DE4343114C2 - Verfahren zur Herstellung von Stofftrennmembranen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von StofftrennmembranenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung für
nach dem Prinzip der Pervaporation und/oder der
Gasseparation arbeitende Stofftrennmembranen, bei dem
zunächst auf einem wenigstens mikroporösen Träger eine
Schicht eines trennaktiven Polymers aufgebracht wird.
Membranen dieser Art werden beispielsweise dazu verwen
det, organische Flüssigkeiten und Flüssigkeitsgemische
zu entwässern und auch mit Wasserdampf beladene Gas
ströme bzw. Gasgemischströme durch Anwendung des Mem
branverfahrens Pervaporation zu trocknen. An sich sind
derartige Membranen seit langem bekannt und liefern für
die verschiedensten Trennaufgaben im wesentlichen
brauchbare Ergebnisse.
Die bekannten Verfahren zur Herstellung von Membranen
bzw. die Membranen selbst weisen jedoch verschiedene
Nachteile auf, die die Einsatzmöglichkeiten der Membra
nen begrenzen. So sind beispielsweise aus der
US-PS 4 755 299 Membranen bekannt, die durch Aufbringen einer
wäßrigen Lösung aus Polyvinylalkohol auf einem Träger
hergestellt werden, welche in geeigneter Weise in einem
zweiten Schritt vernetzt werden muß, um als wasserun
lösliche trennaktive Schicht fungieren zu können. In
folge der Vernetzung sind aber die erreichbaren Stoff
stromdichten begrenzt. Bei einer anderen aus der
DD-PS 2 85 555 bekannten Membran, deren trennaktive Schicht aus
Polyelektrolytkomplexen gebildet wird, wird die Membran
durch aufeinanderfolgende Beschichtung eines Trägers mit
wäßrigen Lösungen eines Polyanions und Polykations
hergestellt. Die wasserlösliche trennaktive Schicht
entsteht in der Grenzfläche beider Polyionenlösungen,
wobei nicht umgesetzte Polyelektrolyte in einem an
schließenden Arbeitsgang ausgewaschen werden. Bei der
Herstellung dieser Membranen fallen somit Abprodukte
durch notwendige Waschvorgänge an, die entsorgt bzw.
recycelt werden müssen.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung ein Verfahren
zur Herstellung von Stofftrennmembranen der eingangs ge
nannten Art zu schaffen, die einerseits eine material
schonende und energiesparende Arbeitsweise gestatten,
d. h. hohe Flüsse auch bei geringen Prozeßtemperaturen
gestattet und andererseits zur Trennung temperaturem
pfindlicher organischer Substanzen eingesetzt werden
können und schließlich auch bei verhältnismäßig niedri
gen Temperaturen ihre Trennfunktion beibehalten soll, so
daß auch Abwärme zur Erzeugung der Triebkraft ausgenutzt
werden kann.
Gelöst wird die Aufgabe gemäß der Erfindung dadurch, daß
die Polymerschicht nachfolgend zur Erhöhung ihrer
chemischen Stabilität in einem Plasmagas behandelt wird,
wobei die auf dem Träger aufgebrachte wäßrige Polymer
lösung eine Konzentration von 0,1 bis 40 Ma-% und eine
Viskosität im Bereich von 100 mPa·s bis 400 mPa·s auf
weist.
Der Vorteil der erfindungsgemäß vorgeschlagenen Lösung
besteht im wesentlichen darin, daß durch die Behandlung
der Polymerschicht in einem Plasmagas zusätzlich dünne
Schichten hergestellt werden können, die bei guter
Permeabilität ausreichend hydrophob sind, so daß das
Anlösen oder Quellen der trennaktiven Schicht reduziert
und die Trennwirkung dieser Schicht nicht negativ
beeinflußt wird. Durch das Plasma wird an der Oberseite
der trennaktiven Polymerschicht eine die Diffusion der
Wassermoleküle nicht behindernde sehr dünne Schicht
erzeugt, die aber die trennaktive wasserlösliche Schicht
vor extremer Quellung oder sogar Auflösung schützt. Das
erfindungsgemäße Verfahren gestattet eine breite Palette
von Polymeren auf dem Träger zu fixieren und in vorbe
schriebenem Sinne vor dem zerstörenden Einfluß der
Zulauflösung zu schützen. Ein weiterer Vorteil des
Verfahrens besteht darin, daß damit beispielsweise
Pervaporationsmembranen hergestellt werden können, deren
chemische Stabilität beträchtlich erhöht wird.
