[go: up one dir, main page]

DE624339C - Photozelle - Google Patents

Photozelle

Info

Publication number
DE624339C
DE624339C DES97834D DES0097834D DE624339C DE 624339 C DE624339 C DE 624339C DE S97834 D DES97834 D DE S97834D DE S0097834 D DES0097834 D DE S0097834D DE 624339 C DE624339 C DE 624339C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photocell
insulating
insulating support
semiconductor
carrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DES97834D
Other languages
English (en)
Inventor
Dr Hans Kersehbaum
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens and Halske AG
Siemens Corp
Original Assignee
Siemens and Halske AG
Siemens Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens and Halske AG, Siemens Corp filed Critical Siemens and Halske AG
Priority to DES97834D priority Critical patent/DE624339C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE624339C publication Critical patent/DE624339C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D48/00Individual devices not covered by groups H10D1/00 - H10D44/00
    • H10D48/01Manufacture or treatment
    • H10D48/04Manufacture or treatment of devices having bodies comprising selenium or tellurium in uncombined form
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F30/00Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

  • Photozelle Im Hauptpatent werden. Verfahren undE'inrichtungen zur Herstellung von lichtempfindlichen elektrischen Zellen beschrieben, deren Wirksamkeit auf der Veränderung der elektrischen Leitfähigkeit eines Halbleiters bei Belichtung beruht. Um .die Halbleiterschicht unter exakt definierten Bedingungen herzustellen, wird im Hauptpatent vorgeschlagen, den isolierenden Träger, auf den die Halbleiterschicht aufgebracht wird; auf genau konstanter Temperatur während des Aufbrsngens zu halten:. Der Halbleiter wird dabei vorzugsweise in atomarer Form auf die isolierende Unterlage aufgebracht.
  • Gemäß vorliegender Erfindung wird die Photozelle derart ausgebildet, daß ein Körper aus gut wärmeleitendem Material mit einer sehr dünnen Schlicht eines Isolators überzogen ist, die als Träger für die Elektroden.. und den Halbleiter dient. Auf diese Weise. gelingt es, den .isolierenden Träger so dünn zu machen, daß zwischen seinen beiden Seiten ein so schneller Wärmeaustausch erfolgt, d@aß auch bei ungleichmäßiger Aufbringung des Halbleiters die Temperatur, bei der er auf dem Isolator niedergeschlagen wird, sehr genau konstant bleibt. Die Herstellung der neuen Photozellen sei an Hand der Figur beschrieben. Die Platte i aus gut wärmeleitendem Material, z. B. aus Kupfer, ist mit der dünnen Schicht 2 aus elektrisch isolierendem Material überzogen. Auf diese Schicht wird dis Elektrodenraster 3 und der Halbleiter aufgebracht. Die Kupferplatte i dient als Abschluß der oberen Ein:stülpung 5 dies Gefäßes q.. Um den Halbleiter bei genau vorgeschriebener konstanter Temperatur niederzuschlagen, wird durch die Einstülpung 5 mit Hilfe der Röhren b und 7 eine Flüssigkeit geleitet, die sich auf der vorgeschriebenen Temperatur befindet. Da die Platte r sehr gut wärmeleitend. ist, befindet sie sich durch und durch auf der gewünschten Temperatur.
  • Die Herstellung der Halbleiterschicht kann beispielsweise durch Kathodenzerstäubung erfolgen, wobei mit Hilfe der Zuleitungen 8 und 9 an das Raster das positive und an die im Innern des Gefäßes aufgestellte Kathode io das negative Potential gelegt ist. -Tritt nun durch eine geringe Ungleichmäßigkeit beim Zerstäuben des Halbleiters i i eine ungleichmäßige Erwärmung des Elektrodenrasters an einzelnen Stellen ein, so gleicht sich, da die Schicht 2 so dünn ist, d@aß sie einen schnellen Wärmedurchschnitt gestattet, die Temperatur schnell genug-_wieder aus, -um eine auch nur stellenweise Änderung in der Modifikation des niedergeschlagenen Halbleiters zu- vermeiden.
  • Der isolierende Träger, auf .dem der Halbleiter aufgebracht wird, kann beispielsweise durch einen Lack, der auch bei genügend hoher Terüperatur widerstandsfähig ist, hergestellt werden, indem er auf eine Metallplatte aufgestrichen wird. Die Auffangtemperatur kann bei Selenzellen beispielsweise bis aio°C betragen.
  • Auch kann die Isolierschicht durch Glasieren einer Metallplatte oder durch ähnliche Verfahren: gewonnen werden. Es empfiehlt sich, Tals Material eine solche Substanz zu verwenden, die eine möglichst ;hohe elektrische Isolierfestigkeit mit guter Wärmedurchlässigkeit vereinigt: Die Schicht braucht dann nur so stark zu sein, :dt.ß sie bei den Spannungen, für die -die Zelle benutzt werden soll, genügend isoliert. = Die Herstellung der Elektroden kann bei den neuen Zellen nach beliebigen Verfahren, die auch sonst bei .der Herstellung von lichtelektrischen Zellen anwendbar sind, erfolgen. Beispielsweise kann ein Elektrodenraster aufgedruckt, aufphotogxraphiert oder in eine gleichmäßig aufgestäubte Metallhaut eingeschnitten werden. Besonders vorteilhaft ist es, das Raster nach Auflegen einer Schablone katholisch aufzustäuben. Als Halbleiter können sowohl Selen als auch die anderen Subsbanzen mit belichtungsabhängiger Leitfähigkeit, wie Tellur, Thalliumsulfid und andere, zur Anwendung gelangen. -Die Elektroden können bei den neuen Zellen auch nach Aufbringen der Halbleiterschicht auf dieser erzeugt werdenc Es ist z. B. möglich, das Selen wie das Dielektrikurn eines Kondensators zwischen zwei Elektroden anzuordnen, indem auf .den: isolierenden Träger abwechselnd die eine Elektrode, der Halbleiter und die andere Elektrode aufgestäubt werden. Das'Aufstäuben der letzten Elektrode gelingt erst-bei den neuen Zellen in einwandfreier Weise, da sie ,gestatten, die Halbleiterschicht stark genug zu kühlen, um ein Verdampfen beim Aufstäuben der Elektrode zu verhindern.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Photozelle nach. dem Herstellungsverfahren des Hauptpatents 6z3 488, bei dem ein Halbleiter mit belichtungsabhängigem Widerstand in atomarer Form auf einen zweckmäßig vorher mit Elektroden versehenen isolierenden, auf konstanter. Formierungstemperatur gehaltenen Träger aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß_ der isolierende Träger als dünner Überzug eines gut wärmeleitenden .Körpers ausgebildet ist. a. Photozelle nach Anspruch z, dadurch gekennzeichnet, daß der isolierende Träger aus einer wärmebeständigen Lackschicht besteht. 3. Photozelle nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß der isolierende Träger als Glasur des gut wärmeleitenden Körpers ausgebildet ist. q.. Photozelle nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß der isolierende Träger nicht dicker ist, als zur Spannungsisolierung der fertigen, Zelle erforderlich ist. 5. Photozelle nach Anspruch. i, dadurch gekennzeichnet, d'aß .der isolierende Träger aus einer gut wärmeleitenden und schlecht elektrisch leitenden Substanz besteht. 6. Photozelle:nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß auf den Halbleiter auf der vom isolierendenTräger abgewandten Seite eine Elektrode aufgebracht ist. 7. Verfahren zur Herstellung von Photozellen nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektroden unter Benutzung einer Schablone auf den isolierenden Träger aufgedampft oder aufgestäubt werden.
DES97834D 1931-04-02 1931-04-02 Photozelle Expired DE624339C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES97834D DE624339C (de) 1931-04-02 1931-04-02 Photozelle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES97834D DE624339C (de) 1931-04-02 1931-04-02 Photozelle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE624339C true DE624339C (de) 1936-01-17

