große Anzahl von n-Störstellen-Regionen in Matrixform zur Erzeugung der Fotodioden PD11 bis PDmn. In der p-Senke sind ferner zwei hoch dotierte p-Störstellen-Regionen 114 und 115 als Kanalbegrenzungen implantiert. Das n-Silizium-Substrat 100, die p-Senke 110 und die n-Störstellen-Regionen der Fotodioden PD11 bis PDmn bilden eine n-p-n-Struktur, welche als Vertikal-Überlaufableitung OFD dient. Die n-p-n-Struktur entsteht ohnehin bei einem Bildsensor, wie etwa dem gewöhnlichen in Fig. 4B dargestellten Bildsensor, und aus diesem Grunde läßt sich die Vertikal-Überlaufableitung OFD einfach herzustellen, ohne eine zusätzliche Störstellen-Region, wie etwa die Defektelektronen-Sammel-Region 44 in Fig. 4A.
  • Die gesamte Struktur ist von einer Isolationsschicht 116 aus Siliziumoxid bedeckt, und in der Isolationsschicht 116 sind Übertragungselektroden, wie die Elektrode 117 eingebettet. Jede der Übertragungselektroden ist mit der Impulserzeugungs-Einheit 101 verbunden, und das mehrphasige Vertikal-Übertragungs-Impuls-Signal VPL wird periodisch an die Übertragungselektroden angelegt. Auf der Isolationsschicht 116 ist eine leitende Lichtabschirmungs-Schicht 118 aufgebracht, welche mit der Vorspannungs-Steuereinheit 102 verbunden ist, so daß das erste Vorspannungs-Signal Vps an der leitenden Lichtabschirmungs-Schicht 118 anliegt.
  • Die Vorspannungs-Steuereinheit 102 enthält drei monostabile Multivibrator-Schaltungen MM1, MM2 und MM3, einen einzelnen D-Flip-Flop DFF, und zwei Verstärkerschaltungen AM1 und AM2. Der monostabilen Multivibrator-Schaltung MM1 wird ein Vertikal-Treiber-Impuls-Signal VD zugeführt, und die monostabile Multivibrator-Schaltung MM1 erzeugt über eine vorgegebene Zeitdauer ein Ausgangs-Signal mit High-Pegel. Das Ausgangs-Signal mit High-Pegel von der monostabilen Multivibrator-Schaltung MM1 wird dem D-Eingang der Flip-Flop- Schaltung DFF zugeführt, und in den Takt-Eingang CLK der Flip-Flop-Schaltung DFF wird das Horizontal-Treiber-Impuls- Signal HD eingespeist. Dann wird die D-Flip-Flop-Schaltung DFF durch das Horizontal-Treiber-Impuls-Signal HD getriggert, und das Ausgangs-Signal mit High-Pegel von der monostabilen Multivibrator-Schaltung MM1 wird durch die D-Flip- Flop-Schaltung DFF zwischengespeichert, wodurch am Ausgangs-Knoten Q derselben ein Ausgangs-Signal mit High-Pegel entsteht. Das Ausgangs-Signal mit High-Pegel von der Flip- Flop-Schaltung DFF wird der zweiten monostabilen Multivibrator-Schaltung MM2 zugeführt, welche danach ihr Ausgangs-Signal mit High-Pegel in die dritte monostabile Multivibrator-Schaltung MM3 einspeist. Die Ausgangs-Knoten Q und CQ der dritten monostabilen Multivibrator-Schaltung MM3 sind mit den Verstärker-Schaltungen AM1 beziehungsweise AM2 verbunden, so daß die Verstärker-Schaltungen AM1 und AM2 erste und zweite Vorspannungs-Signale Vps und Vsub erzeugen, deren Polarität entgegengesetzt zueinander ist, wie in den Fign. 12 und 13 gezeigt wird. Bei diesem Beispiel pendelt der Spannungspegel des Vorspannungs-Signals Vps etwa zwischen +5 V und -10 V, und der Spannungspegel des zweiten Vorspannungs-Signals pendelt etwa zwischen 40 V und 10 V. Der High-Pegel des ersten Vorspannungs-Signals Vps gestattet den Fotodioden PD11 bis PDmn, ausreichend elektrische Ladungen zu akkumulieren, und der Low-Pegel des ersten Vorspannungs-Signals Vps ist niedrig genug, um die akkumulierten elektrischen Ladungen von den Fotodioden abzuziehen. Der High-Pegel des zweiten Vorspannungs-Signals Vsub ist verantwortlich für die Ableitung aller akkumulierten elektrischen Ladungen in das Silizium-Substrat 100, und der Low-Pegel des zweiten Vorspannungs-Signals Vsub ermöglicht das Auftreten des Durchgreif-Effektes in der n-p-n-Struktur. Da der erste und der zweite Vorspannungs-Pegel Vps und Vsub entgegengesetzte Polaritäten aufweisen, stellt sich die Sperrschicht zwischen der n-Störstellen-Region 111 und der p-Senke 110 auf Grund der Kapazitäten infolge der ersten und zweiten Vorspannungs-Signale Vps und Vsub auf ein festes Potential ein. Obwohl die Fotodioden PD11 bis PDmn von der Art sind, daß sie eine Verarmungs-Sperrschicht besitzen, können die akkumulierten Ladungen in das Silizium- Substrat 100 abgeleitet werden, so fern das Potential der Sperrschicht fest gehalten wird.