Schließlich weist die erfindungsgemäße Lösung den
Vorteil auf, daß damit die Schaffung geschlossener
Stoffkreisläufe und auch die Nutzbarmachung von Abwärme
als Triebkraft für den mittels der verfahrensgemäß
hergestellten Trennmembranen ausführbaren Trennprozeß
möglich ist und bei der Herstellung bisher für die
Membranherstellung beispielsweise aus Polyelektrolytkom
plexen benötigte Chemikalien eingespart werden können,
d. h. es gibt durch das erfindungsgemäß vorgeschlagene
Verfahren zur Herstellung der Stofftrennmembranen auch
keine Abprodukte, die bisher zudem noch in aufwendigen
Waschvorgängen entfernt, entsorgt und gegebenenfalls
recycelt werden mußten. Das für die trennaktive Schicht
benötigte Polymer wird außerdem nur im umweltfreund
lichen wäßrigen Medium eingesetzt.
Bei einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung
enthält das Plasmagas einen Kohlenwasserstoff, wobei
aber auch vorteilhafterweise im Plasmagas wenigstens
eine fluorhaltige Verbindung und/oder eine siliziumor
ganische Verbindung enthalten sein kann. Unter anderem
über die vorstehend beispielhaft aufgeführte unter
schiedliche Gaszusammensetzung kann beispielsweise die
Dicke der Polymerschicht bzw. der modifizierten Grenz
flächenschicht und deren Zusammensetzung und damit deren
Hydrophobie und Wasserdampfpermeabilität gesteuert
werden.
Die Behandlung der Polymerschicht im Plasmagas erfolgt
selbst vorteilhafterweise in einem mittels HF-Feldes
erzeugten Gasplasmas, wobei es vorteilhafterweise
möglich ist, die Behandlung der Polymerschicht in einer
Plasmazone zwischen den Elektroden einer das HF-Feld
erzeugenden Einrichtung durchzuführen oder auch anderer
seits vorteilhafterweise die Behandlung der Polymer
schicht außerhalb der Plasmazone, die zwischen den
Elektroden einer das HF-Feld erzeugenden Einrichtung
gebildet wird, erfolgen zu lassen. Auch hier gilt, daß
über die Leistung der das HF-Feld erzeugenden Einrich
tung die Dicke der Beschichtung bzw. der modifizierten
Grenzflächenschicht und deren Zusammensetzung gesteuert
werden kann.
Auch ist es vorteilhafterweise sinnvoll, den Druck des
Plasmagases während der Behandlung veränderbar auszu
bilden und vorteilhafterweise gegebenenfalls die Zusam
mensetzung des Plasmagases während der Behandlung zu
verändern, was gleichermaßen für die Leistung der das
Gasplasma erzeugenden Einrichtung während der Behandlung
gilt. Auch diese Variationsmöglichkeiten des Druckes und
der Zusammensetzung des Plasmagases sowie die Leistung
der das Gasplasma erzeugenden Einrichtung zu verändern
gestattet eine Einflußnahme auf die Dicke der Beschich
tung bzw. die Dicke der modifizierten Grenzflächen
schicht und deren Zusammensetzung.
Es wird angestrebt, die Polymerschicht möglichst in
bezug auf ihre Dicke gleichmäßig auszubilden. Um dieses
zu gewährleisten, kann es vorteilhaft sein, die Polymer
schicht durch eine Mehrzahl nacheinander aufeinander
aufbringbarer einzelner Schichten auszubilden, um einen
möglichst gleichmäßig dicken Aufbau der sich dann
bildenden Gesamtpolymerschicht zu gewährleisten.
Die Polymerschicht besteht vorteilhafterweise aus einem
Polyelektrolyten, beispielsweise Natrium-Cellulosesul
fat, Natrium-Alginat und Chitosan.
Schließlich ist es vorteilhaft, die Polymerschicht im
Bereich von 0,1 bis 1,0 mm Dicke auszubilden.
Die Erfindung wird nun anhand des grundsätzlichen
Verfahrensablaufes unter Bezugnahme auf mehrere Ausfüh
rungsbeispiele im einzelnen beschrieben.