Family

ID=7521016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES97834D Expired DE624339C (de) 1931-04-02 1931-04-02 Photozelle

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE624339C (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2753278A (en) * 1951-04-14 1956-07-03 Haloid Co Method for the production of a xerographic plate
DE1117790B (de) * 1957-09-03 1961-11-23 Nat Res Dev Zur Herstellung von Photohalbleiterzellen, Strahlungsfiltern od. dgl. geeignetes Halbleitermaterial

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2753278A (en) * 1951-04-14 1956-07-03 Haloid Co Method for the production of a xerographic plate
DE1117790B (de) * 1957-09-03 1961-11-23 Nat Res Dev Zur Herstellung von Photohalbleiterzellen, Strahlungsfiltern od. dgl. geeignetes Halbleitermaterial

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1696075C3 (de) Verfahren zur partiellen Galvanisierung einer Halbleiterschicht
DE2052424C3 (de) Verfahren zum Herstellen elektrischer Leitungsverbindungen
DE2542194A1 (de) Verfahren zur herstellung von photoelementen
DE2227751A1 (de) Elektrischer kondensator
DE1589727C3 (de) Elektrolytkondensator und Verfahren zu dessen Herstellung
DE624339C (de) Photozelle
DE1121241B (de) Lichtelektrische Vorrichtung mit Bleioxydschicht als Photoleiter und Verfahren zu deren Herstellung
DE1275221B (de) Verfahren zur Herstellung eines einen Tunneleffekt aufweisenden elektronischen Festkoerperbauelementes
DE3312249A1 (de) Amorphe silizium-solarbatterie
DE908043C (de) Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern, vorzugsweise solcher mit Leichtmetall-Traegerelektroden
DE501228C (de) Verfahren zur Herstellung von Gleichrichterelementen zu Trockengleichrichtern mit Selenschicht
DE2534468B2 (de) Verfahren zum herstellen eines gitters fuer elektronenroehren
DE102019104062B3 (de) Thermoelektrisches Element und Verfahren zur Herstellung
DE971697C (de) Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern
DE2543079A1 (de) Verfahren zum herstellen von festkoerperkondensatoren
DE898468C (de) Verfahren zur Herstellung von elektrischen Widerstaenden
DE862198C (de) Verfahren zur Herstellung eines Trockengleichrichters
DE1103104B (de) Verfahren und Vorrichtung zur elektrolytischen Formierung eines Bandes aus filmbildendem Metall, insbesondere von Elektrodenfolien fuer Elektrolytkondensatoren
DE634594C (de) Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen Zellen
DE1564285C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer Selengleichrichterplatte mit zweilagiger Selenschicht
DE2030185C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer für Röntgenstrahlen empfindlichen Widerstandszelle
DE2057538C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Thermogenerators und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens
AT117652B (de) Verfahren zur Herstellung lichtempfindlicher Zellen.
DE915594C (de) Verfahren zur Herstellung von Selengleichrichtern und Selenphotozellen
AT138317B (de) Verfahren zur Herstellung von Vorderelektroden an Sperrschicht-Photozellen.