  • Nachfolgend erfolgt die Beschreibung der Wirkungsweise unter gleichzeitiger Bezugnahme auf Fig. 12 und Fig. 13. Bei diesem Beispiel werden die Vertikal- und Horizontal-Treiber-Impuls-Signale in der Weise zugeführt, daß die Vorderflanken und die Rückflanken der ersten und der zweiten Vorspannungs-Signale Vps und Vsub in einer Horizontal-Austastperiode HBT liegen, wie in Fig. 12 gezeigt wird, wobei diese Anordnung dazu geeignet ist, unerwünschtes Verschiebe-Rauschen bei einem auf einem Display (nicht gezeigt) angezeigten Bild zu unterdrücken. Mit demselben Ziel können die ersten und zweiten Vorspannungs-Signale jedoch auch in einer Vertikal-Austastperiode VBT erzeugt werden. Wenn die ersten und zweiten Vorspannungs-Signale Vps und Vsub zum Zeitpunkt t11 auftreten, werden die unwirksamen elektrischen Ladungen mit Hilfe des Durchgreif-Effektes von den Fotodioden PD11 bis PDmn in die Vertikal-Überlaufableitung OFD abgeleitet, und die wirksamen elektrischen Ladungen werden zum Zeitpunkt t12 bei anliegendem Auslese-Signal RD von den Fotodioden PD11 und PDmn ausgelesen. Dann werden die bei Vorhandensein eines optischen Bildes eines Objektes wirksamen elektrischen Ladungen in den entsprechenden Fotodioden PD11 bis PDmn über die Zeitdauer Tsht akkumuliert, und damit errechnet sich die Verschlußgeschwindigkeit aus der Zeitdauer Tsht.
  • Wenden wir uns Fig. 13 der Zeichnungen zu, in der zum Zeitpunkt T21 das Vertikal-Treiber-Impuls-Signal VD eintrifft und die erste monostabile Multivibrator-Schaltung MM1 zum Zeitpunkt t22 ein Ausgangs-Signal mit High-Pegel erzeugt. Das Ausgangs-Signal mit High-Pegel von der monostabilen Multivibrator-Schaltung MM1 wird bei Anliegen des Horizontal-Treiber-Impuls-Signals HD (in Fig. 13 nicht gezeigt), das zwischen den Zeitpunkten t22 und t23 erzeugt wird, von der D-Flip-Flop-Schaltung DFF zwischengespeichert, und die zweite monostabile Multivibrator-Schaltung MM2 wird durch das Ausgangs-Signal der Flip-Flop-Schaltung DFF getriggert, wodurch zum Zeitpunkt t23 ein Ausgangs-Signal mit High-Pegel erzeugt wird. Das Ausgangs-Signal mit High-Pegel von der zweiten monostabilen Multivibrator-Schaltung MM2 wird der dritten monostabilen Multivibrator-Schaltung MM3 zugeführt, so daß zum Zeitpunkt t24 die Verstärker-Schaltungen AM1 beziehungsweise AM2 von der dritten monostabilen Multivibrator-Schaltung MM3 die komplementären Ausgangs-Signale erhalten. Die Verstärkerschaltung AM2 erzeugt ein zweites Vorspannungs-Signal Vsub mit einem extrem hohen Pegel, die Verstärkerschaltung AM1 legt dagegen ein negatives erstes Vorspannungs-Signal Vps an die leitende Lichtabschirmungs- Schicht 118.