Auf eine trockene wenigstens mikroporöse Trägerschicht,
beispielsweise aus Polyacrylnitril oder Polyvinyli
denflourid, die durch ein Vlies verstärkt sein kann,
wird mittels einer einstellbaren Ziehvorrichtung ein
Film einer wäßrigen Lösung eines Polyelektrolyten mit
einer Dicke von 0,1 bis 1,0 mm aufgebracht. Bevorzugte
Polyelektrolyte sind beispielsweise Natrium-Cellulosesulfat,
Natrium-Alginat und Chitosan. Die Konzentration
der Polyelektrolyte kann zwischen 0,1 und 40 Ma-%, je
nach der für die Beschichtung benötigten Viskosität,
gewählt werden. Die Lösungsviskositäten von 100 mPa·s bis
400 mPa·s werden dabei bevorzugt benutzt. Es können, um
die Polyelektrolytschicht möglichst gleichmäßig auszu
bilden, auch Mehrfachbeschichtungen vorgenommen werden.
Nach Abschluß der Beschichtung erfolgt eine Trocknung an
der Luft bei Raumtemperatur oder bei einer höheren
Temperatur zur Abkürzung des Trocknungsvorganges. Die
nun lufttrockne Kompositmembran wird nachfolgend in
einem Gasplasma behandelt. Als bevorzugte Ausgangskom
ponenten für das Gasplasma werden einfache Kohlenwasser
stoffe wie Methan, fluorhaltige Verbindungen wie Hexa
fluorethan und siliziumorganische Verbindungen wie
Hexamethyldisiloxan oder andere Gemische eingesetzt. Die
Behandlung im Plasmagas erfolgt in einem HF-Feld einer
dieses Feld erzeugenden Einrichtung. Dabei kann die zu
behandelnde Polymerschicht bei einer Behandlungsmethode
unmittelbar innerhalb des HF-Feldes zwischen den
Elektroden angeordnet werden, bei anderen Behandlungs
methode erfolgt die Behandlung der Polymerschicht
außerhalb der das HF-Feld erzeugenden Elektroden, d. h.
im sogenannten "after glow-Bereich".
Über die Verfahrensparameter wie Gaszusammensetzung,
Behandlungsdauer, die beispielsweise im Bereich von 2
Minuten liegen kann, die Leistung der das Plasma erzeu
genden Einrichtung, dem Gasdruck sowie dem Gasfluß und
der Position der zu behandelnden Polymerschicht in der
Einrichtung können die Dicke der Beschichtung bzw. der
modifizierten Grenzflächenschicht und deren Zusammen
setzung und damit deren Hydrophobie und Wasserdampfper
meabilität gesteuert und damit beeinflußt werden.
Die Membran kann unmittelbar nach der Plasmabehandlung
zur Stofftrennung beispielsweise in einer dafür vorge
sehenen Vorrichtung verwendet werden und ist sofort
einsatzbereit. Sie erfüllt sofort ohne zusätzliche
Konditionierungszeit die ihr gestellten Aufgaben bei der
Stofftrennung.
Grundsätzlich kann gesagt werden, daß mittels des
erfindungsgemäßen Verfahrens eine breite Palette von
Polyelektrolyten und anderen wasserlöslichen Polymeren
auf einem Träger fixiert werden können und mittels der
Lösungsgemäßen Behandlung im Plasmagas vor dem zerstö
renden Einfluß der Zulauflösung geschützt werden können.
Somit ist auch für eine starke Erhöhung der chemischen
Stabilität der so hergestellten Membranen gesorgt.
Die Trägerschicht, auf die das eigentliche trennaktive
Polymer aufgebracht wird, kann an sich ein beliebiges
geeignetes wenigstens mikroporöses Flächengebilde sein,
insbesondere in Form eines flach ausgebildeten Träger
elements, in Form eines hohlfadenförmig ausgebildeten
Trägerelements, oder in Form eines Vlieses, eines
Gewebes oder einer Sinterscheibe. Die Trägerschicht
selbst kann beispielsweise aus Polyacrylnitril, Poly
etherimid, Polyvinylidenfluorid, Polysulfon oder Poly
hydantoin, aus einem Vlies aus Polyester, Polypropylen
oder aus Polyphenylensulfid, einem Gewebe aus Feinseide
oder aus gesinterten keramischen oder metallischen
Werkstoffen bestehen.
1. Auf einer Unterlage aus Polyvinylidenfluorid wird ein
Film einer wäßrigen Cellulosesulfatlösung mit einer
Ziehstärke von 0,2 mm ausgezogen. Die Konzentration der
Cellulosesulfatlösung beträgt 4 Ma-% und ihre Viskosität
liegt bei 155 mPa·s. Danach erfolgt die Trocknung an der
Luft. Die Plasmabehandlung erfolgt in einem induktiv
gekoppelten HF-Plasma (Plasmaleistung 30 W, Prozeßdruck
0,5 mbar) mit C₂F₆ als Plasmagas (Gasfluß 4,7 sccm); die
Behandlungszeit beträgt 2 Minuten.
Mit dieser Membran wird ein Pervaporationsversuch
durchgeführt. Als Zulauf dient ein Gemisch von 20%
Wasser und 80% Isopropanol, die Arbeitstemperatur
beträgt 50°C und der Druck im Permeatraum liegt unter
1 mbar.
Unter diesen Testbedingungen beträgt der Wassergehalt im
Permeat 99,6 ± 0,2% bei einem Wassergehalt von 17,5%
im Zulauf. Die Stoffstromdichte liegt bei 3 kg/h*m².
2. Auf einer Unterlage aus einer mit einem Vlies ver
stärkten Polyacrylnitrilmembran wird ein Film einer
wäßrigen Cellulosesulfatlösung mit einer Ziehstärke von
0,5 mm ausgezogen. Die Konzentration der Cellulosesul
fatlösung beträgt 4 Ma-% und ihre Viskosität liegt bei
155 mPa·s. Danach erfolgt die Trocknung an der Luft. Die
Plasmabehandlung erfolgt nach der Lufttrocknung gemäß
der im ersten Beispiel angegebenen Verfahrensvariante
mit Methan als Plasmagas (Gasfluß 7,9 sccm), die Ein
wirkungszeit beträgt 2 Minuten.
Mit dieser Membran wird ein Pervaporationsversuch
durchgeführt. Als Zulauf dient ein Gemisch von 20%
Wasser und 80% Isopropanol, die Arbeitstemperatur
beträgt 50°C und der Druck im Permeatraum liegt unter
1 mbar.
Unter diesen Testbedingungen beträgt der Wassergehalt im
Permeat 97,6 ± 0,4% bei einem Wassergehalt von 18,2%
im Zulauf. Die Stoffstromdichte liegt bei 4 kg/h*m².
3. Auf einer Unterlage aus einer mit einem Vlies ver
stärkten Polyacrylnitrilmembran wird zunächst ein Film
einer wäßrigen Cellulosesulfatlösung mit einer Zieh
stärke von 0,5 mm ausgezogen. Es folgt eine Lufttrock
nung. Dann wird erneut mit Cellulosesulfat beschichtet
(analog zur Erstbeschichtung). Es wird erneut an der
Luft getrocknet. Die Plasmabehandlung analog Beispiel 1
schließt sich an (Gasfluß 4,7 sccm C₂F₆; 2 Minuten).
Mit dieser Membran wird ein Pervaporationsversuch
durchgeführt. Als Zulauf dient ein Gemisch von 20%
Wasser und 80% Isopropanol, die Arbeitstemperatur
beträgt 50°C und der Druck im Permeatraum liegt unter
1 mbar.
Unter diesen Testbedingungen beträgt der Wassergehalt im
Permeat 99,5 ± 0,1% bei einem Wassergehalt von 19,1%
im Zulauf. Die Stoffstromdichte liegt bei 2,6 kg/h*m².
4. Auf einer Unterlage aus einer mit einem Vlies ver
stärkten Polyacrylnitrilmembran wird ein Film einer
wäßrigen Natrium-Alginatlösung mit einer Ziehstärke von
0,5 mm ausgezogen. Die Konzentration der Alginatlösung
beträgt 3 Ma-% und ihre Viskosität liegt bei 600 mPa·s.
Danach erfolgt die Trocknung an der Luft. Die
Plasmabehandlung erfolgt nach der Lufttrocknung mit
Hexafluorethan gemäß Beispiel 1), die Einwirkungszeit
beträgt 2 Minuten.
Mit dieser Membran wird ein Pervaporationsversuch
durchgeführt. Als Zulauf dient ein Gemisch von 20%
Wasser und 80% Isopropanol, die Arbeitstemperatur
beträgt 50°C und der Druck im Permeatraum liegt
unter 1 mbar.