  • Durch die ersten und zweiten Vorspannungs-Signale Vps und Vsub schwankt der Potential-Pegel der n-Störstellen-Regionen für Teile der Fotodioden PD11 bis PDmn stark, und aus diesem Grunde tritt in der Vertikal-Überlaufableitung OFD ein Durchgreif-Effekt auf. Dies führt dazu, daß die unwirksamen elektrischen Ladungen von den Fotodioden PD11 bis PDmn in das Halbleiter-Substrat 100 abgeleitet werden, und die Akkumulation der wirksamen elektrischen Ladungen nach Erholung der Potential-Pegel in den n-Störstellen-Regionen beginnt. Nach Beendigung der Akkumulation erscheint zum Zeitpunkt t25 das Auslese-Signal RD, mit dem die Fotodioden PD11 bis PDmn an die zugehörigen Vertikal-Schieberegister VR1 bis VRn geschaltet werden, und die wirksamen elektrischen Ladungen werden an die Vertikal-Schieberegister VR1 bis VRn übertragen. Die so ausgelesenen wirksamen elektrischen Ladungen werden in Reaktion auf das mehrphasige Vertikal-Übertragungs-Signal VPL an das Horizontal-Schieberegister HR übergeben, und das Horizontal-Schieberegister überträgt wiederum die wirksamen elektrischen Ladungen synchron mit dem mehrphasigen Horizontal-Übertragungs-Impuls- Signal HPL nach außen. Somit werden die ersten und zweiten Vorspannungs-Signale Vps und Vsub zwischen zwei Auslese-Signalen RD1 und RD2 erzeugt, und die Verschlußzeitdauer Tsht ist durch die Zeitspanne zwischen den ersten und zweiten Vorspannungs-Signalen Vps und Vsub und dem Auslese- Signal RD2 definiert. Bei diesem Beispiel wurde auf Grund der Vertikal-Überlaufableitung OFD ein Verschlußgeschwindigkeits-Bereich zwischen etwa einer sechzehntel und weniger als einer tausendstel Sekunde erreicht.
  • Zweites Ausführungsbeispiel
  • Wenden wir uns Fig. 14 der Zeichnungen zu, in der ein Teil eines Bildsensors gemäß vorliegender Erfindung dargestellt ist und der dem in den Fig. 10 und 11 gezeigten Bildsensor mit Ausnahme der Vorspannungs-Steuer-Einheit 201 im Aufbau gleicht, so daß die Bestandteile durch identische Nummern und Symbole bezeichnet wurden, der Einfachheit halber ohne ausführliche Beschreibung.
  • Die Vorspannungs-Steuer-Einheit 201 enthält vier monostabile Multivibrator-Schaltungen MM11, MM12, MM13 und MM14, einen D-Flip-Flop DFF und zwei Verstärkerschaltungen AM1 und AM2. Unterschiede zur Steuereinheit 102 bestehen in der Anordnung der monostabilen Multivibrator-Schaltungen MM12 bis MM14 und in der Verbindung zu den Verstärkerschaltungen AM1 und AM2. Die monostabilen Multivibrator-Schaltungen MM12 bis MM14 sind miteinander in Kaskade verbunden, und die Verstärkerschaltungen AM1 beziehungsweise AM2 sind mit den entsprechenden Ausgangs-Knoten der monostabilen Multivibrator-Schaltungen MM13 und MM14 verbunden. Bei der so gestalteten Vorspannungs-Steuereinheit 201 beginnt das erste Vorspannungs-Signal Vps vor dem zweiten Vorspannungs- Signal Vsub, wie Fig. 15 zeigt. Die Vorderflanke des ersten Vorspannungs-Signals Vps fällt in eine Horizontal-Austastperiode HBT1, und die Rückflanke des ersten Vorspannungs- Signals Vps liegt in der nachfolgenden Austast-Periode HBT2. Folglich verbleibt das erste Vorspannungs-Signal Vps über zwei Horizontal-Austastperioden HBT1 bis HBT2 im aktiven Low-Pegel. Die wirksame Impuls-Amplitude des zweiten Vorspannungs-Signals Vsub hängt von der Impulsbreite des ersten Vorspannungs-Signals Vps ab, wie in Fig. 16 gezeigt wird, und der High-Pegel des zweiten Vorspannungs-Signals Vsub läßt sich verringern, wenn die Impulsbreite des ersten Vorspannungs-Signals Vps vergrößert wird. Weil das erste Vorspannungs-Signal Vps über zwei Horizontal-Austastperioden aüf Low-Pegel verbleibt, wird der High-Pegel der zweiten Vorspannung Vsub im Vergleich zum ersten Ausführungsbeispiel gesenkt.
  • Wie aus der vorangehenden Beschreibung deutlich wurde, besitzt die Überlauf-Ableitung, die in einem Bildsensor entsprechend der vorliegenden Erfindung enthalten ist, eine einfache Struktur und gestattet aus diesem Grunde eine höhere Produktivität und damit Ausbeute in der Produktion. Der Bildsensor entsprechend der vorliegenden Erfindung ist in der Lage, den elektronischen Verschluß-Modus ohne jeden Akkumulationsspeicher oder irgendein hochfrequentes Übertragungs-Impuls-Signal zu realisieren.
  • Obwohl spezielle Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung gezeigt und beschrieben wurden, ist es für den Fachmann naheliegend, daß verschiedene Änderungen und Modifikationen möglich sind. Zum Beispiel können die Verstärker-Schaltungen AM1 durch eine Inverterschaltung ergänzt und mit dem Q-Knoten verbunden werden.

Claims (1)

  1. Bildsensor mit Zwischenzeilen-Übertragung, der auf einem Halbleitersubstrat eines ersten Leitungstyps hergestellt ist und der einen elektronischen Verschluß-Modus und einen Ladungsübertragungs-Modus besitzt, mit:
    a) einer Vielzahl von Fotosensor-Elementen (PD), die in Zeilen und Spalten angeordnet sind und die bei Anwesenheit von optischen Bildern im Verschluß-Modus wirksame elektrische Ladungen und, wenn sie sich nicht im elektronischen Verschluß-Modus befinden, unwirksame elektrische Ladungen ansammeln, wobei die Fotosensor-Elemente durch eine Vielzahl von Störstellen-Regionen (52, 111) des ersten Leitungstyps in einer Senke (51, 110) gebildet werden, die auf dem Halbleitersubstrat (50, 100) angeordnet ist und einen zweiten Leitungstyps mit entgegengesetzter Polarität zum ersten Leitungstyp aufweist;
    b) einer Vielzahl von vertikalen Schieberegistern (VSR) in der Senke, die jeweils mit den Spalten der Fotosensor-Elemente (PD) gekoppelt sind und im Ladungsübertragungs-Modus bei Anwesenheit des Auslese-Signals (RD), das in der Vertikalaustastperiode (VBT) erzeugt wird, die wirksamen elektrischen Ladungen von den Fotosensor-Elementen gleichzeitig empfangen und die wirksamen elektrischen Ladungen mit Hilfe eines mehrphasigen Vertikalübertragungssignals (VPL) seriell übertragen,
    c) einem horizontalen Schieberegister (HSR), das zur Übertragung und Ausgabe der wirksamen elektrischen Ladungen, die mit Hilfe des mehrphasigen Horizontalübertragungssignals (HPL) von den vertikalen Schieberegistern zugeführt werden, mit den vertikalen Schieberegistern (VSR) gekoppelt ist,
    d) einer Impulserzeugungs-Einheit (101) für die Erzeugung des mehrphasigen Vertikalübertragungssignals (VPL), des mehrphasigen Horizontalübertragungssignals (HPL), eines Vertikaltreibersignals (VD) und eines Horizontaltreibersignals (HD), und
    e) einer leitenden Fotoabschirmung (59, 92, 118), die über der Senke angeordnet ist und eine Öffnung besitzt, welche die Belichtung der Fotosensor-Elemente mit den optischen Bildern ermöglicht, wobei
    der Bildsensor gekennzeichnet ist durch
    eine Vorspannungs-Steuer-Einheit (102), die in Reaktion auf die Vertikal- und Horizontaltreibersignale (VD, HD) ein erstes und zweites Vorspannungs-Signal (VPS, Vsub) erzeugt und dazu dient, das erste und zweite Vorspannungs-Signal in die Fotoabschirmung (59, 92, 118) beziehungsweise das Halbleitersubstrat (50, 100) einzuspeisen, bevor das Auslese- Signal (RD) erzeugt wird, wobei für die Zeit (Tsht) von der Rückflanke des ersten und zweiten Vorspannungs-Signals bis zur Erzeugung des Auslese-Signals der elektronische Verschluß-Modus eingestellt ist und eine vertikale Überlauf- Ableitung für jedes Fotosensor-Element durch die Kombination aus Halbleitersubstrat (50, 100), Senke (51, 110) und eine der Störstellen-Regionen (52, 111) gebildet wird, ferner gekennzeichnet dadurch, daß das erste und zweite Vorspannungs-Signal jeweils erste Spannungs-Pegel besitzen, die in der Weise ausgewählt werden, daß in der vertikalen Überfluß-Ableitung ein Durchschlag zum Abfluß der uneffektiven elektrischen Ladungen in das Halbleitersubstrat stattfindet.