Unter diesen Testbedingungen beträgt der Wassergehalt im
Permeat 95,7 ± 0,6% bei einem Wassergehalt von 19,5%
im Zulauf. Die Stoffstromdichte liegt bei 5 kg/h*m².
5. Auf einer Unterlage aus einer mit einem Vlies ver
stärkten Polyacrylnitrilmembran wird ein Film einer
Lösung von Chitosan (4 Ma-% in 1%iger wäßriger Essig
säure) mit einer Ziehstärke von 0,5 mm ausgezogen. Die
Viskosität liegt bei 140 mPa·s. Danach erfolgt die
Trocknung an der Luft. Die Plasmabehandlung erfolgt nach
der Lufttrocknung mit Hexafluorethan gemäß Beispiel 1,
die Einwirkungszeit beträgt 2 Minuten.
Mit dieser Membran wird ein Pervaporationsversuch
durchgeführt. Als Zulauf dient ein Gemisch von 20%
Wasser und 80% Isopropanol, die Arbeitstemperatur
beträgt 50°C und der Druck im Permeatraum liegt unter
1 mbar.
Unter diesen Testbedingungen beträgt der Wassergehalt im
Permeat 98,0 ± 0,1% bei einem Wassergehalt von 17,8%
im Zulauf. Die Stoffstromdichte liegt bei 3,3 kg/hm².
Claims (14)
1. Verfahren zur Herstellung für nach dem Prinzip der
Pervaporation und/oder der Gasseparation arbeitenden
Stofftrennmembranen, bei dem zunächst auf einem wenig
stens mikroporösen Träger eine Schicht eines trennak
tiven Polymers aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet,
daß die Polymerschicht zur Erhöhung ihrer chemischen
Stabilität nachfolgend in einem Plasmagas behandelt
wird, wobei die auf dem Träger aufgebrachte wäßrige
Polymerlösung eine Konzentration von 0,1 bis 40 Ma-%
und eine Viskosität im Bereich von 100 mPa·s bis 400 mPa·s
aufweist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das Plasmagas wenigstens einen Kohlenwasserstoff ent
hält.
3. Verfahren nach einem oder beiden der Ansprüche 1 oder
2, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmagas wenigstens
eine fluorhaltige Verbindung enthält.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmagas wenig
stens eine siliziumorganische Verbindung enthält.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlung der
Polymerschicht in einem mittels eines HF-Feldes erzeug
ten Gasplasma erfolgt.
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Behandlung der Polymerschicht in der Plasmazone
zwischen den Elektroden einer das HF-Feld erzeugenden
Einrichtung erfolgt.
7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Behandlung der Polymerschicht außerhalb der
Plasmazone, die zwischen den Elektroden einer das
HF-Feld erzeugenden Einrichtung gebildet wird, erfolgt.
8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der Druck des Plas
magases während der Behandlung veränderbar ist.
9. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Zusammensetzung
des Plasmagases während der Behandlung veränderbar ist.
10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Leistung der das
Gasplasma erzeugenden Einrichtung während der Behandlung
veränderbar ist.
11. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymerschicht
durch eine Mehrzahl nacheinander aufeinander aufbring
barer Polymerschichten ausgebildet wird.
12. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymerschicht
aus einem Polyelektrolyten besteht.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet,
daß der Polyelektrolyt aus wenigstens einem Polysaccha
rid besteht.
14. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die Polymerschicht
im Bereich von 0,1 bis 1,0 mm dick ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934343114 DE4343114C2 (de) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | Verfahren zur Herstellung von Stofftrennmembranen |
Applications Claiming Priority (1)
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DE19934343114 DE4343114C2 (de) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | Verfahren zur Herstellung von Stofftrennmembranen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4343114A1 DE4343114A1 (de) | 1995-06-22 |
DE4343114C2 true DE4343114C2 (de) | 1998-01-29 |
Family
ID=6505301
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
DE19934343114 Expired - Fee Related DE4343114C2 (de) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | Verfahren zur Herstellung von Stofftrennmembranen |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE4343114C2 (de) |
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1993
- 1993-12-17 DE DE19934343114 patent/DE4343114C2/de not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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DE4343114A1 (de) | 1995-06-22 |
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