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Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02155378A (ja) * 1988-12-07 1990-06-14 Nec Corp 固体撮像素子の駆動方法
US5282041A (en) * 1988-12-15 1994-01-25 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Apparatus for driving image pick-up device
US5132759A (en) * 1989-07-28 1992-07-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Solid-state imaging device in which reverse bias voltage is automatically set
JPH0360159A (ja) * 1989-07-28 1991-03-15 Nec Corp 固体撮像素子
JP2808315B2 (ja) * 1989-08-08 1998-10-08 旭光学工業株式会社 撮像素子駆動装置
JPH03163872A (ja) * 1989-11-22 1991-07-15 Hamamatsu Photonics Kk 撮像デバイス
US5276341A (en) * 1990-05-11 1994-01-04 Gold Star Electron Co., Ltd. Structure for fabrication of a CCD image sensor
US5410349A (en) * 1990-07-06 1995-04-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Solid-state image pick-up device of the charge-coupled device type synchronizing drive signals for a full-frame read-out
US5215928A (en) * 1990-09-07 1993-06-01 Sony Corporation Method of manufacturing a semiconductor device for optical pick-up
US5329149A (en) * 1990-10-12 1994-07-12 Seiko Instruments Inc. Image sensor with non-light-transmissive layer having photosensing windows
KR930008527B1 (ko) * 1990-10-13 1993-09-09 금성일렉트론 주식회사 Npn형 vccd 구조의 고체촬상 소자
JPH05275673A (ja) * 1992-03-24 1993-10-22 Sony Corp 固体撮像素子
JP3271086B2 (ja) * 1992-09-29 2002-04-02 ソニー株式会社 固体撮像素子の駆動回路
DE69329100T2 (de) * 1992-12-09 2001-03-22 Koninklijke Philips Electronics N.V., Eindhoven Ladungsgekoppelte Anordnung
US5489994A (en) * 1993-10-29 1996-02-06 Eastman Kodak Company Integrated apertures on a full frame CCD image sensor
US5598210A (en) * 1995-02-15 1997-01-28 Eastman Kodak Company On chip driver for electric shuttering
JP3598648B2 (ja) * 1996-04-02 2004-12-08 ソニー株式会社 電荷転送素子及び電荷転送素子の駆動方法
US5986297A (en) * 1996-05-22 1999-11-16 Eastman Kodak Company Color active pixel sensor with electronic shuttering, anti-blooming and low cross-talk
US5872371A (en) * 1997-02-27 1999-02-16 Eastman Kodak Company Active pixel sensor with punch-through reset and cross-talk suppression
JP2812310B2 (ja) * 1996-07-30 1998-10-22 日本電気株式会社 固体撮像装置及びその製造方法
JP3308904B2 (ja) * 1998-06-24 2002-07-29 キヤノン株式会社 固体撮像装置
US6218692B1 (en) 1999-11-23 2001-04-17 Eastman Kodak Company Color active pixel sensor with electronic shuttering, anti-blooming and low cross talk
US7075575B2 (en) * 2000-11-06 2006-07-11 Isetex, Inc. Gated vertical punch through device used as a high performance charge detection amplifier
US6800870B2 (en) * 2000-12-20 2004-10-05 Michel Sayag Light stimulating and collecting methods and apparatus for storage-phosphor image plates
JP4833722B2 (ja) * 2006-04-25 2011-12-07 パナソニック株式会社 撮像装置、固体撮像装置および撮像装置の駆動方法
US9848142B2 (en) * 2015-07-10 2017-12-19 Semiconductor Components Industries, Llc Methods for clocking an image sensor

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3896485A (en) * 1973-12-03 1975-07-22 Fairchild Camera Instr Co Charge-coupled device with overflow protection
JPS5451318A (en) * 1977-09-29 1979-04-23 Sony Corp Solid pickup unit
JPS6033345B2 (ja) * 1979-06-08 1985-08-02 日本電気株式会社 電荷転送撮像装置とその駆動方法
JPS5919480A (ja) * 1982-07-26 1984-01-31 Olympus Optical Co Ltd 固体撮像装置
JPH07118788B2 (ja) * 1986-10-28 1995-12-18 株式会社東芝 電子スチルカメラ
US4831453A (en) * 1987-04-10 1989-05-16 Kabushiki Kaisha Toshiba Solid-state imaging device having high-speed shutter function and method of realizing high-speed function in solid-state imaging device
US4912560A (en) * 1988-01-29 1990-03-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Solid state image sensing device

Also Published As

Publication number Publication date
DE68915930D1 (de) 1994-07-14
EP0365000B1 (de) 1994-06-08
JPH02113678A (ja) 1990-04-25
EP0365000A1 (de) 1990-04-25
US4977584A (en) 1990-12-11

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